KR20090031337A - 네가티브 포토레지스트를 이용한 유리 또는 금속 식각방법 및 이를 이용한 클리쉐의 제조방법 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (24)
- a) 일면에 금속층 또는 금속산화물층이 구비된 유리에 있어, 상기 금속층 또는 금속산화물층 상에 네가티브 포토레지스트층을 형성하는 단계;b) 상기 네가티브 포토레지스트층을 선택적으로 노광하는 단계;c) 상기 네가티브 포토레지스트층의 비노광부를 현상하여 네가티브 포토레지스트층을 패턴화하는 단계;d) 상기 c)단계에서 패턴화된 네가티브 포토레지스트층으로 도포되지 않은 부분의 금속층 또는 금속산화물층을 식각하는 단계; 및e) 상기 d)단계에서 패턴화된 금속층 또는 금속산화물층으로 도포되지 않은 부분의 유리를 식각하는 단계를 포함하는 유리 식각방법.
- 청구항 1에 있어서, 상기 유리 식각방법은 상기 a)단계 전에 금속층 또는 금속산화물층을 유리의 일면에 형성하는 단계를 추가로 포함하는 유리 식각방법.
- 청구항 2에 있어서, 상기 a)단계 전에 금속층 또는 금속산화물층은 플라즈마 증착, e-빔 증착 및 열 증착으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나의 방법으로 유리의 일면에 증착하는 것인 유리 식각방법.
- 청구항 1에 있어서, 상기 유리 식각방법은 상기 e)단계 후 네가티브 포토레 지스트층을 제거하는 단계를 추가로 포함하는 것인 유리 식각방법.
- 청구항 4에 있어서, 상기 네가티브 포토레지스트층을 제거하는 단계 후 상기 금속층 또는 금속산화물층을 제거하는 단계를 더 추가로 포함하는 유리 식각방법.
- 청구항 1에 있어서, 상기 유리의 두께는 0.2㎜ 내지 10㎜인 것인 유리 식각방법.
- 청구항 1에 있어서, 상기 금속은 크롬, 몰리브덴 및 텅스텐으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상을 포함하는 것인 유리 식각방법.
- 청구항 1에 있어서, 상기 금속산화물은 산화크롬, 산화몰리브덴 및 산화텅스텐으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상을 포함하는 것인 유리 식각방법.
- 청구항 1에 있어서, 상기 네가티브 포토레지스트는 블랙 포토레지스트 및 컬러 포토레지스트로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나인 유리 식각방법.
- 청구항 1에 있어서, 상기 금속층 또는 금속산화물층 상에 네가티브 포토레지스트층을 스핀 코팅, 슬릿엔스핀 코팅, 슬릿 코팅 및 카필러리 코팅으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나의 방법을 이용하여 형성하는 것인 유리 식각방법.
- 청구항 1에 있어서, 상기 b)단계는 200 내지 800nm 파장범위에서 2초 내지 15초 동안 노광하는 것인 유리 식각방법.
- 청구항 1에 있어서, 상기 b)단계는 I-라인인 356㎚, H-라인인 405㎚ 및 G-라인인 436㎚으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 파장에서 2초 내지 15초 동안 노광하는 것인 유리 식각방법.
- 청구항 1에 있어서, 상기 c)단계는 KOH 및 NaOH으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 현상액으로 현상하는 것인 유리 식각방법.
- 청구항 1에 있어서, 상기 d)단계는 질산, 세릭암모니움나이트레이트, 불산과 H2O2의 혼합액, 및 불산과 탈이온수의 혼합액으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 식각액으로 금속층 또는 금속산화물층을 식각하는 것인 유리 식각방법.
- 청구항 1에 있어서, 상기 e)단계는 불산으로 유리를 식각하는 것인 유리 식각방법.
- 청구항 1 의 유리 식각방법을 이용한 클리쉐의 제조방법.
- 청구항 16의 클리쉐의 제조방법에 의하여 제조된 클리쉐.
- 청구항 17에 있어서, 상기 클리쉐는 식각에 의해 형성된 요철부를 갖는 유리, 상기 유리의 돌기부 위에 배치된 금속층 또는 금속산화물층, 및 상기 금속층 또는 금속산화물층 상에 배치된 네가티브 포토레지스트층이 순차적으로 적층된 형태를 갖는 것인 클리쉐.
- 청구항 17의 클리쉐를 전자재료 패턴화에 이용하는 방법.
- a) 금속 상에 네가티브 포토레지스트층을 형성하는 단계;b) 상기 네가티브 포토레지스트층을 선택적으로 노광하는 단계;c) 상기 네가티브 포토레지스트층의 비노광부를 현상하여 네가티브 포토레지스트층을 패턴화하는 단계; 및d) 상기 c)단계에서 패턴화된 네가티브 포토레지스트층에 의해 도포되지 않은 부분의 금속을 식각하는 단계를 포함하는 금속 식각방법.
- 청구항 20에 있어서, 상기 금속은 크롬, 몰리브덴 및 텅스텐으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함하는 것인 금속 식각방법.
- 청구항 20의 금속 식각방법을 이용한 클리쉐의 제조방법.
- 청구항 22의 클리쉐의 제조방법에 의하여 제조된 클리쉐.
- 청구항 23에 있어서, 상기 클리쉐는 식각에 의해 형성된 요철부를 갖는 금속, 및 상기 금속상에 배치된 네가티브 포토레지스트층이 순차적으로 적층된 형태를 갖는 것인 클리쉐.
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