KR20070107206A - Color filter substrate and liauid crystal display pannel having the same - Google Patents

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KR20070107206A
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Abstract

A color filter substrate and a liquid crystal display panel including the same are provided to prevent bad operation of a gate driving circuit due to a light leakage current by absorbing almost all light reflected from a black matrix surface with a color filter layer formed at a non-display area. A first substrate(10) includes a pixel area including data lines, gate lines, thin film transistors connected with the data lines and the gate lines, and pixel electrodes(108) connected with the thin film transistors; and a peripheral area where a driving circuit is integrated. A second substrate(20) is opposite to the first substrate, and includes a color filter array(202,203,204) formed by regularly arranging a plurality of color filter layers at an area corresponding to the pixel area, a light shielding layer formed at an area corresponding to the peripheral area, and at least one of the plurality of color filter layers. A liquid crystal layer(30) is interposed between the first substrate and the second substrate.

Description

컬러필터 기판 및 이를 포함하는 액정 표시판{COLOR FILTER SUBSTRATE AND LIAUID CRYSTAL DISPLAY PANNEL HAVING THE SAME}COLOR FILTER SUBSTRATE AND LIAUID CRYSTAL DISPLAY PANNEL HAVING THE SAME}

도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 액정표시장치의 박막 트랜지스터 어레이가 형성된 하부기판을 도시한 평면도이다.1 is a plan view illustrating a lower substrate on which a thin film transistor array of a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention is formed.

도 2는 도 1의 비표시영역을 확대한 확대도이다.FIG. 2 is an enlarged view illustrating the non-display area of FIG. 1.

도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 액정표시장치를 나타낸 단면도이다.3 is a cross-sectional view of a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 4는 종래 액정 표시장치의 단면도이다.4 is a cross-sectional view of a conventional liquid crystal display.

본 발명은 컬러필터 기판 및 이를 포함하는 액정 표시판에 관한 것으로, 보다 상세하게는 구동회로의 구동불량을 방지하기 위한 컬러필터 기판과 이를 갖는 액정표시장치에 관한 것이다.The present invention relates to a color filter substrate and a liquid crystal display panel including the same, and more particularly, to a color filter substrate for preventing a driving failure of a driving circuit and a liquid crystal display device having the same.

액정표시장치는 전계를 이용하여 액정의 광투과율을 조절함으로써 화상을 표시하는 장치이다. 이러한 액정표시장치는 액정을 사이에 두고 서로 대향하여 합착된 컬러 필터 기판 및 박막 트랜지스터 기판을 구비한다.A liquid crystal display device is an apparatus for displaying an image by adjusting the light transmittance of a liquid crystal using an electric field. The liquid crystal display includes a color filter substrate and a thin film transistor substrate which are bonded to each other with the liquid crystal interposed therebetween.

컬러 필터 기판은 상부 기판 상에 색구현을 위한 컬러 필터, 빛 샘 방지를 위한 블랙매트릭스 및 액정에 공통전압을 인가하기 위한 공통전극을 포함한다.The color filter substrate includes a color filter for color implementation, a black matrix for preventing light leakage, and a common electrode for applying a common voltage to the liquid crystal on the upper substrate.

박막 트랜지스터 기판은 하부 기판 상에 서로 교차되게 형성된 게이트 라인 및 데이타 라인과, 그들의 교차부에 형성된 박막 트랜지스터, 박막 트랜지스터와 접속된 화소전극을 포함한다. The thin film transistor substrate includes a gate line and a data line formed to cross each other on a lower substrate, a thin film transistor formed at an intersection thereof, and a pixel electrode connected to the thin film transistor.

게이트 구동회로 및 데이터 구동회로는 각각 박막 트랜지스터의 온-오프 상태를 제어하기 위한 게이트 신호 및 화소 전극의 계조 표시를 데이터 신호를 생성하여 게이트 라인 및 데이터 라인에 인가한다.The gate driving circuit and the data driving circuit generate a data signal and apply the gray level display of the pixel electrode and the gate signal for controlling the on-off state of the thin film transistor to the gate line and the data line, respectively.

최근에는 공정효율 및 원가절감을 위해 게이트 구동회로를 박막 트랜지스터 기판에 직접 형성하는 게이트 구동회로 집적 공정이 개발되어 적용되고 있다. 게이트 구동회로는 표시 영역의 박막 트랜지스터와 동일한 구조를 가지는 박막 트랜지스터들을 포함하여 이루어지며, 박막 트랜지스터 기판의 비표시영역에 형성되어 각각의 게이트 라인들과 접속된다.Recently, a gate driving circuit integration process for directly forming a gate driving circuit on a thin film transistor substrate has been developed and applied for process efficiency and cost reduction. The gate driving circuit includes thin film transistors having the same structure as the thin film transistor in the display area, and is formed in the non-display area of the thin film transistor substrate and connected to the respective gate lines.

그런데, 빛 샘을 방지하는 블랙 매트릭스(4)는 크롬 등 금속 재질로 형성되므로 도 4에 도시된 바와 같이, 백 라이트로부터 나온 빛의 일부(1, 2)를 게이트 구동회로의 박막 트랜지스터(3)로 반사시킨다. 이 반사광이 게이트 구동회로의 박막 트랜지스터(3)의 반도체 층에 이르게 되면 빛에 의해 여기된 전자에 의한 누설 전류가 발생하여 구동회로의 구동성능을 저하시키는 문제가 있다.However, since the black matrix 4 that prevents light leakage is formed of a metal material such as chromium, as shown in FIG. 4, a portion of the light 1 and 2 emitted from the backlight is transferred to the thin film transistor 3 of the gate driving circuit. To reflect. When the reflected light reaches the semiconductor layer of the thin film transistor 3 of the gate driving circuit, there is a problem that leakage current due to electrons excited by light is generated and the driving performance of the driving circuit is degraded.

본 발명은 비표시 영역에 형성된 블랙 매트릭스의 반사광을 최소화하여 구동 회로를 구성하는 박막 트랜지스터의 광 누설 전류에 의한 구동 성능 저하를 방지할 수 있는 컬러 필터 기판 및 이를 포함하는 액정 표시장치를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.The present invention provides a color filter substrate capable of minimizing reflected light of a black matrix formed in a non-display area and preventing a deterioration in driving performance due to light leakage current of a thin film transistor constituting a driving circuit, and a liquid crystal display including the same. For that purpose.

상기의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 표시 장치는, 데이터 배선, 게이트 배선, 상기 데이터 및 게이트 배선에 연결된 박막 트랜지스터 및 상기 박막 트랜지스터에 연결된 화소 전극을 포함하는 화소 영역 및 구동회로가 집적된 주변 영역을 포함하는 제1 기판; 상기 제1 기판에 대향하며, 상기 화소 영역에 대응하는 영역에 복수의 컬러 필터 층이 규칙적으로 배열되어 형성된 컬러 필터 어레이, 상기 주변 영역에 대응하는 영역에 형성된 차광층, 및 상기 차광층 위에 형성된 상기 복수의 컬러 필터층 중 적어도 하나를 포함하는 제2 기판; 및상기 제1 기판 및 제2 기판의 사이에 개재되는 액정층을 포함한다. In order to achieve the above object, a liquid crystal display according to an embodiment of the present invention, a pixel region including a data wiring, a gate wiring, a thin film transistor connected to the data and gate wiring and a pixel electrode connected to the thin film transistor; A first substrate including a peripheral region in which a driving circuit is integrated; A color filter array formed by regularly arranging a plurality of color filter layers in an area corresponding to the pixel area, facing the first substrate, a light blocking layer formed in an area corresponding to the peripheral area, and the light blocking layer formed on the light blocking layer A second substrate including at least one of the plurality of color filter layers; And a liquid crystal layer interposed between the first substrate and the second substrate.

상기 복수의 컬러 필터 층은 적(R), 녹(G), 및 청(B)색 컬러 필터 층을 포함할 수 있다. The plurality of color filter layers may include red (R), green (G), and blue (B) color filter layers.

본 발명에 따른 액정 표시 장치는 적어도 상기 차광층 위에 형성된 청색 컬러 필터 층을 포함하는 것이 바람직하다. The liquid crystal display according to the present invention preferably includes at least a blue color filter layer formed on the light blocking layer.

또한, 상기 청색 컬러 필터 층의 아래 또는 위에 형성되는 적색 및 녹색 컬러 필터층 중 적어도 하나를 더 포함할 수 있다. The display device may further include at least one of red and green color filter layers formed under or on the blue color filter layer.

본 발명에 따른 액정 표시 장치는 상기 제2 기판은 상기 컬러 필터 어레이를 상기 화소 전극각각에 대응하는 영역으로 구획하는 블랙 매트릭스, 및 상기 컬러 필터 어레이와 컬러 필터층 위에 형성된 오버 코트막을 더 포함할 수 있다. In the liquid crystal display according to the present invention, the second substrate may further include a black matrix partitioning the color filter array into regions corresponding to the pixel electrodes, and an overcoat layer formed on the color filter array and the color filter layer. .

또한 상기 차광층은 금속으로 형성될 수 있다. In addition, the light blocking layer may be formed of a metal.

본 발명의 액정 표시 장치에 있어서, 상기 구동회로는 게이트 구동회로일 수 있으며, 이 경우 상기 구동회로는 상기 화소 영역에 형성된 박막 트랜지스터와 동일한 구조를 가지는 박막 트랜지스터를 포함하는 것이 바람직하다. In the liquid crystal display of the present invention, the driving circuit may be a gate driving circuit, and in this case, the driving circuit may include a thin film transistor having the same structure as the thin film transistor formed in the pixel region.

또한, 상기 박막 트랜지스터는 비정질 실리콘을 포함하는 반도체 층을 포함할 수 있다. In addition, the thin film transistor may include a semiconductor layer including amorphous silicon.

본 발명에 따른 컬러 필터 기판은 투명 기판 상에 복수의 컬러 필터 층이 규칙적으로 배열되어 형성된 컬러 필터 어레이 및 상기 컬러 필터 어레이를 구획하는 블랙 매트릭스를 포함하는 화소 영역, 상기 화소 영역의 주변에 형성되는 차광층, 및 상기 차광층 위에 형성된 상기 복수의 컬러 필터층 중 적어도 하나를 포함한다.A color filter substrate according to the present invention includes a pixel region including a color filter array formed by regularly arranging a plurality of color filter layers on a transparent substrate and a black matrix partitioning the color filter array, and formed around the pixel region. A light blocking layer and at least one of the plurality of color filter layers formed on the light blocking layer.

상기 복수의 컬러 필터 층은 적(R), 녹(G), 및 청(B)색 컬러 필터 층을 포함할 수 있으며, 이 경우, 컬러 필터 기판은 적어도 상기 차광층 위에 형성된 청색 컬러 필터 층을 포함하는 것이 바람직하다. The plurality of color filter layers may include red (R), green (G), and blue (B) color filter layers, in which case the color filter substrate comprises at least a blue color filter layer formed over the light shielding layer. It is preferable to include.

또한, 상기 청색 컬러 필터 층의 아래 또는 위에 형성되는 적색 및 녹색 컬러 필터층 중 적어도 하나를 더 포함할 수 있다. The display device may further include at least one of red and green color filter layers formed under or on the blue color filter layer.

본 발명에 따른 컬러 필터 기판은 상기 컬러 필터 어레이와 컬러 필터층 위에 형성된 오버 코트막을 더 포함하는 것이 바람직하다. The color filter substrate according to the present invention preferably further includes an overcoat film formed on the color filter array and the color filter layer.

또한, 본 발명에 따른 컬러 필터 기판의 상기 차광층은 금속으로 형성될 수 있다. In addition, the light blocking layer of the color filter substrate according to the present invention may be formed of a metal.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명을 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 액정표시장치의 박막 트랜지스터 어레이가 형성된 하부기판을 도시한 평면도이고, 도 2는 도 1의 비표시영역을 확대한 확대도이다.1 is a plan view illustrating a lower substrate on which a thin film transistor array of a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention is formed, and FIG. 2 is an enlarged view of the non-display area of FIG. 1.

도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 실시 예에 따른 박막 트랜지스터 기판은 화상을 표시하는 표시영역과 외곽부에 화상을 표시하지 않는 비표시영역으로 이루어진다.1 and 2, a thin film transistor substrate according to an exemplary embodiment includes a display area for displaying an image and a non-display area for not displaying an image at an outer portion thereof.

하부기판(10)의 표시영역에는 게이트 라인(80) 및 데이터 라인(90)과, 게이트 라인(80) 및 데이터 라인(90)의 교차부마다 형성된 박막 트랜지스터와, 게이트 라인(80) 및 데이터 라인(90)의 교차로 정의된 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B) 화소 영역 각각에 형성되어 박막 트랜지스터와 접속된 화소전극(108)을 포함하는 박막 트랜지스터 어레이가 형성된다.The display region of the lower substrate 10 includes a thin film transistor formed at each intersection of the gate line 80 and the data line 90, the gate line 80 and the data line 90, the gate line 80 and the data line. A thin film transistor array including a pixel electrode 108 formed in each of the red (R), green (G), and blue (B) pixel regions defined by the intersection of 90 and connected to the thin film transistor is formed.

게이트 라인(80)은 스캔 신호를 공급하고, 데이터 라인(90)은 데이터 신호를 공급한다. 이러한 게이트 라인(80) 및 데이터 라인(90)은 게이트 절연막(102)을 사이에 두고 교차하여 R, G, B 화소 영역 각각을 정의한다.The gate line 80 supplies a scan signal, and the data line 90 supplies a data signal. The gate line 80 and the data line 90 intersect with the gate insulating layer 102 therebetween to define respective R, G, and B pixel regions.

박막 트랜지스터는 게이트 라인(80)의 스캔 신호에 응답하여 데이터 라인(90)의 데이터 신호를 화소전극(108)으로 공급한다. 이를 위하여, 박막 트랜지스터는 게이트 라인(80)과 접속된 게이트 전극(101), 데이터 라인(90)과 접속된 소스전극(105), 화소전극(108)과 접속된 드레인 전극(106), 게이트 절연막(102)을 사이에 두고 중첩되어 소스전극(105) 및 드레인 전극(106) 사이에 채널을 형성하는 반도체층(103)을 구비한다. 또한, 반도체층(103)과 소스전극(105) 및 드레인 전 극(106)과의 오믹 접촉을 위한 오믹 접촉층(104)을 더 구비한다.The thin film transistor supplies the data signal of the data line 90 to the pixel electrode 108 in response to the scan signal of the gate line 80. To this end, the thin film transistor includes a gate electrode 101 connected to the gate line 80, a source electrode 105 connected to the data line 90, a drain electrode 106 connected to the pixel electrode 108, and a gate insulating film. A semiconductor layer 103 is formed to overlap each other with a gap 102 between the source electrode 105 and the drain electrode 106. In addition, an ohmic contact layer 104 for ohmic contact between the semiconductor layer 103, the source electrode 105, and the drain electrode 106 is further provided.

화소전극(108)은 보호막(109)을 관통하는 콘택홀(107)을 통해 박막 트랜지스터의 드레인 전극(106)과 접속된다. 이러한 화소전극(108)은 박막 트랜지스터를 통해 공급된 데이터 신호를 충전하여 상부 기판의 공통전극에 공급된 공통 전압(Vcom)과 전압차를 발생시키게 된다. 이 전압차에 따라 화소전극(108) 및 공통전극 사이의 액정이 유전 이방성에 의해 회전하여 광투과율을 조절하게 된다.The pixel electrode 108 is connected to the drain electrode 106 of the thin film transistor through the contact hole 107 penetrating the protective film 109. The pixel electrode 108 charges the data signal supplied through the thin film transistor to generate a voltage difference from the common voltage Vcom supplied to the common electrode of the upper substrate. According to this voltage difference, the liquid crystal between the pixel electrode 108 and the common electrode is rotated by dielectric anisotropy to adjust the light transmittance.

비표시영역에는 게이트 라인(80)을 구동하기 위한 게이트 구동회로(50)와, 기판의 모퉁이 부근에 상부기판의 공통전극(206)에 공통전압을 공급하는 쇼트 포인트(100)가 형성된다. In the non-display area, a gate driving circuit 50 for driving the gate line 80 and a short point 100 for supplying a common voltage to the common electrode 206 of the upper substrate near the corner of the substrate are formed.

게이트 구동회로(50)는 표시영역의 박막 트랜지스터와 동일한 구조를 갖는 다수의 박막 트랜지스터로 이루어지며, 기판상에 직접 집적된다. 게이트 구동회로(50)는 표시영역에 형성된 게이트 라인(80)에 게이트 구동신호를 공급한다.The gate driving circuit 50 includes a plurality of thin film transistors having the same structure as the thin film transistors of the display area and is directly integrated on the substrate. The gate driving circuit 50 supplies a gate driving signal to the gate line 80 formed in the display area.

쇼트 포인트(100)는 하부기판(10)의 비표시영역에 적어도 하나 이상이 형성되며, 주로 실라인(40) 외곽의 코너부에 형성된다. 쇼트 포인트(100)는 상부기판(20)의 공통전극(206)에 공통 전압(Vcom)을 공급한다.At least one short point 100 is formed in the non-display area of the lower substrate 10, and is mainly formed at the corner portion outside the seal line 40. The short point 100 supplies a common voltage Vcom to the common electrode 206 of the upper substrate 20.

도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 액정표시장치를 나타낸 단면도이다.3 is a cross-sectional view of a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 3을 참조하면, 본 발명의 실시 예에 따른 액정표시장치는 박막 트랜지스터 어레이가 형성된 하부기판(10)과, 하부기판(10)과 마주하며 컬러 필터 어레이가 형성된 상부기판(20) 및 하부기판(10)과 상부기판(20) 사이에 개재된 액정(30)을 구비한다.Referring to FIG. 3, a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention includes a lower substrate 10 having a thin film transistor array, an upper substrate 20 and a lower substrate facing the lower substrate 10 and having a color filter array formed thereon. The liquid crystal 30 is interposed between the 10 and the upper substrate 20.

상부기판(20)은 블랙매트릭스(201)와, 컬러 필터 어레이(202, 203, 204), 오버코트(205) 및 공통전극(206)을 구비한다. 블랙매트릭스(201)는 불투명물질로 형성되어 인접한 셀로부터 입사되는 빛을 흡수함으로써 콘트라스트의 저하를 방지하게 된다. 컬러 필터(202, 203, 204)는 적(R), 녹(G) 및 청(B) 색의 컬러 필터층이 규칙적으로 예를 들어 스트라이프(Stripe) 형태로 배치되어 특정 파장대역의 빛을 투과시킴으로써 컬러표시를 가능하게 한다.The upper substrate 20 includes a black matrix 201, color filter arrays 202, 203, and 204, an overcoat 205, and a common electrode 206. The black matrix 201 is formed of an opaque material and absorbs light incident from adjacent cells, thereby preventing a decrease in contrast. The color filters 202, 203, and 204 have a color filter layer of red (R), green (G), and blue (B) colors regularly arranged, for example, in the form of stripes, to transmit light of a specific wavelength band. Enable color display.

상부 기판의 비표시 영역(DA)에는 적(R), 녹(G) 및 청(B) 색의 컬러 필터층 중, 적어도 하나의 층이 형성된다. 비표시 영역(PA)에 형성된 컬러 필터 층은 블랙 매트릭스 표면에서 반사하는 빛을 대부분 흡수함으로써 비표시 영역(PA)에 집적된 게이트 구동 회로용 박막 트랜지스터의 채널에 도달하는 빛을 감소시킨다. 따라서 광 누설 전류에 의한 게이트 구동 회로의 동작 불량을 최소화 할 수 있다. 본 실시예에 있어서는 비표시 영역(PA)에 적(R), 녹(G) 및 청(B) 색의 컬러 필터층이 모두 적층 형성된다. 3색의 컬러 필터층을 모두 형성하면, 거의 대부분의 파장대의 빛이 세 개의 컬러 필터층을 통과하며 흡수되므로 박막트랜지스터에 미치는 빛의 영향은 거의 없어진다.At least one layer of red (R), green (G), and blue (B) color filter layers is formed in the non-display area DA of the upper substrate. The color filter layer formed in the non-display area PA absorbs most of the light reflected from the black matrix surface, thereby reducing light reaching the channel of the thin film transistor for the gate driving circuit integrated in the non-display area PA. Therefore, the malfunction of the gate driving circuit due to the light leakage current can be minimized. In this embodiment, all of the color filter layers of red (R), green (G), and blue (B) colors are laminated in the non-display area PA. When all three color filter layers are formed, almost all wavelengths of light are absorbed through the three color filter layers, and thus the influence of light on the thin film transistor is almost eliminated.

비표시 영역(PA)의 컬러 필터층이 2개 이상의 층을 포함하는 경우에는 표시 영역과 비표시 영역의 컬러 필터층의 두께에 차이가 발생한다. 이 차이를 보상하기 위해 오버코트막을 형성할 수 있다.When the color filter layer of the non-display area PA includes two or more layers, a difference occurs in the thickness of the display area and the color filter layer of the non-display area. An overcoat film can be formed to compensate for this difference.

또한, 적(R), 녹(G) 및 청(B) 색의 컬러 필터층 중 어느 하나만을 형성할 경우에는 투과율이 가장 낮은 청(B)색 컬러 필터층을 형성하는 것이 바람직하다.In addition, when only one of the color filter layers of red (R), green (G), and blue (B) colors is formed, it is preferable to form a blue (B) color filter layer having the lowest transmittance.

또한, 이상에서는 게이트 구동 회로를 실시예로 설명하였으나, 데이터 구동회로를 상부 기판의 비표시 영역(PA)에 집적하는 것도 가능하다.In addition, although the gate driving circuit has been described as an embodiment, the data driving circuit may be integrated in the non-display area PA of the upper substrate.

오버코트(205)는 블랙매트릭스(201) 및 컬러 필터(202, 203, 204) 상에 형성되어 블랙매트릭스(201)와 컬러 필터(202, 203, 204) 사이의 단차를 제거하기 위해서도 형성될 수 있다.The overcoat 205 may be formed on the black matrix 201 and the color filters 202, 203, and 204 to remove the step between the black matrix 201 and the color filters 202, 203, and 204. .

공통전극(206)은 투명한 도전물질로 이루어지며 공통 전압을 형성하기 위해 오버코트(205) 상에 균일한 두께로 형성된다.The common electrode 206 is made of a transparent conductive material and has a uniform thickness on the overcoat 205 to form a common voltage.

다음은 도 4를 참조하여 본 발명의 실시 예에 따른 액정표시장치를 제조하는 공정을 설명한다.Next, a process of manufacturing a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 4.

도 4를 참조하면, 종래 액정표시장치는 박막 트랜지스터 어레이 공정과 컬러 필터 어레이 공정을 통해 각각 제조된 박막 트랜지스터 어레이 기판과 컬러 필터 어레이 기판은 셀공정 통해 두 기판이 합착되고 각 셀별로 절단된다.Referring to FIG. 4, in the conventional liquid crystal display, the thin film transistor array substrate and the color filter array substrate manufactured through the thin film transistor array process and the color filter array process, respectively, are bonded to each other through a cell process and cut into each cell.

본 발명에 따른 액정표시장치의 박막 트랜지스터는 표시영역에 형성된 박막 트랜지스터와 게이트 구동회로에 형성된 박막 트랜지스터가 동일한 공정을 통해 형성된다.In the thin film transistor of the liquid crystal display according to the present invention, the thin film transistor formed in the display area and the thin film transistor formed in the gate driving circuit are formed through the same process.

먼저 유리나 플라스틱 같은 하부기판 상에 스퍼터링 등의 방법으로 Cr 또는 Cr합금, Al 또는 Al합금, Mo 또는 Mo합금, Ag 또는 Ag합금 등의 게이트 라인과 표시 영역 및 비표시영역의 박막 트랜지스터의 게이트 전극 및 게이트 라인과 구동회로의 출력단자를 연결하는 연결라인을 포함하는 게이트 패턴을 단일층 또는 다중층으로 증착한 후, 게이트 마스크를 사용한 사진식각공정을 통해 게이트 금속층을 패 터닝하여 게이트 패턴을 형성한다.First, gate lines of Cr or Cr alloys, Al or Al alloys, Mo or Mo alloys, Ag or Ag alloys, such as sputtering on lower substrates such as glass or plastic, and gate electrodes of thin film transistors in display and non-display areas; After depositing a gate pattern including a connection line connecting the gate line and the output terminal of the driving circuit in a single layer or multiple layers, the gate metal layer is patterned through a photolithography process using a gate mask to form a gate pattern.

게이트 패턴을 형성한 후에 PECVD(Plasma Enhanced Chem회로al Vapor Deposition) 등의 방법을 사용하여 SiNx 또는 SiOx와 같은 게이트 절연막과 a-Si와 같은 활성층과 n도핑된 a-Si와 같은 오믹 접촉층을 연속증착한다. 그런 다음, 액티브마스크를 사용한 사진식각공정을 통해 활성층 및 오믹 접촉층을 형성한다.After the gate pattern is formed, a gate insulating film such as SiNx or SiOx, an active layer such as a-Si, and an ohmic contact layer such as n-doped a-Si are successively connected using a method such as plasma enhanced chemistry vapor deposition (PECVD). Deposit. Then, an active layer and an ohmic contact layer are formed through a photolithography process using an active mask.

게이트 절연막 및 활성층, 오믹 접촉층을 형성한 후에 스퍼터링 등의 방법을 사용하여 게이트 절연막과 오믹 접촉층 상에 Cr 또는 Cr합금, Al 또는 Al합금, Mo 또는 Mo합금, Ag 또는 Ag합금, Ti 또는 Ti합금 등의 데이터 금속층을 단일층 또는 다중층으로 증착한다. 이어 데이터 마스크를 사용한 사진식각공정을 통해 표시영역의 드레인/소스 전극 및 데이터 라인과, 구동회로의 드레인/소스 전극을 포함하는 데이터금속층을 패터닝하여 단일층 또는 다중층의 데이터 패턴을 형성한다. 그런 다음, 소스전극 및 드레인 전극 사이에 노출되어 있는 오믹 접촉층을 건식 식각하여 활성층을 노출시킨다.After forming the gate insulating film, the active layer, and the ohmic contact layer, a method such as sputtering is used to form Cr or Cr alloy, Al or Al alloy, Mo or Mo alloy, Ag or Ag alloy, Ti or Ti on the gate insulating film and the ohmic contact layer. A data metal layer such as an alloy is deposited in a single layer or multiple layers. Subsequently, the data metal layer including the drain / source electrode and the data line of the display area and the drain / source electrode of the driving circuit is patterned through a photolithography process using a data mask to form a single layer or multiple data patterns. Then, the ohmic contact layer exposed between the source electrode and the drain electrode is dry etched to expose the active layer.

데이터 패턴을 형성한 후에 PECVD 등의 방법을 사용하여 SiNx 또는 SiOx와 같은 보호막을 증착한다. 이어 보호막마스크를 사용한 사진식각공정을 통해 콘택홀을 형성함으로써 드레인 전극을 노출시킨다.After forming the data pattern, a protective film such as SiNx or SiOx is deposited using a method such as PECVD. Next, a contact hole is formed through a photolithography process using a protective layer mask to expose the drain electrode.

보호막을 형성한 후에 스퍼터링 등의 방법을 사용하여 ITO나 IZO와 같은 투명도전금속층을 형성하고 화소전극마스크를 사용한 사진식각공정을 통해 투명도전금속층을 패터닝하여 화소전극을 형성한다.After forming the protective film, a transparent conductive metal layer such as ITO or IZO is formed by using a method such as sputtering, and the transparent conductive metal layer is patterned through a photolithography process using a pixel electrode mask to form a pixel electrode.

다음으로는 컬러 필터 어레이공정에 대해 설명한다.Next, the color filter array process will be described.

유리나 플라스틱 같은 상부기판 상에 스퍼터링 등의 방법을 사용하여 Cr 또는 Cr합금 등의 블랙층을 단일층 또는 다중층으로 증착한다. 그런 다음, 블랙매트릭스마스크를 사용한 사진식각공정을 통해 블랙매트릭스를 형성한다.A black layer, such as Cr or Cr alloy, is deposited in a single layer or multiple layers on a top substrate such as glass or plastic using sputtering or the like. Then, a black matrix is formed through a photolithography process using a black matrix mask.

블랙매트릭스를 형성한 후에 적색컬러 필터(R)와 녹색컬러 필터(G) 및 청색컬러 필터(B)가 필터마스크를 사용한 사진공정을 통해 차례로 형성한다.After the black matrix is formed, the red color filter R, the green color filter G, and the blue color filter B are sequentially formed through a photographic process using a filter mask.

컬러 필터를 형성한 후에 유기물질을 전면에 도포하여 오버코트를 형성한다. After forming the color filter, the organic material is applied to the entire surface to form an overcoat.

이어 스퍼터링 등의 방법을 사용하여 ITO나 IZO와 같은 금속을 증착하여 공통전극을 형성한다.Subsequently, a common electrode is formed by depositing a metal such as ITO or IZO using a method such as sputtering.

이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.Although the preferred embodiments of the present invention have been described in detail above, the scope of the present invention is not limited thereto, and various modifications and improvements of those skilled in the art using the basic concepts of the present invention defined in the following claims are also provided. It belongs to the scope of rights.

본 발명에 따르면 상부 기판의 비표시 영역에는 적(R), 녹(G) 및 청(B) 색의 컬러 필터층 중, 적어도 하나의 층이 형성된다. 비표시 영역에 형성된 컬러 필터 층은 블랙 매트릭스 표면에서 반사하는 빛을 대부분 흡수함으로써 비표시 영역에 집적된 게이트 구동 회로용 박막 트랜지스터의 채널에 도달하는 빛을 감소시킨다. 따라서 광 누설 전류에 의한 게이트 구동 회로의 동작 불량을 최소화 할 수 있다.According to the present invention, at least one layer of red (R), green (G), and blue (B) color filter layers is formed in the non-display area of the upper substrate. The color filter layer formed in the non-display area absorbs most of the light reflected from the black matrix surface, thereby reducing light reaching the channel of the thin film transistor for the gate driving circuit integrated in the non-display area. Therefore, the malfunction of the gate driving circuit due to the light leakage current can be minimized.

Claims (15)

데이터 배선, 게이트 배선, 상기 데이터 및 게이트 배선에 연결된 박막 트랜지스터 및 상기 박막 트랜지스터에 연결된 화소 전극을 포함하는 화소 영역 및 구동회로가 집적된 주변 영역을 포함하는 제1 기판;A first substrate including a data line, a gate line, a pixel region including a thin film transistor connected to the data and gate lines and a pixel electrode connected to the thin film transistor, and a peripheral region in which a driving circuit is integrated; 상기 제1 기판에 대향하며, 상기 화소 영역에 대응하는 영역에 복수의 컬러 필터 층이 규칙적으로 배열되어 형성된 컬러 필터 어레이, 상기 주변 영역에 대응하는 영역에 형성된 차광층, 및 상기 차광층 위에 형성된 상기 복수의 컬러 필터층 중 적어도 하나를 포함하는 제2 기판; 및A color filter array formed by regularly arranging a plurality of color filter layers in an area corresponding to the pixel area, facing the first substrate, a light blocking layer formed in an area corresponding to the peripheral area, and the light blocking layer formed on the light blocking layer A second substrate including at least one of the plurality of color filter layers; And 상기 제1 기판 및 제2 기판의 사이에 개재되는 액정층을 포함하는 액정 표시 장치.And a liquid crystal layer interposed between the first substrate and the second substrate. 제1항에 있어서, 상기 복수의 컬러 필터 층은 적(R), 녹(G), 및 청(B)색 컬러 필터 층을 포함하는 액정 표시 장치.The liquid crystal display of claim 1, wherein the plurality of color filter layers include red (R), green (G), and blue (B) color filter layers. 제2항에 있어서, 적어도 상기 차광층 위에 형성된 청색 컬러 필터 층을 포함하는 액정 표시 장치.The liquid crystal display device of claim 2, further comprising a blue color filter layer formed on at least the light blocking layer. 제2항에 있어서, 상기 청색 컬러 필터 층의 아래 또는 위에 형성되는 적색 및 녹색 컬러 필터층 중 적어도 하나를 더 포함하는 액정 표시 장치.The liquid crystal display of claim 2, further comprising at least one of a red and a green color filter layer formed below or on the blue color filter layer. 제4항에 있어서, 상기 제2 기판은 상기 컬러 필터 어레이를 상기 화소 전극각각에 대응하는 영역으로 구획하는 블랙 매트릭스, 및 The black matrix of claim 4, wherein the second substrate divides the color filter array into regions corresponding to each of the pixel electrodes. 상기 컬러 필터 어레이와 컬러 필터층 위에 형성된 오버 코트막을 더 포함하는 액정 표시 장치.And an overcoat layer formed on the color filter array and the color filter layer. 제5항에 있어서, 상기 차광층은 금속으로 형성되는 액정 표시장치.The liquid crystal display of claim 5, wherein the light blocking layer is formed of a metal. 제6항에 있어서, 상기 구동회로는 게이트 구동회로인 액정 표시장치.The liquid crystal display of claim 6, wherein the driving circuit is a gate driving circuit. 제7항에 있어서, 상기 구동회로는 상기 화소 영역에 형성된 박막 트랜지스터와 동일한 구조를 가지는 박막 트랜지스터를 포함하는 액정 표시장치.The liquid crystal display of claim 7, wherein the driving circuit comprises a thin film transistor having the same structure as a thin film transistor formed in the pixel region. 제8항에 있어서 상기 박막 트랜지스터는 비정질 실리콘을 포함하는 반도체 층을 가지는 액정 표시장치.The liquid crystal display device of claim 8, wherein the thin film transistor has a semiconductor layer including amorphous silicon. 투명 기판 상에 복수의 컬러 필터 층이 규칙적으로 배열되어 형성된 컬러 필터 어레이 및 상기 컬러 필터 어레이를 구획하는 블랙 매트릭스를 포함하는 화소 영역, A pixel region including a color filter array formed by regularly arranging a plurality of color filter layers on a transparent substrate, and a black matrix partitioning the color filter array; 상기 화소 영역의 주변에 형성되는 차광층, 및 A light shielding layer formed around the pixel region, and 상기 차광층 위에 형성된 상기 복수의 컬러 필터층 중 적어도 하나를 포함하는 컬러필터 기판.And at least one of the plurality of color filter layers formed on the light blocking layer. 제10항에 있어서, 상기 복수의 컬러 필터 층은 적(R), 녹(G), 및 청(B)색 컬러 필터 층을 포함하는 컬러필터 기판.The color filter substrate of claim 10, wherein the plurality of color filter layers comprise red (R), green (G), and blue (B) color filter layers. 제11항에 있어서, 적어도 상기 차광층 위에 형성된 청색 컬러 필터 층을 포함하는 컬러필터 기판.The color filter substrate of claim 11, further comprising a blue color filter layer formed on at least the light blocking layer. 제12항에 있어서, 상기 청색 컬러 필터 층의 아래 또는 위에 형성되는 적색 및 녹색 컬러 필터층 중 적어도 하나를 더 포함하는 컬러필터 기판.The color filter substrate of claim 12, further comprising at least one of red and green color filter layers formed below or over the blue color filter layer. 제13항에 있어서, 상기 컬러 필터 어레이와 컬러 필터층 위에 형성된 오버 코트막을 더 포함하는 컬러필터 기판.The color filter substrate of claim 13, further comprising an overcoat layer formed on the color filter array and the color filter layer. 제14항에 있어서, 상기 차광층은 금속으로 형성되는 컬러필터 기판.The color filter substrate of claim 14, wherein the light blocking layer is formed of a metal.
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