KR20080047797A - Color filter substrate and display apparatus having the same - Google Patents

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Abstract

A color filter substrate and a display device including the same are provided to improve display quality and the reliability of a fabrication process. The first base substrate(110) includes pixel regions defined thereon. A color layer(220) includes color filters formed on the pixel regions. A transparent metal film(240) is formed on the color layer and scatters static electricity. A common electrode layer(260) is formed on the first base substrate including the color layer and the transparent metal film. A planarization film(230) is formed between the transparent metal film and the common electrode layer and made of an insulation material. The planarization film is formed between the color layer and the transparent metal film. An insulating layer(250) is formed between the transparent metal film and the common electrode layer.

Description

컬러필터 기판 및 이를 포함하는 표시 장치{COLOR FILTER SUBSTRATE AND DISPLAY APPARATUS HAVING THE SAME}COLOR FILTER SUBSTRATE AND DISPLAY APPARATUS HAVING THE SAME}

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 단면도이다.1 is a cross-sectional view of a display device according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 패널의 평면도이다.2 is a plan view of a display panel according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 3은 도 2의 I-I’라인 및 Ⅱ-Ⅱ′라인을 따라 절단한 단면도이다.3 is a cross-sectional view taken along lines II ′ and II-II ′ of FIG. 2.

도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 패널의 단면도이다.4 is a cross-sectional view of a display panel according to another exemplary embodiment of the present invention.

도 5a 및 도 5b는 본 발명의 또 다른 실시예들을 도시한 컬러필터 기판의 단면도들이다. 5A and 5B are cross-sectional views of a color filter substrate illustrating still other embodiments of the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

500 : 표시 장치 100 : 박막 트랜지스터 기판500 display device 100 thin film transistor substrate

200 : 컬러필터 기판 102, 202 : 제1, 제2 편광판200: color filter substrate 102, 202: first and second polarizing plates

162a, 162b, 162c : 제1 화소 전극 163 : 제1 절개 패턴162a, 162b, and 162c: first pixel electrode 163: first cut pattern

164a, 1624b, 164c : 제2 화소 전극 204 : 정전기 방지막164a, 1624b, and 164c: second pixel electrode 204: antistatic film

240, 242, 244 : 제1, 제2, 제3 투명 금속막240, 242, 244: first, second and third transparent metal films

250 : 절연층 260, 262 : 제1, 제2 공통 전극층250: Insulation layer 260, 262: First and second common electrode layers

263 : 제2 절개 패턴263: second incision pattern

본 발명은 컬러필터 기판 및 이를 포함하는 표시 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 표시 품질 및 제조 공정의 신뢰성을 향상시킬 수 있는 컬러필터 기판 및 이를 포함하는 표시 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a color filter substrate and a display device including the same, and more particularly, to a color filter substrate and a display device including the same, which can improve display quality and reliability of a manufacturing process.

일반적으로, 액정표시장치는 영상을 표시하는 액정표시패널과, 상기 액정표시패널로 광을 제공하는 백라이트 어셈블리와, 상기 액정표시패널과 상기 백라이트 어셈블리를 수납하는 수납 용기를 포함한다. In general, a liquid crystal display includes a liquid crystal display panel displaying an image, a backlight assembly providing light to the liquid crystal display panel, and a storage container housing the liquid crystal display panel and the backlight assembly.

상기 액정표시패널은 스위칭 소자들을 포함하는 박막 트랜지스터 기판과, 상기 박막 트랜지스터 기판과 대향하고 컬러필터들을 포함하는 컬러필터 기판과, 상기 박막 트랜지스터 기판 및 상기 컬러필터 기판 사이에 개재되어 형성된 액정층을 포함한다. 상기 액정표시패널로 유입되는 광을 편광시키기 위해서 상기 액정표시패널의 외측면에는 각각 편광판이 배치된다. The liquid crystal display panel includes a thin film transistor substrate including switching elements, a color filter substrate facing the thin film transistor substrate and including color filters, and a liquid crystal layer interposed between the thin film transistor substrate and the color filter substrate. do. Polarizers are disposed on outer surfaces of the liquid crystal display panel to polarize light flowing into the liquid crystal display panel.

상기 액정표시패널의 제조 공정에서 다양한 경로로 상기 액정표시패널의 표면에 전하들이 유입되고, 상기 유입된 전하들이 상기 액정표시패널의 외부로 방출되지 못하고 축적됨으로써 상기 액정표시패널의 표면에 정전기가 발생한다. 상기 정전기는 상기 액정표시패널의 일부분 또는 전면에 걸쳐 정전기 얼룩으로 시인된다. 상기와 같은 현상이 오래 지속되는 경우, 액정표시패널의 불량을 검사하는데 방해가 될 뿐만 아니라, 양품으로 출하된 경우에도 제품의 신뢰성을 저하시키는 요 인이 된다.In the manufacturing process of the liquid crystal display panel, charges are introduced into the surface of the liquid crystal display panel through various paths, and the charged charges are accumulated without being discharged to the outside of the liquid crystal display panel, thereby generating static electricity on the surface of the liquid crystal display panel. do. The static electricity is recognized as a static stain over a portion or the entire surface of the liquid crystal display panel. If such a phenomenon persists for a long time, it not only prevents the defect of the LCD panel from being inspected, but also causes the reliability of the product even when shipped as a good product.

상기와 같은 정전기 얼룩을 방지하기 위해 상기 컬러필터 기판에 접착된 상기 편광판에 AS(Anti-Static) 처리를 함으로써 상기 편광판 표면의 저항을 줄이고, 상기 편광판과 상기 액정표시장치의 상기 수납 용기를 접지하여 상기 수납 용기를 통해 상기 액정표시패널의 정전기가 외부로 방출된다. 그러나, 상기 접지를 통해서 정전기 얼룩의 발생을 방지하는데는 한계가 있고, 상기 액정표시패널의 내부에도 정전기 발생 방지를 위한 조치가 요구된다.In order to prevent such electrostatic staining, the polarizing plate adhered to the color filter substrate is subjected to an anti-static treatment to reduce the resistance of the surface of the polarizing plate, and to ground the polarizing plate and the storage container of the liquid crystal display device. Static electricity of the liquid crystal display panel is discharged to the outside through the storage container. However, there is a limit in preventing generation of static electricity through the ground, and measures for preventing static electricity are required in the liquid crystal display panel.

이에, 본 발명의 기술적 과제는 이러한 점에서 착안된 것으로 본 발명의 목적은 정전 방전을 통해 정전기 얼룩의 발생을 방지하여 표시 품질을 향상시킨 컬러필터 기판을 제공하는 것이다.Accordingly, the technical problem of the present invention was conceived in this respect, and an object of the present invention is to provide a color filter substrate having improved display quality by preventing generation of electrostatic stains through electrostatic discharge.

본 발명의 다른 목적은 상기 컬러필터 기판을 포함하는 표시 장치를 제공하는 것이다. Another object of the present invention is to provide a display device including the color filter substrate.

상기한 본 발명의 목적을 실현하기 위한 실시예에 따른 컬러필터 기판은 화소 영역들이 정의된 베이스 기판과, 상기 화소 영역들 상에 형성된 컬러필터들을 포함하는 컬러층과, 상기 컬러층 상에 형성되어 정전기를 분산시키는 투명 금속막과, 상기 컬러층 및 상기 투명 금속막을 포함하는 상기 베이스 기판 상에 형성된 공통 전극층을 포함한다.The color filter substrate according to the embodiment for realizing the object of the present invention is formed on the color layer including a base substrate defined pixel areas, a color layer including color filters formed on the pixel areas; A transparent metal film dispersing static electricity, and a common electrode layer formed on the base substrate including the color layer and the transparent metal film.

상기한 본 발명의 다른 목적을 실현하기 위한 실시예에 따른 컬러필터 기판 을 포함하는 표시 장치는 박막 트랜지스터 기판과, 상기 박막 트랜지스터 기판과 결합하여 액정층을 개재시키고 화소 영역들이 정의된 베이스 기판과, 상기 화소 영역들 상에 형성된 컬러필터들을 포함하는 컬러층과, 상기 컬러층 상에 형성되어 정전기를 분산시키는 투명 금속막과, 상기 컬러층 및 상기 투명 금속막을 포함하는 상기 베이스 기판 상에 형성된 공통 전극층을 포함하는 컬러필터 기판을 갖는 표시 패널, 상기 컬러필터 기판에 부착된 편광판 및 상기 편광판이 부착된 상기 표시 패널의 상부에 배치되어 상기 편광판과 접지(Earth)된 탑 샤시를 포함한다. According to another aspect of the present invention, there is provided a display device including a color filter substrate, a base substrate in which pixel regions are defined by interposing a liquid crystal layer in combination with the thin film transistor substrate, A color layer including color filters formed on the pixel regions, a transparent metal film formed on the color layer to dissipate static electricity, and a common electrode layer formed on the base substrate including the color layer and the transparent metal film The display panel includes a display panel including a color filter substrate, a polarizer attached to the color filter substrate, and a top chassis disposed on an upper portion of the display panel to which the polarizer is attached.

이러한 컬러필터 기판 및 이를 포함하는 표시 장치에 따르면, 상기 투명 금속막에 의해 상기 컬러필터 기판에 발생한 정전기가 상기 투명 금속막의 전면에 분산됨으로써 상기 정전기가 액정층으로 유입되는 것을 방지한다. 이에 따라, 정전기 얼룩의 발생이 방지되어 표시 품질 및 제조 공정의 신뢰성을 향상시킬 수 있다. According to the color filter substrate and the display device including the same, the static electricity generated in the color filter substrate by the transparent metal film is dispersed on the entire surface of the transparent metal film, thereby preventing the static electricity from entering the liquid crystal layer. Accordingly, generation of electrostatic stains can be prevented to improve display quality and reliability of the manufacturing process.

이하, 첨부한 도면들을 참조하여, 본 발명의 바람직한 실시예들을 보다 상세하게 설명하고자 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 단면도이다.1 is a cross-sectional view of a display device according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 패널의 평면도이다.2 is a plan view of a display panel according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 3은 도 2의 I-I’라인 및 Ⅱ-Ⅱ′라인을 따라 절단한 단면도이다.3 is a cross-sectional view taken along lines II ′ and II-II ′ of FIG. 2.

도 1 내지 도 3을 참조하면, 표시 장치(500)는 영상을 표시하기 위한 표시 패널(100, 102, 200, 202)과, 상기 표시 패널(100, 102, 200, 202)의 하부에 위치하여 상기 표시 패널(100, 102, 200, 202)로 광을 제공하는 백라이트 어셈블리(300)와, 상기 표시 패널(100, 102, 200, 202) 및 상기 백라이트 어셈블리(300) 를 수납하는 수납 용기(410)와, 상기 표시 패널(100, 102, 200, 202)의 상부에 배치된 탑 샤시(420)를 포함한다.1 to 3, the display device 500 is positioned below the display panels 100, 102, 200, and 202 for displaying an image and below the display panels 100, 102, 200, and 202. A backlight assembly 300 that provides light to the display panels 100, 102, 200, and 202, and a storage container 410 that accommodates the display panels 100, 102, 200, and 202 and the backlight assembly 300. ) And a top chassis 420 disposed on the display panels 100, 102, 200, and 202.

상기 표시 패널(100, 102, 200, 202)은 상기 백라이트 어셈블리와 인접한 박막 트랜지스터 기판(100)과, 상기 박막 트랜지스터 기판(100)과 대향하는 컬러필터 기판(200)과, 상기 박막 트랜지스터 기판 및 상기 컬러필터 기판 사이에 개재되어 형성된 액정층(미도시)을 포함한다. 상기 표시 패널(100, 102, 200, 202)은 상기 표시 패널(100, 102, 200, 202)의 외측에 부착된 제1 및 제2 편광판(102, 202)을 포함한다. 상기 박막 트랜지스터 기판(100)에 부착된 편광판을 제1 편광판(102)으로, 상기 컬러필터 기판(200)에 부착된 편광판을 제2 편광판(202)으로 지칭한다.The display panels 100, 102, 200, and 202 may include a thin film transistor substrate 100 adjacent to the backlight assembly, a color filter substrate 200 facing the thin film transistor substrate 100, the thin film transistor substrate, and the thin film transistor substrate 100. It includes a liquid crystal layer (not shown) formed between the color filter substrate. The display panels 100, 102, 200, and 202 include first and second polarizers 102 and 202 attached to the outside of the display panels 100, 102, 200, and 202. The polarizer attached to the thin film transistor substrate 100 is referred to as a first polarizer 102 and the polarizer attached to the color filter substrate 200 is referred to as a second polarizer 202.

상기 박막 트랜지스터 기판(100)은 제1 베이스 기판(110) 상에 형성되고 서로 교차하여 복수의 화소 영역들(RP, GP, BP)을 구획하는 게이트 배선들(GLn, GLn+1) 및 소스 배선들(DLm, DLm+1, DLm+2, DLm+3)을 포함한다. 제1 및 제2 게이트 배선(GLn, GLn+1)이 각각 제1 방향으로 연장되고, 상기 제1 방향과 수직한 제2 방향으로 평행하게 병렬로 배열된다. 제1, 제2, 제3 및 제4 소스 배선(DLm, DLm+1, DLm+2, DLm+3)이 각각 상기 제2 방향으로 연장되고, 상기 제1 방향으로 평행하게 병렬로 배열된다. 상기 복수의 화소 영역들은 예를 들어, 서로 인접한 레드 화소 영역(RP), 그린 화소 영역(GP) 및 블루 화소 영역(BP)을 포함한다.The thin film transistor substrate 100 is formed on the first base substrate 110 and intersects each other with gate wirings GLn and GLn + 1 and source wirings that define a plurality of pixel regions RP, GP, and BP. (DLm, DLm + 1, DLm + 2, DLm + 3). The first and second gate lines GLn and GLn + 1 extend in a first direction, respectively, and are arranged in parallel in parallel in a second direction perpendicular to the first direction. The first, second, third and fourth source wirings DLm, DLm + 1, DLm + 2, and DLm + 3 respectively extend in the second direction and are arranged in parallel in parallel in the first direction. For example, the plurality of pixel areas may include a red pixel area RP, a green pixel area GP, and a blue pixel area BP adjacent to each other.

각 화소 영역(RP, GP, BP)에는 일 게이트 배선(GLn, GLn+1) 및 일 소스 배선(DLm, DLm+1, DLm+2, DLm+3)과 연결된 박막 트랜지스터와, 상기 박막 트랜지스터와 전기적으로 연결된 제1 화소 전극(162a, 162b, 162c)이 형성된다. 상기 레드 화 소 영역(RP)은 상기 컬러필터 기판(200)의 레드 컬러필터를 통해 레드 컬러를, 상기 그린 화소 영역은 그린 컬러필터를 통해 그린 컬러를, 상기 블루 화소 영역은 블루 컬러필터를 통해 블루 컬러를 표현한다.A thin film transistor connected to one gate line GLn, GLn + 1 and one source line DLm, DLm + 1, DLm + 2, DLm + 3 in each pixel region RP, GP, BP; Electrically connected first pixel electrodes 162a, 162b, and 162c are formed. The red pixel region RP uses the red color filter of the color filter substrate 200, the green pixel region uses the green color through the green color filter, and the blue pixel region uses the blue color filter. Express blue color.

상기 박막 트랜지스터들 중, 일례로 상기 레드 화소 영역(RP)에 형성된 박막 트랜지스터(TFT)는 상기 제1 게이트 배선(GLn)과 연결된 게이트 전극(GE)과, 상기 게이트 전극(GE) 상에 형성되고 상기 제1 소스 배선(DLm)과 연결된 소스 전극(SE)과, 상기 게이트 전극(GE) 상에 형성되며 상기 소스 전극(SE)과 이격된 드레인 전극(DE)을 포함한다. 상기 레드 화소 영역(RP)에 형성된 상기 박막 트랜지스터(TFT)는 상기 드레인 전극(DE)의 일단부인 콘택부(CNT)가 노출되어 상기 콘택부(CNT)가 상기 레드 화소 영역(RP)에 형성된 제1 화소 전극(162a)과 접촉함으로써 전기적으로 연결된다.Among the thin film transistors, for example, the thin film transistor TFT formed in the red pixel region RP is formed on the gate electrode GE connected to the first gate line GLn and on the gate electrode GE. A source electrode SE connected to the first source wiring DLm, and a drain electrode DE formed on the gate electrode GE and spaced apart from the source electrode SE. In the thin film transistor TFT formed in the red pixel region RP, a contact portion CNT, which is one end of the drain electrode DE, is exposed, and the contact portion CNT is formed in the red pixel region RP. It is electrically connected by contacting one pixel electrode 162a.

상기 게이트 배선들(GLn, GLn+1)과, 상기 박막 트랜지스터(TFT)의 상기 게이트 전극(GE)을 포함하는 상기 제1 베이스 기판(110) 상에는 게이트 절연층(120)이 형성되고, 상기 게이트 전극(GE) 상의 게이트 절연층(120) 상에는 반도체층(132) 및 오믹 콘택층(134)이 적층된 구조의 반도체 패턴(130)이 형성된다. 상기 소스 배선들(DLm~DLm+3)과, 상기 박막 트랜지스터(TFT)의 상기 소스 전극(SE) 및 드레인 전극(DE)을 포함하는 상기 제1 베이스 기판(110) 상에는 패시베이션층(140) 및 유기층(160)이 순차적으로 적층된다.A gate insulating layer 120 is formed on the first base substrate 110 including the gate lines GLn and GLn + 1 and the gate electrode GE of the thin film transistor TFT. The semiconductor pattern 130 having a structure in which the semiconductor layer 132 and the ohmic contact layer 134 are stacked is formed on the gate insulating layer 120 on the electrode GE. A passivation layer 140 on the first base substrate 110 including the source wirings DLm to DLm + 3 and the source electrode SE and the drain electrode DE of the thin film transistor TFT; The organic layer 160 is sequentially stacked.

상기 컬러필터 기판(200)은 상기 제1 베이스 기판(110)과 대향하는 제2 베이스 기판(210) 상에 형성된 차광 패턴(BM) 및 컬러필터들(CF)을 포함하는 컬러 층(220)과, 상기 컬러층(220)을 포함하는 상기 제2 베이스 기판(210) 상에 형성된 평탄화막(230)과, 상기 평탄화막(230) 상에 형성된 제1 투명 금속막(240), 상기 제1 투명 금속막(240) 상에 형성된 절연층(250) 및 상기 절연층(260) 상에 형성된 제1 공통 전극층(260)을 포함한다. The color filter substrate 200 may include a color layer 220 including a light blocking pattern BM and color filters CF formed on the second base substrate 210 facing the first base substrate 110. And a planarization layer 230 formed on the second base substrate 210 including the color layer 220, a first transparent metal layer 240 formed on the planarization layer 230, and the first transparent layer. An insulating layer 250 formed on the metal layer 240 and a first common electrode layer 260 formed on the insulating layer 260.

상기 컬러층(220)의 상기 차광 패턴(BM)은 상기 박막 트랜지스터 기판(100)의 상기 게이트 배선들(GLn, GLn+1), 상기 소스 배선들(DLm~DLm+3) 및 상기 박막 트랜지스터(TFT)들과 대응한다. 상기 차광 패턴(BM)은 상기 화소 영역들(RP, GP, BP)을 구획하고, 상기 화소 영역들(RP, GP, BP) 및 상기 스위칭 소자(TFT)로 유입되는 외부광을 차단한다.The light blocking pattern BM of the color layer 220 may include the gate lines GLn and GLn + 1, the source lines DLm to DLm + 3, and the thin film transistors of the thin film transistor substrate 100. TFTs). The light blocking pattern BM partitions the pixel areas RP, GP, and BP, and blocks the external light flowing into the pixel areas RP, GP, and BP and the switching element TFT.

상기 컬러층(220)의 상기 컬러필터들(CF)은 상기 차광 패턴(BM)이 구획하는 상기 화소 영역들(RP, GP, BP)에 형성된다. 상기 컬러필터들(CF)은 서로 다른 컬러의 컬러필터들이 반복적으로 배치되어 패턴을 형성한다. 상기 컬러필터들(CF)은 예를 들어, 상기 레드 화소 영역(RP)에 형성된 상기 레드 컬러필터와, 상기 그린 화소 영역(GP)에 형성된 상기 그린 컬러필터와, 상기 블루 화소 영역(BP)에 형성된 상기 블루 컬러필터를 포함한다. The color filters CF of the color layer 220 are formed in the pixel areas RP, GP, and BP defined by the light blocking pattern BM. In the color filters CF, color filters of different colors are repeatedly arranged to form a pattern. The color filters CF may include, for example, the red color filter formed in the red pixel region RP, the green color filter formed in the green pixel region GP, and the blue pixel region BP. It includes the blue color filter formed.

상기 컬러층(220)을 포함하는 상기 제2 베이스 기판(210) 상에는 상기 평탄화막(230)이 형성된다. 상기 평탄화막(230)은 상기 컬러층(220)에서 상기 액정층으로 유기 물질의 용출을 방지하고, 상기 평탄화막(230)을 포함하는 상기 제2 베이스 기판(210) 상에 형성된 상기 제1 공통 전극층(260)의 양호한 커버리지를 위한 층에 해당한다. 상기 평탄화막(230)은 예를 들어, 아크릴 수지로 이루어질 수 있다. 상 기 평탄화막(230)은 경우에 따라 생략될 수 있다.The planarization layer 230 is formed on the second base substrate 210 including the color layer 220. The planarization layer 230 prevents dissolution of an organic material from the color layer 220 to the liquid crystal layer, and the first common layer formed on the second base substrate 210 including the planarization layer 230. Corresponds to the layer for good coverage of electrode layer 260. The planarization layer 230 may be made of, for example, an acrylic resin. The planarization layer 230 may be omitted in some cases.

상기 평탄화막(230)을 포함하는 상기 제2 베이스 기판(210) 상에 상기 제1 투명 금속막(240)이 형성된다. 상기 제1 투명 금속막(240)은 투명한 재질의 도전성이 있는 물질로 이루어진다. 상기 제1 투명 금속막(240)은 예를 들어, 인듐 틴 옥사이드(Indium Tin Oxide : 이하, ITO), 인듐 징크 옥사이드(Indium Zinc Oxide : 이하, IZO)로 이루어질 수 있다. The first transparent metal layer 240 is formed on the second base substrate 210 including the planarization layer 230. The first transparent metal film 240 is made of a conductive material made of a transparent material. The first transparent metal layer 240 may be formed of, for example, indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO).

상기 제1 투명 금속막(240)은 상기 컬러필터 기판(200)의 상기 제2 베이스 기판(210)이 대전되어 상기 컬러필터 기판(200)에 정전기가 발생하는 것을 방지하고, 상기 컬러필터 기판(200)에 발생한 정전기를 분산, 방출시킴으로써 정전기 얼룩의 발생을 방지할 수 있다.The first transparent metal layer 240 prevents the second base substrate 210 of the color filter substrate 200 from being charged and thus generates static electricity in the color filter substrate 200. It is possible to prevent the generation of electrostatic stains by dispersing and dissipating static electricity generated in the 200).

상기 제1 투명 금속막(240)을 포함하는 상기 제2 베이스 기판(210) 상에는 상기 절연층(250)이 형성된다. 상기 절연층(250)은 예를 들어, 질화 실리콘(SiNx)으로 이루어질 수 있다. 상기 절연층(250)은 상기 제1 투명 금속막(240)과 상기 제1 공통 전극층(260) 사이에 형성되어 도전성을 갖는 상기 제1 투명 금속막(240)과 상기 제1 공통 전극층(260)을 절연시킨다.The insulating layer 250 is formed on the second base substrate 210 including the first transparent metal layer 240. The insulating layer 250 may be made of, for example, silicon nitride (SiNx). The insulating layer 250 is formed between the first transparent metal film 240 and the first common electrode layer 260 so that the conductive first transparent metal film 240 and the first common electrode layer 260 are conductive. Insulate

상기 절연층(250)을 포함하는 상기 제2 베이스 기판(210) 상에는 상기 제1 공통 전극층(260)이 형성된다. 상기 제1 공통 전극층(260)은 상기 절연층(250)에 의해서 상기 제1 투명 금속막(240)과 절연된다. 상기 제1 공통 전극층(260)은 투명하고 도전성이 있는 물질로 이루어진다. 상기 제1 공통 전극층(260)은 예를 들어, ITO, IZO 등으로 이루어질 수 있다.The first common electrode layer 260 is formed on the second base substrate 210 including the insulating layer 250. The first common electrode layer 260 is insulated from the first transparent metal film 240 by the insulating layer 250. The first common electrode layer 260 is made of a transparent and conductive material. The first common electrode layer 260 may be formed of, for example, ITO, IZO, or the like.

상기 표시 패널(500)의 상기 제1 편광판(102)은 제1 접착부재(101)에 의해 상기 박막 트랜지스터 기판(100)에 부착된다. 상기 표시 패널(500)의 상기 제2 편광판(202)은 제2 접착부재(201)에 의해 상기 컬러필터 기판(200)에 부착된다. 상기 제2 편광판(202)의 일 면에는 정전기 방지막(204)이 형성된다. 상기 제2 편광판(202)의 상기 일 면은 상기 제2 편광판(202)이 상기 제2 접착부재(201)에 의해 상기 컬러필터 기판(200)과 접촉하는 면의 반대면에 해당한다. 상기 정전기 방지막(204)은 투명한 도전성 물질로 이루어진다. 상기 정전기 방지막(204)은 예를 들어, ITO, IZO 등으로 이루어질 수 있다.The first polarizing plate 102 of the display panel 500 is attached to the thin film transistor substrate 100 by the first adhesive member 101. The second polarizer 202 of the display panel 500 is attached to the color filter substrate 200 by a second adhesive member 201. An antistatic film 204 is formed on one surface of the second polarizing plate 202. The one surface of the second polarizing plate 202 corresponds to an opposite surface of the surface of the second polarizing plate 202 contacting the color filter substrate 200 by the second adhesive member 201. The antistatic film 204 is made of a transparent conductive material. The antistatic film 204 may be formed of, for example, ITO, IZO, or the like.

상기 표시 패널(500)에 형성되어 축적되는 정전기의 발생 원인은 다양하지만, 일례로 상기 제2 편광판(202)을 상기 제2 베이스 기판(210)에 부착시키는 경우에 상기 제2 베이스 기판(210)이 상기 제2 편광판(202)에 의해서 대전되어 정전기가 발생하는 경우가 있다. 구체적으로, 상기 제2 편광판(202)을 상기 제2 베이스 기판(210)에 부착시키기 위해, 상기 제2 편광판(202)과 결합된 상기 제2 접착 부재(203)를 보호하기 위한 필름(미도시)을 상기 제2 접착 부재(203)로부터 박리시키는 과정에서 상기 제2 접착 부재(203)와 접촉된 상기 제2 편광판(202)이 대전되고, 상기 대전된 제2 편광판(202)에 의해서 상기 제2 베이스 기판(210)이 대전됨으로써 정전기가 발생하게 된다. Although the causes of static electricity generated and accumulated in the display panel 500 may vary, for example, when the second polarizing plate 202 is attached to the second base substrate 210, the second base substrate 210 may be attached. The second polarizing plate 202 may be charged to generate static electricity. Specifically, a film for protecting the second adhesive member 203 coupled to the second polarizing plate 202 to attach the second polarizing plate 202 to the second base substrate 210 (not shown). ) And the second polarizing plate 202 in contact with the second adhesive member 203 is charged in the process of peeling the second adhesive member 203 from the second adhesive member 203. As the base substrate 210 is charged, static electricity is generated.

이때, 상기 제2 베이스 기판(210)에 형성된 정전기가 상기 표시 패널(500)의 상기 액정층으로 유입되는 경우에 상기 액정층의 액정 분자들의 거동에 영향을 미치는 결과, 정전기 얼룩으로 시인된다. 그러나, 상기 제1 투명 금속막(240)을 상기 컬러필터 기판(200)에 형성함으로써 상기 제2 베이스 기판(210)에 정전기가 발생하는 것을 방지할 수 있고, 상기 컬러필터 기판(200)에 정전기가 발생한다하더라도 상기 제2 베이스 기판(210)의 전면에 대면적으로 형성된 상기 제1 투명 금속막(240)에 의해 상기 정전기가 분산될 수 있다. In this case, when the static electricity formed on the second base substrate 210 is introduced into the liquid crystal layer of the display panel 500, the static electricity may be recognized as a result of affecting the behavior of the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer. However, by forming the first transparent metal film 240 on the color filter substrate 200, it is possible to prevent static electricity from occurring on the second base substrate 210, and to generate static electricity on the color filter substrate 200. Even if is generated, the static electricity may be dispersed by the first transparent metal film 240 formed on the entire surface of the second base substrate 210.

이에 따라, 상기 정전기가 상기 액정층으로 유입되는 것이 방지되어 정전기 얼룩의 발생을 방지하여 표시 품질을 향상시킬 수 있고, 제조 공정의 신뢰성 또한 향상시킬 수 있다. As a result, the static electricity may be prevented from flowing into the liquid crystal layer to prevent generation of electrostatic stains, thereby improving display quality and improving reliability of a manufacturing process.

도 1에 도시된 바와 같이, 상기 탑 샤시(420)는 상기 표시 패널(100, 102, 200, 202) 및 상기 백라이트 어셈블리(300)를 수납하는 상기 수납 용기(410)와 결합하고, 상기 표시 패널(100, 102, 200, 202)의 상부측에 배치되며, 상기 표시 패널(100, 102, 200, 202)의 표시 영역을 노출시키는 개구를 포함한다. 상기 탑 샤시(420)는 금속 재질로 이루어진다. As shown in FIG. 1, the top chassis 420 is coupled to the storage container 410 that accommodates the display panels 100, 102, 200, and 202 and the backlight assembly 300, and the display panel. It is disposed on the upper side of the (100, 102, 200, 202), and includes an opening for exposing the display area of the display panel (100, 102, 200, 202). The top chassis 420 is made of a metal material.

상기 제2 편광판(202)의 상기 정전기 방지막(204)과, 상기 개구의 주변부에 해당하는 상기 탑 샤시(420)가 서로 인접하게 배치됨으로써 상기 컬러필터 기판(200)의 정전기가 상기 정전기 방지막(204)을 통해 상기 탑 샤시(420)로 전달되어 상기 표시 장치(500)의 외부로 방출된다. The antistatic film 204 of the second polarizing plate 202 and the top chassis 420 corresponding to the periphery of the opening are disposed adjacent to each other so that static electricity of the color filter substrate 200 is prevented from being caused by the antistatic film 204. ) Is transferred to the top chassis 420 and emitted to the outside of the display device 500.

기존과 같이 상기 제2 편광판(202)에 상기 정전기 방지막(204)을 형성하는 것만으로는 상기 정전기에 의해 표시 품질이 저하되는 문제점을 해소하는데 한계가 있으나, 상기 컬러필터 기판(200)에 상기 제1 투명 금속막(240)을 형성함으로써 상기 제1 투명 금속막(240)에 분산된 상기 정전기는 상기 컬러필터 기판(200)에 부착 된 상기 제2 편광판(202)의 상기 정전기 방지막(204)을 통해 쉽게 상기 탑 샤시(420)를 통해 이동할 수 있다. 이에 따라, 상기 정전기에 의한 정전기 얼룩의 발생을 방지할 수 있다.As described above, only forming the antistatic film 204 on the second polarizing plate 202 has a limitation in solving the problem of deterioration of display quality due to the static electricity. The static electricity dispersed in the first transparent metal film 240 by forming the transparent metal film 240 may cause the antistatic film 204 of the second polarizing plate 202 attached to the color filter substrate 200 to be removed. It can be easily moved through the top chassis 420 through. Accordingly, it is possible to prevent the generation of electrostatic stains by the static electricity.

이하, 도 4, 도 5a 및 도 5b에서는 도 3과 동일 구성요소에 대해서 도 3과 동일 도면번호로 도시하였고, 도 3의 구성요소와 동일 명칭으로 설명하기로 한다. Hereinafter, in FIG. 4, FIG. 5A and FIG. 5B, the same components as in FIG. 3 are shown with the same reference numerals as in FIG. 3, and the same names as the components of FIG.

도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 패널의 단면도이다.4 is a cross-sectional view of a display panel according to another exemplary embodiment of the present invention.

도 4를 참조하면, 박막 트랜지스터 기판(100)은 제1 베이스 기판(110) 상에 형성된 게이트 절연층(120)과, 상기 게이트 절연층(120) 상에 형성된 소스 배선들(DLm, DLm+1, DLm+2, DLm+3)과, 상기 소스 배선들(DLm, DLm+1, DLm+2, DLm+3)을 포함하는 상기 제1 베이스 기판(110) 상에 형성된 패시베이션층(140)과, 상기 패시베이션층(140) 상에 형성된 유기층(150)과, 상기 유기층(150) 상에 형성된 제2 화소 전극(164a, 164b, 164c)을 포함한다.Referring to FIG. 4, the thin film transistor substrate 100 may include a gate insulating layer 120 formed on the first base substrate 110 and source wirings DLm and DLm + 1 formed on the gate insulating layer 120. And a passivation layer 140 formed on the first base substrate 110 including the DLm + 2 and DLm + 3 and the source wirings DLm, DLm + 1, DLm + 2 and DLm + 3. And an organic layer 150 formed on the passivation layer 140 and second pixel electrodes 164a, 164b, and 164c formed on the organic layer 150.

상기 제2 화소 전극(164a, 164b, 164c)은 게이트 배선들(미도시)과 상기 소스 배선들(DLm, DLm+1, DLm+2, DLm+3)이 구획하는 화소 영역들의 각 화소 영역에 형성된다. 상기 제2 화소 전극(164a, 164b, 164c)은 상기 각 화소 영역에 형성되어 각 게이트 배선 및 소스 배선과 연결된 박막 트랜지스터(미도시)와 전기적으로 연결된다. 상기 제2 화소 전극(164a, 164b, 164c)은 도전성이 있는 투명한 물질로 이루어진다. 상기 제2 화소 전극(164a, 164b, 164c)은 예를 들어, ITO, IZO 등으로 이루어질 수 있다. The second pixel electrodes 164a, 164b, and 164c may be formed in pixel areas of pixel areas defined by gate lines (not shown) and the source lines DLm, DLm + 1, DLm + 2, and DLm + 3. Is formed. The second pixel electrodes 164a, 164b, and 164c are formed in each pixel area and electrically connected to a thin film transistor (not shown) connected to each gate line and source line. The second pixel electrodes 164a, 164b, and 164c are made of a conductive transparent material. The second pixel electrodes 164a, 164b, and 164c may be formed of, for example, ITO, IZO, or the like.

상기 제2 화소 전극(164a, 164b, 164c)은 액정층의 다중 도메인을 형성하는 제1 절개 패턴(163)을 포함한다. 상기 제1 절개 패턴(163)은 상기 ITO로 이루어진 투명 전극층에, 상기 투명 전극층의 하부에 형성된 상기 유기층을 노출시키는 홀(hole) 형상으로 형성된다. 상기 제2 화소 전극(164a, 164b, 164c)의 상기 제1 절개 패턴(163)은 상기 박막 트랜지스터 기판(100)과 대향하는 컬러필터 기판(200)의 제2 공통 전극층(262)과 함께 액정층에 다중 도메인을 형성하여 광시야각을 실현할 수 있다.The second pixel electrodes 164a, 164b, and 164c include a first cutout pattern 163 forming multiple domains of the liquid crystal layer. The first cut pattern 163 is formed in a hole shape exposing the organic layer formed under the transparent electrode layer to the transparent electrode layer made of ITO. The first cutout pattern 163 of the second pixel electrodes 164a, 164b, and 164c together with the second common electrode layer 262 of the color filter substrate 200 facing the thin film transistor substrate 100 is a liquid crystal layer. A wide viewing angle can be realized by forming multiple domains.

상기 컬러필터 기판(200)은 상기 박막 트랜지스터 기판(100)과 대향하고, 제2 베이스 기판(210) 상에 형성된 차광 패턴(BM) 및 컬러필터들(CF)을 포함하는 컬러층(220)과, 상기 컬러층(220) 상에 형성된 평탄화막(230)과, 상기 평탄화막(230) 상에 형성된 제1 투명 금속막(240)과, 상기 제1 투명 금속막(240) 상에 형성된 절연층(250)과, 상기 절연층(250) 상에 형성된 제2 공통 전극층(262)을 포함한다. The color filter substrate 200 faces the thin film transistor substrate 100 and includes a color layer 220 including a light blocking pattern BM and color filters CF formed on the second base substrate 210. And a planarization film 230 formed on the color layer 220, a first transparent metal film 240 formed on the planarization film 230, and an insulating layer formed on the first transparent metal film 240. And a second common electrode layer 262 formed on the insulating layer 250.

상기 제2 공통 전극층(262)은 상기 제2 베이스 기판(210)의 전면에 형성되어 상기 제2 화소 전극(164a, 164b, 164c)으로부터 전달된 공통 전압을 인가한다. 상기 제2 공통 전극층(262)은 도전성이 있는 투명한 물질로 이루어진다. 상기 제2 공통 전극층(262)은 예를 들어, ITO, IZO 등으로 이루어질 수 있다.The second common electrode layer 262 is formed on the entire surface of the second base substrate 210 to apply a common voltage transferred from the second pixel electrodes 164a, 164b, and 164c. The second common electrode layer 262 is made of a conductive transparent material. The second common electrode layer 262 may be formed of, for example, ITO, IZO, or the like.

상기 제2 공통 전극층(262)은 상기 제2 화소 전극(164a, 164b, 164c)의 상기 제1 절개 패턴(163)과 어긋나게 대응하는 상기 제2 절개 패턴(264)을 포함한다. 상기 제2 절개 패턴은 상기 ITO로 이루어진 투명 전극층에, 상기 투명 전극층의 하부에 형성된 절연층을 노출시키는 홀 형상으로 형성된다. 상기 제1 절개 패턴(163)이 형성하는 서로 인접한 홀들 사이에 상기 제2 절개 패턴(264)이 형성하는 홀이 대응 되어 전계의 흐름이 변형된다.The second common electrode layer 262 includes the second cutout pattern 264 corresponding to the first cutout pattern 163 of the second pixel electrodes 164a, 164b, and 164c. The second cut pattern is formed in a hole shape exposing the insulating layer formed under the transparent electrode layer to the transparent electrode layer made of the ITO. Holes formed by the second cut pattern 264 correspond to holes formed between the adjacent holes formed by the first cut pattern 163 to deform the flow of the electric field.

도면으로 도시하지는 않았으나, 도 4의 상기 박막 트랜지스터 기판(100) 및 상기 컬러필터 기판(200)의 각 외측면에는 상기 도 1 및 도 3에 도시된 바와 같이 각각 제1 및 제2 편광판(102, 202)이 부착된다. 상기 컬러필터 기판(200)에 부착된 상기 제2 편광판(202)에는 도전성 물질로 이루어진 정전기 방지막(204)이 형성되고, 상기 정전기 방지막(204)에 의해 정전기가 상기 제2 편광판(202)으로부터 상기 정전기 방지막(204)을 통해 도 1의 탑 샤시(420)를 거쳐 외부로 방출된다.Although not shown, the first and second polarizers 102, respectively, are shown on the outer surfaces of the thin film transistor substrate 100 and the color filter substrate 200 of FIG. 4, respectively, as shown in FIGS. 1 and 3. 202 is attached. An antistatic film 204 made of a conductive material is formed on the second polarizing plate 202 attached to the color filter substrate 200, and static electricity is discharged from the second polarizing plate 202 by the antistatic film 204. The antistatic layer 204 is discharged to the outside via the top chassis 420 of FIG. 1.

그러나, 상기 정전기 방지막(204)으로는 상기 정전 방전에 한계가 있고, 특히 광시야각 실현을 위한 상기 제2 화소 전극(164a, 164b, 164c)의 상기 제1 절개 패턴(163)과, 상기 제2 공통 전극층(262)의 상기 제2 절개 패턴(264)을 가지는 구조에 있어서는 상기 제2 공통 전극층(262)의 상기 제2 절개 패턴(264)의 주변에 전하가 축적되며, 상기 제2 공통 전극층(262)이 상기 제2 베이스 기판의 전면에 연결되어 형성됨으로써 정전기의 방출이 용이하지 않은 문제점이 있다. 상기 제2 공통 전극층(262)의 상기 제2 절개 패턴(264) 주변에 상기 정전기가 축적된다. However, the antistatic film 204 has a limitation in the electrostatic discharge, and in particular, the first cutout pattern 163 and the second of the second pixel electrodes 164a, 164b, and 164c for realizing a wide viewing angle. In the structure having the second cutout pattern 264 of the common electrode layer 262, charges are accumulated around the second cutout pattern 264 of the second common electrode layer 262, and the second common electrode layer ( 262 is connected to the front surface of the second base substrate, there is a problem that the discharge of static electricity is not easy. The static electricity is accumulated around the second cutting pattern 264 of the second common electrode layer 262.

본 발명에 따르면, 상기 제1 투명 금속막(240)을 형성함으로써 상기 컬러필터 기판(200)이 대전되어 정전기가 발생하는 것을 방지하고, 이미 발생한 정전기라도 상기 제1 투명 금속막(240)에 의해 상기 컬러필터 기판(200)의 전면으로 정전기가 분산되어 상기 액정층으로 상기 정전기가 유입되는 것이 방지된다. 부가적으로, 상기 제1 투명 금속막(240)을 외부 금속 단자(미도시)와 전기적으로 연결하여 접지시킴으로써 효과적으로 상기 컬러필터 기판(200)의 외부로 방출시킬 수 있다. 이에 따라, 정전 방전 특성이 향상되어 표시 품질 및 제조 공정의 신뢰성을 향상시킬 수 있다. According to the present invention, by forming the first transparent metal film 240 to prevent the color filter substrate 200 is charged to generate static electricity, even if the static electricity has already generated by the first transparent metal film 240 Static electricity is dispersed in the entire surface of the color filter substrate 200 to prevent the static electricity from flowing into the liquid crystal layer. In addition, the first transparent metal film 240 may be electrically connected to an external metal terminal (not shown) and grounded, thereby effectively discharging them to the outside of the color filter substrate 200. As a result, the electrostatic discharge characteristics can be improved to improve the display quality and the reliability of the manufacturing process.

도 5a 및 도 5b는 본 발명의 또 다른 실시예들을 도시한 컬러필터 기판의 단면도들이다. 5A and 5B are cross-sectional views of a color filter substrate illustrating still other embodiments of the present invention.

도 5a를 참조하면, 제2 베이스 기판 상에는 차광 패턴(BM) 및 컬러필터들(CF)을 포함하는 컬러층(220)과, 상기 컬러층(220) 상에 형성된 제2 투명 금속막(242)과, 상기 제2 투명 금속막(242) 상에 형성된 평탄화막(230)과, 상기 평탄화막(230) 상에 형성된 제2 공통 전극층(262)이 순차적으로 적층된다.Referring to FIG. 5A, a color layer 220 including a light blocking pattern BM and color filters CF is formed on a second base substrate, and a second transparent metal film 242 formed on the color layer 220. And a planarization film 230 formed on the second transparent metal film 242 and a second common electrode layer 262 formed on the planarization film 230 are sequentially stacked.

상기 제2 투명 금속막(242)은 상기 컬러층(220) 상에 형성되어 상기 제2 베이스 기판(210)이 대전되어 정전기가 발생하는 것을 방지하고, 상기 제2 베이스 기판(210)을 통해 액정층(미도시)으로 정전기가 이동하는 것을 방지한다. 상기 제2 베이스 기판(210)에 형성된 정전기라도 상기 제2 투명 금속막(242) 전체에 분산되어 상기 정전기가 상기 액정층으로 유입되는 것을 최소화한다. 상기 제2 투명 금속막(242)은 투명한 재질의 도전성 물질로 이루어진다. 상기 제2 투명 금속막은(242) 예를 들어, ITO, IZO 등으로 이루어질 수 있다.The second transparent metal layer 242 is formed on the color layer 220 to prevent the second base substrate 210 from being charged and to generate static electricity, and to form a liquid crystal through the second base substrate 210. Prevent static electricity from moving to layers (not shown). Even the static electricity formed on the second base substrate 210 is dispersed throughout the second transparent metal film 242 to minimize the inflow of the static electricity into the liquid crystal layer. The second transparent metal film 242 is made of a conductive material of a transparent material. The second transparent metal film 242 may be formed of, for example, ITO, IZO, or the like.

상기 평탄화막(230)이 상기 제2 투명 금속막(242)과, 상기 제2 공통 전극층(262) 사이에 형성되어 상기 제1 투명 금속막(242) 및 제2 공통 전극층(262)을 절연시킨다. 상기 평탄화막(230)은 예를 들어, 아크릴 수지로 이루어질 수 있다. The planarization film 230 is formed between the second transparent metal film 242 and the second common electrode layer 262 to insulate the first transparent metal film 242 and the second common electrode layer 262. . The planarization layer 230 may be made of, for example, an acrylic resin.

상기 제2 베이스 기판(210)의 상기 컬러층(220) 상에 상기 제2 투명 금속막(242)이 형성된 경우에는 상기 제2 투명 금속막(242) 상에 절연 물질로 이루어진 상기 평탄화막(230)을 형성함으로써 도 3 및 도 4에 도시된 바와 같은 별도의 절연층(250)의 형성을 생략할 수 있다.When the second transparent metal film 242 is formed on the color layer 220 of the second base substrate 210, the planarization film 230 made of an insulating material on the second transparent metal film 242. ), The formation of a separate insulating layer 250 as shown in FIGS. 3 and 4 can be omitted.

도 5b를 참조하면, 제2 베이스 기판(210) 상에는 제3 투명 금속막(244)과, 상기 제3 투명 금속막(244) 상에 형성된 컬러층(220)과, 상기 컬러층(220) 상에 형성된 평탄화막(230)과, 상기 평탄화막(230) 상에 형성된 제2 공통 전극층(262)이 순차적으로 적층된다. Referring to FIG. 5B, the third transparent metal film 244, the color layer 220 formed on the third transparent metal film 244, and the color layer 220 are formed on the second base substrate 210. The planarization film 230 formed in the second layer and the second common electrode layer 262 formed on the planarization film 230 are sequentially stacked.

상기 제3 투명 금속막(244)을 상기 액정층을 형성하는 방향의 상기 제2 베이스 기판(210) 상에 형성하고, 상기 제3 투명 금속막(244) 상에 상기 컬러층(220) 등을 적층시킴으로써 도 3 및 도 4에 도시된 바와 같은 별도의 절연층(250)의 형성을 생략할 수 있다. The third transparent metal film 244 is formed on the second base substrate 210 in the direction of forming the liquid crystal layer, and the color layer 220 and the like are formed on the third transparent metal film 244. By stacking, the formation of a separate insulating layer 250 as shown in FIGS. 3 and 4 can be omitted.

상기 제3 투명 금속막(244)은 상기 제2 베이스 기판(210) 상에 형성되어 상기 제2 베이스 기판(210)이 대전되어 정전기가 발생하는 것을 방지하고, 상기 제2 베이스 기판(210)을 통해 액정층(미도시)으로 정전기가 이동하는 것을 방지한다. 상기 제2 베이스 기판(210)에 형성된 정전기라도 상기 제3 투명 금속막(244) 전체에 분산되어 상기 정전기가 상기 액정층으로 유입되는 것을 최소화할 수 있다. 상기 제3 투명 금속막(244)은 투명한 재질의 도전성 물질로 이루어진다. 상기 제3 투명 금속막은(244) 예를 들어, ITO, IZO 등으로 이루어질 수 있다.The third transparent metal film 244 is formed on the second base substrate 210 to prevent the second base substrate 210 from being charged to generate static electricity, and to prevent the second base substrate 210 from being charged. The static electricity is prevented from moving to the liquid crystal layer (not shown). Even the static electricity formed on the second base substrate 210 may be dispersed throughout the third transparent metal film 244 to minimize the inflow of the static electricity into the liquid crystal layer. The third transparent metal film 244 is made of a conductive material of transparent material. The third transparent metal film 244 may be formed of, for example, ITO, IZO, or the like.

이와 같은 컬러필터 기판 및 이를 포함하는 표시 장치에 따르면, 정전 방전 특성을 향상시키기 위한 상기 투명 금속막에 의해, 상기 컬러필터 기판에 발생한 정전기가 액정층으로 유입되어 정전기 얼룩으로 시인되는 현상을 방지함으로써 표시 품질 및 제조 공정의 신뢰성을 향상시킬 수 있다. According to such a color filter substrate and a display device including the same, by preventing the phenomenon in which static electricity generated in the color filter substrate flows into the liquid crystal layer and is recognized as an electrostatic stain by the transparent metal film for improving electrostatic discharge characteristics, The display quality and the reliability of the manufacturing process can be improved.

이상 실시예들을 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.Although described with reference to the above embodiments, those skilled in the art will understand that various modifications and changes can be made without departing from the spirit and scope of the invention as set forth in the claims below. Could be.

Claims (9)

화소 영역들이 정의된 베이스 기판;A base substrate on which pixel regions are defined; 상기 화소 영역들 상에 형성된 컬러필터들을 포함하는 컬러층;A color layer including color filters formed on the pixel areas; 상기 컬러층 상에 형성되어 정전기를 분산시키는 투명 금속막; 및 A transparent metal film formed on the color layer to disperse static electricity; And 상기 컬러층 및 상기 투명 금속막을 포함하는 상기 베이스 기판 상에 형성된 공통 전극층을 포함하는 컬러필터 기판.And a common electrode layer formed on the base substrate including the color layer and the transparent metal film. 제1항에 있어서, 상기 투명 금속막과 상기 공통 전극층 사이에 형성되고, 절연 물질로 이루어진 평탄화막을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 컬러필터 기판.The color filter substrate of claim 1, further comprising a planarization film formed between the transparent metal film and the common electrode layer and made of an insulating material. 제1항에 있어서, 상기 컬러층과 상기 투명 금속막 사이에 형성된 평탄화막; 및 The semiconductor device of claim 1, further comprising: a planarization film formed between the color layer and the transparent metal film; And 상기 투명 금속막과 상기 공통 전극층 사이에 형성된 절연층을 더 포함하는 컬러필터 기판.The color filter substrate further comprises an insulating layer formed between the transparent metal film and the common electrode layer. 제1항에 있어서, 상기 공통 전극층은The method of claim 1, wherein the common electrode layer 액정층의 다중 도메인을 형성하는 절개 패턴을 포함하는 것을 특징으로 하는 컬러필터 기판.A color filter substrate comprising a cutout pattern forming multiple domains of a liquid crystal layer. 제4항에 있어서, 상기 컬러층은 상기 화소 영역들을 구획하는 차광 패턴을 포함하는 것을 특징으로 하는 컬러필터 기판. The color filter substrate of claim 4, wherein the color layer includes a light shielding pattern that partitions the pixel areas. 박막 트랜지스터 기판과, 상기 박막 트랜지스터 기판과 결합하여 액정층을 개재시키고 화소 영역들이 정의된 베이스 기판과, 상기 화소 영역들 상에 형성된 컬러필터들을 포함하는 컬러층과, 상기 컬러층 상에 형성되어 정전기를 분산시키는 투명 금속막과, 상기 컬러층 및 상기 투명 금속막을 포함하는 상기 베이스 기판 상에 형성된 공통 전극층을 포함하는 컬러필터 기판을 갖는 표시 패널; A color layer comprising a thin film transistor substrate, a base substrate having a liquid crystal layer interposed therebetween and defining pixel regions, a color layer including color filters formed on the pixel regions, and a static electricity formed on the color layer. A display panel having a color filter substrate including a transparent metal film for dispersing and a common electrode layer formed on the base substrate including the color layer and the transparent metal film; 상기 컬러필터 기판에 부착된 편광판; 및A polarizer attached to the color filter substrate; And 상기 편광판이 부착된 상기 표시 패널의 상부에 배치되어 상기 편광판과 접지(Earth)된 탑 샤시를 포함하는 것을 특징으로 하는 표시 장치.And a top chassis disposed on the display panel to which the polarizer is attached, the top chassis being grounded with the polarizer. 제6항에 있어서, 상기 컬러필터 기판은 The method of claim 6, wherein the color filter substrate 상기 투명 금속막과 상기 공통 전극층 사이에 형성되고, 절연 물질로 이루어진 평탄화막을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 표시 장치.And a planarization layer formed between the transparent metal layer and the common electrode layer and made of an insulating material. 제6항에 있어서, 상기 컬러필터 기판은 The method of claim 6, wherein the color filter substrate 상기 컬러층과 상기 투명 금속막 사이에 형성된 평탄화막; 및 A planarization film formed between the color layer and the transparent metal film; And 상기 투명 금속막과 상기 공통 전극층 사이에 형성된 절연층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 표시 장치.And an insulating layer formed between the transparent metal layer and the common electrode layer. 제6항에 있어서, 상기 편광판의 일면에는 정전기 방지막이 형성되고, According to claim 6, An antistatic film is formed on one surface of the polarizing plate, 상기 정전기 방지막을 통해 상기 탑 샤시로 정전기가 방출되는 것을 특징으로 하는 표시 장치.And static electricity is emitted to the top chassis through the antistatic layer.
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