KR20080062854A - 다층 스탬프와 그의 제조 방법, 다층 스탬프가 장착된나노 임프린트 시스템 및 다층 스탬프를 이용한 표시패널에 나노 임프린팅하는 방법 - Google Patents

다층 스탬프와 그의 제조 방법, 다층 스탬프가 장착된나노 임프린트 시스템 및 다층 스탬프를 이용한 표시패널에 나노 임프린팅하는 방법 Download PDF

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이상수
김지현
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Abstract

본 발명은 다층 스탬프와 그의 제조 방법, 다층 스탬프가 장착된 나노 임프린트 시스템 및 다층 스탬프를 이용한 표시 패널에 나노 임프린팅하는 방법에 관한 것으로, 다층 스탬프는 제 1 물질로 이루어진 지지부와; 상기 지지부에 형성되고, 상기 제 1 물질보다 경도(hardeness)가 큰 제 2 물질로 이루어진 스탬핑부와; 상기 스탬핑부에 코팅된 점착(粘着) 방지용 코팅막으로 구성된다.
따라서, 본 발명은 하드(Hard)한 스탬핑부와 탄성을 갖는 소프트(Soft)한 지지부의 이중 구조의 다층 스탬프를 구현하여, 유연성이 우수하여 대상물의 불균일한 상태를 보정하여 균일한 패턴을 형성할 수 있으며, 롤 타입의 스탬프 제작이 가능한 효과가 있다.
또한, 본 발명은 다층 스탬프로 대면적 대상물에도 균일한 압력을 인가할 수 있어 균일한 패턴을 형성할 수 있는 효과가 있다.
더불어, 본 발명은 다층 스탬프의 지지부가 탄성 물질로 이루어져 진공에 의한 밀착성을 향상시킬 수 있으므로, 원활한 패터닝 공정을 수행할 수 있는 효과가 있다.
다층, 스탬프, 나노, 임프린트, 탄성, 유연성, 균일

Description

다층 스탬프와 그의 제조 방법, 다층 스탬프가 장착된 나노 임프린트 시스템 및 다층 스탬프를 이용한 표시 패널에 나노 임프린팅하는 방법 { Multi layer stamp and method for manufacturing the same, nano imprint system with multi layer stamp and method for nano imprinting on a display panel }
도 1a 내지 1c는 종래 기술에 따른 나노 임프린트 기술로 미세 패턴을 형성하는 방법을 설명하기 위한 단면도
도 2a와 2b는 본 발명에 따른 다층 스탬프의 개략적인 단면도
도 3a 내지 3e는 본 발명에 따른 다층 스탬프의 제조 방법을 설명하기 위한 개략적인 단면도
도 4는 본 발명에 따른 다층 스탬프를 이용하여 나노 임프린팅 공정을 수행하는 상태를 도시한 단면도
도 5a 내지 5d는 본 발명에 따른 다층 스탬프를 이용하여 표시 패널에 나노 임프린팅 공정을 수행하는 상태를 도시한 단면도
도 6은 본 발명에 따라 플렉서블(Flexible)한 다층 스탬프로 표시 패널에 나노 임프린팅 공정을 수행하는 상태를 도시한 단면도
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
100 : 지지부 110 : 접착제
200 : 스탬핑부 210 : 점착(粘着) 방지용 코팅막
300 : 지지대 310 : 진공 흡입공
400 : 진공 펌프 500 : 경화성 재료
600 : 롤러 610 : 광원
700 : 표시패널 710 : 경화용 막
711 : 패널
본 발명은 다층 스탬프와 그의 제조 방법, 다층 스탬프가 장착된 나노 임프린트 시스템 및 다층 스탬프를 이용한 표시 패널에 나노 임프린팅하는 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 균일한 패턴을 형성할 수 있는 다층 스탬프와 그의 제조 방법, 다층 스탬프가 장착된 나노 임프린트 시스템 및 다층 스탬프를 이용한 표시 패널에 나노 임프린팅하는 방법에 관한 것이다.
나노 임프린트(Nano Imprint Lithography) 기술은 1990년대 중반 Princeton 대학교의 Stephen Y. Chou교수에 의해 제안하였으며, 낮은 생산성을 갖는 전자빔 리소그라피 기술 및 고가의 광학 리소그라피 기술을 대신할 기술로 현재 주목받고 있다.
한편, 최근 IT 기술의 진보에 의해, IT 기술로 구현되는 장치의 고속 동작과 저소비 전력 동작을 위하여, 미세화된 패턴을 요구하고 있다.
이런 미세화된 패턴은 리소그래피 기술을 이용하여 통상 만들어지는데, 미세화가 더욱 진전됨에 따라 해당 기술에 필요한 장치는 더욱 비싸지고 있다.
그러므로, 현재 저렴한 비용으로 미세 패턴을 형성할 수 있는 기술에 대하여 다양한 연구가 진행되고 있다.
일례로, 표시 패널을 제조하기 위해서는 전극, 격벽, 절연막과 같은 다양한 기능성 막들을 미세 패턴으로 형성하여야 하고, 이 미세 패턴을 저렴한 비용으로 형성하는 기술 개발이 시도되고 있다.
이렇게, 저렴한 비용으로 미세 패턴을 형성할 수 있는 기술 중 하나가 나노 임프린트 기술이다.
도 1a 내지 1c는 종래 기술에 따른 나노 임프린트 기술로 미세 패턴을 형성하는 방법을 설명하기 위한 단면도로서, 기판(11) 상부에 레지스트막(12)을 형성하고, 상기 레지스트막(12) 상부에 스탬프(10)를 위치시킨다.(도 1a)
상기 스탬프(10)에는 미세 패턴(10a)이 형성되어 있다.
이어서, 상기 스탬프(10)를 상기 레지스트막(12)을 가압한다.(도 1b)
여기서, 상기 스탬프(10)가 상기 레지스트막(12)에 가압되면, 미세 패턴은 상기 레지스트막(12)에 전사된다.
그 후, 상기 스탬프(10)를 상부로 이동시켜, 상기 레지스트막(12)으로부터 이탈되면, 상기 레지스트막(12)에는 미세 패턴이 형성된다.(도 1c)
이러한, 스탬프는 금속, 실리콘, 퀄츠와 같은 단단한 재질을 사용하여 제작된다.
그러나, 이러한 종래의 하드 스탬프를 이용하여 대면적 기판에 나노 임프린팅 공정을 수행하면, 패턴을 형성할 기판의 균일도가 나노 스케일의 정밀도를 확보하지 못한 경우, 하드 스탬프 전면에 걸쳐서 패턴을 형성하기가 불가능한 문제점이 있었다.
본 발명은 상기한 바와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 하드(Hard)한 스탬핑부와 탄성을 갖는 소프트(Soft)한 지지부의 이중 구조의 다층 스탬프를 구현하여, 유연성이 우수하여 대상물의 불균일한 상태를 보정하여 균일한 패턴을 형성할 수 있는 다층 스탬프와 그의 제조 방법, 다층 스탬프가 장착된 나노 임프린트 시스템 및 다층 스탬프를 이용한 표시 패널에 나노 임프린팅하는 방법을 제공하는 데 목적이 있다.
상기한 본 발명의 목적들을 달성하기 위한 바람직한 제 1 양태(樣態)는,
제 1 물질로 이루어진 지지부와;
상기 지지부에 형성되고, 상기 제 1 물질보다 경도(hardeness)가 큰 제 2 물질로 이루어진 스탬핑부와;
상기 스탬핑부에 코팅된 점착(粘着) 방지용 코팅막으로 구성된 다층 스탬프가 제공된다.
상기한 본 발명의 목적들을 달성하기 위한 바람직한 제 2 양태(樣態)는,
제 1 물질로 이루어진 지지부를 준비하는 단계와;
상기 제 1 물질보다 경도가 큰 제 2 물질로 이루어진 스탬핑부를 준비하는 단계와;
상기 스탬핑부에 코팅된 점착 방지용 물질을 코팅하여 점착 방지용 코팅막을 형성하는 단계와;
상기 스탬핑부를 접착제를 이용한 상기 지지부에 접착시키는 단계로 이루어진 다층 스탬프의 제조 방법이 제공된다.
상기한 본 발명의 목적들을 달성하기 위한 바람직한 제 3 양태(樣態)는,
제 1 물질로 이루어진 지지부와, 상기 지지부에 형성되고 상기 제 1 물질보다 경도가 큰 제 2 물질로 이루어진 스탬핑부와, 상기 스탬핑부에 코팅된 점착 방지용 코팅막으로 이루어진 다층 스탬프와;
상기 다층 스탬프의 지지부를 진공 흡착시키는 복수개의 진공 흡입공들이 상부에 노출되어 있는 지지대와;
상기 복수개의 진공 흡입공들과 연결되어 있는 진공 펌프와;
상기 스탬핑할 대상물을 가압할 수 있으며, 광원이 부착된 롤러로 구성된 다 층 스탬프가 장착된 나노 임프린트 시스템이 제공된다.
상기한 본 발명의 목적들을 달성하기 위한 바람직한 제 4 양태(樣態)는,
나노 임프린트할 경화용 막이 형성된 표시 패널을 준비하는 단계와;
제 1 물질로 이루어진 지지부와, 상기 지지부에 형성되고 상기 제 1 물질보다 경도가 큰 제 2 물질로 이루어진 스탬핑부와, 상기 스탬핑부에 코팅된 점착 방지용 코팅막으로 이루어진 다층 스탬프를 준비하는 단계와;
상기 다층 스탬프를 상기 경화용 막에 가압하여, 상기 표시 패널 상부에 형성된 패턴을 형성하는 단계와;
상기 표시 패널 상부에 형성된 패턴을 경화시키는 단계와;
상기 다층 스탬프를, 상기 표시 패널 상부에 형성된 패턴으로부터 이탈시키는 단계로 이루어진 다층 스탬프를 이용한 표시 패널에 나노 임프린팅하는 방법이 제공된다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하면 다음과 같다.
도 2a와 2b는 본 발명에 따른 다층 스탬프의 개략적인 단면도로서, 본 발명의 다층 스탬프는 도 2a에 도시된 바와 같이, 제 1 물질로 이루어진 지지부(100)와; 상기 지지부(100)에 형성되고, 상기 제 1 물질보다 경도(hardeness)가 큰 제 2 물질로 이루어진 스탬핑부(200)와; 상기 스탬핑부(200)에 코팅된 점착(粘着) 방지용 코팅막(210)으로 구성된다.
그리고, 더 바람직하게는 도 2b와 같이, 제 1 물질로 이루어진 지지부(100)와; 상기 지지부(100)에 접착제(110)에 의해 접착되어 있고, 상기 제 1 물질보다 경도(hardeness)가 큰 제 2 물질로 이루어진 스탬핑부(200)와; 상기 스탬핑부(200)에 코팅된 점착 방지용 코팅막(210)으로 구성된다.
즉, 도 2a는 상기 지지부(100) 상부에 스탬핑부(200)를 형성한 것이고, 도 2b는 상기 스탬핑부(200)가 상기 지지부(100)에 접착되어 있는 것이다.
그리고, 상기 제 1 물질은 탄성력을 갖는 물질인 것이 바람직하고, 상기 제 2 물질은 금속, 실리콘과 퀄츠 중 하나가 바람직하다.
또한, 상기 점착 방지용 코팅막(210)은 자기 조립 모노층(Self assembled monolayer, SAM)으로 이루어진다.
상기 스탬핑부(200)에 점착 방지용 코팅막(210)이 형성되어 있으면, 상기 스탬핑부(200)로 인프린트 공정을 수행된 다층 스탬프를 인프린트된 패턴으로부터 이탈이 원활하게 된다.
이러한, 다층 스탬프는 얇은 두께의 하드(Hard)한 스탬핑부와 탄성을 갖는 소프트(Soft)한 지지부의 이중 구조로 되어 있어, 유연성이 우수하여 대상물의 불균일한 상태를 보정하여 균일한 패턴을 형성할 수 있으며, 롤(Roll) 타입의 스탬프 제작도 가능하다.
도 3a 내지 3e는 본 발명에 따른 다층 스탬프의 제조 방법을 설명하기 위한 개략적인 단면도로서, 먼저, 제 1 물질로 이루어진 지지부(100)를 준비한다.(도 3a)
그 후, 상기 제 1 물질보다 경도(hardeness)가 큰 제 2 물질로 이루어진 스탬핑부(200)를 준비한다.(도 3b)
상기 스탬핑부(200)는 건식 식각에 의한 방법, 전주 도금에 의한 방법 등으로 스탬핑부(200)에 미세 패턴을 형성할 수 있다.
그 다음, 상기 스탬핑부(200)에 코팅된 점착(粘着) 방지용 물질을 코팅하여 점착(粘着) 방지용 코팅막(210)을 형성한다.(도 3c)
이어서, 상기 스탬핑부(200)를 접착제(110)를 이용하여 상기 지지부(100)에 접착시킨다.(도 3d 및 도 3e)
상기 접착제는 열경화성 또는 자외선 경화성 접착제가 바람직하다.
그리고, 상기 지지부(100)는 탄성 물질로 이루어진다.
즉, 제작된 하드(Hard)한 스탬핑부의 전면에는 점착 방지막을 형성시키고, 뒷면에는 열경화성 또는 자외선 경화성 접착제를 도포시킨 후, 그 상부에 고상의 탄성을 갖는 고무 재료를 적층하거나, 액상 고무 소재를 접착제 상부에 부은 후 접착제 및 액상 고무 소재를 함께 경화시키는 공정으로 다층 스탬프를 제작할 수 있다.
도 4는 본 발명에 따른 다층 스탬프가 장착된 나노 임프린트 시스템을 도시 한 단면도로서, 다층 스탬프가 장착된 나노 임프린트 시스템은, 제 1 물질로 이루어진 지지부(100)와, 상기 지지부(100)에 형성되고 상기 제 1 물질보다 경도(hardeness)가 큰 제 2 물질로 이루어진 스탬핑부(200)와, 상기 스탬핑부(200)에 코팅된 점착(粘着) 방지용 코팅막(210)으로 이루어진 다층 스탬프와; 상기 다층 스탬프의 지지부(100)를 진공 흡착시키는 복수개의 진공 흡입공들(310)이 상부에 노출되어 있는 지지대(300)와; 상기 복수개의 진공 흡입공들(310)과 연결되어 있는 진공 펌프(400)와; 상기 스탬핑할 대상물을 가압할 수 있으며, 광원(610)이 부착된 롤러(600)로 구성된다.
이렇게 구성된 다층 스탬프가 장착된 나노 임프린트 시스템으로 나노 인프린트 공정을 수행하려면, 먼저, 상기 지지대(300)에 노출된 복수개의 진공 흡입공들(310)에 전술된 다층 스탬프의 지지부(100)를 밀착시키고, 상기 진공 펌프(400)로 펌핑하여, 상기 다층 스탬프를 복수개의 진공 흡입공들(310)에서 진공 흡입시켜 상기 지지대(300)에 고정시킨다.
그 후, 상기 다층 스탬프의 스탬핑부(200)에 경화성 재료(500)를 도포하고, 스탬핑할 필름을 상기 다층 스탬프의 스탬핑부(200)에 올려놓고, 광원(610)이 부착된 롤러(600)가 지나가며 인프린트 공정을 수행한다.
이때, 상기 광원(610)에서 조사된 광은 상기 롤러(600)가 지나간 영역의 경화성 재료(500)를 경화시키게 된다.
그리고, 상기 롤러(600)에는 반사판(620)이 설치되면, 상기 광원(610)의 광이 외부로 방출되는 것을 방지할 수 있다.
도 5a 내지 5d는 본 발명에 따른 다층 스탬프를 이용하여 표시 패널에 나노 임프린팅 공정을 수행하는 상태를 도시한 단면도로서, 나노 임프린트할 경화용 막(710)이 형성된 표시 패널(700)을 준비한다.(도 5a)
그 후, 제 1 물질로 이루어진 지지부(100)와; 상기 지지부(100)에 형성되고, 상기 제 1 물질보다 경도(hardeness)가 큰 제 2 물질로 이루어진 스탬핑부(200)와; 상기 스탬핑부(200)에 코팅된 점착(粘着) 방지용 코팅막(210)으로 구성된 다층 스탬프를 준비한다.
그 다음, 상기 다층 스탬프를 상기 경화용 막(710)에 가압한다.(도 5b)
이때, 상기 다층 스탬프의 스탬핑부(200)가 상기 경화용 막(710)에 접촉되면서, 가압되는 압력에 의해 상기 스탬핑부(200)가 상기 경화용 막(710)을 누르게 되어, 상기 경화용 막(710)에는 상기 스탬핑부(200)의 패턴이 전사되어 상기 표시 패널(700) 상부에는 패턴(711)이 형성된다.
연이어, 상기 표시 패널(700) 상부에 형성된 패턴(711)을 경화시킨다.(도 5c)
상기 경화용 막(710)이 자외선 경화성 물질로 이루어지면, 도 5c에 도시된 바와 같이, 자외선 광을 조사하여, 상기 표시 패널(700) 상부에 형성된 패턴(711)을 경화시킨다.
마지막으로, 상기 다층 스탬프를 상기 표시 패널(700) 상부에 형성된 패턴(711)으로부터 이탈시킨다.(도 5d)
상기 다층 스탬프의 이탈로, 상기 표시 패널(700) 상부에는 패턴(711)만 남게 된다.
이와 같이, 본 발명의 다층 스탬프로 표시 패널에 나노 임프린팅 공정을 수행할 수 있게 된다.
도 6은 본 발명에 따라 플렉서블(Flexible)한 다층 스탬프로 표시 패널에 나노 임프린팅 공정을 수행하는 상태를 도시한 단면도로서, 전술된 다층 스탬프의 구조에서, 극히 얇은 두께로 스탬핑부를 만들고, 지지부도 얇은 두께로 만들게 되면, 다층 스탬프는 플렉서블한 상태가 된다.
그런, 플렉서블한 다층 스탬프로 표시 패널(700)에 나노 임프린팅 공정을 수행할 수 있다.
즉, 표시 패널(700)에 경화성 재료(500)를 도포하고, 플렉서블한 다층 스탬프(800)를 상기 경화성 재료(500)에 올려놓고, 도 4에 도시된 광원(610)이 부착된 롤러(600)로 상기 플렉서블한 다층 스탬프(800)를 가압하면서 인프린트 공정을 수행할 수 있다.
이때도, 상기 광원(610)에서 광을 조사하게 되면, 상기 롤러(600)가 지나간 영역의 경화성 재료(500)가 경화되는 것이다.
이상 상술한 바와 같이, 본 발명은 하드(Hard)한 스탬핑부와 탄성을 갖는 소 프트(Soft)한 지지부의 이중 구조의 다층 스탬프를 구현하여, 유연성이 우수하여 대상물의 불균일한 상태를 보정하여 균일한 패턴을 형성할 수 있는 효과가 있다.
또한, 본 발명은 다층 스탬프로 대면적 대상물에도 균일한 압력을 인가할 수 있어 균일한 패턴을 형성할 수 있는 효과가 있다.
더불어, 본 발명은 다층 스탬프의 지지부가 탄성 물질로 이루어져 진공에 의한 밀착성을 향상시킬 수 있으므로, 원활한 패터닝 공정을 수행할 수 있는 효과가 있다.
본 발명은 구체적인 예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.

Claims (11)

  1. 제 1 물질로 이루어진 지지부와;
    상기 지지부에 형성되고, 상기 제 1 물질보다 경도(hardeness)가 큰 제 2 물질로 이루어진 스탬핑부와;
    상기 스탬핑부에 코팅된 점착(粘着) 방지용 코팅막으로 구성된 다층 스탬프.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 스탬핑부는,
    상기 지지부에 접착제를 이용한 접착되어 있는 것을 특징으로 하는 다층 스탬프.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 접착제는,
    열경화성 또는 자외선 경화성 접착제인 것을 특징으로 하는 다층 스탬프.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 물질은 탄성력을 갖는 물질인 것을 특징으로 하는 다층 스탬프.
  5. 제 1 물질로 이루어진 지지부를 준비하는 단계와;
    상기 제 1 물질보다 경도가 큰 제 2 물질로 이루어진 스탬핑부를 준비하는 단계와;
    상기 스탬핑부에 코팅된 점착 방지용 물질을 코팅하여 점착 방지용 코팅막을 형성하는 단계와;
    상기 스탬핑부를 접착제를 이용한 상기 지지부에 접착시키는 단계로 이루어진 다층 스탬프의 제조 방법.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 점착 방지용 코팅막은,
    자기 조립 모노층(Self assembled monolayer)인 것을 특징으로 하는 다층 스탬프의 제조 방법.
  7. 제 5 항에 있어서,
    상기 제 1 물질은 탄성 고무이고,
    상기 제 2 물질은 금속, 실리콘과 퀄츠 중 하나인 것을 특징으로 하는 다층 스탬프의 제조 방법.
  8. 제 1 물질로 이루어진 지지부와, 상기 지지부에 형성되고 상기 제 1 물질보다 경도가 큰 제 2 물질로 이루어진 스탬핑부와, 상기 스탬핑부에 코팅된 점착 방지용 코팅막으로 이루어진 다층 스탬프와;
    상기 다층 스탬프의 지지부를 진공 흡착시키는 복수개의 진공 흡입공들이 상부에 노출되어 있는 지지대와;
    상기 복수개의 진공 흡입공들과 연결되어 있는 진공 펌프와;
    상기 스탬핑할 대상물을 가압할 수 있으며, 광원이 부착된 롤러로 구성된 다층 스탬프가 장착된 나노 임프린트 시스템.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 롤러에,
    상기 광원의 광이 외부로 방출되는 것을 방지할 수 있는 반사판이 더 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 다층 스탬프가 장착된 나노 임프린트 시스템.
  10. 나노 임프린트할 경화용 막이 형성된 표시 패널을 준비하는 단계와;
    제 1 물질로 이루어진 지지부와, 상기 지지부에 형성되고 상기 제 1 물질보다 경도가 큰 제 2 물질로 이루어진 스탬핑부와, 상기 스탬핑부에 코팅된 점착 방지용 코팅막으로 이루어진 다층 스탬프를 준비하는 단계와;
    상기 다층 스탬프를 상기 경화용 막에 가압하여, 상기 표시 패널 상부에 형성된 패턴을 형성하는 단계와;
    상기 표시 패널 상부에 형성된 패턴을 경화시키는 단계와;
    상기 다층 스탬프를, 상기 표시 패널 상부에 형성된 패턴으로부터 이탈시키는 단계로 이루어진 다층 스탬프를 이용한 표시 패널에 나노 임프린팅하는 방법.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 다층 스탬프는 플렉서블(Flexible)한 것을 특징으로 하는 다층 스탬프를 이용한 표시 패널에 나노 임프린팅하는 방법.
KR1020060139006A 2006-12-29 2006-12-29 다층 스탬프와 그의 제조 방법, 다층 스탬프가 장착된나노 임프린트 시스템 및 다층 스탬프를 이용한 표시패널에 나노 임프린팅하는 방법 KR20080062854A (ko)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR101114286B1 (ko) * 2010-10-08 2012-03-05 (주)메카스 나노/마이크로 광소자용 임프린팅 스탬프 이형장치
CN102929100A (zh) * 2012-11-22 2013-02-13 苏州蒙斯威光电科技有限公司 一种可对准卷对卷uv成型的装置及方法
CN103842861A (zh) * 2011-07-28 2014-06-04 Lg伊诺特有限公司 用于纳米压印的模具的制造方法
CN109728054A (zh) * 2019-01-02 2019-05-07 京东方科技集团股份有限公司 显示面板及其制备方法、显示装置

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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