KR20090126366A - Optical member for electromagnetic interference shield and liquid crystal display device containing the same - Google Patents

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KR20090126366A
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김지성
곽기남
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주식회사 코오롱
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Abstract

PURPOSE: An optical member for a BLU and an LCD including the same having a shield function are provided to efficiently shield electromagnetic wave without mounting a film for shielding the additional electromagnetic interfaces. CONSTITUTION: An electromagnetic wave shielding layer(20) is formed in single-side or both sides of a base material layer(10). The electromagnetic layers are formed on the electromagnetic wave shielding layer. The electromagnetic wave shielding layer comprises a mixture more than the singleness selected among indium and indium-zinc mixture oxide, indium-tin-zinc oxide ternary phase, antimony-tin oxide and zinc oxide in which the aluminum is mixed.

Description

전자파 차폐 기능을 갖는 광학 부재 및 이를 포함하는 액정디스플레이 장치{Optical member for electromagnetic interference shield and Liquid Crystal Display Device containing the same}Optical member having an electromagnetic shielding function and a liquid crystal display device including the same {Optical member for electromagnetic interference shield and Liquid Crystal Display Device containing the same}

본 발명은 전자파 차폐 기능을 갖는 광학 부재 및 액정 디스플레이 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an optical member and a liquid crystal display device having an electromagnetic shielding function.

현대 사회는 많은 전기 전자 장치가 사회 각 분야에 보급되어 전자파 밀집도가 증가하고 전자파 환경이 열악하게 되고 있는 경향이 있다. 이렇게 열악한 전자파 환경에 설치된 기기는 원래의 목표대로 작동하지 않아 혼란을 일으키거나 인체에 장해를 줄 위험성이 있으며, 따라서 이러한 기기는 경우에 따라서는 노이즈의 발생원이 되기도 하고 다른 발생원으로부터 피해자가 되기도 한다. In modern society, many electric and electronic devices are spread in various fields of society, and the density of electromagnetic waves increases and the electromagnetic environment becomes poor. Devices installed in such a poor electromagnetic environment may not work as intended and may cause confusion or damage to the human body. Therefore, these devices may be sources of noise and victims from other sources in some cases.

이러한 전자파 장애(electromagnetic interference; EMI) 문제를 줄이기 위해서는 우선 장애 발생원이 존재하는 경우의 전자기적 환경 내에서도 장치가 의도된 동작을 할 수 있도록 내성을 강화시켜주거나 장해 발생원으로부터 전자파 유출이나 기기로의 유입을 차단하여야 한다.To reduce the electromagnetic interference (EMI) problem, first of all, strengthen the immunity so that the device can operate in the electromagnetic environment in the presence of a disturbance source, or prevent the leakage of electromagnetic waves or the inflow into the equipment. Must be blocked.

특히 실생활에서 전자파 문제가 발생되는 경우는 TV나 모니터와 같은 디스플 레이 분야인데, 종래에는 이러한 전자파를 차폐하기 위해 보안경을 설치하는 방법을 채용하였다. 그러나 이는 전자파 차폐소자의 색상 문제로 인하여 선명한 화상 구현이 힘들며, 특히 전자파는 어느 정도의 발산성을 가져 보안경으로 어느정도의 전자파는 차폐가 가능하지만 저임피던스 특성의 전자파는 회전성을 가져 보안경에 의하여 차폐되지 않을 뿐만 아니라 도전성 물질은 투과해 버리는 문제점이 있었다. In particular, in the real life, the problem of electromagnetic waves is a display field such as a TV or a monitor, and conventionally, a method of installing safety glasses to shield such electromagnetic waves has been adopted. However, due to the color problem of the electromagnetic shielding element, it is difficult to realize a clear image.Especially, electromagnetic waves have some divergence so that some electromagnetic waves can be shielded by the safety glasses, but electromagnetic waves with low impedance characteristics are not shielded by the safety glasses. Not only that, there is a problem that the conductive material is permeated.

최근 디스플레이 매체 중 그 사용이 증가하고 있는 TFT-LCD에서도 LCD의 대화면화, 저전력화, 고휘도화 등이 향후 기술의 핵심으로 떠오르면서 상기한 전자파의 문제가 대두되고 있다. 이러한 LCD는 비발광 소자로 별도의 광원체가 필요한데, 이를 백라이트 유닛이라 하며, 백라이트 유닛과 액정 유닛으로 액정 모듈을 만들게 된다. 백라이트 유닛은 선광을 면광으로 바꾸어주는 장치로, 일반적으로 하부 측면에 냉음극 형광램프가 들어가고 램프로부터 나온 빛을 전면으로 반사시켜주는 반사시트, 반사된 빛을 일차적으로 전면에 확산시키는 기능을 하는 도광판, 도광판의 패터닝을 은폐하고 이차적으로 빛을 확산시키는 광확산 시트, 확산된 빛을 수직방향으로 휘도를 증가시키는 프리즘시트, 프리즘의 골각을 보호하고 무아레 현상을 방지하는 프리즘 보호필름으로 구성되어 있다.In the TFT-LCD, which has recently increased its use in display media, the problem of electromagnetic waves has emerged as large screen, low power, and high brightness of LCD have emerged as the core of future technology. Such LCDs require a separate light source as a non-light emitting device, which is called a backlight unit, and makes a liquid crystal module using the backlight unit and the liquid crystal unit. The backlight unit is a device that converts the beneficiation into a surface light. Generally, a cold cathode fluorescent lamp enters a lower side, a reflection sheet reflecting light from the lamp to the front, and a light guide plate that functions to diffuse the reflected light to the front. It consists of a light diffusion sheet that conceals patterning of the light guide plate and diffuses light secondaryly, a prism sheet that increases the brightness of the diffused light in the vertical direction, and a prism protection film that protects the angle of prism and prevents moire phenomenon.

한편, 액정디스플레이(LCD)의 대표적 방식인 TFT-LCD는 액정모듈을 구동하기 위해서 게이트(로우) 드라이버 IC(gate(row) driver IC)와 소스(컬럼) 드라이버 IC(source(column) driver IC)의 두 종류 드라이버 IC(driver IC)가 사용되며 게이트(로우) 드라이버 IC(gate(row)driver IC)는 TFT-Array 의 게이트(gate) 신호배선을 순차적으로 선택하여 스캔(scan)주사신호를 인가하는 역할을 하고 소스(컬럼) 드라이버 IC(source(column)driver IC)는 화상정보 디지털 데이터(digital data)를 화소전압으로 변경하여 데이터(data) 신호배선에 인가하는 역할을 한다. 게이트(로우) 드라이버 IC(gate(row) driver IC)와 소스(컬럼) 드라이버 IC(source(column) driver IC)는 각각 게이트(gate) 신호배선과 데이터(data) 신호배선을 구동하기 때문에 게이트 드라이버 IC(gate driver IC)와 데이터 드라이버 IC(data driver IC)라 부르며 데이터 드라이버 IC(gate driver IC)는 TFT의 소스(source) 전극을 구동한다는 의미에서 소스 드라이버 IC(source driver IC)라고도 한다. 게이트 드라이버 IC(gate driver IC)가 주사선을 선택하여 스캔 펄스(scan pulse)를 인가하여 TFT를 On 상태로 해주면 소스 드라이버 IC(source driver IC)는 데이터(data) 각각의 신호배선을 통하여 액정 셀(cell)에 신호전압을 인가하는 역할을 한다.On the other hand, TFT-LCD, which is a typical method of liquid crystal display (LCD), uses a gate (row) driver IC and a source (column) driver IC to drive the liquid crystal module. Two driver ICs are used, and the gate driver IC applies the scan scan signal by sequentially selecting the gate signal wiring of the TFT array. The source (column) driver IC converts the image information digital data into a pixel voltage and applies it to the data signal wiring. The gate (row) driver IC and the source (column) driver IC drive the gate signal line and the data signal line, respectively. The gate driver IC and the data driver IC are also referred to as data driver ICs. The gate driver IC is also referred to as a source driver IC in the sense of driving a source electrode of a TFT. When the gate driver IC selects the scan line and applies a scan pulse to turn on the TFT, the source driver IC is connected to the liquid crystal cell through signal wiring of each data. serves to apply a signal voltage to the cell).

또한 인버터(inverter)라는 전원장치로부터 백라이트 램프(back light lamp)로 사용되는 냉형광음극램프(CCFL;cold cathode fluorescence lamps)에 전원을 공급하며 램프(lamp) 전류를 조절하여 LCD화면 밝기를 조절한다. 고해상도 LCD에서는 디지털(digital) 신호와 클락(clock) 신호의 주파수가 증가하여 그래픽 칩(graphic chip)과 LCD 모듈(module) 사이의 인터페이스(interface)에서 신호왜곡(distortion)과 EMI(electromagnetic interface)등의 문제가 발생하여 화질이 나빠지게 되는 현상이 발생하는 문제가 있었다. 특히 백라이트 자체가 점점 대형화 추세를 보이면서, 이에 따라 램프도 여러 개 들어가고 램프에서 발생하는 열 및 전자파가 화상에 영향을 주어 화면 떨림 현상을 유발하고 있다. 대화면으로 커질 수 있도록 신호 전송속도가 기하급수적으로 빨라지게 되므로 이와 같은 문제는 더 이 상 간과할 수 없는 문제로 발전하고 있다. In addition, it supplies power to cold cathode fluorescence lamps (CCFL), which are used as back light lamps from a power supply called an inverter, and adjusts the lamp current to control the brightness of the LCD screen. . In high resolution LCDs, the frequency of digital and clock signals increases, resulting in signal distortion and electromagnetic interfaces at the interface between the graphic chip and the LCD module. There was a problem that caused the phenomenon of the image quality deteriorated. In particular, as the backlight itself is becoming larger and larger, a plurality of lamps are included, and heat and electromagnetic waves generated from the lamps affect the image, causing screen shaking. As the signal transmission speed increases exponentially to become a large screen, this problem is developing into a problem that cannot be overlooked.

이러한 문제를 해결하기 위해 LVDS(low voltage differential signaling)와 같은 신호형태로 변환하여 전송하는 저전압 고속 접속회로 기술이 개발되어 사용되고 있고, 또 액정양단에 바이어스(bias)를 가할 때 한방향으로 바이어스(bias)가 인가되면 액정의 특성이 열화되므로 화면마다 액정에 인가되는 전압을 바꾸는 반전방식을 사용하여 해결하고자하는 노력이 있어왔다. 하지만 이와 같은 문제는 원천적으로 전자파에 의한 영향을 제거하지 못하는 근본적인 문제가 있다.In order to solve this problem, a low voltage high speed connection circuit technology has been developed and used to convert and transmit a signal type such as low voltage differential signaling (LVDS), and bias in one direction when bias is applied to both ends of the liquid crystal. Since the deterioration of the characteristics of the liquid crystal is applied, efforts have been made to solve the problem by using an inversion method of changing the voltage applied to the liquid crystal for each screen. However, this problem has a fundamental problem that does not remove the influence of the electromagnetic wave at the source.

또한 통상적으로 모듈 업체에서는 백라이트 유닛 구조에서 광확산 시트의 하부 또는 상부면에 전자파 차폐 필름을 위치시킴으로써 전자파나 왜곡현상을 방지하고자 하는 노력이 있다. 즉, 투명기재로 이루어진 필름의 일면 또는 양면에 ITO(Indium Tin Oxide), ATO(Antimonium Tin Oxide) 등의 금속 산화물 들을 금속 증착시킨 형태의 필름을 전자파 차폐 필름으로 하여 램프로부터의 전자파를 억제하도록 하는 것이다. 그러나 이는 별도의 필름을 장착하여야 하므로 박형화에 반하는 기술이며, 가격 경쟁력 측면에서도 바람직하지 못하였다. 또한 전자파 차폐 필름을 광확산 시트의 상부 또는 하부에 위치시키면 도광판이나 프리즘 시트의 하부면을 손상시키는 등의 문제가 유발되기도 하였다.In addition, module manufacturers generally have efforts to prevent electromagnetic waves or distortion by placing an electromagnetic shielding film on the lower or upper surface of the light diffusion sheet in the backlight unit structure. That is, a film in which metal oxides such as ITO (Indium Tin Oxide) and ATO (Antimonium Tin Oxide) are metal deposited on one or both surfaces of the film made of a transparent substrate is used as an electromagnetic wave shielding film to suppress electromagnetic waves from the lamp. will be. However, this is a technique against thinning because it requires mounting a separate film, it was not preferable in terms of price competitiveness. In addition, when the electromagnetic shielding film is positioned above or below the light diffusion sheet, problems such as damaging the lower surface of the light guide plate or the prism sheet may be caused.

따라서 본 발명은 별도의 전자파 차폐만을 위한 필름을 장착하지 않더라도 전자파를 효과적으로 차폐할 수 있도록 하면서 적정 휘도를 유지할 수 있는 광학 부재를 제공하고자 한다.Therefore, the present invention is to provide an optical member that can maintain an appropriate brightness while effectively shielding electromagnetic waves even without a separate film for electromagnetic shielding.

이에 본 발명은 바람직한 제1구현예로서 기재층; 상기 기재층의 일면 또는 양면에 형성된 전자파 차폐층; 및 상기 전자파 차폐층 상에 형성된 광학층을 포함하는 광학 부재를 제공한다.Accordingly, the present invention provides a preferred substrate as a first embodiment; An electromagnetic shielding layer formed on one or both surfaces of the base layer; And it provides an optical member comprising an optical layer formed on the electromagnetic shielding layer.

상기 구현예에서, 전자파 차폐층은 인듐-주석 혼합 산화물(ITO), 인듐-아연 혼합 산화물(IZO), 인듐-주석-아연 산화물 삼성분계(In2O3-SnO2-ZnO), 안티몬-주석 산화물(ATO) 및 알루미늄이 도핑된 산화아연(AZO) 중 선택된 단독 또는 2종 이상의 혼합물을 포함하는 것일 수 있다.In the above embodiment, the electromagnetic shielding layer may be formed of indium-tin mixed oxide (ITO), indium-zinc mixed oxide (IZO), indium-tin-zinc oxide ternary system (In 2 O 3 -SnO 2 -ZnO), antimony-tin It may include one or a mixture of two or more selected from oxides (ATO) and aluminum doped zinc oxide (AZO).

상기 구현예에서, 전자파 차폐층은 폴리아닐린(Polyaniline), 폴리티오펜(Polythiophenes), 폴리피롤(Polypyrrols), 폴리아세틸렌(Polyacetylenes), 폴리페닐렌 비닐렌(Polyphenylene Vinylene), 폴리페닐렌 설파이드(Polypheneylene Sulfide), 프탈로시아닌(Phthalocyanin) 및 폴리플루오렌(Polyfluorenes) 중 선택된 단독 또는 2종 이상의 혼합물을 포함하는 것일 수 있다.In the above embodiment, the electromagnetic wave shielding layer is made of polyaniline, polythiophenes, polypyrrols, polyacetylenes, polyphenylene vinylene, polypheneneylene sulfide, and the like. , Phthalocyanine (Phthalocyanin) and polyfluorene (Polyfluorenes) may be one containing a single or a mixture of two or more.

상기 구현예에서, 전자파 차폐층은 카본나노튜브, C60, 흑연, 카본블랙, 카본섬유 또는 금, 백금, 은, 수은, 구리, 니켈, 철, 알루미늄 및 이들의 혼합물로 이루어지는 군에서 선택되는 금속 분말 또는 SnO2, ZnO, Fe2O3, WO3, In2O3, BaTiO3 및 이들의 혼합물로 이루어지는 군에서 선택되는 산화물의 분말로부터 선택된 1종 이상의 전도성 충진제를 0.01 내지 20중량% 함유하는 것일 수 있다.In the above embodiment, the electromagnetic shielding layer is a metal selected from the group consisting of carbon nanotubes, C 60 , graphite, carbon black, carbon fiber or gold, platinum, silver, mercury, copper, nickel, iron, aluminum and mixtures thereof. 0.01 to 20% by weight of at least one conductive filler selected from powders or powders of oxides selected from the group consisting of SnO 2 , ZnO, Fe 2 O 3 , WO 3 , In 2 O 3 , BaTiO 3 and mixtures thereof It may be.

상기 구현예에서, 광학층은 광확산층 또는 프리즘층 단독으로 형성되거나, 광확산층과 프리즘층이 순차적으로 형성된 것일 수 있다.In the above embodiment, the optical layer may be formed by the light diffusing layer or the prism layer alone, or may be formed by sequentially forming the light diffusing layer and the prism layer.

상기 구현예에서, 전자파 차폐층을 형성하는 인듐-주석 혼합 산화물(ITO)은 산화인듐(In2O3) 80~98중량%와 산화주석(SnO2) 2~20 중량%를 함유하는 것일 수 있다.In the above embodiment, the indium-tin mixed oxide (ITO) forming the electromagnetic shielding layer may contain 80 to 98% by weight of indium oxide (In 2 O 3 ) and 2 to 20% by weight of tin oxide (SnO 2 ). have.

상기 구현예에서, 광확산층은 바인더 수지와 광확산 입자를 포함하고, 상기 광확산 입자는 바인더 수지 100중량부에 대하여 0.01~1000중량부인 것일 수 있다.In the above embodiment, the light diffusion layer includes a binder resin and light diffusion particles, the light diffusion particles may be 0.01 to 1000 parts by weight based on 100 parts by weight of the binder resin.

상기 구현예에서, 광확산 입자는 평균 입경이 0.1~200㎛인 것일 수 있다.In the above embodiment, the light diffusing particles may have an average particle diameter of 0.1 ~ 200㎛.

상기 구현예에서, 프리즘층은 종단면이 다각형, 피크가 유선형인 다각형, 반원형, 반타원형인 다면체 형상; 또는 종단면이 다각형, 피크가 유선형인 다각형, 반원형, 반타원형인 기둥 형상; 또는 종단면이 다각형, 피크가 유선형인 다각형, 반원형, 반타원형인 곡선 기둥 형상 중 선택된 한 가지 이상의 패턴을 포함하는 것일 수 있다.In the above embodiment, the prism layer may have a polygonal shape having a polygonal longitudinal section, a polygon with a peak streamline, a semicircle, and a semiellipse; Or a columnar shape having a polygonal longitudinal section, a polygonal peak having a streamline shape, a semicircular shape, and a semi-elliptic shape; Alternatively, the cross-section may include one or more patterns selected from polygons, peaks of streamlined polygons, semicircles, and semi-elliptic curved columnar shapes.

상기 구현예에 따른 광학 부재는 전기파 또는 자기파의 차단율이 50% 이상인 것일 수 있다.The optical member according to the embodiment may have a blocking rate of 50% or more of an electric wave or a magnetic wave.

상기 구현예에 따른 광학 부재는 전자파 차폐층의 가시광 투과율이 80% 이상인 것일 수 있다.The optical member according to the embodiment may have a visible light transmittance of 80% or more of the electromagnetic shielding layer.

본 발명은 바람직한 제2구현예로서 상기의 광학 부재를 포함하는 액정 디스플레이용 장치를 제공한다.This invention provides the apparatus for liquid crystal displays containing said optical member as a 2nd preferable embodiment.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명을 보다 상세히 설명하면 다음과 같다. Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 바람직한 일구현예에 의한 광학필름의 단면도이며, 도 2 내지 도 6은 본 발명의 바람직한 다른 구현예에 의한 광학필름의 단면도이다. 1 is a cross-sectional view of an optical film according to a preferred embodiment of the present invention, Figures 2 to 6 is a cross-sectional view of an optical film according to another preferred embodiment of the present invention.

상기 도면들에서는 편의상 동일 구성부분에 대해서는 동일한 부호를 사용하였으나, 이들은 조성 및 형태까지 동일한 것을 의미하는 것은 아니다. In the drawings, the same reference numerals are used for the same components for convenience, but they do not mean the same composition and shape.

본 발명의 광학 부재는 기재층(10)의 일면 또는 양면에 전자파 차폐층(20)을 포함하며, 형성된 전자파 차폐층(20) 상에 광확산층(30) 또는 프리즘층(40)이 형성될 수 있다. The optical member of the present invention includes an electromagnetic shielding layer 20 on one or both surfaces of the base layer 10, and the light diffusion layer 30 or the prism layer 40 may be formed on the formed electromagnetic shielding layer 20. have.

본 발명의 광학 부재로서 가능한 구현예로는 기재층(10) 일면에 전자파 차폐층(20) 및 광확산층(30)이 순차적으로 형성되거나, 기재층(10) 양면에 전자파 차폐층(20) 및 광확산층(30)이 순차적으로 형성(도 1)될 수 있으며, 또는 기재층(10) 일면에 전자파 차폐층(20) 및 광확산층(30)이 순차적으로 형성되고, 기재층(10)의 다른 일면에는 광확산층(30)이 형성(도 2)될 수 있다. 이로써 백라이트 유닛에 종래 광확산 부재를 장착하는 대신 이와 같은 구현예의 광학 부재를 장착할 수 있으 므로, 광확산 부재와 전자파 차폐 필름을 별도로 장착하지 않을 수 있다.Possible embodiments of the optical member of the present invention include the electromagnetic shielding layer 20 and the light diffusing layer 30 sequentially formed on one surface of the substrate layer 10, or the electromagnetic shielding layer 20 and both surfaces of the substrate layer 10. The light diffusion layer 30 may be sequentially formed (FIG. 1), or the electromagnetic shielding layer 20 and the light diffusion layer 30 may be sequentially formed on one surface of the substrate layer 10, and the other of the substrate layer 10 may be formed. On one surface, the light diffusion layer 30 may be formed (FIG. 2). As a result, instead of mounting the conventional light diffusing member to the backlight unit, the optical member of such an embodiment may be mounted, and thus the light diffusing member and the electromagnetic shielding film may not be separately mounted.

본 발명의 광학 부재로서 또 다른 가능한 구현예로는 기재층(10) 일면에 전자파 차폐층(20) 및 프리즘층(40)이 순차적으로 형성(도 3)되거나, 또는 기재층(10) 일면에 전자파 차폐층(20) 및 프리즘층(40)이 순차적으로 형성되고 기재층(10)의 다른 일면에는 광확산층(30)이 형성되거나, 전자파 차폐층(20) 및 광확산층(30)이 순차적으로 형성(도 4)될 수 있다. 이로써 백라이트 유닛에 종래 프리즘 필름 또는 시트를 장착하는 대신 이와 같은 구현예의 광학 부재를 장착할 수 있으므로, 프리즘 필름 또는 시트와 전자파 차폐 필름을 별도로 장착하지 않을 수 있다.As another possible embodiment of the optical member of the present invention, the electromagnetic shielding layer 20 and the prism layer 40 are sequentially formed on one surface of the substrate layer 10 (FIG. 3), or one surface of the substrate layer 10. The electromagnetic wave shielding layer 20 and the prism layer 40 are sequentially formed, and the light diffusing layer 30 is formed on the other side of the base layer 10, or the electromagnetic wave shielding layer 20 and the light diffusing layer 30 are sequentially formed. Can be formed (FIG. 4). As a result, instead of mounting the conventional prism film or sheet to the backlight unit, the optical member of such an embodiment may be mounted, and thus the prism film or sheet and the electromagnetic shielding film may not be separately mounted.

본 발명의 광학 부재로서 또 다른 구현예로는 기재층(10) 일면에 전자파 차폐층(20), 광확산층(30) 및 프리즘층(40)이 순차적으로 형성(도 5)되거나, 기재층(10) 일면에 전자파 차폐층(20), 광확산층(30) 및 프리즘층(40)이 순차적으로 형성되고 기재층(10)의 다른 일면에는 광확산층(30)이 형성되거나, 전자파 차폐층(20) 및 광확산층(30)이 순차적으로 형성(도 6)될 수 있다. 이는 광확산층상에 프리즘층을 형성함으로써 광확산 부재와 프리즘 시트 또는 필름을 별도로 형성하지 않아도 되는 광학 복합 부재에 전자파 차폐 기능을 더한 것으로써, 광학 복합 부재와 전자파 차폐 필름을 별도로 장착하지 않을 수 있다. 따라서 백라이트에 장착하여야 하는 부재의 수가 더욱 줄어들 수 있다.In another embodiment of the optical member of the present invention, the electromagnetic shielding layer 20, the light diffusing layer 30, and the prism layer 40 are sequentially formed on one surface of the substrate layer 10 (FIG. 5), or the substrate layer ( 10) The electromagnetic wave shielding layer 20, the light diffusion layer 30 and the prism layer 40 are sequentially formed on one surface and the light diffusion layer 30 is formed on the other surface of the substrate layer 10, or the electromagnetic shielding layer 20 ) And the light diffusion layer 30 may be sequentially formed (FIG. 6). This is because the electromagnetic wave shielding function is added to the optical composite member which does not need to separately form the light diffusing member and the prism sheet or film by forming a prism layer on the light diffusion layer, and thus the optical composite member and the electromagnetic shielding film may not be separately mounted. . Therefore, the number of members to be mounted on the backlight can be further reduced.

이상 본 발명의 광학 부재에 포함되는 여러 가지 경우에 대하여 예를 들어 설명하였는데, 본 발명의 광학 부재가 상기의 구현예로 한정되는 것은 아니다.The various examples included in the optical member of the present invention have been described above by way of example, but the optical member of the present invention is not limited to the above embodiment.

상기 구현예에 따른 광학 부재는 필름 두께 10~300㎛를 기준으로, 200Hz 주파수 대역에서 전자파 측정기로 측정된 전기파가 700V/m 이하인 것일 수 있으며, 자기파가 70mG 이하인 것일 수 있으며, 전기파 또는 자기파의 차단율은 50% 이상인 것일 수 있다.The optical member according to the embodiment may have an electric wave of 700 V / m or less measured by an electromagnetic wave meter in a 200 Hz frequency band based on a film thickness of 10 to 300 μm, a magnetic wave of 70 mG or less, and an electric or magnetic wave The blocking rate of may be more than 50%.

상기 전자파 차폐층(20)은 인듐-주석 혼합 산화물(ITO)을 포함하여 형성된 것일 수 있는데, 특히 산화인듐(In2O3) 80~98중량%와 산화주석(SnO2) 2~20 중량%를 함유하는 것이 높은 수준의 전자파 차폐 성능을 얻기 위해 바람직하다. The electromagnetic shielding layer 20 may be formed including indium-tin mixed oxide (ITO), in particular 80 to 98% by weight of indium oxide (In 2 O 3 ) and 2 to 20% by weight of tin oxide (SnO 2 ) It is preferable to contain a high level in order to obtain a high level of electromagnetic shielding performance.

한편, 산화 인듐의 높은 전도성이 전자파 차폐에 효율적이지만 산화인듐의 부족으로 비용이 상승하는 추세인 점을 고려하여 산화주석을 대체하는 노력이 다수의 연구인들을 통해 진행중인 바, 산화인듐을 대체할 목적으로 인듐 산화물 함량이 적은 인듐-아연 혼합 산화물(IZO;In2O3(ZnO)k), 인듐-주석-아연 산화물 삼성분계(In2O3-SnO2-ZnO), 안티몬-주석 산화물(ATO) 및 알루미늄이 도핑된 산화아연(AZO)으로부터 선택된 1종 이상을 포함하여 사용한 것일 수 있다.On the other hand, considering that the high conductivity of indium oxide is effective for shielding electromagnetic waves, but the cost is rising due to the lack of indium oxide, efforts to replace tin oxide have been progressed through a number of researchers. Indium-Zn Mixed Oxide (IZO; In 2 O 3 (ZnO) k ), Indium-Tin-Zn Oxide Ternary System (In 2 O 3 -SnO 2 -ZnO), Antimony-Tin Oxide (ATO) ) And aluminum may be used, including one or more selected from doped zinc oxide (AZO).

이 때 산화인듐과 산화주석, 알루미늄이 도핑된 산화아연 각각은 순도가 낮으면 저항값이 상승하는 등의 문제를 유발하여 균일하고 안정된 전자파 차폐 성능을 구현하기 어려우므로 순도가 높을수록 좋으며, 98% 이상인 것일 수 있다. At this time, zinc oxide doped with indium oxide, tin oxide, and aluminum, respectively, causes problems such as resistance increase when the purity is low, so that it is difficult to realize uniform and stable electromagnetic shielding performance. It may be abnormal.

한편, 상기 전자파 차폐층(20)이 전도성 무기 소재로 형성되는 경우에는 스퍼터링(sputtering), 전자빔(electron beam) 증착, 이온-플레이팅(Ion-plating), 스프레이 열분해(spray pyloysis), 화학기상증창(Chemical vapor deposition) 등의 방법으로 건식 코팅된 것일 수 있다. 또는 습식 도장설비를 이용하여 적층할 수도 있다. 단, 상기 전도성 무기 소재를 습식 도장설비를 이용하여 전자파 차폐층을 적층하고자 할 경우 전도성 분말이 기재에 정착할 수 있도록 투명 고분자 수지를 혼합하여 전도성 도료를 제조한 후 사용할 수 있는 바, 투명 고분자 수지는 상기 언급한 바와 같이 불순물로 작용하여 저항값을 상승시키는 요인이 되므로 전도성 도료 고형분의 0 중량% 내지 30중량%인 것이 바람직하다. 만일 투명 고분자 수지의 함량이 30중량% 이상이면 전자파 차폐층의 표면 저항값이 1.0 x 104 Ω/□ 이상이 되어 전자파 차폐효과를 얻기가 어려워진다. On the other hand, when the electromagnetic shielding layer 20 is formed of a conductive inorganic material, sputtering, electron beam deposition, ion-plating, spray pyrolysis, chemical vapor deposition It may be a dry coating by a method such as (chemical chemical deposition). Alternatively, it may be laminated using a wet coating equipment. However, when the conductive inorganic material is to be laminated with an electromagnetic wave shielding layer using a wet coating equipment, the transparent polymer resin may be mixed with the transparent polymer resin so that the conductive powder may be fixed to the base material. As mentioned above, since it acts as an impurity to increase the resistance value, it is preferably 0 to 30% by weight of the conductive paint solids. If the content of the transparent polymer resin is 30% by weight or more, the surface resistance value of the electromagnetic shielding layer is 1.0 x 10 4 Ω / □ or more it is difficult to obtain the electromagnetic shielding effect.

이렇게 형성되는 전자파 차폐층(20)은 특별히 제한되지 않지만 가시광 투과율 및 전자파 차폐효과를 고려하여 두께가 10Å 내지 10㎛인 것일 수 있다. 만일 두께가 10Å이하이면 표면 저항값이 상승하여 전자파 차폐효과가 저하되고 10㎛ 이상이면 가시광 투과율이 저하되어 상품가치가 저하된다. The electromagnetic wave shielding layer 20 formed as described above is not particularly limited, but may have a thickness of 10 μm to 10 μm in consideration of visible light transmittance and electromagnetic wave shielding effect. If the thickness is less than or equal to 10 GPa, the surface resistance is increased to lower the electromagnetic shielding effect.

전도성 고분자는 폴리아닐린(Polyaniline), 폴리티오펜(Polythiophenes), 폴리피롤(Polypyrrols), 폴리아세틸렌(Polyacetylenes), 폴리페닐렌 비닐렌(Polyphenylene Vinylene), 폴리페닐렌 설파이드(Polypheneylene Sulfide), 프탈로시아닌(Phthalocyanin) 및 폴리플루오렌(Polyfluorene)으로부터 선택된 단독 또는 2종 이상의 혼합물일 수 있다. Conductive polymers include Polyaniline, Polythiophenes, Polypyrrols, Polyacetylenes, Polyphenylene Vinylene, Polypheneylene Sulfide, Phthalocyanin and It may be a single or a mixture of two or more selected from polyfluorene.

또한 선택적으로 카본나노튜브, C60, 흑연, 카본블랙, 카본섬유 또는 금, 백 금, 은, 수은, 구리, 니켈, 철, 알루미늄 및 이들의 혼합물로 이루어지는 군에서 선택되는 금속 분말 또는 SnO2, ZnO, Fe2O3, WO3, In2O3, BaTiO3 및 이들의 혼합물로 이루어지는 군에서 선택되는 산화물의 분말로부터 선택된 1종 이상의 전도성 충진제를 함유할 수 있으며, 전도성 충진제의 함유량은 전자파 차폐층의 가시광선 투과율이 80% 이상이라면 특별히 제한될 이유는 없으나 0.01중량% 내지 20.0중량%의 함유량인 것이 바람직하다. 이와 같은 전도성 충진제는 전도성 고분자의 비교적 낮은 전도성을 높여주어 결과적으로 전자파 차폐 성능을 향상시킬 수 있다.And optionally metal powder or SnO 2 selected from the group consisting of carbon nanotubes, C 60 , graphite, carbon black, carbon fibers or gold, platinum, silver, mercury, copper, nickel, iron, aluminum and mixtures thereof. ZnO, Fe 2 O 3 , WO 3 , In 2 O 3 , BaTiO 3 and may contain one or more conductive fillers selected from powders of oxides selected from the group consisting of, the content of the conductive fillers is electromagnetic shielding If the visible light transmittance of the layer is 80% or more, there is no reason to be particularly limited, but the content is preferably 0.01% by weight to 20.0% by weight. Such a conductive filler may increase the relatively low conductivity of the conductive polymer and consequently improve the electromagnetic shielding performance.

한편 전자파 차폐층(20)은 외곽층이 별도의 접지선과 연결되는 것일 수 있다.Meanwhile, the electromagnetic shielding layer 20 may be an outer layer connected to a separate ground line.

그리고 전자파 차폐층(20)은 백라이트 유닛의 전반적인 휘도 성능을 고려하여 층의 두께와 관계없이 가시광 투과율이 80% 이상인 것일 수 있으며, 전자파 차폐층(20)에 포함될 수 있는 인듐-주석 혼합 산화물(ITO), 인듐-아연 혼합 산화물(IZO), 인듐-주석-아연 산화물 삼성분계(In2O3-SnO2-ZnO), 안티몬-주석 산화물(ATO), 알루미늄이 도핑된 산화아연(AZO) 등은 가시광 투과율이 80% 이상인 것일 수 있다.In addition, the electromagnetic shielding layer 20 may have a visible light transmittance of 80% or more regardless of the thickness of the backlight unit in consideration of the overall luminance performance of the backlight unit, and may be included in the electromagnetic shielding layer 20. ), Indium-zinc mixed oxide (IZO), indium-tin-zinc oxide ternary system (In 2 O 3 -SnO 2 -ZnO), antimony-tin oxide (ATO), zinc oxide doped with aluminum (AZO), etc. Visible light transmittance may be 80% or more.

한편, 상기 기재층(10), 광확산층(30) 및 프리즘층(40)은 공지의 조성 및 제조방법으로 형성할 수 있다.On the other hand, the substrate layer 10, the light diffusion layer 30 and the prism layer 40 can be formed by a known composition and manufacturing method.

기재층(10)은 투명하고 기계적 강도 및 열안정성이 우수한 수지이면 특별히 한정되지 않고 사용 가능한데, 예컨대, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리카보네이트 필름, 폴리프로필렌 필름, 폴리에틸렌 필름, 폴리스티렌 필름, 폴리에폭시 필름 등을 사용할 수 있다. 기재층(10)의 두께는 광학 부재의 지지, 기계적 강도, 및 열안정성을 고려하면서 제조된 광학 부재의 유연성 및 투과광의 손실이 없도록 10~1000㎛인 것일 수 있다.The substrate layer 10 is not particularly limited as long as it is a transparent resin having excellent mechanical strength and thermal stability. For example, a polyethylene terephthalate film, a polycarbonate film, a polypropylene film, a polyethylene film, a polystyrene film, a polyepoxy film, or the like can be used. Can be used. The thickness of the substrate layer 10 may be 10 to 1000 μm so that there is no loss of flexibility and transmitted light of the manufactured optical member while considering support of the optical member, mechanical strength, and thermal stability.

광확산층(30)은 바인더 수지에 광확산 입자가 분산되어 형성된 것일 수 있다. 광확산층(30)이 복수개 형성된 경우 각 층의 바인더 수지는 동일할 수도 있고 다를 수도 있다. 상기 바인더 수지로는 적층되는 층과 접착성이 좋으며, 분산되는 광확산 입자와 상용성이 좋은 수지, 즉, 광확산 입자가 수지에 골고루 분산되어 분리되거나 침전이 잘 생기지 않는 것을 사용하는 것이 좋다. 이러한 수지로는 예컨대, 불포화폴리에스터, 메틸메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, 이소부틸메타크릴레이트, 노말부틸메타크릴레이트, 노말부틸메틸메타크릴레이트, 아크릴산, 메타크릴산, 히드록시에틸메타크릴레이트, 히드록시프로필메타크릴레이트, 히드록시에틸아크릴레이트, 아크릴아마이드, 메티롤아크릴아마이드, 글리시딜메타크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 이소부틸아크릴레이트, 노말부틸아크릴레이트 및 2-에틸헥실아크릴레이트 중 선택된 단독 중합체, 이들의 공중합체 또는 삼원공중합체일 수 있으며, 이러한 아크릴계 수지, 우레탄계 수지, 에폭시계 수지, 멜라민계 수지 등을 사용할 수 있다.The light diffusion layer 30 may be formed by dispersing light diffusion particles in a binder resin. When a plurality of light diffusing layers 30 are formed, the binder resins of the respective layers may be the same or different. As the binder resin, a resin having good adhesion with the layer to be laminated and having good compatibility with the light-diffusing particles to be dispersed, that is, light-diffusing particles may be evenly dispersed in the resin to be separated or not easily precipitated. Such resins include, for example, unsaturated polyesters, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, isobutyl methacrylate, normal butyl methacrylate, normal butyl methyl methacrylate, acrylic acid, methacrylic acid and hydroxyethyl methacrylate. Latex, hydroxypropyl methacrylate, hydroxyethyl acrylate, acrylamide, methrol acrylamide, glycidyl methacrylate, ethyl acrylate, isobutyl acrylate, normal butyl acrylate and 2-ethylhexyl acrylate It may be selected homopolymers, copolymers or terpolymers of these, such acrylic resins, urethane resins, epoxy resins, melamine resins and the like can be used.

상기 광확산 입자는 복수개의 유기입자 또는 무기입자를 사용할 수 있다. 유 기입자로는 예컨대, 메틸메타크릴레이트, 아크릴산, 메타크릴산, 히드록시에틸메타크릴레이트, 히드록시프로필메타크릴레이트, 아크릴아마이드, 메티롤아크릴아마이드, 글리시딜메타크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 이소부틸아크릴레이트, 노말부틸아크릴레이트 및 2-에틸헥실아크릴레이트 중 선택된 단독 중합체 또는 이들의 공중합체인 아크릴계 입자; 폴리에틸렌, 폴리스티렌, 폴리프로필렌 등의 올레핀계 입자; 아크릴계 및 올레핀계의 공중합체 입자 및 단일 중합체의 입자를 형성한 후 그 층위에 다른 종류의 단량체로 덮어 씌워 만든 다층 다성분계 입자를 사용할 수 있다. 무기입자로는 예컨대, 산화규소, 산화알루미늄, 산화티타늄, 산화지르코늄 및 불화마그네슘 등을 사용한다. 상기 유기 및 무기 입자들은 단지 예시적인 것으로 본 발명의 주된 목적을 달성할 수 있는 한 다른 공지된 재료로 얼마든지 대치할 수 있음은 당업자에게 자명하며, 본 발명의 기술적 사상의 범주 내이다.The light diffusion particles may use a plurality of organic particles or inorganic particles. Examples of oil registers include methyl methacrylate, acrylic acid, methacrylic acid, hydroxyethyl methacrylate, hydroxypropyl methacrylate, acrylamide, methirolacrylamide, glycidyl methacrylate, ethyl acrylate, Acrylic particles which are homopolymers or copolymers thereof selected from isobutyl acrylate, normal butyl acrylate and 2-ethylhexyl acrylate; Olefinic particles such as polyethylene, polystyrene and polypropylene; Multi-layer multicomponent particles formed by forming copolymer particles of acryl and olefin and particles of homopolymer and then covering the layers with other types of monomers can be used. Examples of the inorganic particles include silicon oxide, aluminum oxide, titanium oxide, zirconium oxide, magnesium fluoride and the like. It is apparent to those skilled in the art that the organic and inorganic particles are merely exemplary and can be replaced by other known materials as long as the main object of the present invention can be achieved, and it is within the scope of the technical idea of the present invention.

이상의 광확산 입자는 바인더 수지 100중량부에 대하여 0.01~1000중량부를 사용할 수 있으며, 상기 광확산 입자의 평균 입경은 광확산층(30)의 두께에 따라 다르나, 광확산 입자의 이탈을 방지하면서 효율적인 광확산 효과를 위하여 0.1~200㎛인 것일 수 있다. The light diffusing particles may be used in an amount of 0.01 to 1000 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the binder resin, and the average particle diameter of the light diffusing particles varies depending on the thickness of the light diffusing layer 30, but the light diffusing particles may be efficiently separated It may be 0.1 to 200㎛ for the diffusion effect.

프리즘층(40)은 자외선 경화형 수지 또는 열경화성 수지를 포함하는 고분자 수지를 이용하여 제조할 수 있으며, 투명성이 우수하고 광학 구조의 형상 유지에 적합한 가교 결합을 형성할 수 있는 수지를 사용하는 것이 바람직하다. 예컨대, 우레탄아크릴레이트, 우레탄메타크릴레이트, 에폭시아크릴레이트, 에폭시메타크릴레 이트, 폴리에스테르아크릴레이트 또는 폴리에스테르메타크릴레이트 등의 올리고머를 사용할 수 있다.The prism layer 40 may be manufactured using a polymer resin including an ultraviolet curable resin or a thermosetting resin, and it is preferable to use a resin having excellent transparency and capable of forming a crosslink suitable for maintaining the shape of an optical structure. . For example, an oligomer such as urethane acrylate, urethane methacrylate, epoxy acrylate, epoxy methacrylate, polyester acrylate or polyester methacrylate can be used.

프리즘층(40)은 상기의 수지를 도포한 후 몰드 등을 지나며 경화됨으로써 구조를 형성할 수 있는데, 도시된 바와 같이 삼각 프리즘일 수 있으며, 그 외에도 종단면이 다각형, 피크가 유선형인 다각형, 반원형, 반타원형인 다면체 형상; 또는 종단면이 다각형, 피크가 유선형인 다각형, 반원형, 반타원형인 기둥 형상; 또는 종단면이 다각형, 피크가 유선형인 다각형, 반원형, 반타원형인 곡선 기둥 형상 중 선택된 한 가지 이상의 패턴을 포함할 수 있다. 이 때 구조가 종단면이 다각형인 경우 상부 꼭지각은 집광에 의한 전방휘도와 시야각 내 광세기 분포를 고려하여 80°~100°인 것일 수 있다.The prism layer 40 may form a structure by applying the above resin and then hardening through a mold or the like. The prism layer 40 may be a triangular prism as shown in the drawing. In addition, the longitudinal section is polygonal, the peak is streamlined polygon, semicircular, Semi-elliptic polyhedron shape; Or a columnar shape having a polygonal longitudinal section, a polygonal peak having a streamline shape, a semicircular shape, and a semi-elliptic shape; Alternatively, the cross-section may include one or more patterns selected from a polygonal shape, a polygonal peak shape, a semicircle shape, and a semi-elliptic curved column shape. In this case, when the structure is a polygon in the longitudinal section, the upper vertex may be 80 ° to 100 ° in consideration of the distribution of light intensity in the front luminance and the viewing angle due to condensing.

이하, 본 발명의 실시예로 더욱 상세히 설명하나, 본 발명의 범위가 이들 실시예로 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, examples of the present invention will be described in more detail, but the scope of the present invention is not limited to these examples.

<실시예 1><Example 1>

기재층으로써 두께 125㎛의 초투명 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 T600(미쓰비시社,일본)을 사용하였으며, 기재층의 일면에 증착기(디알테크넷社,한국)를 통해 인듐-주석 혼합 산화물(In2O3 : SnO2 = 85:15(중량비), 불순물 100ppm이하, 가시광선 투과율 85%, 삼성코닝정밀유리社, 한국) 증착 및 어닐링하여 제1전자파 차폐층 을 형성한 광학부재 A를 제조하였다. 증착 두께는 85nm였으며, 제1전자파 차폐층의 표면저항은 100Ω/□이었다.An ultra-transparent polyethylene terephthalate film T600 (Mitsubishi, Japan) having a thickness of 125 µm was used as the substrate layer, and an indium-tin mixed oxide (In 2 O 3: SnO 2 = 85:15 (weight ratio), impurities 100ppm or less, visible light transmittance of 85%, Samsung Corning Precision Glass Co., Ltd. Korea by depositing and annealing to prepare an optical member A to form a first electromagnetic shielding layer. The deposition thickness was 85 nm, and the surface resistance of the first electromagnetic shielding layer was 100 mA / square.

<실시예 2><Example 2>

상기 실시예 1에서, 기재층의 제1전자파 차폐층이 형성되지 않은 면에, 제1전자파 차폐층을 형성한 방법과 같은 방법으로 제2전자파 차폐층을 형성한 광학부재 B를 제조하였다. 제2전자파 차폐층의 표면저항은 97Ω/□이었다.In Example 1, an optical member B having a second electromagnetic wave shielding layer formed on the surface on which the first electromagnetic wave shielding layer was not formed was formed in the same manner as the first electromagnetic wave shielding layer. The surface resistance of the second electromagnetic shielding layer was 97 kV / square.

<실시예 3><Example 3>

상기 실시예 1에서, 기재층의 제1전자파 차폐층이 형성되지 않은 면에, 제1전자파 차폐층을 형성한 방법과 같은 방법으로 제2전자파 차폐층을 형성하되, 증착 두께가 30nm가 되도록 하여 제2전자파 차폐층을 형성한 광학부재 C를 제조하였다. 제2전자파 차폐층의 표면저항은 1.2x103Ω/□이었다.In Example 1, the second electromagnetic shielding layer is formed on the surface where the first electromagnetic shielding layer of the base layer is not formed by the same method as the method of forming the first electromagnetic shielding layer, but the deposition thickness is 30nm An optical member C having a second electromagnetic shielding layer was prepared. The surface resistance of the 2nd electromagnetic wave shielding layer was 1.2x10 <3> Pa / square.

<실시예 4><Example 4>

아크릴 수지(애경화학社 52-666) 100중량부에 메틸에틸케톤 100중량부, 톨루엔 100중량부를 혼합하여 바인더 수지를 제조한 후, 평균 입경 20㎛의 구형 폴리메틸메타크릴레이트 입자(코오롱社 MH20F)를 상기 바인더 수지 100중량부에 대하여 130중량부 혼합하고 밀링기로 분산시켰다. 이를 상기 실시예 2에서 제조한 것과 같 은 광학부재 B의 제1전자파 차폐층 상에 그라비아 코터를 사용하여 코팅한 후 120℃에서 60초간 경화 및 건조시켜 두께가 28㎛인 제1광확산층을 형성하였다.After mixing 100 parts by weight of methyl ethyl ketone and 100 parts by weight of toluene to 100 parts by weight of acrylic resin (Aekyung Chemical Co., Ltd. 52-666) to prepare a binder resin, spherical polymethyl methacrylate particles having an average particle diameter of 20 μm (KOLON MH20F ) 130 parts by weight based on 100 parts by weight of the binder resin were mixed and dispersed with a mill. This was coated on the first electromagnetic shielding layer of the optical member B as prepared in Example 2 using a gravure coater and then cured and dried at 120 ° C. for 60 seconds to form a first light diffusing layer having a thickness of 28 μm. It was.

이후 상기 제1광확산층 상에 고굴절 아크릴레이트 80 중량부, 2-페닐에틸메타크릴레이트 15중량부, 1,6-헥산다이올아크릴레이트 3중량부, BAPO계 광개시제 2중량부를 혼합한 감광성 조성물을 도포하여 프리즘 형상 롤러의 프레임 위에 코팅시키고, 자외선을 기재층 쪽에서 조사(Fusion社, 300Watt/inch2)하여 꼭지각이 90°이고 피치가 50㎛, 높이가 25㎛인 삼각 프리즘을 선형으로 배열되도록 함으로써 프리즘층을 형성하였다.Thereafter, 80 parts by weight of high refractive acrylate, 15 parts by weight of 2-phenylethyl methacrylate, 3 parts by weight of 1,6-hexanediol acrylate, and 2 parts by weight of BAPO-based photoinitiator were mixed on the first light diffusion layer. It is coated and coated on the frame of the prism roller, and ultraviolet rays are irradiated from the substrate layer (Fusion, 300 Watt / inch 2 ) so that a triangular prism having a vertex angle of 90 ° and a pitch of 50 μm and a height of 25 μm is linearly arranged. A prism layer was formed.

그리고 아크릴수지(애경화학社 52-666) 100중량부에 메틸에틸케톤 200중량부, 톨루엔 150중량부를 혼합하여 바인더 수지를 제조한 후, 평균 입경 11.5㎛의 구형 폴리메틸메타크릴레이트 입자(코오롱社 MH10F)를 상기 바인더 수지 100중량부에 대하여 20중량부 혼합하고 밀링기로 분산시켰다. 이를 상기 광학부재 B의 제2전자파 차폐층 상에 그라비아 코터를 사용하여 코팅한 후 120℃에서 60초간 경화 및 건조시켜 두께가 13㎛인 제2광확산층을 형성하였다.After mixing 200 parts by weight of methyl ethyl ketone and 150 parts by weight of toluene to 100 parts by weight of acrylic resin (Aekyung Chemical Co., Ltd. 52-666) to prepare a binder resin, spherical polymethyl methacrylate particles having an average particle diameter of 11.5 μm (KOLON Corporation MH10F) was mixed with 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the binder resin and dispersed in a mill. This was coated on the second electromagnetic shielding layer of the optical member B using a gravure coater, and then cured and dried at 120 ° C. for 60 seconds to form a second light diffusion layer having a thickness of 13 μm.

<실시예 5><Example 5>

상기 실시예 4에서 제2광확산층을 형성하지 않은 것을 제외하고 동일한 방법으로 광학 부재를 제조하였다.An optical member was manufactured in the same manner as in Example 4, except that the second light diffusing layer was not formed.

<실시예 6><Example 6>

상기 실시예 4에서 제1광확산층을 형성하지 않고 제1전자파 차폐층에 프리즘층을 형성한 것을 제외하고 동일한 방법으로 광학 부재를 제조하였다.An optical member was manufactured in the same manner as in Example 4, except that the prism layer was formed on the first electromagnetic shielding layer without forming the first light diffusing layer.

<실시예 7><Example 7>

상기 실시예 4에서 프리즘층을 형성하지 않은 것을 제외하고 동일한 방법으로 광학 부재를 제조하였다.An optical member was manufactured in the same manner as in Example 4, except that no prism layer was formed.

<실시예 8~11><Examples 8-11>

상기 실시예 4~7에서 광학부재 B를 실시예 3에서 제조된 것과 같은 광학부재 C로 대체하여 사용한 것을 제외하고 동일한 방법으로 광학 부재를 제조하였다.An optical member was manufactured in the same manner as in Examples 4 to 7, except that the optical member B was replaced with the optical member C as prepared in Example 3.

<실시예 12><Example 12>

아크릴 수지(애경화학社 52-666) 100중량부에 메틸에틸케톤 100중량부, 톨루엔 100중량부를 혼합하여 바인더 수지를 제조한 후, 평균 입경 20㎛의 구형 폴리메틸메타크릴레이트 입자(코오롱社 MH20F)를 상기 바인더 수지 100중량부에 대하여 130중량부 혼합하고 밀링기로 분산시켰다. 이를 상기 실시예 1에서 제조된 것과 같은 광학부재 A의 전자파 차폐층에 그라비아 코터를 사용하여 코팅한 후 120℃에서 60초간 경화 및 건조시켜 두께가 28㎛인 제1광확산층을 형성하였다.After mixing 100 parts by weight of methyl ethyl ketone and 100 parts by weight of toluene to 100 parts by weight of acrylic resin (Aekyung Chemical Co., Ltd. 52-666) to prepare a binder resin, spherical polymethyl methacrylate particles having an average particle diameter of 20 μm (KOLON MH20F ) 130 parts by weight based on 100 parts by weight of the binder resin were mixed and dispersed with a mill. This was coated on the electromagnetic shielding layer of the optical member A as prepared in Example 1 using a gravure coater, and then cured and dried at 120 ° C. for 60 seconds to form a first light diffusion layer having a thickness of 28 μm.

이후 상기 제1광확산층 상에 고굴절 아크릴레이트 80 중량부, 2-페닐에틸메 타크릴레이트 15중량부, 1,6-헥산다이올아크릴레이트 3중량부, BAPO계 광개시제 2중량부를 혼합한 감광성 조성물을 도포하여 프리즘 형상 롤러의 프레임 위에 코팅시키고, 자외선을 기재층 쪽에서 조사(Fusion社, 300Watt/inch2)하여 꼭지각이 90°이고 피치가 50㎛, 높이가 25㎛인 삼각 프리즘을 선형으로 배열되도록 함으로써 프리즘층을 형성하였다.Thereafter, 80 parts by weight of high refractive acrylate, 15 parts by weight of 2-phenylethyl methacrylate, 3 parts by weight of 1,6-hexanediol acrylate, and 2 parts by weight of BAPO-based photoinitiator were mixed on the first light diffusion layer. Coated on the frame of the prism-shaped roller and irradiated with ultraviolet rays from the substrate layer (Fusion, 300 Watt / inch 2 ) so that a triangular prism with a vertex angle of 90 ° and a pitch of 50 μm and a height of 25 μm is linearly arranged. The prism layer was formed by this.

그리고 아크릴수지(애경화학社 52-666) 100중량부에 메틸에틸케톤 200중량부, 톨루엔 150중량부를 혼합하여 바인더 수지를 제조한 후, 평균 입경 11.5㎛의 구형 폴리메틸메타크릴레이트 입자(코오롱社 MH10F)를 상기 바인더 수지 100중량부에 대하여 20중량부 혼합하고 밀링기로 분산시켰다. 이를 상기 광학부재 A의 기재층 이면에 그라비아 코터를 사용하여 코팅한 후 120℃에서 60초간 경화 및 건조시켜 두께가 13㎛인 제2광확산층을 형성하였다.After mixing 200 parts by weight of methyl ethyl ketone and 150 parts by weight of toluene to 100 parts by weight of acrylic resin (Aekyung Chemical Co., Ltd. 52-666) to prepare a binder resin, spherical polymethyl methacrylate particles having an average particle diameter of 11.5 μm (KOLON Corporation MH10F) was mixed with 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the binder resin and dispersed in a mill. This was coated on the back surface of the base layer of the optical member A using a gravure coater, and then cured and dried at 120 ° C. for 60 seconds to form a second light diffusion layer having a thickness of 13 μm.

<실시예 13>Example 13

상기 실시예 12에서 제2광확산층을 형성하지 않은 것을 제외하고 동일한 방법으로 광학 부재를 제조하였다.An optical member was manufactured in the same manner as in Example 12, except that the second light diffusing layer was not formed.

<실시예 14><Example 14>

상기 실시예 12에서 제1광확산층을 형성하지 않고 전자파 차폐층에 프리즘층을 형성한 것을 제외하고 동일한 방법으로 광학 부재를 제조하였다.An optical member was manufactured in the same manner as in Example 12, except that the prism layer was formed on the electromagnetic shielding layer without forming the first light diffusing layer.

<실시예 15><Example 15>

상기 실시예 12에서 프리즘층을 형성하지 않은 것을 제외하고 동일한 방법으로 광학 부재를 제조하였다.An optical member was manufactured in the same manner as in Example 12, except that no prism layer was formed.

<실시예 16><Example 16>

상기 실시예 2에서 전자파 차폐층으로 인듐-주석 혼합 산화물 대신 폴리아닐린(Polysis Pure Product Co., 한국)과 0.2중량%의 카본나노튜브(Unidym-XM, Unidym, Inc.)를 혼합한 전도성 폴리머를 사용하여 제1 및 제2전자파 차폐층을 기재의 양면에 두께 5㎛로 형성한 것을 제외하고 동일한 방법으로 광학부재 D를 제조하였다. 제1 및 제2전자파 차폐층의 표면저항은 5.6x102Ω/□ 였다.In Example 2, a conductive polymer obtained by mixing polyaniline (Polysis Pure Product Co., Korea) and 0.2% by weight of carbon nanotubes (Unidym-XM, Unidym, Inc.) instead of indium-tin mixed oxide was used as the electromagnetic shielding layer. The optical member D was manufactured in the same manner except that the first and second electromagnetic wave shielding layers were formed on both surfaces of the substrate with a thickness of 5 μm. The surface resistance of the 1st and 2nd electromagnetic wave shielding layer was 5.6x10 <2> Pa / square.

<실시예 17~20><Examples 17-20>

상기 실시예 4 내지 7에서 광학부재 B를 대신하여 광학부재 D를 사용한 것을 제외하고 동일하게 실행하였다.Except for using the optical member D in place of the optical member B in Examples 4 to 7 were carried out in the same manner.

<비교예 1~4><Comparative Example 1-4>

상기 실시예 4~7에서 전자파차폐층을 형성하지 않은 것을 제외하고 동일하게 실행하였다. Except that the electromagnetic shielding layer was not formed in Examples 4 to 7 was carried out in the same manner.

<비교예 5>Comparative Example 5

상기 비교예 1의 광학부재의 양면에 상기 실시예 2와 동일한 조건으로 전자파 차폐층을 형성하였다.Electromagnetic shielding layers were formed on both surfaces of the optical member of Comparative Example 1 under the same conditions as in Example 2.

상기 실시예 및 비교예에서 제조된 광학 부재에 대한 물성을 다음과 같이 평가하였으며, 그 결과는 표 2와 같다. Physical properties of the optical members prepared in Examples and Comparative Examples were evaluated as follows, and the results are shown in Table 2 below.

1. 휘도평가(Cd/㎡)1. Luminance Evaluation (Cd / ㎡)

17인치 액정디스플레이 패널용 백라이트 유닛(모델명 : LM170E01, 대한민국 희성전자제조)에 상기 제조된 실시예 및 비교예의 광학 부재를 장착(표 1 참조)하여 고정하고, 휘도계(모델명 : BM-7, 일본 TOPCON사)를 사용하여 임의의 13지점의 정면 휘도를 측정하여 그 평균값을 구하였다. A 17-inch liquid crystal display panel backlight unit (model name: LM170E01, manufactured by Heesung Electronics, Korea) was mounted and fixed with the optical members of the above-described examples and comparative examples (see Table 1), and the luminance meter (model name: BM-7, Japan) TOPCON) was used to measure the front luminance at any of 13 points and the average value was obtained.

2. 가시광 투과율2. Visible light transmittance

Nippon Denshoku사의 Haze 측정기 NDH2000 분광광도계를 이용하여 광학부재의 전광선투과율(TT)를 측정하였다. 측정환경은 25℃, 55RH%이었다. The total light transmittance (TT) of the optical member was measured using a Haze meter NDH2000 spectrophotometer manufactured by Nippon Denshoku. The measurement environment was 25 ° C. and 55 RH%.

전자파 차폐층의 가시광 투과율은 하기 식에 의해 계산하였다.The visible light transmittance of the electromagnetic wave shielding layer was calculated by the following equation.

Figure 112008039993780-PAT00001
Figure 112008039993780-PAT00001

3. 표면 저항3. Surface Resistance

측정기기 : CMT-SR2000N, Four Point Probe System Measuring device: CMT-SR2000N, Four Point Probe System

(Advanced Instrument Technology사)           (Advanced Instrument Technology)

측정방법 How to measure

- 표면저항 측정 시료 크기 : 10cm x 10cm  -Surface resistance measurement sample size: 10cm x 10cm

- 표면저항 측정 방법 : 자동  -Surface resistance measurement method: automatic

- 측정 환경 : 23℃ ± 1℃, 30~70RH%  -Measurement environment: 23 ℃ ± 1 ℃, 30 ~ 70RH%

4. 전자파 차폐 성능 평가4. Evaluation of electromagnetic shielding performance

전자파 측정기(Holaday社 HI-3604)의 프로브를 17인치 액정디스플레이 패널용 백라이트 유닛(모델명 : LM170E01, 대한민국 희성전자제조)에서 도광판 상층에 장착된 광학부재를 제거한 후 상부에서 1㎝의 간격을 두고 측정 주파수 대역 1KHz에서 전기파 및 자기파를 측정하고, 도광판 상층에서 제거한 광확산필름-A 및/또는 프리즘 필름-A 를 광확산층 및 프리즘층이 모두 장착될 수 있도록 실시예 및 비교예로부터 얻은 광학부재와 함께 표1과 같은 순서로 장착하고, 고정부를 통해 광학부재의 두께방향의 단면이 접지선과 연결되도록 한 후 같은 방법으로 전기파 및 자기파를 측정하여 차단율을 계산하였다.Measure the probe of the electromagnetic measuring instrument (Holaday HI-3604) by removing the optical member mounted on the upper layer of the light guide plate from the backlight unit for the 17-inch liquid crystal display panel (Model name: LM170E01, Heesung Electronics Korea). Measuring the electric wave and the magnetic wave in the frequency band 1KHz, and the optical member obtained from the examples and the comparative example so that both the light diffusion layer and / or prism film -A removed from the upper light guide plate can be mounted In addition, as shown in Table 1, the cross section in the thickness direction of the optical member is connected to the ground line through the fixing part, and then the electrical and magnetic waves were measured in the same way to calculate the blocking rate.

구분division 정면 휘도 및 전자파 차단율 측정을 위한 BLU 장착 구조BLU mounting structure for measuring front brightness and electromagnetic wave blocking rate 실시예1Example 1 CCFL-도광판-실시예1-광확산필름A-프리즘필름ACCFL-Light Guide Plate-Example 1-Light Diffusion Film A-Prism Film A 실시예2Example 2 CCFL-도광판-실시예2-광확산필름A-프리즘필름ACCFL-Light Guide Plate-Example 2-Light Diffusion Film A-Prism Film A 실시예3Example 3 CCFL-도광판-실시예3-광확산필름A-프리즘필름ACCFL-Light Guide Plate-Example 3-Light Diffusion Film A-Prism Film A 실시예4Example 4 CCFL-도광판-실시예4CCFL-guide plate-Example 4 실시예5Example 5 CCFL-도광판-실시예5-프리즘필름ACCFL-Light Guide Plate-Example 5-Prism Film A 실시예6Example 6 CCFL-도광판-광확산필름A-실시예4CCFL-Light Guide Plate-Diffuse Film A-Example 4 실시예7Example 7 CCFL-도광판-실시예7-프리즘필름ACCFL-Light Guide Plate-Example 7-Prism Film A 실시예8Example 8 CCFL-도광판-실시예8CCFL-guide plate-Example 8 실시예9Example 9 CCFL-도광판-실시예9-프리즘필름ACCFL-Light Guide Plate-Example 9-Prism Film A 실시예10Example 10 CCFL-도광판-광확산필름A-실시예10CCFL-Light Guide Plate-Diffuse Film A-Example 10 실시예11Example 11 CCFL-도광판-실시예11-프리즘필름ACCFL-Light Guide Plate-Example 11-Prism Film A 실시예12Example 12 CCFL-도광판-실시예12CCFL-guide plate-Example 12 실시예13Example 13 CCFL-도광판-실시예13-프리즘필름ACCFL-Light Guide Plate-Example 13-Prism Film A 실시예14Example 14 CCFL-도광판-광확산필름A-실시예14CCFL-Light Guide Plate-Diffuse Film A-Example 14 실시예15Example 15 CCFL-도광판-실시예15-프리즘필름ACCFL-Light Guide Plate-Example 15-Prism Film A 실시예16Example 16 CCFL-도광판-실시예16-광확산필름A-프리즘필름ACCFL-Light Guide Plate-Example 16-Diffusion Film A-Prism Film A 실시예17Example 17 CCFL-도광판-실시예17CCFL-guide plate-Example 17 실시예18Example 18 CCFL-도광판-실시예18-프리즘필름ACCFL-Light Guide Plate-Example 18-Prism Film A 실시예19Example 19 CCFL-도광판-광확산필름A-실시예19CCFL-Light Guide Plate-Diffuse Film A-Example 19 실시예20Example 20 CCFL-도광판-실시예20-프리즘필름ACCFL-Light Guide Plate-Example 20-Prism Film A 비교예1Comparative Example 1 CCFL-도광판-비교예1CCFL-Light Guide Plate-Comparative Example 1 비교예2Comparative Example 2 CCFL-도광판-비교예2-프리즘필름ACCFL-Light Guide Plate-Comparative Example 2-Prism Film A 비교예3Comparative Example 3 CCFL-도광판-광확산필름A-비교예3CCFL-Light Guide Plate-Diffuse Film A-Comparative Example 3 비교예4Comparative Example 4 CCFL-도광판-비교예4-프리즘필름ACCFL-Light Guide Plate-Comparative Example 4-Prism Film A 비교예5Comparative Example 5 CCFL-도광판-비교예5CCFL-Light Guide Plate-Comparative Example 5

구분division 정면 휘도 (Cd/m2)Front luminance (Cd / m 2 ) 전자파차폐층 가시광투과율(%)Electromagnetic shielding layer visible light transmittance (%) 전자파차폐층 표면저항(Ω/□)Electromagnetic shielding layer surface resistance (Ω / □) 전자파차단율(%)Electromagnetic Interception Rate (%) 제1층First floor 제2층2nd layer 전기파Electric wave 자기파Magnetic waves 실시예1Example 1 20382038 9999 100100 -- 6262 5555 실시예2Example 2 20332033 9797 100100 9797 9999 9797 실시예3Example 3 20362036 9898 100100 12001200 8585 8080 실시예4Example 4 20512051 9797 100100 9797 9999 9797 실시예5Example 5 20472047 9797 100100 9797 9999 9797 실시예6Example 6 20482048 9797 100100 9797 9999 9797 실시예7Example 7 20462046 9797 100100 9797 9999 9797 실시예8Example 8 20552055 9898 100100 12001200 8585 8080 실시예9Example 9 20522052 9898 100100 12001200 8585 8080 실시예10Example 10 20532053 9898 100100 12001200 8585 8080 실시예11Example 11 20532053 9898 100100 12001200 8585 8282 실시예12Example 12 20462046 9999 100100 -- 6262 5555 실시예13Example 13 20452045 9999 100100 -- 6262 5555 실시예14Example 14 20432043 9999 100100 -- 6262 5555 실시예15Example 15 20432043 9999 100100 -- 6262 5555 실시예16Example 16 20312031 9595 560560 560560 8585 8888 실시예17Example 17 20452045 9595 560560 560560 8585 8888 실시예18Example 18 20422042 9595 560560 560560 8585 8888 실시예19Example 19 20422042 9595 560560 560560 8585 8888 실시예20Example 20 20422042 9595 560560 560560 8585 8888 비교예1Comparative Example 1 20502050 -- -- -- 00 00 비교예2Comparative Example 2 20332033 -- -- -- 00 00 비교예3Comparative Example 3 20102010 -- -- -- 00 00 비교예4Comparative Example 4 19981998 -- -- -- 00 00 비교예5Comparative Example 5 20222022 9797 1500015000 1180011800 2525 2020

상기 물성 평가 결과, 기재층의 양면에 전자파 차폐층을 형성한 경우, 상대적으로 고굴절율을 갖는 전자파차폐층에 의해 기재층 안에서 내부반사에 의해 빛의 출사각이 정면방향으로 더욱 조절되는 것으로 추정되는 원인으로 인하여 광학부재의 성능이 더욱 향상되는 경향과 우수한 전자파 차폐효율을 나타내었으며, 일면에만 전자파 차폐층을 형성할 경우에도 우수한 전자파 차폐효율을 갖는 것을 확인할 수 있었다. As a result of evaluating the physical properties, when the electromagnetic shielding layer is formed on both sides of the substrate layer, it is estimated that the emission angle of light is further controlled in the front direction by the internal reflection in the substrate layer by the electromagnetic shielding layer having a relatively high refractive index. Due to the cause, the performance of the optical member was further improved and showed excellent electromagnetic shielding efficiency, and it was confirmed that the electromagnetic shielding efficiency was excellent even when the electromagnetic shielding layer was formed on only one surface.

도 1은 본 발명의 바람직한 일 구현예에 의한 광학 부재의 단면도, 1 is a cross-sectional view of an optical member according to a preferred embodiment of the present invention;

도 2 내지 도 6은 본 발명의 바람직한 다른 구현예에 의한 광학 부재의 단면도이다.2 to 6 are cross-sectional views of optical members according to another preferred embodiment of the present invention.

* 도면의 주요부분의 부호에 대한 설명* Explanation of the symbols of the main parts of the drawings

10 : 기재층 20 : 전자파 차폐층10: base material layer 20: electromagnetic shielding layer

30 : 광확산층 40 : 프리즘층30: light diffusion layer 40: prism layer

Claims (12)

기재층;Base layer; 상기 기재층의 일면 또는 양면에 형성된 전자파 차폐층; 및An electromagnetic shielding layer formed on one or both surfaces of the base layer; And 상기 전자파 차폐층 상에 형성된 광학층An optical layer formed on the electromagnetic shielding layer 을 포함하는 광학 부재.Optical member comprising a. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 전자파 차폐층은 인듐-주석 혼합 산화물(ITO), 인듐-아연 혼합 산화물(IZO), 인듐-주석-아연 산화물 삼성분계(In2O3-SnO2-ZnO), 안티몬-주석 산화물(ATO) 및 알루미늄이 도핑된 산화아연(AZO) 중 선택된 단독 또는 2종 이상의 혼합물을 포함하는 광학부재.The electromagnetic shielding layer includes indium-tin mixed oxide (ITO), indium-zinc mixed oxide (IZO), indium-tin-zinc oxide ternary system (In 2 O 3 -SnO 2 -ZnO), antimony-tin oxide (ATO) and An optical member comprising a single or a mixture of two or more selected of aluminum doped zinc oxide (AZO). 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 전자파 차폐층은 폴리아닐린(Polyaniline), 폴리티오펜(Polythiophenes), 폴리피롤(Polypyrrols), 폴리아세틸렌(Polyacetylenes), 폴리페닐렌 비닐렌(Polyphenylene Vinylene), 폴리페닐렌 설파이드(Polypheneylene Sulfide), 프탈로시아닌(Phthalocyanin) 및 폴리플루오렌(Polyfluorenes) 중 선택된 단독 또는 2종 이상 선택하여 형성되는 광학부재.The electromagnetic shielding layer is polyaniline, polythiophenes, polypyrrols, polyacetylenes, polyphenylene vinylene, polypheneylene sulfide, phthalocyanine And an optical member formed by selecting one or two or more selected from polyfluorenes. 제 3 항에 있어서, The method of claim 3, wherein 전자파 차폐층은 카본나노튜브, C60, 흑연, 카본블랙, 카본섬유 또는 금, 백금, 은, 수은, 구리, 니켈, 철, 알루미늄 및 이들의 혼합물로 이루어지는 군에서 선택되는 금속 분말 또는 SnO2, ZnO, Fe2O3, WO3, In2O3, BaTiO3 및 이들의 혼합물로 이루어지는 군에서 선택되는 산화물의 분말로부터 선택된 1종 이상의 전도성 충진제를 0.01 내지 20중량% 함유하는 광학부재.The electromagnetic shielding layer may be selected from the group consisting of carbon nanotubes, C 60 , graphite, carbon black, carbon fibers or gold, platinum, silver, mercury, copper, nickel, iron, aluminum and mixtures thereof, or SnO 2 , An optical member containing 0.01 to 20% by weight of at least one conductive filler selected from powders of oxides selected from the group consisting of ZnO, Fe 2 O 3 , WO 3 , In 2 O 3 , BaTiO 3 and mixtures thereof. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 광학층은 광확산층 또는 프리즘층 단독으로 형성되거나, 광확산층과 프리즘층이 순차적으로 형성된 광학부재.The optical layer is formed of a light diffusion layer or a prism layer alone, or an optical member in which the light diffusion layer and the prism layer are sequentially formed. 제 3 항에 있어서, The method of claim 3, wherein 전자파 차폐층을 형성하는 인듐-주석 혼합 산화물(ITO)은 산화인듐(In2O3) 80~98중량%와 산화주석(SnO2) 2~20 중량%를 함유하는 광학 부재.An indium-tin mixed oxide (ITO) forming the electromagnetic shielding layer contains 80 to 98% by weight of indium oxide (In 2 O 3 ) and 2 to 20% by weight of tin oxide (SnO 2 ). 제 5 항에 있어서, The method of claim 5, wherein 광확산층은 바인더 수지와 광확산 입자를 포함하고, 상기 광확산 입자는 바인더 수지 100중량부에 대하여 0.01~1000중량부인 광학 부재.The light diffusing layer includes a binder resin and light diffusing particles, wherein the light diffusing particles are 0.01 to 1000 parts by weight based on 100 parts by weight of the binder resin. 제 7 항에 있어서, The method of claim 7, wherein 광확산 입자는 평균 입경이 0.1~200㎛인 광학 부재.The light-diffusion particle is an optical member whose average particle diameter is 0.1-200 micrometers. 제 5 항에 있어서, The method of claim 5, wherein 프리즘층은 종단면이 다각형, 피크가 유선형인 다각형, 반원형, 반타원형인 다면체 형상; 또는 종단면이 다각형, 피크가 유선형인 다각형, 반원형, 반타원형인 기둥 형상; 또는 종단면이 다각형, 피크가 유선형인 다각형, 반원형, 반타원형인 곡선 기둥 형상 중 선택된 한 가지 이상의 패턴을 포함하는 광학 부재.The prism layer has a polygonal longitudinal section, a polygon with a peak streamline, a semicircle, and a semi-ellipse polyhedron; Or a columnar shape having a polygonal longitudinal section, a polygonal peak having a streamline shape, a semicircular shape, and a semi-elliptic shape; Or an optical member comprising at least one pattern selected from polygonal cross-section, polygon with peak streamline, semi-circle, semi-elliptic curve column shape. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 전기파 또는 자기파의 차단율이 50% 이상인 광학 부재.An optical member having an electrical or magnetic wave blocking rate of 50% or more. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 전자파 차폐층은 가시광 투과율이 80% 이상인 광학 부재.The electromagnetic wave shielding layer is an optical member having a visible light transmittance of 80% or more. 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항의 광학 부재를 포함하는 액정 디스플레이용 장치.An apparatus for a liquid crystal display comprising the optical member of any one of claims 1 to 11.
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KR101295715B1 (en) * 2012-07-17 2013-08-16 유한회사 아이엘에스 Heat radiation composition for reflecing board and cover of lighting apparatus coating having shielding electronic wave and lighting apparatus cover
CN108424515A (en) * 2018-03-28 2018-08-21 西安科技大学 A kind of method that microwave radiation technology prepares aniline-co-pyrrole copolymer
WO2019080319A1 (en) * 2017-10-23 2019-05-02 广州视源电子科技股份有限公司 Touch module, liquid crystal display and terminal device

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