KR20090011731A - Deionized water supply module and substrate cleaning device using the same - Google Patents
Deionized water supply module and substrate cleaning device using the same Download PDFInfo
- Publication number
- KR20090011731A KR20090011731A KR1020070075621A KR20070075621A KR20090011731A KR 20090011731 A KR20090011731 A KR 20090011731A KR 1020070075621 A KR1020070075621 A KR 1020070075621A KR 20070075621 A KR20070075621 A KR 20070075621A KR 20090011731 A KR20090011731 A KR 20090011731A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- washing water
- block
- connection
- hole
- aqua knife
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
- H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Abstract
Description
본 발명은 기판의 습식세정공정에서 기판의 표면을 프리웨팅하는 아쿠아 나이프에 세정수를 공급하는 세정수 공급모듈과 이를 이용한 세정장치에 관한 것이다.The present invention relates to a cleaning water supply module for supplying cleaning water to an aqua knife pre-wetting the surface of the substrate in a wet cleaning process of the substrate and a cleaning apparatus using the same.
각종 평판디스플레이(FPD : Flat Panel Display)의 제조공정에서 패턴을 형성할 때에는 포토레지스트 코팅(photoresist coating)을 행하는데, 포토레지스트 코팅을 하기 전에 기판의 표면에 존재하는 유기물이나 무기물 등의 파티클을 제거하는 세정공정이 요구된다.When forming patterns in the manufacturing process of various flat panel displays (FPDs), photoresist coating is performed. Before the photoresist coating, particles such as organic and inorganic substances present on the surface of the substrate are removed. A washing step is required.
세정공정 중 특히 습식세정공정에서는 일반적으로 프리웨팅(pre-wetting)과 노즐 샤워(nozzle shower)를 실시하게 된다. 프리웨팅은 아쿠아 나이프로 불리우는 프리웨팅용 세정장치를 이용하여 기판의 표면을 탈이온수(deionized water)와 같은 세정수로 고르게 적셔주는 과정으로서, 아쿠아 나이프는 물방울의 불균일한 낙하에 의한 기판 표면의 불량 웨팅을 사전에 막아주게 된다. 그리고, 노즐 샤워 과정에서는 이렇게 프리웨팅된 기판의 표면에 묻어 있는 파티클을 고압으로 분사되는 세정액으로 제거하게 된다.In the cleaning process, especially in the wet cleaning process, pre-wetting and nozzle showers are generally performed. Prewetting is the process of evenly wetting the surface of the substrate with deionized water using a prewetting cleaning device called aqua knife. Wetting is prevented in advance. In the nozzle shower process, the particles buried on the surface of the prewet substrate are removed by a cleaning liquid sprayed at a high pressure.
첨부도면 도 1은 종래의 아쿠아 나이프, 즉 프리웨팅용 세정장치를 나타낸 사시도이고, 도 2는 도 1의 'A'부 확대도이다.1 is a perspective view showing a conventional aqua knife, that is, a cleaning device for pre-wetting, Figure 2 is an enlarged view 'A' portion of FIG.
도 1 및 도 2에 나타난 바와 같이, 종래의 세정장치는, 나이프 본체(1)와, 이 나이프 본체(1)의 길이방향 양단에서 나이프 본체(1)를 지지하는 지지블록(2,2'), 그리고 나이프 본체(1)로 세정수를 공급하는 세정수 공급배관(3)을 구비하고 있다. 나이프 본체(1)와 세정수 공급배관(3)은 여러 개의 공급포트(4)들로 연결되어 있어서 세정수 공급배관(3)으로부터 나이프 본체(1)로 세정수의 공급이 이루어지게 된다. 또, 지지블록(2,2')은 상측블록(2a)과 하측블록(2b)으로 구분되어 있는데, 상측블록(2a)과 하측블록(2b)은 가이드봉(2c) 및 볼트 형태의 높이조절수단(2d)에 의해 연결되어 있다. 따라서, 높이조절수단(2d)을 회전조작하면, 상측블록(2a)이 가이드봉(2c)을 타고 하측블록(2b)을 상대로 상하로 이동함으로써 나이프 본체(1)의 상하 높이가 조절된다. 또, 상측블록(2a)에는 경사각조절수단(2e)이 구비되어 있어서, 이 경사각조절수단(2e)을 조작하면 기판(도시되지 않음)을 상대로 나이프 본체(1)의 경사각이 조절된다.As shown in Figs. 1 and 2, the conventional cleaning apparatus includes a
그런데, 위와 같이 구성된 종래의 세정장치는, 나이프 본체(1)로 세정수를 공급하는 세정수 공급배관(3)이 나이프 본체(1)와는 별도로 구비되고, 이들을 서로 연결하는 공급포트(4)들도 여러 개가 구비됨에 따라, 장치의 공간 점유율이 커짐으로써 세정설비의 레이아웃에 불리한 문제점이 있다.However, in the conventional cleaning device configured as described above, the cleaning
본 발명은 전술한 바와 같은 종래의 문제점을 개선하기 위해 안출된 것으로서, 그 목적은, 아쿠아 나이프 본체에 별도로 설치되던 세정수 공급배관을 배제하고 배관구조를 간소화한 세정수 공급모듈 및 이를 이용한 세정장치를 제공하는 데에 있다.The present invention has been made in order to improve the conventional problems as described above, the object of the cleaning water supply module and the cleaning device using the same, excluding the cleaning water supply pipe that was separately installed in the aqua knife body and simplified piping structure Is in providing.
위와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 아쿠아 나이프 본체의 세정수 유입로에 연결되는 연결호울 및 이 연결호울과 연통하는 원형의 장착호울을 구비하며 상기 아쿠아 나이프의 본체에 결합되는 제1연결부재와, 상기 제1연결부재의 장착호울과 연통하는 관통호울들이 방사상으로 형성된 원주형의 본체를 구비하되 이 본체의 일부가 상기 장착호울에 긴밀하게 장착되며 상기 본체로부터 상기 장착호울의 반대쪽으로 형성된 돌출부를 구비한 제2연결부재와, 상기 제2연결부재의 본체 나머지 일부가 장착되면서 상기 관통호울과 연통하는 유로를 구비하며 상기 돌출부가 고정되는 연결블록, 및 상기 연결블록의 유로로 세정수를 공급하는 세정수 공급로가 형성되어 있으며 상기 연결블록과 결합되어 상기 아쿠아 나이프의 본체를 지지하는 지지블록을 포함하여 이루어진 세정수 공급모듈을 개시한다.The present invention for achieving the above object, the first connection member having a connecting hole connected to the washing water inlet of the aqua knife body and a circular mounting hole in communication with the connecting hole and coupled to the body of the aqua knife And a circumferential body having radially formed through holes communicating with the mounting hole of the first connection member, wherein a part of the body is closely mounted to the mounting hole, and a protrusion formed from the main body to the opposite side of the mounting hole. And a connection block having a second connection member having a second portion, a flow passage communicating with the through hole while the remaining portion of the main body of the second connection member is mounted, and the protrusion being fixed, and supplying the washing water to the flow path of the connection block. A support block for supporting the main body of the aqua knife is formed with a washing water supply passage is coupled to the connecting block Disclosed is a washing water supply module comprising a.
여기서, 상기 연결블록에는 상기 제2연결부재의 돌출부가 삽입된 상태에서 제2연결부재가 움직이지 않도록 상기 돌출부를 고정시키는 고정부재가 결합되고, 상기 아쿠아 나이프 본체의 경사각 조절시 상기 제2연결부재의 본체 일부가 상기 제1연결부재의 장착호울에 장착된 상태에서 상기 제1연결부재가 제2연결부재의 본체에 의해 마찰지지될 수 있다.Here, the connection block is coupled to the fixing member for fixing the protrusion so that the second connection member does not move in the state in which the protrusion of the second connection member is inserted, the second connection member when adjusting the inclination angle of the aqua knife body The first connecting member may be frictionally supported by the main body of the second connecting member in a state in which a part of the main body is mounted in the mounting hole of the first connecting member.
또, 상기 연결블록이 결합된 상태에서 승강할 수 있도록 상하로 길게 장공이 형성된 측면 플랜지를 구비하고 상기 측면 플랜지는 상기 지지블록에 고정이 되며 상단부에는 탭호울이 형성된 지지브래킷과, 상기 지지브래킷의 탭호울에 체결되면서 상기 연결블록에 말단부가 고정되어 회전 조작에 따라 상기 연결블록을 승강시켜 상기 아쿠아 나이프 본체의 상하높이를 조절하는 높이조절볼트가 더 구비될 수도 있다.In addition, it has a side flange formed with a long hole up and down to move up and down in a state in which the connection block is coupled, the side flange is fixed to the support block and the upper end of the support bracket formed with a tab hole, and the support bracket The end portion is fixed to the connection block while being fastened to the tab hole may be further provided with a height adjustment bolt for adjusting the vertical height of the aqua knife body by lifting the connection block in accordance with the rotation operation.
한편, 본 발명은 전술한 세정수 공급모듈과, 상기 연결호울과 연통하도록 개구된 측단부로부터 길이방향으로 세정수 유입로가 형성된 아쿠아 나이프 본체, 및 상기 아쿠아 나이프 본체에 결합되는 노즐 커버를 포함하여 이루어진 세정장치를 개시한다.On the other hand, the present invention includes the above-mentioned washing water supply module, the aqua knife body formed with a washing water inlet in the longitudinal direction from the side end opening to communicate with the connecting hole, and a nozzle cover coupled to the aqua knife body Disclosed is a cleaning apparatus.
본 발명은 종래의 아쿠아 나이프 본체에 별도로 설치되던 세정수 공급배관을 배제하고, 아쿠아 나이프 본체를 지지하는 지지블록 등을 통해 세정수가 공급되도록 하는 구성을 개시함으로써, 세정수 공급배관구조를 매우 간소화하고 있다. 따라서, 본 발명은 세정장치의 콤팩트화로 공간 점유율을 저감하고, 세정설비의 레이아웃에 매우 유리한 조건을 제공하는 효과를 나타낸다.The present invention eliminates the washing water supply pipe that is separately installed in the conventional aqua knife body, and discloses a configuration to supply the washing water through a support block for supporting the aqua knife body, thereby greatly simplifying the washing water supply pipe structure have. Therefore, the present invention has the effect of reducing the space occupancy due to the compactness of the cleaning device and providing a very advantageous condition for the layout of the cleaning equipment.
이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다. 그러나, 이하의 실시예는 이 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명이 충분히 이해되도록 제공되는 것으로서 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 다음에 기술되는 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described a preferred embodiment of the present invention; However, the following embodiments are provided to those skilled in the art to fully understand the present invention, and may be modified in various forms, and the scope of the present invention is limited to the embodiments described below. It doesn't happen.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 세정수 공급모듈이 적용된 세정장치를 나타낸 분리사시도이고, 도 4a는 도 3의 결합상태 단면도이다.3 is an exploded perspective view showing a washing apparatus to which a washing water supply module according to an exemplary embodiment of the present invention is applied, and FIG.
도 3 및 도 4a에 나타난 바와 같이 본 실시예에서 개시하고 있는 세정장치는, 세정수 공급모듈과, 이 세정수 공급모듈로부터 세정수를 공급받아 기판을 향해 세정수를 분출하는 아쿠아 나이프 본체(10), 및 아쿠아 나이프 본체(10)에 결합되는 노즐 커버(20)를 포함한 구성으로 이루어져 있다. 아쿠아 나이프 본체(10)에는 측단부가 개구되면서 아쿠아 나이프 본체(10)의 길이방향으로 길게 형성된 세정수 유입로(11)가 구비되어 있다. 이 세정수 유입로(11)는 노즐 커버(20)와 통하게 되며, 세정수는 세정수 유입로(11)와 노즐 커버(20)를 통해 기판으로 분출된다.As shown in FIG. 3 and FIG. 4A, the washing apparatus disclosed in the present embodiment includes a washing water supply module and an
세정수 공급모듈은 아쿠아 나이프 본체(10)와 연계되는 제1연결부재(30)와, 제2연결부재(40), 연결블록(50), 지지블록(70), 지지브래킷(80), 그리고 높이조절볼트(90) 등을 포함한 구성으로 이루어져 있으며, 구체적으로 살펴보면 다음과 같다.The washing water supply module includes a
먼저, 제1연결부재(30)는 아쿠아 나이프 본체(10)의 세정수 유입로(11)를 형성하는 개구된 측단부에 볼트 등으로 결합이 된다. 이 제1연결부재(30)에는 아쿠아 나이프 본체(10)의 세정수 유입로(11)에 부합되는 형태의 연결호울(31)이 구비되어 있다. 그리고 이 연결호울(31)과 연통하면서 연결호울(31)의 반대쪽으로 형성된 원형의 장착호울(32)이 구비되어 있다. 이러한 제1연결부재(30)와 아쿠아 나이프 본체(10)의 사이에는 연결호울(31)과 세정수 유입로(11) 사이에서 세정수가 누출되지 않도록 하기 위한 패킹(도시되지 않음)이 개재될 수 있다.First, the
상기 제2연결부재(40)는 상기 제1연결부재(30)와 연결되는 부재로서, 원주형의 본체(41)와 이 본체(41)로부터 돌출 형성된 환봉형태의 돌출부(42)로 이루어져 있다. 즉, 제2연결부재(40)의 본체(41)는 원주형으로 이루어지면서 제1연결부재(30)를 상대로 옆으로 뉘어진 형태로 배치되며, 이 본체(41)에는 제1연결부재(30)의 장착호울(32) 및 연결호울(31)과 연통하도록 방사상으로 배열된 여러 개의 관통호울(41a)이 형성되어 있다. 그리고, 상기 돌출부(42)는 본체(41)의 중앙에서 제1연결부재(30)의 반대쪽 방향으로 돌출되어 있다. 이러한 제2연결부재(40)는 본체(41)의 일부분(도면상에서 우측부분)이 제1연결부재(30)의 장착호울(32)에 긴밀하게 장착이 되어 제1연결부재(30)를 마찰지지한다.The
상기 연결블록(50)은 제2연결부재(40)의 본체(41) 나머지 일부가 장착되면서 제2연결부재(40)의 관통호울(41a)과 연통하는 유로(51)를 구비하고 있다. 또한, 연결블록(50)에는 제2연결부재(40)의 돌출부(42)가 삽입된 상태에서 고정이 된다. 특히, 본 실시예에서는 상기 돌출부(42)의 말단에서부터 소정 길이까지의 부위가 삽 입된 연결블록(50)의 측단부분이 계단형의 단차부(52)로 이루어져, 이 단차부(52)에서 돌출부(42)의 상기 해당 부위가 고정부재(60)에 의해 고정이 된다. 즉, 고정부재(60)는 고정편(61)과 한 쌍의 볼트(62)로 이루어져 있는데, 고정편(61)의 저면부에는 돌출부(42)의 곡면에 대응하는 반원형 단면의 고정홈(61a)이 형성되어 있고, 이에 대응하여 상기 단차부(52)에도 반원형 단면의 안치홈(53)이 형성되어 있다. 따라서, 연결블록(50)의 안치홈(53)에 돌출부(42)의 해당 부위가 안치된 상태에서 고정편(61)의 고정홈(61a) 부분이 돌출부(42) 위에 놓여진 다음, 상기 볼트(62)가 조여짐으로써 돌출부(42)가 연결블록(50)에 견고하게 고정이 된다.The
상기 지지블록(70)은 연결블록(50)의 유로(51)와 연통하여 이 유로(51)로 세정수를 공급하는 세정수 공급로(71)를 구비한 블록으로서, 세정수 공급로(71)는 외부의 세정수 공급원과 연결된다. 이러한 지지블록(70)은 연결블록(50)과 결합됨으로써 아쿠아 나이프 본체(10)를 지지하게 된다.The
한편, 기판에 대한 아쿠아 나이프 본체(10)의 높이를 조절하기 위한 수단을 구성하는 요소로서, 상기 지지브래킷(80)이 구비된다. 이 지지브래킷(80)은 상기 연결블록(50)을 포용하면서 지지블록(70)에 고정이 되는데, 이를 위해 상단의 평면으로부터 양측으로 측면 플랜지(81)를 구비한 구조로 이루어져 있다. 측면 플랜지(81)에는 상하로 길게 장공(81a)이 형성되어 있으며, 이 장공(81a)을 통해 연결블록(50)이 지지브래킷(80)과 결합이 되고, 측면 플랜지(81)가 지지블록(70)에 고정이 된다. 또한, 지지브래킷(80)의 상단 평면에는 나사산이 가공된 탭호울(82)이 형성되어 있으며, 이 탭호울(82)에 높이조절볼트(90)가 체결이 된다. 높이조절볼 트(90)는 그 하단부가 단차지게 형성된 구조로 되어 있으며, 이에 맞추어 연결블록(50)의 상단부에는 높이조절볼트(90)의 단차진 하단부가 측방에서 삽입되어 위쪽으로는 빠지지 않게 되는 볼트 삽입홈(54)이 형성되어 있다. 또, 높이조절볼트(90)의 상단부에는 육각 렌치와 같은 공구를 이용하여 높이조절볼트(90)를 회전시킬 수 있도록 공구삽입홈(91)이 형성되어 있다. 그리고, 연결블록(50)의 유로(53)와 지지블록(70)의 세정수 공급로(71) 사이에 개재되어 이들을 연결하는 부싱(100)이 구비됨으로써, 아쿠아 나이프 본체(10)의 높이조절에 따른 연결블록(50)의 승강시 세정수의 누출을 방지할 수 있게 된다.On the other hand, as an element constituting means for adjusting the height of the
다음에서는 전술한 바와 같이 구성된 본 실시예에 따른 세정수 공급모듈과 이를 포함한 세정장치의 작동을 설명한다.Next, the operation of the washing water supply module and the washing apparatus including the same according to the present embodiment configured as described above will be described.
먼저, 지지블록(70)으로부터 연결블록(50)과 제1연결부재(30) 및 제2연결부재(40)를 거쳐 아쿠아 나이프 본체(10)로의 세정수 흐름은 다음과 같이 이루어진다. 즉, 외부의 세정수 공급원으로부터 지지블록(70)의 세정수 공급로(71)로 세정수가 공급되면, 지지블록(70)의 세정수 공급로(71)와 연통하는 연결블록(50)의 유로(51)로 세정수가 흘러들어간다. 그리고, 연결블록(50)에 결합되어 있는 제2연결부재(40)의 본체(41)에서 관통호울(41a)로 세정수가 유입된 다음, 이 관통호울(41a)과 연통하는 제1연결부재(30)의 장착호울(32)과 연결호울(31)로 세정수가 흘러들어간다. 그리고, 최종적으로 세정수는 아쿠아 나이프 본체(10)의 세정수 유입로(11)로 들어가 노즐 커버(20)를 통해 기판으로 분출됨으로써 기판을 프리웨팅 한다.First, the washing water flows from the
이와 같이, 본 발명에서는 종래의 세정장치에서 볼 수 있는 별도의 배관 구조 없이, 아쿠아 나이프 본체(10)를 지지하는 지지블록(70)과 이 지지블록(70)을 아쿠아 나이프 본체(10)에 연결하는 구성 요소들을 통해 세정수를 공급하는 간단한 구조로 이루어져 있다.As described above, in the present invention, the
기판을 상대로 아쿠아 나이프 본체(10)의 상하 높이를 조절하기 위해서는 다음과 같이 한다(도 4a 및 도 4b 참조).To adjust the vertical height of the
높이조절볼트(90)의 공구삽입홈(91)에 공구를 삽입하여 높이조절볼트(90)를 일방향(예컨대, 시계바늘 회전방향)으로 돌리면, 높이조절볼트(90)가 지지브래킷(80)의 탭호울(82)의 나사산을 따라 풀려나오면서 상승하게 되고, 이와 아울러서 볼트 삽입홈(54)에 의해 높이조절볼트(90)의 하단부와 결합되어 있는 연결블록(50)이 함께 상승하게 된다. 따라서, 연결블록(50)에 대해 제1연결부재(30)와 제2연결부재(40)를 통해 연결되어 있는 아쿠아 나이프 본체(10)가 상승하게 된다.When the tool is inserted into the
이와 반대로, 높이조절볼트(90)를 시계바늘 회전방향의 반대방향으로 돌리면, 높이조절볼트(90)가 지지브래킷(80)의 탭호울(82)의 나사산을 따라 감겨들어가면서 하강하게 되어 연결블록(50)도 하강하면서 이에 연결된 아쿠아 나이프 본체(10)가 하강하게 된다.On the contrary, when the
연결블록(50)의 승강 높이는 지지브래킷(80)의 측면 브래킷(81)에 형성되어 있는 장공(81a)의 상하길이로 한정되므로, 아쿠아 나이프 본체(10)의 승강 높이를 설계할 때는 장공(81a)의 길이를 감안할 필요가 있다.Since the lifting height of the
또, 연결블록(50)의 하단부 유로(51)에 부싱(100)이 결합됨과 아울러 부싱(100)이 지지블록(70)의 세정수 공급로(71)에 수용되어 있기 때문에, 연결블록(50)의 승강시 부싱(100)이 연결블록(50)과 함께 승강하게 되어, 연결블록(50)의 승강에 따른 세정수의 누수는 발생하지 않는다.In addition, since the
한편, 도 5a 및 도 5b에 나타난 바와 같이 아쿠아 나이프 본체(10)의 경사각을 조절하기 위해서는, 노즐 커버(20)가 결합되어 있는 아쿠아 나이프 본체(10) 자체를 원하는 각도만큼 회전시킨다. 그러면 아쿠아 나이프 본체(10)의 개구된 측단부에 결합되어 있는 제1연결부재(30)가 제2연결부재(40)를 회전중심축으로 하여 회전하게 된다. 이때, 제2연결부재(40)의 본체(41)는 제1연결부재(30)의 장착호울(32)에 긴밀하게 장착이 된 상태에서 제1연결부재(30)를 마찰지지하고 있기 때문에 노즐 커버(20)가 결합되어 있는 아쿠아 나이프 본체(10)와 제1연결부재(30)는 그 자체의 하중이 작용하더라도 제2연결부재(40)로부터의 슬립으로 인한 임의적인 경사각 변화는 일어나지 않게 된다.Meanwhile, in order to adjust the inclination angle of the
또, 도 3 및 도 4a를 참조로 설명한 바와 같이, 제2연결부재(40)는 그 돌출부(42)가 연결블록(50)의 고정홈(53)에 고정편(61)과 볼트(62)로 구성된 고정부재(60)에 의해 견고하게 고정이 되어 있으므로, 제2연결부재(40) 역시 연결블록(50)이나 제1연결부재(30)를 상대로 임의로 회전하지는 않는다.In addition, as described with reference to FIGS. 3 and 4A, the
위의 설명과 같이 아쿠아 나이프 본체(10)와 제1연결부재(30)의 경사각이 조 절될 때, 제1연결부재(30)의 장착호울(32)에 장착되어 있는 제2연결부재(40)에 형성된 관통호울(41a)은 방사상으로 배열되어 있기 때문에, 아쿠아 나이프 본체(10)의 경사각도와 회전방향이 어떻게 변화하더라도 지지블록(70)의 세정수 공급로(71)를 통해 공급되는 세정수는 연결블록(50)의 유로(51)로부터 제1연결부재(30)의 연결호울(31)이나 아쿠아 나이프 본체(10)의 세정수 유입로(11)로 항상 흐를 수 있게 된다.As described above, when the inclination angle of the
이상에서는 본 발명을 바람직한 실시예에 의거하여 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 기술적 사상의 범위 내에서 이 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 여러 가지 변형이 가능하다.In the above described the present invention based on the preferred embodiment, the present invention is not limited to the above embodiment, various modifications by those skilled in the art within the scope of the technical idea of the present invention This is possible.
도 1은 종래의 프리웨팅용 세정장치를 나타낸 사시도이다.1 is a perspective view showing a conventional washing apparatus for pre-wetting.
도 2는 도 1의 'A'부 확대도이다.FIG. 2 is an enlarged view of a portion 'A' of FIG. 1.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 프리웨팅용 세정수 공급모듈이 적용된 세정장치를 나타낸 분리사시도이다.3 is an exploded perspective view showing a cleaning device to which a washing water supply module for pre-wetting according to an embodiment of the present invention is applied.
도 4a는 도 3의 결합상태 단면도이다.4A is a cross-sectional view of the bonding state of FIG. 3.
도 4b는 도 4a로부터 아쿠아 나이프의 높이조절이 이루어진 예를 나타낸 단면도이다.Figure 4b is a cross-sectional view showing an example of the height adjustment of the aqua knife from Figure 4a.
도 5a 및 도 5b는 아쿠아 나이프의 경사각 조절 상태를 나타낸 도면들이다.5A and 5B are views illustrating a tilt angle adjustment state of the aqua knife.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>
10 : 아쿠아 나이프 본체 11 : 세정수 유입로10: aqua knife body 11: washing water inlet
20 : 노즐 커버 30 : 제1연결부재20: nozzle cover 30: first connection member
31 : 연결호울 32 : 장착호울31: connection hole 32: mounting hole
40 : 제2연결부재 41 : 제2연결부재의 본체40: second connecting member 41: the main body of the second connecting member
41a : 관통호울 42 : 돌출부41a: through hole 42: protrusion
50 : 연결블록 51 : 유로50: connecting block 51: euro
52 : 단차부 53 : 안치홈52: step 53: settle groove
54 : 볼트 삽입홈 60 : 고정부재54: bolt insertion groove 60: fixing member
61 : 고정편 62 : 볼트61: fixing piece 62: bolt
70 : 지지블록 71 : 세정수 공급로70: support block 71: washing water supply passage
80 : 지지브래킷 81 : 측면 플랜지80: support bracket 81: side flange
81a : 장공 82 : 탭호울81a: long hole 82: tap hole
90 : 높이조절볼트 91 : 공구삽입홈90: height adjustment bolt 91: tool insertion groove
100 : 부싱100 bushing
Claims (4)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020070075621A KR101327383B1 (en) | 2007-07-27 | 2007-07-27 | Deionized water supply module and substrate cleaning device using the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020070075621A KR101327383B1 (en) | 2007-07-27 | 2007-07-27 | Deionized water supply module and substrate cleaning device using the same |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20090011731A true KR20090011731A (en) | 2009-02-02 |
KR101327383B1 KR101327383B1 (en) | 2013-11-08 |
Family
ID=40682823
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020070075621A KR101327383B1 (en) | 2007-07-27 | 2007-07-27 | Deionized water supply module and substrate cleaning device using the same |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101327383B1 (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20120126404A (en) * | 2011-05-11 | 2012-11-21 | 주식회사 엘지화학 | Rinsing apparatus for cleaning system of float glass |
KR20120139996A (en) * | 2011-06-20 | 2012-12-28 | 주식회사 엘지화학 | Washing apparatus for cleaning system of float glass |
KR20120139997A (en) * | 2011-06-20 | 2012-12-28 | 주식회사 엘지화학 | Washing apparatus for cleaning system of float glass |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102045828B1 (en) * | 2018-07-04 | 2019-11-18 | 주식회사 디엠에스 | Substrate processing apparatus |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3809293B2 (en) | 1999-03-29 | 2006-08-16 | 株式会社カイジョー | Ultrasonic excitation device and ultrasonic cleaning device provided with the same |
KR100433452B1 (en) * | 2001-07-03 | 2004-05-31 | 주식회사 케이씨텍 | Cleaning apparatus for Brush |
KR101216607B1 (en) * | 2005-12-13 | 2012-12-31 | 주식회사 케이씨텍 | Fluid feeder for cleaning apparatus |
KR101146953B1 (en) * | 2005-12-16 | 2012-05-23 | 주식회사 케이씨텍 | Device for adjusting gap between air knife and substrate |
-
2007
- 2007-07-27 KR KR1020070075621A patent/KR101327383B1/en active IP Right Grant
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20120126404A (en) * | 2011-05-11 | 2012-11-21 | 주식회사 엘지화학 | Rinsing apparatus for cleaning system of float glass |
KR20120139996A (en) * | 2011-06-20 | 2012-12-28 | 주식회사 엘지화학 | Washing apparatus for cleaning system of float glass |
KR20120139997A (en) * | 2011-06-20 | 2012-12-28 | 주식회사 엘지화학 | Washing apparatus for cleaning system of float glass |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR101327383B1 (en) | 2013-11-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101327383B1 (en) | Deionized water supply module and substrate cleaning device using the same | |
JPH1083982A (en) | Wafer cleaning device | |
KR100466297B1 (en) | Apparatus for manufacturing semiconductor devices | |
JP2007266545A (en) | Substrate treatment equipment | |
JP2001062269A (en) | Liquid mixing device | |
US20050067288A1 (en) | Storage tank for process liquids with a reduced amount of bubbles | |
KR101652481B1 (en) | chemical coating apparatus using double slit nozzle | |
KR20220077077A (en) | Cleaning chemical liquid supply device and cleaning chemical liquid supply method | |
JP4859703B2 (en) | Substrate processing equipment | |
KR100702831B1 (en) | Apparatus for processing substrate with plasma | |
KR102336793B1 (en) | Vaporizer | |
KR20070022181A (en) | Slit nozzle for coating developing solution and system including thereof | |
KR20240070028A (en) | Apparatus for treating substrate | |
KR101033938B1 (en) | Puddle knife for large area substrate | |
KR101205599B1 (en) | Semiconductor manufacturing apparatus | |
KR20030052825A (en) | A jet device for providing developer in the lithography process | |
KR100857004B1 (en) | Air supply device with manual valve | |
KR20130058261A (en) | Apparatus for providing chemical liquid | |
KR200141180Y1 (en) | Apparatus for removing bubble in semiconductor developing apparatus | |
KR100709608B1 (en) | Nozzle device for providing flow-liquid and apparatus for providing flow-liquid using the same | |
JP2007229635A (en) | Coating liquid supply apparatus | |
KR20090005586A (en) | Slit nozzle used in manufacturing flat panal display devices | |
KR20050092551A (en) | Etching equipment of glass for liquid crystal display and plasma display panel | |
JP2020146679A (en) | spray nozzle | |
KR101071272B1 (en) | Apparatus for supplying a chemical solution |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20191007 Year of fee payment: 7 |