KR20080020777A - Method for synthesizing bisphenol typed-epoxymethacrylate - Google Patents

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KR20080020777A
KR20080020777A KR1020060084067A KR20060084067A KR20080020777A KR 20080020777 A KR20080020777 A KR 20080020777A KR 1020060084067 A KR1020060084067 A KR 1020060084067A KR 20060084067 A KR20060084067 A KR 20060084067A KR 20080020777 A KR20080020777 A KR 20080020777A
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안종남
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최한영
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Abstract

A method for synthesizing bisphenol-based epoxy methacrylate is provided to simplify the preparation procedures and reduce the production costs and time by carrying out the synthesis through one batch and removing the purification process during the reaction, while the structure and properties of the compound are maintained without change. A method for synthesizing bisphenol-based epoxy methacrylate comprises the steps of: (a) introducing glycidyl methacrylate into bisphenol compound in the presence of a catalyst selected from tertiary amine compound, tertiary phosphorous compound and alkyl ammonium salt; (b) adding epichlorohydrin into the reaction mixture obtained from the step (a) to introduce chlorohydrin group; and (c) adding a base selected from KOH, NaOH, K2CO3 and Na2CO3 into the reaction mixture obtained from the step (b) to proceed a cyclization process of chlorohydrin group.

Description

비스페놀형 에폭시 메타크릴레이트의 합성 방법{METHOD FOR SYNTHESIZING BISPHENOL TYPED-EPOXYMETHACRYLATE}Synthesis method of bisphenol type epoxy methacrylate {METHOD FOR SYNTHESIZING BISPHENOL TYPED-EPOXYMETHACRYLATE}

본 발명은 비스페놀형 에폭시 메타크릴레이트의 신규 합성 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a novel process for the synthesis of bisphenol type epoxy methacrylates.

비스페놀형 에폭시 메타크릴레이트는 접착제, 바인더, 코팅제 등의 다양한 적용분야에 쓰이고 있으며, 그 중 비스페놀 A형 에폭시 메타크릴레이트가 가장 널리 사용되고 있다. 이들의 합성 방법은 하기 반응식 1과 같이 요약될 수 있다(일본 특개 2003-119249 및 일본 특개 2005-002015). Bisphenol-type epoxy methacrylate is used in various applications such as adhesives, binders, coatings, etc. Among them, bisphenol-type epoxy methacrylate is most widely used. Their synthesis method can be summarized as in Scheme 1 below (Japanese Patent Laid-Open No. 2003-119249 and Japanese Patent Laid-Open No. 2005-002015).

<반응식 1><Scheme 1>

Figure 112006063400249-PAT00001
Figure 112006063400249-PAT00001

상기 화학식 1 내지 3에 있어서, X는 CR1R2, NR1, O, S, S=O 또는 O=S=O이고, 여기서 R1 및 R2는 서로 같거나 상이하고, 독립적으로 수소, C1 -6의 직쇄 또는 분지쇄 알킬기, 알킬아세트산기 및 아릴기로 이루어진 군으로부터 선택되고, R3는 에폭시기이며, R4는 글리시딜메타크릴산기이다. In the above Chemical Formulas 1 to 3, X is CR1R2, NR1, O, S, and S = O or O = S = O, where R1 and R2 are the same as or different from each other, are independently hydrogen, a straight-chain of C 1 -6 Or a branched alkyl group, an alkylacetic acid group, or an aryl group, R 3 is an epoxy group, and R 4 is a glycidylmethacrylic acid group.

상기 반응식 1과 같이, 우선 비스페놀 화합물(화학식 2)에 에폭시기를 도입하고, 이어서 비스페놀형 에폭시 수지(화학식 3)의 메타크릴산 부가 반응에 의해 비스페놀형 부분 에폭시 메타크릴레이트 수지를 합성하는 방법이 가장 널리 양산화에 적용되고 있다. As in Scheme 1, first, an epoxy group is introduced into a bisphenol compound (Formula 2), and then a method of synthesizing a bisphenol-type partial epoxy methacrylate resin by methacrylic acid addition reaction of a bisphenol type epoxy resin (Formula 3) is most preferred. It is widely applied to mass production.

그런데, 상기 반응식 1과 같은 비스페놀형 에폭시 메타크릴레이트의 합성 방법에 관한 종래기술은 우선 에폭시화 반응(DE676117, US2,467,171, US2,506,486), 정제, 및 메타크릴산의 부가 반응을 포함하고 있다. 따라서, 이러한 종래기술에 의한 합성법은 2 배치(batch)의 공정 단계를 필요로 하며, 이에 따라 상대적으로 긴 공정 시간과 생산 단가의 상승을 초래하고 있다. 따라서, 판매되는 비스페놀형 에폭시 메타크릴레이트의 가격이 원료비 보다는 생산비에 의해 상승되는 점이 문제점으로 지적되고 있다.By the way, the prior art regarding the synthesis method of bisphenol-type epoxy methacrylate as in Scheme 1 includes the first epoxidation reaction (DE676117, US2,467,171, US2,506,486), purification, and addition reaction of methacrylic acid. . Therefore, this conventional synthesis method requires two batches of process steps, resulting in a relatively long process time and an increase in production cost. Therefore, it is pointed out that the price of the bisphenol-type epoxy methacrylate sold is raised by the production cost rather than the raw material cost.

전술한 종래기술의 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명에서는 종래에 2 배치로 진행되던 방법을 1 배치로 진행가능함으로써 생산시 공정을 단순화하여 생산단가를 낮출 수 있는 비스페놀형 에폭시 메타크릴레이트의 합성 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. In order to solve the above problems of the prior art, in the present invention, a method of synthesizing a bisphenol-type epoxy methacrylate, which can reduce the production cost by simplifying the production process by proceeding with a conventional batch process in two batches. The purpose is to provide.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 In order to achieve the above object, the present invention

a) 비스페놀 화합물에 글리시딜메타크릴레이트를 도입하는 단계, a) introducing glycidyl methacrylate into a bisphenol compound,

b) 상기 a) 단계에서 얻은 반응 혼합물에 에피클로로히드린을 첨가하여 클로로히드린기를 도입하는 단계, 및b) introducing chlorohydrin groups by adding epichlorohydrin to the reaction mixture obtained in step a), and

c) 상기 b) 단계에서 얻은 반응 혼합물에 염기를 첨가하여 클로로히드린기의 고리형성반응을 진행하는 단계c) adding a base to the reaction mixture obtained in step b) to proceed with the cyclization reaction of the chlorohydrin group

를 포함하는 비스페놀형 에폭시 메타크릴레이트의 합성 방법을 제공한다. It provides a method for synthesizing bisphenol-type epoxy methacrylate comprising a.

이하에서 본 발명을 상세히 설명한다. Hereinafter, the present invention will be described in detail.

본 발명에 따른 비스페놀형 에폭시 메타크릴레이트의 합성 방법은 하기 반응식 2로 예시될 수 있다. Synthesis method of bisphenol-type epoxy methacrylate according to the present invention can be illustrated by the following scheme 2.

<반응식 2><Scheme 2>

Figure 112006063400249-PAT00002
Figure 112006063400249-PAT00002

상기 화학식 1, 2, 4 및 5에 있어서, X는 CR1R2, NR1, O, S, S=O 또는 O=S=O이고, 여기서 R1 및 R2는 서로 같거나 상이하고, 독립적으로 수소, C1 -6의 직쇄 또는 분지쇄 알킬기, 알킬아세트산기 및 아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 다. 상기 C1 -6의 직쇄 또는 분지쇄 알킬기로는 메틸기, 에틸기, 이소프로필기 등이 있고, 상기 아릴기로는 치환 또는 비치환된 페닐기, 5환 또는 6환의 방향족고리의 퓨즈된 아릴기 등이 있다. In Chemical Formulas 1, 2, 4, and 5, X is CR 1 R 2, NR 1, O, S, S═O or O = S═O, wherein R 1 and R 2 are the same as or different from each other, and independently hydrogen, C 1 -6 is selected from the group consisting of a straight or branched chain alkyl group, an alkylacetic acid group and an aryl group. A straight or branched chain alkyl groups of the C 1 -6 may include a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, wherein the aryl group include a substituted or unsubstituted phenyl group, a 5-ring or 6-ring of the fused aryl ring group .

상기 반응식 2의 각 단계를 구체적으로 설명하면, 우선 상기 a) 단계는 비스페놀 화합물에 글리시딜메타크릴레이트를 도입하는 단계이다. 상기 a) 단계에서 사용되는 비스페놀 화합물은 상기 화학식 2와 같은 화합물을 사용할 수 있다. 상기 글리시딜메타크릴레이트(GMA)로는 상업적으로 판매되는 화합물을 사용할 수 있다. Referring to each step of Scheme 2 in detail, step a) is a step of introducing glycidyl methacrylate to the bisphenol compound. As the bisphenol compound used in step a), a compound such as Chemical Formula 2 may be used. As the glycidyl methacrylate (GMA), a commercially available compound may be used.

상기 a) 단계의 반응은 반응용매 없이도 진행될 수 있고, 반응용매를 사용하여 진행될 수도 있다. 반응용매를 사용하는 경우, 반응의 선택성을 높이기 위히야 적당량, 바람직하게는 반응물의 100 중량부에 대하여 100~500 중량부의 용매를 사용하는 것이 바람직하다. 용매로서는 상기 a) 단계의 반응이 80℃ 이상에서 진행되는 반응이므로 끓는점이 80℃ 이상인 용매를 사용하는 것이 좋다. 상기 반응용매로서는 DMF(디메틸포름아미드)나 아세토니트릴을 사용하는 것이 바람직하다. The reaction of step a) may proceed without a reaction solvent, or may be performed using a reaction solvent. When using a reaction solvent, in order to increase the selectivity of the reaction, it is preferable to use a solvent in an appropriate amount, preferably 100 to 500 parts by weight based on 100 parts by weight of the reactants. As the solvent, since the reaction of step a) proceeds at 80 ° C or higher, it is preferable to use a solvent having a boiling point of 80 ° C or higher. It is preferable to use DMF (dimethylformamide) or acetonitrile as the reaction solvent.

상기 a) 단계의 반응은 80℃ 이상에서 이루어질 수 있다. 또한, a) 단계에서 반응기의 외부온도는 반응의 선택성에 영향을 미치는데, 용매로 DMF를 이용하고, 반응기의 외부온도가 120℃ 이상일 경우 반응은 30분내에 종결되나, 반응 부산물의 비율이 높아지므로, 반응기의 외부온도를 120℃ 이하, 바람직하게는 100℃ 이하로 유지하고 반응을 진행하는 것이 바람직하다. 상기 반응의 시간은 특별히 한정되지 않으나, 1시간 이상 6시간 이하로 하는 것이 바람직하다. The reaction of step a) can be made at 80 ℃ or more. In addition, the external temperature of the reactor in the step a) affects the selectivity of the reaction. If DMF is used as the solvent and the reaction temperature is over 120 ° C, the reaction is terminated within 30 minutes, but the ratio of reaction by-products is high. Therefore, it is preferable to maintain the external temperature of the reactor at 120 ° C. or lower, preferably 100 ° C. or lower, and proceed with the reaction. Although the time of the said reaction is not specifically limited, It is preferable to set it as 1 hour or more and 6 hours or less.

상기 a) 단계의 반응에 사용되는 촉매로서, 3급 아민 화합물, 3급 인 화합물, 또는 알킬 암모늄염 등이 사용될 수 있다. 반응속도 및 정제의 용이성을 고려할 때에 테트라부틸암모늄브로마이드, 테트라에틸브로마이드, 테트라부틸 암모늄설페이트가 가장 바람직하다. 상기에서 언급한 바와 같이 반응속도가 빨라지면, 부반응이 상대적으로 많이 진행되므로, 촉매의 양은 반응물 중량에 대하여 20wt%가 넘지 않도록 하는 것이 바람직하다. As the catalyst used in the reaction of step a), a tertiary amine compound, tertiary phosphorus compound, alkyl ammonium salt, or the like may be used. In view of the reaction rate and the ease of purification, tetrabutylammonium bromide, tetraethylbromide and tetrabutyl ammonium sulfate are most preferred. As mentioned above, when the reaction rate increases, the side reaction proceeds relatively much, so that the amount of the catalyst is preferably not more than 20wt% based on the weight of the reactant.

상기 a) 단계에서 사용되는 글리시딜메타크릴레이트(GMA)의 당량 수는 상기 화학식 1의 화합물에 요구되는 에폭시 당량을 고려하여 첨가할 수 있다. 즉, 상기 화학식 1의 화합물의 에폭시 당량은 첫 단계인 a) 글리시딜메타크릴레이트의 도입단계에서 조절될 수 있다. 단, 상기 c) 단계의 클로로히드린의 고리 형성 반응 과정에서, 일부의 아크릴로히드린도 고리 형성 반응이 진행되므로, 이를 고려하여 글리시딜메타크릴레이트의 당량수를 결정하여야 한다. 예를 들어, 화학식 1의 화합물과 같이 아크릴레이트와 에폭시의 비율이 50/50인 화합물을 제조시에는 1당량의 글리시딜메타크릴레이트를 사용하는 것이 아니라, 1.1당량 정도의 글리시딜메타크릴레이트를 사용하여야만 원하는 에폭시 당량을 가지는 화합물을 제조할 수 있다. 본 발명에 있어서는 상기와 같이 글리시딜메타크릴레이트의 당량수를 조절함으로써 상기 화학식 1의 화합물의 에폭시 당량은 0.2당량~1.8당량의 범위에서 조절할 수 있다. The equivalent number of glycidyl methacrylate (GMA) used in step a) may be added in consideration of the epoxy equivalent required for the compound of Formula 1. That is, the epoxy equivalent of the compound of Formula 1 may be adjusted in the introduction of a) glycidyl methacrylate, which is the first step. However, the ring formation reaction of the chlorohydrin of step c), since some of the acrylohydrin also undergoes a ring formation reaction, the equivalent number of glycidyl methacrylate should be determined in consideration of this. For example, when preparing a compound in which the ratio of acrylate and epoxy is 50/50, as in the compound of Formula 1, 1 equivalent of glycidyl methacrylate is not used, but about 1.1 equivalent of glycidyl methacryl Only the rate can be used to prepare compounds with the desired epoxy equivalents. In the present invention, by adjusting the equivalent number of glycidyl methacrylate as described above, the epoxy equivalent of the compound of Formula 1 can be adjusted in the range of 0.2 equivalents to 1.8 equivalents.

상기 a) 단계의 그 외 반응조건은 본 명세서에 그 전부가 포함되는 문헌[Synthesis, 2003, No. 16, pp. 2552~2558]에 구체적으로 기재되어 있다. Other reaction conditions of the step a) is described in Synthesis, 2003, No. 16, pp. 2552-2558.

이어서, 상기 b) 단계는 상기 a) 단계 후 별도의 정제 공정을 수행하지 않고 상기 a) 단계에서 얻은 반응 혼합믈에 에피클로로히드린을 첨가하여 클로로히드린기를 도입하는 단계이다. Then, step b) is a step of introducing a chlorohydrin group by adding epichlorohydrin to the reaction mixture obtained in step a) without performing a separate purification process after step a).

에피클로로히드린(ECH)의 부가 반응에도 촉매가 필요하지만, 상기 a) 단계에서 글리시딜메타크릴레이트의 부가 반응을 위하여 첨가된 촉매가 반응 혼합물 내에 존재하므로, 추가적인 촉매 없이 에피클로로히드린(ECH)만을 첨가함으로써, 두 번째 반응은 진행된다. 이와 같이 함으로써 본 발명에 따른 방법은 종래 기술과 달리 1 배치로 수행될 수 있다. A catalyst is also required for the addition reaction of epichlorohydrin (ECH), but since the catalyst added for the addition reaction of glycidyl methacrylate in step a) exists in the reaction mixture, epichlorohydrin ( By adding only ECH), the second reaction proceeds. In this way the method according to the invention can be carried out in one batch, unlike the prior art.

이때 사용되는 에피클로로히드린(ECH)의 양은 반응물인 비스페놀의 1당량에 대하여 2당량이면 충분하지만, 반응속도를 빠르게 하며, 에피클로로히드린(ECH) 도입 반응의 종결을 위하여, 즉 모든 잔존하는 페놀성 히드록시기에 ECH가 도입되는 점을 고려하여 2당량 이상의 ECH를 사용하는 것이 바람직하며, 특히 3~4당량의 에피클로로히드린(ECH)을 사용하는 것이 바람직하다. 상기 b) 단계는 반응기 내부 온도 50~100℃에서 2~4시간 동안 반응하는 것이 바람직하다. In this case, the amount of epichlorohydrin (ECH) used is 2 equivalents to 1 equivalent of the bisphenol as a reactant. However, the amount of epichlorohydrin (ECH) is used to speed up the reaction and to terminate the epichlorohydrin (ECH) introduction reaction. In consideration of the fact that ECH is introduced into the phenolic hydroxy group, it is preferable to use 2 equivalents or more of ECH, and particularly preferably 3 to 4 equivalents of epichlorohydrin (ECH). The step b) is preferably reacted for 2 to 4 hours at 50 ~ 100 ℃ inside the reactor.

마지막 단계로서, 상기 c) 단계는 염기 처리에 의한 클로로히드린기의 고리 형성 반응 단계이다. 이 단계는 20~50wt%의 염기 수용액 3~6당량을 첨가함으로써, 반응은 곧 완결된다. 이때 사용되는 염기로서는 일반적인 강염기를 사용할 수 있고, 바람직하게는 KOH, NaOH, K2CO3, Na2CO3 등이 사용될 수 있다. 상기의 염기들을 사용할 경우에는 모두 강염기 이므로 종류에 상관없이 5분~10분 이내에 반응이 종 결된다.As a final step, step c) is a ring formation reaction step of the chlorohydrin group by base treatment. This step is completed by adding 3 to 6 equivalents of an aqueous 20-50 wt% solution of base. In this case, a general strong base may be used as the base, and preferably KOH, NaOH, K 2 CO 3 , Na 2 CO 3, or the like may be used. In the case of using the above bases, since all are strong bases, the reaction is terminated within 5 to 10 minutes regardless of the type.

이상에서 합성된 상기 화학식 1의 화합물은 일반적인 유기용매에 의한 추출 및 용매 제거에 의하여 얻어질 수 있다. Compound of Formula 1 synthesized above may be obtained by extraction with a common organic solvent and solvent removal.

본 발명에 따라 제조된 화합물은 GPC, 에폭시당량 측정의 방법으로 분석하여, 종래의 2 배치로 진행되는 방법에 의하여 얻어진 화합물과 비교 평가할 수 있다. 본 발명자들은 비교 평가 결과, 본 발명의 방법에 의해 제조된 화합물은 종래의 방법에 의해 제조된 화합물과 거의 동일한 GPC 분석결과와 에폭시 당량을 보임을 확인하였다. The compound prepared according to the present invention can be analyzed by GPC and epoxy equivalent measurement, and compared with the compound obtained by the conventional two batch process. The present inventors confirmed that the compounds prepared by the method of the present invention showed almost the same GPC analysis and epoxy equivalents as the compounds prepared by the conventional method.

이하 실시예에서는 상기 반응식 1의 종래 합성 방법과 반응식 2의 본 발명의 합성 방법에 대한 실제 실험 과정 및 비교 평가 결과를 정리하였다. 그러나, 이하의 실시예는 본 발명의 이해를 위하여 본 발명을 예시하기 위한 것일 뿐, 본 발명의 범위가 하기 실시예의 내용에 의하여 한정되는 것은 아니다. The following examples summarize the actual experimental procedure and comparative evaluation results for the conventional synthesis method of Scheme 1 and the synthesis method of the present invention of Scheme 2. However, the following examples are only for illustrating the present invention for the understanding of the present invention, and the scope of the present invention is not limited by the contents of the following examples.

실시예Example 1 One

비스(4-히드록시페닐)프로판(100g, 0.44mol), TBAB(테트라부틸암모늄브로마이드)(1g), 히드로퀴논(240mg) 및 GMA(44g, 0.31mol, 0.7당량)을 디메틸포름아미드(DMF, 300mL)에 혼합하고, 90℃로 승온하고, 3시간 동안 교반하였다. 이어서, ECH(1.32mol, 121g, 3당량)을 가하고, 추가적으로 동일온도에서 1시간 동안 교반하고, 상온으로 냉각한 뒤, NaOH 20wt% 용액 2당량을 2시간 동안 적가 투입하였다. 적가 후 1시간 동안 추가 교반한 후, 에틸아세테이트 600mL와 물 600mL를 투입하여 20분 교반하고, 20분 정치하고, 물층 제거 후, 유기층에 Na2SO4 50g을 투입하였다. 30분 동안 교반한 후 여과하고, 용매층은 40℃(물중탕)에서 감압농축하고, 농축액은 70℃에서 12시간 동안 5torr이하의 고진공 펌프를 이용하여 남아있는 ECH를 제거하였다.Bis (4-hydroxyphenyl) propane (100 g, 0.44 mol), TBAB (tetrabutylammonium bromide) (1 g), hydroquinone (240 mg) and GMA (44 g, 0.31 mol, 0.7 equiv) were converted to dimethylformamide (DMF, 300 mL). ), Heated to 90 ° C and stirred for 3 hours. Subsequently, ECH (1.32 mol, 121 g, 3 equiv) was added thereto, further stirred at the same temperature for 1 hour, cooled to room temperature, and then added dropwise 2 equivalents of NaOH 20 wt% solution for 2 hours. After the addition, the mixture was further stirred for 1 hour, 600 mL of ethyl acetate and 600 mL of water were added thereto, stirred for 20 minutes, and left standing for 20 minutes. After removing the water layer, 50 g of Na 2 SO 4 was added to the organic layer. After stirring for 30 minutes, the mixture was filtered, the solvent layer was concentrated under reduced pressure at 40 ° C. (water bath), and the concentrated solution was removed using a high vacuum pump of 5torr or less for 12 hours at 70 ° C.

실시예Example 2 2

GMA(69g, 0.48mol, 1.1당량)을 이용한 것 이외에는 실시예 1과 모두 동일하게 진행하였다.The same procedure was followed as in Example 1 except that GMA (69 g, 0.48 mol, 1.1 equiv) was used.

실시예Example 3 3

GMA(94g, 0.66mol, 1.5당량)을 이용한 것 이외에는 실시예 1과 모두 동일하게 진행하였다.The same procedure was followed as in Example 1 except that GMA (94 g, 0.66 mol, 1.5 equivalents) was used.

비교예Comparative example 1 One

비스(4-글리시딜옥시페닐)프로판(500g, 1.76mol)에 촉매로 트리에틸아민 1g, 중합금지제로서 4-메톡시페놀 2g를 넣고 교반시키면서 80℃로 온도를 상승시켰다. 이어서, 메타크릴산(91g, 1.06mol, 0.6당량)을 1시간 동안 적하시킨 후 5시간 동안 환류 교반시켰다. 얻어진 부분 에폭시 아크릴레이트 수지에 톨루엔(800mL)과 1% 옥살산(300mL)을 넣고 12 시간 교반하고, 수층을 제거하고, 톨루엔층을 농축하여, 4,4-비스(4-글리시독시페닐)-프로판의 부분 에폭시 아크릴레이트를 얻었다.To bis (4-glycidyloxyphenyl) propane (500 g, 1.76 mol), 1 g of triethylamine as a catalyst and 2 g of 4-methoxyphenol as a polymerization inhibitor were added thereto, and the temperature was raised to 80 ° C while stirring. Subsequently, methacrylic acid (91 g, 1.06 mol, 0.6 equiv) was added dropwise for 1 hour, followed by stirring under reflux for 5 hours. Toluene (800 mL) and 1% oxalic acid (300 mL) were added to the obtained partial epoxy acrylate resin, the mixture was stirred for 12 hours, the aqueous layer was removed, the toluene layer was concentrated, and 4,4-bis (4-glycidoxyphenyl)- A partial epoxy acrylate of propane was obtained.

비교예Comparative example 2 2

메타크릴산(152g, 1.76mol, 1.0당량)를 이용한 것 이외에는 비교예 1과 동일 하게 진행하였다.The procedure was the same as in Comparative Example 1 except that methacrylic acid (152 g, 1.76 mol, 1.0 equivalent) was used.

비교예Comparative example 3 3

메타크릴산(213g, 2.46mol, 1.4당량)를 이용한 것 이외에는 비교예 1과 동일하게 진행하였다.It proceeded similarly to the comparative example 1 except using methacrylic acid (213g, 2.46mol, 1.4 equivalent).

종래기술과 신규 합성 방법에 의해 제조된 화합물 1의 평가 비교.Comparison of Evaluation of Compound 1 Prepared by the Prior Art and Novel Synthetic Methods. GMA 당량수GMA equivalent GPC 면적비(A:B:C:D)GPC Area Ratio (A: B: C: D) 에폭시 당량Epoxy equivalent weight 실시예 1Example 1 0.70.7 4.1:11.7:36.3:47.64.1: 11.7: 36.3: 47.6 1.381.38 실시예 2Example 2 1.11.1 5.4:24.3:46.3:23.25.4: 24.3: 46.3: 23.2 1.01.0 실시예 3Example 3 1.51.5 6.0:49.3:34.3:10.16.0: 49.3: 34.3: 10.1 0.650.65 비교예 1Comparative Example 1 0.60.6 2.3:10.7:37.1:49.72.3: 10.7: 37.1: 49.7 1.421.42 비교예 2Comparative Example 2 1.01.0 4.4:24.6:47.3:22.94.4: 24.6: 47.3: 22.9 1.021.02 비교예 3Comparative Example 3 1.41.4 5.8:47.1:36.5:9.95.8: 47.1: 36.5: 9.9 0.610.61

<GPC 분석조건 및 결과 해석><GPC analysis conditions and results interpretation>

- 분석조건-Analysis conditions

주입(Injection) : 20 ㎛ 컬럼(Column) : PLgel 5 ㎛ 500 Å(PLgel, 입경 5 ㎛, 포어 타입(Pore type) 500 Å), 길이/I.D. 300 × 7.5 mm)  Injection: 20 μm Column: PLgel 5 μm 500 μm (PLgel, particle size 5 μm, Pore type 500 μm), length / I.D. 300 × 7.5 mm)

컬럼 온도 : 40℃  Column temperature: 40 ℃

펌프 압력(Pump pressure) : 28-29 psi  Pump pressure: 28-29 psi

플로우(Flow) : 1.0 ml/min  Flow: 1.0 ml / min

용매 : THF (Tetrahydrofuran)   Solvent: THF (Tetrahydrofuran)

DET : UV 254 nm  DET: UV 254 nm

- 데이터 해석 Data interpretation

A(7.43min, 올리고머), B(7.75min, 디메타크릴레이트), C(8.00min, 에폭시메타크릴레이트), D(7.43min, 디에폭사이드).   A (7.43 min, oligomer), B (7.75 min, dimethacrylate), C (8.00 min, epoxy methacrylate), D (7.43 min, diepoxide).

<에폭시 당량 측정방법><Method of measuring epoxy equivalent>

- 장비- equipment

전위차 적정기(Metrohm 736GP Titrino)  Potentiometric Titrator (Metrohm 736GP Titrino)

전극: Metrohm 사제 Ag Titrode(part #. 6.0430.100)  Electrode: Ag Titrode from Metrohm (part #. 6.0430.100)

- 측정방법- How to measure

1) 0.19g~0.21g의 시료를 0.1mg까지 정확하게 무게를 측정한다.    1) Weigh 0.19g ~ 0.21g sample accurately to 0.1mg.

2) 시료에 0.4M 테트라에틸암모늄 브로마이드-빙초산 용액 50ml를 취하여 녹인다.     2) Take 50 ml of 0.4M tetraethylammonium bromide-glacial acetic acid solution and dissolve it in the sample.

3) 시료를 적정 전 5분 이상 교반시킨다.    3) Stir the sample for at least 5 minutes before titration.

4) 0.1N HClO4-아세트산(비수적정용)로 적정을 수행한다.4) Perform titration with 0.1N HClO 4 -acetic acid (non-aqueous).

5) 계산식    5) Formula

에폭사이드 당량(Epoxide equivalent weight)(g/eq) =       Epoxide equivalent weight (g / eq) =

1000 × 시료의 양(g)/(적정액의 농도(0.1N) × 적정액의 factor × 당량점 까지 소모된 적정액의 양(ml))1000 × amount of sample (g) / (concentration of titrant (0.1N) × titrant solution × amount of titrant consumed up to the equivalence point (ml))

본 발명에 따른 비스페놀형 에폭시 메타크릴레이트의 합성 방법에 의하면, 합성 공정에서 반응이 1 배치로 진행가능하고, 반응 중간의 정제 공정이 필요 없이 정제가 한 번만으로 충분하므로, 상대적으로 공정이 단순함으로써, 생산 기간 및 생산비의 절감 효과를 기대할 수 있다.According to the method for synthesizing the bisphenol-type epoxy methacrylate according to the present invention, since the reaction can proceed in one batch in the synthesis process, and purification is sufficient only once without requiring a purification process in the middle of the reaction, the process is relatively simple. As a result, the reduction in production period and production cost can be expected.

Claims (4)

a) 비스페놀 화합물에 글리시딜메타크릴레이트를 도입하는 단계, a) introducing glycidyl methacrylate into a bisphenol compound, b) 상기 a) 단계에서 얻은 반응 혼합물에 에피클로로히드린을 첨가하여 클로로히드린기를 도입하는 단계, 및b) introducing chlorohydrin groups by adding epichlorohydrin to the reaction mixture obtained in step a), and c) 상기 b) 단계에서 얻은 반응 혼합물에 염기를 첨가하여 클로로히드린기의 고리형성반응을 진행하는 단계c) adding a base to the reaction mixture obtained in step b) to proceed with the cyclization reaction of the chlorohydrin group 를 포함하는 비스페놀형 에폭시 메타크릴레이트의 합성 방법.Synthesis method of bisphenol-type epoxy methacrylate comprising a. 청구항 1에 있어서, 상기 a) 단계는 3급 아민 화합물, 3급 인 화합물 및 알킬 암모늄염 중에서 선택되는 1 이상의 촉매를 사용하는 것인 비스페놀형 에폭시 메타크릴레이트의 합성 방법.The method according to claim 1, wherein the step a) uses at least one catalyst selected from tertiary amine compounds, tertiary phosphorus compounds and alkyl ammonium salts. 청구항 1에 있어서, 상기 a) 내지 c) 단계를 1 배치로 수행하고, 상기 a) 단계와 상기 b) 단계 사이에 별도의 정제를 수행하지 않는 것인 비스페놀형 에폭시 메타크릴레이트의 합성 방법.The method of claim 1, wherein the steps a) to c) are performed in one batch, and no separate purification is performed between the steps a) and b). 청구항 1에 있어서, 상기 c) 단계의 염기는 KOH, NaOH, K2CO3 및 Na2CO3 중에서 선택되는 것인 비스페놀형 에폭시 메타크릴레이트의 합성 방법.The method of claim 1, wherein the base of step c) is selected from KOH, NaOH, K 2 CO 3 and Na 2 CO 3 method of synthesizing bisphenol-type epoxy methacrylate.
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