KR20070104841A - Exposure apparatus - Google Patents

Abstract

An exposure apparatus is provided to supply a mask to each mask stage of a plurality of exposure unit disposed in parallel while using one mask loader by including a mask stocker for receiving a plurality of masks disposed in parallel and one mask loader for supplying a mask from the mask stocker to the mask stage. A substrate as an exposed material is supported by a substrate stage. A mask(M) is supported by a mask stage(110A,110B) confronting the substrate. An irradiation apparatus irradiates light for pattern exposure to the substrate through the mask. A substrate stage transferring unit transfers the substrate stage so that the substrate confronts the mask in a predetermined position. A plurality of exposure units(1000A,1000B) include the substrate stage, the mask stage, the irradiation apparatus and the substrate stage transferring unit, disposed in parallel. The plurality of masks are received in a mask stocker. One mask loader supplies a mask from the mask stocker to the mask stage. A plurality of mask stockers can be disposed in parallel to constitute a mask library. The one mask loader can freely transfer to a position corresponding to the mask stocker and each exposure unit.

Description

노광 장치{EXPOSURE APPARATUS}Exposure apparatus {EXPOSURE APPARATUS}

도 1 은, 본 발명에 관련되는 노광 장치의 제 1 실시형태의 전체 구성을 설명하기 위한 평면도.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The top view for demonstrating the whole structure of 1st Embodiment of the exposure apparatus which concerns on this invention.

도 2 는, 도 1 에 나타내는 노광 유닛의 요부 (要部) 측면도. FIG. 2 is an essential side view of the exposure unit shown in FIG. 1. FIG.

도 3 은, 도 1 에 나타내는 워크 로더의 측면도. FIG. 3 is a side view of the work loader shown in FIG. 1. FIG.

도 4 는, 본 발명에 관련되는 노광 장치의 제 2 실시형태의 전체 구성을 설명하기 위한 평면도. 4 is a plan view for explaining the overall configuration of a second embodiment of an exposure apparatus according to the present invention.

도 5 는, 종래의 노광 장치의 전체 구성을 설명하기 위한 평면도. 5 is a plan view for explaining the overall configuration of a conventional exposure apparatus.

도 6 은, 본 발명에 관련되는 노광 장치의 전체 구성을 설명하기 위한 개략 평면도. 6 is a schematic plan view for explaining the overall configuration of an exposure apparatus according to the present invention.

도 7 은, 도 6 에 나타내는 노광 유닛의 요부 정면도. FIG. 7 is a front view of main parts of the exposure unit shown in FIG. 6; FIG.

도 8 은, 도 7 에 나타내는 기판 스테이지의 측면도. FIG. 8 is a side view of the substrate stage shown in FIG. 7. FIG.

도 9 는, 도 6 에 나타내는 기판 로더의 측면도. FIG. 9 is a side view of the substrate loader shown in FIG. 6. FIG.

도 10 은, 종래의 노광 장치를 설명하기 위한 평면도. 10 is a plan view for explaining a conventional exposure apparatus.

본 발명은, 노광 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 반도체나, 액정 디스플레이 패널이나 플라즈마 디스플레이 등의 대형 플랫 패널 디스플레이를 제조하는 경우에 사용되는 노광 장치에 관한 것이다. The present invention relates to an exposure apparatus, and more particularly, to an exposure apparatus used when manufacturing a large flat panel display such as a semiconductor, a liquid crystal display panel or a plasma display.

도 5 에 나타내는 바와 같이, 종래의 노광 장치 (PE100) 에서는, 통상, 생산 효율을 향상시키기 위해, 복수대 (도 5 에서는 2 대) 의 노광 유닛 (1000A, 1000B) 이 병렬 배치되어 있다. 이 노광 유닛 (1000A, 1000B) 은, 마스크 패턴이 상이한 복수매의 마스크 (M) 를 저장 가능한 마스크 스토커 (102A, 102B) 를 구비한다. 이 마스크 스토커 (102A, 102B) 에 인접 배치된 마스크 로더 (103A, 103B) 는, 마스크 스토커 (102A, 102B) 로부터 소정의 마스크 (M) 를 꺼내어 마스크 스테이지 (104A, 104B) 에 장착하거나, 장착되어 있는 마스크 (M) 를 교환한다. As shown in FIG. 5, in the conventional exposure apparatus PE100, in order to improve the production efficiency, a plurality of exposure units 1000A and 1000B are arranged in parallel in order to improve production efficiency. This exposure unit 1000A, 1000B is equipped with the mask stocker 102A, 102B which can store the several mask M from which a mask pattern differs. The mask loaders 103A, 103B disposed adjacent to the mask stockers 102A, 102B take out a predetermined mask M from the mask stockers 102A, 102B, and attach them to the mask stages 104A, 104B, or are mounted. Replace the mask (M).

그러나, 종래의 노광 장치 (PE100) 에서는, 노광 유닛 (101A, 101B) 마다 전용 마스크 로더 (103A, 103B; 경우에 따라서는, 마스크 스토커 (102A, 102B) 도 전용) 가 각각 배치 형성되어 있기 때문에, 노광 장치 (PE100) 가 대형화되어 버려서, 공장 등에서의 설치 공간의 유효한 이용을 저해할 가능성이 있었다. 또, 노광 장치 (PE100) 의 제조 비용이 증대되었다. However, in the conventional exposure apparatus PE100, since the dedicated mask loaders 103A and 103B (dedicated mask maskers 102A and 102B are also disposed) for each of the exposure units 101A and 101B, The exposure apparatus PE100 has become large and there is a possibility that the effective use of the installation space in a factory etc. may be impaired. Moreover, the manufacturing cost of exposure apparatus PE100 increased.

본 발명은, 상기 사정을 감안하여 이루어진 것이고, 그 목적은, 노광 장치를소형화할 수 있고, 공장 등의 설치 공간을 유효하게 이용할 수 있음과 함께, 노광 장치의 제조 비용을 저감시킬 수 있는 노광 장치를 제공하는 것에 있다. This invention is made | formed in view of the said situation, The objective is the exposure apparatus which can miniaturize an exposure apparatus, can utilize the installation space, such as a factory effectively, and can reduce the manufacturing cost of an exposure apparatus. Is to provide.

본 발명의 상기 목적은, 하기의 구성에 의해 달성된다. The said objective of this invention is achieved by the following structures.

(1) 피노광재로서의 기판을 유지하는 기판 스테이지와, 기판에 대향 배치되어 마스크를 유지하는 마스크 스테이지와, 기판에 대해서 패턴 노광용 광을 마스크를 통하여 조사하는 조사 장치와, 기판이 마스크와 소정 위치에서 대향하도록 기판 스테이지를 이동시키는 기판 스테이지 이송 기구를 구비하는 노광 유닛을 복수 갖는 노광 장치로서, 노광 유닛은, 병렬 배치되어 복수매의 마스크를 수용하는 마스크 스토커와 마스크 스토커로부터 소정의 마스크를 마스크 스테이지에 공급하는 1 대의 마스크 로더를 구비하는 것을 특징으로 하는 노광 장치. (1) A substrate stage for holding a substrate as an object to be exposed, a mask stage for facing a substrate to hold a mask, an irradiation apparatus for irradiating light for pattern exposure to the substrate through a mask, and the substrate at a mask and a predetermined position An exposure apparatus having a plurality of exposure units having a substrate stage transfer mechanism for moving the substrate stage so as to face each other, wherein the exposure units are arranged in parallel and receive a predetermined mask from the mask stocker and the mask stocker to accommodate the plurality of masks. An exposure apparatus characterized by including one mask loader to supply.

(2) 마스크 스토커는, 복수대가 병렬 배치되어서 마스크 라이브러리를 구성하고, 1 대의 마스크 로더는, 마스크 스토커 및 노광 유닛의 각각에 대응하는 위치에 자유롭게 이동할 수 있게 구성되는 것을 특징으로 하는 (1) 에 기재된 노광 장치.(2) A plurality of mask stockers are arranged in parallel to constitute a mask library, and one mask loader is configured to be freely moved to a position corresponding to each of the mask stocker and the exposure unit. The exposure apparatus described.

상기 (1) 에 기재된 노광 장치에 의하면, 복수의 노광 유닛이 병렬 배치됨과 함께, 1 대의 마스크 로더에 의해 각 노광 유닛의 마스크 스테이지에 마스크를 공급하므로, 복수의 노광 유닛에 대해서 1 대의 마스크 로더를 공통시켜 이용할 수 있다. 이로써, 노광 장치를 소형화할 수 있고 공장 등의 설치 공간을 유효하게 이용할 수 있음과 함께, 노광 장치의 제조 비용을 저감시킬 수 있다. According to the exposure apparatus described in (1), a plurality of exposure units are arranged in parallel, and a mask is supplied to a mask stage of each exposure unit by one mask loader, so that one mask loader is provided for a plurality of exposure units. It can use in common. Thereby, an exposure apparatus can be miniaturized, the installation space of factories etc. can be utilized effectively, and the manufacturing cost of an exposure apparatus can be reduced.

상기 (2) 에 기재된 노광 장치에 의하면, 복수대의 마스크 스토커로 이루어지는 마스크 라이브러리와, 각 마스크 스토커 및 각 노광 유닛에 대응할 수 있도록 자유롭게 이동할 수 있게 구성되는 1 대의 마스크 로더를 구비하고, 1 대의 마스크 로더에 의해 마스크 라이브러리로부터 소정의 마스크를 꺼내, 각 노광 유닛의 마스크 스테이지에 마스크를 공급하므로, 다수의 마스크를 마스크 라이브러리에 수용하여 준비하고, 많은 종류의 마스크 패턴에 용이하게 대응할 수 있다. 또, 1 대의 마스크 로더에 의해 복수의 노광 유닛에 마스크를 공급할 수 있으므로, 노광 장치를 소형화할 수 있고, 공장 등의 설치 공간을 유효하게 이용할 수 있음과 함께, 노광 장치의 제조 비용을 저감시킬 수 있다. According to the exposure apparatus as described in said (2), it is equipped with the mask library which consists of several mask stockers, and one mask loader comprised so that it can move freely so that it may correspond to each mask stocker and each exposure unit, and one mask loader By removing the predetermined mask from the mask library and supplying the mask to the mask stage of each exposure unit, a large number of masks can be accommodated in the mask library and prepared, and it can easily correspond to many kinds of mask patterns. In addition, since a mask can be supplied to a plurality of exposure units by one mask loader, the exposure apparatus can be miniaturized, the installation space such as a factory can be effectively used, and the manufacturing cost of the exposure apparatus can be reduced. have.

발명을 실시하기To practice the invention 위한 최선의 형태 Best form for

이하, 본 발명에 관련되는 노광 장치의 각 실시형태에 대해, 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, each embodiment of the exposure apparatus which concerns on this invention is described in detail with reference to drawings.

제 1 실시형태1st Embodiment

먼저, 도 1∼도 3 을 참조하여, 본 발명에 관련되는 노광 장치의 제 1 실시형태에 대해 설명한다. First, with reference to FIGS. 1-3, 1st Embodiment of the exposure apparatus which concerns on this invention is described.

도 1 은 본 발명에 관련되는 노광 장치의 제 1 실시형태의 전체 구성을 설명하기 위한 평면도, 도 2 는 도 1 에 나타내는 노광 유닛의 요부 측면도, 도 3 은 도 1 에 나타내는 워크 로더의 측면도이다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The top view for demonstrating the whole structure of the 1st embodiment of the exposure apparatus which concerns on this invention, FIG. 2 is a principal side view of the exposure unit shown in FIG. 1, and FIG. 3 is a side view of the work loader shown in FIG.

도 1 및 도 2 에 나타내는 바와 같이, 본 실시형태의 노광 장치 (PE101) 는, 2 대의 노광 유닛 (1000A, 1000B) 을 병렬 배치시키고 있다. 노광 유닛 (1000A, 1000B) 은, 마스크 (M) 를 유지하는 마스크 스테이지 (110A, 110B) 와, 피노광재로서의 유리 기판 (피노광재; W) 을 유지하는 기판 스테이지 (120, 120) 와, 유리 기판 (W) 에 대해서 패턴 노광용 광을 마스크 (M) 를 통하여 조사하는 조사 장치 (130, 130) 와, 유리 기판 (W) 이 마스크 (M) 와 소정 위치에서 대향하도록 기판 스테이지 (120, 120) 를 이동시키는 기판 스테이지 이송 기구 (140, 140) 와, 기판 스테이지 (120, 120) 에 유리 기판 (W) 을 반송 (搬送) 하는 워크 로더 (160, 160) 를 각각 구비하고, 장치 베이스 (150, 150) 상에 탑재되어 있다. As shown to FIG. 1 and FIG. 2, the exposure apparatus PE101 of this embodiment arrange | positions two exposure units 1000A and 1000B in parallel. The exposure units 1000A and 1000B include the mask stages 110A and 110B holding the mask M, the substrate stages 120 and 120 holding the glass substrate (exposed material) W as the exposed material, and the glass substrate. The substrate stages 120 and 120 are disposed so that the irradiation apparatuses 130 and 130 which irradiate the light for pattern exposure with respect to the (W) through the mask M and the glass substrate W face the mask M at a predetermined position. It is equipped with the board | substrate stage feed mechanism 140 and 140 to move, and the work loaders 160 and 160 which convey the glass substrate W to the board | substrate stage 120 and 120, respectively, and the apparatus base 150 and 150, respectively. It is mounted on).

또, 노광 장치 (PE101) 에는, 2 대의 노광 유닛 (1000A, 1000B) 에 대응 가능한 위치 (2 대의 노광 유닛 (1000A, 1000B) 의 사이) 에, 1 대의 마스크 로더 (170) 및 1 대의 마스크 스토커 (171) 가 배치되어 있다. In addition, in the exposure apparatus PE101, one mask loader 170 and one mask stocker (a position between two exposure units 1000A and 1000B) (a position between two exposure units 1000A and 1000B) are provided. 171 is disposed.

또한, 유리 기판 (W) (이하, 간단하게 「기판 (W)」이라고 칭한다) 은, 마스크 (M) 에 대향 배치되어 있고, 이 마스크 (M) 에 그려진 마스크 패턴을 노광 전사하기 위하여 표면 (마스크 (M) 와 대향하는 면) 에 감광제가 도포되어 있다. In addition, the glass substrate W (henceforth simply called "substrate W") is arrange | positioned facing the mask M, and is surface (mask) in order to expose and transfer the mask pattern drawn on this mask M. FIG. The photosensitive agent is apply | coated to (M) surface which faces.

마스크 스테이지 (110A, 110B) 는, 장치 베이스 (150) 상에 기립 형성되는 4 개의 지주 (151) 및 이 지주 (151) 의 상단부에 설치되는 Z 축 이동 장치 (152) 에 의해 Z 축 방향으로 이동할 수 있게 지지되어, 기판 스테이지 (120) 의 상방에 배치된다. Z 축 이동 장치 (152) 는, 예를 들어, 모터 및 볼 나사 등으로 이루어지는 전동 액츄에이터, 혹은 공압 실린더 등을 구비하고, 단순한 상하 동작을 실시함으로써, 마스크 스테이지 (110A, 110B) 를 소정의 위치까지 승강시킨다. 또, 마스크 스테이지 (110A, 110B) 에는, 직사각형 형상의 개구부 (111) 가 중앙에 형성되어 있고, 이 개구부 (111) 에는, 마스크 홀더 (112) 에 의해 마스크 (M) 가 유지되어 있다. The mask stages 110A and 110B are moved in the Z-axis direction by four pillars 151 standing on the apparatus base 150 and a Z-axis moving apparatus 152 provided at the upper end of the pillars 151. Is supported so that it is disposed above the substrate stage 120. The Z-axis moving device 152 includes, for example, an electric actuator made of a motor and a ball screw, a pneumatic cylinder, or the like, and performs the simple vertical movement to move the mask stages 110A and 110B to a predetermined position. Elevate. In the mask stages 110A and 110B, a rectangular opening 111 is formed in the center, and the mask M is held by the mask holder 112 in the opening 111.

기판 스테이지 (120) 는, 도 2 에 나타내는 바와 같이, 기판 스테이지 이동 기구 (140) 상에 설치되어 있고, 그 상면에는, 기판 (W) 을 기판 스테이지 (120) 에 유지하기 위한 워크 척 (121) 이 설치된다. 또한, 워크 척 (121) 은, 진공 흡착에 의해 기판 (W) 을 유지하고 있다. As shown in FIG. 2, the substrate stage 120 is provided on the substrate stage moving mechanism 140, and on the upper surface thereof, a work chuck 121 for holding the substrate W on the substrate stage 120. This is installed. In addition, the workpiece chuck 121 holds the substrate W by vacuum suction.

기판 스테이지 이동 기구 (140) 는, 도 2 에 나타내는 바와 같이 장치 베이스 (150) 의 상면에 Y 축 방향을 따라 설치되는 Y 축 이송 기구 (141) 와, Y 축 이송 기구 (141) 에 의해 Y 축 방향으로 이동할 수 있게 지지되는 Y 축 테이블 (142) 과, Y 축 테이블 (142) 의 상면에 X 축 방향을 따라 설치되는 X 축 이송 기구 (143) 와, X 축 이송 기구 (143) 에 의해 X 축 방향으로 이동할 수 있게 지지되는 X 축 테이블 (144) 과, X 축 테이블 (144) 상에 설치되어 기판 스테이지 (120) 의 하면을 지지하는 3 대의 Z-틸트 (tilt) 조정 기구 (145) 를 구비한다. 이 기판 스테이지 이동 기구 (140) 는, 기판 스테이지 (120) 를 X 축, Y 축, Z 축 방향으로 이동시키고 또한, 기판 스테이지 (120) 의 틸트 조정을 실시한다.As shown in FIG. 2, the substrate stage movement mechanism 140 includes a Y-axis feed mechanism 141 provided along the Y-axis direction on the upper surface of the apparatus base 150, and a Y-axis feed mechanism 141. X-axis feed mechanism 143 provided along the X-axis direction on the upper surface of Y-axis table 142, X-axis feed mechanism 143, and X-axis feed mechanism 143 which are supported to be movable in the direction An X-axis table 144 supported to be movable in the axial direction, and three Z-tilt adjustment mechanisms 145 provided on the X-axis table 144 to support the lower surface of the substrate stage 120. Equipped. This substrate stage movement mechanism 140 moves the substrate stage 120 in the X-axis, Y-axis, and Z-axis directions, and also performs tilt adjustment of the substrate stage 120.

조사 장치 (130) 는, 개구부 (111) 의 상방에 배치되어 자외선 조사용 광원인 예를 들어, 고압 수은 램프, 오목면 거울, 옵티컬 인터그레이터, 평면 미러, 구면 미러, 및 노광 제어용 셔터 등을 구비하여 구성된다. 조사 장치 (130) 는, 기판 스테이지 (120) 의 워크 척 (121) 에 유지된 기판 (W) 에, 패턴 노광용 광을 마스크 (M) 를 통하여 조사한다. 이로써, 기판 (W) 에는, 마스크 (M) 의 마스크 패턴이 노광 전사된다. The irradiation apparatus 130 is provided above the opening 111 and is, for example, a high-pressure mercury lamp, a concave mirror, an optical integrator, a plane mirror, a spherical mirror, an exposure control shutter, and the like, which are ultraviolet light sources. It is configured by. The irradiation apparatus 130 irradiates the light for pattern exposure to the substrate W held by the work chuck 121 of the substrate stage 120 through the mask M. As a result, the mask pattern of the mask M is transferred to the substrate W by exposure.

워크 로더 (160) 는, 도 3 에 나타내는 바와 같이, 장치 베이스 (150) 상에 고정되는 칼럼 (161) 에 복수의 반송부 (162, 163) 가 자유롭게 요동할 수 있게 배 치 형성되는 다관절형 로더 로봇이다. 복수의 반송부 (162, 163) 는, 승강 기구 (도시하지 않음) 에 의해 칼럼 (161) 을 따라 상하 이동함과 함께, 각각 서보 모터가 배치 형성되어 서로 독립적으로 구동된다. 각 반송부 (162, 163) 는, 제 1 및 제 2 아암 (164, 165) 과, 제 1 아암 (164) 의 선단에 복수의 봉 형상 부재 (166) 가 평행하게 심어 설치된 탑재대 (167) 를 갖는다. 그리고, 각각의 서보 모터를 제어하여 작동시킴으로써, 탑재대 (167) 를 승강, 회전, 및 이동시켜, 탑재대 (167) 상의 기판 (W) 을 반송한다. As shown in FIG. 3, the work loader 160 is a multi-joint type | mold arrange | positioned so that the some conveyance part 162 and 163 can be freely rocked in the column 161 fixed on the apparatus base 150. FIG. Loader robot. The plurality of conveying units 162 and 163 move up and down along the column 161 by a lifting mechanism (not shown), and servo motors are arranged and driven independently of each other. Each conveyance part 162 and 163 has the mounting table 167 in which the several rod-shaped member 166 was planted in parallel at the front-end | tip of the 1st and 2nd arms 164 and 165, and the 1st arm 164, respectively. Has Then, by operating each servo motor under control, the mounting table 167 is lifted, rotated, and moved to convey the substrate W on the mounting table 167.

1 대의 마스크 로더 (170) 는, 2 대의 노광 유닛 (1000A, 1000B) 사이에 배치되어 있다. 마스크 로더 (170) 는, 도 3 에 나타내는 워크 로더 (160) 와 대략 동일한 구성을 갖고, 마스크 스토커 (171) 에 저장되는 복수매의 마스크 (M) 중에서 소정의 마스크 (M) 를 선택, 유지하고, 마스크 스테이지 (110A, 110B) 에 각각 공급한다. 또한, 마스크 로더 (170) 의 경우, 반송부는 1 개이다. 또, 마스크 스테이지 (110A, 110B) 에 대한 마스크 (M) 의 공급은, 본 실시형태와 같이, 마스크 로더 (170) 에 의해 마스크 스토커 (171) 로부터 마스크 스테이지 (110A, 110B) 에 직접 공급해도 되지만, 이것으로 한정되지 않고, 마스크 로더 (170) 에 의해 마스크 스토커 (171) 로부터 기판 스테이지 (120) 상의 워크 척 (121) 에서 돌출되는 도시하지 않은 마스크 수용부로 반송되고, 기판 스테이지 (120) 가 마스크 (M) 를 마스크 스테이지 (110A, 110B) 에 공급되도록 해도 된다. One mask loader 170 is arrange | positioned between two exposure units 1000A and 1000B. The mask loader 170 has a structure substantially the same as that of the work loader 160 shown in FIG. 3, and selects and holds a predetermined mask M among a plurality of masks M stored in the mask stocker 171. And mask stage 110A and 110B, respectively. In addition, in the case of the mask loader 170, there is one conveyance part. In addition, supply of the mask M to the mask stage 110A, 110B may supply directly from the mask stocker 171 to the mask stage 110A, 110B by the mask loader 170 like the present embodiment. Not limited to this, the mask loader 170 is conveyed from the mask stocker 171 to the mask accommodating part (not shown) projecting from the work chuck 121 on the substrate stage 120, and the substrate stage 120 is masked. You may supply (M) to the mask stage 110A, 110B.

구체적으로는, 마스크 로더 (170) 는, 마스크 스토커 (171) 에 저장되어 있는 복수매의 마스크 (M) 중에서 소정의 마스크 (M) 를 선택하고, 선택한 마스크 (M) 를 마스크 로더 (170) 의 탑재대 (167) 상에 탑재하여 마스크 스테이지 (110A, 110B) 로 반송하고, 마스크 홀더 (112) 에 진공 흡착시켜 장착한다. 또, 마스크 (M) 를 교환할 때에는, 노광 전사 후의 마스크 (M) 를 탑재대 (167) 상에 탑재하여 마스크 스토커 (171) 에 저장시킨다. 또한, 마스크 로더 (170) 가 도 3 에 나타내는 워크 로더 (160) 와 같이 2개의 반송부 (162, 163) 를 구비하고 있으면, 노광 전사 전의 마스크 (M) 를 반송부 (162(163)) 의 탑재대 (167) 에 유지한 상태에서, 노광 전사 후의 마스크 (M) 를 반송부 (163(162)) 의 탑재대 (167) 에서 분리하고, 분리된 직후에 반송부 (162(163)) 에 유지한 노광 전사 전의 마스크 (M) 를 마스크 스테이지 (110A, 110B) 에 장착할 수 있게 된다. Specifically, the mask loader 170 selects a predetermined mask M from among a plurality of masks M stored in the mask stocker 171, and selects the selected mask M as the mask loader 170. It mounts on the mounting table 167, conveys it to the mask stage 110A, 110B, and vacuum-adsorbs to the mask holder 112, and mounts it. When the mask M is replaced, the mask M after the exposure transfer is mounted on the mounting table 167 and stored in the mask stocker 171. In addition, if the mask loader 170 is equipped with two conveyance parts 162 and 163 like the work loader 160 shown in FIG. 3, the mask M before exposure transcription | transfer of the conveyance part 162 (163) may be carried out. In the state held by the mounting table 167, the mask M after the exposure transfer is detached from the mounting table 167 of the transport section 163 (162), and immediately after the separation, is transferred to the transport section 162 (163). The held mask M before the exposure transfer can be mounted on the mask stages 110A and 110B.

마스크 스토커 (171) 는, 마스크 패턴이 상이한 복수매의 마스크 (M) 를 수용하기 위한 저장고로서, 도시하지 않은 마스크 케이스로부터 마스크 (M) 가 공급되고, 마스크 (M) 를 정렬시킨 상태에서 그 내부에 설치된 선반에 탑재하여 수용한다. The mask stocker 171 is a reservoir for accommodating a plurality of masks M having different mask patterns. The mask stocker 171 is supplied from a mask case (not shown) to supply the mask M, and the mask stocker 171 is arranged therein. Mounted on a shelf installed in the housing.

이와 같이 구성된 노광 장치 (PE101) 에서는, 2 대의 노광 유닛 (1000A, 1000B) 사이에 배치되는 1 대의 마스크 로더 (170) 가, 마스크 스토커 (171) 에 저장되는 복수매의 마스크 (M) 중에서 소정의 마스크 (M) 를 선택하고, 선택한 마스크 (M) 를 마스크 로더 (170) 의 탑재대 (167) 상에 탑재하여, 소정의 노광 유닛 (1000A, 1000B) 의 각 마스크 스테이지 (110A, 110B) 로 반송하여 장착한다. 즉, 1 대의 마스크 로더 (170) 가, 2 대의 노광 유닛 (1000A, 1000B) 에 공용된다. In exposure apparatus PE101 comprised in this way, one mask loader 170 arrange | positioned between two exposure units 1000A and 1000B is predetermined among the several mask M stored in the mask stocker 171. The mask M is selected, the selected mask M is mounted on the mounting table 167 of the mask loader 170, and the mask M is conveyed to the respective mask stages 110A and 110B of the predetermined exposure units 1000A and 1000B. Install it. That is, one mask loader 170 is shared by two exposure units 1000A and 1000B.

따라서, 본 실시형태의 노광 장치 (PE101) 에 의하면, 2 대의 노광 유닛 (1000A, 1000B) 이 병렬 배치되어 복수매의 마스크 (M) 를 수용하는 마스크 스토커 (171) 와, 마스크 스토커 (171) 로부터 소정의 마스크 (M) 를 마스크 스테이지 (110A, 110B) 에 공급하는 1 대의 마스크 로더 (170) 를 구비하므로, 병렬 배치된 2 대의 노광 유닛 (1000A, 1000B) 의 각 마스크 스테이지 (110A, 110B) 에, 1 대의 마스크 로더 (170) 에 의해 마스크 (M) 를 공급할 수 있다. 이로써, 노광 장치 (PE101) 를 소형화할 수 있고, 공장 등의 설치 공간을 유효하게 이용할 수 있음과 함께, 노광 장치 (PE101) 의 제조 비용을 저감시킬 수 있다.Therefore, according to the exposure apparatus PE101 of this embodiment, from the mask stocker 171 and the mask stocker 171 which two exposure units 1000A, 1000B are arrange | positioned in parallel and receive a plurality of masks M, Since one mask loader 170 is provided for supplying a predetermined mask M to the mask stages 110A and 110B, the respective mask stages 110A and 110B of two exposure units 1000A and 1000B arranged in parallel are provided. The mask M can be supplied by one mask loader 170. Thereby, exposure apparatus PE101 can be miniaturized, the installation space of factories etc. can be utilized effectively, and manufacturing cost of exposure apparatus PE101 can be reduced.

제 2 실시형태2nd Embodiment

다음으로, 도 4 를 참조하여, 본 발명에 관련되는 노광 장치의 제 2 실시형태에 대해 설명한다. 또한, 마스크 스토커와 마스크 로더의 형태가 상이한 것 이외에는, 제 1 실시형태의 노광 장치와 동일하므로, 제 1 실시형태와 동일 부분 또는 유사 부분에 대해서는, 도면에 동일 부호를 붙여 그 설명을 생략 혹은 간략화한다. Next, with reference to FIG. 4, 2nd Embodiment of the exposure apparatus which concerns on this invention is described. In addition, since it is the same as that of the exposure apparatus of 1st Embodiment except the form of a mask stocker and a mask loader, about the same part or similar part as 1st Embodiment, the same code | symbol is attached | subjected to drawing, and the description is abbreviate | omitted or simplified. do.

도 4 는 본 발명에 관련되는 노광 장치의 제 2 실시형태의 전체 구성을 설명하기 위한 평면도이다. It is a top view for demonstrating the whole structure of 2nd Embodiment of the exposure apparatus which concerns on this invention.

도 4 에 나타내는 바와 같이, 본 실시형태의 노광 장치 (PE102) 는, 3 대의 노광 유닛 (1000A, 1000B, 1000C) 을 병렬 배치시키고 있다. 또, 노광 유닛 (1000A, 1000B, 1000C) 과 대향하는 위치에는, 5 대의 마스크 스토커 (171, 171‥) 를 갖는 마스크 라이브러리 (180) 가 배치된다. 또한 마스크 라이브러리 (180) 와 3 대의 노광 유닛 (1000A, 1000B, 1000C) 사이에는, 도시하지 않은 가이드 레일 을 따라 화살표 A 및 B 방향으로 자유롭게 이동할 수 있게 구성된 1 대의 마스크 로더 (170) 가 배치되어 있다. 또한, 노광 유닛 (1000C) 은, 노광 유닛 (1000A, 1000B) 과 동일한 구성이다. As shown in FIG. 4, the exposure apparatus PE102 of this embodiment arrange | positions three exposure units 1000A, 1000B, and 1000C in parallel. Moreover, the mask library 180 which has five mask stockers 171, 171 ... is arrange | positioned in the position which opposes exposure unit 1000A, 1000B, 1000C. In addition, between the mask library 180 and the three exposure units 1000A, 1000B, and 1000C, one mask loader 170 configured to be free to move in the directions of arrows A and B along a guide rail (not shown) is disposed. . In addition, the exposure unit 1000C has the same structure as the exposure units 1000A and 1000B.

1 대의 마스크 로더 (170) 는, 화살표 A 및 B 방향으로 이동함으로써, 3 대의 노광 유닛 (1000A, 1000B, 1000C) 및 5 대의 마스크 스토커 (171, 171‥) 각각과 대향하는 위치에 배치된다. 그리고, 1 대의 마스크 로더 (170) 는, 마스크 라이브러리 (180) 의 소정의 마스크 스토커 (171) 로부터 소정의 마스크 (M) 를 선택하고, 선택한 마스크 (M) 를 소정의 노광 유닛 (1000A, 1000B, 1000C) 으로 반송하여, 각 마스크 스테이지 (110A, 110B, 110C) 에 장착하도록 구성되어 있다. One mask loader 170 is arrange | positioned in the position which opposes each of three exposure units 1000A, 1000B, 1000C and five mask stockers 171, 171 ... by moving to arrow A and B direction. And one mask loader 170 selects the predetermined mask M from the predetermined mask stocker 171 of the mask library 180, and selects the selected mask M by predetermined exposure unit 1000A, 1000B, 1000C), and it is comprised so that it may attach to each mask stage 110A, 110B, 110C.

이와 같이 구성된 노광 장치 (PE102) 에서는, 마스크 라이브러리 (180) 와 3 대의 노광 유닛 (1000A, 1000B, 1000C) 사이에서, A 방향 및 B 방향으로 자유롭게 이동할 수 있게 구성되는 1 대의 마스크 로더 (170) 가, 마스크 라이브러리 (180) 의 소정의 마스크 스토커 (171) 에 저장되는 복수매의 마스크 (M) 중에서 소정의 마스크 (M) 를 선택하고, 선택한 마스크 (M) 를 마스크 로더 (170) 의 탑재대 (167) 상에 탑재하고, 소정의 노광 유닛 (1000A, 1000B, 1000C) 의 각 마스크 스테이지 (110A, 110B, 110C) 로 반송하여 장착한다. 즉, 1 대의 마스크 로더 (170) 가 3 대의 노광 유닛 (1000A, 1000B, 1000C) 에 공용된다. In the exposure apparatus PE102 comprised in this way, between the mask library 180 and three exposure units 1000A, 1000B, and 1000C, one mask loader 170 configured to be able to move freely in the A direction and the B direction is provided. A predetermined mask M is selected from a plurality of masks M stored in the predetermined mask stocker 171 of the mask library 180, and the selected mask M is mounted on the mounting table of the mask loader 170 ( It mounts on 167, conveys, and mounts to the mask stage 110A, 110B, 110C of predetermined exposure unit 1000A, 1000B, 1000C. That is, one mask loader 170 is shared by three exposure units 1000A, 1000B, and 1000C.

따라서, 본 실시형태의 노광 장치 (PE102) 에 의하면, 5 대의 마스크 스토커 (171, 171‥) 로 이루어지는 마스크 라이브러리 (180) 와, 각 마스크 스토커 (171) 및 각 노광 유닛 (1000A, 1000B, 1000C) 에 대응할 수 있도록 자유롭게 이동할 수 있게 구성되는 1 대의 마스크 로더 (170) 를 구비하고, 1 대의 마스크 로더 (170) 에 의해 마스크 라이브러리 (180) 로부터 소정의 마스크 (M) 를 꺼내어, 각 노광 유닛 (1000A, 1000B, 1000C) 의 마스크 스테이지 (110A, 110B, 110C) 에 마스크 (M) 를 공급하므로, 다수의 마스크 (M) 를 마스크 라이브러리 (180) 에 수용하여 준비하고, 많은 종류의 마스크 패턴에 용이하게 대응할 수 있다. 또, 1 대의 마스크 로더 (170) 에서 3 대의 노광 유닛 (1000A, 1000B, 1000C) 에 마스크 (M) 를 공급할 수 있으므로, 노광 장치 (PE102) 를 소형화할 수 있고, 공장 등의 설치 공간을 유효하게 이용할 수 있음과 함께, 노광 장치 (PE102) 의 제조 비용을 저감시킬 수 있다. Therefore, according to the exposure apparatus PE102 of this embodiment, the mask library 180 which consists of five mask stockers 171, 171 ..., each mask stocker 171, and each exposure unit 1000A, 1000B, 1000C. It is provided with one mask loader 170 which can be freely moved so that it can respond | correspond to, The predetermined mask M is taken out from the mask library 180 by one mask loader 170, and each exposure unit 1000A is provided. Since the masks M are supplied to the mask stages 110A, 110B, and 110C of 1000B and 1000C, a plurality of masks M are accommodated in the mask library 180 to be prepared, and a large number of mask patterns can be easily prepared. It can respond. In addition, since the mask M can be supplied to the three exposure units 1000A, 1000B, and 1000C by one mask loader 170, the exposure apparatus PE102 can be downsized, and the installation space of a factory etc. can be effectively made. While being able to use it, the manufacturing cost of exposure apparatus PE102 can be reduced.

그 외의 구성 및 작용 효과에 대해서는, 상기 제 1 실시형태와 동일하다. Other configurations and effects are the same as those of the first embodiment.

또한, 본 발명은, 상술한 각 실시형태로 한정되는 것이 아니라, 적절하게 변형, 개량 등이 가능하다. In addition, this invention is not limited to each embodiment mentioned above, A deformation | transformation, improvement, etc. are possible suitably.

예를 들어, 각 실시형태에서는, 노광 유닛 및 마스크 라이브러리의 마스크 스토커의 대수를 한정하고 있지만, 그 대수는 임의적이다. For example, in each embodiment, although the number of mask stockers of an exposure unit and a mask library is limited, the number is arbitrary.

제 3 실시형태Third embodiment

이하, 본 발명에 관련되는 노광 장치의 일 실시형태에 대해서, 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. 도 6 은 본 발명에 관련되는 노광 장치의 전체 구성을 설명하기 위한 개략 평면도, 도 7 은 도 6 에 나타내는 노광 유닛의 요부 정면도, 도 8 은 도 7 에 나타내는 기판 스테이지의 측면도, 도 9 는 도 6 에 나타내는 기판 로더의 측면도이다. EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, one Embodiment of the exposure apparatus which concerns on this invention is described in detail with reference to drawings. FIG. 6 is a schematic plan view for explaining the overall configuration of the exposure apparatus according to the present invention, FIG. 7 is a front view of the principal parts of the exposure unit shown in FIG. 6, FIG. 8 is a side view of the substrate stage shown in FIG. 7, and FIG. 9 is FIG. It is a side view of the board | substrate loader shown in 6.

도 6 및 도 7 에 나타내는 바와 같이, 본 실시형태의 노광 장치 (PE) 는, 2 대의 노광 유닛 (100A, 100B) 을 병렬 배치시키고 있다. 노광 유닛 (100A, 100B) 은, 마스크 스테이지 (10A, 10B), 제 1 기판 스테이지 (11, 11), 제 2 기판 스테이지 (12, 12), 조명 장치 (13, 13), 프리얼라인먼트 유닛 (14, 14), 제 1 기판 로더 (15, 15), 제 2 기판 로더 (16, 16), 마스크 로더 (17A, 17B), 및 마스크 스토커 (18A, 18B) 를 각각 구비하고, 기대 (基臺) (21, 21) 상에 각각 탑재되어 있다. 또, 마스크 스토커 (18A, 18B) 에 대한 마스크 (M) 의 공급은, 노광 유닛 (100A, 100B) 사이를 자유롭게 이동할 수 있고, 또한 자유롭게 회전할 수 있는 마스크 케이스 (20) 에 의해 실시된다. 또한, 마스크 (M) 의 방향을 명확하게 하기 위해, 마스크 (M) 에 굵은 화살표를 표시한다. As shown to FIG. 6 and FIG. 7, the exposure apparatus PE of this embodiment arrange | positions two exposure units 100A and 100B in parallel. The exposure units 100A and 100B include the mask stages 10A and 10B, the first substrate stages 11 and 11, the second substrate stages 12 and 12, the lighting devices 13 and 13, and the alignment unit 14. 14, 1st board | substrate loader 15, 15, 2nd board | substrate loader 16, 16, mask loader 17A, 17B, and mask stocker 18A, 18B, respectively, and are equipped with the base It is mounted on (21, 21), respectively. In addition, the supply of the mask M to the mask stockers 18A and 18B is performed by the mask case 20 which can move freely between the exposure units 100A and 100B and can rotate freely. In addition, in order to make clear the direction of the mask M, the thick arrow is displayed on the mask M. As shown in FIG.

마스크 스테이지 (10A, 10B) 는, 기대 (21) 상에 배치된 직사각형의 스테이지 베이스 (23) 에 설치되는 복수의 지주 (22) 로 지지되어, 스테이지 베이스 (23) 의 상방에 배치 형성되어 있다. 복수의 지주 (22) 는, 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 가 Y 방향 (도 6 의 좌우 방향) 으로 이동하여 마스크 스테이지 (10A, 10B) 의 하방으로 진출할 수 있도록 스테이지 베이스 (23) 의 상방에 공간을 형성하고 있다. 또, 마스크 스테이지 (10A, 10B) 는, 중앙에 직사각형 형상의 개구부 (24) 를 갖고, 마스크 스테이지 (10A, 10B) 에 대해서 X, Y, θ 방향으로 위치 조정할 수 있도록 지지되는 마스크 유지부 (25) 를 구비하고, 노광해야 할 마스크 패턴을 갖는 마스크 (M) 가 이 개구부 (24) 에 향하도록 하여 마스크 유지부 (25) 에 유지되어 있다. 또, 마스크 스테이지 (10A, 10B) 에는, 마스크 유지부 (25) 에 대한 마스크 (M) 의 위치를 검출하는 마스크용 얼라인먼트 카메라 (도시하지 않음) 와, 마스크 (M) 와 기판 (W) 사이의 갭을 검출하는 갭 센서 (도시하지 않음) 가 설치되어 있다. The mask stages 10A and 10B are supported by a plurality of struts 22 provided on the rectangular stage base 23 arranged on the base 21, and are disposed above the stage base 23. The plurality of struts 22 includes a stage base (1) so that the first and second substrate stages 11 and 12 can move in the Y direction (left and right directions in FIG. 6) to advance below the mask stages 10A and 10B. A space is formed above 23). In addition, the mask stage 10A, 10B has the rectangular opening part 24 in the center, and is the mask holding part 25 supported so that the mask stage 10A, 10B can be adjusted with respect to the mask stage 10A, 10B in X, Y, and (theta) directions. ) And a mask M having a mask pattern to be exposed is held in the mask holding part 25 so as to face the opening 24. In addition, the mask stage 10A, 10B has a mask alignment camera (not shown) which detects the position of the mask M with respect to the mask holding | maintenance part 25, and between the mask M and the board | substrate W. FIG. A gap sensor (not shown) which detects a gap is provided.

도 7 및 도 8 에 나타내는 바와 같이, 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 는, 피노광재로서의 기판 (W) 을 유지하는 기판 유지부 (31, 31) 를 상면에 각각 갖는다. 또, 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 의 하방에는, Y 축 테이블 (33), Y 축 이송 기구 (34), X 축 테이블 (35), X 축 이송 기구 (36), 및 Z-틸트 조정 기구 (37) 를 구비하는 기판 스테이지 이송 기구 (32, 32) 가 각각 설치된다. 이 기판 스테이지 이송 기구 (32) 는, 스테이지 베이스 (23) 에 대해서 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 를 X 방향 및 Y 방향으로 이송 구동함과 함께, 마스크 (M) 와 기판 (W) 사이의 간극을 미세 조정하도록, 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 를 Z 축 방향으로 미동 또한 틸트한다. As shown to FIG. 7 and FIG. 8, the 1st and 2nd board | substrate stage 11, 12 has the board | substrate holding parts 31 and 31 which hold | maintain the board | substrate W as an to-be-exposed material, respectively, on an upper surface. Moreover, below the 1st and 2nd board | substrate stage 11, 12, the Y-axis table 33, the Y-axis feed mechanism 34, the X-axis table 35, the X-axis feed mechanism 36, and Z -The substrate stage feed mechanisms 32 and 32 provided with the tilt adjustment mechanism 37 are provided, respectively. The substrate stage transfer mechanism 32 transfers and drives the first and second substrate stages 11 and 12 with respect to the stage base 23 in the X direction and the Y direction, and the mask M and the substrate W The first and second substrate stages 11 and 12 are finely moved and tilted in the Z-axis direction so as to finely adjust the gap between them.

구체적으로, Y 축 이송 기구 (34) 는, 스테이지 베이스 (23) 와 Y 축 테이블 (33) 사이에, 리니어 가이드 (38) 와 Y 축 이송 구동 기구 (39) 를 구비한다. 스테이지 베이스 (23) 상에는 2 개의 안내 레일 (40) 이 Y 축 방향을 따라 평행하게 배치되어 있고, Y 축 테이블 (33) 의 이면에 장착된 슬라이더 (41) 가 전동체 (도시하지 않음) 를 개재시켜 걸쳐서 설치되어 있다. 이로써, 2 대의 Y 축 스테이지 (33) 가 2 개의 안내 레일 (40) 을 따라 Y 축 방향을 따라 이동할 수 있게 지지된다. Specifically, the Y-axis feed mechanism 34 includes a linear guide 38 and a Y-axis feed drive mechanism 39 between the stage base 23 and the Y-axis table 33. On the stage base 23, two guide rails 40 are arranged in parallel along the Y axis direction, and the slider 41 mounted on the rear surface of the Y axis table 33 is interposed through a rolling element (not shown). It is installed across. Thereby, two Y-axis stages 33 are supported so that they may move along the two guide rails 40 along the Y-axis direction.

또, 스테이지 베이스 (23) 상에는, 모터 (42) 에 의해 회전 구동되는 볼 나 사축 (43) 이, 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 에 대응하여 각각 형성되어 있고, 볼 나사축 (43) 에는, Y 축 테이블 (33) 의 이면에 장착된 볼 나사 너트 (44) 가 나사 결합되어 있다. Moreover, on the stage base 23, the ball screw shaft 43 which is rotationally driven by the motor 42 is formed corresponding to the 1st and 2nd board | substrate stage 11, 12, respectively, and the ball screw shaft ( 43, the ball screw nut 44 attached to the back surface of the Y-axis table 33 is screwed.

또, X 축 이송 기구 (36) 도, 도 8 에 나타내는 바와 같이, Y 축 테이블 (33) 과 X 축 테이블 (35) 사이에, 리니어 가이드 (45) 와 X 축 이송 구동 기구 (46) 가 설치되어 있다. Y 축 테이블 (33) 상에는 2 개의 안내 레일 (47) 이 X 축 방향을 따라 평행하게 배치되어 있고, X 축 테이블 (35) 의 이면에 장착된 슬라이더 (48) 가 전동체 (도시하지 않음) 를 개재시켜 걸쳐서 설치된다. 또한 Y 축 테이블 (33) 상에는, 모터 (49) 에 의해 회전 구동되는 볼 나사축 (50) 이 설치되어 있고, 볼 나사축 (50) 에는, Y 축 테이블 (35) 의 이면에 장착된 볼 나사 너트 (51) 가 나사 결합되어 있다. In addition, as shown in FIG. 8, the X-axis feed mechanism 36 is provided with a linear guide 45 and an X-axis feed drive mechanism 46 between the Y-axis table 33 and the X-axis table 35. It is. On the Y-axis table 33, two guide rails 47 are arranged in parallel along the X-axis direction, and the slider 48 mounted on the rear surface of the X-axis table 35 carries a rolling element (not shown). It is installed across. Moreover, on the Y-axis table 33, the ball screw shaft 50 rotationally driven by the motor 49 is provided, The ball screw shaft 50 is provided with the ball screw attached to the back surface of the Y-axis table 35. The nut 51 is screwed together.

한편, Z-틸트 조정 기구 (37) 는, 모터와 볼 나사와 쐐기를 조합하여 이루어지는 가동 쐐기 기구를 구비하고 있고, X 축 테이블 (35) 의 상면에 설치한 모터 (52) 에 의해 볼 나사축 (53) 을 회전 구동함과 함께, 볼 나사 너트 (54) 를 쐐기 형상의 이동체에 장착하고, 이 쐐기의 경사면을 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 의 하면에 돌출설치된 쐐기 (55) 의 경사면과 걸어맞추고 있다. On the other hand, the Z-tilt adjustment mechanism 37 is provided with the movable wedge mechanism which combines a motor, a ball screw, and a wedge, and is provided with the ball screw shaft by the motor 52 provided in the upper surface of the X-axis table 35. FIG. Wedge 55 in which the ball screw nut 54 is attached to the wedge-shaped moving body while the 53 is rotated and the inclined surfaces of the wedge protrude to the lower surfaces of the first and second substrate stages 11 and 12. ) Is aligned with the slope of).

그리고, 이 볼 나사축 (53) 을 회전 구동시키면, 볼 나사 너트 (54) 가 X 축 방향으로 수평 미동하고, 이 수평 미동 운동이 장착된 쐐기 형상의 이동체의 경사면에 의해 고정밀도의 상하 미동 운동으로 변환된다. 이 Z-틸트 조정 기구 (37) 는, X 축 방향의 일단측에 2 대, 타단측에 1 대의 총 3 대가 설치되고, 각각 이 독립적으로 구동 제어된다. Then, when the ball screw shaft 53 is driven to rotate, the ball screw nut 54 is finely moved horizontally in the X-axis direction, and the vertically fine moving motion with high precision is inclined by the inclined surface of the wedge-shaped movable body to which the horizontal fine motion is mounted. Is converted to. As for this Z-tilt adjustment mechanism 37, two sets are provided in the one end side in the X-axis direction, and one in total is provided in the other end side, and each is drive-controlled independently.

이로써, Y 축 이송 기구 (34) 는, 각 기판 스테이지 (11, 12) 의 기판 유지부 (31) 에 유지된 기판 (W) 을 개별적으로 마스크 스테이지 (10A, 10B) 의 하방의 노광 위치 (EP) 에 배치하기 위해, 제 1 기판 스테이지 (11) 를 제 1 대기 위치 (WP1) 와 노광 위치 (EP) 사이에서 안내 레일 (40) 을 따라 Y 축 방향으로 이동시켜, 제 2 기판 스테이지 (12) 를 제 2 대기 위치 (WP2) 와 노광 위치 (EP) 사이에서 안내 레일 (40) 을 따라 Y 축 방향으로 이동시킨다. 또, Y 축 이송 기구 (34) 및 X 축 이송 기구 (36) 는, 노광 위치 (EP) 에 있는 기판 유지부 (31) 를 마스크 (M) 에 대해서 X, Y 방향으로 스텝 이동시키도록 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 를 이동시킨다. 또한, Y 축 이송 구동 기구 (39), X 축 이송 구동 기구 (46), 및 Z-틸트 조정 기구 (37) 는, 모터와 볼 나사 장치를 조합하고 있지만, 고정자와 가동자를 갖는 리니어 모터에 의해 구성되어도 된다. Thereby, the Y-axis feed mechanism 34 individually exposes the board | substrate W hold | maintained at the board | substrate holding part 31 of each board | substrate stage 11, 12 below the mask stage 10A, 10B. ), The first substrate stage 11 is moved in the Y-axis direction along the guide rail 40 between the first standby position WP1 and the exposure position EP, so that the second substrate stage 12 Is moved along the guide rail 40 in the Y axis direction between the second standby position WP2 and the exposure position EP. Moreover, the Y-axis feed mechanism 34 and the X-axis feed mechanism 36 are 1st so that the board | substrate holding part 31 in the exposure position EP may be moved to the mask M in the X, Y direction. And the second substrate stages 11 and 12 are moved. In addition, although the Y-axis feed drive mechanism 39, the X-axis feed drive mechanism 46, and the Z-tilt adjustment mechanism 37 combine the motor and the ball screw device, the linear motor having a stator and a mover is used. It may be configured.

또, 도 6∼도 8 에 나타내는 바와 같이, 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 에는, 각 기판 유지부 (31) 의 X 축 방향측부와 Y 축 방향측부에 각각 바 미러 (61, 62) 가 장착되어 있다. 또, 스테이지 베이스 (23) 의 Y 축 방향의 양측과 스테이지 베이스 (23) 의 X 축 방향의 일측에는, 3 대의 레이저 간섭계 (63, 64, 65) 가 설치되어 있다. 이로써, 레이저 간섭계 (63, 64, 65) 로부터 레이저광을 바 미러 (61, 62) 에 조사하고, 바 미러 (62) 에 의해 반사된 레이저광을 수광하고, 레이저광과 바 미러 (61, 62) 에 의해 반사된 레이저광과의 간섭을 측정하여, 제 1 및 제 2 스테이지 (11, 12) 의 위치를 검출한다. 6 to 8, the first and second substrate stages 11 and 12 respectively have bar mirrors 61 and X axis direction side portions and Y axis direction side portions of the substrate holding portions 31, respectively. 62) is installed. In addition, three laser interferometers 63, 64, and 65 are provided on both sides of the stage base 23 in the Y axis direction and on one side of the stage base 23 in the X axis direction. Thereby, the laser beam is irradiated to the bar mirrors 61 and 62 from the laser interferometers 63, 64 and 65, receives the laser beam reflected by the bar mirror 62, and the laser beam and the bar mirrors 61 and 62. The interference with the laser beam reflected by () is measured to detect the positions of the first and second stages 11 and 12.

도 7 에 나타내는 바와 같이, 조명 장치 (13) 는, 마스크 유지부 (25) 의 개구부 (24) 의 상방에 배치되어 자외선 조사용 광원인 예를 들어 고압 수은 램프, 오목면 거울, 옵티컬 인터그레이터, 평면 미러, 구면 미러, 및 노광 제어용 셔터 등을 구비하여 구성된다. 조명 장치 (13) 는, 노광 위치 (EP) 로 이동한 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 의 기판 유지부 (31) 에 유지된 기판 (W) 에, 패턴 노광용 광을 마스크 (M) 를 통하여 조사한다. 이로써, 기판 (W) 에는, 마스크 (M) 의 마스크 패턴이 노광 전사된다. As shown in FIG. 7, the illuminating device 13 is disposed above the opening 24 of the mask holder 25 and is a light source for ultraviolet irradiation, for example, a high pressure mercury lamp, a concave mirror, an optical integrator, And a planar mirror, a spherical mirror, a shutter for exposure control, and the like. The lighting device 13 masks light for pattern exposure to the substrate W held by the substrate holding portions 31 of the first and second substrate stages 11 and 12 moved to the exposure position EP. Check through). As a result, the mask pattern of the mask M is transferred to the substrate W by exposure.

프리얼라인먼트 유닛 (14) 은, 기대 (21) 의 외측에 설치된 기판 카세트 (70A, 70B) 에서 반송된 기판 (W) 이, 제 1 기판 스테이지 (11) 또는 제 2 기판 스테이지 (12) 에 공급됨에 앞서, 마스크 (M) 에 대한 기판 (W) 의 위치가 소정의 위치가 되도록 프리얼라인먼트를 실시하는 것이고, 도 10 중, 마스크 스테이지 (10A, 10B) 의 앞측에 배치되어 있다. 프리얼라인먼트 유닛 (14) 은, 도시하지 않는 X 축 이송 기구, Y 축 이송 기구, 및 회전 기구를 구비하고, 프리얼라인먼트 유닛 (14) 상에 탑재된 기판 (W) 의 위치를 소정의 위치로 조정한다. In the prealignment unit 14, the substrate W conveyed from the substrate cassettes 70A and 70B provided on the outside of the base 21 is supplied to the first substrate stage 11 or the second substrate stage 12. Previously, prealignment is performed so that the position of the substrate W with respect to the mask M becomes a predetermined position, and is arranged in front of the mask stages 10A and 10B in FIG. 10. The prealignment unit 14 is provided with the X-axis feed mechanism, the Y-axis feed mechanism, and the rotation mechanism which are not shown in figure, and adjusts the position of the board | substrate W mounted on the prealignment unit 14 to predetermined position. do.

제 1 기판 로더 (15) 는, 도 6 중 프리얼라인먼트 유닛 (14) 의 우측방에 배치되어, 제 2 기판 스테이지 (12) 로 반송되는 기판 (W) 을 유지하여 프리얼라인먼트 유닛 (14) 으로 반송하고, 또 프리얼라인먼트된 기판 (W) 을 프리얼라인먼트 유닛 (14) 으로부터 제 1 기판 스테이지 (11) 로 반송하게 되어 있다. The 1st board | substrate loader 15 is arrange | positioned at the right side of the prealignment unit 14 in FIG. 6, hold | maintains the board | substrate W conveyed to the 2nd board | substrate stage 12, and conveys it to the prealignment unit 14. FIG. And the pre-aligned board | substrate W is conveyed from the pre-alignment unit 14 to the 1st board | substrate stage 11.

제 2 기판 로더 (16) 는, 프리얼라인먼트 유닛 (14) 에 대해서 제 1 기판 로더 (15) 와 대향 배치, 즉, 도 6 중 프리얼라인먼트 유닛 (14) 의 좌측에 배치되 어, 제 1 기판 스테이지 (11) 로 반송되는 기판 (W) 을 유지하여 프리얼라인먼트 유닛 (14) 으로 반송하고, 또 프리얼라인먼트된 기판 (W) 을 프리얼라인먼트 유닛 (14) 으로부터 제 2 기판 스테이지 (12) 로 반송하게 되어 있다. The 2nd board | substrate loader 16 is arrange | positioned facing the 1st board | substrate loader 15 with respect to the prealignment unit 14, ie, the left side of the prealignment unit 14 in FIG. The board | substrate W conveyed to (11) is hold | maintained, and it conveys to the prealignment unit 14, and the pre-aligned board | substrate W is conveyed from the prealignment unit 14 to the 2nd board | substrate stage 12, have.

도 9 에 나타내는 바와 같이, 제 1 및 제 2 기판 로더 (15, 16) 는, 기대 (21) 에 고정된 칼럼 (81) 에 복수의 반송부 (82, 83) 가 자유롭게 요동할 수 있게 배치 형성되는 다관절형의 로더 로봇이다. 복수의 반송부 (82, 83) 는, 승강 기구 (도시하지 않음) 에 의해 칼럼 (81) 을 따라 상하 이동함과 함께, 각각 서보 모터가 배치 형성되어 서로 독립적으로 구동된다. 각 반송부 (82, 83) 는, 제 1 및 제 2 아암 (84, 85) 과 제 1 아암 (84) 의 선단에, 복수의 봉 형상 부재 (86) 가 평행하게 끼워 넣어져 설치된 탑재대 (87) 를 갖는다. 그리고, 각각의 서보 모터를 제어하여 작동시킴으로써, 탑재대 (87) 를 승강, 회전 및 이동시켜, 탑재대 (87) 상의 기판 (W) 을 반송한다. As shown in FIG. 9, the 1st and 2nd board | substrate loader 15 and 16 are arrange | positioned so that the some conveyance part 82 and 83 can rock freely in the column 81 fixed to the base 21. As shown in FIG. It is an articulated loader robot. The plurality of conveying units 82 and 83 move up and down along the column 81 by a lifting mechanism (not shown), and servo motors are arranged and driven independently of each other. Each conveyance part 82 and 83 has a mounting table in which a plurality of rod-shaped members 86 are fitted in parallel to the distal ends of the first and second arms 84 and 85 and the first arm 84 ( 87). Then, by operating each servo motor under control, the mounting table 87 is lifted, rotated, and moved to convey the substrate W on the mounting table 87.

구체적으로, 제 1 기판 로더 (15) 는, 기판 카세트 (70A) 에 수용된 기판 (W) 을 탑재대 (87) 상에 탑재하여 프리얼라인먼트 유닛 (14) 으로 반송하고, 프리얼라인먼트된 기판 (W) 을 탑재대 (87) 상에 탑재하여 프리얼라인먼트 유닛 (14) 으로부터 제 1 기판 스테이지 (11) 로 반송하고, 또한 제 1 대기 위치 (WP1) 에 위치하는 제 1 기판 스테이지 (11) 상의 노광 전사 후의 기판 (W) 을 탑재대 (87) 상에 탑재하여 기판 카세트 (70A) 로 반송한다. Specifically, the first substrate loader 15 mounts the substrate W accommodated in the substrate cassette 70A on the mounting table 87 and conveys it to the prealignment unit 14, and the substrate W that is prealigned. Is mounted on the mounting table 87 and conveyed from the prealignment unit 14 to the first substrate stage 11, and after the exposure transfer on the first substrate stage 11 positioned at the first standby position WP1. The board | substrate W is mounted on the mounting base 87, and it conveys to the board | substrate cassette 70A.

제 2 기판 로더 (16) 는, 기판 카세트 (70B) 에 수용된 기판 (W) 을 탑재대 (87) 상에 탑재하여 프리얼라인먼트 유닛 (14) 으로 반송하고, 프리얼라인먼트된 기판 (W) 을 탑재대 (87) 상에 탑재하여 프리얼라인먼트 유닛 (14) 으로부터 제 2 기판 스테이지 (12) 로 반송하고, 또한 제 2 대기 위치 (WP2) 에 위치하는 제 2 기판 스테이지 (12) 상의 노광 전사 후의 기판 (W) 을 탑재대 (87) 상에 탑재하여 기판 카세트 (70B) 로 반송한다. The 2nd board | substrate loader 16 mounts the board | substrate W accommodated in the board | substrate cassette 70B on the mounting board 87, conveys it to the prealignment unit 14, and mounts the board | substrate W prealigned. The substrate W after the exposure transfer on the second substrate stage 12 mounted on the 87 and conveyed from the prealignment unit 14 to the second substrate stage 12 and positioned at the second standby position WP2. ) Is mounted on the mounting table 87 and conveyed to the substrate cassette 70B.

그리고, 본 실시형태에서는, 도 6 에 나타내는 바와 같이, 마스크 로더 (17A) 및 마스크 스토커 (18A) 는, 노광 유닛 (100B) 의 측면 (도 6 의 우측면) 에 대해서 대향 배치, 즉, 도 6 중, 노광 유닛 (100A) 의 상부 좌측방에 배치되고, 마스크 로더 (17B) 및 마스크 스토커 (18B) 는, 노광 유닛 (100A) 의 측면 (도 6 의 좌측면) 에 대해서 대향 배치, 즉, 도 6 중, 노광 유닛 (100B) 상부 우측방에 배치되어 있고, 마스크 로더 (17A) 및 마스크 스토커 (18A) 와 마스크 로더 (17B) 및 마스크 스토커 (18B) 는, 서로 대칭 위치에 대향 배치되어 있다. And in this embodiment, as shown in FIG. 6, the mask loader 17A and the mask stocker 18A are arrange | positioned facing the side surface (right side of FIG. 6) of the exposure unit 100B, ie, in FIG. And disposed in the upper left side of the exposure unit 100A, and the mask loader 17B and the mask stocker 18B face each other with respect to the side surface (left side in FIG. 6) of the exposure unit 100A, that is, FIG. 6. It is arrange | positioned in the upper right side of the exposure unit 100B, and the mask loader 17A, the mask stocker 18A, the mask loader 17B, and the mask stocker 18B are mutually arrange | positioned at the symmetrical position.

마스크 로더 (17A, 17B) 는, 도 9 에 나타내는 제 1 및 제 2 기판 로더 (15, 16) 와 대략 동일한 구성을 갖고, 마스크 스토커 (18A, 18B) 에 저장되어 있는 복수매의 마스크 (M) 중에서 소정의 마스크 (M) 를 선택, 유지하고, 마스크 스테이지 (10A, 10B) 에 각각 공급한다. 또한, 마스크 로더 (17A, 17B) 의 경우, 반송부는 1 개이다. 또, 마스크 스테이지 (10A, 10B) 에 대한 마스크 (M) 의 공급은, 본 실시형태와 같이, 마스크 로더 (17A, 17B) 에 의해 마스크 스토커 (18A, 18B) 로부터 마스크 스테이지 (10A, 10B) 에 직접 공급해도 되지만, 이것에 한정되지 않고, 마스크 로더 (17A, 17B) 에 의해 마스크 스토커 (18A, 18B) 로부터 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 에 한 번 반송하고, 그 후, 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 에 의해 마스크 스테이지 (10A, 10B) 에 공급하도록 해도 된다. The mask loaders 17A and 17B have substantially the same configuration as the first and second substrate loaders 15 and 16 shown in FIG. 9, and the plurality of masks M stored in the mask stockers 18A and 18B. Predetermined mask M is selected and maintained among them, and it supplies to mask stage 10A, 10B, respectively. In addition, in the case of the mask loader 17A, 17B, there is one conveyance part. In addition, supply of the mask M to the mask stages 10A and 10B is performed from the mask stockers 18A and 18B to the mask stages 10A and 10B by the mask loaders 17A and 17B as in the present embodiment. Although it may supply directly, it is not limited to this, It conveys once from the mask stocker 18A, 18B to the 1st and 2nd board | substrate stage 11, 12 by mask loader 17A, 17B, and after that, The first and second substrate stages 11 and 12 may be supplied to the mask stages 10A and 10B.

구체적으로는, 마스크 로더 (17A) 는, 마스크 스토커 (18A) 에 저장되어 있는 복수매의 마스크 (M) 중에서 소정의 마스크 (M) 를 선택하고, 선택한 마스크 (M) 를 탑재대 (87) 상에 탑재시켜 반시계 방향 (도 6 의 화살표 A 방향) 으로 반송하여 마스크 스테이지 (10A) 에 장착한다. 또한 마스크 (M) 를 교환할 때에는, 노광 전사 후의 마스크 (M) 를 탑재대 (87) 상에 탑재하여 마스크 스토커 (18A) 에 저장시킨다. Specifically, the mask loader 17A selects a predetermined mask M from among a plurality of masks M stored in the mask stocker 18A, and mounts the selected mask M on the mounting table 87. Is mounted on the mask stage 10A in a counterclockwise direction (arrow A direction in FIG. 6). When the mask M is replaced, the mask M after exposure transfer is mounted on the mounting table 87 and stored in the mask stocker 18A.

또, 마스크 로더 (17B) 는, 마스크 스토커 (18B) 에 저장되어 있는 복수매의 마스크 (M) 중에서 소정의 마스크 (M) 를 선택하고, 선택한 마스크 (M) 를 탑재대 (87) 상에 탑재시켜 시계 방향 (도 6 의 화살표 B 방향) 으로 반송하여 마스크 스테이지 (10B) 에 장착한다. 또한 마스크 (M) 를 교환할 때에는, 노광 전사 후의 마스크 (M) 를 탑재대 (87) 상에 탑재하고 마스크 스토커 (18B) 에 저장시킨다.The mask loader 17B selects a predetermined mask M from among a plurality of masks M stored in the mask stocker 18B, and mounts the selected mask M on the mounting table 87. It carries out clockwise (arrow B direction of FIG. 6), and attaches to the mask stage 10B. When the mask M is replaced, the mask M after the exposure transfer is mounted on the mounting table 87 and stored in the mask stocker 18B.

또한, 마스크 로더 (17A, 17B) 가, 도 9 에 나타내는 제 1 및 제 2 기판 로더 (15, 16) 와 같이 2 개의 반송부 (82, 83) 를 구비하고 있으면, 노광 전사 전의 마스크 (M) 를 반송부 (82(83)) 의 탑재대 (87) 에 유지한 상태에서, 노광 전사 후의 마스크 (M) 를 반송부 (83(82)) 의 탑재대 (87) 에서 분리되고, 분리된 직후에 반송부 (82(83)) 에 유지한 노광 전사 전의 마스크 (M) 를 마스크 스테이지 (10A, 10B) 에 장착할 수 있게 된다. In addition, if the mask loader 17A, 17B is equipped with two conveyance parts 82 and 83 like the 1st and 2nd board | substrate loader 15 and 16 shown in FIG. 9, the mask M before exposure transcription | transfer will be carried out. Is held on the mounting table 87 of the carrying section 82 (83), the mask M after exposure transfer is separated from the mounting table 87 of the carrying section 83 (82), and immediately after being separated. The mask M before the exposure transfer held in the transfer section 82 (83) can be attached to the mask stages 10A and 10B.

마스크 스토커 (18A, 18B) 는, 마스크 패턴이 상이한 복수매의 마스크 (M) 를 수용하기 위한 저장고로서, 마스크 케이스 (20) 로부터 마스크 (M) 가 공급되고 저장된다. 또, 마스크 스토커 (18A, 18B) 의 마스크 공급구 (19A, 19B) 는, 서로 대향하여 배치된다. 즉, 일방의 마스크 공급구 (19A) 는, 노광 유닛 (100A) 의 상부 좌측 벽부에 배치 형성되고, 타방의 마스크 공급구 (19B) 는, 노광 유닛 (100B) 의 상부 우측벽부에 배치 형성되어 있다. The mask stockers 18A and 18B are reservoirs for accommodating a plurality of masks M having different mask patterns, and the mask M is supplied and stored from the mask case 20. In addition, the mask supply ports 19A and 19B of the mask stockers 18A and 18B are disposed to face each other. That is, one mask supply port 19A is disposed at the upper left wall portion of the exposure unit 100A, and the other mask supply port 19B is disposed at the upper right wall portion of the exposure unit 100B. .

마스크 케이스 (20) 는, 예를 들어, 저면에 캐스터 (도시하지 않음) 등을 구비하고, 병렬 배치된 노광 유닛 (100A, 100B) 사이를 자유롭게 이동할 수 있고, 또한 자유롭게 회전할 수 있게 구성되어 소정의 방향을 향해 정렬된 복수매의 마스크 (M) 를, 그 내부에 설치된 선반에 탑재하여 수용한다. 또, 마스크 케이스 (20) 에는, 한 개소만 개구부 (20a) 가 형성되어 있고, 마스크 스토커 (18A, 18B) 에 마스크 (M) 를 공급할 때에는, 마스크 케이스 (20) 를 이동 및 회전시켜, 개구부 (20a) 와 마스크 공급구 (19A) 또는 마스크 공급구 (19B) 를 대향시키도록 배치한다. 이로써, 마스크 스토커 (18A) 에는 화살표 C 방향에서, 마스크 스토커 (18B) 에는 화살표 D 방향에서 마스크 (M) 가 공급된다 (도 6 참조) . The mask case 20 includes, for example, a caster (not shown) or the like on a bottom surface thereof, and is configured to be able to move freely between the exposure units 100A and 100B arranged in parallel, and to rotate freely. The plurality of masks M arranged aligned in the direction of is mounted on the shelf provided therein and accommodated. Moreover, only one opening 20a is formed in the mask case 20, and when supplying the mask M to the mask stockers 18A and 18B, the mask case 20 is moved and rotated, and the opening ( It arrange | positions so that 20a) and the mask supply port 19A or the mask supply port 19B may oppose. Thereby, the mask M is supplied to the mask stocker 18A in the arrow C direction and the mask stocker 18B in the arrow D direction (see FIG. 6).

이와 같이 구성된 노광 장치 (PE) 에서는, 마스크 (M) 는, 굵은 화살표가 좌방향을 향한 상태에서, 마스크 케이스 (20) 에 수용되어 있고, 노광 유닛 (100A) 의 마스크 스테이지 (10A) 에 마스크 (M) 를 장착하는 경우, 마스크 케이스 (20) 는, 그 개구부 (20a) 와 마스크 스토커 (18A) 의 마스크 공급구 (19A) 를 대향시키도록 배치되고, 마스크 (M) 는 마스크 스토커 (18A) 에 굵은 화살표가 좌방향을 향하도록 공급, 저장된다. 그리고, 마스크 로더 (17A) 는, 마스크 스토커 (18A) 에 저장되어 있는 복수매의 마스크 (M) 중에서 소정의 마스크 (M) 를 선택, 유지하 고, 선택한 마스크 (M) 를 화살표 A 방향으로 약 90˚회전시켜 반송하고 마스크 스테이지 (10A) 에 장착시킨다. 이로써, 마스크 (M) 는, 마스크 스테이지 (10A) 에 굵은 화살표가 하방향을 향하도록 장착된다. In the exposure apparatus PE comprised in this way, the mask M is accommodated in the mask case 20 in the state in which the thick arrow turned left, and the mask (10A) of the exposure unit 100A is provided with the mask ( When attaching M, the mask case 20 is arrange | positioned so that the opening part 20a and the mask supply port 19A of the mask stocker 18A may be opposed, and the mask M may be made to the mask stocker 18A. It is supplied and stored with a thick arrow pointing to the left. Then, the mask loader 17A selects and holds a predetermined mask M among a plurality of masks M stored in the mask stocker 18A, and moves the selected mask M in the direction of arrow A about 90 degrees. It rotates by degree and conveys and attaches to the mask stage 10A. Thereby, the mask M is attached to mask stage 10A so that a thick arrow may face downward.

또, 노광 유닛 (100B) 의 마스크 스테이지 (10B) 에 마스크 (M) 를 장착하는 경우, 마스크 케이스 (20) 는, 그 개구부 (20a) 와 마스크 스토커 (18B) 의 마스크 공급구 (19B) 를 대향시키도록 배치되고, 마스크 (M) 는, 마스크 스토커 (18B) 에 굵은 화살표가 우방향을 향하도록 공급, 저장된다. 그리고, 마스크 로더 (17B) 는, 마스크 스토커 (18B) 에 저장되어 있는 복수매의 마스크 (M) 중에서 소정의 마스크 (M) 를 선택, 유지하고, 선택한 마스크 (M) 를 화살표 B 방향으로 약 90˚회전시켜 반송하고 마스크 스테이지 (1OB) 에 장착시킨다. 이로써, 마스크 (M) 는, 마스크 스테이지 (10B) 에 굵은 화살표가 하방향을 향하도록 장착된다. Moreover, when attaching the mask M to the mask stage 10B of the exposure unit 100B, the mask case 20 opposes the opening part 20a and the mask supply port 19B of the mask stocker 18B. The mask M is supplied to and stored in the mask stocker 18B so that a thick arrow faces a right direction. The mask loader 17B selects and holds a predetermined mask M among a plurality of masks M stored in the mask stocker 18B, and sets the selected mask M in the direction of an arrow B about 90 degrees. It rotates and conveys it, and is attached to the mask stage 1OB. Thereby, the mask M is attached to the mask stage 10B so that a thick arrow may face downward.

즉, 병렬 배치된 노광 유닛 (100A, 100B) 의 마스크 스토커 (18A, 18B) 에 대한 마스크 (M) 의 공급은, 1 종류의 마스크 케이스 (20) 를 180˚회전시키는 것만으로 대응할 수 있어 마스크 스토커 (18A, 18B) 에 마스크 (M) 를 소정의 방향을 향하여 공급할 수 있다. That is, the supply of the mask M to the mask stockers 18A, 18B of the exposure units 100A, 100B arranged in parallel can cope only by rotating the one kind of mask case 20 by 180 degrees, and the mask stocker. The mask M can be supplied to the predetermined directions 18A and 18B.

본 실시형태의 노광 장치 (PE) 에 의하면, 노광 유닛 (100A, 100B) 은, 병렬 배치되고, 노광 유닛 (100A, 100B) 은, 각 노광 유닛 (100A, 100B) 의 대칭 위치에 배치되어 복수매의 마스크 (M) 를 수용하고, 또한 마스크 (M) 의 마스크 공급구 (19A, 19B) 가 서로 대향하도록 배치되는 마스크 스토커 (18A, 18B) 와, 마스크 스토커 (18A, 18B) 로부터 소정의 마스크 (M) 를 마스크 스테이지 (10A, 10B) 에 공 급하는 마스크 로더 (17A, 17B) 를 구비하고, 마스크 스토커 (18A, 18B) 에 마스크 (M) 를 공급하여, 노광 유닛 (100A, 100B) 사이를 자유롭게 이동할 수 있고, 또한 자유롭게 회전할 수 있는 마스크 케이스 (20) 를 구비하므로, 1 종류의 마스크 케이스 (20) 를 이용하여, 복수의 노광 유닛 (100A, 100B) 의 마스크 스토커 (18A, 18B) 에 삽입 방향을 틀리지 않고 마스크 (M) 를 공급할 수 있다. 이로써, 각 노광 유닛 (100A, 100B) 에 마스크 (M) 를 용이 또한 효율적으로 공급할 수 있으므로, 작업 효율을 큰 폭으로 향상시킬 수 있다. According to the exposure apparatus PE of this embodiment, exposure unit 100A, 100B is arrange | positioned in parallel, and exposure unit 100A, 100B is arrange | positioned at the symmetrical position of each exposure unit 100A, 100B, and a plurality of sheets are carried out. The mask stocker 18A, 18B, which accommodates the mask M of the mask M, and the mask supply ports 19A, 19B of the mask M face each other, and a predetermined mask (from the mask stockers 18A, 18B). The mask loader 17A, 17B which supplies M to the mask stage 10A, 10B is provided, the mask M is supplied to the mask stocker 18A, 18B, and the exposure unit 100A, 100B is provided. Since the mask case 20 which can be moved freely and can be rotated freely is provided, it uses the mask case 20 of 1 type, and is provided to the mask stocker 18A, 18B of several exposure unit 100A, 100B. The mask M can be supplied without changing the insertion direction. Thereby, since the mask M can be easily and efficiently supplied to each exposure unit 100A, 100B, work efficiency can be improved significantly.

또한, 본 발명은 본 실시형태로 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 요지를 일탈하지 않는 범위에 있어서 적절하게 변경 가능하다. In addition, this invention is not limited to this embodiment, It can change suitably in the range which does not deviate from the summary of this invention.

예를 들어, 본 실시형태에서는, 기판 스테이지를 2 대 구비한 노광 유닛을 병렬 배치한 노광 장치에 본 발명을 적용했을 경우를 예시했지만, 이것에 대신하여, 기판 스테이지를 1 대 구비한 노광 유닛을 병렬 배치한 노광 장치에 본 발명을 적용해도 된다. For example, in this embodiment, the case where this invention is applied to the exposure apparatus which arranged the exposure units provided with two substrate stages in parallel was illustrated, but instead, the exposure unit provided with one substrate stage was provided. You may apply this invention to the exposure apparatus arrange | positioned in parallel.

또, 본 실시형태에서는, 노광 유닛을 2 대 병렬 배치한 노광 장치에 본 발명을 적용했을 경우를 예시했지만, 이것으로 한정되지 않고, 노광 유닛의 병렬 대수는 임의적이다. Moreover, in this embodiment, although the case where this invention is applied to the exposure apparatus which arrange | positioned two exposure units in parallel was illustrated, it is not limited to this, The parallel number of exposure units is arbitrary.

본 발명의 노광 장치에 의하면, 노광 유닛은, 병렬 배치되어 복수매의 마스크를 수용하는 마스크 스토커와, 마스크 스토커로부터 소정의 마스크를 마스크 스테이지에 공급하는 1 대의 마스크 로더를 구비하므로, 병렬 배치된 복수의 노광 유 닛의 각 마스크 스테이지에, 1 대의 마스크 로더에 의해 마스크를 공급할 수 있다. 이로써, 노광 장치를 소형화할 수 있고, 공장 등의 설치 공간을 유효하게 이용할 수 있음과 함께, 노광 장치의 제조 비용을 저감시킬 수 있다. According to the exposure apparatus of the present invention, since the exposure unit includes a mask stocker arranged in parallel to accommodate a plurality of masks and one mask loader for supplying a predetermined mask from the mask stocker to the mask stage, the plurality of exposure devices arranged in parallel A mask can be supplied to each mask stage of the exposure unit of 1 by one mask loader. Thereby, an exposure apparatus can be miniaturized, the installation space of factories etc. can be utilized effectively, and the manufacturing cost of an exposure apparatus can be reduced.

Claims (2)

피노광재로서의 기판을 유지하는 기판 스테이지와,A substrate stage for holding a substrate as an exposed material, 상기 기판에 대향 배치되어 마스크를 유지하는 마스크 스테이지와,A mask stage disposed opposite the substrate to hold a mask; 상기 기판에 대해서 패턴 노광용 광을 상기 마스크를 통하여 조사하는 조사 장치와,An irradiation apparatus for irradiating the substrate with light for pattern exposure through the mask; 상기 기판이 상기 마스크와 소정 위치에서 대향하도록 상기 기판 스테이지를 이동시키는 기판 스테이지 이송 기구를 구비하고, 병렬로 배치되는 복수의 노광 유닛과,A plurality of exposure units including a substrate stage transfer mechanism for moving the substrate stage such that the substrate faces the mask at a predetermined position, and disposed in parallel; 복수매의 상기 마스크를 수용하는 마스크 스토커와,A mask stocker accommodating a plurality of masks, 상기 마스크 스토커로부터 소정의 상기 마스크를 상기 마스크 스테이지에 공급하는 1 대의 마스크 로더를 구비한, 노광 장치. An exposure apparatus provided with one mask loader which supplies a predetermined said mask from the said mask stocker to the said mask stage. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 마스크 스토커는, 복수대가 병렬 배치되어 마스크 라이브러리를 구성하고,A plurality of mask stockers are arranged in parallel to form a mask library, 상기 1 대의 마스크 로더는, 상기 마스크 스토커 및 상기 노광 유닛의 각각에 대응하는 위치에 자유롭게 이동할 수 있게 구성되는 것을 특징으로 하는 노광 장치. The one mask loader is configured to be freely movable to a position corresponding to each of the mask stocker and the exposure unit.

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