KR20080067312A - 신규한 고분자 수지 화합물 및 이를 포함하는 감광성 수지조성물 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (18)
- 하기 화학식 1로 표시되는 다중고리 구조를 지닌 단량체를 포함하는 알칼리 가용성 고분자 수지 화합물:[화학식 1]상기 화학식 1에서,A1, A2 및 A3는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소, C1 ~ C6의 알킬, C1 ~ C6의 할로 알킬, 1개 이상의 헤테로 원자를 포함하는 C1 ~ C6의 알킬, 치환 또는 비치환된 C6 ~ C20의 아릴, 및 C2 ~ C5의 알킬 카르복실산으로 이루어진 군으로부터 선택되고,X는 -(CH2)n-, -O-, -S-, -NH-, -C(O)O-, 이들의 치환물, 및 이들의 산화물 중에서 선택되고, 여기서 n은 1 내지 4의 정수이고,Y는 하기 화학식 2 또는 화학식 3으로 표시되는 화합물로부터 유래된 기이고,[화학식 2]상기 화학식 2에서,l, m 및 n은 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 1 내지 6의 정수이고,Aa1, Aa2 및 R은 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소, C1 ~ C6의 알킬, C1 ~ C6의 할로 알킬, 1개 이상의 헤테로 원자를 포함하는 C1 ~ C6의 알킬, 치환 또는 비치환된 C6 ~ C20의 아릴, 및 C2 ~ C5의 알킬 카르복실산으로 이루어진 군으로부터 선택되고,[화학식 3]상기 화학식 3에서,k, l, m, n, o 및 p는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 1 내지 4의 정수이고,Bb1, Bb2, Bb3, Bb4 및 R은 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소, C1 ~ C6의 알킬, C1 ~ C6의 할로 알킬, 1개 이상의 헤테로 원자를 포함하는 C1 ~ C6의 알킬, 치환 또는 비치환된 C6 ~ C20의 아릴, 및 C2 ~ C5의 알킬 카르복실산으로 이루어진 군으로부터 선택된다.
- 청구항 1에 있어서, 상기 화학식 1, 화학식 2 및 화학식 3의 A1, A2, A3, Aa1, Aa2, Bb1, Bb2, Bb3, Bb4, 및 R은 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소 또는 메틸기인 것을 특징으로 하는 알칼리 가용성 고분자 수지 화합물.
- 청구항 1에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 이소보닐 메타크릴레이트(Isobornyl methacrylate), 디시클로펜타닐 메타크릴레이트(Dicyclopentanyl methacrylate) 또는 1-아다만틸 메타크릴레이트(1-Adamantyl methacrylate)인 것을 특징으로 하는 알칼리 가용성 고분자 수지 화합물.
- 1) 청구항 1의 화학식 1로 표시되는 단량체를 포함하는 알칼리 가용성 고분자 수지 화합물 2 내지 20 중량%;2) 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물 0.5 내지 50 중량%;3) 광 활성을 지닌 라디칼 개시제 0.1 내지 20 중량%; 및4) 용매 10 내지 95 중량%를 포함하는 감광성 수지 조성물.
- 청구항 4에 있어서, 상기 1)의 알칼리 가용성 고분자 수지 화합물은 청구항 1의 화학식 1로 표시되는 단량체 및 산기(acid functional group)를 포함하는 화합물의 공중합체; 또는 상기 공중합체와 에폭시기 함유 에틸렌성 불포화 화합물과 고분자 반응을 통하여 제조되는 화합물인 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
- 청구항 5에 있어서, 상기 청구항 1의 화학식 1로 표시되는 단량체 및 산기(acid functional group)를 포함하는 화합물의 공중합체 중 화학식 1로 표시되는 단량체의 함량은 3 ~ 50 몰%인 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
- 청구항 5에 있어서, 상기 산기를 포함하는 화합물은 (메타)아크릴산, 크로톤산, 이타콘산, 말레인산, 푸마르산, 모노메틸 말레인산, 이소프렌 술폰산, 스티렌 술폰산, 5-노보넨-2-카복실산, 모노-2-((메타)아크릴로일옥시)에틸 프탈레이트, 모노-2-((메타)아크릴로일옥시)에틸 숙시네이트, ω-카르복시 폴리카프로락톤 모노(메타)아크릴레이트, 및 이들의 혼합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
- 청구항 5에 있어서, 상기 에폭시기를 함유한 에틸렌성 불포화 화합물은 알릴 글리시딜 에테르, 글리시딜 (메타)아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸 (메타)아크릴레이트, 글리시딜 5-노보넨-2-메틸-2-카복실레이트(엔도, 엑소 혼합물), 1,2-에폭시-5-헥센, 및 1,2-에폭시-9-데센으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
- 청구항 4에 있어서, 상기 1) 알칼리 가용성 고분자 수지 화합물의 산가는 30 ~ 300 KOH mg/g 인 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
- 청구항 4에 있어서, 상기 1) 알칼리 가용성 고분자 수지 화합물의 중량 평균 분자량은 1,000 ~ 200,000의 범위인 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
- 청구항 4에 있어서, 상기 2) 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 중합성 화합물은 다가 알콜을 α, β-불포화 카르복실산으로 에스테르화하여 얻어지는 화합물; 글리시딜기를 함유하는 화합물에 (메타)아크릴산을 부가하여 얻어지는 화합물; 수산기 또는 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물과 다가 카르복실산과의 에스테르 화합물, 또는 폴리이소시아네이트와의 부가물; (메타)아크릴산 알킬에스테르; 및 9,9'-비스 [4-(2-아크릴로일옥시에톡시)페닐]플루오렌으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
- 청구항 4에 있어서, 상기 3) 광 활성을 지닌 라디칼 개시제는 트리아진계 화합물, 비이미다졸 화합물, 아세토페논계 화합물, O-아실옥심계 화합물, 벤조페논계 화합물, 티옥산톤계 화합물, 포스핀 옥사이드계 화합물, 및 쿠마린계 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종, 또는 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
- 청구항 4에 있어서, 상기 4) 용매는 메틸 에틸 케톤, 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 에틸렌글리콜 디메틸 에테르, 에틸렌글리콜 디에틸 에테르, 프로필렌글리콜 디메틸 에테르, 프로필렌글리콜 디에틸 에테르, 디에틸렌글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌글리콜 디에틸에테르, 디에틸렌글리콜 메틸 에틸 에테르, 2-에톡시 프로판올, 2-메톡시 프로판올, 3-메톡시 부탄올, 시클로헥사논, 시클로펜타논, 프로필렌글리콜 메틸 에테르 아세테이트, 프로필렌글리콜 에틸 에테르 아세테이트, 3-메톡시부틸 아세테이트, 에틸 3-에톡시프로피오네이트, 에틸 셀로솔브아세테이트, 메틸 셀로솔브아세테이트, 부틸 아세테이트, 디프로필렌글리콜 모노메틸 에테르, 및 이들의 1종 또는 2종 이상의 혼합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
- 청구항 4에 있어서, 상기 감광성 수지 조성물은 경화 촉진제, 열 중합 억제제, 가소제, 접착 촉진제, 충전제, 및 계면 활성제로 이루어지는 군으로부터 선택 되는 첨가제를 1종 이상 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
- 청구항 14에 있어서, 상기 경화 촉진제는 2-머캡토벤조이미다졸, 2-머캡토벤조티아졸, 2-머캡토벤조옥사졸, 2,5-디머캡토-1,3,4-티아디아졸, 2-머캡토-4,6-디메틸아미노피리딘, 펜타에리스리톨 테트라키스(3-머캡토프로피오네이트), 펜타에리스리톨 트리스(3-머캡토프로피오네이트), 펜타에리스리톨 테트라키스(2-머캡토아세테이트), 펜타에리스리톨 트리스(2-머캡토아세테이트), 트리메틸올프로판 트리스(2-머캡토아세테이트), 트리메틸올프로판 트리스(3-머캡토프로피오네이트), 트리메틸올에탄 트리스(2-머캡토아세테이트), 및 트리메틸옥에탄 트리스(3-머캡토프로피오네이트)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
- 청구항 14에 있어서, 상기 열 중합 억제제는 p-아니솔, 히드로퀴논, 피로카테콜(pyrocatechol), t-부틸카테콜(t-butyl catechol), N-니트로소페닐히드록시아민 암모늄염, N-니트로소페닐히드록시아민 알루미늄염, 및 페노티아진(phenothiazine)으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
- 청구항 4에 있어서, 상기 감광성 수지 조성물을 경화시키기 위한 광원은 파장이 250 내지 450nm의 광을 발산하는 수은 증기 아크(arc), 탄소 아크, 또는 Xe 아크가 사용되는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
- 청구항 4 내지 청구항 17 중 어느 한 항의 감광성 수지 조성물을 이용하여 막을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치용 투명 박막층의 제조방법.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020070004270 | 2007-01-15 | ||
KR20070004270 | 2007-01-15 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020100057952A Division KR20100072162A (ko) | 2007-01-15 | 2010-06-18 | 신규한 고분자 수지 화합물 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20080067312A true KR20080067312A (ko) | 2008-07-18 |
KR101086951B1 KR101086951B1 (ko) | 2011-11-24 |
Family
ID=39636126
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020080004462A KR101086951B1 (ko) | 2007-01-15 | 2008-01-15 | 신규한 고분자 수지 화합물 및 이를 포함하는 감광성 수지조성물 |
KR1020100057952A KR20100072162A (ko) | 2007-01-15 | 2010-06-18 | 신규한 고분자 수지 화합물 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020100057952A KR20100072162A (ko) | 2007-01-15 | 2010-06-18 | 신규한 고분자 수지 화합물 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8361696B2 (ko) |
JP (1) | JP2010515784A (ko) |
KR (2) | KR101086951B1 (ko) |
CN (1) | CN101578303B (ko) |
WO (1) | WO2008088160A1 (ko) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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-
2008
- 2008-01-15 JP JP2009544812A patent/JP2010515784A/ja active Pending
- 2008-01-15 WO PCT/KR2008/000248 patent/WO2008088160A1/en active Application Filing
- 2008-01-15 CN CN2008800022323A patent/CN101578303B/zh active Active
- 2008-01-15 KR KR1020080004462A patent/KR101086951B1/ko active IP Right Grant
- 2008-01-15 US US12/523,107 patent/US8361696B2/en active Active
-
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- 2010-06-18 KR KR1020100057952A patent/KR20100072162A/ko not_active Application Discontinuation
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR101086951B1 (ko) | 2011-11-24 |
JP2010515784A (ja) | 2010-05-13 |
CN101578303A (zh) | 2009-11-11 |
US8361696B2 (en) | 2013-01-29 |
US20100105793A1 (en) | 2010-04-29 |
WO2008088160A1 (en) | 2008-07-24 |
CN101578303B (zh) | 2012-08-08 |
KR20100072162A (ko) | 2010-06-30 |
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A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
AMND | Amendment | ||
E601 | Decision to refuse application | ||
J201 | Request for trial against refusal decision | ||
A107 | Divisional application of patent | ||
AMND | Amendment | ||
B601 | Maintenance of original decision after re-examination before a trial | ||
J301 | Trial decision |
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|
S901 | Examination by remand of revocation | ||
GRNO | Decision to grant (after opposition) | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
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FPAY | Annual fee payment |
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|
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|
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