KR20070091260A - Plasma display panel - Google Patents

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KR20070091260A
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Abstract

A plasma display panel is provided to simplify a manufacturing process of an electromagnetic wave shielding layer by forming directly the electromagnetic wave shielding layer between a front substrate and a barrier rib. A front substrate(111) and a rear substrate(121) are arranged opposite to each other in order to define a discharge space therebetween. A barrier rib(130) is arranged between the front and the rear substrates in order to define the discharge space as a plurality of discharge cells. An electromagnetic wave shielding layer(190) is arranged between the front substrate and the barrier rib and is separated from the barrier rib. A first dielectric layer(114) is formed to cover the electromagnetic wave shielding layer. The electromagnetic wave shielding layer is separated from the barrier rib by the first dielectric layer. A plurality of pairs of sustain electrodes(112) cause mutual discharge within the discharge cells. A second dielectric layer(115) is laminated on the first dielectric layer in order to cover the pairs of sustain electrodes.

Description

플라즈마 디스플레이 패널{Plasma display panel}Plasma display panel {Plasma display panel}

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 전자기파를 차단하는 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것이다.The present invention relates to a plasma display panel, and more particularly, to a plasma display panel that blocks electromagnetic waves.

플라즈마 디스플레이 패널을 이용하는 플라즈마 디스플레이 장치는 가스 방전현상을 이용하여 화상을 표시하는 평판 디스플레이 장치로서, 휘도, 콘트라스트, 잔상 및 시야각 등의 각종 표시 능력이 우수하며, 박형이고 대화면 표시가 가능하여 차세대 대형 평판 디스플레이 장치로서 각광을 받고 있다.Plasma display device using plasma display panel is a flat panel display device that displays images by using gas discharge phenomenon. It is excellent in various displays such as brightness, contrast, afterimage, and viewing angle, and it is possible to display thin and large screens. It is attracting attention as a display device.

그런데, 종래의 플라즈마 디스플레이 장치가 구동할 때, 상기 플라즈마 디스플레이 장치로부터 전자기파가 발생한다. 상기 전자기파는 인체에 해로울 뿐만 아니라, 다른 전자기기를 오작동시키는 문제점이 있는 바, 이에 대한 해결책이 요구된다.By the way, when the conventional plasma display device is driven, electromagnetic waves are generated from the plasma display device. The electromagnetic wave is not only harmful to the human body, but also has a problem of malfunctioning other electronic devices, and a solution thereto is required.

본 발명은 전자기파를 차단하는 플라즈마 디스플레이 패널을 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a plasma display panel that blocks electromagnetic waves.

본 발명은 서로 대향되어 배치되며, 그 사이에 방전 공간을 한정하는 전면기판 및 배면기판과, 상기 전면기판과 배면기판 사이에 배치되어 상기 방전 공간을 다수의 방전셀들로 구획하는 격벽 및 상기 전면기판과 격벽 사이에 배치되되 상기 격벽으로부터 이격되게 배치되어 있는 전자기파 차폐층을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널을 제공한다.The present invention is arranged to face each other, the front substrate and the rear substrate defining a discharge space therebetween, the partition and the front panel disposed between the front substrate and the rear substrate partitioning the discharge space into a plurality of discharge cells and the front surface The present invention provides a plasma display panel including an electromagnetic shielding layer disposed between a substrate and a partition wall and spaced apart from the partition wall.

본 발명의 다른 측면에 따르면, 본 발명은 서로 대향되어 배치되는 전면기판 및 배면기판과, 상기 전면기판과 배면기판 사이에 배치되며, 복수 개의 방전셀들을 한정하는 격벽과, 상기 전면기판과 상기 격벽 사이에 배치되되 상기 격벽으로부터 이격되게 배치되어 있는 전자기파 차폐층과, 상기 전자기파 차폐층을 덮도록 배치되는 제1유전체층과, 상기 제1유전체층 상에 배치되며, 상기 방전셀들에서 방전을 일으키는 유지전극쌍들과, 상기 유지전극쌍들을 덮는 제2유전체층과, 상기 격벽과 상기 배면기판 사이에 배치되며, 상기 유지전극쌍들과 교차하도록 연장되는 어드레스전극들과, 상기 어드레스전극들을 덮도록 배치되는 제3유전체층과, 상기 방전셀들 내에 배치되는 형광체층들을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널을 제공한다.According to another aspect of the present invention, the present invention is a front substrate and a rear substrate disposed to face each other, and disposed between the front substrate and the rear substrate, the partition wall defining a plurality of discharge cells, the front substrate and the partition wall An electromagnetic shielding layer disposed between and spaced apart from the partition wall, a first dielectric layer disposed to cover the electromagnetic shielding layer, and a sustain electrode disposed on the first dielectric layer and causing discharge in the discharge cells Pairs, a second dielectric layer covering the sustain electrode pairs, address electrodes disposed between the barrier rib and the rear substrate and extending to intersect the sustain electrode pairs, and a second dielectric layer covering the address electrodes. A plasma display panel including a dielectric layer and phosphor layers disposed in the discharge cells is provided.

본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널 다음과 같은 효과를 가진다.The plasma display panel according to the present invention has the following effects.

첫째, 전자기파 차폐율이 향상된다.First, the electromagnetic shielding rate is improved.

둘째, 전자기파 차폐층을 전면기판의 내면에 직접 형성하기 때문에, 전자기파 차폐층의 제조가 간단해진다. 또한, 별도의 강화유리필터나 필름형 필터를 채용하지 않아도 되기 때문에, 플라즈마 디스플레이 패널의 제조가 용이해진다.Second, since the electromagnetic shielding layer is formed directly on the inner surface of the front substrate, the manufacturing of the electromagnetic shielding layer is simplified. Moreover, since it is not necessary to employ another tempered glass filter or a film type filter, manufacture of a plasma display panel becomes easy.

이어서 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하도록 한다.Next, an embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1에 일반적인 플라즈마 디스플레이 장치의 부분 단면도가 도시되어 있다. 도 1을 참조하면, 플라즈마 디스플레이 장치(1)는 윈도우(12)를 한정하는 주변부(11)를 구비한 전방케이스(10), 윈도우(12)를 덮는 글래스 필터(glass filter)(20), 글래스 필터(20)의 후방에 배치되고 전방패널(51)과 후방패널(52)을 구비한 플라즈마 디스플레이 패널(50), 플라즈마 디스플레이 패널(50)을 지지하는 샤시 베이스(60), 샤시 베이스(60)의 후방에 배치되고 전방케이스(10)와 결합되는 후방케이스(40)를 구비한다. 상기 글래스 필터(20)는 유리기판 상에 도전성 금속으로 형성된 메쉬 패턴(mesh pattern)을 형성하여, 전자기파를 차폐하는 기능을 수행한다. 그런데, 상기의 글래스 필터(20)는 중량이 클 뿐만 아니라, 비용이 고가인 단점을 가진다. 특히, 플라즈마 디스플레이 패널이 대형화됨에 따라서, 글라스 필터의 크기 및 두께가 증가하여 중량이 증가할 뿐만 아니라, 글라스 필터의 가격이 크게 증가하는 문제점이 있다.1 is a partial cross-sectional view of a typical plasma display device. Referring to FIG. 1, the plasma display apparatus 1 includes a front case 10 having a peripheral portion 11 defining a window 12, a glass filter 20 covering a window 12, and a glass. Plasma display panel 50 disposed behind filter 20 and provided with front panel 51 and rear panel 52, chassis base 60 for supporting plasma display panel 50, chassis base 60 It is provided at the rear of the rear case 40 is coupled to the front case 10. The glass filter 20 forms a mesh pattern formed of a conductive metal on a glass substrate to shield electromagnetic waves. However, the glass filter 20 has a disadvantage that the weight is high and the cost is high. In particular, as the plasma display panel becomes larger, the size and thickness of the glass filter increase, thereby increasing the weight and increasing the price of the glass filter.

도 2에는 필름형 필터(70)가 플라즈마 디스플레이 패널(79)의 전면에 직접 부착되는 있는 상태를 도시한 단면도가 도시되어 있다. 상기 필름형 필터(70)는 제1베이스 필름(75) 상에 전자기파 차폐층(74), 제2베이스 필름(73), 선택적 광흡수층(72), 반사방지층(71)을 적층한 구조를 가지며, 글래스 필터(20)에 비하여 중량이 작은 장점이 있다. 상기 제1베이스 필름(75)의 일 측에는 접착층(76)이 형성되어 있어서, 상기 플라즈마 디스플레이 패널(79)에 고정되어 있다.FIG. 2 is a cross-sectional view showing a state in which the film filter 70 is directly attached to the front surface of the plasma display panel 79. As shown in FIG. The film filter 70 has a structure in which an electromagnetic shielding layer 74, a second base film 73, an optional light absorbing layer 72, and an antireflection layer 71 are stacked on the first base film 75. Compared to the glass filter 20, the weight is small. An adhesive layer 76 is formed on one side of the first base film 75, and is fixed to the plasma display panel 79.

상기 전자기파 차폐층(74)은 일반적으로 메쉬 패턴으로 형성되어 있다. 그런데, 상기 메쉬 패턴으로 형성된 전자기파 차폐층(74)은 상기 플라즈마 디스플레이 패널(79)과 간섭 현상을 일으켜서, 모아레 패턴을 발생시킨다. 또한, 메쉬 패턴이 플라즈마 디스플레이 패널(79)의 발광 영역을 가리게 되므로, 가시광 투과율이 낮아져 휘도가 감소된다. 이를 방지하기 위하여, 상기 전자기파 차폐층(74)을 도전막으로 형성할 경우, 가시광 투과율은 향상되지만, 전자기파 차폐 성능이 EMI 차폐 규격(Class B)을 만족시키기 어렵다. 비록, 전자기파 차폐 성능을 향상시키기 위하여, 도전막의 두께를 크게 할 수 있으나, 두꺼운 도전막으로 인하여 가시광 투과율이 감소되는 문제점을 가진다.The electromagnetic wave shielding layer 74 is generally formed in a mesh pattern. However, the electromagnetic wave shielding layer 74 formed of the mesh pattern causes an interference phenomenon with the plasma display panel 79 to generate a moire pattern. In addition, since the mesh pattern covers the light emitting region of the plasma display panel 79, the visible light transmittance is lowered and the luminance is reduced. In order to prevent this, when the electromagnetic shielding layer 74 is formed of a conductive film, the visible light transmittance is improved, but the electromagnetic shielding performance is difficult to meet the EMI shielding standard (Class B). Although the thickness of the conductive film can be increased in order to improve the electromagnetic wave shielding performance, the visible light transmittance is reduced due to the thick conductive film.

(제1 (First 실시예Example ))

도 3 내지 도 5에는 제1실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널(100)이 도시되어 있다. 도 3은 상기 플라즈마 디스플레이 패널(100)의 부분 분리 사시도이고, 도 4는 도 3의 Ⅳ-Ⅳ선에 따라 취한 단면도이고, 도 5는 도 3에 도시된 유지전극쌍(112)들, 격벽(130) 및 전자기파 차폐층(190)의 배치 위치를 나타내는 평면도 이다.3 to 5 illustrate the plasma display panel 100 according to the first embodiment. FIG. 3 is a partially separated perspective view of the plasma display panel 100, FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line IV-IV of FIG. 3, and FIG. 5 is a pair of sustain electrode pairs 112 and a partition wall illustrated in FIG. 3. 130) and a plan view showing an arrangement position of the electromagnetic wave shielding layer 190. FIG.

도 3 및 도 4를 참고하면, 상기 플라즈마 디스플레이 패널은 전면패널(150) 및 이에 대면하여 접합되는 배면패널(160)을 구비한다. 상기 전면패널(150)은 전면기판(111), 전자기파 차폐층(190), 유지전극쌍(112)들, 제1유전체층(114), 제2유전체층(115) 및 보호층(116)을 포함한다. 또한, 상기 배면패널(160)은 배면기판(121), 어드레스전극(122)들, 제3유전체층(125), 격벽(130) 및 형광체층(126)들을 포함한다.3 and 4, the plasma display panel includes a front panel 150 and a rear panel 160 bonded to the front panel 150. The front panel 150 includes a front substrate 111, an electromagnetic wave shielding layer 190, sustain electrode pairs 112, a first dielectric layer 114, a second dielectric layer 115, and a protective layer 116. . In addition, the back panel 160 includes a back substrate 121, address electrodes 122, a third dielectric layer 125, a partition wall 130, and a phosphor layer 126.

상기 배면기판(121)과 전면기판(111)은 일정한 간격을 두고 서로 대향되게 배치되어 그 사이에 플라즈마 방전이 일어나는 방전공간을 형성한다. 이러한 전면기판(111) 및 배면기판(121)은 가시광 투과율이 우수한 유리를 이용하여 형성되는 것이 바람직하다. 하지만, 명실 콘트라스트의 향상을 위하여, 전면기판(111) 및/또는 배면기판(121)이 착색될 수도 있다. The rear substrate 121 and the front substrate 111 are disposed to face each other at regular intervals to form a discharge space in which plasma discharge occurs. The front substrate 111 and the rear substrate 121 is preferably formed using a glass having excellent visible light transmittance. However, the front substrate 111 and / or the rear substrate 121 may be colored to improve the clear room contrast.

전면기판(111)과 배면기판(121) 사이에는 격벽(130)이 배치되어 있는데, 보다 상세하게는 격벽(130)은 제3유전체층(125) 상에 배치되어 있다. 상기 격벽(130)은 방전공간을 복수개의 방전셀(180)들로 구획한다. 상기 격벽(130)은 방전공간을 복수개의 방전셀(180)들로 구획하며, 방전셀(180)들 사이의 광학적/전기적 크로스토크를 방지하는 기능을 수행한다. 도 3을 참조하면, 상기 격벽은 어드레스전극(122)들이 연장되는 방향(y방향)으로 연장되는 제1격벽부(130a)들과, 상기 제1격벽부(130a)들을 연결하는 제2격벽부(130b)들을 포함한다.The partition wall 130 is disposed between the front substrate 111 and the rear substrate 121, and more specifically, the partition wall 130 is disposed on the third dielectric layer 125. The partition 130 partitions the discharge space into a plurality of discharge cells 180. The partition wall 130 divides the discharge space into a plurality of discharge cells 180, and serves to prevent optical / electric crosstalk between the discharge cells 180. Referring to FIG. 3, the partition wall includes first partition wall portions 130a extending in a direction (y direction) in which address electrodes 122 extend, and a second partition wall portion connecting the first partition wall portions 130a. 130b.

도 3에는 격벽(130)이 사각형의 횡단면을 가지는 매트릭스 배열의 방전셀들 을 구획하는 것으로 도시되었으나, 이에 한정되지 않는다. 즉, 격벽(130)은 방전셀(180)들이 삼각형, 오각형 등의 다각형, 또는 원형, 타원형 등의 횡단면을 가지도록 형성될 수도 있으며, 스트라이프 등과 같은 개방형으로 형성될 수도 있다. 또한, 격벽(130)은 방전셀(180)들을 와플이나 델타 배열로 구획할 수도 있다.In FIG. 3, the partition wall 130 partitions the discharge cells of the matrix array having a rectangular cross section, but is not limited thereto. That is, the partition wall 130 may be formed such that the discharge cells 180 have a polygonal shape such as a triangle, a pentagon, or a cross section such as a circle or an ellipse, or may be formed in an open type such as a stripe. In addition, the partition wall 130 may partition the discharge cells 180 in a waffle or delta arrangement.

배면기판(121)을 대향하는 전면기판(111) 상에는 전자기파 차폐층(190)이 형성되어 있다. 상기 전자기파 차폐층(190)은 플라즈마 디스플레이 패널로부터 발생되는 전자기파를 차폐하는 기능을 수행한다. 상기 전자기파 차폐층(190)은 다양한 형상을 가질 수 있으나, 전자기파 차폐율을 증가시키고 제조를 용이하게 하기 위하여, 메쉬 패턴을 가지는 것이 바람직하다.An electromagnetic wave shielding layer 190 is formed on the front substrate 111 facing the back substrate 121. The electromagnetic wave shielding layer 190 serves to shield electromagnetic waves generated from the plasma display panel. The electromagnetic wave shielding layer 190 may have various shapes, but in order to increase the electromagnetic shielding rate and facilitate manufacturing, it is preferable to have a mesh pattern.

상기 전자기파 차폐층(190)은 단층 구조를 가질 수 있지만 복층 구조를 가지도록 형성될 수도 있다. 도 4를 참조하면, 상기 전자기파 차폐층(190)은 상기 전면기판(111) 상에 배치되는 광흡수성의 제1차폐부(191) 및 상기 제1차폐부(191) 상에 배치되는 도전성의 제2차폐부(192)를 포함한다. 상기 제1차폐부(191)는 암색을 띠고 있기 때문에, 외부로부터 입사되는 외광을 흡수하여 명실 콘트라스트를 향상시킨다. 또한, 상기 제2차폐부(192)는 도전성 특성이 우수하기 때문에, 전자기파 차폐 성능을 향상시키는 기능을 수행한다.The electromagnetic wave shielding layer 190 may have a single layer structure, but may be formed to have a multilayer structure. Referring to FIG. 4, the electromagnetic wave shielding layer 190 is formed of a light absorbing first shielding portion 191 disposed on the front substrate 111 and a conductive conductive layer disposed on the first shielding portion 191. The secondary shield 192 is included. Since the first shielding portion 191 has a dark color, the first shielding portion 191 absorbs external light incident from the outside to improve the clear room contrast. In addition, since the second shield 192 has excellent conductivity, the second shield 192 performs a function of improving electromagnetic wave shielding performance.

도 3 및 도 4를 참조하면, 상기 전자기파 차폐층(190)은 다양한 위치에 배치될 수 있다. 하지만, 전방으로의 가시광 투과율을 향상시키기 위하여, 상기 전자기파 차폐층(190)은 비방전 영역에 배치되는 것이 바람직하다. 특히, 상기 전자기파 차폐층(190)은 상기 격벽(130)에 대응하는 상기 전면기판(111) 상에 배치되는 것이 더욱 바람직하다. 왜냐하면, 상기 전자기파 차폐층(190)의 메쉬 패턴이 상기 격벽(130)의 패턴과 실질적으로 동일하면, 상기 전자기파 차폐층(190)의 메쉬 패턴과 상기 격벽(130)의 패턴 사이의 간섭으로 인한 모아레 현상이 방지되기 때문이다.3 and 4, the electromagnetic shielding layer 190 may be disposed at various locations. However, in order to improve the visible light transmittance toward the front, the electromagnetic shielding layer 190 is preferably disposed in the non-discharge region. In particular, the electromagnetic wave shielding layer 190 may be disposed on the front substrate 111 corresponding to the partition wall 130. Because, when the mesh pattern of the electromagnetic shielding layer 190 is substantially the same as the pattern of the partition 130, moiré due to the interference between the mesh pattern of the electromagnetic shielding layer 190 and the pattern of the partition 130. This is because the phenomenon is prevented.

상기 전자기파 차폐층(190)이 방전 영역을 가려서 휘도를 감소시키는 것을 방지하기 위하여, 도 5에 도시된 바와 같이, 상기 전자기파 차폐층의 메쉬 패턴의 폭(W1)은 상기 격벽의 폭(W2)보다 좁게 형성되는 것이 바람직하다. 하지만, 전자기파 차폐 성능을 향상시키기 위하여, 상기 전자기파 차폐층의 메쉬 패턴의 폭(W1)이 상기 격벽의 폭(W2)과 같게 형성될 수도 있다. 또한, 상기 전자기파 차폐층의 메쉬 패턴의 폭이 전체적으로 동일할 수도 있지만, 상기 제1격벽부(130a)들에 대응하는 메쉬 패턴 부분과 제2격벽부(130b)들에 대응하는 메쉬 패턴 부분의 폭을 다르게 할 수도 있다.In order to prevent the electromagnetic wave shielding layer 190 from reducing the brightness by covering the discharge region, as shown in FIG. 5, the width W1 of the mesh pattern of the electromagnetic wave shielding layer is greater than the width W2 of the partition wall. It is preferable to form narrowly. However, in order to improve the electromagnetic wave shielding performance, the width W1 of the mesh pattern of the electromagnetic wave shielding layer may be formed to be equal to the width W2 of the partition wall. In addition, although the width of the mesh pattern of the electromagnetic wave shielding layer may be the same as the whole, the width of the mesh pattern portion corresponding to the first partition portion (130a) and the mesh pattern portion corresponding to the second partition portion (130b). May be different.

상기 전자기파 차폐층(190)은 도전성 재료를 이용하여 형성되는데, 상기 도전성 재료로는 도전성 금속이 바람직하다. 특히, Ag, Ni, Cu 또는 Cr의 단일 재료 또는 복합재료가 제조 용이성 및 전자기파 차폐 성능에 있어서 바람직하다. The electromagnetic wave shielding layer 190 is formed using a conductive material, and the conductive material is preferably a conductive metal. In particular, a single material or composite of Ag, Ni, Cu or Cr is preferred for ease of manufacture and electromagnetic shielding performance.

전면기판(111) 상에는 전자기파 차폐층(190)을 매립하도록 제1유전체층(114)이 형성되어 있다. 제1유전체층(114)은 유지전극쌍(112)들과 상기 전자기파 차폐층(190)이 전기적으로 쇼트되는 것을 방지한다. 상기 제1유전체층(114)은 PbO, B2O3, SiO2 중의 적어도 하나를 포함하는 것이 바람직하다.The first dielectric layer 114 is formed on the front substrate 111 to bury the electromagnetic wave shielding layer 190. The first dielectric layer 114 prevents the sustain electrode pairs 112 and the electromagnetic shielding layer 190 from being electrically shorted. The first dielectric layer 114 preferably includes at least one of PbO, B 2 O 3 , and SiO 2 .

상기 제1유전체층(114) 상에는 상기 유지전극쌍(112)들이 배치되어 있다. 각 유지전극쌍(112)은 유지 방전을 일으키기 위하여 전면기판(111)의 배면에 형성된 한 쌍의 유지전극들(131, 132)을 의미하고, 전면기판(111) 상에는 이러한 유지전극쌍(112)들이 소정의 간격으로 평행하게 배열되어 있다. 유지전극쌍(112) 중 일 전극은 X전극(131)으로서, 유지전극의 작용을 하고, 다른 전극은 Y전극(132)으로서 주사전극의 작용을 한다.The sustain electrode pairs 112 are disposed on the first dielectric layer 114. Each sustain electrode pair 112 refers to a pair of sustain electrodes 131 and 132 formed on the rear surface of the front substrate 111 to cause sustain discharge, and the sustain electrode pair 112 is formed on the front substrate 111. Are arranged in parallel at predetermined intervals. One electrode of the sustain electrode pair 112 serves as a sustain electrode as the X electrode 131, and the other electrode acts as a scan electrode as the Y electrode 132.

상기 X전극(131) 및 Y전극(132)의 각각은 투명전극(131a, 132a) 및 버스전극(131b, 132b)을 구비하고 있다. 상기 투명전극(131a, 132a)은 방전을 일으킬 수 있는 도전체이면서 형광체층(126)으로부터 방출되는 빛이 전면기판(111)으로 나아가는 것을 방해하지 않는 투명한 재료로 형성되는데, 이와 같은 재료로서는 ITO(indium tin oxide) 등이 있다. 그러나 상기 ITO와 같은 투명한 도전체는 일반적으로 그 저항이 크고, 따라서 투명전극으로만 유지전극을 형성하면 그 길이방향으로의 전압강하가 커서 구동전력이 많이 소비되고 응답속도가 늦어지는바, 이를 개선하기 위하여 상기 투명전극 상에는 금속재질로 이루어지고 좁은 폭으로 형성되는 버스전극(131b, 132b)이 배치된다. 이러한 투명전극 및 버스전극들은 포토에칭법, 포토리소그라피법 등을 이용하여 형성한다.Each of the X electrode 131 and the Y electrode 132 includes transparent electrodes 131a and 132a and bus electrodes 131b and 132b. The transparent electrodes 131a and 132a are formed of a transparent material which is a conductor capable of causing a discharge and does not prevent light emitted from the phosphor layer 126 from advancing to the front substrate 111. indium tin oxide). However, transparent conductors such as ITO generally have a high resistance, and thus, when the sustain electrode is formed only of the transparent electrodes, a large voltage drop in the longitudinal direction consumes a lot of driving power and slows the response speed. To this end, bus electrodes 131b and 132b made of a metal material and formed in a narrow width are disposed on the transparent electrode. Such transparent electrodes and bus electrodes are formed using a photo etching method, a photolithography method, or the like.

상기 X전극(131) 및 Y전극(132)의 형상 및 배치를 상세하게 살펴보면, 버스전극들(131b, 132b)은 단위 방전셀(180)에서 소정의 간격으로 이격되어 평행하게 배치되며, 방전셀(180)들을 가로질러 연장된다. 전술한 바와 같이, 각 버스전극(131b, 132b)에는 투명전극(131a, 132a)이 전기적으로 접속되는데, 사각형의 투 명전극(131a, 132a)은 단위 방전셀(180)마다 불연속적으로 배치된다. 이러한 투명전극(131a, 132a)의 일 측은 버스전극(131b, 132b)에 연결되고, 타 측은 방전셀(180)의 중심 방향으로 향하도록 배치된다.Looking at the shape and arrangement of the X electrode 131 and the Y electrode 132 in detail, the bus electrodes (131b, 132b) are spaced at a predetermined interval in the unit discharge cell 180 are arranged in parallel, discharge cells Extends across 180. As described above, the transparent electrodes 131a and 132a are electrically connected to each of the bus electrodes 131b and 132b, and the rectangular transparent electrodes 131a and 132a are discontinuously disposed for each unit discharge cell 180. . One side of the transparent electrodes 131a and 132a is connected to the bus electrodes 131b and 132b, and the other side thereof is disposed toward the center of the discharge cell 180.

전면기판(111) 상에는 상기 유지전극쌍(112)들을 매립하도록 제2유전체층(115)이 형성되어 있다. 제2유전체층(115)은, 인접한 X전극(131)들과 Y전극(132)들이 서로 통전되는 것을 방지함과 동시에, 하전입자들 또는 전자가 X전극(131)들과 Y전극(132)들에 직접 충돌하여 X전극(131)들과 Y전극(132)들을 손상시키는 것을 방지한다. 또한, 제2유전체층(115)은 전하를 유도하는 기능을 수행한다. 이러한 제2유전체층(115)은 PbO, B2O3, SiO2 등을 이용하여 형성된다.The second dielectric layer 115 is formed on the front substrate 111 to fill the sustain electrode pairs 112. The second dielectric layer 115 prevents the adjacent X electrodes 131 and the Y electrodes 132 from being energized with each other, and at the same time, charged particles or electrons are transferred to the X electrodes 131 and the Y electrodes 132. It directly prevents damage to the X electrodes 131 and the Y electrodes 132. In addition, the second dielectric layer 115 performs a function of inducing charge. The second dielectric layer 115 is formed using PbO, B 2 O 3 , SiO 2, or the like.

플라즈마 디스플레이 패널(100)은 제2유전체층(115)을 덮는 보호층(116)을 더 구비하는 것이 바람직하다. 보호층(116)은, 방전시 하전입자와 전자가 제2유전체층(115)에 충돌하여 제2유전체층(115)이 손상되는 것을 방지한다. 이러한 기능을 수행하는 보호층(116)은 2차전자 방출 계수가 높고, 가시광 투과율이 높은 물질을 이용하여 형성한다. 보호층(116)은 제2유전체층(115)이 형성된 후에, 주로 스퍼터링, 전자빔 증착법을 이용하여 박막으로 형성된다. The plasma display panel 100 may further include a protective layer 116 covering the second dielectric layer 115. The protective layer 116 prevents charged particles and electrons from colliding with the second dielectric layer 115 during the discharge, thereby damaging the second dielectric layer 115. The protective layer 116 performing this function is formed using a material having high secondary electron emission coefficient and high visible light transmittance. After the second dielectric layer 115 is formed, the protective layer 116 is formed into a thin film mainly by sputtering or electron beam deposition.

전면기판(111)을 대향하는 배면기판(121) 상에는 어드레스전극(122)들이 배치되어 있다. 어드레스전극(122)들은 X전극(131)들 및 Y전극(132)들과 교차하도록 방전셀(180)들을 가로질러 연장된다.The address electrodes 122 are disposed on the back substrate 121 that faces the front substrate 111. The address electrodes 122 extend across the discharge cells 180 to intersect the X electrodes 131 and the Y electrodes 132.

어드레스전극(122)들은 X전극(131)과 Y전극(132) 간의 유지방전을 보다 용이 하게 하기 위한 어드레스방전을 일으키기 위한 것으로서, 보다 구체적으로는 유지방전이 일어나기 위한 전압을 낮추는 역할을 한다. 어드레스방전은 Y전극(132)과 어드레스전극(122) 간에 일어나는 방전으로서, 어드레스방전이 종료되면 Y전극(132) 측과 X전극(131) 측에 벽전하가 축적되며, 이로써 X전극(131)과 Y전극(132) 간의 유지방전이 보다 용이하게 된다.The address electrodes 122 are used to generate an address discharge for facilitating sustain discharge between the X electrode 131 and the Y electrode 132, and more specifically, serve to lower a voltage for sustain discharge. The address discharge is a discharge that occurs between the Y electrode 132 and the address electrode 122. When the address discharge is completed, wall charges are accumulated on the Y electrode 132 side and the X electrode 131 side, whereby the X electrode 131 Sustain discharge between the electrode and the Y electrode 132 becomes easier.

이렇게 배치된 한 쌍의 X전극(131) 및 Y전극(132)과, 이와 교차하는 어드레스전극(122)에 의하여 이루어지는 공간이 단위 방전셀(180)을 형성한다.The space formed by the pair of X electrodes 131 and Y electrodes 132 and the address electrodes 122 intersecting with each other forms the unit discharge cells 180.

배면기판(121) 상에는 어드레스전극(122)을 매립하도록 제3유전체층(125)이 형성되어 있다. 제3유전체층(125)은 방전 시 하전입자 또는 전자가 어드레스전극(122)들에 충돌하여 어드레스전극(122)들을 손상시키는 것을 방지하면서도 전하를 유도할 수 있는 유전체로서 형성되는데, 이와 같은 유전체로서는 PbO, B2O3, SiO2 등이 있다.The third dielectric layer 125 is formed on the rear substrate 121 to fill the address electrode 122. The third dielectric layer 125 is formed as a dielectric that can induce charge while preventing charged particles or electrons from colliding with the address electrodes 122 when they are discharged. , B 2 O 3 , SiO 2, and the like.

제3유전체층(125) 상에 형성된 격벽(130)의 양 측면과 격벽(130)이 형성되지 않은 제3유전체층(125)의 전면에는 적색, 녹색, 청색발광 형광체층(126)들이 배치되어 있다. 형광체층(126)들은 자외선을 받아 가시광선을 발생하는 성분을 가지는데, 적색발광 방전셀에 형성된 형광체층은 Y(V,P)O4:Eu 등과 같은 형광체를 포함하고, 녹색발광 방전셀에 형성된 형광체층은 Zn2SiO4:Mn, YBO3:Tb 등과 같은 형광체를 포함하며, 청색발광 방전셀에 형성된 형광체층은 BAM:Eu 등과 같은 형광체를 포함한다. Red, green, and blue light emitting phosphor layers 126 are disposed on both sides of the partition wall 130 formed on the third dielectric layer 125 and on the entire surface of the third dielectric layer 125 where the partition wall 130 is not formed. The phosphor layers 126 have components that generate visible light by receiving ultraviolet rays, and the phosphor layers formed in the red light emitting cells include phosphors such as Y (V, P) O 4 : Eu and the like. The formed phosphor layer includes phosphors such as Zn 2 SiO 4 : Mn, YBO 3 : Tb, and the like, and the phosphor layer formed in the blue light emitting discharge cell includes phosphors such as BAM: Eu.

또한, 상기 방전셀(180)들에는 네온(Ne), 크세논(Xe) 등이 혼합된 방전 가스가 채워지며, 상기와 같이 방전 가스가 채워진 상태에서, 전면기판 및 배면기판(111)(121)의 가장 가장자리에 형성된 프릿트 글라스(frit glass)와 같은 밀봉 부재에 의해 전면기판 및 배면기판(111)(121)이 서로 봉합되어 결합된다.In addition, the discharge cells 180 are filled with a discharge gas in which neon (Ne), xenon (Xe), and the like are mixed, and in the state where the discharge gas is filled as described above, the front substrate and the rear substrate 111, 121. The front substrate and the rear substrate 111, 121 are sealed to each other by a sealing member such as frit glass formed at the edge of the edge.

이하에서는 상기 플라즈마 디스플레이 패널의 전면패널의 제조방법을 도 6a 내지 6e를 참조하여 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing the front panel of the plasma display panel will be described with reference to FIGS. 6A to 6E.

먼저, 상기 전면기판(111) 상에 도전성 페이스와 감광성 흑색 페이스트를 인쇄한 후, 포토 에칭법을 이용하여 메쉬 패턴의 전자기파 차폐층(190)을 형성한다. 도 6a에 전면기판 상에 전자기파 차폐층이 형성된 상태가 도시되어 있다.First, after printing the conductive face and the photosensitive black paste on the front substrate 111, the electromagnetic shielding layer 190 of the mesh pattern is formed by using a photo etching method. 6A shows a state in which an electromagnetic shielding layer is formed on a front substrate.

그 후에는, 상기 전자기파 차폐층(190)을 덮도록 유전체 페이스트를 인쇄하고 건조하여, 상기 제1유전체층(114)을 형성한다. 상기 제1유전체층(114)이 형성된 상태가 도 6b에 도시되어 있다.Thereafter, the dielectric paste is printed and dried to cover the electromagnetic wave shielding layer 190 to form the first dielectric layer 114. A state in which the first dielectric layer 114 is formed is illustrated in FIG. 6B.

상기 제1유전체층(114)이 형성된 후에는, 상기 제1유전체층(114) 상에 유지전극쌍(112)들을 리프트 오프(lift off)법, 감광성 페이스트법 또는 포토 에칭법을 이용하여 형성한다. 도 6c에 제1유전체층(114) 상에 유지전극쌍(112)들이 형성된 상태가 도시되어 있다.After the first dielectric layer 114 is formed, the sustain electrode pairs 112 are formed on the first dielectric layer 114 by using a lift off method, a photosensitive paste method, or a photo etching method. In FIG. 6C, the sustain electrode pairs 112 are formed on the first dielectric layer 114.

상기 유지전극쌍(112)들이 형성된 후에는, 상기 유지전극쌍(112)들을 덮도록 유전체 페이스트를 도포하고, 건조 및 소성하여 제2유전체층(115)을 형성한다. 도 6d에 제2유전체층(115)이 형성된 상태가 도시되어 있다.After the sustain electrode pairs 112 are formed, a dielectric paste is applied to cover the sustain electrode pairs 112, dried, and baked to form a second dielectric layer 115. 6D illustrates a state in which the second dielectric layer 115 is formed.

상기 제2유전체층(115)이 형성된 후에는, 스퍼터링법 등을 이용하여 보호 층(116)을 형성하여, 전면패널(150)을 완성한다. 도 6e에 상기 제2유전체층(115) 상에 보호층(116)이 형성된 상태가 도시되어 있다.After the second dielectric layer 115 is formed, the protective layer 116 is formed by sputtering or the like to complete the front panel 150. 6E illustrates a state in which a protective layer 116 is formed on the second dielectric layer 115.

상술한 바와 같이 구성된 본 발명에 따른 플라즈마 패널(100)의 작동을 설명하면 다음과 같다.Referring to the operation of the plasma panel 100 according to the present invention configured as described above are as follows.

플라즈마 디스플레이 패널(100)에서 발생되는 플라즈마 방전은 크게 어드레스 방전과 유지 방전으로 나뉜다. 어드레스 방전은 어드레스전극(122)과 Y전극(132) 간에 어드레스방전 전압이 인가됨으로써 일어나고, 이 어드레스방전의 결과로 유지방전이 일어날 방전셀(180)이 선택된다.The plasma discharge generated in the plasma display panel 100 is largely divided into address discharge and sustain discharge. The address discharge is caused by the application of the address discharge voltage between the address electrode 122 and the Y electrode 132, and as a result of the address discharge, the discharge cell 180 in which the sustain discharge occurs is selected.

그 후 상기 선택된 방전셀(180)의 X전극(131)과 Y전극(132) 사이에 유지전압이 인가된다. 그리고, 상기 선택된 방전셀(180)의 X전극(131)과 Y전극(132) 사이에 유지전압이 인가되면, Y전극(132) 측에 쌓여 있던 양이온들과 X전극(131) 측에 쌓여 있던 전자들이 충돌하여 유지 방전을 일으키며, 그 후에 X전극(131)과 Y전극(132)에 인가되는 전압 펄스가 교번되면서, 계속적인 방전이 발생된다.Thereafter, a sustain voltage is applied between the X electrode 131 and the Y electrode 132 of the selected discharge cell 180. When a sustain voltage is applied between the X electrode 131 and the Y electrode 132 of the selected discharge cell 180, the cations accumulated on the Y electrode 132 side and the X electrode 131 side are accumulated. Electrons collide with each other to cause sustain discharge, and then, as voltage pulses applied to the X electrode 131 and the Y electrode 132 are alternated, continuous discharge occurs.

유지 방전 시에 여기된 방전가스의 에너지 준위가 낮아지면서 자외선이 방출된다. 그리고 이 자외선이 방전셀(180) 내에 도포된 형광체(126)를 여기시키는데, 이 여기된 형광체(126)의 에너지준위가 낮아지면서 가시광이 방출되며, 이 가시광이 전면기판(111)을 투과하여 출사되면서 사용자가 인식할 수 있는 화상을 형성하게 된다.Ultraviolet rays are emitted while the energy level of the discharged gas excited during the sustain discharge is lowered. The ultraviolet rays excite the phosphor 126 coated in the discharge cell 180. As the energy level of the excited phosphor 126 decreases, visible light is emitted, and the visible light passes through the front substrate 111 and is emitted. As a result, an image that can be recognized by the user is formed.

(제2 (Second 실시예Example ))

도 7에 본 발명의 제2실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 평면도가 도시되어 있다. 도 7에서 전술한 실시예와 동일한 참조부호는 동일한 부재를 나타낸다. 이하에서는 제1실시예와 상이한 점을 중심으로 설명하도록 한다.7 is a plan view of a plasma display panel according to a second embodiment of the present invention. In Fig. 7, the same reference numerals as those in the above-described embodiment indicate the same members. The following description will focus on the points different from the first embodiment.

제2실시예가 제1실시예와 상이한 점은 상기 전자기파 차폐층(290)의 형상이다. 도 7을 참조하면, 상기 전자기파 차폐층(290)은 메쉬 패턴으로 형성되어 있다. 상기 메쉬 패턴(290)은 상기 격벽(130)에 대응하는 부분에 형성되어 있을 뿐만 아니라, 버스전극들(131b, 132b)에 대응하는 부분에도 형성되어 있다. 일반적으로 버스전극들(131b, 132b)은 Ag, Al 또는 Cu와 같은 금속을 이용하여 복층 구조를 가지도록 형성되어 있다. 특히, 전면기판(111)에 가까운 층은 명실 콘트라스트 향상을 위하여 암색을 띠며, 방전셀(180)에 가까운 층은 휘도 향상을 위하여 백색을 띤다. 따라서, 외부로부터 버스전극들(131b, 132b)을 볼 경우에는 버스전극들(131b, 132b)이 암색을 띠는 것처럼 보이게 된다. 따라서, 상기 버스전극들(131b, 132b)에 대응하는 부분에 메쉬 패턴을 형성하더라도 휘도의 감소 없이 전자기파 차폐 성능을 더욱 향상시킬 수 있다.The second embodiment differs from the first embodiment in the shape of the electromagnetic wave shielding layer 290. Referring to FIG. 7, the electromagnetic wave shielding layer 290 is formed in a mesh pattern. The mesh pattern 290 is formed not only in the portion corresponding to the partition wall 130 but also in the portion corresponding to the bus electrodes 131b and 132b. In general, the bus electrodes 131b and 132b are formed to have a multilayer structure using a metal such as Ag, Al, or Cu. In particular, the layer close to the front substrate 111 has a dark color for improving contrast, and the layer close to the discharge cell 180 has a white color for improving luminance. Therefore, when the bus electrodes 131b and 132b are viewed from the outside, the bus electrodes 131b and 132b appear to have a dark color. Therefore, even if a mesh pattern is formed on a portion corresponding to the bus electrodes 131b and 132b, the electromagnetic shielding performance can be further improved without reducing the luminance.

(전자기파 차폐 성능 평가)(Electromagnetic Shielding Performance Evaluation)

도 8a 및 도 8b에는 각각 비교예1 및 비교예2로서, 필름형 필터의 구조가 도시되어 있다. 도 8a는 필름형 필터에서 메쉬 패턴(91)의 폭(t1)이 10㎛이고 개구율이 93%인 경우이며, 도 8b는 필름형 필터에서 메쉬 패턴(92)의 폭(t2)이 26㎛이고 개구율이 80%인 경우이다.8A and 8B show the structure of a film filter as Comparative Example 1 and Comparative Example 2, respectively. FIG. 8A illustrates the case where the width t1 of the mesh pattern 91 is 10 μm and the opening ratio is 93% in the film filter, and FIG. 8B illustrates the width t2 of the mesh pattern 92 in the film filter 26 μm. This is the case when the opening ratio is 80%.

도 9에는 본 발명과, 비교예의 전자기파 차폐 성능을 측정 비교한 그래프가 도시되어 있다. 제1곡선(f1)은 제1실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 전자기파 차폐 곡선을 나타내며, 제2곡선(f2)은 제2실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 전자기파 차폐 곡선을 나타낸다. 그리고, 도 9의 제3곡선(f3) 및 제4곡선(f4)은 각각 비교예1 및 비교예2의 전자기파 차폐 곡선을 나타낸다. 9 is a graph illustrating measurement comparison between electromagnetic wave shielding performance of the present invention and a comparative example. The first curve f1 represents an electromagnetic shielding curve of the plasma display panel according to the first embodiment, and the second curve f2 represents an electromagnetic shielding curve of the plasma display panel according to the second embodiment. The third curve f3 and the fourth curve f4 of FIG. 9 represent electromagnetic wave shielding curves of Comparative Example 1 and Comparative Example 2, respectively.

도 9를 참조하면, 거의 전 주파수 영역에서 제1실시예 및 제2실시예의 전자기파 차폐율이 제1비교예 및 제2비교예의 전자기파 차폐율보다 우수함을 볼 수 있다. 또한, 전자기파가 문제되는 주파수 50 내지 230 ㎒에서, 제1실시예, 제2실시예, 제1비교예 및 제2비교예의 전자기파 차폐율의 평균치는 각각 64.3dB, 69.4dB, 59.4dB, 59.9dB로 나타났다. 즉, 제1실시예 및 제2실시예의 전자기파 차폐율이 제1비교예 및 제2비교예보다 약 5 내지 10dB 향상된 것을 알 수 있다.Referring to FIG. 9, it can be seen that the electromagnetic shielding ratios of the first and second embodiments are almost higher than those of the first and second comparative examples in almost all frequency ranges. Further, at frequencies 50 to 230 MHz where electromagnetic waves are problematic, the average values of the electromagnetic shielding ratios of the first, second, first, and second comparative examples are 64.3 dB, 69.4 dB, 59.4 dB, and 59.9 dB, respectively. Appeared. That is, it can be seen that the electromagnetic wave shielding rates of the first and second embodiments are about 5 to 10 dB higher than that of the first and second comparative examples.

본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.Although the present invention has been described with reference to the embodiments shown in the drawings, this is merely exemplary, and it will be understood by those skilled in the art that various modifications and equivalent other embodiments are possible. Therefore, the true technical protection scope of the present invention will be defined by the technical spirit of the appended claims.

도 1에 일반적인 플라즈마 디스플레이 장치의 부분 단면도이다. 1 is a partial cross-sectional view of a general plasma display device.

도 2에는 일반적인 필름형 필터가 플라즈마 디스플레이 패널의 전면에 직접 부착되는 있는 상태를 도시한 단면도이다. 2 is a cross-sectional view showing a state in which a general film filter is attached directly to the front surface of the plasma display panel.

도 3은 본 발명의 제1실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 부분 분리 사시도이다.3 is a partially separated perspective view of the plasma display panel according to the first embodiment of the present invention.

도 4는 도 3의 Ⅳ-Ⅳ선에 따라 취한 단면도이다.4 is a cross-sectional view taken along line IV-IV of FIG. 3.

도 5는 도 3에 도시된 유지전극쌍들, 격벽 및 전자기파 차폐층의 배치 위치를 나타내는 평면도이다.FIG. 5 is a plan view illustrating an arrangement position of sustain electrode pairs, a partition wall, and an electromagnetic shielding layer illustrated in FIG. 3.

도 6a 내지 6e는 도 3에 도시된 전면패널의 제조를 단계적으로 도시한 단면도들이다.6A through 6E are cross-sectional views illustrating stepwise manufacturing of the front panel illustrated in FIG. 3.

도 7에 본 발명의 제2실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 구조를 보여주기 위하여, 유지전극쌍들, 격벽 및 전자기파 차폐층의 배치 위치를 나타내는 평면도이다. 7 is a plan view illustrating an arrangement position of sustain electrode pairs, partition walls, and electromagnetic wave shielding layers in order to show a structure of a plasma display panel according to a second embodiment of the present invention.

도 8a는 비교예1의 필름형 필터의 구조를 나타내는 부분 확대 평면도이다.8A is a partially enlarged plan view illustrating the structure of a film filter of Comparative Example 1. FIG.

도 8b는 비교예2의 필름형 필터의 구조를 나타내는 부분 확대 평면도이다.8B is a partially enlarged plan view illustrating the structure of a film filter of Comparative Example 2. FIG.

도 9에 주파수에 따른 전자기파 차폐 성능을 실험한 그래프이다. 9 is a graph illustrating an experiment of electromagnetic shielding performance according to frequency.

< 도면의 주요부분에 대한 부호의 간단한 설명 ><Brief description of symbols for the main parts of the drawings>

100: 플라즈마 디스플레이 패널 111: 전면기판100: plasma display panel 111: front substrate

112: 유지전극쌍 114: 제1유전체층112: sustain electrode pair 114: first dielectric layer

115: 제2유전체층 116: 보호층 115: second dielectric layer 116: protective layer

121: 배면기판 122: 어드레스전극121: back substrate 122: address electrode

125: 제3유전체층 130: 격벽125: third dielectric layer 130: partition wall

180: 방전셀 190, 290: 전자기파 차폐층180: discharge cell 190, 290: electromagnetic wave shielding layer

Claims (11)

서로 대향되어 배치되며, 그 사이에 방전 공간을 한정하는 전면기판 및 배면기판; A front substrate and a rear substrate disposed to face each other and defining a discharge space therebetween; 상기 전면기판과 배면기판 사이에 배치되어 상기 방전 공간을 다수의 방전셀들로 구획하는 격벽; 및A partition wall disposed between the front substrate and the rear substrate to partition the discharge space into a plurality of discharge cells; And 상기 전면기판과 격벽 사이에 배치되되, 상기 격벽으로부터 이격되게 배치되어 있는 전자기파 차폐층;을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널. And an electromagnetic shielding layer disposed between the front substrate and the partition wall and spaced apart from the partition wall. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 전자기파 차폐층을 덮는 제1유전체층이 더 구비되고, A first dielectric layer covering the electromagnetic wave shielding layer is further provided, 상기 전자기파 차폐층은 적어도 상기 제1유전체층에 의해 상기 격벽으로부터 이격되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.And the electromagnetic shielding layer is spaced apart from the partition wall by at least the first dielectric layer. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 방전셀들 내에서 상호 방전을 야기하는 유지전극쌍들이 더 구비되고,Sustain electrode pairs are further provided to cause mutual discharge in the discharge cells; 상기 유지전극쌍들은 상기 전자기파 차폐층을 덮는 제1유전체층상에 적층된 제2유전체층에 의해 덮여 있는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널. And the sustain electrode pairs are covered by a second dielectric layer stacked on the first dielectric layer covering the electromagnetic wave shielding layer. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 전자기파 차폐층은 메쉬 패턴을 가지는 플라즈마 디스플레이 패널.The electromagnetic wave shielding layer has a mesh pattern. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 전자기파 차폐층은 비방전 영역에 배치되어 있는 플라즈마 디스플레이 패널.The electromagnetic wave shielding layer is disposed in a non-discharge area. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 전자기파 차폐층은 상기 전면기판의 일면에 접하도록 배치되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널. The electromagnetic wave shielding layer is disposed in contact with one surface of the front substrate. 서로 대향되어 배치되는 전면기판 및 배면기판;A front substrate and a rear substrate disposed to face each other; 상기 전면기판과 배면기판 사이에 배치되며, 복수 개의 방전셀들을 한정하는 격벽;A partition wall disposed between the front substrate and the rear substrate and defining a plurality of discharge cells; 상기 전면기판과 상기 격벽 사이에 배치되되, 상기 격벽으로부터 이격되게 배치되어 있는 전자기파 차폐층;An electromagnetic shielding layer disposed between the front substrate and the partition wall and spaced apart from the partition wall; 상기 전자기파 차폐층을 덮도록 배치되는 제1유전체층;A first dielectric layer disposed to cover the electromagnetic wave shielding layer; 상기 제1유전체층 상에 배치되며, 상기 방전셀들에서 방전을 일으키는 유지전극쌍들;Sustain electrode pairs disposed on the first dielectric layer and causing discharge in the discharge cells; 상기 유지전극쌍들을 덮는 제2유전체층;A second dielectric layer covering the sustain electrode pairs; 상기 격벽과 상기 배면기판 사이에 배치되며, 상기 유지전극쌍들과 교차하도록 연장되는 어드레스전극들;Address electrodes disposed between the barrier rib and the rear substrate and extending to cross the sustain electrode pairs; 상기 어드레스전극들을 덮도록 배치되는 제3유전체층; 및A third dielectric layer disposed to cover the address electrodes; And 상기 방전셀들 내에 배치되는 형광체층들을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널.And a phosphor layer disposed in the discharge cells. 제7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 전자기파 차폐층은 메쉬 패턴을 가지는 플라즈마 디스플레이 패널.The electromagnetic wave shielding layer has a mesh pattern. 제7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 메쉬 패턴의 폭은 상기 격벽의 폭보다 좁거나 같은 플라즈마 디스플레이 패널.The width of the mesh pattern is less than or equal to the width of the partition wall. 제7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 전자기파 차폐층은 비방전 영역에 배치되어 있는 플라즈마 디스플레이 패널.The electromagnetic wave shielding layer is disposed in a non-discharge area. 제7항에 있어서, The method of claim 7, wherein 상기 전자기파 차폐층은 상기 전면기판의 일면에 접하도록 배치되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.The electromagnetic wave shielding layer is disposed in contact with one surface of the front substrate.
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