KR20070065916A - 전기적으로 제어가능한 산란을 이용한 빔 성형기 - Google Patents

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KR20070065916A
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리패트 에이. 엠. 히크메트
요하네스 피. 엠. 안셈즈
크리스토프 지. 에이. 호에렌
타이스 밴 보멜
링리 왕
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코닌클리즈케 필립스 일렉트로닉스 엔.브이.
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Abstract

본 발명은 광 빔의 성형을 전기적으로 제어하는 장치(200)에 관한 것이다. 이러한 장치는 광원(201)으로부터 도래한 광 빔을 성형하도록 구성된 제1 광학계(202)를 포함한다. 장치는 전기적으로 제어가능한 광학 소자(203)가 광 리디렉팅 모드에 있는 경우에, 그 위로 입사하는 광의 방향을 변화시키도록 구성된 전기적으로 제어가능한 광학 소자(203)를 더 포함한다. 광학 소자는 예를 들어 PDLC 재료 또는 LC 겔을 이용하여 만든 전기적으로 제어가능한 산란 소자일 수 있다. 광학 소자의 광 리디렉션 각은 LC 재료에 전계를 인가함으로써 제어된다. 최종적으로, 장치는 광학 소자에서 산란, 회절 또는 굴절된 광 빔을 성형하도록 구성된 제2 광학계(204)를 포함한다.
광 리디렉팅 모드, PDLC, LC 겔

Description

전기적으로 제어가능한 산란을 이용한 빔 성형기{BEAM SHAPERS USING ELECTRICALLY CONTROLLABLE SCATTERING}
본 발명은 광 빔(light beam)의 성형을 전기적으로 제어하는 장치에 관한 것이다.
많은 광학적 응용에서, 발광 다이오드(LED)와 같은 광원으로부터 발생하는 광의 형상 및 방향을 제어하는 것이 바람직하다. 많은 응용에서, 광 빔의 형상을 제어할 수 있는 것이 바람직하다. 통상적으로, 반사기를 이용하는 스포트라이트(spotlight)는 대략 10°반폭치(FWHM: full-width half-maximum)의 다이버전스(divergence)를 가지며, 투광(flood light) 다이버전스는 대략 40°FWHM 이다. 이와 관련하여, FWHM 파라미터는 최대 강도의 절반에서의 다이버전스 각으로 정의된다. 종래 기술에서, 광 빔의 형상을 능동적으로 제어하기 위해 렌즈 어레이와 같은, 전기적으로 스위칭가능한 광학 소자가 제안되었다. 그러나, 이러한 타입의 소자들은 광학 장치 및 시스템에서 구현하기에는 고비용인 복제 기술에 기초한다. 또한, 이러한 소자들 대부분은 액정 분자들이 셀 표면과 평행하게 단축으로 배향된(uniaxially oriented) 셀들을 통상적으로 사용한다. 이러한 셀에서, 전계의 인가는 편광 방향 중 단지 하나, 따라서 편광되지 않은 광의 50%만을 변화시킨다. 다른 편광 방향에 영향을 주기 위해서는 제2 셀이 이용되어야 한다. 불리하게도, 이것은 출광된 광의 추가적인 상당한 손실로 귀결된다.
전기적으로 제어되는 광의 산란이 다수의 상이한 방식으로 달성될 수 있다. 전기적으로 제어되는 광 산란을 달성하기 위한 통상적인 접근법은 고분자 분산형 액정(PDLC: polymer dispersed liquid crystal) 또는 액정 겔을 이용하는 것이다. PDLC는 등방성 중합체에서 액정 분자를 분산시킴으로써 생성된다. 통상적으로, 액정 재료가 투명 전극을 갖는 2개의 유리판 사이에 배치되어 셀이 형성된다. 유리판 사이에 어떠한 전계도 인가되지 않은 경우에 액정은 랜덤하게 배향되어 산란 모드를 형성하는데, 여기에서 광은 다수의 방향으로 산란된다. 전계를 인가함으로써, 산란이 점차 감소하고, 액정이 전계에 평행하게 정렬되는 경우에, 액정 굴절률이 중합체 굴절률과 매칭되는데, 여기에서 투명 모드가 생성되고 광이 셀을 통과한다. 한편, LC 겔은 배향된 이방성 중합체 매트릭스에서 액정을 분산시킴으로써 생성된다. 음(-)의 유전율 이방성을 갖는 LC 겔에 있어서, 전계가 인가되지 않은 경우에 투명 모드가 존재한다. 전계가 없는 경우에, 액정 분자들이 셀 표면에 수직인 방향으로 배향됨으로써, LC 셀 내에서 대규모 굴절율 변동은 없다. 전계가 인가된 경우에, 액정이 전계에 수직하게 배향되기 쉽고 굴절율 변동이 LC 셀 내에서 유발되어 산란 모드가 활성화된다.
공개번호 0 578 827호인 유럽 특허 출원은 광원, 광원으로부터 출광된 희망하는 광량을 산란시키는 액정 광 조절판, 및 액정판의 광 산란률을 제어하는 제어 전원이 제공되는 조명기(illuminator)를 개시한다. 산란되지 않고 액정 광 조절판 을 통과하는, 광원으로부터 출광된 광의 일부가 조명으로 이용된다. 광 산란률을 제어하기 위해 인가되는 제어 전원 전압을 변화시킴으로써, 조명 광의 휘도를 연속적으로 변화시킬 수 있다.
공개 공보 0 578 827호에서의 문제점은, 산란 효과를 달성하는 특정 전압 상태에서 동작되는 경우에, 액정 광 조절판이 광을 매우 큰 각도로 산란시킨다는 것이다. 이러한 조명기가 물체를 조명할 경우에, 조명기의 광 빔의 일부가 물체 상에 또는 물체에 인접하게 조사되지 않고, 물체로부터 떨어져 매우 큰 각으로 산란될 것이다. 따라서, 조절판이 광 디밍(dimming) 효과를 발생시킨다.
<발명의 개요>
본 발명의 목적은 전술한 문제점들을 극복하고, 광 빔의 전기적으로 제어되는 성형을 가능하게 하는 장치를 제공하는 것이다.
이러한 목적은 제 1 항에 따른, 광 빔의 성형을 전기적으로 제어하는 디바이스에 의해 달성된다.
본 발명의 제1 양태에서, 광 빔을 성형하도록 구성된 제1 광학계, 광 리디렉팅 모드에서 성형된 광 빔을 변화시키도록 구성된 전기적으로 제어가능한 광학 소자, 및 전기적으로 제어가능한 광학 소자에 의해 변화된 광 빔을 성형하도록 구성된 제 2 광학계를 포함하는 장치가 제공된다.
본 발명의 기본 개념은 광 빔의 전기적으로 제어되는 성형을 가능하게 하는 장치를 제공하는 것이다. 이러한 장치는 광 빔을 성형하도록 구성된 제 1 광학계를 포함한다. 광 빔은 통상적으로 LED와 같은 광원, 레이저 또는 다른 적절한 광 원으로부터 발생한다. 이러한 장치는 광학 소자가 광 리디렉팅 모드에 있는 경우에, 광의 방향을 광학 소자 상에 속하게 변화시키도록 구성된 전기적으로 제어가능한 광학 소자를 더 포함한다. 이러한 광학 소자는 예를 들어 PDLC 재료 또는 액정(LC) 겔을 사용함으로써 생성되는 전기적으로 제어가능한 산란 소자일 수 있다. 광학 소자는 회절 소자 또는 굴절 소자 중 하나일 수 있다. 광학 소자의 회절 또는 산란 정도는 전계를 액정 재료에 인가시킴으로써 제어되어, 산란률, 회절률 또는 굴절률이 인가된 전계에 따라 변한다. 따라서, 광 리디렉팅 모드에서, 광학 소자는 광학 소자 상에 부딪히는 광을 예를 들어, 산란, 회절 또는 굴절시킬 수 있다. 최종적으로, 이러한 장치는 광학 소자로부터 산란, 회절 또는 굴절된 광 빔을 성형하도록 구성된 제 2 광학계를 포함한다.
본 발명은 산란 효과에 독립적인 편광을 제공하므로 유리할 수 있으며, 이러한 편광은 하나의 셀 구성을 이용하여 구현될 수 있다. 광학 소자는 광원의 허상의 위치를 그 광학 소자에 있는 소정의 위치로 부분적으로 시프트시킨다. 따라서, 제 1 광학계는 유효 광원으로서 LED를 가지며, 제 2 광학계는 유효 광원으로서 산란 소자를 갖는다. 광학 소자에 인가되는 전압에 의존하여, 산란, 회절 또는 굴절된 빔의 각 강도 패턴(즉, 빔 강도 대 빔 다이버전스)이 변할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 제 1 광학계는 광원으로부터 발생하는 빔 일부에 대한 시준(collimation)뿐만 아니라 최대 광 추출을 제공하도록 구성되고, 전기적으로 제어가능한 광학 소자는 산란 모드에서 빔을 산란시키도록 구성되고, 제 2 광학계는 광을 제 2 광학계 상에 속하게 성형하도록 구성되어 보다 넓은 각 분포를 갖는다. 제 2 광학계는 광원으로부터 발생하는 비산란 빔을 성형하도록 구성되며, 이러한 비산란 빔은 전기적으로 제어가능한 광학 소자가 투명 모드로 구성되는 경우에 제 1 광학계에 의해 성형되지 않는다. 제 1 광학계 및 제 2 광학계 모두가 광원으로부터 발생하는 빔을 성형하도록 구성되는 경우보다 제 1 및 제 2 광학계의 총 사이즈가 다소 작게 되므로, 이러한 실시예는 유리하다.
본 발명의 추가적인 특징 및 이점은 이하의 설명 및 첨부된 청구범위를 탐구하면 명백해질 것이다. 본 기술분야의 당업자라면 본 발명의 다른 특징들이 조합되어 이하의 설명된 실시예와 다른 실시예들을 창조할 수 있음을 이해할 것이다.
첨부 도면을 참고하여 본 발명의 바람직한 실시예를 더욱 상세히 설명할 것이다.
도 1a 및 도 1b는 PDLC 재료를 이용함으로써 형성된 종래 기술의 전기적으로 제어가능한 산란 소자의 단면도를 도시한다.
도 2는 광 빔의 성형을 전기적으로 제어하는 장치가 제공되는 본 발명의 실시예의 단면도를 도시한다.
도 3a 및 도 3b는 광 빔의 성형을 전기적으로 제어하는 장치가 제공되는 본 발명의 다른 실시예의 단면도를 도시한다.
도 4a 및 도 4b는 광 빔의 성형을 전기적으로 제어하는 장치가 제공되는 본 발명의 또 다른 실시예의 단면도를 도시한다.
도 5a 및 도 5b는 광 빔의 성형을 전기적으로 제어하는 장치가 제공되는 본 발명의 또 다른 실시예의 단면도를 도시한다.
도 1a 및 도 1b는 PDLC 재료를 이용함으로써 형성된, 종래 기술의 전기적으로 제어가능한 산란 소자(101)의 단면을 도시한다. 도 1a는 광 산란 모드에 있는 산란 소자를 도시하고, 도 1b는 투명 모드에 있는 산란 소자를 도시한다. 액정 재료(102)는 인듐 주석 산화물(ITO)과 같은, 투명 전극(105)의 전도층들을 갖는 2개의 투명 유리판(103) 사이에 놓이도록 구성되는 중합체 매트릭스(104)에 개재된다. 도 1a에 도시한 바와 같이,유리판(103) 사이에 전계가 인가되지 않는 경우에, 액정은 서로에 대해 랜덤하게 배향됨으로써, 다수의 방향으로 광이 산란된다. 예를 들어 도 1b에 도시한 바와 같은 전압 발생기(106)에 의해 전계가 인가되는 경우에, 액정은 전계에 대해 평행하게 정렬되고 광이 셀을 통과하여 투명 모드를 만든다. LC 겔에 의해 형성된 셀들은 인가된 전계에 대하여 반대 방식으로 기능한다. 즉, 전계가 인가되지 않는 경우에 액정이 정렬되어 투명 모드를 활성화시킨다. 전계가 인가된 경우에, 액정은 광을 산란시킨다.
LC 겔 재료는 전원이 꺼진 경우에 셀이 투명 모드에 있게 하는 이점을 가지는데, 이러한 이점은 몇몇 응용에서 선호될 수 있다. PDLC 재료 대 LC 겔 재료의 선택에 대하여, 실제 응용을 고려해야 한다.
도 2는 광 빔의 성형을 전기적으로 제어할 수 있는 장치(200)가 제공되는 본 발명의 바람직한 실시예를 도시한다. 장치(200)의 개략 단면도를 도시한다. 장치(200)는 제 1 광학계(202), 전기적으로 제어가능한 광학 소자(203) 및 제 2 광학계(204)를 포함한다. 또한, 이러한 장치는 각 응용에 따라 광학계에 통합되기도 하고 별개의 소자로서 추가되기도 하는, 예를 들어 LED인 광원(201)을 포함할 수 있다. 이하에서, 장치는 LED 또는 LED들(201)의 클러스터를 포함하는 것으로 가정된다. 다수의 LED들이 사용되는 경우에, 제1 LED는 제1 원색(primary color)을 방출하고 제2 LED는 제2 원색을 방출하도록 LED들이 구성될 수 있으며, 여기에서 제2 원색은 제1 원색과 다르다. 또한, 클러스터에 포함되는 LED들이 독립적으로 제어되게 구성되도록 장치가 구성될 수 있다.
도 2의 (a)는 전계가 투명 LC 겔 소자(203)에 인가되지 않은 경우의 장치(200)를 도시하고, 도 2의 (b)는 전계가 광학 소자(203)에 인가됨으로써, 산란, 회절 또는 굴절 효과 중 하나를 제공함으로써 광학 소자(203) 상에 부딪히는 광 빔을 리디렉트(redirect)시키는 경우의 장치(200)를 도시한다. 도 2의 (a)에서, LED(201)에 의해 출광된 광 빔은 제1 광학계(202)에 의해 성형된다. 제1 광학계는 예를 들어 패싯(facet)된 반사기로써 구현되고, 광학 소자(203)가 투명 모드에 있는 경우에, 제2 광학계(204)와 협력하여 일정한 빔 성형, 예를 들어 2x5°스팟 빔(spot beam)을 이루도록 선택된다.
도 2의 (b)에서, 자신에 인가된 전계에 의해 광 리디렉팅 모드로 된 광학 소자(203)에 의해 광 빔이 확산된다(diffused). 도 2의 (b)에 도시한 바와 같이, 빔은 많은 다른 방향으로 산란된다. 그 후, 제2 광학계(204)는 산란된 광 빔을 재성형한다(re-shape). 셀 양단에 인가된 전압을 변화시킴으로써, 산란되지 않은 광(광원(201)에 의해 출광되고 제1 광학계에 의해 성형된 광)에 대한 제2 광학계에 의해 성형된 광의 비가 변할 수 있으며, 이는 결과적인 광 빔의 형상을 변화시킨다.
도 3a 및 도 3b는 본 발명의 다른 실시예에 따른, 광 빔의 성형을 전기적으로 제어하는 장치의 단면도를 도시하며, 광원(301)으로부터의 광 빔의 시준은 광학 소자(303)가 투명 모드에 있는 경우에만 제1 광학계(302)에 의해 수행된다. 따라서, 장치(300)는 제1 광학계(302), 전기적으로 제어가능한 산란 소자(303), 제2 광학계(304) 및 LED(301)를 포함한다. 도 3a는 광학 소자(303)가 투명 모드에 있는 경우의 장치(300)를 도시하고, 도 3b는 광학 소자(303)가 산란 모드에 있는 경우의 장치(300)를 도시한다. 도 3a에서, LED(301)에 의해 출광된 광 빔은 제2 광학계(304) 및 산란 광학 소자(303)에 의해 거의 영향을 받지 않는다. 한편, 제1 광학계(302)는 광원(301)에 의해 출광된 빔을 성형한다. 도 3b에서, 제1 광학계(302)에 의해 성형된 빔은 광학 소자(303)에 의해 산란된다. 도 3b에 도시한 바와 같이, 빔은 보다 큰 각으로 산란된다. 그 후, 제2 광학계(304)는 산란된 빔을 재성형하여 희망하는 다이버전스 각을 갖는 광 빔을 만든다.
도 2와 도 3a 및 도 3b에서 알 수 있는 바와 같이, 기본 개념은 제1 광학계(202, 302)가 (도 2에서와 같이) 부분적으로 또는 (도 3a 및 도 3b에서와 같이) 완전히 빔을 성형하여 특정 각 분포를 갖게 하고, 제2 광학계(204, 304)가 빔을 성형하여 다른 각 분포를 갖게 하는 것이다. 소자(203, 303)에 의해 산란되는 광량을 제어함으로써, 제2 광학계로 향하는 광량이 조정된다. 제2 광학계(204, 304)에 의해 성형되는 광량은 산란 소자(203, 303)에 인가되는 전계를 변화시킴으로써 제어될 수 있다. 이러한 방식으로, 광원(201, 301)에서 발생한 광 빔의 형상이 조절된다. 본 발명의 장치를 이용함으로써, 0-40V의 범위의 PDLC 소자에 인가된 전압에 대하여 반폭치(FWHM) 각은 40V에서의 50°내지 0V에서의 80°로 변할 수 있다. 이러한 극값들(extreme values) 사이의 임의의 FWHM 각은 인가되는 전압을 변화시킴으로써 달성될 수 있다.
도 4a 및 도 4b는 본 발명의 실시예에 따른, 광 빔의 성형을 전기적으로 제어하는 장치의 단면도를 도시한다. 장치(400)는 제1 광학계(402), 전기적으로 제어가능한 산란 소자(403), 제2 광학계(404) 및 광원(401)을 포함한다. 도 4a 및 도 4b에 도시한 실시예는 도 3a 및 도 3b와 관련하여 설명한 실시예와 동일한 광학적 기능을 갖는다. 그러나, 도 4a 및 도 4b에서, 제1 광학계(402) 및 제2 광학계(404)는 금속성 반사기를 포함한다.
도 5a 및 도 5b는 본 발명의 다른 실시예에 따른, 광 빔의 성형을 전기적으로 제어하는 장치의 단면을 도시한다. 장치(500)는 제1 광학계(502), 전기적으로 제어가능한 산란 소자(503), 제2 광학계(504) 및 광원(501)을 포함한다. 도 5a 및 도 5b에 도시한 실시예는 도 2와 관련하여 설명한 실시예와 동일한 광학적 기능을 갖는다. 그러나, 도 4a 및 도 4b에서와 마찬가지로, 제1 광학계(502) 및 제2 광학계(504)는 금속 반사기를 포함한다.
또한, 복수의 전기적으로 제어가능한 광학 소자가 다른 광학 스테이지와 함께 사용될 수 있는 구성이 가능하다. 즉, 복수의 산란 소자 및 반사기가 광원으로부터 발생한 빔을 성형하는데 이용될 수 있다. 따라서, 본 기술분야의 당업자라면 복수의 전기적으로 제어가능한 광학 소자들이 정적 빔 성형 소자들과 함께 구성될 수도 있음을 알 것이다.
구체적이고 예시적인 실시예를 참조하여 본 발명을 설명하였지만, 다른 변경, 수정 등이 본 기술분야의 당업자에게 자명해질 것이다. 따라서, 설명한 실시예들은 첨부된 청구범위에 의해 규정된 본 발명의 범위를 한정하는 것으로 의도되지 않는다.

Claims (18)

  1. 광 빔의 성형을 전기적으로 제어하는 장치(200, 300)로서,
    상기 광 빔을 성형하도록 구성된 제1 광학계(202, 302);
    광 리디렉팅 모드에 있는 경우에, 상기 성형된 광 빔을 변화시키도록 구성된 전기적으로 제어가능한 광학 소자(203, 303); 및
    상기 전기적으로 제어가능한 광학 소자(203, 303)에 의해 변화된 광 빔을 성형하도록 구성된 제2 광학계(204, 304)
    를 포함하는 광 빔 성형 제어장치(200, 300).
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 제1 광학계(202)는 상기 광 빔을 성형하도록 구성되고, 상기 전기적으로 제어가능한 광학 소자(203)는 상기 광 리디렉팅 모드에 있는 경우에 상기 성형된 광 빔의 분포를 변경시키도록 구성되고, 상기 제2 광학계(204)는 분포가 변경된 광 빔을 성형하도록 구성되는 광 빔 성형 제어장치(200).
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 전기적으로 제어가능한 광학 소자(303)는 상기 광 리디렉팅 모드에 있는 경우에 상기 광 빔을 리디렉팅하도록 구성되고, 상기 제2 광학계(304)는 리디렉팅된 광 빔만을 성형하도록 구성되는 광 빔 성형 제어장치(300).
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제2 광학계(204)는 상기 전기적으로 제어가능한 광학 소자(203)가 투명 모드에 있는 경우에 상기 광 빔을 성형하도록 추가적으로 구성되는 광 빔 성형 제어장치(200).
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 전기적으로 제어가능한 광학 소자(203, 303)는, 전압이 상기 광학 소자에 인가되어 상기 광 빔의 리디렉션을 전기적으로 제어하도록 구성되는 광 빔 성형 제어장치(200, 300).
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 전기적으로 제어가능한 광학 소자(203, 303)는, 변화된 인가 전압이 상기 리디렉팅된 빔의 다이버전스를 변화시키도록 구성되는 광 빔 성형 제어장치(200, 300).
  7. 제 5 항에 있어서,
    상기 전기적으로 제어가능한 광학 소자(203, 303)는, 변화된 인가 전압이 입사하는 빔의 변화된 일부를 전환(divert)하도록 구성되는 광 빔 성형 제어장치(200, 300).
  8. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 광학계(202, 302)는 내부 전반사를 나타내도록 구성되는 광 빔 성형 제어장치(200, 300).
  9. 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광 빔을 발생시키는 광원(201, 301)을 더 포함하는 광 빔 성형 제어장치(200, 300).
  10. 제 8 항에 있어서,
    상기 광원(201, 301)은 하나 이상의 발광 다이오드를 포함하는 광 빔 성형 제어장치(200, 300).
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 광원(201, 301)은 제1 원색(primary color)을 방출하는 제1 발광 다이오드 및 제2 원색을 방출하는 제2 발광 다이오드를 적어도 포함하고,
    상기 제2 원색은 상기 제1 원색과는 상이한 광 빔 성형 제어장치(200, 300).
  12. 제 11 항에 있어서,
    상이한 원색들을 방출하는 2개 이상의 발광 다이오드 또는 발광 다이오드 클 러스터가 독립적으로 제어되도록 구성되는 광 빔 성형 제어장치(200, 300).
  13. 제 10 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,
    추가적인 전자 소자들과 협력하여 피드백 및/또는 피드 포워드 제어 시스템을 제공하는 하나 이상의 온도 및/또는 광 센서를 더 포함하는 광 빔 성형 제어장치(200, 300).
  14. 제 1 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 전기적으로 제어가능한 광학 소자(203, 303)는 광의 리디렉션을 제공하도록 구성된 액정 소자들을 포함하는 광 빔 성형 제어장치(200, 300).
  15. 제 1 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 전기적으로 제어가능한 광학 소자(203, 303)는 고분자 분산형 액정(polymer dispersed liquid crystal)들을 포함하는 광 빔 성형 제어장치(200, 300).
  16. 제 1 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 전기적으로 제어가능한 광학 소자(203, 303)는 액정 겔(gel)들을 포함하는 광 빔 성형 제어장치(200, 300).
  17. 제 1 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 전기적으로 제어가능한 광학 소자(203, 303)는 상기 광 리디렉팅 모드에 있는 경우에 광을 산란, 굴절 또는 회절시키도록 구성된 광 빔 성형 제어장치(200, 300).
  18. 제 1 항 내지 제 17 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 광학계가 복수의 광학 소자들을 포함할 수 있고, 상기 전기적으로 제어가능한 광학 소자가 복수의 광학 소자들을 포함할 수 있고, 상기 제2 광학계가 복수의 광학 소자들을 포함할 수 있는 광 빔 성형 제어장치(200, 300).
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