KR20070104074A - A display and a method for manufacturing thereof - Google Patents

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Abstract

A display device and a manufacturing method thereof are provided to improve electromagnetic shielding effect and shielding effect from visible rays by forming an electromagnetic wave shield layer through a sputtering method. An electromagnetic wafer shield layer is formed on a board(100) which is used for an image display panel, a PET film or a glass. The electromagnetic shield layer is formed by depositing a conductive material which is any one selected the group consisting of silver, copper, aluminium, stainless steel and nickel. The conductive material has a thickness of 1 to 10 micrometers and a line width of 10 to 30 micrometers. The electromagnetic shield layer is patterned in a mesh or stripe shape.

Description

디스플레이 장치 및 그 제조방법{A display and a method for manufacturing thereof}A display and a method for manufacturing thereof

도 1a는 본 발명에 따른 디스플레이 장치 중 전자파 차폐막의 제 1 실시예의 단면도이고,1A is a cross-sectional view of a first embodiment of an electromagnetic shielding film of a display device according to the present invention;

도 1b는 도 1a의 평면도이고,FIG. 1B is a top view of FIG. 1A,

도 2는 본 발명에 따른 디스플레이 장치 중 전자파 차폐막의 제 2 실시예의 단면도이고,2 is a cross-sectional view of a second embodiment of an electromagnetic shielding film of a display device according to the present invention;

도 3은 본 발명에 따른 디스플레이 장치 중 전자파 차폐막의 제 3 실시예의 단면도이고,3 is a cross-sectional view of a third embodiment of an electromagnetic shielding film of a display device according to the present invention;

도 4는 본 발명에 따른 디스플레이 장치의 제조방법 중 전자파 차폐막의 제조공정의 일실시예를 나타낸 흐름도이고,4 is a flowchart illustrating an embodiment of a manufacturing process of an electromagnetic wave shielding film in a method of manufacturing a display device according to the present invention;

도 5는 기판 상에 마스크를 씌우고 도전성 물질을 스퍼터링하는 공정을 나타낸 도면이다.5 is a diagram illustrating a process of applying a mask on a substrate and sputtering a conductive material.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for main parts of the drawings>

100 : 기판 110 : 도전성 물질100 substrate 110 conductive material

120a : 제 1 ITO 층 120b : 제 2 ITO 층120a: first ITO layer 120b: second ITO layer

150 : 마스크150: mask

멀티 미디어 시대의 도래와 함께 더 세밀하고, 더 크고, 더욱 자연색에 가까운 색을 표현해줄 수 있는 디스플레이 장치의 등장이 요구되고 있다. 그런데, 40인치 이상의 큰 화면을 구성하기에는 현재의 CRT(Cathode Ray Tube)는 한계가 있어서, LCD(Liquid Crystal Display)나 PDP(Plasma Display Panel) 및 프로젝션 TV(Television) 등이 고화질 영상의 분야로 용도확대를 위해 급속도로 발전하고 있다.With the advent of the multimedia era, display devices that can express more detailed, larger, and more natural colors are required. However, the current CRT (Cathode Ray Tube) has a limit to compose a large screen of 40 inches or more, and the LCD (Liquid Crystal Display), PDP (Plasma Display Panel), and projection TV (Television) are used for high definition video. It is rapidly developing for expansion.

상술한 디스플레이 장치의 최대 특징은 자체 발광형인 CRT와 비교하여 얇은 두께로 제작될 수 있고, 평면의 대화면(60~80inch)제작이 손쉬울 뿐 아니라 style이나 design 면에서 종래 CRT와는 명확히 구별이 된다. 그러나, 상술한 PDP 등은 구동 과정에서 인체에 유해한 전자파 등이 발생하므로, 이를 차단하기 위하여 화상이 표시되는 패널의 전면에 전면필터가 구비되기도 한다.The maximum feature of the display device described above can be manufactured in a thin thickness compared to the CRT, which is self-luminous, and is easy to manufacture a large flat screen (60 to 80 inches), and is clearly distinguished from the conventional CRT in terms of style and design. However, since the above-described PDP and the like generate electromagnetic waves harmful to a human body in the driving process, a front filter may be provided on the front of the panel on which an image is displayed in order to block them.

이하에서 상술한 디스플레이 장치 중의 하나인 PDP의 전면필터 및 그 문제점에 대하여 설명한다.Hereinafter, a front filter of the PDP, which is one of the display devices described above, and a problem thereof will be described.

PDP는 어드레스 전극을 구비한 하판과, 서스테인 전극쌍을 구비한 상판과 격벽으로 정의되는 방전셀을 가지며, 방전셀 내에는 형광체가 도포되어 화면을 표시한다. 구체적으로, 상기 상판과 하판 사이의 방전 공간 내에서 방전이 일어나면 이 때 발생된 자외선이 형광체에 입사되어 가시광선이 발생하고, 상기 가시광선에 의 하여 화면이 표시된다.The PDP has a lower plate having an address electrode, a top plate having a sustain electrode pair, and a discharge cell defined by a partition wall, and phosphors are coated in the discharge cell to display a screen. Specifically, when discharge occurs in the discharge space between the upper plate and the lower plate, ultraviolet rays generated at this time are incident on the phosphor to generate visible light, and the screen is displayed by the visible light.

PDP의 전면에는 전면필터가 구비되는데, 전면필터는 전자파(EMI, ElectroMagnetic Interference)와 근적외선(NIR, Near Infrared Rays)을 차폐하고 색보정 및 외부에서 입사되는 빛의 반사를 방지하는 역할 등을 한다. 종래에는 글래스(glass) 위에 복수 개의 층이 구비된 글래스형 전면필터가 사용되었는데, 글래스형 전면필터는 외부의 충격으로부터 전면필터가 손상되는 것을 방지할 수 있으나 두께가 두꺼우며 무게가 무겁고 제조비용이 상승하는 단점이 있었다.A front filter is provided on the front side of the PDP. The front filter shields electromagnetic waves (EMI) and near infrared rays (NIR) and prevents color correction and reflection of light incident from the outside. Conventionally, a glass type front filter provided with a plurality of layers on glass is used. The glass type front filter can prevent the front filter from being damaged by an external impact, but is thick, heavy, and expensive to manufacture. There was a downside.

따라서, 상술한 문제점을 해결하기 위하여 필름형 전면필터가 제안되었다. 필름형 전면필터는 베이스 필름 상에 근적외선 차폐막, 전자파 차폐막, 색보정막 및 무반사막 등이 차례로 구비되며, 각각의 막은 접착제로 접합되어 있다.Therefore, a film type front filter has been proposed to solve the above problems. A film type front filter is provided with a near-infrared shielding film, an electromagnetic wave shielding film, a color correction film, an antireflection film, etc. on a base film in turn, and each film is bonded by an adhesive agent.

상술한 전자파 차폐막의 구성을 설명하면 다음과 같다. 베이스필름(basefilm) 상에 도전성 물질이 메쉬(mesh) 형상으로 구비되며, 상기 도전성 물질은 프레임에 의해 지지되기도 한다. 메쉬 형상은, 도전성 물질을 사진 석판술(Photolithography) 또는 식각 공정 또는 스퍼터링(sputtering)법 등으로 PET(polyethylen terephthalate) 베이스필름 상에 패터닝(patterning)하여 형성된다.The configuration of the electromagnetic wave shielding film described above is as follows. A conductive material is provided in a mesh shape on a basefilm, and the conductive material may be supported by a frame. The mesh shape is formed by patterning a conductive material on a polyethylene terephthalate (PET) base film by a photolithography or etching process or a sputtering method.

그러나, 상술한 스퍼터링법으로 전자파 차폐막을 형성하면 다음과 같은 문제점이 있었다.However, when the electromagnetic shielding film is formed by the sputtering method described above, there are the following problems.

저저항을 갖는 Ag 등은 전자파 차폐 효과는 뛰어나지만 디스플레이 장치 내부에서 방출되는 가시광선 등을 차폐하여, 색휘도를 낮추는 문제점이 있다. 그리 고, 투명한 ITO 등을 스퍼터링하여 전자파 차폐막을 형성하면, 색휘도가 떨어지는 문제점은 해결되지만 ITO의 전기저항이 높아서 전자파 차폐 효과를 충분히 나타내지 못하는 문제점이 있다.Ag and the like having a low resistance is excellent in the electromagnetic shielding effect, but there is a problem to lower the color luminance by shielding the visible light emitted from the inside of the display device. In addition, if the electromagnetic shielding film is formed by sputtering transparent ITO or the like, the problem of inferior color luminance is solved, but there is a problem that the electromagnetic shielding effect is not sufficiently exhibited due to the high electric resistance of the ITO.

따라서, 종래에는 Ag 등의 도전성 물과 ITO 등을 반복하여 적층하여, 5~11개의 층으로 이루어진 전자파 차폐막을 형성하였다. Therefore, conventionally, conductive materials such as Ag and ITO are repeatedly stacked to form an electromagnetic shielding film composed of 5 to 11 layers.

그러나, 상술한 바와 같이 5~11개의 층으로 전자파 차폐막을 형성하면 공정수가 늘어나서 공정시간이 길어지는 문제점이 있다. 또한, 복수 개의 층으로 이루어져서 전자파 차폐막의 두께가 두꺼워지고 무게가 증가하는 문제점이 있었다. 특히, 가정용의 클래스 B의 플라즈마 디스플레이 패널 등에서는 스퍼터링법으로 전자파 차폐막을 형성하려면, 전기 저항이 증가하여 그 형성이 매우 어려운 문제점이 있었다.However, when the electromagnetic shielding film is formed of 5 to 11 layers as described above, there is a problem in that the number of processes increases and the process time is lengthened. In addition, there is a problem in that the thickness of the electromagnetic shielding film is thickened and the weight is increased by being composed of a plurality of layers. In particular, in the case of plasma display panels of class B for home use, in order to form the electromagnetic shielding film by sputtering, there is a problem in that the electrical resistance increases and the formation thereof is very difficult.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명의 목적은 제조 공정을 줄여서 공정시간이 짧은 전자파 차폐막을 구비한 디스플레이 장치 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a display device and a method for manufacturing the same, including an electromagnetic shielding film having a short process time by reducing the manufacturing process.

본 발명의 다른 목적은 두께가 얇고 무게가 가벼우면서도 전자파 차폐 효과가 뛰어난 전자파 차폐막을 구비한 디스플레이 장치 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a display device having a thin film, a light weight, and an electromagnetic shielding film having an excellent electromagnetic shielding effect, and a method of manufacturing the same.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 영상 정보가 표시되는 패널; 및 상 기 패널의 전면 상에 1~10 마이크로미터의 두께로 형성되고, 도전성 물질층이 패터닝되어 형성된 전자파 차폐막을 포함하여 이루어지는 디스플레이 장치를 제공한다In order to achieve the above object, the present invention provides a panel for displaying image information; And an electromagnetic shielding film formed on the front surface of the panel with a thickness of 1 to 10 micrometers and formed by patterning a conductive material layer.

본 발명은 기판 상에 마스크를 씌우는 단계; 및 상기 기판 상에 도전성 물질층을 스퍼터링법으로 적층하여 전자파 차폐막을 제조하는 단계를 포함하는 디스플레이 장치의 제조방법을 제공한다.The present invention comprises the steps of covering the mask on the substrate; And stacking a conductive material layer on the substrate by a sputtering method to produce an electromagnetic shielding film.

이하 상기의 목적을 구체적으로 실현할 수 있는 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, preferred embodiments of the present invention that can specifically realize the above object will be described.

종래와 동일한 구성 요소는 설명의 편의상 동일 명칭 및 동일 부호를 부여하며 이에 대한 상세한 설명은 생략한다.The same components as in the prior art are given the same names and the same reference numerals for convenience of description, and detailed description thereof will be omitted.

본 발명에 따른 디스플레이 장치는 영상 정보가 표시되는 패널과 패널의 전면 상에 구비된 전자파 차폐막을 포함하여 이루어진다. 그리고, 전자파 차폐막은 도전성 물질이 패터닝되어 형성되는 것을 특징으로 한다. 또한, 기판 상에 마스크를 씌우고 도전성 물질을 적층하여 전자파 차폐막이 패터닝되어 형성된다. 그리고, 도전성 물질이 적층되지 않은 곳에는 ITO 등을 적층하여 전자파 차폐 효과를 상승시킬 수도 있다.The display device according to the present invention comprises a panel on which image information is displayed and an electromagnetic shielding film provided on the front of the panel. The electromagnetic wave shielding film is formed by patterning a conductive material. In addition, an electromagnetic shielding film is patterned by forming a mask on the substrate and stacking a conductive material. Where the conductive material is not laminated, ITO may be laminated to increase the electromagnetic shielding effect.

도 1a는 본 발명에 따른 디스플레이 장치 중 전자파 차폐막의 제 1 실시예의 단면도이고, 도 1b는 도 1a의 평면도이다. 도 1a 및 도 1b를 참조하여 본 발명에 따른 디스플레이 장치의 제 1 실시예를 설명하면 다음과 같다.1A is a cross-sectional view of a first embodiment of an electromagnetic shielding film of a display device according to the present invention, and FIG. 1B is a plan view of FIG. 1A. A first embodiment of a display device according to the present invention will be described with reference to FIGS. 1A and 1B as follows.

본 실시예는 기판(100) 상에 전자파 차폐막이 형성되어 이루어진다. 기판(100)은 영상 정보가 표시되는 패널일 수도 있으나, PET 필름 또는 글래스일수도 있다. 즉, 전자파 차폐막은 필름형 또는 글래스형의 전면필터의 형태로 제조될 수도 있으나, 디스플레이 패널 상에 직접 형성될 수도 있다. 전자파 차폐막은 도전성 물질(110)이 적층되어 형성되며, 도전성 물질(110)은 바람직하게는 은, 구리, 알루미늄, 스테인레스 스틸 및 니켈 중 어느 하나인 것이 바람직하다. 그리고, 도전성 물질(110)은 1~10 마이크로미터의 두께와 10~30 마이크로미터의 선폭으로 형성되는 것이 바람직하다. 도 1b에서 전자파 차폐막은 메쉬(mesh) 형상으로 패터닝되어 형성되었으나 스트라이프(stripe) 형상으로 패터닝될 수도 있다. 상기 도전성 물질(110)은 인쇄법 등으로 형성될 수도 있으나, 스퍼터링법으로 형성되는 것이 바람직하다. 그리고, 스퍼터링법으로 전자파 차폐막을 형성할 때는, 기판(100) 상에 마스크를 씌운 후에 도전성 물질(110)을 스퍼터링하여, 전자파 차폐막을 패터닝할 수 있다. 상술한 전자파 차폐막을 제외한 디스플레이 장치의 나머지 구성은 종래의 디스플레이 패널과 동일하다.In this embodiment, the electromagnetic shielding film is formed on the substrate 100. The substrate 100 may be a panel in which image information is displayed, or may be a PET film or glass. That is, the electromagnetic shielding film may be manufactured in the form of a film-type or glass-type front filter, or may be directly formed on the display panel. The electromagnetic shielding film is formed by stacking the conductive material 110, and the conductive material 110 is preferably any one of silver, copper, aluminum, stainless steel, and nickel. In addition, the conductive material 110 is preferably formed with a thickness of 1 to 10 micrometers and a line width of 10 to 30 micrometers. In FIG. 1B, the electromagnetic shielding layer is formed by patterning a mesh, but may be patterned into a stripe shape. The conductive material 110 may be formed by a printing method or the like, but is preferably formed by a sputtering method. When the electromagnetic shielding film is formed by the sputtering method, the electromagnetic shielding film can be patterned by sputtering the conductive material 110 after covering the mask on the substrate 100. The rest of the configuration of the display apparatus except for the above-described electromagnetic shielding film is the same as that of the conventional display panel.

상술한 본 발명에 따른 디스플레이 장치의 제 1 실시예의 작용을 설명하면 다음과 같다.The operation of the first embodiment of the display device according to the present invention described above is as follows.

전기 저항이 적은 도전성 물질이 적층됨으로써 전자파 차폐 효과가 증대되고, 도전성 물질이 패터닝됨으로써 형성되는 빈 공간은 디스플레이 장치 내부의 가시광선 등의 외부로 방출되어 광투과율을 향상시킬 수 있다.By stacking a conductive material having a low electrical resistance, the electromagnetic shielding effect is increased, and the empty space formed by the patterning of the conductive material is emitted to the outside of visible light inside the display device to improve light transmittance.

도 2는 본 발명에 따른 디스플레이 장치 중 전자파 차폐막의 제 2 실시예의 단면도이고, 도 3은 본 발명에 따른 디스플레이 장치 중 전자파 차폐막의 제 3 실시예의 단면도이다. 도 2 및 도 3을 참조하여 본 발명에 따른 디스플레이 장치 중 전자파 차폐막의 제 2,3 실시예를 설명하면 다음과 같다.2 is a cross-sectional view of a second embodiment of the electromagnetic shielding film of the display device according to the present invention, Figure 3 is a cross-sectional view of a third embodiment of the electromagnetic shielding film of the display device according to the present invention. The second and third embodiments of the electromagnetic shielding film of the display device according to the present invention will be described with reference to FIGS. 2 and 3 as follows.

제 2 실시예는 기판(100) 상에 ITO(120a)가 형성되고, ITO(120a) 상에 도전성 물질(110)이 적층되어 있는 점에서 상술한 제 1 실시예와 상이하며, 나머지 구성 등은 제 1 실시예와 동일하다. 그리고, 제 3 실시예는 기본적으로 제 2 실시예와 동일하나, 각각의 도전성 물질(110)이 적층된 사이의 빈 공간에 ITO(120b)가 형성된 점에서 제 2 실시예와 상이하다. 제 2 실시예와 제 3 실시예에서, 각각의 ITO층(120a, 120b)은 두께가 20~200 나노미터인 것이 바람직하다. 그리고, 도전성 물질(110)의 선폭이 10~30 마이크로미터인 것이 바람직하고, 두께는 1~5 마이크로미터인 것이 바람직하며 그 이유는 후술한다.The second embodiment differs from the first embodiment described above in that the ITO 120a is formed on the substrate 100 and the conductive material 110 is laminated on the ITO 120a. Same as the first embodiment. The third embodiment is basically the same as the second embodiment, but differs from the second embodiment in that the ITO 120b is formed in an empty space between the respective conductive materials 110 stacked. In the second and third embodiments, each of the ITO layers 120a and 120b preferably has a thickness of 20 to 200 nanometers. It is preferable that the line width of the conductive material 110 is 10 to 30 micrometers, and the thickness is preferably 1 to 5 micrometers, and the reason thereof will be described later.

상술한 본 발명에 따른 디스플레이 장치의 제 2,3 실시예의 작용을 설명하면 다음과 같다.The operation of the second and third embodiments of the display device according to the present invention described above is as follows.

전기 저항이 적은 도전성 물질이 적층됨으로써 전자파 차폐 효과가 증대시킬 수 있을 뿐만 아니라, 도전성 물질이 패터닝됨으로써 형성되는 빈 공간에는 ITO가 적층되어 광투과율을 저하시키지 않으면서 전기전도도를 높여서 전자파 차폐 효과가 향상된다. 그리고, 제 1 실시예에서는 도전성 물질을 1~10 마이크로미터의 두께로 형성하여야 전자파 차폐 효과를 기대할 수 있으나, 본 실시예에서는 ITO가 함께 적층되므로 1~5 마이크로미터의 두께로 형성될 수도 있다.Electromagnetic shielding effect can be increased by stacking conductive materials with low electrical resistance, and ITO is laminated in empty spaces formed by patterning conductive materials to increase electrical conductivity without lowering light transmittance, thereby improving electromagnetic shielding effect. do. In the first embodiment, the electromagnetic shielding effect can be expected only when the conductive material is formed to a thickness of 1 to 10 micrometers, but in the present embodiment, since ITO is laminated together, the thickness may be 1 to 5 micrometers.

본 발명에 따른 디스플레이 장치의 제조방법은, 기판 상에 마스크를 씌우고 도전성 물질을 스퍼터링법으로 적층하여 전자파 차폐막을 제조하는 것을 특징으로 한다. 본 방법은 상술한 디스플레이 장치의 실시예들을 제조하는 방법이며, 전자파 차폐막 외에 다른 구성의 제조방법은 종래의 기술과 동일하다.A method of manufacturing a display device according to the present invention is characterized in that an electromagnetic shielding film is produced by putting a mask on a substrate and stacking a conductive material by sputtering. The method is a method of manufacturing the above-described embodiments of the display device, the manufacturing method of the other configuration other than the electromagnetic shielding film is the same as the prior art.

도 4는 본 발명에 따른 디스플레이 장치의 제조방법 중 전자파 차폐막의 제조공정의 일실시예를 나타낸 흐름도이고, 도 5는 기판 상에 마스크를 씌우고 도전성 물질을 스퍼터링하는 공정을 나타낸 도면이다. 도 4 및 도 5를 참조하여, 본 발명에 따른 전자파 차폐막 제조방법의 일실시예를 설명하면 다음과 같다.4 is a flowchart illustrating an example of a manufacturing process of an electromagnetic wave shielding film in a method of manufacturing a display device according to the present invention, and FIG. 5 is a diagram illustrating a process of putting a mask on a substrate and sputtering a conductive material. 4 and 5, an embodiment of the method for manufacturing an electromagnetic shielding film according to the present invention will be described.

먼저, 기판(100) 상에 제 1 ITO층(120a)을 형성한다(S410). 기판(100)은 디스플레이 장치의 패널과 PET 필름과 글래스 중 어느 하나인 것을 상술한 바와 같다. 이어서, 제 1 ITO층(120a) 상에 도전성 물질을 형성하는데, 마스크(150)를 사용하여 도전성 물질을 패터닝하여 형성한다(S420). 도전성 물질은 스퍼터링법으로 형성되는데, 구체적으로 높은 에너지(> 30 eV)를 가진 입자들을 도전성 물질의 타겟(target)에 충돌하여 도전성 물질 타겟을 이루는 원자들에게 에너지를 전달해줌으로써, 원자들이 방출된 후 기판(100) 상에 적층된다. First, the first ITO layer 120a is formed on the substrate 100 (S410). As described above, the substrate 100 is any one of a panel, a PET film, and a glass of the display device. Subsequently, a conductive material is formed on the first ITO layer 120a. The conductive material is patterned using the mask 150 (S420). The conductive material is formed by sputtering. Specifically, the particles having high energy (> 30 eV) impinge on the target of the conductive material to transfer energy to the atoms forming the target of the conductive material, whereby the atoms are released. Stacked on the substrate 100.

마스크(150)의 모양은 형성하고자 하는 도전성 물질의 형상에 따라서 다르며, 바람직하게는 스트라이프 타입의 도전성 물질을 형성할 때는 스트라이프 타입인 것을 특징으로 하고, 메쉬 타입의 도전성 물질을 형성할 때는 복수 개의 사각형 타입인 것을 특징으로 한다. 도전성 물질은 10~30 마이크로 미터의 선폭으로 패터닝되는 것이 바람직하며, 그 두께 및 제 1,2 ITO 층의 두께 등은 상술한 디스플레이 장치와 같다.The shape of the mask 150 is different depending on the shape of the conductive material to be formed. Preferably, the mask 150 has a stripe type when the stripe-type conductive material is formed, and a plurality of squares when the mesh-type conductive material is formed. It is characterized by the type. The conductive material is preferably patterned with a line width of 10 to 30 micrometers, the thickness and the thickness of the first and second ITO layers being the same as those of the display device described above.

도전성 물질층의 패터닝된 후에는, 빈 공간에 그루브가 형성되는데 그 곳에 제 2 ITO층을 형성한다(S430). 본 실시예에서, 제 1,2 ITO 층은 광투과율을 유지하 면서도 전자파 차폐효과를 향상시키기 위하여 형성되나, 다른 실시예에서는 형성되지 않아도 무방할 것이다. 그리고, 전자파 차폐막의 제조공정 외에 다른 구성의 제조방법은 종래의 기술과 동일하다.After the conductive material layer is patterned, grooves are formed in the empty space, and a second ITO layer is formed therein (S430). In the present embodiment, the first and second ITO layers are formed to improve the electromagnetic shielding effect while maintaining the light transmittance, but may not be formed in other embodiments. In addition, the manufacturing method of the structure other than the manufacturing process of an electromagnetic wave shielding film is the same as that of the prior art.

상술한 본 발명에 따른 디스플레이 장치의 제조방법의 일실시예의 작용을 설명하면 다음과 같다.Referring to the operation of the embodiment of the manufacturing method of the display device according to the present invention described above are as follows.

기판 상에 마스크를 씌우고 도전성 물질층을 스퍼터링하여 형성함으로써, 전자파 차폐막을 패터닝하여 형성할 수 있다. 따라서, 전자파 차폐 효과 및 광투과율을 모두 향상시킬 수 있다. 또한, ITO를 도전성 물질 상,하에 형성하여 도전성 물질층의 두께를 줄여서 전자파 차폐막의 무게를 줄일 수 있다. 또한, ITO와 도전성 물질이 적층되어, 디스플레이 내부에서 방출되는 근적외선을 차폐하는 효과도 기대할 수 있다.By forming a mask on the substrate and sputtering the conductive material layer, the electromagnetic shielding film can be patterned to form. Therefore, both the electromagnetic wave shielding effect and the light transmittance can be improved. In addition, ITO may be formed above and below the conductive material to reduce the thickness of the electromagnetic shielding layer by reducing the thickness of the conductive material layer. In addition, the effect of shielding near-infrared radiation emitted from the inside of the display by stacking the ITO and the conductive material can be expected.

상술한 전자파 차폐막을 제외한 디스플레이 장치의 나머지 구성은 종래의 기술과 동일하다. 그리고, 상술한 전자파 차폐막은 플라즈마 디스플레이 패널 뿐만 아니라, LCD, 휴대용 단말기 등 다른 디스플레이 장치에도 사용될 수 있음은 자명하다.The rest of the configuration of the display apparatus except for the above-described electromagnetic shielding film is the same as in the related art. In addition, it is apparent that the above-described electromagnetic shielding film may be used not only for plasma display panels but also for other display devices such as LCDs and portable terminals.

본 발명은 상술한 실시예에 한정되지 않으며, 첨부된 청구범위에서 알 수 있는 바와 같이 본 발명이 속한 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 변형이 가능해도 이러한 변형은 본 발명의 범위에 속한다.The present invention is not limited to the above-described embodiments, and such modifications are included in the scope of the present invention even if modifications are possible by those skilled in the art to which the present invention pertains.

상기에서 설명한 본 발명에 따른 디스플레이 장치 및 그 제조방법의 효과를 설명하면 다음과 같다.Referring to the effects of the display device and the manufacturing method according to the present invention described above are as follows.

첫째, 디스플레이 장치를 이루는 전자파 차폐막의 제조공정 및 시간을 간단하게 할 수 있다.First, the manufacturing process and time of the electromagnetic shielding film constituting the display device can be simplified.

둘째, 디스플레이 장치의 전자파 차폐막의 두께를 줄이고, 무게를 줄일 수 있다.Second, it is possible to reduce the thickness and weight of the electromagnetic shielding film of the display device.

Claims (19)

영상 정보가 표시되는 패널; 및A panel on which image information is displayed; And 상기 패널의 전면 상에 1~10 마이크로미터의 두께로 형성되고, 도전성 물질층이 패터닝되어 형성된 전자파 차폐막을 포함하여 이루어지는 디스플레이 장치.And a microwave shielding film formed on a front surface of the panel with a thickness of 1 to 10 micrometers and formed by patterning a conductive material layer. 제 1 항에 있어서, 상기 기판은,The method of claim 1, wherein the substrate, 디스플레이 장치의 패널과 PET 필름과 글래스 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치.Display device, characterized in that any one of a panel of the display device, PET film and glass. 제 1 항에 있어서, 상기 도전성 물질은,The method of claim 1, wherein the conductive material, 은, 구리, 알루미늄, 스테인레스 스틸 및 니켈 중 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치.And at least one of silver, copper, aluminum, stainless steel, and nickel. 제 1 항에 있어서, 상기 도전성 물질층은,The method of claim 1, wherein the conductive material layer, 선폭이 10~30 마이크로미터인 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치.Display device, characterized in that the line width is 10 to 30 micrometers. 제 1 항에 있어서, 상기 도전성 물질층은,The method of claim 1, wherein the conductive material layer, 스트라이프 타입으로 패터닝된 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치.Display device characterized in that the patterned stripe type. 제 1 항에 있어서, 상기 도전성 물질층은,The method of claim 1, wherein the conductive material layer, 메쉬 타입으로 패터닝된 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치.Display device characterized in that the patterned in the mesh type. 제 1 항에 있어서, 상기 도전성 물질층은,The method of claim 1, wherein the conductive material layer, 스퍼터링법으로 형성된 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치.A display device formed by the sputtering method. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 도전성 물질층의 상부와 하부 중 적어도 한 곳에 형성된 ITO층을 더 포함하는 디스플레이 장치.And a ITO layer formed on at least one of upper and lower portions of the conductive material layer. 제 8 항에 있어서, 상기 ITO층은,The method of claim 8, wherein the ITO layer, 두께가 20~200 나노미터인 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치.Display device, characterized in that the thickness of 20 ~ 200 nanometers. 기판 상에 마스크를 씌우는 단계; 및Applying a mask on the substrate; And 상기 기판 상에 도전성 물질층을 스퍼터링법으로 적층하여 전자파 차폐막을 제조하는 단계를 포함하는 디스플레이 장치의 제조방법.And manufacturing an electromagnetic shielding film by stacking a conductive material layer on the substrate by sputtering. 제 10 항에 있어서, 상기 기판은,The method of claim 10, wherein the substrate, 디스플레이 장치의 패널과 PET 필름과 글래스 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치의 제조방법.Method of manufacturing a display device, characterized in that any one of a panel of the display device, PET film and glass. 제 10 항에 있어서, 상기 마스크는,The method of claim 10, wherein the mask, 스트라이프 타입인 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치의 제조방법.A method of manufacturing a display device, characterized in that the stripe type. 제 10 항에 있어서, 상기 마스크는,The method of claim 10, wherein the mask, 복수 개의 사각형 타입이고, 상기 도전성 물질층은 메쉬 타입으로 적층되는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치의 제조방법.A plurality of rectangular type, wherein the conductive material layer is laminated in a mesh type manufacturing method of a display device. 제 10 항에 있어서, 상기 도전성 물질은,The method of claim 10, wherein the conductive material, 상기 기판 상에 은, 구리, 알루미늄, 스테인레스 스틸 및 니켈 중 적어도 하나를 적층하여 형성된 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치의 제조방법.And at least one of silver, copper, aluminum, stainless steel, and nickel on the substrate. 제 10 항에 있어서,The method of claim 10, 상기 도전성 물질층 상의 그루브에, ITO를 적층하는 단계를 더 포함하는 디스플레이 장치의 제조방법.Stacking ITO on the groove on the conductive material layer. 제 10 항에 있어서,The method of claim 10, 상기 기판과 도전성 물질층의 사이에, ITO를 형성하는 단계를 더 포함하는 디스플레이 장치의 제조방법.And forming ITO between the substrate and the conductive material layer. 제 15 항 또는 16 항에 있어서, 상기 ITO층은,The method of claim 15 or 16, wherein the ITO layer, 두께가 20~200 나노미터인 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치의 제조방법.Method of manufacturing a display device, characterized in that the thickness is 20 ~ 200 nanometers. 제 10 항에 있어서, 상기 도전성 물질층은,The method of claim 10, wherein the conductive material layer, 두께가 1~10 마이크로미터인 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치의 제조방법.A method of manufacturing a display device, characterized in that the thickness is 1 ~ 10 micrometers. 제 10 항에 있어서, 상기 도전성 물질층은,The method of claim 10, wherein the conductive material layer, 선폭이 10~30 마이크로미터로 적층되는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치의 제조방법.A manufacturing method of a display device, characterized in that the line width is laminated to 10 ~ 30 micrometers.
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