KR20070104841A - Exposure apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
도 1 은, 본 발명에 관련되는 노광 장치의 제 1 실시형태의 전체 구성을 설명하기 위한 평면도.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The top view for demonstrating the whole structure of 1st Embodiment of the exposure apparatus which concerns on this invention.
도 2 는, 도 1 에 나타내는 노광 유닛의 요부 (要部) 측면도. FIG. 2 is an essential side view of the exposure unit shown in FIG. 1. FIG.
도 3 은, 도 1 에 나타내는 워크 로더의 측면도. FIG. 3 is a side view of the work loader shown in FIG. 1. FIG.
도 4 는, 본 발명에 관련되는 노광 장치의 제 2 실시형태의 전체 구성을 설명하기 위한 평면도. 4 is a plan view for explaining the overall configuration of a second embodiment of an exposure apparatus according to the present invention.
도 5 는, 종래의 노광 장치의 전체 구성을 설명하기 위한 평면도. 5 is a plan view for explaining the overall configuration of a conventional exposure apparatus.
도 6 은, 본 발명에 관련되는 노광 장치의 전체 구성을 설명하기 위한 개략 평면도. 6 is a schematic plan view for explaining the overall configuration of an exposure apparatus according to the present invention.
도 7 은, 도 6 에 나타내는 노광 유닛의 요부 정면도. FIG. 7 is a front view of main parts of the exposure unit shown in FIG. 6; FIG.
도 8 은, 도 7 에 나타내는 기판 스테이지의 측면도. FIG. 8 is a side view of the substrate stage shown in FIG. 7. FIG.
도 9 는, 도 6 에 나타내는 기판 로더의 측면도. FIG. 9 is a side view of the substrate loader shown in FIG. 6. FIG.
도 10 은, 종래의 노광 장치를 설명하기 위한 평면도. 10 is a plan view for explaining a conventional exposure apparatus.
본 발명은, 노광 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 반도체나, 액정 디스플레이 패널이나 플라즈마 디스플레이 등의 대형 플랫 패널 디스플레이를 제조하는 경우에 사용되는 노광 장치에 관한 것이다. The present invention relates to an exposure apparatus, and more particularly, to an exposure apparatus used when manufacturing a large flat panel display such as a semiconductor, a liquid crystal display panel or a plasma display.
도 5 에 나타내는 바와 같이, 종래의 노광 장치 (PE100) 에서는, 통상, 생산 효율을 향상시키기 위해, 복수대 (도 5 에서는 2 대) 의 노광 유닛 (1000A, 1000B) 이 병렬 배치되어 있다. 이 노광 유닛 (1000A, 1000B) 은, 마스크 패턴이 상이한 복수매의 마스크 (M) 를 저장 가능한 마스크 스토커 (102A, 102B) 를 구비한다. 이 마스크 스토커 (102A, 102B) 에 인접 배치된 마스크 로더 (103A, 103B) 는, 마스크 스토커 (102A, 102B) 로부터 소정의 마스크 (M) 를 꺼내어 마스크 스테이지 (104A, 104B) 에 장착하거나, 장착되어 있는 마스크 (M) 를 교환한다. As shown in FIG. 5, in the conventional exposure apparatus PE100, in order to improve the production efficiency, a plurality of
그러나, 종래의 노광 장치 (PE100) 에서는, 노광 유닛 (101A, 101B) 마다 전용 마스크 로더 (103A, 103B; 경우에 따라서는, 마스크 스토커 (102A, 102B) 도 전용) 가 각각 배치 형성되어 있기 때문에, 노광 장치 (PE100) 가 대형화되어 버려서, 공장 등에서의 설치 공간의 유효한 이용을 저해할 가능성이 있었다. 또, 노광 장치 (PE100) 의 제조 비용이 증대되었다. However, in the conventional exposure apparatus PE100, since the
본 발명은, 상기 사정을 감안하여 이루어진 것이고, 그 목적은, 노광 장치를소형화할 수 있고, 공장 등의 설치 공간을 유효하게 이용할 수 있음과 함께, 노광 장치의 제조 비용을 저감시킬 수 있는 노광 장치를 제공하는 것에 있다. This invention is made | formed in view of the said situation, The objective is the exposure apparatus which can miniaturize an exposure apparatus, can utilize the installation space, such as a factory effectively, and can reduce the manufacturing cost of an exposure apparatus. Is to provide.
본 발명의 상기 목적은, 하기의 구성에 의해 달성된다. The said objective of this invention is achieved by the following structures.
(1) 피노광재로서의 기판을 유지하는 기판 스테이지와, 기판에 대향 배치되어 마스크를 유지하는 마스크 스테이지와, 기판에 대해서 패턴 노광용 광을 마스크를 통하여 조사하는 조사 장치와, 기판이 마스크와 소정 위치에서 대향하도록 기판 스테이지를 이동시키는 기판 스테이지 이송 기구를 구비하는 노광 유닛을 복수 갖는 노광 장치로서, 노광 유닛은, 병렬 배치되어 복수매의 마스크를 수용하는 마스크 스토커와 마스크 스토커로부터 소정의 마스크를 마스크 스테이지에 공급하는 1 대의 마스크 로더를 구비하는 것을 특징으로 하는 노광 장치. (1) A substrate stage for holding a substrate as an object to be exposed, a mask stage for facing a substrate to hold a mask, an irradiation apparatus for irradiating light for pattern exposure to the substrate through a mask, and the substrate at a mask and a predetermined position An exposure apparatus having a plurality of exposure units having a substrate stage transfer mechanism for moving the substrate stage so as to face each other, wherein the exposure units are arranged in parallel and receive a predetermined mask from the mask stocker and the mask stocker to accommodate the plurality of masks. An exposure apparatus characterized by including one mask loader to supply.
(2) 마스크 스토커는, 복수대가 병렬 배치되어서 마스크 라이브러리를 구성하고, 1 대의 마스크 로더는, 마스크 스토커 및 노광 유닛의 각각에 대응하는 위치에 자유롭게 이동할 수 있게 구성되는 것을 특징으로 하는 (1) 에 기재된 노광 장치.(2) A plurality of mask stockers are arranged in parallel to constitute a mask library, and one mask loader is configured to be freely moved to a position corresponding to each of the mask stocker and the exposure unit. The exposure apparatus described.
상기 (1) 에 기재된 노광 장치에 의하면, 복수의 노광 유닛이 병렬 배치됨과 함께, 1 대의 마스크 로더에 의해 각 노광 유닛의 마스크 스테이지에 마스크를 공급하므로, 복수의 노광 유닛에 대해서 1 대의 마스크 로더를 공통시켜 이용할 수 있다. 이로써, 노광 장치를 소형화할 수 있고 공장 등의 설치 공간을 유효하게 이용할 수 있음과 함께, 노광 장치의 제조 비용을 저감시킬 수 있다. According to the exposure apparatus described in (1), a plurality of exposure units are arranged in parallel, and a mask is supplied to a mask stage of each exposure unit by one mask loader, so that one mask loader is provided for a plurality of exposure units. It can use in common. Thereby, an exposure apparatus can be miniaturized, the installation space of factories etc. can be utilized effectively, and the manufacturing cost of an exposure apparatus can be reduced.
상기 (2) 에 기재된 노광 장치에 의하면, 복수대의 마스크 스토커로 이루어지는 마스크 라이브러리와, 각 마스크 스토커 및 각 노광 유닛에 대응할 수 있도록 자유롭게 이동할 수 있게 구성되는 1 대의 마스크 로더를 구비하고, 1 대의 마스크 로더에 의해 마스크 라이브러리로부터 소정의 마스크를 꺼내, 각 노광 유닛의 마스크 스테이지에 마스크를 공급하므로, 다수의 마스크를 마스크 라이브러리에 수용하여 준비하고, 많은 종류의 마스크 패턴에 용이하게 대응할 수 있다. 또, 1 대의 마스크 로더에 의해 복수의 노광 유닛에 마스크를 공급할 수 있으므로, 노광 장치를 소형화할 수 있고, 공장 등의 설치 공간을 유효하게 이용할 수 있음과 함께, 노광 장치의 제조 비용을 저감시킬 수 있다. According to the exposure apparatus as described in said (2), it is equipped with the mask library which consists of several mask stockers, and one mask loader comprised so that it can move freely so that it may correspond to each mask stocker and each exposure unit, and one mask loader By removing the predetermined mask from the mask library and supplying the mask to the mask stage of each exposure unit, a large number of masks can be accommodated in the mask library and prepared, and it can easily correspond to many kinds of mask patterns. In addition, since a mask can be supplied to a plurality of exposure units by one mask loader, the exposure apparatus can be miniaturized, the installation space such as a factory can be effectively used, and the manufacturing cost of the exposure apparatus can be reduced. have.
발명을 실시하기To practice the invention 위한 최선의 형태 Best form for
이하, 본 발명에 관련되는 노광 장치의 각 실시형태에 대해, 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, each embodiment of the exposure apparatus which concerns on this invention is described in detail with reference to drawings.
제 1 실시형태1st Embodiment
먼저, 도 1∼도 3 을 참조하여, 본 발명에 관련되는 노광 장치의 제 1 실시형태에 대해 설명한다. First, with reference to FIGS. 1-3, 1st Embodiment of the exposure apparatus which concerns on this invention is described.
도 1 은 본 발명에 관련되는 노광 장치의 제 1 실시형태의 전체 구성을 설명하기 위한 평면도, 도 2 는 도 1 에 나타내는 노광 유닛의 요부 측면도, 도 3 은 도 1 에 나타내는 워크 로더의 측면도이다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The top view for demonstrating the whole structure of the 1st embodiment of the exposure apparatus which concerns on this invention, FIG. 2 is a principal side view of the exposure unit shown in FIG. 1, and FIG. 3 is a side view of the work loader shown in FIG.
도 1 및 도 2 에 나타내는 바와 같이, 본 실시형태의 노광 장치 (PE101) 는, 2 대의 노광 유닛 (1000A, 1000B) 을 병렬 배치시키고 있다. 노광 유닛 (1000A, 1000B) 은, 마스크 (M) 를 유지하는 마스크 스테이지 (110A, 110B) 와, 피노광재로서의 유리 기판 (피노광재; W) 을 유지하는 기판 스테이지 (120, 120) 와, 유리 기판 (W) 에 대해서 패턴 노광용 광을 마스크 (M) 를 통하여 조사하는 조사 장치 (130, 130) 와, 유리 기판 (W) 이 마스크 (M) 와 소정 위치에서 대향하도록 기판 스테이지 (120, 120) 를 이동시키는 기판 스테이지 이송 기구 (140, 140) 와, 기판 스테이지 (120, 120) 에 유리 기판 (W) 을 반송 (搬送) 하는 워크 로더 (160, 160) 를 각각 구비하고, 장치 베이스 (150, 150) 상에 탑재되어 있다. As shown to FIG. 1 and FIG. 2, the exposure apparatus PE101 of this embodiment arrange | positions two
또, 노광 장치 (PE101) 에는, 2 대의 노광 유닛 (1000A, 1000B) 에 대응 가능한 위치 (2 대의 노광 유닛 (1000A, 1000B) 의 사이) 에, 1 대의 마스크 로더 (170) 및 1 대의 마스크 스토커 (171) 가 배치되어 있다. In addition, in the exposure apparatus PE101, one
또한, 유리 기판 (W) (이하, 간단하게 「기판 (W)」이라고 칭한다) 은, 마스크 (M) 에 대향 배치되어 있고, 이 마스크 (M) 에 그려진 마스크 패턴을 노광 전사하기 위하여 표면 (마스크 (M) 와 대향하는 면) 에 감광제가 도포되어 있다. In addition, the glass substrate W (henceforth simply called "substrate W") is arrange | positioned facing the mask M, and is surface (mask) in order to expose and transfer the mask pattern drawn on this mask M. FIG. The photosensitive agent is apply | coated to (M) surface which faces.
마스크 스테이지 (110A, 110B) 는, 장치 베이스 (150) 상에 기립 형성되는 4 개의 지주 (151) 및 이 지주 (151) 의 상단부에 설치되는 Z 축 이동 장치 (152) 에 의해 Z 축 방향으로 이동할 수 있게 지지되어, 기판 스테이지 (120) 의 상방에 배치된다. Z 축 이동 장치 (152) 는, 예를 들어, 모터 및 볼 나사 등으로 이루어지는 전동 액츄에이터, 혹은 공압 실린더 등을 구비하고, 단순한 상하 동작을 실시함으로써, 마스크 스테이지 (110A, 110B) 를 소정의 위치까지 승강시킨다. 또, 마스크 스테이지 (110A, 110B) 에는, 직사각형 형상의 개구부 (111) 가 중앙에 형성되어 있고, 이 개구부 (111) 에는, 마스크 홀더 (112) 에 의해 마스크 (M) 가 유지되어 있다. The
기판 스테이지 (120) 는, 도 2 에 나타내는 바와 같이, 기판 스테이지 이동 기구 (140) 상에 설치되어 있고, 그 상면에는, 기판 (W) 을 기판 스테이지 (120) 에 유지하기 위한 워크 척 (121) 이 설치된다. 또한, 워크 척 (121) 은, 진공 흡착에 의해 기판 (W) 을 유지하고 있다. As shown in FIG. 2, the
기판 스테이지 이동 기구 (140) 는, 도 2 에 나타내는 바와 같이 장치 베이스 (150) 의 상면에 Y 축 방향을 따라 설치되는 Y 축 이송 기구 (141) 와, Y 축 이송 기구 (141) 에 의해 Y 축 방향으로 이동할 수 있게 지지되는 Y 축 테이블 (142) 과, Y 축 테이블 (142) 의 상면에 X 축 방향을 따라 설치되는 X 축 이송 기구 (143) 와, X 축 이송 기구 (143) 에 의해 X 축 방향으로 이동할 수 있게 지지되는 X 축 테이블 (144) 과, X 축 테이블 (144) 상에 설치되어 기판 스테이지 (120) 의 하면을 지지하는 3 대의 Z-틸트 (tilt) 조정 기구 (145) 를 구비한다. 이 기판 스테이지 이동 기구 (140) 는, 기판 스테이지 (120) 를 X 축, Y 축, Z 축 방향으로 이동시키고 또한, 기판 스테이지 (120) 의 틸트 조정을 실시한다.As shown in FIG. 2, the substrate
조사 장치 (130) 는, 개구부 (111) 의 상방에 배치되어 자외선 조사용 광원인 예를 들어, 고압 수은 램프, 오목면 거울, 옵티컬 인터그레이터, 평면 미러, 구면 미러, 및 노광 제어용 셔터 등을 구비하여 구성된다. 조사 장치 (130) 는, 기판 스테이지 (120) 의 워크 척 (121) 에 유지된 기판 (W) 에, 패턴 노광용 광을 마스크 (M) 를 통하여 조사한다. 이로써, 기판 (W) 에는, 마스크 (M) 의 마스크 패턴이 노광 전사된다. The
워크 로더 (160) 는, 도 3 에 나타내는 바와 같이, 장치 베이스 (150) 상에 고정되는 칼럼 (161) 에 복수의 반송부 (162, 163) 가 자유롭게 요동할 수 있게 배 치 형성되는 다관절형 로더 로봇이다. 복수의 반송부 (162, 163) 는, 승강 기구 (도시하지 않음) 에 의해 칼럼 (161) 을 따라 상하 이동함과 함께, 각각 서보 모터가 배치 형성되어 서로 독립적으로 구동된다. 각 반송부 (162, 163) 는, 제 1 및 제 2 아암 (164, 165) 과, 제 1 아암 (164) 의 선단에 복수의 봉 형상 부재 (166) 가 평행하게 심어 설치된 탑재대 (167) 를 갖는다. 그리고, 각각의 서보 모터를 제어하여 작동시킴으로써, 탑재대 (167) 를 승강, 회전, 및 이동시켜, 탑재대 (167) 상의 기판 (W) 을 반송한다. As shown in FIG. 3, the
1 대의 마스크 로더 (170) 는, 2 대의 노광 유닛 (1000A, 1000B) 사이에 배치되어 있다. 마스크 로더 (170) 는, 도 3 에 나타내는 워크 로더 (160) 와 대략 동일한 구성을 갖고, 마스크 스토커 (171) 에 저장되는 복수매의 마스크 (M) 중에서 소정의 마스크 (M) 를 선택, 유지하고, 마스크 스테이지 (110A, 110B) 에 각각 공급한다. 또한, 마스크 로더 (170) 의 경우, 반송부는 1 개이다. 또, 마스크 스테이지 (110A, 110B) 에 대한 마스크 (M) 의 공급은, 본 실시형태와 같이, 마스크 로더 (170) 에 의해 마스크 스토커 (171) 로부터 마스크 스테이지 (110A, 110B) 에 직접 공급해도 되지만, 이것으로 한정되지 않고, 마스크 로더 (170) 에 의해 마스크 스토커 (171) 로부터 기판 스테이지 (120) 상의 워크 척 (121) 에서 돌출되는 도시하지 않은 마스크 수용부로 반송되고, 기판 스테이지 (120) 가 마스크 (M) 를 마스크 스테이지 (110A, 110B) 에 공급되도록 해도 된다. One
구체적으로는, 마스크 로더 (170) 는, 마스크 스토커 (171) 에 저장되어 있는 복수매의 마스크 (M) 중에서 소정의 마스크 (M) 를 선택하고, 선택한 마스크 (M) 를 마스크 로더 (170) 의 탑재대 (167) 상에 탑재하여 마스크 스테이지 (110A, 110B) 로 반송하고, 마스크 홀더 (112) 에 진공 흡착시켜 장착한다. 또, 마스크 (M) 를 교환할 때에는, 노광 전사 후의 마스크 (M) 를 탑재대 (167) 상에 탑재하여 마스크 스토커 (171) 에 저장시킨다. 또한, 마스크 로더 (170) 가 도 3 에 나타내는 워크 로더 (160) 와 같이 2개의 반송부 (162, 163) 를 구비하고 있으면, 노광 전사 전의 마스크 (M) 를 반송부 (162(163)) 의 탑재대 (167) 에 유지한 상태에서, 노광 전사 후의 마스크 (M) 를 반송부 (163(162)) 의 탑재대 (167) 에서 분리하고, 분리된 직후에 반송부 (162(163)) 에 유지한 노광 전사 전의 마스크 (M) 를 마스크 스테이지 (110A, 110B) 에 장착할 수 있게 된다. Specifically, the
마스크 스토커 (171) 는, 마스크 패턴이 상이한 복수매의 마스크 (M) 를 수용하기 위한 저장고로서, 도시하지 않은 마스크 케이스로부터 마스크 (M) 가 공급되고, 마스크 (M) 를 정렬시킨 상태에서 그 내부에 설치된 선반에 탑재하여 수용한다. The
이와 같이 구성된 노광 장치 (PE101) 에서는, 2 대의 노광 유닛 (1000A, 1000B) 사이에 배치되는 1 대의 마스크 로더 (170) 가, 마스크 스토커 (171) 에 저장되는 복수매의 마스크 (M) 중에서 소정의 마스크 (M) 를 선택하고, 선택한 마스크 (M) 를 마스크 로더 (170) 의 탑재대 (167) 상에 탑재하여, 소정의 노광 유닛 (1000A, 1000B) 의 각 마스크 스테이지 (110A, 110B) 로 반송하여 장착한다. 즉, 1 대의 마스크 로더 (170) 가, 2 대의 노광 유닛 (1000A, 1000B) 에 공용된다. In exposure apparatus PE101 comprised in this way, one
따라서, 본 실시형태의 노광 장치 (PE101) 에 의하면, 2 대의 노광 유닛 (1000A, 1000B) 이 병렬 배치되어 복수매의 마스크 (M) 를 수용하는 마스크 스토커 (171) 와, 마스크 스토커 (171) 로부터 소정의 마스크 (M) 를 마스크 스테이지 (110A, 110B) 에 공급하는 1 대의 마스크 로더 (170) 를 구비하므로, 병렬 배치된 2 대의 노광 유닛 (1000A, 1000B) 의 각 마스크 스테이지 (110A, 110B) 에, 1 대의 마스크 로더 (170) 에 의해 마스크 (M) 를 공급할 수 있다. 이로써, 노광 장치 (PE101) 를 소형화할 수 있고, 공장 등의 설치 공간을 유효하게 이용할 수 있음과 함께, 노광 장치 (PE101) 의 제조 비용을 저감시킬 수 있다.Therefore, according to the exposure apparatus PE101 of this embodiment, from the
제 2 실시형태2nd Embodiment
다음으로, 도 4 를 참조하여, 본 발명에 관련되는 노광 장치의 제 2 실시형태에 대해 설명한다. 또한, 마스크 스토커와 마스크 로더의 형태가 상이한 것 이외에는, 제 1 실시형태의 노광 장치와 동일하므로, 제 1 실시형태와 동일 부분 또는 유사 부분에 대해서는, 도면에 동일 부호를 붙여 그 설명을 생략 혹은 간략화한다. Next, with reference to FIG. 4, 2nd Embodiment of the exposure apparatus which concerns on this invention is described. In addition, since it is the same as that of the exposure apparatus of 1st Embodiment except the form of a mask stocker and a mask loader, about the same part or similar part as 1st Embodiment, the same code | symbol is attached | subjected to drawing, and the description is abbreviate | omitted or simplified. do.
도 4 는 본 발명에 관련되는 노광 장치의 제 2 실시형태의 전체 구성을 설명하기 위한 평면도이다. It is a top view for demonstrating the whole structure of 2nd Embodiment of the exposure apparatus which concerns on this invention.
도 4 에 나타내는 바와 같이, 본 실시형태의 노광 장치 (PE102) 는, 3 대의 노광 유닛 (1000A, 1000B, 1000C) 을 병렬 배치시키고 있다. 또, 노광 유닛 (1000A, 1000B, 1000C) 과 대향하는 위치에는, 5 대의 마스크 스토커 (171, 171‥) 를 갖는 마스크 라이브러리 (180) 가 배치된다. 또한 마스크 라이브러리 (180) 와 3 대의 노광 유닛 (1000A, 1000B, 1000C) 사이에는, 도시하지 않은 가이드 레일 을 따라 화살표 A 및 B 방향으로 자유롭게 이동할 수 있게 구성된 1 대의 마스크 로더 (170) 가 배치되어 있다. 또한, 노광 유닛 (1000C) 은, 노광 유닛 (1000A, 1000B) 과 동일한 구성이다. As shown in FIG. 4, the exposure apparatus PE102 of this embodiment arrange | positions three
1 대의 마스크 로더 (170) 는, 화살표 A 및 B 방향으로 이동함으로써, 3 대의 노광 유닛 (1000A, 1000B, 1000C) 및 5 대의 마스크 스토커 (171, 171‥) 각각과 대향하는 위치에 배치된다. 그리고, 1 대의 마스크 로더 (170) 는, 마스크 라이브러리 (180) 의 소정의 마스크 스토커 (171) 로부터 소정의 마스크 (M) 를 선택하고, 선택한 마스크 (M) 를 소정의 노광 유닛 (1000A, 1000B, 1000C) 으로 반송하여, 각 마스크 스테이지 (110A, 110B, 110C) 에 장착하도록 구성되어 있다. One
이와 같이 구성된 노광 장치 (PE102) 에서는, 마스크 라이브러리 (180) 와 3 대의 노광 유닛 (1000A, 1000B, 1000C) 사이에서, A 방향 및 B 방향으로 자유롭게 이동할 수 있게 구성되는 1 대의 마스크 로더 (170) 가, 마스크 라이브러리 (180) 의 소정의 마스크 스토커 (171) 에 저장되는 복수매의 마스크 (M) 중에서 소정의 마스크 (M) 를 선택하고, 선택한 마스크 (M) 를 마스크 로더 (170) 의 탑재대 (167) 상에 탑재하고, 소정의 노광 유닛 (1000A, 1000B, 1000C) 의 각 마스크 스테이지 (110A, 110B, 110C) 로 반송하여 장착한다. 즉, 1 대의 마스크 로더 (170) 가 3 대의 노광 유닛 (1000A, 1000B, 1000C) 에 공용된다. In the exposure apparatus PE102 comprised in this way, between the
따라서, 본 실시형태의 노광 장치 (PE102) 에 의하면, 5 대의 마스크 스토커 (171, 171‥) 로 이루어지는 마스크 라이브러리 (180) 와, 각 마스크 스토커 (171) 및 각 노광 유닛 (1000A, 1000B, 1000C) 에 대응할 수 있도록 자유롭게 이동할 수 있게 구성되는 1 대의 마스크 로더 (170) 를 구비하고, 1 대의 마스크 로더 (170) 에 의해 마스크 라이브러리 (180) 로부터 소정의 마스크 (M) 를 꺼내어, 각 노광 유닛 (1000A, 1000B, 1000C) 의 마스크 스테이지 (110A, 110B, 110C) 에 마스크 (M) 를 공급하므로, 다수의 마스크 (M) 를 마스크 라이브러리 (180) 에 수용하여 준비하고, 많은 종류의 마스크 패턴에 용이하게 대응할 수 있다. 또, 1 대의 마스크 로더 (170) 에서 3 대의 노광 유닛 (1000A, 1000B, 1000C) 에 마스크 (M) 를 공급할 수 있으므로, 노광 장치 (PE102) 를 소형화할 수 있고, 공장 등의 설치 공간을 유효하게 이용할 수 있음과 함께, 노광 장치 (PE102) 의 제조 비용을 저감시킬 수 있다. Therefore, according to the exposure apparatus PE102 of this embodiment, the
그 외의 구성 및 작용 효과에 대해서는, 상기 제 1 실시형태와 동일하다. Other configurations and effects are the same as those of the first embodiment.
또한, 본 발명은, 상술한 각 실시형태로 한정되는 것이 아니라, 적절하게 변형, 개량 등이 가능하다. In addition, this invention is not limited to each embodiment mentioned above, A deformation | transformation, improvement, etc. are possible suitably.
예를 들어, 각 실시형태에서는, 노광 유닛 및 마스크 라이브러리의 마스크 스토커의 대수를 한정하고 있지만, 그 대수는 임의적이다. For example, in each embodiment, although the number of mask stockers of an exposure unit and a mask library is limited, the number is arbitrary.
제 3 실시형태Third embodiment
이하, 본 발명에 관련되는 노광 장치의 일 실시형태에 대해서, 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. 도 6 은 본 발명에 관련되는 노광 장치의 전체 구성을 설명하기 위한 개략 평면도, 도 7 은 도 6 에 나타내는 노광 유닛의 요부 정면도, 도 8 은 도 7 에 나타내는 기판 스테이지의 측면도, 도 9 는 도 6 에 나타내는 기판 로더의 측면도이다. EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, one Embodiment of the exposure apparatus which concerns on this invention is described in detail with reference to drawings. FIG. 6 is a schematic plan view for explaining the overall configuration of the exposure apparatus according to the present invention, FIG. 7 is a front view of the principal parts of the exposure unit shown in FIG. 6, FIG. 8 is a side view of the substrate stage shown in FIG. 7, and FIG. 9 is FIG. It is a side view of the board | substrate loader shown in 6.
도 6 및 도 7 에 나타내는 바와 같이, 본 실시형태의 노광 장치 (PE) 는, 2 대의 노광 유닛 (100A, 100B) 을 병렬 배치시키고 있다. 노광 유닛 (100A, 100B) 은, 마스크 스테이지 (10A, 10B), 제 1 기판 스테이지 (11, 11), 제 2 기판 스테이지 (12, 12), 조명 장치 (13, 13), 프리얼라인먼트 유닛 (14, 14), 제 1 기판 로더 (15, 15), 제 2 기판 로더 (16, 16), 마스크 로더 (17A, 17B), 및 마스크 스토커 (18A, 18B) 를 각각 구비하고, 기대 (基臺) (21, 21) 상에 각각 탑재되어 있다. 또, 마스크 스토커 (18A, 18B) 에 대한 마스크 (M) 의 공급은, 노광 유닛 (100A, 100B) 사이를 자유롭게 이동할 수 있고, 또한 자유롭게 회전할 수 있는 마스크 케이스 (20) 에 의해 실시된다. 또한, 마스크 (M) 의 방향을 명확하게 하기 위해, 마스크 (M) 에 굵은 화살표를 표시한다. As shown to FIG. 6 and FIG. 7, the exposure apparatus PE of this embodiment arrange | positions two
마스크 스테이지 (10A, 10B) 는, 기대 (21) 상에 배치된 직사각형의 스테이지 베이스 (23) 에 설치되는 복수의 지주 (22) 로 지지되어, 스테이지 베이스 (23) 의 상방에 배치 형성되어 있다. 복수의 지주 (22) 는, 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 가 Y 방향 (도 6 의 좌우 방향) 으로 이동하여 마스크 스테이지 (10A, 10B) 의 하방으로 진출할 수 있도록 스테이지 베이스 (23) 의 상방에 공간을 형성하고 있다. 또, 마스크 스테이지 (10A, 10B) 는, 중앙에 직사각형 형상의 개구부 (24) 를 갖고, 마스크 스테이지 (10A, 10B) 에 대해서 X, Y, θ 방향으로 위치 조정할 수 있도록 지지되는 마스크 유지부 (25) 를 구비하고, 노광해야 할 마스크 패턴을 갖는 마스크 (M) 가 이 개구부 (24) 에 향하도록 하여 마스크 유지부 (25) 에 유지되어 있다. 또, 마스크 스테이지 (10A, 10B) 에는, 마스크 유지부 (25) 에 대한 마스크 (M) 의 위치를 검출하는 마스크용 얼라인먼트 카메라 (도시하지 않음) 와, 마스크 (M) 와 기판 (W) 사이의 갭을 검출하는 갭 센서 (도시하지 않음) 가 설치되어 있다. The mask stages 10A and 10B are supported by a plurality of
도 7 및 도 8 에 나타내는 바와 같이, 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 는, 피노광재로서의 기판 (W) 을 유지하는 기판 유지부 (31, 31) 를 상면에 각각 갖는다. 또, 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 의 하방에는, Y 축 테이블 (33), Y 축 이송 기구 (34), X 축 테이블 (35), X 축 이송 기구 (36), 및 Z-틸트 조정 기구 (37) 를 구비하는 기판 스테이지 이송 기구 (32, 32) 가 각각 설치된다. 이 기판 스테이지 이송 기구 (32) 는, 스테이지 베이스 (23) 에 대해서 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 를 X 방향 및 Y 방향으로 이송 구동함과 함께, 마스크 (M) 와 기판 (W) 사이의 간극을 미세 조정하도록, 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 를 Z 축 방향으로 미동 또한 틸트한다. As shown to FIG. 7 and FIG. 8, the 1st and 2nd board |
구체적으로, Y 축 이송 기구 (34) 는, 스테이지 베이스 (23) 와 Y 축 테이블 (33) 사이에, 리니어 가이드 (38) 와 Y 축 이송 구동 기구 (39) 를 구비한다. 스테이지 베이스 (23) 상에는 2 개의 안내 레일 (40) 이 Y 축 방향을 따라 평행하게 배치되어 있고, Y 축 테이블 (33) 의 이면에 장착된 슬라이더 (41) 가 전동체 (도시하지 않음) 를 개재시켜 걸쳐서 설치되어 있다. 이로써, 2 대의 Y 축 스테이지 (33) 가 2 개의 안내 레일 (40) 을 따라 Y 축 방향을 따라 이동할 수 있게 지지된다. Specifically, the Y-
또, 스테이지 베이스 (23) 상에는, 모터 (42) 에 의해 회전 구동되는 볼 나 사축 (43) 이, 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 에 대응하여 각각 형성되어 있고, 볼 나사축 (43) 에는, Y 축 테이블 (33) 의 이면에 장착된 볼 나사 너트 (44) 가 나사 결합되어 있다. Moreover, on the
또, X 축 이송 기구 (36) 도, 도 8 에 나타내는 바와 같이, Y 축 테이블 (33) 과 X 축 테이블 (35) 사이에, 리니어 가이드 (45) 와 X 축 이송 구동 기구 (46) 가 설치되어 있다. Y 축 테이블 (33) 상에는 2 개의 안내 레일 (47) 이 X 축 방향을 따라 평행하게 배치되어 있고, X 축 테이블 (35) 의 이면에 장착된 슬라이더 (48) 가 전동체 (도시하지 않음) 를 개재시켜 걸쳐서 설치된다. 또한 Y 축 테이블 (33) 상에는, 모터 (49) 에 의해 회전 구동되는 볼 나사축 (50) 이 설치되어 있고, 볼 나사축 (50) 에는, Y 축 테이블 (35) 의 이면에 장착된 볼 나사 너트 (51) 가 나사 결합되어 있다. In addition, as shown in FIG. 8, the
한편, Z-틸트 조정 기구 (37) 는, 모터와 볼 나사와 쐐기를 조합하여 이루어지는 가동 쐐기 기구를 구비하고 있고, X 축 테이블 (35) 의 상면에 설치한 모터 (52) 에 의해 볼 나사축 (53) 을 회전 구동함과 함께, 볼 나사 너트 (54) 를 쐐기 형상의 이동체에 장착하고, 이 쐐기의 경사면을 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 의 하면에 돌출설치된 쐐기 (55) 의 경사면과 걸어맞추고 있다. On the other hand, the Z-
그리고, 이 볼 나사축 (53) 을 회전 구동시키면, 볼 나사 너트 (54) 가 X 축 방향으로 수평 미동하고, 이 수평 미동 운동이 장착된 쐐기 형상의 이동체의 경사면에 의해 고정밀도의 상하 미동 운동으로 변환된다. 이 Z-틸트 조정 기구 (37) 는, X 축 방향의 일단측에 2 대, 타단측에 1 대의 총 3 대가 설치되고, 각각 이 독립적으로 구동 제어된다. Then, when the
이로써, Y 축 이송 기구 (34) 는, 각 기판 스테이지 (11, 12) 의 기판 유지부 (31) 에 유지된 기판 (W) 을 개별적으로 마스크 스테이지 (10A, 10B) 의 하방의 노광 위치 (EP) 에 배치하기 위해, 제 1 기판 스테이지 (11) 를 제 1 대기 위치 (WP1) 와 노광 위치 (EP) 사이에서 안내 레일 (40) 을 따라 Y 축 방향으로 이동시켜, 제 2 기판 스테이지 (12) 를 제 2 대기 위치 (WP2) 와 노광 위치 (EP) 사이에서 안내 레일 (40) 을 따라 Y 축 방향으로 이동시킨다. 또, Y 축 이송 기구 (34) 및 X 축 이송 기구 (36) 는, 노광 위치 (EP) 에 있는 기판 유지부 (31) 를 마스크 (M) 에 대해서 X, Y 방향으로 스텝 이동시키도록 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 를 이동시킨다. 또한, Y 축 이송 구동 기구 (39), X 축 이송 구동 기구 (46), 및 Z-틸트 조정 기구 (37) 는, 모터와 볼 나사 장치를 조합하고 있지만, 고정자와 가동자를 갖는 리니어 모터에 의해 구성되어도 된다. Thereby, the Y-
또, 도 6∼도 8 에 나타내는 바와 같이, 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 에는, 각 기판 유지부 (31) 의 X 축 방향측부와 Y 축 방향측부에 각각 바 미러 (61, 62) 가 장착되어 있다. 또, 스테이지 베이스 (23) 의 Y 축 방향의 양측과 스테이지 베이스 (23) 의 X 축 방향의 일측에는, 3 대의 레이저 간섭계 (63, 64, 65) 가 설치되어 있다. 이로써, 레이저 간섭계 (63, 64, 65) 로부터 레이저광을 바 미러 (61, 62) 에 조사하고, 바 미러 (62) 에 의해 반사된 레이저광을 수광하고, 레이저광과 바 미러 (61, 62) 에 의해 반사된 레이저광과의 간섭을 측정하여, 제 1 및 제 2 스테이지 (11, 12) 의 위치를 검출한다. 6 to 8, the first and second substrate stages 11 and 12 respectively have bar mirrors 61 and X axis direction side portions and Y axis direction side portions of the
도 7 에 나타내는 바와 같이, 조명 장치 (13) 는, 마스크 유지부 (25) 의 개구부 (24) 의 상방에 배치되어 자외선 조사용 광원인 예를 들어 고압 수은 램프, 오목면 거울, 옵티컬 인터그레이터, 평면 미러, 구면 미러, 및 노광 제어용 셔터 등을 구비하여 구성된다. 조명 장치 (13) 는, 노광 위치 (EP) 로 이동한 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 의 기판 유지부 (31) 에 유지된 기판 (W) 에, 패턴 노광용 광을 마스크 (M) 를 통하여 조사한다. 이로써, 기판 (W) 에는, 마스크 (M) 의 마스크 패턴이 노광 전사된다. As shown in FIG. 7, the illuminating
프리얼라인먼트 유닛 (14) 은, 기대 (21) 의 외측에 설치된 기판 카세트 (70A, 70B) 에서 반송된 기판 (W) 이, 제 1 기판 스테이지 (11) 또는 제 2 기판 스테이지 (12) 에 공급됨에 앞서, 마스크 (M) 에 대한 기판 (W) 의 위치가 소정의 위치가 되도록 프리얼라인먼트를 실시하는 것이고, 도 10 중, 마스크 스테이지 (10A, 10B) 의 앞측에 배치되어 있다. 프리얼라인먼트 유닛 (14) 은, 도시하지 않는 X 축 이송 기구, Y 축 이송 기구, 및 회전 기구를 구비하고, 프리얼라인먼트 유닛 (14) 상에 탑재된 기판 (W) 의 위치를 소정의 위치로 조정한다. In the
제 1 기판 로더 (15) 는, 도 6 중 프리얼라인먼트 유닛 (14) 의 우측방에 배치되어, 제 2 기판 스테이지 (12) 로 반송되는 기판 (W) 을 유지하여 프리얼라인먼트 유닛 (14) 으로 반송하고, 또 프리얼라인먼트된 기판 (W) 을 프리얼라인먼트 유닛 (14) 으로부터 제 1 기판 스테이지 (11) 로 반송하게 되어 있다. The 1st board |
제 2 기판 로더 (16) 는, 프리얼라인먼트 유닛 (14) 에 대해서 제 1 기판 로더 (15) 와 대향 배치, 즉, 도 6 중 프리얼라인먼트 유닛 (14) 의 좌측에 배치되 어, 제 1 기판 스테이지 (11) 로 반송되는 기판 (W) 을 유지하여 프리얼라인먼트 유닛 (14) 으로 반송하고, 또 프리얼라인먼트된 기판 (W) 을 프리얼라인먼트 유닛 (14) 으로부터 제 2 기판 스테이지 (12) 로 반송하게 되어 있다. The 2nd board |
도 9 에 나타내는 바와 같이, 제 1 및 제 2 기판 로더 (15, 16) 는, 기대 (21) 에 고정된 칼럼 (81) 에 복수의 반송부 (82, 83) 가 자유롭게 요동할 수 있게 배치 형성되는 다관절형의 로더 로봇이다. 복수의 반송부 (82, 83) 는, 승강 기구 (도시하지 않음) 에 의해 칼럼 (81) 을 따라 상하 이동함과 함께, 각각 서보 모터가 배치 형성되어 서로 독립적으로 구동된다. 각 반송부 (82, 83) 는, 제 1 및 제 2 아암 (84, 85) 과 제 1 아암 (84) 의 선단에, 복수의 봉 형상 부재 (86) 가 평행하게 끼워 넣어져 설치된 탑재대 (87) 를 갖는다. 그리고, 각각의 서보 모터를 제어하여 작동시킴으로써, 탑재대 (87) 를 승강, 회전 및 이동시켜, 탑재대 (87) 상의 기판 (W) 을 반송한다. As shown in FIG. 9, the 1st and 2nd board |
구체적으로, 제 1 기판 로더 (15) 는, 기판 카세트 (70A) 에 수용된 기판 (W) 을 탑재대 (87) 상에 탑재하여 프리얼라인먼트 유닛 (14) 으로 반송하고, 프리얼라인먼트된 기판 (W) 을 탑재대 (87) 상에 탑재하여 프리얼라인먼트 유닛 (14) 으로부터 제 1 기판 스테이지 (11) 로 반송하고, 또한 제 1 대기 위치 (WP1) 에 위치하는 제 1 기판 스테이지 (11) 상의 노광 전사 후의 기판 (W) 을 탑재대 (87) 상에 탑재하여 기판 카세트 (70A) 로 반송한다. Specifically, the
제 2 기판 로더 (16) 는, 기판 카세트 (70B) 에 수용된 기판 (W) 을 탑재대 (87) 상에 탑재하여 프리얼라인먼트 유닛 (14) 으로 반송하고, 프리얼라인먼트된 기판 (W) 을 탑재대 (87) 상에 탑재하여 프리얼라인먼트 유닛 (14) 으로부터 제 2 기판 스테이지 (12) 로 반송하고, 또한 제 2 대기 위치 (WP2) 에 위치하는 제 2 기판 스테이지 (12) 상의 노광 전사 후의 기판 (W) 을 탑재대 (87) 상에 탑재하여 기판 카세트 (70B) 로 반송한다. The 2nd board |
그리고, 본 실시형태에서는, 도 6 에 나타내는 바와 같이, 마스크 로더 (17A) 및 마스크 스토커 (18A) 는, 노광 유닛 (100B) 의 측면 (도 6 의 우측면) 에 대해서 대향 배치, 즉, 도 6 중, 노광 유닛 (100A) 의 상부 좌측방에 배치되고, 마스크 로더 (17B) 및 마스크 스토커 (18B) 는, 노광 유닛 (100A) 의 측면 (도 6 의 좌측면) 에 대해서 대향 배치, 즉, 도 6 중, 노광 유닛 (100B) 상부 우측방에 배치되어 있고, 마스크 로더 (17A) 및 마스크 스토커 (18A) 와 마스크 로더 (17B) 및 마스크 스토커 (18B) 는, 서로 대칭 위치에 대향 배치되어 있다. And in this embodiment, as shown in FIG. 6, the
마스크 로더 (17A, 17B) 는, 도 9 에 나타내는 제 1 및 제 2 기판 로더 (15, 16) 와 대략 동일한 구성을 갖고, 마스크 스토커 (18A, 18B) 에 저장되어 있는 복수매의 마스크 (M) 중에서 소정의 마스크 (M) 를 선택, 유지하고, 마스크 스테이지 (10A, 10B) 에 각각 공급한다. 또한, 마스크 로더 (17A, 17B) 의 경우, 반송부는 1 개이다. 또, 마스크 스테이지 (10A, 10B) 에 대한 마스크 (M) 의 공급은, 본 실시형태와 같이, 마스크 로더 (17A, 17B) 에 의해 마스크 스토커 (18A, 18B) 로부터 마스크 스테이지 (10A, 10B) 에 직접 공급해도 되지만, 이것에 한정되지 않고, 마스크 로더 (17A, 17B) 에 의해 마스크 스토커 (18A, 18B) 로부터 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 에 한 번 반송하고, 그 후, 제 1 및 제 2 기판 스테이지 (11, 12) 에 의해 마스크 스테이지 (10A, 10B) 에 공급하도록 해도 된다. The
구체적으로는, 마스크 로더 (17A) 는, 마스크 스토커 (18A) 에 저장되어 있는 복수매의 마스크 (M) 중에서 소정의 마스크 (M) 를 선택하고, 선택한 마스크 (M) 를 탑재대 (87) 상에 탑재시켜 반시계 방향 (도 6 의 화살표 A 방향) 으로 반송하여 마스크 스테이지 (10A) 에 장착한다. 또한 마스크 (M) 를 교환할 때에는, 노광 전사 후의 마스크 (M) 를 탑재대 (87) 상에 탑재하여 마스크 스토커 (18A) 에 저장시킨다. Specifically, the
또, 마스크 로더 (17B) 는, 마스크 스토커 (18B) 에 저장되어 있는 복수매의 마스크 (M) 중에서 소정의 마스크 (M) 를 선택하고, 선택한 마스크 (M) 를 탑재대 (87) 상에 탑재시켜 시계 방향 (도 6 의 화살표 B 방향) 으로 반송하여 마스크 스테이지 (10B) 에 장착한다. 또한 마스크 (M) 를 교환할 때에는, 노광 전사 후의 마스크 (M) 를 탑재대 (87) 상에 탑재하고 마스크 스토커 (18B) 에 저장시킨다.The
또한, 마스크 로더 (17A, 17B) 가, 도 9 에 나타내는 제 1 및 제 2 기판 로더 (15, 16) 와 같이 2 개의 반송부 (82, 83) 를 구비하고 있으면, 노광 전사 전의 마스크 (M) 를 반송부 (82(83)) 의 탑재대 (87) 에 유지한 상태에서, 노광 전사 후의 마스크 (M) 를 반송부 (83(82)) 의 탑재대 (87) 에서 분리되고, 분리된 직후에 반송부 (82(83)) 에 유지한 노광 전사 전의 마스크 (M) 를 마스크 스테이지 (10A, 10B) 에 장착할 수 있게 된다. In addition, if the
마스크 스토커 (18A, 18B) 는, 마스크 패턴이 상이한 복수매의 마스크 (M) 를 수용하기 위한 저장고로서, 마스크 케이스 (20) 로부터 마스크 (M) 가 공급되고 저장된다. 또, 마스크 스토커 (18A, 18B) 의 마스크 공급구 (19A, 19B) 는, 서로 대향하여 배치된다. 즉, 일방의 마스크 공급구 (19A) 는, 노광 유닛 (100A) 의 상부 좌측 벽부에 배치 형성되고, 타방의 마스크 공급구 (19B) 는, 노광 유닛 (100B) 의 상부 우측벽부에 배치 형성되어 있다. The
마스크 케이스 (20) 는, 예를 들어, 저면에 캐스터 (도시하지 않음) 등을 구비하고, 병렬 배치된 노광 유닛 (100A, 100B) 사이를 자유롭게 이동할 수 있고, 또한 자유롭게 회전할 수 있게 구성되어 소정의 방향을 향해 정렬된 복수매의 마스크 (M) 를, 그 내부에 설치된 선반에 탑재하여 수용한다. 또, 마스크 케이스 (20) 에는, 한 개소만 개구부 (20a) 가 형성되어 있고, 마스크 스토커 (18A, 18B) 에 마스크 (M) 를 공급할 때에는, 마스크 케이스 (20) 를 이동 및 회전시켜, 개구부 (20a) 와 마스크 공급구 (19A) 또는 마스크 공급구 (19B) 를 대향시키도록 배치한다. 이로써, 마스크 스토커 (18A) 에는 화살표 C 방향에서, 마스크 스토커 (18B) 에는 화살표 D 방향에서 마스크 (M) 가 공급된다 (도 6 참조) . The
이와 같이 구성된 노광 장치 (PE) 에서는, 마스크 (M) 는, 굵은 화살표가 좌방향을 향한 상태에서, 마스크 케이스 (20) 에 수용되어 있고, 노광 유닛 (100A) 의 마스크 스테이지 (10A) 에 마스크 (M) 를 장착하는 경우, 마스크 케이스 (20) 는, 그 개구부 (20a) 와 마스크 스토커 (18A) 의 마스크 공급구 (19A) 를 대향시키도록 배치되고, 마스크 (M) 는 마스크 스토커 (18A) 에 굵은 화살표가 좌방향을 향하도록 공급, 저장된다. 그리고, 마스크 로더 (17A) 는, 마스크 스토커 (18A) 에 저장되어 있는 복수매의 마스크 (M) 중에서 소정의 마스크 (M) 를 선택, 유지하 고, 선택한 마스크 (M) 를 화살표 A 방향으로 약 90˚회전시켜 반송하고 마스크 스테이지 (10A) 에 장착시킨다. 이로써, 마스크 (M) 는, 마스크 스테이지 (10A) 에 굵은 화살표가 하방향을 향하도록 장착된다. In the exposure apparatus PE comprised in this way, the mask M is accommodated in the
또, 노광 유닛 (100B) 의 마스크 스테이지 (10B) 에 마스크 (M) 를 장착하는 경우, 마스크 케이스 (20) 는, 그 개구부 (20a) 와 마스크 스토커 (18B) 의 마스크 공급구 (19B) 를 대향시키도록 배치되고, 마스크 (M) 는, 마스크 스토커 (18B) 에 굵은 화살표가 우방향을 향하도록 공급, 저장된다. 그리고, 마스크 로더 (17B) 는, 마스크 스토커 (18B) 에 저장되어 있는 복수매의 마스크 (M) 중에서 소정의 마스크 (M) 를 선택, 유지하고, 선택한 마스크 (M) 를 화살표 B 방향으로 약 90˚회전시켜 반송하고 마스크 스테이지 (1OB) 에 장착시킨다. 이로써, 마스크 (M) 는, 마스크 스테이지 (10B) 에 굵은 화살표가 하방향을 향하도록 장착된다. Moreover, when attaching the mask M to the
즉, 병렬 배치된 노광 유닛 (100A, 100B) 의 마스크 스토커 (18A, 18B) 에 대한 마스크 (M) 의 공급은, 1 종류의 마스크 케이스 (20) 를 180˚회전시키는 것만으로 대응할 수 있어 마스크 스토커 (18A, 18B) 에 마스크 (M) 를 소정의 방향을 향하여 공급할 수 있다. That is, the supply of the mask M to the
본 실시형태의 노광 장치 (PE) 에 의하면, 노광 유닛 (100A, 100B) 은, 병렬 배치되고, 노광 유닛 (100A, 100B) 은, 각 노광 유닛 (100A, 100B) 의 대칭 위치에 배치되어 복수매의 마스크 (M) 를 수용하고, 또한 마스크 (M) 의 마스크 공급구 (19A, 19B) 가 서로 대향하도록 배치되는 마스크 스토커 (18A, 18B) 와, 마스크 스토커 (18A, 18B) 로부터 소정의 마스크 (M) 를 마스크 스테이지 (10A, 10B) 에 공 급하는 마스크 로더 (17A, 17B) 를 구비하고, 마스크 스토커 (18A, 18B) 에 마스크 (M) 를 공급하여, 노광 유닛 (100A, 100B) 사이를 자유롭게 이동할 수 있고, 또한 자유롭게 회전할 수 있는 마스크 케이스 (20) 를 구비하므로, 1 종류의 마스크 케이스 (20) 를 이용하여, 복수의 노광 유닛 (100A, 100B) 의 마스크 스토커 (18A, 18B) 에 삽입 방향을 틀리지 않고 마스크 (M) 를 공급할 수 있다. 이로써, 각 노광 유닛 (100A, 100B) 에 마스크 (M) 를 용이 또한 효율적으로 공급할 수 있으므로, 작업 효율을 큰 폭으로 향상시킬 수 있다. According to the exposure apparatus PE of this embodiment,
또한, 본 발명은 본 실시형태로 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 요지를 일탈하지 않는 범위에 있어서 적절하게 변경 가능하다. In addition, this invention is not limited to this embodiment, It can change suitably in the range which does not deviate from the summary of this invention.
예를 들어, 본 실시형태에서는, 기판 스테이지를 2 대 구비한 노광 유닛을 병렬 배치한 노광 장치에 본 발명을 적용했을 경우를 예시했지만, 이것에 대신하여, 기판 스테이지를 1 대 구비한 노광 유닛을 병렬 배치한 노광 장치에 본 발명을 적용해도 된다. For example, in this embodiment, the case where this invention is applied to the exposure apparatus which arranged the exposure units provided with two substrate stages in parallel was illustrated, but instead, the exposure unit provided with one substrate stage was provided. You may apply this invention to the exposure apparatus arrange | positioned in parallel.
또, 본 실시형태에서는, 노광 유닛을 2 대 병렬 배치한 노광 장치에 본 발명을 적용했을 경우를 예시했지만, 이것으로 한정되지 않고, 노광 유닛의 병렬 대수는 임의적이다. Moreover, in this embodiment, although the case where this invention is applied to the exposure apparatus which arrange | positioned two exposure units in parallel was illustrated, it is not limited to this, The parallel number of exposure units is arbitrary.
본 발명의 노광 장치에 의하면, 노광 유닛은, 병렬 배치되어 복수매의 마스크를 수용하는 마스크 스토커와, 마스크 스토커로부터 소정의 마스크를 마스크 스테이지에 공급하는 1 대의 마스크 로더를 구비하므로, 병렬 배치된 복수의 노광 유 닛의 각 마스크 스테이지에, 1 대의 마스크 로더에 의해 마스크를 공급할 수 있다. 이로써, 노광 장치를 소형화할 수 있고, 공장 등의 설치 공간을 유효하게 이용할 수 있음과 함께, 노광 장치의 제조 비용을 저감시킬 수 있다. According to the exposure apparatus of the present invention, since the exposure unit includes a mask stocker arranged in parallel to accommodate a plurality of masks and one mask loader for supplying a predetermined mask from the mask stocker to the mask stage, the plurality of exposure devices arranged in parallel A mask can be supplied to each mask stage of the exposure unit of 1 by one mask loader. Thereby, an exposure apparatus can be miniaturized, the installation space of factories etc. can be utilized effectively, and the manufacturing cost of an exposure apparatus can be reduced.
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