KR20070099954A - 나노와이어 복합체 및 그의 제조방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 다수의 중공 채널들을 포함하는 템플릿, 상기 템플릿의 각 채널 내에 형성된 나노와이어 및 상기 템플릿의 일부 구간이 제거되어 단일의 나노와이어 또는 다수의 나노와이어들이 노출되는 기능부를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노와이어 복합체 및 그의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명의 나노와이어 복합체는 저가의 단순 공정에 의해 제조가 가능하고 소형으로 제작이 가능하므로 공진기 또는 각종 센서로 용도 전개가 가능하다.
템플릿, 나노 와이어, 채널, 에칭, 기능부, 센서, 공진기
Description
도 1은 본 발명의 일실시예에 의한 나노와이어 복합체의 개략사시도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 의한 나노와이어 복합체의 제조방법 중 나노와이어 형성 단계의 공정흐름도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 의한 나노와이어 복합체의 제조방법 중 템플릿 에칭 단계의 공정흐름도이다.
도 4는 본 발명의 일실시예에 의한 나노와이어 복합체를 포함하는 센서의 단면 개략도이다.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*
10: 템플릿 20: 나노와이어
30: 기능부 40: 전극
본 발명은 나노와이어 복합체 및 그의 제조방법에 관한 것으로 더욱 상세하게는 다수의 중공 채널들을 포함하는 템플릿, 상기 템플릿의 각 채널 내에 형성된 나노와이어 및 상기 템플릿의 일부 구간이 제거되어 단일의 나노와이어 또는 다수의 나노와이어들이 노출되는 기능부를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노와이어 복합체 및 그의 제조방법에 관한 것이다.
공진기는 이동통신 단말기의 소형경량 필터 등으로 사용되고 있다. 기존의 공진기는 하부전극, 압전층, 및 상부전극이 차례로 적층된 공진부 하부에 에어갭이 형성되어 공진부와 기판이 시로 격리되는 에어갭형 공진기가 사용되고 있다. 이러한 에어갭형 공진기의 제조시에는 소자 외부에서 소자 내부에 있는 희생층까지 연결되는 비아홀을 형성한 후, 이를 통해 에칭액을 투여함으로써 희생층을 제거하면 희생층이 있던 위치에 에어갭이 형성되게 된다. 그러나 이러한 종래의 방법에서는 희생층을 필요로 하므로 제작공정이 복잡해지고, 비아홀을 이용하여 에칭작업을 수행하여야 하므로 공진부를 손상시켜 공진 특성을 저하시키는 문제점이 있다. 또한 에칭시 에어갭을 30 nm 이하의 스케일로 에칭하는 것이 어려운 과제로 인식되어 왔다.
한편, 바이오 물질, 화학 물질, 환경 물질, 기체 등을 감지할 수 있는 각종 센서에 대한 관심이 급증함에 따라 다양한 물질들을 감지 및 분석하기 위한 센서에 대한 개발이 활발해 지고 있다. 특히 압전 특성(Piezoelectronic Property)을 이용하여 물질의 표면 흡착양 정도를 감지하는 센서는 대상 물질에 의한 공진 주파수 편이를 측정하고, 이러한 공진 주파수의 편이를 축적된 데이터 베이스와 비교하여 감지할 수 있다.
이러한 센서의 경우에 센싱부의 두께가 얇을수록 감도가 향상되나, 현재 기술적 한계로 인하여 센싱부를 얇게 형성하는 것은 어려운 것으로 인식되고 있다. 따라서 보다 소형이면서 감도가 높고 적은 시료로 다수의 검사를 동시에 실시할 수 있는 센서를 용이하게 제조할 수 있는 재료 또는 방법의 개발이 절실하게 요구되고 있다.
본 발명은 상술한 기술적 요구에 부응하기 위한 것으로, 본 발명의 하나의 목적은 소형화가 가능하고 제조가 용이한 공진기 또는 센서로 용도 전개가 가능한 나노와이어 복합체를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 공정이 간단하고 코스트가 저렴한 나노와이어 복합체의 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 본 발명의 나노와이어 복합체를 포함하는 소형박형화가 가능하고 제조 비용이 저렴한 공진기 및 센서 등의 전자 장치를 제공하는 것이다.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 하나의 양상은
다수의 중공 채널들을 포함하는 템플릿;
상기 템플릿의 각 채널 내에 형성된 나노와이어: 및
상기 템플릿의 일부 구간이 제거되어 단일의 나노와이어 또는 다수의 나노와이어들이 노출되는 기능부를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노와이어 복합체에 관계한다.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 다른 양상은
다수의 중공 채널들을 포함하는 템플릿을 이용하여 나노와이어를 형성하는 단계; 및
상기 템플릿의 일부 구간을 에칭하여 제거함으로써 채널 내에 생성된 나노와이어를 노출시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노와이어 복합체의 제조방법에 관계한다.
템플릿을 이용하여 나노와이어를 제조하는 단계는 상기 템플릿의 각 채널 내에 금속, 금속 합금, 금속 황화물, 금속 칼코겐 화합물, 또는 금속할로겐의 액상 또는 기상 전구체를 주입하는 단계; 및 상기 전구체를 결정화시켜 나노와이어를 형성시키는 단계를 포함할 수 있다. 본 발명에서는 자외선 조사, 마이크로파 조사 또는 열처리에 의해 채널에 주입된 전구체를 결정성 나노와이어로 결정화시킬 수 있다.
상기 에칭 단계에서는 습식 에칭 또는 건식 에칭에 의해 템플릿을 제거하여 나노와이어를 노출시켜 공진기의 공진부 또는 센서의 센싱부로 기능하게 될 기능부를 형성한다.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 또 다른 양상은 본 발명의 나노와이 어 복합체를 포함하는 공진기 또는 다기능 센서에 관계한다.
이하에서, 첨부 도면을 참조하여 본 발명에 대해서 더욱 상세하게 설명한다.
하나의 양상에서, 본 발명은 템플릿의 채널 내에 형성된 다수의 나노와이어와 공진기의 공진부 또는 센서의 센싱부로 기능하도록 나노와이어가 노출된 기능부를 포함하는 나노와이어 복합체를 특징으로 한다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 의한 나노와이어 복합체의 개략사시도이다. 도 1을 참고하면, 본 발명의 나노와이어 복합체는 다수의 중공 채널들을 포함하는 템플릿(10), 상기 템플릿의 각 채널 내에 형성된 나노와이어(20) 및 상기 템플릿의 일부 구간이 제거되어 단일의 나노와이어 또는 다수의 나노와이어들이 노출되는 기능부(30)를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에서 상기 템플릿(10)은 내부에 나노와이어가 형성되는 중공부를 포함하는 다수의 채널들을 포함한다. 상기 템플릿(10)은 유리, 실리카 및 TiO2, ZnO, SnO2, WO3 등의 금속산화물로 이루어진 군에서 선택되는 재료로 형성될 수 있다.
템플릿(10)은 기본적으로 템플릿 모재를 제작하는 공정과 모재로부터 템플릿 형태를 추출하는 공정을 통해서 제조될 수 있다. 채널의 형성은 추출하는 과정의 추출 속도, 냉각조건 등에 따라 결정이 되며, 특히 모재에 원하는 채널의 형태를 미리 가공해 줌으로써 추출 과정을 통하여 원래 형태가 나노 크기로 축소된 구조를 얻는 것도 가능하다.
템플릿의 직경이나 길이는 자유도가 높으므로 나노와이어가 성장되는 채널의 크기에 따라 선택가능하지만, 직경이 10nm~1mm, 길이가 100nm~1mm인 것이 바람직하다. 또한, 상기 템플릿 내의 채널의 규격은 제조하고자 하는 나노와이어 및 나노와이어 복합체의 규격에 따라 달라질 수 있다. 예를 들어, 채널의 직경은 1~100nm이고 채널간 간격은 2nm~1㎛일 수 있다.
본 발명에서 템플릿의 채널 내에 형성되는 나노와이어(nanowire)(20)는 지름이 1 내지 100 나노미터 범위이고, 지름에 대한 길이의 비가 매우 큰 구조를 의미한다. 본 발명에서 나노와이어의 재료는 특별히 제한되지 않고, 금속, 금속합금, 금속황화물, 금속 칼코겐 화합물, 금속 할로겐, 반도체 등의 재료로 구성될 수 있다. 일례로, 상기 나노와이어는 Fe, Pt, Ni, Co, Al, Ag, Au, Cu, Si, Ge, CdS, CdSe, CdTe, ZnS, ZnSe, ZnTe, GaN, GaP, GaAs, GaSb, AlN, AlP, AlAs, AlSb, InP, InAs, InSb, SiC, FePt, Fe2O3, 및 Fe3O4로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 재료로 구성될 수 있다.
본 발명의 나노와이어 복합체에서 기능부(30)는 템플릿의 일부 구간을 에칭하여 나노와이어를 템플릿의 외부에 노출시켜 제조되며, 공진기의 공진부 또는 센서의 센싱부의 기능을 담당하게 되는 부분이다. 본 발명의 나노와이어 복합체에서 상기 기능부(30)는 단일의 나노와이어 가닥으로 구성되거나 다수의 나노와이어 가닥들로 구성될 수 있다. 본 발명의 나노와이어 복합체는 각종 센서 또는 공진기(resonator)로 제조될 수 있다.
다른 양상에서 본 발명은 이상에서 설명한 나노와이어 복합체의 제조방법에 관계한다. 본 발명의 방법에서는 다수의 중공 채널들을 포함하는 템플릿의 각 채널 내에 나노와이어를 형성한 후, 템플릿의 일부 구간을 에칭하여 나노와이어를 노출시킨다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 의한 나노와이어 복합체의 제조방법 중 나노와이어 형성 단계의 공정흐름도이고, 도 3은 본 발명의 일 실시예에 의한 나노와이어 복합체의 제조방법 중 템플릿 에칭 단계의 공정흐름도이다. 다음으로 도 2 및 도 3을 참조하여 본 발명의 나노와이어 복합체의 제조방법에 대해서 상세하게 설명한다.
본 발명에 의해서 나노와이어 복합체를 제조하는 경우에는 다수의 중공 채널들을 포함하는 템플릿을 이용하여 나노와이어를 형성한다. 이어서 상기 템플릿의 일부 구간을 에칭하여 제거함으로써 나노와이어를 노출시킨다.
나노와이어 형성시에는 템플릿의 각 채널 내에 금속, 금속 합금, 금속 황화물, 금속 칼코겐 화합물, 또는 금속할로겐(예컨대, AgI, HgI2)의 액상 또는 기상 전구체를 주입하고, 이어서 이러한 전구체를 결정화시켜 나노와이어를 형성한다. 상기 나노와이어의 재료의 예들은 Fe, Pt, Ni, Co, Al, Ag, Au, Cu, Si, Ge, CdS, CdSe, CdTe, ZnS, ZnSe, ZnTe, GaN, GaP, GaAs, GaSb, AlN, AlP, AlAs, AlSb, InP, InAs, InSb, SiC, FePt, Fe2O3, 및 Fe3O4를 포함하나, 반드시 이들로 제한되는 것은 아니다.
액상 공정(solution process)을 적용할 경우, Fe, Pt, Ag, Cd 등 금속원소의 전구체는 질산염, 염화염, 아세트산염[예컨대, Fe(NO3)2, FeCl3, AgNO3, Ag(CH3COO), Cd(CH3COO)2] 등의 금속염 형태나 디메틸 징크 (ZnMe2, Me=CH3), 디메틸 카드뮴 (CdMe2, Me=CH3) 등의 유기금속 분자를 사용하며, 물이나 알코올, 디메틸포름아미드, 에틸렌디아민 등의 극성 유기용매에 용해된 용액을 사용한다. 금속 나노와이어를 생성하기 위하여 금속전구체의 용액에 NaBH4 등의 환원제(reducing agent)를 첨가하여 금속원소의 환원을 용이하게 한다. 경우에 따라서는, 액상 전구체 용액은 상기 전구체를 탄소수 6 내지 22의 알킬 포스핀, 탄소수 6 내지 22의 알킬 포스핀 옥사이드, 탄소수 6 내지 22의 알킬 아민 또는 그의 혼합물 등의 적당한 용매에 용해시켜 준비할 수 있다.
상기 액상 또는 기상 전구체는 모세관 현상을 이용하여 주입하거나, 템플릿의 채널의 크기가 나노 크기로 작기 때문에 온도 또는 압력을 템플릿 양단에 차이를 주어 조절하거나, 전기장(electric field) 또는, 기계적 힘(mechanical force)을 가하여 주입할 수도 있다. 일례로 채널의 한쪽 끝에서 전구체를 주입하고 유체의 흐름을 유체역학적(hydrodynamic)으로 마이크로 펌프(micro-pump)로 생성하거나, 채널의 양 끝 단에 전기장(electric field)을 걸어 주어 모세관 전기영동 (capillary electrophoresis)에 의해 전구체를 주입할 수 있다.
기상 또는 액상 전구체를 결정화시켜 나노와이어를 제조하는 방법은 본 발명이 속하는 기술 분야에 알려져 있으며, 본 발명에서는 이러한 임의의 방법에 의해 나노와이어를 결정화시킬 수 있다. 예를 들어, 액상 또는 기상 전구체를 템플릿의 각 채널에 주입하고 나서 자외선 조사, 마이크로파 조사, 열처리에 의해 전구체를 결정화시켜 결정성 나노와이어를 만들 수 있다.
일례로 금속 또는 금속 합금의 전구체를 결정화시키는 경우에는 아래와 같이 환원 반응에 의해 결정화가 진행된다.
Ag+ → Ag0
Pd+ → Pd0
Au3 +:Pd+ → Au:Pd
금속 및 금속합금의 전구체로서 질산염(AgNO3), 염화염(PdCl2 , AuCl3), 아세트산염[(Pd(CH3COO)2] 등을 사용할 수 있고, NaBH4, 하이드라진(N2H4) 등의 환원제(reducing agent)를 첨가하여 금속 나노와이어의 생성을 촉진할 수 있다.
한편, 금속 황화물 또는 금속 칼코겐 화합물을 결정화시키는 경우에는 다음과 같은 반응에 의해 결정화가 이루어진다.
Zn2 + + S 소스 → ZnS
Cd2 + + S 소스 → CdS
Cd2 + + Se 소스 → CdSe
황 및 칼코겐 성분의 소스로서는, 황 (S) 및 칼코겐 (Se, Te) 원소 성분의 전구체를 알킬포스핀이나 알킬포스핀 옥사이드에 녹인 용액을 사용하거나, 이들 원소를 포함하고 있는 분자성 또는 이온성 화합물을 사용한다. 황 및 칼코겐 성분의 전구체로는 H2SeO3, (TMS)2Se, (TMS)2S, 티오우레아, NH2CSNH2, CH3CSNH2, Na2TeO4, (BDMS)2Te, NaHT를 사용할 수 있다.
금속-할로겐은 다음과 같은 반응에 의해 결정화될 수 있다.
Ag (채널) + I → AgI
Hg (채널) + 2I → HgI2
채널에 AgI 나노와이어를 생성하기 위하여, Ag 전구체를 사용하여 채널에 Ag 나노와이어를 생성한 것을 진공 중에서 요오드(I2) 와 반응시켜서 요오드 분자의 채널 속으로의 확산(diffusion) 및 은이온 (Ag+)의 이온전도(ionic conductivity)에 의하여 채널 속에서 상기와 같은 할로겐화 반응이 진행되도록 한다. 채널에 HgI2 나노와이어의 생성을 위하여 채널이 존재하는 템플렛을 진공처리한 후 유동성을 가지는 액체인 수은(Hg)에 담지하여 채널에 수은이 채워지도록 한다. 이후, AgI 의 예에서와 같이 진공 중에서 요오드와 반응시켜 HgI2 나노와이어가 채널에 생성되도록 한다. HgI2 는 X-선 (X-ray), g-선 (gamma-ray)등의 고에너지 방사선의 검출기에 사용되는 물질이며 나노와이어 형태의 HgI2 는 환경 및 의료용 고감도 X-선 검출기에 적용가능 할 것으로 기대된다.
이상과 같이 해서 나노와이어가 형성되면 일부 구간의 템플릿을 에칭에 의해 제거하여 단일 가닥 또는 복수 가닥의 나노와이어를 노출시킨다. 도 3을 참고하면, 이러한 과정을 수행하기 위해서는 구체적으로 템플릿의 표면에 감광성 포토레지스트 조성물을 코팅하고, 템플릿의 에칭하고자 하는 구간을 노광한다. 노광을 하는 부분이 평면이 아닌 실린더 형태의 입체구조이므로 좁은 선폭의 펄스화-레이저(pulsed-laser)를 사용하면 입체부분(실린더 표면)을 정교하고 미세하게 노광할 수 있다. 이러한 노광에 의해 템플릿의 일부 구간이 벗겨지므로 후속 에칭 단계에서 에칭액 등에 의해 에칭이 이루어질 수 있게 된다. 노광에 의해 노출된 부분은 화학적 에칭 등에 의해 템플릿을 제거한다. 이때 에칭은 습식 에칭 또는 건식 에칭에 의해 진행할 수 있다. 대안으로 화학적 에칭 이외에 광에칭 등에 의해서 템플릿을 제거할 수도 있다.
습식 에칭방법은 초산수용액, 불화수소산, 인산수용액 등의 템플릿만을 선택적으로 제거하는 에천트를 사용하여 에칭하는 방법이고, 건식 에칭방법은 기체(gas), 플라즈마(plasma), 이온빔(ion beam) 등을 이용하여 에칭하는 방법이다. 건식 에칭으로는 플라즈마 상태에서 반응성가스를 활성화시켜 에칭시키고자 하는 물질과 화학반응을 일으켜 휘발성 물질로 만들어 에칭하는 반응성 이온 에칭(Reactive Ion Etching:RIE ) 또는 유도 결합 플라즈마 (Inductive Coupled Plasma:ICP)를 활성원으로 하는 반응성 이온 에칭 방법(ICP-RIE)을 사용할 수 있다.
본 발명에서 나노와이어의 크기(직경)는 템플릿의 채널의 직경, 전구체의 농 도, 반응시간 등을 조정하여 임의로 조절할 수 있다. 채널의 직경은 마이크로 단위에서 나노 단위까지 조절할 수 있다. 나노와이어의 길이 또한 임의로 조절될 수 있다.
또 다른 양상에서 본 발명은 본 발명의 나노와이어 복합체를 포함하는 공진기 또는 센서에 관계한다. 본 발명의 나노와이어 복합체를 이용하여 공진기 또는 센서를 제작하는 경우에는 나노와이어 복합체의 양면에 전도성 물질을 코팅하여 전극을 형성한다.
본 발명의 방법에 의해 제조되는 나노와이어 복합체는 직진성 및 배열성이 우수한 나노 와이어를 포함하므로 센서, 공진기, 전자 소자 등에 응용할 수 있다. 특히 본 발명의 방법에 의하면 고가의 시설 또는 장비 없이 저비용으로 이러한 센서 소자를 제조할 수 있다. 센서로 사용되는 경우에는 기체(예컨대, 수소 센서), 화학물질, 광센서(예컨대, 가시광선, X-선 센서), 바이오 센서 등에 광범위하게 적용될 수 있고, 바이오센서의 경우에는 의료용, 식품용, 군사용, 환경감시용, 연구용 등의 다양한 용도로 사용될 수 있다.
도 4는 본 발명의 나노와이어 복합체를 이용하여 제조된 센서의 단면 개략도이다. 도 4에 도시된 바와 같이, 이러한 센서는 두 개의 전극(40) 사이에 템플릿(10)과 기능부(30)를 포함하는 나노와이어 복합체가 형성되어 제조될 수 있다. 도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 나노와이어 복합체를 포함하는 센서를 기판 상에 신호처리 회로와 함께 연결하여 모듈화할 수 있다.
기판으로는 실리콘과 같은 반도체, 사파이어와 같은 세라믹, 유리, 고분자, 플라스틱 등이 이용될 수 있고, 전극은 Au, Ti, Pt, Pd, TiN 등의 금속 또는 금속 합금으로 구성될 수 있다.
나노와이어는 다른 물질과 비교하여 단결정으로 성장하는 특성이 강하므로 결함 또는 불순물에 의한 물리적, 화학적 특성의 변화를 배제 또는 최소화하는 것이 가능하다. 또한, 체적(V)에 대한 표면적(S) 비율(S/V)이 대단히 크고, 나노 크기로 얻어지는 효과 (quantum-size effect)로 인하여, 물리적, 화학적 환경 변화에 대한 반응 및 감지력이 크기 때문에, 센서로서의 기능이 탁월하다. 또한, 한 방향으로 충분히 큰 길이를 갖기 때문에 다른 나노 물질과 비교하여 소자 형태로 제작하기에 용이하다. 또한 반도체 나노와이어는 특정 파장에서 광여기에 의하여 전기 저항이 변화하는 특성을 가지므로, 이러한 특성을 이용하여 특정 파장에 대한 광센서로 사용할 수 있다.
본 발명의 나노와이어 복합체를 이용하는 공진기는 센서로 이용될 수 있다. 이러한 공진기에서는 공진기 위에 추가적으로 물질이 점착될 경우 공진 주파수의 편이가 발생하게 되는데, 이와 같은 특정 물질의 점착량과 주파수 편이 정도를 산출한 후, 기축적된 데이터베이스 내의 값과 비교함으로써 물질의 종류, 특성 등을 감지할 수 있다.
본 발명의 나노와이어 복합체를 포함하는 공진기는 휴대용 정보기기 등의 필터, 듀플렉서 등으로 사용될 수 있다.
이하에서, 실시예를 통하여 본 발명을 보다 상세하게 설명하고자 하나, 하기 의 실시예는 단지 설명의 목적을 위한 것으로 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다.
실시예 1: 나노 구조 복합체의 제조
채널 직경 20nm, 채널 사이의 간격 40nm를 갖는 길이 1㎛의 채널이 형성된 직경 100㎛의 템플릿을 기판 위에 올려 놓고 톨루엔에 분산된 CdSe 나노 입자를 템플릿 표면에 뿌린다. 템플릿 밑부분의 압력을 매우 짧은 시간 동안 윗부분 보다 상대적으로 낮추어서 나노입자가 채널내로 주입되도록 한다. CdS 나노입자 주입 후 200℃에서 10분 동안 열처리하여 나노와이어를 형성시켰다.
실시예 2:
Ag
나노 구조 복합체의 제조
채널 직경 40nm, 채널 사이의 간격 100nm를 갖는 길이 1㎛의 채널이 형성된 직경 100㎛의 템플릿을 진공으로 한 후 실버 아세테이트[Ag(CH3COO)]가 포화된 에틸렌 글리콜 용액을 넣어 주고 가압하여 채널에 [Ag(CH3COO)]용액이 침투되도록 한다. 가압된 상태에서 100 ~ 150도 온도 범위에서 20 분 동안 반응을 시켜서 Ag 나노와이어를 생성시킨다. 가열반응 대신에 2.45 GHz 의 마이크로파를 5 분 동안 조사하여 Ag 나노와이어를 생성한다.
실시예 3:
AgI
나노 구조 복합체의 제조
실시예 2에서 생성된 Ag 나노와이어가 담지된 템플렛을 요오드(I2)와 함께 진공밀봉(vacuum-sealing) 하여 150 ~ 250도 온도 범위에서 2 시간 가열한 후 템플렛이 있는 부분의 온도가 다른 부분보다 높도록 온도 구배(temperature gradient)를 주어 AgI 이외의 요오드를 제거하여 AgI 나노와이어를 생성시킨다.
실시예 4:
ZnS
및
ZnSe
나노 구조 복합체의 제조
1.5 ×10-3 mol Zn(CH3COO) 와 1.5 ×10-3 mol NH2CSeNH2를 2 ml N,N-디메틸포름아미드에 용해시킨 후 채널이 존재하는 템플릿을 담지한 후 2.45 GHz의 마이크로파를 3 분 동안 조사하거나 가압 상태에서 200도에서 1 시간 열처리하여 채널에 ZnSe 나노와이어를 형성한다.
이상에서 구체적인 실시예를 들어 본 발명을 상세하게 설명하였으나 본 발명은 상술한 실시예에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상의 범위 내에서 본 발명이 속하는 기술 분야의 당업자에 의해 많은 변형이 가능함은 자명할 것이다.
예를 들어, 본 발명에서 나노와이어는 탄소나노튜브가 될 수 있고, 나노와이어의 단면 형상과 조성이 변경될 수 있다. 즉, 센서의 센싱부 또는 공진기의 공진부를 구성하게 되는 나노와이어 복합체의 기능부의 나노와이어는 서로 다른 재질을 교대로 형성한 하이브리드 구조가 되거나 또는 표면적을 더욱 증대시키기 위해 단면 형상이 원형 이외의 형태로 변형될 수 있다. 또한 센서로 응용시 에칭에 의해 서 제거되지 않아서 템플릿 내에 잔존하는 나노와이어를 레퍼런스로 사용할 수도 있다.
본 발명에 의하면 고가의 시설 및 장비 없이 저비용으로 나노와이어 복합체를 제조할 수 있고, 따라서 센서 또는 공진기 또한 저가의 단순 공정에 의해 제조할 수 있다. 특히 본 발명의 나노와이어 복합체를 이용하면 적은 시료로 다수의 검사를 동시에 실시할 수 있는 다기능 센서를 용이하게 제조할 수 있다.
또한 본 발명의 공진기 또는 센서는 소형박형으로 제조가 가능하므로 휴대용 전자 기기 등의 기판 위에 장착될 수 있다.
Claims (21)
- 다수의 중공 채널들을 포함하는 템플릿;상기 템플릿의 각 채널 내에 형성된 나노와이어: 및상기 템플릿의 일부 구간이 제거되어 단일의 나노와이어 또는 다수의 나노와이어들이 노출되는 기능부를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노와이어 복합체.
- 제 1항에 있어서, 상기 템플릿은 유리, 실리카 및 TiO2, ZnO, SnO2, 및 WO3와 같은 금속산화물로 이루어진 군에서 선택되는 재료로 형성되는 것을 특징으로 하는 나노와이어 복합체.
- 제 1항에 있어서, 상기 나노와이어가 금속, 금속 합금, 금속 황화물, 금속 칼코겐 화합물, 금속할로겐 또는 반도체로 구성되는 것임을 특징으로 하는 나노와이어 복합체.
- 제 1항에 있어서, 상기 나노와이어가 Fe, Pt, Ni, Co, Al, Ag, Au, Cu, Si, Ge, CdS, CdSe, CdTe, ZnS, ZnSe, ZnTe, GaN, GaP, GaAs, GaSb, AlN, AlP, AlAs, AlSb, InP, InAs, InSb, SiC, FePt, Fe2O3, 및 Fe3O4로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 재료로 구성된 것임을 특징으로 하는 나노와이어 복합체.
- 제 1항에 있어서, 상기 템플릿의 직경이 1nm~1mm 이고, 길이가 100nm~1mm 이며, 채널의 직경이 1~100nm이고, 채널 간의 간격이 2nm~1㎛ 인 것을 특징으로 하는 나노와이어 복합체.
- 제 1항에 있어서, 상기 기능부가 단일의 나노와이어 가닥 또는 다수의 나노와이어 가닥으로 구성되는 것을 특징으로 하는 나노와이어 복합체.
- 다수의 중공 채널들을 포함하는 템플릿을 이용하여 나노와이어를 형성하는 단계; 및상기 템플릿의 일부 구간을 에칭하여 제거함으로써 나노와이어를 노출시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노와이어 복합체의 제조방법.
- 제 7항에 있어서, 상기 나노와이어 형성 단계가상기 템플릿의 각 채널 내에 금속, 금속 합금, 금속 황화물, 금속 칼코겐 화합물, 또는 금속할로겐의 액상 또는 기상 전구체를 주입하는 단계; 및상기 전구체를 결정화시켜 나노와이어를 형성시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 7항에 있어서, 상기 나노와이어 형성 단계가 자외선 조사, 마이크로파 조 사 또는 열처리에 의해 전구체를 결정성 나노와이어로 결정화시키는 단계임을 특징으로 하는 방법.
- 제 7항에 있어서, 상기 나노와이어 노출 단계가템플릿의 표면에 감광성 포토레지스트 조성물을 코팅하는 단계;템플릿의 에칭하고자 하는 구간을 노광하는 단계; 및노광된 부분을 템플릿을 제거하기 위해 에칭하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 7항에 있어서, 상기 에칭 단계가 습식 에칭 또는 건식 에칭에 의해 진행되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 11항에 있어서, 상기 건식 에칭이 가스(gas), 플라즈마(plasma), 이온빔(ion beam)을 이용하여 에칭하는 단계임을 특징으로 하는 방법.
- 제 11항에 있어서, 상기 습식 에칭이 초산수용액, 불화수소산, 또는 인산수용액과 같은 에칭액을 이용하여 에칭하는 단계임을 특징으로 하는 방법.
- 제 7항에 있어서, 상기 템플릿이 유리, 실리카 및 TiO2, ZnO, SnO2, 및 WO3와 같은 금속산화물로 이루어진 군에서 선택되는 재료로 형성되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 8항에 있어서, 상기 전구체가 Fe, Pt, Ni, Co, Al, Ag, Au, Cu, Si, Ge, CdS, CdSe, CdTe, ZnS, ZnSe, ZnTe, GaN, GaP, GaAs, GaSb, AlN, AlP, AlAs, AlSb, InP, InAs, InSb, SiC, FePt, Fe2O3, 및 Fe3O4로 이루어진 군에서 선택되는 것임을 특징으로 하는 방법.
- 제 7항에 있어서, 상기 템플릿의 직경이 1nm~1mm 이고, 길이가 100nm~1mm 인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 7항에 있어서, 상기 채널의 직경이 1~100nm이고, 채널 간의 간격이 2nm~1㎛ 인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 1항의 나노와이어 복합체를 포함하는 공진기.
- 제 1항의 나노와이어 복합체를 포함하는 센서.
- 제 19항에 있어서, 상기 센서가 나노와이어 복합체의 양면에 코팅된 전극들 을 포함하는 것을 특징으로 하는 센서.
- 제 19항에 있어서, 상기 센서가 기체 센서, 화학물질 센서, 광센서 또는 바이오 센서임을 특징으로 하는 센서.
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Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100861570B1 (ko) * | 2007-04-30 | 2008-10-07 | 연세대학교 산학협력단 | 나노 공진기 제작 겸 주파수튜닝장치, 및 그 장치를 이용한나노 공진기의 제작방법 및 주파수튜닝방법 |
KR101122129B1 (ko) * | 2009-05-29 | 2012-03-21 | 경희대학교 산학협력단 | Si 과잉 산화막을 이용한 Si/SiOx 코어/쉘 이중구조 나노선 제조 방법 |
KR101239220B1 (ko) * | 2010-05-14 | 2013-03-05 | 서울대학교산학협력단 | 나노와이어의 진동현상을 이용한 센싱방법 및 나노와이어를 이용한 압력센서 |
KR101340087B1 (ko) * | 2010-11-29 | 2013-12-09 | 한국과학기술연구원 | 금속 선이 삽입된 광섬유를 이용한 광 바이오 센서, 이의 제조 방법 및 이를 이용한 바이오 물질 검출 방법 |
KR101386001B1 (ko) * | 2012-06-25 | 2014-04-16 | 한국전기연구원 | 마이크로파 가열에 의한 국부적 순간 합성을 통해 3차원 미세구조체를 제조하는 방법 및 장치 |
KR20180062597A (ko) * | 2016-12-01 | 2018-06-11 | 한국세라믹기술원 | 상온 구동형 가스센서의 제조방법 |
KR102110150B1 (ko) * | 2019-01-08 | 2020-06-08 | (주)티에스이 | 신호 전송 커넥터용 도전부 보호부재 및 그 제조방법과, 이를 갖는 신호 전송 커넥터 및 그 제조방법 |
CN112305039A (zh) * | 2020-10-30 | 2021-02-02 | 深圳瀚光科技有限公司 | 基于锗纳米片的甲酸气体传感器和应用 |
CN113881869A (zh) * | 2021-09-29 | 2022-01-04 | 西安热工研究院有限公司 | 一种银纳米线和四氧化三铁复合吸波材料及其制备方法 |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7758961B2 (en) * | 2007-03-22 | 2010-07-20 | Milliken & Company | Functionalized nanoparticles and their use in particle/bulk material systems |
CN101447775B (zh) * | 2007-11-28 | 2011-07-20 | 中国科学院半导体研究所 | 多晶立方相碳化硅微机电***谐振器件及其制作方法 |
US20100319759A1 (en) * | 2009-06-22 | 2010-12-23 | John Fisher | Nanostructure and methods of making the same |
US9202954B2 (en) * | 2010-03-03 | 2015-12-01 | Q1 Nanosystems Corporation | Nanostructure and photovoltaic cell implementing same |
KR101306225B1 (ko) | 2011-06-14 | 2013-09-06 | 한국에너지기술연구원 | 바이오매스를 이용한 나노와이어 합성방식 및 그 물질 |
US8946678B2 (en) | 2012-03-15 | 2015-02-03 | Virginia Commonwealth University | Room temperature nanowire IR, visible and UV photodetectors |
US9412442B2 (en) * | 2012-04-27 | 2016-08-09 | The Board Of Trustees Of The University Of Illinois | Methods for forming a nanowire and apparatus thereof |
US9082911B2 (en) | 2013-01-28 | 2015-07-14 | Q1 Nanosystems Corporation | Three-dimensional metamaterial device with photovoltaic bristles |
US20140264998A1 (en) | 2013-03-14 | 2014-09-18 | Q1 Nanosystems Corporation | Methods for manufacturing three-dimensional metamaterial devices with photovoltaic bristles |
US9954126B2 (en) | 2013-03-14 | 2018-04-24 | Q1 Nanosystems Corporation | Three-dimensional photovoltaic devices including cavity-containing cores and methods of manufacture |
TWI508305B (zh) * | 2013-05-06 | 2015-11-11 | E Ink Holdings Inc | 主動元件 |
CN104630742B (zh) * | 2015-01-27 | 2017-02-22 | 西安交通大学 | 一种采用原子层沉积原位制备超顺磁 Fe3O4 纳米管阵列的方法 |
CN104927760B (zh) * | 2015-04-30 | 2017-04-05 | 浙江师范大学 | 一种磁性异质结构纤维及其制备方法与应用 |
US10217819B2 (en) * | 2015-05-20 | 2019-02-26 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Semiconductor device including metal-2 dimensional material-semiconductor contact |
CN107460542A (zh) * | 2017-06-15 | 2017-12-12 | 南京大学 | 一种基于平面纳米线线形设计和引导的可拉伸晶体半导体纳米线的制备方法 |
CN108107087A (zh) * | 2017-12-12 | 2018-06-01 | 梁金凤 | 一种具有高选择性的气体传感器 |
CN110544656B (zh) * | 2019-09-19 | 2021-10-26 | 南京大学 | 利用超可拉伸晶态纳米线实现Micro-LED巨量转移的方法 |
CN111977657A (zh) * | 2020-09-11 | 2020-11-24 | 辽宁科技大学 | 一种利用微波处理燃煤锅炉飞灰制备碳化硅纳米线的方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5264722A (en) * | 1992-06-12 | 1993-11-23 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Nanochannel glass matrix used in making mesoscopic structures |
JP3902883B2 (ja) | 1998-03-27 | 2007-04-11 | キヤノン株式会社 | ナノ構造体及びその製造方法 |
US6465132B1 (en) * | 1999-07-22 | 2002-10-15 | Agere Systems Guardian Corp. | Article comprising small diameter nanowires and method for making the same |
EP1652218A2 (en) * | 2003-08-04 | 2006-05-03 | Nanosys, Inc. | System and process for producing nanowire composites and electronic substrates therefrom |
US7545010B2 (en) * | 2003-08-08 | 2009-06-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Catalytic sensor structure |
KR100582920B1 (ko) * | 2003-10-13 | 2006-05-24 | 한국화학연구원 | 아미노알콕사이드 리간드 함유 금속 화합물로부터 금속나노선 또는 나노막대의 제조방법 |
KR100666187B1 (ko) * | 2004-08-04 | 2007-01-09 | 학교법인 한양학원 | 나노선을 이용한 수직형 반도체 소자 및 이의 제조 방법 |
US7713849B2 (en) * | 2004-08-20 | 2010-05-11 | Illuminex Corporation | Metallic nanowire arrays and methods for making and using same |
US7712778B2 (en) * | 2007-10-29 | 2010-05-11 | Autoliv Asp, Inc. | Dual stage cylindrical inflator with outside to inside axial flow |
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Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100861570B1 (ko) * | 2007-04-30 | 2008-10-07 | 연세대학교 산학협력단 | 나노 공진기 제작 겸 주파수튜닝장치, 및 그 장치를 이용한나노 공진기의 제작방법 및 주파수튜닝방법 |
KR101122129B1 (ko) * | 2009-05-29 | 2012-03-21 | 경희대학교 산학협력단 | Si 과잉 산화막을 이용한 Si/SiOx 코어/쉘 이중구조 나노선 제조 방법 |
KR101239220B1 (ko) * | 2010-05-14 | 2013-03-05 | 서울대학교산학협력단 | 나노와이어의 진동현상을 이용한 센싱방법 및 나노와이어를 이용한 압력센서 |
KR101340087B1 (ko) * | 2010-11-29 | 2013-12-09 | 한국과학기술연구원 | 금속 선이 삽입된 광섬유를 이용한 광 바이오 센서, 이의 제조 방법 및 이를 이용한 바이오 물질 검출 방법 |
KR101386001B1 (ko) * | 2012-06-25 | 2014-04-16 | 한국전기연구원 | 마이크로파 가열에 의한 국부적 순간 합성을 통해 3차원 미세구조체를 제조하는 방법 및 장치 |
KR20180062597A (ko) * | 2016-12-01 | 2018-06-11 | 한국세라믹기술원 | 상온 구동형 가스센서의 제조방법 |
KR102110150B1 (ko) * | 2019-01-08 | 2020-06-08 | (주)티에스이 | 신호 전송 커넥터용 도전부 보호부재 및 그 제조방법과, 이를 갖는 신호 전송 커넥터 및 그 제조방법 |
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CN112305039A (zh) * | 2020-10-30 | 2021-02-02 | 深圳瀚光科技有限公司 | 基于锗纳米片的甲酸气体传感器和应用 |
CN113881869A (zh) * | 2021-09-29 | 2022-01-04 | 西安热工研究院有限公司 | 一种银纳米线和四氧化三铁复合吸波材料及其制备方法 |
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