KR20080073386A - 롤러 장치, 인쇄 방법 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조방법 - Google Patents
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Abstract
공정수를 단순화하고 인쇄 불량을 최소화할 수 있는 롤러 장치, 인쇄 방법 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조 방법이 개시된다.
본 발명의 인쇄 방법은, 블랭킷 상에 블랭킷과 상이한 표면 에너지를 갖는 제1 패턴들을 형성하고, 블랭킷을 롤러의 둘레를 따라 형성하고, 롤러를 회전시키고 인쇄 물질을 적하하여 제1 패턴들 사이의 블랭킷 상에 제2 패턴들을 형성하며, 롤러 상에 형성된 제2 패턴들을 기판 상에 형성한다.
인쇄, 블랭킷, 인쇄 패턴, 표면 에너지, 액정표시장치, 불량
Description
도 1a 도 1c는 종래의 인쇄 방식을 이용한 인쇄 패턴 형성 공정을 도시한 도면.
도 2a 내지 도 2f는 본 발명의 인쇄 공정을 설명하기 위한 도면.
도 3a 및 도 3b는 본 발명의 인쇄 방식을 이용한 액정표시장치 제조 공정을 설명하기 위한 도면.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
21: 블랭킷 23: 제1 패턴들
25: 샤프트 27: 롤러
29: 적하 부재 31: 인쇄 물질
33: 제2 패턴들 35, 51: 기판
53: 패턴 물질 55: 패턴
본 발명은 인쇄 방법에 관한 것으로, 특히 공정수를 단순화하고 인쇄 불량을 최소화할 수 있는 롤러 장치, 인쇄 방법 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조 방법에 관한 것이다.
정보화 사회가 발전함에 따라 디스플레이 장치에 대한 요구도 다양한 형태로 점증하고 있다. 이에 부응하여 근래에는 액정디스플레이 장치(LCD: Liquid Crystal Display device), 플라즈마 디스플레이 패널(PDP: Plasma Display Panel), 전계발광소자(ELD: Electro Luminescent Display) 등을 포함한 다양한 평판디스플레이 장치가 연구되어 왔고 일부는 이미 디스플레이 장치로 널리 활용되고 있다.
이 중에서 액정표시장치는 현재 화질이 우수하고 경량, 박형, 저소비 전력 등의 장점이 있고, 이에 따라 브라운관(CRT)을 신속히 대체시키고 있다. 액정표시장치는 노트북의 모니터, 텔레비전의 표시 패널 등으로 다양하게 개발되고 있다.
액정표시장치는 영상을 디스플레이하기 위한 액정패널과, 액정패널을 구동하기 위한 드라이버를 포함한다.
액정패널은 두 기판 사이에 액정층을 게재하여, 두 기판에 구비된 각 전극에 인가된 전압에 의해 액정층의 액정 분자의 배향 방향을 제어하여, 광의 투과율을 조절하여 영상을 표시한다.
액정패널은 다양한 패턴, 예컨대, 게이트 라인, 데이터 라인, 박막트랜지스터, 화소 전극, 공통 전극이 배치된다.
이러한 패턴은 통상 세정, 노광 및 현상 공정을 통해 포토레지스트 패턴을 형성하고, 포토레지스트 패턴을 마스크로 하여 식각 공정을 통해 형성될 수 있다.
이에 따라, 고가의 노광 장비를 사용해야 하므로, 제조 비용이 증가되고, 다수의 공정이 사용됨에 따라 공정수가 복잡해지는 문제가 있다.
최근 들어, 포토레지스트 패턴 대신에 인쇄 공정에 의해 형성된 인쇄 패턴을 마스크로 이용하여 패턴을 형성하는 인쇄 방식이 제안되었다.
도 1a 도 1c는 종래의 인쇄 방식을 이용한 인쇄 패턴 형성 공정을 도시한 도면이다.
도 1a에 도시한 바와 같이, 롤러(roller, 1)는 원형 형태를 가지고 회전 및 일 방향으로 수평 이동이 가능하다. 롤러(1) 상에는 원형의 롤러(1) 표면을 따라 균일한 두께를 갖는 블랭킷(blanket, 2)이 배치된다.
블랭킷(2)의 상부에 인쇄 물질(3)이 적하되고 롤러(1)가 회전됨에 따라, 블랭킷(2) 표면 상에 인쇄 물질(3)이 코팅된다.
도 1b에 도시한 바와 같이, 롤러(1)의 인쇄 물질(3)로부터 패턴을 형성하기 위한 클리체(cliche', 5)가 마련된다. 클리체(5)는 다수의 패턴이 형성되어 있다.
인쇄 물질(3)이 코팅된 롤러(1)를 클리체(5)에 접촉되도록 한 다음, 회전과 함께 일 방향으로 수평 이동시킨다. 이에 따라, 클리체(5)의 패턴이 그대로 롤러(1)에 전사되어, 롤러(1)의 인쇄 물질(3)로부터 클리체(5)의 패턴에 대응된 인쇄 패턴(4)이 형성된다. 즉, 클리체(5)의 패턴으로 인해, 클리체(5)와 접촉되는 롤러(1)의 인쇄 물질(3)은 이탈되어 클리체(5)에 부착되고, 클리체(5)와 접촉되지 않 은 인쇄 물질(3)은 그래도 롤러(1) 상에 남게 된다.
도 1c에 도시한 바와 같이, 유리 기판(6)이 마련된다.
인쇄 패턴(4)이 형성된 롤러(1)를 기판(6)에 접촉되도록 한 다음, 회전과 함께 일 방향으로 수평 이동시킨다. 이에 따라, 롤러(1)에 형성된 인쇄 패턴(4)이 그대로 기판(6) 상에 형성된다.
이와 같이, 종래의 인쇄 방식은 롤러에 인쇄 물질을 코팅하는 공정과, 클리체를 이용하여 롤러에 인쇄 패턴을 형성하는 공정과, 롤러의 인쇄 패턴을 기판에 형성하는 공정과 같이 3회의 공정이 요구되므로, 공정이 복잡해지는 문제가 있다.
또한, 이와 같이 여러 번의 공정을 진행함에 따라, 각 공정 중 그리고 각 공정 간에 최적의 공정 조건을 부합하지 못하는 경우, 인쇄 불량을 야기하는 문제가 있다. 예컨대, 클리체의 패턴의 단차가 작기 때문에 롤러가 강제적으로 클리체에 가압되는 경우, 롤러에 남아야 하는 인쇄 물질도 클리체에 접촉되게 되어 클리체에 부착될 수 있다. 이에 따라, 롤러에 원하는 패턴이 누락되게 되어 기판 상에 원하는 패턴이 형성되지 않게 되는 문제가 있다.
본 발명은 공정수를 단순화하고 인쇄 불량을 최소화할 수 있는 롤러 장치, 인쇄 방법 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조 방법을 제공함에 그 목적이 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 제1 실시예에 따르면, 인쇄 방법은, 블랭킷 상에 상기 블랭킷과 상이한 표면 에너지를 갖는 제1 패턴들을 형성하는 단계; 상기 블랭킷을 롤러의 둘레를 따라 형성하는 단계; 상기 롤러를 회전시키고 인쇄 물질을 적하하여 상기 제1 패턴들 사이의 상기 블랭킷 상에 제2 패턴들을 형성하는 단계; 및 상기 롤러 상에 형성된 제2 패턴들을 기판 상에 형성하는 단계를 포함한다.
본 발명의 제2 실시예에 따르면, 액정표시장치의 제조 방법은, 제1 패턴들 사이의 블랭킷 상에 형성된 제2 패턴들을 구비한 롤러를 마련하는 단계; 기판 상에 패턴 물질을 증착하는 단계; 상기 롤러 상에 형성된 제2 패턴들을 상기 패턴 물질 상에 형성하는 단계; 및 상기 제2 패턴들을 마스크로 하여 패터닝하여 상기 기판 상에 제3 패턴들을 형성하는 단계를 포함한다.
본 발명의 제3 실시예에 따르면, 롤러 장치는, 롤러; 상기 롤러의 둘레를 따라 부착되고 제1 표면 에너지를 갖는 블랭킷; 및 상기 블랭킷 상에 형성되고 상기 제1 표면 에너지와 상이한 제2 표면 에너지를 갖는 패턴들을 포함한다.
이와 같은 본 발명에 의하여, 제조 공정을 단순화하고, 제조 비용을 절감하며, 인쇄 불량을 최소화할 수 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다.
도 2a 내지 도 2f는 본 발명의 인쇄 공정을 설명하기 위한 도면이다.
도 2a에 도시한 바와 같이, 균일한 두께를 갖는 블랭킷(21)이 마련된다. 상기 블랭킷(21)은 PDMS(polydimethylsiloxane)로 이루어질 수 있다. PDMS의 표면 에 너지는 22~24dynes/cm이다.
도 2b에 도시한 바와 같이, 상기 블랭킷(21) 상에 상기 PDMS보다 표면 에너지가 적어도 작은 예컨대 Teflon(polytetrafluoroethylene) 물질을 증착하고 패터닝하여 제1 패턴들(23)을 형성한다. Teflon의 표면 에너지는 18~20dynes/cm이다.
도 2c에 도시한 바와 같이, 상기 제1 패턴들(23)이 형성된 블랭킷(21)을 원형 형태를 갖는 롤러(27)의 표면 둘레를 따라 부착하여, 상기 롤러(27) 상에 상기 블랭킷(21)을 형성한다. 상기 롤러(27)가 원형 형태로 가지므로, 상기 블랭킷(21)의 일단과 타단은 서로 접하게 된다. 이와 같이 접하는 상기 블랭킷(21)의 일단과 타단은 접착 수단을 이용하여 고정 연결된다.
상기 롤러(27)는 회전이 가능하도록 샤프트(shaft, 25)가 상기 롤러(27)의 중심 영역에 위치된다. 상기 롤러(27)는 상기 샤프트(25)에 고정 연결된다. 이에 따라, 상시 샤프트의 회전과 동시에 상기 샤프트(25)를 중심으로 상기 롤러(27)가 시계 방향 또는 반시계 방향으로 회전될 수 있다. 상기 샤프트(25)를 회전시키기 위해 상기 샤프트(25)의 일측에 회전 모터가 구비될 수 있다.
또한, 상기 롤러(27)는 이동부재에 연결되어 일 방향으로 수평 이동될 수 있다.
따라서, 롤러 장치는 원통형의 롤러(27)와, 상기 롤러(27)를 회전시키기 위해 상기 롤러(27)의 중심 영역을 관통하여 상기 롤러(27)에 체결된 샤프트(25)와, 상기 롤러의 둘레를 따라 부착되고 제1 표면 에너지를 갖는 블랭킷(21)와, 상기 블랭킷 상에 형성되고, 상기 제1 표면 에너지와 상이한 제2 표면 에너지를 갖는 제1 패턴들(23)을 포함하여 구성된다. 상기 블랭킷(21)은 PDMS(polydimethylsiloxane)로 이루어질 수 있다. 상기 제1 패턴들(23)은 Teflon 물질로 이루어질 수 있다. 상기 제1 표면 에너지는 22~24dynes/cm이고, 상기 제2 표면 에너지는 18~20dynes/cm이다. 즉, 상기 제2 표면 에너지는 상기 제1 표면 에너지보다 적어도 작은 것이 바람직하다. 따라서, 하기에 설명될 인쇄 물질이 상기 롤러(27)의 둘레를 따라 적하되는 경우, 인쇄 물질이 상기 제1 패턴들(23)보다 적어도 표면 에너지가 큰 블랭킷(21) 상에 형성되도록 유도될 수 있다. 다시 말해, 상기 제1 패턴들(23) 사이에는 상기 블랭킷(21)이 노출되는데, 상기 인쇄 물질은 상기 제1 패턴들(23) 상에 형성되기보다는 표면 에너지가 큰 상기 노출된 블랭킷(21) 상에 주로 형성될 수 있다. 따라서, 상기 제1 패턴들(23) 사이의 상기 노출된 블랭킷(21) 상에 형성된 인쇄 물질이 인쇄 패턴들로 상기 롤러(27) 상에 형성될 수 있다.
따라서, 이와 같은 인쇄 패턴들이 그대로 기판 상에 그대로 형성될 수 있는 효과가 있다.
이하에서는 상기 롤러 장치를 이용하여 기판 상에 인쇄 패턴들을 형성하는 방법을 설명한다.
도 2d에 도시한 바와 같이, 상기 롤러(27)의 블랭킷(21) 상부에 적하 부재(29)가 구비될 수 있다. 상기 적하 부재(29)에 의해 인쇄 물질이 하부 방향으로 적하될 수 있다. 상기 인쇄 물질은 마스크 역할을 할 수 있는 어떠한 물질도 가능하다.
상기 인쇄 물질이 상기 적하 부재(29)를 통해 적하될 때, 상기 롤러(27)는 시계 방향으로 회전된다. 본 발명에서는 상기 롤러(27)가 시계 방향으로 회전하는 것으로 한정하고 있으나 상기 롤러(27)는 반시계 방향으로 회전될 수도 있다.
상기 롤러(27)가 회전됨에 따라 상기 적하 부재(29)를 통해 적하된 인쇄 물질이 상기 롤러(27)의 상기 제1 패턴들(23)을 포함한 블랭킷(21) 상에 코팅된다.
도 2e에 도시한 바와 같이, 앞서 설명한 바와 같이, 상기 블랭킷(21)의 표면 에너지가 상기 제1 패턴들(23)의 표면 에너지보다 적어도 크게 되므로, 상기 인쇄 물질이 상기 제1 패턴들(23) 상에 형성되기보다는 상기 블랭킷(21) 상에 형성되기가 용이하게 된다. 따라서, 상기 인쇄 물질이 상기 제1 패턴들(23) 사이에 노출된 상기 블랭킷(21) 상에 형성되어 상기 제1 패턴들(23) 사이에 인쇄 패턴들(33, 이하, 제2 패턴들이라 한다)이 형성된다.
상기 제1 패턴들(23) 상에 형성되었던 인쇄 물질 대부분이 상기 블랭킷(21) 상으로 이동됨에 따라 상기 제1 패턴들(23) 사이에 형성된 제2 패턴들(33)의 두께는 적어도 상기 제1 패턴들(23)의 두께보다는 커지게 된다.
상기 제1 패턴들(23) 사이에 상기 제2 패턴들(33)을 보다 신속하고 용이하며 정확하게 형성하기 위해서 상기 롤러(27)가 진동될 수 있다.
앞서 설명한 바와 같이, 상기 샤프트(25)에는 회전 모터가 구비되는데, 상기 회전 모터가 진동 모터 기능을 가질 수 있다. 따라서, 상기 회전 모터는 필요에 따라 회전 기능과 진동 기능을 가질 수 있다.
이와 같이, 상기 롤러(27)가 진동하게 되는 경우, 표면 에너지가 낮은 상기 제1 패턴들(23) 상의 인쇄 물질이 상기 제1 패턴들(23) 상에서 용이하게 이탈되어 상기 제1 패턴들(23)보다 표면 에너지가 적어도 큰 블랭킷(21) 상으로 용이하게 이동되게 된다.
또한, 상기 롤러(27)의 진동에 의해 상기 제1 패턴들(23) 상의 인쇄 물질 모두는 상기 블랭킷(21) 상으로 이동되게 되므로, 상기 제1 패턴들(23) 상에는 어떠한 인쇄 물질도 남지 않게 된다.
아울러, 상기 롤러(27)의 진동에 의해 상기 제1 패턴들(23) 상의 인쇄 물질이 신속하게 상기 블랭킷(21) 상으로 이동될 수 있다.
결국, 상기 제1 패턴들(23) 상의 인쇄 물질이 모두 상기 제1 패턴들(23) 사이의 상기 블랭킷(21) 상으로 이동되게 되어, 상기 제1 패턴들(23) 상에는 인쇄 물질이 남지 않게 되는 반면에 상기 블랭킷(21) 상에는 상기 제1 패턴들(23) 상의 인쇄 물질까지 이동되게 되므로, 상기 블랭킷(21) 상에는 상기 제1 패턴들(23)보다 적어도 큰 두께를 갖는 제2 패턴들(33)이 형성된다.
도 2f에 도시한 바와 같이, 상기 제2 패턴들(33)이 형성된 롤러(27)를 기판(35)에 접촉되도록 한 다음, 상기 롤러(27)를 시계 방향으로 회전시키면서 일 방향으로 수평 이동되도록 한다.
상기 기판(35)은 유리 재질로 이루어지게 되는데, 상기 유리의 표면 에너지는 47dynes/cm이다. 따라서, 상기 유리 기판(35)의 표면 에너지가 상기 롤러(27) 상에 형성된 상기 제2 패턴들(33)의 표면 에너지보다 적어도 크기 때문에, 상기 롤러(27) 상의 제2 패턴들(33)이 상기 유리 기판(35)에 접촉되는 경우, 상기 제2 패턴들(33)이 용이하게 상기 유리 기판(35) 상에 형성될 수 있다.
상기 롤러(27)가 상기 유리 기판(35)에 접촉되고 시계 방향으로 회전하면서 일 방향으로 수평 이동함에 따라, 상기 유리 기판(35) 상에는 상기 롤러(27) 상에 형성된 제2 패턴들(33)이 형성되게 된다.
특히, 상기 제2 패턴들(33)이 상기 제1 패턴들보다 적어도 큰 두께를 가지게 되어, 상기 제2 패턴들(33)만이 상기 유리 기판(35)에 접촉되게 되므로, 상기 롤러(27) 상에 형성된 제2 패턴들(33)이 용이하게 상기 유리 기판(35) 상에 형성될 수 있다.
따라서, 본 발명은 상기 롤러 상에 제1 패턴들보다 표면 에너지가 적어도 큰 상기 블랭킷이 형성됨에 따라, 상기 롤러 상으로 적하된 인쇄 물질이 모두 상기 제1 패턴들 사이의 상기 블랭킷 사이에 형성된다. 그러므로, 본 발명은 롤러에 직접 인쇄 물질로 이루어진 제2 패턴을 형성하는 공정과, 상기 제2 패턴을 상기 기판 상에 형성하는 공정만을 필요하게 되므로, 종래에 비해 공정이 단순해질 수 있다.
또한, 본 발명은 종래의 포토리소그라피(photolithography) 공정을 이용하여 포토레지스트 패턴을 형성하는 것에 비해, 롤러에 직접 인쇄 패턴을 형성함으로써, 제조 비용을 절감할 수 있다.
아울러, 본 발명은 종래와 같이 클리체를 이용하여 인쇄 패턴을 형성하는 공정이 필요하지 않게 되어, 클리체를 이용한 인쇄 패턴 형성 공정에서 클리체의 패턴 단차에 의한 인쇄 패턴 불량이 원천적으로 방지할 수 있으므로, 인쇄 불량을 최소화할 수 있다.
도 3a 및 도 3b는 본 발명의 인쇄 방식을 이용한 액정표시장치 제조 공정을 설명하기 위한 도면이다.
앞서 설명한 인쇄 방식을 이용하여 액정표시장치를 용이하게 제조할 수 있다.
도 3a에 도시한 바와 같이, 기판(51) 상에 패턴을 형성하기 위한 패턴 물질(53), 예컨대 게이트 금속막, 반도체 물질 및 소스/드레인 금속막, 화소 전극 물질을 증착한다.
이후, 앞서 설명한 바와 같이 인쇄 패턴이 형성된 롤러를 상기 패턴 물질(53)에 접촉되도록 한 다음, 상기 롤러를 회전시키면서 일 방향으로 수평 이동시킨다. 이에 따라, 상기 패턴 물질(53) 상에 인쇄 패턴이 형성된다.
상기 패턴 물질(53) 특히 금속 물질은 표면 거칠기가 크므로 표면 에너지 또한 크기 때문에 상기 롤러 상에 형성된 인쇄 패턴이 용이하게 상기 패턴 물질(53) 상에 형성될 수 있다.
도 3b에 도시한 바와 같이, 상기 인쇄 패턴을 마스크로 하여 상기 패턴 물질(53)을 패터닝하여 상기 기판(51) 상에 패턴(55)을 형성한다. 상기 패턴(55)은 게이트 라인, 게이트 전극, 액티브층과 오믹콘택층을 포함하는 반도체층, 데이터 라인, 소스/드레인 전극, 화소 전극 중 어느 하나일 수 있다.
이후, 상기 인쇄 패턴을 제거하여 상기 기판(51) 상에 패턴(55)만 남게 한다.
이와 같이 기판(51) 상에 게이트 라인, 게이트 전극, 액티브층과 오믹콘택층을 포함하는 반도체층, 데이터 라인, 소스/드레인 전극, 화소 전극을 본 발명의 인 쇄 방식을 이용하여 형성함으로써, 액정표시장치를 제조할 수 있다.
이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명에 의하면, 종래에 클리체를 이용한 인쇄 패턴을 형성하는 공정이 불필요하게 되므로, 종래에 비해 공정이 단순해질 수 있다.
본 발명에 의하면, 종래의 포토리소그라피 공정을 이용하여 포토레지스트 패턴을 형성하는 것에 비해, 롤러에 직접 인쇄 패턴을 형성함으로써, 제조 비용을 절감할 수 있다.
본 발명에 의하면, 종래와 같이 클리체를 이용하여 인쇄 패턴을 형성하는 공정이 필요하지 않게 되어, 클리체를 이용한 인쇄 패턴 형성 공정에서 클리체의 패턴 단차에 의한 인쇄 패턴 불량이 원천적으로 방지할 수 있으므로, 인쇄 불량을 최소화할 수 있다.
이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여져야만 할 것이다.
Claims (19)
- 블랭킷 상에 상기 블랭킷과 상이한 표면 에너지를 갖는 제1 패턴들을 형성하는 단계;상기 블랭킷을 롤러의 둘레를 따라 형성하는 단계;상기 롤러를 회전시키고 인쇄 물질을 적하하여 상기 제1 패턴들 사이의 상기 블랭킷 상에 제2 패턴들을 형성하는 단계; 및상기 롤러 상에 형성된 제2 패턴들을 기판 상에 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 인쇄 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 블랭킷 상에 제2 패턴을 형성하는 단계는,상기 인쇄 물질을 상기 제1 패턴들을 포함하는 상기 블랭킷 상에 형성하는 단계; 및상기 블랭킷과 상기 제1 패턴들 간의 상이한 표면 에너지에 의해 상기 제1 패턴들 상에 형성된 인쇄 물질을 상기 블랭킷으로 이동시켜, 상기 제1 패턴들 사이의 상기 블랭킷 상에 상기 제2 패턴들을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 인쇄 방법.
- 제2항에 있어서, 상기 롤러에 진동을 가압하여 상기 제1 패턴들 상에 형성된 인쇄 물질을 상기 블랭킷으로 이동시켜, 상기 제1 패턴들 사이의 상기 블랭킷 상에 상기 제2 패턴들을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 인쇄 방법.
- 제1 내지 제3항의 어느 한 항에 있어서, 상기 블랭킷은 상기 제1 패턴들보다 적어도 큰 표면 에너지를 갖는 것을 특징으로 하는 인쇄 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 블랭킷은 폴리디메틸실록사인(polydimethyl siloxane)으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 인쇄 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 제1 패턴들은 폴리테트라플로오르에틸렌(polytetrafluoroethylene)으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 인쇄 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 제2 패턴들은 상기 제1 패턴들보다 적어도 큰 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 인쇄 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 제2 패턴들은 마스크 기능을 갖는 것을 특징으로 하는 인쇄 방법.
- 제1 패턴들 사이의 블랭킷 상에 형성된 제2 패턴들을 구비한 롤러를 마련하는 단계;기판 상에 패턴 물질을 증착하는 단계;상기 롤러 상에 형성된 제2 패턴들을 상기 패턴 물질 상에 형성하는 단계; 및상기 제2 패턴들을 마스크로 하여 패터닝하여 상기 기판 상에 제3 패턴들을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조 방법.
- 제9항에 있어서, 상기 제3 패턴들은 게이트 라인, 게이트 전극, 반도체층, 데이터 라인, 소스/드레인 전극 및 화소 전극 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조 방법.
- 제9항에 있어서, 상기 제2 패턴들은 상기 제1 패턴들보다 적어도 큰 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조 방법.
- 제9항에 있어서, 상기 제1 패턴들은 폴리테트라플로오르에틸렌(polytetrafluoroethylene)으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조 방법.
- 롤러;상기 롤러의 둘레를 따라 부착되고 제1 표면 에너지를 갖는 블랭킷; 및상기 블랭킷 상에 형성되고 상기 제1 표면 에너지와 상이한 제2 표면 에너지를 갖는 패턴들을 포함하는 것을 특징으로 하는 롤러 장치.
- 제13항에 있어서, 상기 블랭킷은 polydimethylsiloxane로 이루어지는 것을 특징으로 하는 롤러 장치.
- 제13항에 있어서, 상기 패턴들은 Teflon 물질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 롤러 장치.
- 제13항에 있어서, 상기 패턴들의 제2 표면 에너지는 상기 블랭킷의 제1 표면 에너지보다 적어도 작은 것을 특징으로 하는 롤러 장치.
- 제16항에 있어서, 상기 제1 표면 에너지는 22dynes/cm~24dynes/cm의 범위를 갖는 것을 특징으로 하는 롤러 장치.
- 제16항에 있어서, 상기 제2 표면 에너지는 18dynes/cm~20dynes/cm의 범위를 갖는 것을 특징으로 하는 롤러 장치.
- 제13항에 있어서, 상기 패턴들 사이의 상기 블랭킷은 노출되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 롤러 장치.
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101219098B1 (ko) * | 2010-09-03 | 2013-01-11 | 주식회사 엘지화학 | 잉크젯 프린팅 방식의 컬러필터 기판 제조장치 및 제조방법 |
US20150208513A1 (en) * | 2014-01-23 | 2015-07-23 | Panasonic Corporation | Manufacturing method for electronic device |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20130121206A (ko) * | 2012-04-26 | 2013-11-06 | 삼성디스플레이 주식회사 | 터치 스크린 패널의 제조 장치 및 제조 방법 |
JP2018132511A (ja) * | 2017-02-17 | 2018-08-23 | 株式会社リコー | 厚さ検出装置、画像形成装置 |
TWI661947B (zh) * | 2017-11-17 | 2019-06-11 | 財團法人工業技術研究院 | 凹版轉印機台 |
CN110444335B (zh) * | 2018-05-03 | 2023-03-24 | 深圳光启尖端技术有限责任公司 | 非均匀电损耗超材料及其制备方法 |
CN109624488A (zh) * | 2019-02-28 | 2019-04-16 | 业成科技(成都)有限公司 | 网印喷头装置 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA2019046C (en) * | 1989-06-16 | 1998-05-12 | Satoshi Okazaki | Method of printing fine patterns |
JPH07907A (ja) * | 1993-06-18 | 1995-01-06 | Sekisui Chem Co Ltd | 塗工方法 |
KR100528422B1 (ko) * | 1996-11-12 | 2006-01-27 | 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 | 전사시트및패턴형성방법 |
US6207268B1 (en) | 1996-11-12 | 2001-03-27 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Transfer sheet, and pattern-forming method |
US6041706A (en) * | 1998-05-15 | 2000-03-28 | Heidelberger Druckmaschinen Ag | Complete release blanket |
US6736270B2 (en) * | 1998-10-30 | 2004-05-18 | Varco I/P, Inc. | Glued screens for shale shakers |
US6732643B2 (en) * | 2001-11-07 | 2004-05-11 | Lg. Philips Lcd Co., Ltd. | Method for forming pattern using printing process |
US6759118B2 (en) * | 2002-02-19 | 2004-07-06 | Xerox Corporation | Electrophotographic system with member formed from boron nitride filler coupled to a silane |
DE10206938A1 (de) * | 2002-02-19 | 2003-09-04 | Oce Printing Systems Gmbh | Verfahren und Einrichtung zum Drucken, wobei eine hydrophile Schicht erzeugt und diese strukturiert wird |
JP2005353770A (ja) * | 2004-06-09 | 2005-12-22 | Hitachi Chem Co Ltd | 印刷配線板の製造方法 |
KR101212151B1 (ko) * | 2005-12-29 | 2012-12-13 | 엘지디스플레이 주식회사 | 패턴 형성 방법을 이용한 액정표시소자 제조방법 |
US20080028964A1 (en) * | 2006-08-04 | 2008-02-07 | Mceachern David A | Mounting image carrying plate onto a cylinder |
KR100941590B1 (ko) * | 2007-03-09 | 2010-02-11 | 주식회사 엘지화학 | 음각 인쇄에 의한 미세패턴 인쇄방법 |
JP5265165B2 (ja) * | 2007-09-28 | 2013-08-14 | 富士フイルム株式会社 | 塗布装置及びこれを用いるインクジェット記録装置 |
-
2007
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2014
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101219098B1 (ko) * | 2010-09-03 | 2013-01-11 | 주식회사 엘지화학 | 잉크젯 프린팅 방식의 컬러필터 기판 제조장치 및 제조방법 |
US20150208513A1 (en) * | 2014-01-23 | 2015-07-23 | Panasonic Corporation | Manufacturing method for electronic device |
US9713268B2 (en) * | 2014-01-23 | 2017-07-18 | Panasonic Corporation | Manufacturing method for electronic device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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