KR20090101682A - Apparatus and method for electro polishing a metal tape surface - Google Patents
Apparatus and method for electro polishing a metal tape surfaceInfo
- Publication number
- KR20090101682A KR20090101682A KR1020080026973A KR20080026973A KR20090101682A KR 20090101682 A KR20090101682 A KR 20090101682A KR 1020080026973 A KR1020080026973 A KR 1020080026973A KR 20080026973 A KR20080026973 A KR 20080026973A KR 20090101682 A KR20090101682 A KR 20090101682A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- electrolytic polishing
- metal tape
- electropolishing
- tank
- unit
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B12/00—Superconductive or hyperconductive conductors, cables, or transmission lines
- H01B12/02—Superconductive or hyperconductive conductors, cables, or transmission lines characterised by their form
- H01B12/06—Films or wires on bases or cores
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25F—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROM OBJECTS; APPARATUS THEREFOR
- C25F3/00—Electrolytic etching or polishing
- C25F3/16—Polishing
Abstract
Description
본 발명은 2세대 초전도 선재(Coated conductor)의 제작을 위해 필요한 금속 모재의 표면 연마에 관한 것이다. 특히, 길이가 수 킬로의 길이인 장선화 초전도 선재의 모재에 대한 전해연마 장치 및 방법에 대한 것이다. The present invention relates to the surface polishing of a metal base material required for the fabrication of second generation superconducting (Coated conductor). In particular, the present invention relates to an electropolishing apparatus and method for a base material of a long wire superconducting wire having a length of several kilos.
현재는 은(Ag) 튜브에 초전도물질을 분말 형태로 충진 (PIT-powder in tube) 하여 제작하는 제 1세대 고온 초전도 선재와는 달리 2세대 고온 초전도 선재는 박막형태로 제작을 한다. 이 초전도 및 기타 완충층들을 테이프형태의 금속 모재 위에 증착하게 된다. 우수한 2세대 고온 초전도 특성을 갖는 선재를 제작하기 위한 조건들 중 가장 중요한 이축 배향된 템플릿이다. 이런 이축 배향된 템플릿을 제작하기 위해서는 초기의 모재로 사용되는 금속기판(금속 테이프)은 특성이 우수한 표면 거칠기(Root mean square (RMS) roughness) 값을 가지며, 절연 피막이 효과적인 제거되어야 하며, 표면에 pitting, 먼지, 불순물 등이 없는 km 급 장선 금속 테이프가 필수적이다. Currently, second-generation high-temperature superconducting wires are manufactured in a thin film form, unlike first-generation high-temperature superconducting wires, which are manufactured by filling PIT-powder in tubes with silver (Ag) tubes. The superconducting and other buffer layers will be deposited on a tape-like metal matrix. It is the most important biaxially oriented template of the conditions for fabricating wire rods having excellent second generation high temperature superconducting properties. In order to fabricate such a biaxially oriented template, the metal substrate (metal tape) used as an initial base material has a high root mean square (RMS) roughness value, the insulating film must be effectively removed, and pitting on the surface A km-long joist metal tape free of dust, dirt and impurities is essential.
이러한 이유로 현재, 금속 모재의 표면 처리 방식으로 전해 연마 방식을 사용하고 있다. 하지만, km 급 장선 금속 테이프에 대한 전해 연마 공정은 장시간(5시간 이상) 진행되며, 시간이 지남에 따라서 전해 연마조의 전해 연마액의 기포 발생 및 온도 상승 문제가 발생된다. 기포는 금속 테이프 표면의 전해 연마 특성을 저하시키고, 전해연마액의 온도가 높아지면 표면 스크래치를 제거하기 전에 피팅이 발생하게 된다. For this reason, the electropolishing method is currently used as a surface treatment method of a metal base material. However, the electrolytic polishing process for the km-type joist metal tape is performed for a long time (more than 5 hours), and as time passes, problems of bubbles and temperature rise of the electrolytic polishing liquid of the electrolytic polishing bath occur. Bubbles degrade the electropolishing properties of the metal tape surface, and if the temperature of the electrolytic polishing liquid is high, fitting occurs before removing the surface scratches.
본 발명의 목적은 전해 연마액에 발생되는 기포를 제거할 수 있는 금속 테이프의 전해 연마 장치 및 방법을 제공하는데 있다.An object of the present invention is to provide an electropolishing apparatus and method for a metal tape capable of removing bubbles generated in an electropolishing liquid.
본 발명의 목적은 전해 연마액의 온도 조절을 통해 양호한 전해 연마면을 얻을 수 있는 금속 테이프의 전해 연마 장치 및 방법을 제공하는데 있다.An object of the present invention is to provide an electropolishing apparatus and method for a metal tape which can obtain a good electrolytic polishing surface through temperature control of the electrolytic polishing liquid.
본 발명의 금속 테이프의 전해 연마 장치는 전해 연마액이 담겨진 전해 연마조; 상기 전해 연마조에 설치되는 음극과 양극을 갖는 전극부재; 상기 전해 연마조에 설치되며, 전해 연마과정에서 발생되는 기포를 제거하기 위한 초음파 발생부재를 포함한다.The electropolishing apparatus of the metal tape of this invention is electrolytic polishing tank in which the electrolytic polishing liquid was contained; An electrode member having a cathode and an anode installed in the electrolytic polishing bath; It is installed in the electrolytic polishing bath, and includes an ultrasonic wave generating member for removing bubbles generated during the electropolishing process.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 전해 연마조는 전해 연마액이 수용되며 상기 전극부와 상기 초음파 발생부재가 설치되는 내조; 및 상기 내조의 외측에 위치되며, 전해 연마공정 중 상기 내조로부터 흘러 넘치는 전해 연마액을 수용하는 외조를 포함한다.According to an embodiment of the present invention, the electrolytic polishing tank includes an inner bath in which an electrolytic polishing liquid is accommodated and the electrode part and the ultrasonic wave generating member are installed; And an outer tank positioned outside the inner tank to accommodate the electrolytic polishing liquid flowing from the inner tank during the electropolishing process.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 전해 연마액은 상기 외조로부터 배출되어 저장탱크로 회수된 후 다시 상기 내조로 재공급된다.According to an embodiment of the present invention, the electrolytic polishing liquid is discharged from the outer tank and recovered to the storage tank and then supplied back to the inner tank.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 금속 테이프의 전해 연마 장치는 상기 외조로부터 배출되는 전해 연마액을 상기 내조로 다시 재공급하기 위해 전해 연마액이 저장되는 저장탱크; 및 상기 저장탱크에서 상기 내조로 재공급될 전해 연마액의 온도를 낮추기 위한 온도 조절부재를 더 포함한다.According to an embodiment of the present invention, the electropolishing apparatus of the metal tape may include: a storage tank in which an electropolishing liquid is stored to supply the electropolishing liquid discharged from the outer tank back to the inner tank; And a temperature adjusting member for lowering the temperature of the electrolytic polishing liquid to be supplied back to the inner tank from the storage tank.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 온도 조절부재는 상기 저장탱크에 설치되며 외부로부터 냉각수를 제공받는 냉각수 순환라인을 포함한다.According to an embodiment of the present invention, the temperature regulating member includes a coolant circulation line installed in the storage tank and receiving coolant from the outside.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 전극부재는 금속 테이프가 통과하는 이동경로를 사이에 두고 서로 마주보면 설치되는 한 쌍의 음극부; 및 금속 테이프가 통과하는 이동경로를 사이에 두고 서로 마주보면 설치되되, 상기 음극부를 사이에 두고 양쪽에 배치되는 한 쌍의 제1,2양극부를 포함한다.According to an embodiment of the present invention, the electrode member includes a pair of negative electrode portions provided to face each other with a moving path through which the metal tape passes; And a pair of first and second positive electrode parts disposed on both sides of the negative electrode part and disposed to face each other with a moving path through which the metal tape passes.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 전극부재는 음극부가 설치되는 음극전극 구간과; 상기 음극전극 구간을 사이에 두고 배치되는 그리고 제1,2양극부가 각각 설치되는 제1양극 구간과 제2양극 구간을 포함한다.According to an embodiment of the present invention, the electrode member includes a cathode electrode section in which the cathode portion is installed; And a first anode section and a second cathode section disposed with the cathode electrode section interposed therebetween and provided with first and second anode sections, respectively.
본 발명의 금속 테이프의 전해 연마 장치는 전해 연마액이 저장된 저장탱크; 상기 저장탱크로부터 전해 연마액을 제공받는 내조와, 상기 내조 측면에 배치되어 상기 내조에서 넘치는 전해 연마액이 수용되는 외조로 이루어지는 전해 연마조; 상기 외조와 상기 저장탱크 그리고 상기 내조로 이루어지는 전해 연마액의 순환경로를 제공하는 순환라인과, 상기 순환라인 상에 배치되어 상기 저장탱크에 저장된 전해 연마액을 상기 내조로 공급하는 펌프를 구비하는 순환부재; 상기 내조에 설치되는 음극과 양극을 갖는 전극부재; 및 상기 내조에 설치되며, 전해 연마과정에서 발생되는 기포를 제거하기 위한 초음파 발생부재를 포함한다.Electrolytic polishing apparatus of a metal tape of the present invention comprises a storage tank in which the electrolytic polishing liquid is stored; An electrolytic polishing tank comprising an inner tank receiving the electrolytic polishing liquid from the storage tank, and an outer tank disposed on a side of the inner tank to accommodate the overflowing electrolytic polishing liquid in the inner tank; A circulation line providing a circulation path of the electropolishing liquid consisting of the outer tank, the storage tank and the inner tank, and a pump disposed on the circulation line to supply the electropolishing liquid stored in the storage tank to the inner tank absence; An electrode member having a cathode and an anode installed in the inner tank; And installed in the inner tank, and includes an ultrasonic wave generating member for removing bubbles generated during the electropolishing process.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 금속 테이프의 전해 연마 장치는 상기 저장탱크에서 상기 내조로 재공급될 전해 연마액의 온도를 낮추기 위해 상기 저장탱크에 설치되는 냉각수 순환라인을 더 포함하며, 상기 냉각수 순환라인은 상기 제1린스조 또는 상기 제2린스조에서 사용되는 순수를 제공받는다.According to an embodiment of the present invention, the electropolishing apparatus of the metal tape further includes a cooling water circulation line installed in the storage tank to lower the temperature of the electropolishing liquid to be resupplyed from the storage tank to the inner tank. The circulation line is provided with pure water used in the first rinse tank or the second rinse tank.
본 발명의 금속 테이프의 전해 연마 장치는 전해 연마를 위한 금속 테이프를 제공하는 권출부; 상기 권출부로부터 제공되는 금속 테이프 표면에 기름, 먼지 제거를 위한 전처리 세정부; 상기 전처리 세정부에서 세정 처리된 금속 테이프를 순수로 린스하는 제1린스부; 상기 제1린스부에서 린스 처리된 금속 테이프를 전해연마액으로 연마하는 전해 연마부; 상기 연마부에서 연마를 마친 금속 테이프의 표면에 묻어 있는 전해 연마액을 중화시키는 중화처리부; 상기 중화처리부에서 중화 처리된 금속 테이프를 순수로 린스하는 제2린스부; 및 상기 린스부에서 린스를 마친 금속 테이프가 감겨지는 권취부를 포함한다.An electropolishing apparatus for a metal tape of the present invention includes: a winding-up unit for providing a metal tape for electropolishing; A pretreatment cleaning unit for removing oil and dust on the surface of the metal tape provided from the unwinding unit; A first rinse unit for rinsing the metal tape cleaned by the pretreatment cleaning unit with pure water; An electrolytic polishing unit for polishing the metal tape rinsed by the first rinse unit with an electropolishing solution; A neutralization unit for neutralizing the electrolytic polishing liquid on the surface of the metal tape polished by the polishing unit; A second rinse unit for rinsing the metal tape neutralized by the neutralization unit with pure water; And a winding unit in which the metal tape which has been rinsed from the rinse unit is wound.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 전해 연마부는 전해 연마액이 담겨진 전해 연마조; 상기 전해 연마조에 설치되는 음극과 양극을 갖는 전극부재; 상기 전해 연마조에 설치되며, 전해 연마과정에서 발생되는 기포를 제거하기 위한 초음파 발생부재를 포함한다.According to an embodiment of the present invention, the electrolytic polishing unit includes an electrolytic polishing bath containing an electrolytic polishing liquid; An electrode member having a cathode and an anode installed in the electrolytic polishing bath; It is installed in the electrolytic polishing bath, and includes an ultrasonic wave generating member for removing bubbles generated during the electropolishing process.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 전해 연마부는 전해 연마액이 수용되며 상기 전극부와 상기 초음파 발생부재가 설치되는 내조; 및 상기 내조의 외측에 위치되며, 전해 연마공정 중 상기 내조로부터 흘러 넘치는 전해 연마액을 수용하는 외조를 포함하는 전해 연마조; 상기 전해 연마조의 내조에 설치되는 음극과 양극을 갖는 전극부재; 상기 외조로부터 배출되는 전해 연마액이 저장되는 저장탱크; 상기 외조와 상기 저장탱크 그리고 상기 내조로 이루어지는 전해 연마액의 순환경로를 제공하는 순환라인; 및 상기 저장탱크에서 상기 내조로 재공급될 전해 연마액의 온도를 낮추기 위한 온도 조절부재를 포함한다.According to an embodiment of the present invention, the electrolytic polishing unit includes an inner bath in which an electrolytic polishing liquid is accommodated and the electrode unit and the ultrasonic wave generating member are installed; And an outer tank positioned outside the inner tank and containing an electrolytic polishing liquid overflowing from the inner tank during the electrolytic polishing process; An electrode member having a cathode and an anode installed in the inner tank of the electrolytic polishing bath; A storage tank in which the electropolishing liquid discharged from the outer tank is stored; A circulation line providing a circulation path of the electropolishing liquid comprising the outer tank, the storage tank and the inner tank; And a temperature adjusting member for lowering the temperature of the electrolytic polishing liquid to be supplied back to the inner tank from the storage tank.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 전처리 세정부는 알카리 용액을 이용하여 금속 테이프 표면을 세정한다.According to an embodiment of the present invention, the pretreatment cleaning unit cleans the metal tape surface by using an alkaline solution.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 전처리 세정부, 상기 제1린스부, 상기 전해 연마부, 상기 중화 처리부, 상기 제2린스부 사이에 설치되며, 금속 테이프의 표면에 있는 약액이나 물기를 제거하기 위해 고압의 에어를 분사하는 에어 나이프들을 더 포함한다.According to an embodiment of the present invention, the pretreatment cleaning unit, the first rinsing unit, the electrolytic polishing unit, the neutralization treatment unit, the second rinsing unit is provided between, to remove the chemical liquid or water on the surface of the metal tape Air knives for injecting high pressure air for further.
본 발명의 금속 테이프의 전해 연마 방법은 권출부로부터 금속 테이프를 제공하는 로딩 단계; 금속테이프를 전해 연마액이 담긴 전해 연마조를 통과시키면서 금속 테이프의 표면을 처리하는 전해 연마 단계; 전해 연마 처리된 금속 테이프를 권취부에 감는 언로딩 단계를 포함하되; 상기 전해 연마 단계에서는 전해 연마과정에서 전해 연마액에 발생되는 기포를 제거하기 위해 전해 연마액에 초음파를 제공한다.The electropolishing method of the metal tape of the present invention includes a loading step of providing a metal tape from the unwinding portion; An electropolishing step of treating the surface of the metal tape while passing the metal tape through an electrolytic polishing bath containing the electrolytic polishing liquid; An unloading step of winding the electrolytically polished metal tape on the winding; In the electropolishing step, ultrasonic waves are provided to the electropolishing liquid to remove bubbles generated in the electropolishing liquid during the electropolishing process.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 전해 연마 단계에서 전해 연마액은 저장탱크로부터 상기 전해 연마조의 내조로 공급되고, 상기 전해 연마조의 내조로부터 넘치는 전해 연마액은 상기 전해 연마조의 외조로 제공되며, 상기 외조로 제공된 전해 연마액은 상기 저장탱크에 다시 회수된 후 상기 내조로 제공되는 순환방식으로 이루어진다.According to an embodiment of the present invention, in the electrolytic polishing step, the electrolytic polishing liquid is supplied from the storage tank to the inner bath of the electrolytic polishing bath, and the electrolytic polishing liquid overflowed from the inner bath of the electrolytic polishing bath is provided as the outer bath of the electrolytic polishing bath. The electropolishing liquid provided in the outer tank is recovered in the storage tank and made of a circulation method provided to the inner tank.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 전해 연마단계에서 상기 저장탱크로 회수된 전해 연마액은 일정 온도 이하로 냉각되며, 상기 전해 연마액의 냉각은 상기 저장탱크에 설치된 냉각수 순환라인에 의해 이루어진다.According to an embodiment of the present invention, the electrolytic polishing liquid recovered to the storage tank in the electrolytic polishing step is cooled to a predetermined temperature or less, and the electrolytic polishing liquid is cooled by a cooling water circulation line installed in the storage tank.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 금속 테이프의 전해 연마 방법은, 상기 전해 연마 단계 이전에 금속 테이프 표면에 기름, 먼지 제거를 위한 전처리 세정단계 및, 세정 처리된 금속 테이프를 순수로 린스하는 단계를 더 포함한다.According to an embodiment of the present invention, the electropolishing method of the metal tape may include a pretreatment cleaning step for removing oil and dust on the surface of the metal tape before the electropolishing step, and rinsing the cleaned metal tape with pure water. It includes more.
본 발명의 실시예에 따르면, 상기 금속 테이프의 전해 연마 방법은, 상기 전해 연마 단계 이후에 금속 테이프 표면에 묻은 전해 연마액을 중화시키는 중화처리 단계 및 중화 처리된 금속 테이프를 순수로 린스하는 단계를 더 포함한다. According to an embodiment of the present invention, the electrolytic polishing method of the metal tape may include a neutralization step of neutralizing the electrolytic polishing liquid deposited on the surface of the metal tape after the electrolytic polishing step and a step of rinsing the neutralized metal tape with pure water. It includes more.
상술한 바와 같이, 본 발명은 전해 연마과정에서 발생되는 기포를 제거할 수 있다.As described above, the present invention can remove bubbles generated during the electropolishing process.
본 발명은 금속 테이프(모재)로부터 용출되는 금속이온을 효과적으로 교반시킴으로, 용출 이온이 다시 금속 테이프에 흡착되는 현상을 방지할 수 있다. The present invention effectively agitates the metal ions eluted from the metal tape (base material), thereby preventing the eluted ions from being adsorbed onto the metal tape again.
본 발명은 전해 연마액의 온도 조절을 통해 양호한 전해 연마면을 얻을 수 있다.According to the present invention, a good electrolytic polishing surface can be obtained through temperature control of the electrolytic polishing liquid.
본 발명은 내조에서의 교반 작용으로 국부적으로 발생하는 전해 연마액의 농도 불균형을 방지할 수 있다. The present invention can prevent the concentration imbalance of the electropolishing liquid generated locally by the stirring action in the inner tank.
도 1 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 금속 테이프의 전해 연마 장치를 보여주는 평면 구성도이다. 1 is a plan view showing an electropolishing apparatus of a metal tape according to a preferred embodiment of the present invention.
도 2는 도 1에 도시된 금속 테이프의 전해 연마 장치를 보여주는 측면 구성도이다.FIG. 2 is a side configuration diagram showing an electropolishing apparatus of the metal tape shown in FIG. 1.
도 3은 전해 연마부의 평면도이다.3 is a plan view of the electrolytic polishing unit.
도 4는 전해 연마부의 측면도이다.4 is a side view of the electrolytic polishing unit.
도 5는 금속 테이프의 전해 연마 방법을 설명하기 위한 플로우 챠트이다. 5 is a flowchart for explaining an electropolishing method of a metal tape.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings
100 : 권출부100: unwinding part
200 : 전처리 세정부200: pretreatment cleaning unit
300 : 제1린스부300: first rinse part
400 : 전해 연마부400: electrolytic polishing
500 : 중화 처리부500: neutralization processing unit
600 :제2린스부600: second rinse part
700 : 건조부 700 dry part
800 : 권취부800: winding part
이하, 본 발명의 실시 예를 첨부된 도면 도 1 내지 도 5를 참조하여 더욱 상세히 설명한다. 본 발명의 실시 예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래의 실시 예들로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시 예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해 과장되었다. Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to FIGS. 1 to 5. The embodiments of the present invention can be modified in various forms, and the scope of the present invention should not be construed as being limited to the following embodiments. This embodiment is provided to more completely explain the present invention to those skilled in the art. Therefore, the shape of the elements in the drawings are exaggerated to emphasize a more clear description.
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 금속 테이프의 전해 연마 장치를 보여주는 평면 구성도이다. 도 2는 도 1에 도시된 금속 테이프의 전해 연마 장치를 보여주는 측면 구성도이다.1 is a plan view showing an electropolishing apparatus of a metal tape according to a preferred embodiment of the present invention. FIG. 2 is a side configuration diagram showing an electropolishing apparatus of the metal tape shown in FIG. 1.
도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 전해 연마 장치는 전해 연마 공정 순서에 따라서 일렬로 길게 금속 테이프가 이동하면서 전해연마가 가능한 릴투릴 방식의 연속 전해 연마 장치이다. 금속 테이프의 전해 연마 장치(10)는 권출부(100), 전처리 세정부(200), 제1린스부(300), 전해 연마부(400), 중화 처리부(500), 제2린스부(600), 건조부(700) 그리고 권취부(800)를 포함한다. 1 and 2, the electropolishing apparatus of the present invention is a reel to reel continuous electropolishing apparatus capable of electropolishing while the metal tape moves in a long line in accordance with the electropolishing process sequence. The electropolishing apparatus 10 of the metal tape includes the unwinding part 100, the pretreatment cleaning part 200, the first rinse part 300, the electrolytic polishing part 400, the neutralization treatment part 500, and the second rinse part 600. ), The drying unit 700 and the winding unit 800.
본 발명의 전해 연마 장치는 금속 테이프가 여러 처리부를 거치므로 인해 상호 오염에 의한 조성 및 전해 조건 변화를 야기할 수 있기 때문에, 각 처리부마다 질소가스 분사노즐을 설치하여 이웃하는 처리부의 성분에 의한 오염을 최대한 줄이고자 하였다. 또한, 각각의 처리단계를 거칠 때마다 린스부를 두어 세척을 하게 된다. In the electropolishing apparatus of the present invention, since the metal tape passes through various treatment parts, the composition and electrolytic conditions may be changed due to mutual contamination. Therefore, nitrogen gas injection nozzles are installed in each treatment part to contaminate the neighboring treatment parts. To reduce as much as possible. In addition, the rinsing unit is washed with each treatment step.
권출부(100)에는 전해 연마를 위한 금속 테이프(20)가 피딩 릴(Feeding Reel)(110)에 감겨져 있으며, 권출부(100)로부터 인출된 금속 테이프(20)는 안내롤러(120)들을 거쳐 전처리 세정부(200)로 제공된다.In the unwinding part 100, a metal tape 20 for electropolishing is wound around a feeding reel 110, and the metal tape 20 drawn out of the unwinding part 100 passes through the guide rollers 120. It is provided to the pretreatment cleaning unit 200.
금속 테이프(20)는 바람직하게 피딩 릴(110)에 의해 제공된다. 피딩 릴(110)은 금속 테이프를 일정한 속도로 제공하는 연속 공급 릴이다. 피딩 릴(110)은 와인딩 릴(810)과 함께 장력을 조절함으로써 금속 테이프가 처지거나(장력이 지나치게 작은 경우), 금속 테이프가 신장(또는 파단) 되는 것을 방지할 수 있다. The metal tape 20 is preferably provided by the feeding reel 110. Feeding reel 110 is a continuous feed reel that provides a metal tape at a constant rate. The feeding reel 110 may prevent the metal tape from sagging (when the tension is too small) or the metal tape is stretched (or broken) by adjusting the tension with the winding reel 810.
한편, 전해 연마를 위한 금속 테이프(20)는 표면에 묻어 있는 오염물질(특히 금속 표면에 있는 기름성분)은 전해 연마 특성을 저하시키는 원인이 된다. 따라서, 전해 연마부(400)로 진입하기 전에 전처리 세정단계(200)에서 금속 테이프 표면의 기름성분 등을 제거하게 된다. On the other hand, in the metal tape 20 for electropolishing, contaminants (particularly, oil components on the metal surface) on the surface cause a decrease in electropolishing characteristics. Therefore, before entering the electrolytic polishing unit 400, the oil component or the like on the surface of the metal tape is removed in the pretreatment cleaning step 200.
전처리 세정부(200)에서는 금속 테이프(20)를 전해 연마 공정이 진행되는 전해 연마부(400)로 공급하기 전에 금속 테이프(20) 표면에 묻어 있는 기름성분 등을 제거하는 탈지 공정이 진행된다. 전처리 세정부(200)는 알카리 탈지액이 담겨져 있는 탈지 세정조(210)와, 탈지 세정조(210)로 알카리 탈지액을 순환 공급하는 탈지액 순환부재(220)를 포함한다. 탈지 세정조(210)는 내조(212)와 외조(214)로 이루어지고, 내조(212)에는 금속 테이프 표면에 묻은 기름성분을 신속하게 제거하기 위해 초음파 발생장치(230)가 설치된다. 전처리 세정부(200)에서의 알카리 탈지액 흐름은, 우선 내조(212)로부터 넘치는 알카리 탈지액은 외조(214)로 모이고, 외조(214)에서 모아진 알카리 탈지액은 탈지액 순환부재(220)의 저장탱크(222)로 제공된다. 저장탱크(222)에 저장된 알카리 탈지액은 순환펌프(224)에 의해 순환라인(226)을 통해 내조(212)로 제공급된다. 금속 테이프(20)는 알카리 세정조(210)의 측벽에 형성된 출입구(218)를 통해 알카리 탈지액에 담가진 후 반대편 측벽에 형성된 출입구(218)를 통해 빠져나가게 되며, 이 과정에서 표면에 묻은 기름성분이 알카리 탈지액에 의해 제거된다. In the pretreatment cleaning unit 200, a degreasing process of removing oil components, etc., deposited on the surface of the metal tape 20 is performed before the metal tape 20 is supplied to the electrolytic polishing unit 400 where the electrolytic polishing process is performed. The pretreatment cleaning unit 200 includes a degreasing cleaning tank 210 in which an alkaline degreasing solution is contained, and a degreasing solution circulation member 220 circulating and supplying the alkaline degreasing solution to the degreasing cleaning tank 210. The degreasing tub 210 consists of an inner tub 212 and an outer tub 214, and an ultrasonic generator 230 is installed in the inner tub 212 to quickly remove oil components on a metal tape surface. Alkaline degreasing liquid flow in the pretreatment cleaning unit 200, first, the alkaline degreasing liquid overflowed from the inner tank 212 is collected in the outer tank 214, the alkaline degreasing liquid collected in the outer tank 214 is the degreasing liquid circulation member 220 It is provided to the storage tank 222. The alkali degreasing liquid stored in the storage tank 222 is supplied to the inner tank 212 through the circulation line 226 by the circulation pump 224. The metal tape 20 is immersed in the alkali degreasing liquid through the doorway 218 formed on the sidewall of the alkali cleaning tank 210 and then exits through the doorway 218 formed on the opposite sidewall. The component is removed by alkaline degreasing liquid.
전처리 세정부(200)에서 탈지 과정을 마친 금속 테이프(20)는 제1린스부(300)로 제공된다. 제1린스부(300)에서는 금속 테이프를 세척하는 공정이 진행된다. 참고로, 전처리 세정부(200)와 제1린스부(300) 사이에는 질소가스 분사 노즐(900)이 배치된다. 질소가스 분사노즐(900)은 금속 테이프(20) 표면으로 질소가스를 분사하여 표면에 묻어 있는 알카리 탈지액을 제거한다. 즉, 질소가스 분사 노즐(900)의 설치 목적은 이웃한 전처리 세정부(200)의 알카리 탈지액에 의한 제1린스부(300)의 순수 오염(조성 및 전해 조건 변화)을 최대한 줄이기 위한 것이라 할 수 있다. 도 1 및 도 2에서와 같이, 질소가스 분사노즐(900)은 이곳뿐만 아니라, 제1린스부(300)와 전해 연마부(400) 사이, 전해 연마부(400)와 중화 처리부(500) 사이, 중화 처리부(500)와 제2린스부(600) 사이, 제2린스부(600)와 건조부(700) 사이 마지막으로 건조부(700)와 권취부(500) 사이에 각각 설치되어 있음을 알 수 있다.The metal tape 20 that has been degreased in the pretreatment cleaning unit 200 is provided to the first rinse unit 300. In the first rinse unit 300, a process of washing the metal tape is performed. For reference, a nitrogen gas injection nozzle 900 is disposed between the pretreatment cleaning unit 200 and the first rinsing unit 300. The nitrogen gas injection nozzle 900 injects nitrogen gas to the surface of the metal tape 20 to remove the alkali degreasing liquid from the surface. That is, the purpose of installing the nitrogen gas injection nozzle 900 is to minimize the pure contamination (change in composition and electrolytic conditions) of the first rinse unit 300 by alkaline degreasing liquid of the neighboring pretreatment cleaning unit 200. Can be. 1 and 2, the nitrogen gas injection nozzle 900 is not only here, but also between the first rinse unit 300 and the electrolytic polishing unit 400, between the electrolytic polishing unit 400 and the neutralization processing unit 500. , Between the neutralization treatment part 500 and the second rinse part 600, between the second rinse part 600 and the drying part 700, and finally between the drying part 700 and the winding part 500, respectively. Able to know.
제1린스부(300)는 순수가 담겨져 있는 순수 세정조(310), 순수 세정조(310)로 순수를 순환 공급하는 순수 순환부재(320)를 포함한다. 순수 세정조(310)는 내조(312)와 외조(314)로 이루어진다. 제1린스부(300)에서의 순수 흐름은 전처리 세정부(200)에서 언급한 것처럼, 우선 내조(312)로부터 넘치는 순수는 외조(314)로 모이고, 외조(314)에서 모아진 순수는 순수 순환부재(320)의 저장탱크(322)로 제공된다. 저장탱크(322)에 저장된 순수는 순환펌프(324)에 의해 순환라인(326)을 통해 내조(312)로 제공급된다. 마찬가지로, 금속 테이프(20)는 순수 세정조(310)의 측벽에 형성된 출입구(318)를 통해 순수에 담가진 후 반대편 측벽에 형성된 출입구(318)를 통해 빠져나가게 되며, 이 과정에서 금속 테이프 표면이 세척된다. 제1린스부(300)에서 린스처리된 금속 테이프는 전해 연마부(400)로 제공된다. The first rinse unit 300 includes a pure water cleaning tank 310 in which pure water is contained, and a pure water circulation member 320 circulating and supplying pure water to the pure water cleaning tank 310. The pure water washing tank 310 is composed of an inner tank 312 and an outer tank 314. As mentioned in the pretreatment cleaning unit 200, the pure water flowing in the first rinse unit 300 first collects the pure water overflowed from the inner tank 312 into the outer tank 314, and the pure water collected in the outer tank 314 is a pure water circulation member. It is provided to the storage tank 322 of (320). Pure water stored in the storage tank 322 is supplied to the inner tank 312 through the circulation line 326 by the circulation pump 324. Similarly, the metal tape 20 is immersed in pure water through the doorway 318 formed on the sidewall of the pure water cleaning tank 310 and then exits through the doorway 318 formed on the opposite sidewall. Washed. The metal tape rinsed by the first rinse unit 300 is provided to the electrolytic polishing unit 400.
한편, 제2린스부(600)는 중화 처리부(500)에서 중화처리를 마친 금속 테이프를 세척하기 위한 것으로, 제1린스부(300)와 동일한 구성으로 이루어진다. 즉,제2린스부(600)는 순수가 담겨져 있는 순수 세정조(610), 순수 세정조(610)로 순수를 순환 공급하는 순수 순환부재(620)를 포함하며, 구체적은 구성들과 기능은 앞에서 언급한 제1린스부와 동일하기 때문에 그에 대한 설명은 생략하기로 한다. On the other hand, the second rinse unit 600 is for washing the metal tape that has been neutralized in the neutralization treatment unit 500, and has the same configuration as the first rinse unit 300. That is, the second rinse unit 600 includes a pure water cleaning tank 610 in which pure water is contained, and a pure water circulation member 620 for circulating and supplying pure water to the pure water cleaning tank 610. Since it is the same as the first rinse unit mentioned above, a description thereof will be omitted.
도 3은 전해 연마부의 평면도이며, 도 4는 전해 연마부의 측면도이다.3 is a plan view of the electrolytic polishing portion, and FIG. 4 is a side view of the electrolytic polishing portion.
도 3 및 도 4를 참조하면, 전해 연마부(400)에서는 금속 이온을 용출시킴으로써 금속 테이프 표면에 뛰어난 세정, 광택, 내식성을 부여하고 표면 거칠기를 수 nm 이하의 매끄러운 표면을 만들게 된다. 특히, 본 발명에서와 같이 긴 선재 형태인 금속 테이프(20)를 전해 연마할 경우 Reel-to-Reel 방법으로 권선하면서 비접촉 방법인 이극(bipolar)법을 이용하게 된다. 이때, 전해연마되는 부분은 음극전극이 배치된 음극부(음극전극 구간)에서 일어난다. 즉, 전류가 양극을 통해 금속 테이프를 지나 음극으로 흐르므로 음극전극 구간의 금속은 상대적으로 저전위를 형성하여 전해연마가 일어난다. 이러한 방식은 금속 테이프가 전극에 직접 접촉하지 않으므로 깨끗한 제품을 얻을 수 있다. Referring to FIGS. 3 and 4, the electrolytic polishing unit 400 elutes metal ions to impart excellent cleaning, gloss and corrosion resistance to the surface of the metal tape and to create a smooth surface having a surface roughness of several nm or less. In particular, when electrolytically polishing the metal tape 20 in the form of a long wire rod as in the present invention, a bipolar method, which is a non-contact method, is wound using the reel-to-reel method. At this time, the electropolishing portion occurs in the cathode portion (cathode electrode section) in which the cathode electrode is disposed. That is, since the current flows through the anode through the metal tape to the cathode, the metal in the cathode electrode section has a relatively low potential, resulting in electropolishing. This way a clean product can be obtained since the metal tape does not directly contact the electrode.
전해 연마에 사용되는 전극용 재료는 매우 다양하게 채택할 수 있으며, 특히 양극 재료의 경우 대전류가 인가되므로 인해 부식이 심각하게 진행될 수 있기 때문에 양극 재료는 비교적 저렴하면서 내식성이 우수한 전극 재료를 선택하는 것이 바람직하다. 예를 들어, 음극 전극의 경우 저렴한 그라파이터 판재를 이용하고, 양극 전극의 경우 경제성을 고려하여 백금 도금을 한 티타늄 판재가 사용될 수 있다. Electrode materials used for electropolishing can be adopted in a wide variety of ways. Especially, in the case of anode materials, since a large current is applied, corrosion can proceed seriously, so it is better to select an electrode material that is relatively inexpensive and has excellent corrosion resistance. desirable. For example, an inexpensive graphite plate may be used in the case of the cathode electrode, and a platinum plated titanium plate may be used in the case of the anode electrode in consideration of economical efficiency.
전해 연마부(400)는 전해 연마액이 채워지는 전해 연마조(410), 전극부재(430), 초음파 발생장치(440), 전해 연마조(410)로 전해 연마액을 순환 공급하는 순환부재(420) 그리고 온도 조절부재(460)를 포함한다. The electrolytic polishing unit 400 is a circulation member for circulating and supplying the electrolytic polishing liquid to the electrolytic polishing tank 410, the electrode member 430, the ultrasonic generator 440, and the electrolytic polishing tank 410 filled with the electrolytic polishing liquid ( 420 and the temperature control member 460.
전해 연마조(410)는 내조(412)와 외조(414)로 이루어지고, 내조(412)에는 전극부재(430)가 설치되고, 그 아래에는 초음파 발생장치(440)가 설치된다. 초음파 발생장치(440)에서 발생되는 초음파는 공동화 현상(Cavitation effect)으로 인한 기포의 진동에 따른 micro agitation(작은 교반) 작용과, 기포의 제거(파괴) 효과를 기대할 수 있다. 일반적으로, 전해 연마 과정에서 발생되는 기포가 금속 테이프의 표면에 흡착되면 국부적으로 전해 연마가 되지 않으며, 또한 금속 테이프 표면에 흡착된 기포위에 전해 연마과정에서 용출되는 금속 이온(입자)가 코팅되면서 전해 연마 특성을 저하시키게 된다. 따라서, 전해 연마 특성을 향상시키기 위해서는 전해 연마과정에서 발생되는 기포를 얼마나 효과적으로 제거하느냐에 달려있다. 즉, 본 발명에 따른 전해 연마부(400)는 초음파 발생장치(440)를 이용하여 전해 연마 과정에서 발생하는 기포의 누적 현상을 억제할 수 있다. 또한, micro agitation(작은 교반) 작용으로 전해 연마 작용이 일어날 때, 금속 테이프(모재)로부터 용출되는 금속이온을 효과적으로 교반시킴으로, 용출 이온이 다시 금속 테이프에 흡착되는 현상을 방지할 수 있다. 부가적으로는, 내조(412)에서의 교반 작용으로 국부적으로 발생하는 전해 연마액의 농도 불균형을 방지할 수 있다. 그러나, 이러한 초음파 작용으로 시간에 따른 전해 연마액의 온도 상승이 발생된다. 이러한 문제는 온도 조절부재(460)에 의해 해결될 수 있다. The electropolishing bath 410 is composed of an inner bath 412 and an outer bath 414, the electrode member 430 is provided on the inner bath 412, the ultrasonic generator 440 is provided below. Ultrasonic waves generated by the ultrasonic generator 440 may be expected to have a micro agitation (small agitation) effect due to the vibration of bubbles due to the cavitation effect, and to remove (destroy) the bubbles. In general, when bubbles generated in the electrolytic polishing process are adsorbed on the surface of the metal tape, they are not locally electropolished, and the metal ions (particles) eluted during the electrolytic polishing process are coated on the bubbles adsorbed on the surface of the metal tape. The polishing property is lowered. Therefore, in order to improve the electrolytic polishing characteristics, it depends on how effectively the air bubbles generated in the electropolishing process are removed. That is, the electrolytic polishing unit 400 according to the present invention may suppress the accumulation of bubbles generated in the electropolishing process by using the ultrasonic generator 440. In addition, when the electropolishing action occurs by the micro agitation (small agitation) action, by effectively stirring the metal ions eluted from the metal tape (base material), it is possible to prevent the phenomenon that the eluted ions are adsorbed on the metal tape again. In addition, it is possible to prevent the concentration imbalance of the electropolishing liquid which occurs locally by the stirring action in the inner tank 412. However, such an ultrasonic action causes a temperature rise of the electrolytic polishing liquid over time. This problem may be solved by the temperature adjusting member 460.
전극부재(430)는 이극(bipolar) 방식으로 금속 테이프(20)가 통과하는 이동 경로를 사이에 두고 서로 마주보고 설치되는 한 쌍의 음극부(432)(음극전극 구간)와, 음극부(432)의 양쪽에 배치되는 제1,2양극부(434,436)를 포함한다. 제1,2양극부(434,436)는 음극부(432)처럼 금속 테이프(20)를 사이에 두고 서로 마주보도록 한 쌍의 전극으로 이루어진다. The electrode member 430 has a pair of cathode portions 432 (cathode electrode sections) and a cathode portion 432 which are installed to face each other with a moving path through which the metal tape 20 passes in a bipolar manner. ), The first and second anode portions 434 and 436 disposed on both sides thereof. The first and second anode parts 434 and 436 are formed of a pair of electrodes facing each other with the metal tape 20 interposed therebetween, like the cathode part 432.
순환부재(420)는 전해 연마액이 채워져 있는 저장탱크(422)와, 저장탱크(422)에 채워져 있는 전해 연마액을 내조로 재공급하기 위한 순환펌프(424); 외조(414)와 저장탱크(422) 그리고 내조(412)로 이루어지는 전해 연마액의 순환경로를 제공하는 순환라인(426), 그리고 순환라인에 설치되는 필터(427) 등을 포함한다. The circulation member 420 includes a storage tank 422 filled with the electrolytic polishing liquid and a circulation pump 424 for resupplying the electrolytic polishing liquid filled in the storage tank 422 into an inner tank; And a circulation line 426 for providing a circulation path of the electropolishing liquid consisting of the outer tank 414, the storage tank 422, and the inner tank 412, and a filter 427 installed in the circulation line.
전해 연마부(400)에서의 전해 연마액 흐름은, 우선 내조(412)로부터 넘치는 전해 연마액은 외조(414)로 모이고, 외조(414)에서 모아진 전해 연마액은 순환부재(420)의 저장탱크(422)로 제공된다. 저장탱크(422)에 저장된 전해 연마액은 순환펌프(424)에 의해 순환라인(426)을 통해 내조(412)로 재공급된다. 금속 테이프(20)는 전해 연마조(410)의 측벽에 형성된 출입구(418)를 통해 전해 연마액에 담가진 후 반대편 측벽에 형성된 출입구(418)를 통해 빠져나가게 되며, 이 과정에서 금속 테이프의 표면은 전해 연마 처리된다. 내조(412)에 담겨진 전해 연마액의 일부는 금속 테이프(20)가 통과하는 출입구(418)를 통해 빠져나가게 되지만, 내조로부터 유출되는(넘치는) 양만큼 순환부재(420)에 의해 채워지게 됨으로써 내조(412)의 수위는 금속 테이프가 잠길 수 있는 정도로 유지될 수 있다. The electrolytic polishing liquid flow in the electrolytic polishing unit 400 firstly, the electrolytic polishing liquid overflowing from the inner tank 412 is collected in the outer tank 414, and the electrolytic polishing liquid collected in the outer tank 414 is stored in the storage tank of the circulation member 420. 422 is provided. The electrolytic polishing liquid stored in the storage tank 422 is resupplied to the inner tank 412 through the circulation line 426 by the circulation pump 424. The metal tape 20 is immersed in the electrolytic polishing liquid through the doorway 418 formed on the sidewall of the electrolytic polishing bath 410 and then exits through the doorway 418 formed on the opposite sidewall. Silver electrolytic polishing process. A part of the electrolytic polishing liquid contained in the inner tank 412 exits through the entrance 418 through which the metal tape 20 passes, but is filled by the circulation member 420 by an amount flowing out of the inner tank (overflowing). The level of 412 can be maintained to the extent that the metal tape can be submerged.
본 실시예에서는 금속 테이프(20)가 전해 연마조의 측벽에 형성된 출입구(418)를 통과해서 전해 연마액에 담가 지게 되는 것으로 설명하고 도시하였으나, 가이드 롤러들을 배치하여 금속 테이프(20)가 내조에 담가 지도록 이송 경로를 변경하는 방식으로도 구성할 수 있다. In the present embodiment, the metal tape 20 passes through the entrance 418 formed on the sidewall of the electrolytic polishing bath and is immersed in the electrolytic polishing liquid. However, the metal tape 20 is immersed in the inner tank by arranging guide rollers. It can also be configured by changing the transport path to the
온도 조절부재(460)는 제1린스부의 순수를 사용하여 저장탱크에 저장되어 있는 전해 연마액의 온도를 낮추기 위한 것이다. 즉, 온도 조절부재(460)는 저장탱크(422)에 제공되는 냉각수 순환라인(462)과, 제1린스부(300)의 순환라인(326)으로부터 분기되는 냉각수 공급라인(464) 및 냉각수 배출라인(466)을 포함한다. 여기서 냉각수 순환라인(462)은 저장탱크(422)의 내부에 설치되어 전해 연마액의 온도를 직접 낮추거나 또는 저장탱크(422)의 측벽에 설치되어 전해 연마액의 온도를 간접적으로 낮추게 된다. 이렇게, 저장탱크(422)에 저장되어 있는 전해 연마액은 온도 조절부재(460)에 의해 30도의 온도를 유지하게 된다.The temperature adjusting member 460 is for lowering the temperature of the electrolytic polishing liquid stored in the storage tank by using pure water of the first rinse portion. That is, the temperature control member 460 is a cooling water circulation line 462 provided to the storage tank 422, the cooling water supply line 464 and the cooling water discharge branched from the circulation line 326 of the first rinsing unit 300 Line 466. Here, the coolant circulation line 462 is installed inside the storage tank 422 to directly lower the temperature of the electrolytic polishing liquid or on the side wall of the storage tank 422 to indirectly lower the temperature of the electrolytic polishing liquid. Thus, the electrolytic polishing liquid stored in the storage tank 422 is maintained at a temperature of 30 degrees by the temperature adjusting member 460.
전해 연마부(400)에서 전해 연마를 마친 금속 테이프(20)는 중화 처리부로 제공된다. The metal tape 20 that has been electropolished in the electrolytic polishing unit 400 is provided to the neutralization treatment unit.
중화 처리부(500)에서는 전해 연마 공정을 마친 금속 테이프 표면에 묻어 있는 전해 연마액을 중화시키기 위한 중화 처리가 이루어진다. 중화 처리부(500)에서는 알카리 중화액을 사용한다. 중화 처리부(500)는 알카리 중화액이 담겨져 있는 중화조(510)와, 중화조(510)로 알카리 중화액을 순환 공급하는 중화액 순환부재(520)를 포함한다. 중화조(510)는 내조(512)와 외조(514)로 이루어진다. 중화 처리부(500)에서의 알카리 중화액 흐름은, 우선 내조(512)로부터 넘치는 알카리 중화액은 외조(514)로 모이고, 외조(514)에서 모아진 알카리 중화액은 중화액 순환부재(520)의 저장탱크(522)로 제공된다. 저장탱크(522)에 저장된 알카리 중화액은 순환펌프(524)에 의해 순환라인(526)을 통해 내조(512)로 재공급된다. 금속 테이프(20)는 중화조(510)의 측벽에 형성된 출입구(518)를 통해 알카리 중화액에 담가진 후 반대편 측벽에 형성된 출입구(518)를 통해 빠져나가게 되며, 이 과정에서 표면에 묻은 전해 연마액이 중화처리된다. 중화처리를 마친 금속 테이프는 제2린스조(600)에서 세척된 후 건조부(700)에서 건조처리된다. 건조부(700)에서는 고온의 에어(질소가스)를 분사하여 금속 테이프에 묻은 물기를 제거하게 된다. 물론, 건조부(700)에서의 건조 방식은 열원을 이용한 건조 방식 등이 다양하게 적용될 수 있다. In the neutralization treatment unit 500, a neutralization treatment is performed to neutralize the electrolytic polishing liquid buried on the surface of the metal tape after the electropolishing process. The neutralization processing unit 500 uses an alkaline neutralizing liquid. The neutralization processing unit 500 includes a neutralization tank 510 in which the alkaline neutralization liquid is contained, and a neutralizing solution circulation member 520 for circulating and supplying the alkaline neutralization liquid to the neutralization tank 510. The neutralization tank 510 is composed of an inner tank 512 and an outer tank 514. Alkaline neutralizing liquid flow in the neutralization processing unit 500, first, the alkaline neutralizing liquid overflowing from the inner tank 512 is collected in the outer tank 514, the alkaline neutralizing liquid collected in the outer tank 514 is stored in the neutralizing liquid circulation member 520 Provided to tank 522. Alkaline neutralization liquid stored in the storage tank 522 is supplied back to the inner tank 512 through the circulation line 526 by the circulation pump 524. The metal tape 20 is immersed in alkaline neutralizing liquid through the entrance 518 formed on the side wall of the neutralization tank 510 and then exits through the entrance 518 formed on the opposite side wall, and electrolytic polishing on the surface in the process. The liquid is neutralized. After the neutralizing treatment, the metal tape is washed in the second rinse tank 600 and then dried in the drying unit 700. In the drying unit 700, hot air (nitrogen gas) is injected to remove moisture from the metal tape. Of course, the drying method in the drying unit 700 may be variously applied to a drying method using a heat source.
이렇게 건조부(700)에 의해 물기가 제거된 금속 테이프(20)는 귄취부(800)로 제공된다. The metal tape 20 from which water is removed by the drying unit 700 is provided to the gusseting unit 800.
권취부(800)에는 전해 연마를 마친 금속 테이프(20)는 감겨지는 와인딩 릴(Winding reel;810)과, 금속 테이프를 와인딩 릴로 안내하는 안내롤러(820)들을 포함한다. The winding portion 800 may include a winding reel 810 wound up and a guide roller 820 for guiding the metal tape to the winding reel.
도 5는 금속 테이프의 전해 연마 방법을 설명하기 위한 플로우 챠트이다. 5 is a flowchart for explaining an electropolishing method of a metal tape.
상술한 구성을 갖는 금속 테이프의 전해 연마 장치에서의 전해 연마 공정은 다음과 같이 이루어진다. The electropolishing process in the electropolishing apparatus of the metal tape which has the above-mentioned structure is performed as follows.
도 1 및 도 5를 참조하면, 금속 테이프의 전해 연마는 크게 로딩단계(s100), 전처리 세정(탈지)단계(s200), 제1린스단계(s300), 전해 연마단계(s400), 중화 단계(s500), 제2린스단계(s600), 건조 단계(s700) 그리고 언로딩 단계(s800)로 이루어진다.1 and 5, the electropolishing of the metal tape is largely performed in the loading step (s100), the pretreatment cleaning (degreasing) step (s200), the first rinse step (s300), the electrolytic polishing step (s400), and the neutralization step ( s500), the second rinse step (s600), the drying step (s700) and the unloading step (s800).
금속 테이프(20)는 권출부(100)의 피딩 릴(110)로부터 인출되어 전처리 세정부(탈지부)(200)로 제공된다. 전처리 세정단계(s200)에서는 알카리 탈지액을 이용하여 금속 테이프 표면에 기름 성분을 제거하고, 제1린스 단계(s300)에서 금속 테이프를 세척하는 과정을 거치게 된다. 그리고 세척된 금속 테이프는 전해 연마부로 제공되어 전해 연마액에 담겨져서 전해 연마처리된다(s400). 전해 연마 과정은 초음파를 이용하여 기포를 제거하면서 진행된다. 또한, 전해 연마액의 온도 상승은 순환부재(420)의 저장탱크(422)를 냉각하는 온도 조절부재(460)에 의해 억제된다. 이렇게 전해 연마 단계를 마친 금속 테이프는 중화 처리부에서 중화처리 된 후(s500), 제2린스조에서 세척되고(s600), 건조부(700)에서 건조 과정(s700)을 순차적으로 거치게 된다. 이렇게 표면 건조까지 마친 금속 테이프는 권취부의 와인딩 릴에 감겨진다.(언로딩 단계,s800)The metal tape 20 is taken out from the feeding reel 110 of the unwinding part 100 and provided to the pretreatment cleaning part (degreasing part) 200. In the pretreatment cleaning step (s200), an oil component is removed from the surface of the metal tape using an alkaline degreasing solution, and the metal tape is washed in the first rinsing step (s300). Then, the washed metal tape is provided to the electrolytic polishing unit, soaked in the electrolytic polishing liquid and subjected to electropolishing (S400). The electropolishing process proceeds by removing bubbles using ultrasonic waves. In addition, the temperature rise of the electrolytic polishing liquid is suppressed by the temperature regulating member 460 cooling the storage tank 422 of the circulation member 420. After the electrolytic polishing step, the metal tape is neutralized in the neutralization treatment unit (s500), washed in a second rinse tank (s600), and sequentially subjected to the drying process (s700) in the drying unit 700. The metal tape thus finished drying is wound on the winding reel of the winding (unloading step, s800).
이상 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.Although described with reference to the embodiments above, those skilled in the art will understand that the present invention can be variously modified and changed without departing from the spirit and scope of the invention as set forth in the claims below. Could be.
Claims (19)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020080026973A KR101018838B1 (en) | 2008-03-24 | 2008-03-24 | Apparatus and method for electro polishing a metal tape surface |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020080026973A KR101018838B1 (en) | 2008-03-24 | 2008-03-24 | Apparatus and method for electro polishing a metal tape surface |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20090101682A true KR20090101682A (en) | 2009-09-29 |
| KR101018838B1 KR101018838B1 (en) | 2011-03-04 |
Family
ID=41359395
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020080026973A KR101018838B1 (en) | 2008-03-24 | 2008-03-24 | Apparatus and method for electro polishing a metal tape surface |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR101018838B1 (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104835592A (en) * | 2015-04-29 | 2015-08-12 | 上海超导科技股份有限公司 | Integrated intelligent equipment applicable to production, detection and storage of yttrium-system superconductive tapes |
| CN109778298A (en) * | 2019-03-19 | 2019-05-21 | 常州华森医疗器械有限公司 | A kind of electrolytic polishing liquid, burnishing device and polishing method |
| KR102279568B1 (en) * | 2020-12-16 | 2021-07-21 | 모아테크(주) | Surface treated method for anti-plating metal plate |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101544357B1 (en) | 2014-04-23 | 2015-08-13 | 주식회사 비앤메디 | The method of surface reforming using electrolytic polishing at the treated surface of titanium implant. |
| CN109961907A (en) * | 2018-10-23 | 2019-07-02 | 芜湖市元奎新材料科技有限公司 | A kind of environment-friendly cable organisation of working |
| KR102145300B1 (en) * | 2020-04-29 | 2020-08-18 | 주식회사 제가텍 | Electro-chemical grinding device for medical needle and Electro-chemical grinding method |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR0149700B1 (en) * | 1994-11-24 | 1998-11-16 | 이수강 | Method for manufacturing dove tail for turbine blade |
| KR20020021750A (en) | 2000-09-16 | 2002-03-22 | 김기문 | Apparatus for treating aluminum sheet continually and electrochemically and its method |
| KR20030061031A (en) | 2002-01-07 | 2003-07-18 | 주식회사 나노맥 | A preparing method for Electro-polishing of stamped Lead frame |
-
2008
- 2008-03-24 KR KR1020080026973A patent/KR101018838B1/en active IP Right Grant
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104835592A (en) * | 2015-04-29 | 2015-08-12 | 上海超导科技股份有限公司 | Integrated intelligent equipment applicable to production, detection and storage of yttrium-system superconductive tapes |
| CN109778298A (en) * | 2019-03-19 | 2019-05-21 | 常州华森医疗器械有限公司 | A kind of electrolytic polishing liquid, burnishing device and polishing method |
| KR102279568B1 (en) * | 2020-12-16 | 2021-07-21 | 모아테크(주) | Surface treated method for anti-plating metal plate |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR101018838B1 (en) | 2011-03-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101018838B1 (en) | Apparatus and method for electro polishing a metal tape surface | |
| KR100431775B1 (en) | Semiconductor Wafer Cleaning Device and Method | |
| RU2743357C2 (en) | Method for electric cladding of an uncoated steel strip with a cladding layer | |
| US6200452B1 (en) | Method and apparatus for the continuous chromium-plating of elongated members | |
| JP5146841B2 (en) | Plating equipment | |
| RU2375506C2 (en) | Method and device for etching of metals | |
| WO2005005693A1 (en) | Process control methods of electropolishing for metal substrate preparation in producing ybco coated conductors | |
| KR100958202B1 (en) | Apparatus and method for electro polishing a metal tape surface | |
| EP3613877B1 (en) | Electrolytic polishing method and device | |
| KR101004116B1 (en) | Apparatus for electro plating of coated conductor | |
| JP3291103B2 (en) | Continuous surface treatment equipment | |
| KR101081450B1 (en) | Apparatus for electro polishing a metal tape surface | |
| JP4212081B2 (en) | Continuous wet processing method and apparatus, and liquid sealing method and apparatus | |
| US2494954A (en) | Apparatus for continuous anodizing of sheet metal | |
| KR101639564B1 (en) | Belt-type Electroforming Apparatus | |
| KR20100063248A (en) | Wafer plating apparatus and method for the same | |
| KR910007161B1 (en) | Systeme for producing electroplated and treated metal foil | |
| KR100257280B1 (en) | Cleaning apparatus using electrolytic ionized water | |
| JP4660209B2 (en) | Method and apparatus for producing electrogalvanized steel sheet | |
| RU2724121C1 (en) | Apparatus for tinning high-temperature superconducting second-generation tapes | |
| JPH09111493A (en) | Plating device for band-shaped member | |
| KR100573360B1 (en) | Electrochemical indirect etching method for aluminium plate by continuous automatic system | |
| TWI790526B (en) | Substrate holder, plating device, plating method, and memory medium | |
| JPS6067698A (en) | Web cooling method | |
| KR960004779B1 (en) | Method for making a continuous zn-fe alloy electroplating steel plate |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant | ||
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140129 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150128 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160203 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170118 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180208 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20200206 Year of fee payment: 10 |