KR20070060485A - Color filter substrate and method of fabricating the same - Google Patents

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Abstract

A color filter substrate and a method for manufacturing the same are provided to enhance an adhesive force with a black matrix by providing roughness on a peripheral portion of a glass substrate. A substrate includes a peripheral portion where roughness(103) is provided to enhance an adhesive force. A black matrix(102) is formed on the substrate, defines cell areas, and prevents light leakage. A color filter(104) is formed in the cell areas defined by the black matrix. A common electrode(106) is formed on the color filter and forms a vertical electric field for alignment of liquid crystals. An alignment layer(112) is formed on the common electrode, and aligns the liquid crystals in a predetermined direction. A seal pattern(114) overlaps the black matrix, and is configured to prevent outflow of the liquid crystals filled in a cell gap and provide an adhesive force. The roughness at the peripheral portion of the substrate enhances an adhesive force with the black matrix.

Description

컬러필터기판 및 그 제조방법{Color Filter Substrate and Method of Fabricating the same}Color Filter Substrate and Method of Manufacturing the Same {Color Filter Substrate and Method of Fabricating the same}

도 1은 본 발명이 적용된 액정표시장치의 분해 사시도.1 is an exploded perspective view of a liquid crystal display device to which the present invention is applied.

도 2는 도 1에 도시된 액정표시장치의 단면도.FIG. 2 is a cross-sectional view of the liquid crystal display shown in FIG. 1.

도 3은 종래의 액정표시장치를 구성하는 컬러필터기판의 평면도.3 is a plan view of a color filter substrate constituting a conventional liquid crystal display device.

도 4는 도 3에서 Ⅰ-Ⅰ'선을 따라 절취한 컬러필터 기판의 단면도.4 is a cross-sectional view of the color filter substrate taken along the line II ′ of FIG. 3.

도 5a 내지 도 5h는 종래의 액정표시장치를 구성하는 컬러필터기판의 제조 공정도.5A to 5H are manufacturing process diagrams of a color filter substrate constituting a conventional liquid crystal display device.

도 6은 종래의 컬러필터기판을 구성하는 유리기판 및 블랙 매트릭스 간에 발생하는 뜯김현상을 설명하기 위한 도면.6 is a view for explaining a tear phenomenon occurring between the glass substrate and the black matrix constituting the conventional color filter substrate.

도 7은 본 발명에 따른 액정표시장치를 구성하는 컬러필터기판의 평면도.7 is a plan view of a color filter substrate constituting a liquid crystal display device according to the present invention;

도 8은 도 7에서 Ⅱ-Ⅱ' 선을 따라 절취한 컬러필터기판의 단면도.FIG. 8 is a cross-sectional view of the color filter substrate taken along the line II-II ′ of FIG. 7.

도 9a 및 도 9b는 본 발명에 따른 기판의 외주변에 거칠기가 처리된 컬러필터기판의 평면도 및 단면도.9A and 9B are a plan view and a sectional view of a color filter substrate on which roughness is processed on an outer periphery of a substrate according to the present invention;

도 10a 내지 도 10c는 본 발명에 따른 컬러필터기판을 구성하는 유리기판의 외주변에 거칠기를 처리하는 과정을 도시한 공정도.10A to 10C are process diagrams illustrating a process of processing roughness on the outer periphery of the glass substrate constituting the color filter substrate according to the present invention.

도 11a 및 도 11b는 본 발명에 따른 블랙 매트릭스가 형성된 컬러필터기판의 평면도 및 단면도.11A and 11B are a plan view and a cross-sectional view of a color filter substrate on which a black matrix is formed according to the present invention.

도 12a 및 도 12b는 본 발명에 따른 컬러필터가 형성된 컬러필터기판의 평면도 및 단면도.12A and 12B are a plan view and a cross-sectional view of a color filter substrate having a color filter according to the present invention;

도 13a 내지 도 13c는 본 발명에 따른 블랙 매트릭스에 의해 구획된 셀 영역에 컬러필터를 형성하는 과정을 도시한 공정도.13A to 13C are process diagrams illustrating a process of forming a color filter in a cell region partitioned by a black matrix according to the present invention.

도 14a 및 도 14b는 본 발명에 따른 공통전극이 형성된 컬러필터기판의 평면도 및 단면도.14A and 14B are a plan view and a cross-sectional view of a color filter substrate having a common electrode according to the present invention.

도 15a 및 도 15b는 본 발명에 따른 컬러필터에 의해 형성된 단차를 평탄화시키는 오버 코팅층이 형성된 컬러필터기판의 평면도 및 단면도. 15A and 15B are a plan view and a sectional view of a color filter substrate on which an overcoating layer is formed to planarize a step formed by a color filter according to the present invention;

도 16a 및 도 16b는 본 발명에 따른 배향막이 형성된 컬러필터기판의 평면도 및 단면도.16A and 16B are a plan view and a cross-sectional view of a color filter substrate on which an alignment film according to the present invention is formed.

도 17a 및 도 17b는 본 발명에 따른 실패턴(seal pattern)이 형성된 컬러 필터 기판의 평면도 및 단면도. 17A and 17B are a plan view and a cross-sectional view of a color filter substrate having a seal pattern according to the present invention;

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>          <Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

100 : 컬러 필터 기판 101 : 유리기판100: color filter substrate 101: glass substrate

102 : 블랙 매트릭스 103 : 거칠기(roughness) 102: black matrix 103: roughness

104 : 칼라필터 104R : 적색 칼라필터(R)104: color filter 104R: red color filter (R)

104G : 녹색 칼라필터(G) 104B : 청색 칼라필터(B)104G: Green Color Filter (G) 104B: Blue Color Filter (B)

106 : 공통전극 108 : 스페이서106: common electrode 108: spacer

110 : 오버코팅층 112 : 배향막110: overcoat layer 112: alignment layer

114 : 실패턴(seal pattern)114: seal pattern

본 발명은 컬러필터기판 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 특히 유리기판의 주변부에 거칠기(reoughness)를 처리하여 블랙 매트릭스와의 접착력을 강화시킨 컬러필터기판 및 그 제조 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a color filter substrate and a method of manufacturing the same. More particularly, the present invention relates to a color filter substrate and a method of manufacturing the same, in which a roughness is applied to the periphery of the glass substrate to enhance adhesion to the black matrix.

액정표시장치(Liquid Crystal Display; LCD)는 전계를 이용하여 액정의 광투과율을 조절하여 화상을 표시하는 장치로서, 셀마다 스위칭소자가 형성된 액티브 매트릭스(Active Matrix) 타입으로 구현되어 컴퓨터용 모니터, 사무기기, 셀룰라폰 등의 표시장치에 적용되고 있다.Liquid crystal display (LCD) is a device that displays an image by controlling the light transmittance of the liquid crystal by using an electric field, and is implemented as an active matrix type in which switching elements are formed for each cell, so that a computer monitor, office work, etc. It is applied to display apparatuses, such as a device and a cellular phone.

이와 같은 액정 표시 장치는 액정을 구동시키는 전계방향에 따라 수직방향의 전계를 이용하는 수직 전계형과 수평방향의 전계를 이용하는 수평 전계형으로 대별된다.Such liquid crystal displays are roughly classified into a vertical electric field type using a vertical electric field and a horizontal electric field type using a horizontal electric field according to the electric field direction for driving the liquid crystal.

이때, 수직 전계형의 액정 표시 장치는 상부 기판상에 형성된 공통전극과 하부기판상에 형성된 화소전극이 서로 대향되게 배치되어 이들 사이에 형성되는 수직 전계에 의해 TN(Twisted Nemastic) 모드의 액정을 구동하게 된다. 이러한 수직 전계형 액정 표시 장치는 개구율이 큰 장점을 가지는 반면 시야각이 90도 정도로 좁은 단점을 가진다.In this case, in the vertical field type liquid crystal display, the common electrode formed on the upper substrate and the pixel electrode formed on the lower substrate face each other to drive the liquid crystal of TN (Twisted Nemastic) mode by a vertical electric field formed therebetween. do. Such a vertical field type liquid crystal display device has a large aperture ratio, but has a narrow viewing angle of about 90 degrees.

수평 전계형의 액정 표시 장치는 하부 기판에 나란하게 배치된 화소 전극과 공통 전극 간의 수평 전계에 의해 인 플레인 스위치(In Plane Switch; 이하, IPS라 함) 모드의 액정을 구동하게 된다. 이러한 수평 전계 인가형 액정 표시 장치는 시야각이 160도 정도로 넓은 장점을 가지는 반면에 개구율이 작다는 단점을 가진다.In a horizontal electric field type liquid crystal display, an in-plane switch (hereinafter referred to as IPS) mode liquid crystal is driven by a horizontal electric field between a pixel electrode and a common electrode arranged side by side on a lower substrate. Such a horizontal field application type liquid crystal display device has a wide viewing angle of about 160 degrees while a small aperture ratio.

이하, 도 1 및 도 2를 참조하여 본 발명이 적용된 액정 표시 장치의 구성에 대해 설명한다. 여기서, 도 1은 본 발명이 적용된 액정표시장치의 분해 사시도이고, 도 2는 도 1에 도시된 액정표시장치의 단면도이다.Hereinafter, the configuration of a liquid crystal display device to which the present invention is applied will be described with reference to FIGS. 1 and 2. 1 is an exploded perspective view of a liquid crystal display device to which the present invention is applied, and FIG. 2 is a cross-sectional view of the liquid crystal display device shown in FIG. 1.

도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 액정표시장치는 상부 유리기판(2) 상에 순차적으로 형성된 블랙 매트릭스(4), 컬러필터(6), 공통전극(8), 오버 코팅층(10), 스페이서(12), 상부 배향막(14) 및 실패턴(16)으로 구성된 컬러필터기판(70), 하부 유리기판(32)상에 게이트 절연막(34)을 사이에 두고 교차 형성된 게이트 라인(36) 및 데이터 라인(38), 그 교차부마다 형성된 박막 트랜지스터(40), 보호막(50)을 관통하여 박막 트랜지스터에 접속되는 화소전극(60), 하부 배향막(62)으로 구성되는 박막 트랜지스터 기판(80) 및 컬러 필터 기판(70)과 박막 트랜지스터 기판(80) 사이에 형성된 샐 갭에 주입되는 액정(90)을 구비한다.1 and 2, the liquid crystal display includes a black matrix 4, a color filter 6, a common electrode 8, an overcoating layer 10, which are sequentially formed on the upper glass substrate 2. A color filter substrate 70 composed of a spacer 12, an upper alignment layer 14, and a failure turn 16, a gate line 36 intersecting and intersecting a gate insulating layer 34 on the lower glass substrate 32; A thin film transistor substrate 80 composed of a data line 38, a thin film transistor 40 formed at each intersection thereof, a pixel electrode 60 connected to the thin film transistor through the protective film 50, and a lower alignment layer 62; The liquid crystal 90 is injected into a gap formed between the color filter substrate 70 and the thin film transistor substrate 80.

여기서, 컬러필터기판(70)을 구성하는 블랙 매트릭스(4)는 하부 유리기판(32)의 박막 트랜지스터(40)가 형성된 영역, 게이트 라인(36) 및 데이터 라인(38)과 중첩되게 형성되며 컬러필터(6)가 형성될 셀 영역을 구획한다. 이때, 블랙 매트릭스(4)는 빛샘을 방지함과 아울러 외부광을 흡수하여 콘트라스트를 높이는 역할을 한다. Here, the black matrix 4 constituting the color filter substrate 70 is formed so as to overlap the region where the thin film transistor 40 of the lower glass substrate 32 is formed, the gate line 36 and the data line 38. The cell region in which the filter 6 is to be formed is partitioned. At this time, the black matrix 4 serves to prevent light leakage and to increase contrast by absorbing external light.

컬러필터(6)는 블랙 매트릭스(4)에 의해 분리된 셀영역 및 블랙 매트릭스(4) 에 걸쳐 형성된다. 이때, 컬러필터(6)는 R,G,B 별로 형성되어 R, G, B 색상을 구현한다. The color filter 6 is formed over the cell region separated by the black matrix 4 and the black matrix 4. In this case, the color filter 6 is formed for each of R, G, and B to implement R, G, and B colors.

공통전극(8)은 컬러필터(6)가 형성된 하부 유리기판(2)상에 도전성 금속을 타겟으로 하는 스퍼터링 공정을 통해 형성되는 것으로서, 박막 트랜지스터 기판(80)에 형성된 화소전극(60)과 함께 액정을 구동시키기 위한 수직전계를 형성한다. 여기서, 공통전극(8)은 박막 트랜지스터 기판(80)에 형성된 은 도트 패턴(Ag dot pattern)을 통해 액정 구동시에 기준이 되는 기준전압을 공급받는다. The common electrode 8 is formed through a sputtering process of targeting a conductive metal on the lower glass substrate 2 on which the color filter 6 is formed, and together with the pixel electrode 60 formed on the thin film transistor substrate 80. A vertical electric field for driving the liquid crystal is formed. Here, the common electrode 8 is supplied with a reference voltage which is a reference when driving the liquid crystal through the silver dot pattern formed on the thin film transistor substrate 80.

오버 코팅층(10)은 컬러필터(4)에 의해 하부 유리기판(2)상에 형성되는 단차를 제거함으로써 후속 공정에 의해 형성되는 배향막(14)을 평탄한 형상으로 형성될 수 있도록 하는 역할을 수행한다.The overcoating layer 10 serves to form a flat shape of the alignment layer 14 formed by a subsequent process by removing the step formed on the lower glass substrate 2 by the color filter 4. .

스페이서(12)는 컬러필터기판(70)과 박막 트랜지스터기판(80) 사이에 액정(90)이 충진될 수 있도록 하는 셀갭을 유지시키는 역할을 수행한다. 이때, 스페이서(12)는 오버코팅층(10)과 동일물질로 블랙 매트릭스(4)와 중첩되도록 형성된다.The spacer 12 serves to maintain a cell gap that allows the liquid crystal 90 to be filled between the color filter substrate 70 and the thin film transistor substrate 80. In this case, the spacer 12 is formed to overlap the black matrix 4 with the same material as the overcoat layer 10.

상부 배향막(14)은 공통전극(8)이 형성된 상부 유리기판(2) 상에 형성되며 박막 트랜지스터 기판(80)과 컬러필터기판(70) 사이에 위치하는 액정(90)을 소정 방향으로 배향시키는 역할을 수행한다.The upper alignment layer 14 is formed on the upper glass substrate 2 on which the common electrode 8 is formed to orient the liquid crystal 90 positioned between the thin film transistor substrate 80 and the color filter substrate 70 in a predetermined direction. Play a role.

실패턴(seal pattern)(16)은 상부 배향막(14) 상에 형성되어 액정(90)이 충진되는 셀 갭을 형성하고, 셀 갭에 충진된 액정(90)이 외부로 유출되는 것을 방지하는 동시에 컬러필터기판(70)과 박막 트랜지스터 기판(80)을 합착시키는 역할을 수행한다. A seal pattern 16 is formed on the upper alignment layer 14 to form a cell gap in which the liquid crystal 90 is filled, while preventing the liquid crystal 90 filled in the cell gap from flowing out. The color filter substrate 70 and the thin film transistor substrate 80 are bonded to each other.

박막 트랜지스터 기판(80)을 구성하는 박막 트랜지스터(40)는 게이트 라인(36)에 접속된 게이트 전극(42), 게이트 절연막(34)을 사이에 두고 게이트 전극(42)과 중첩되는 활성층(44a) 및 오믹 접촉층(44b)으로 구성된 반도체층(44), 반도체층(44)을 사이에 두고 데이터 라인(38)에 접속되는 소스전극(46) 및 반도체층(44)에 의해 형성된 채널을 사이에 두고 대향하는 드레인 전극(48)을 구비한다.The thin film transistor 40 constituting the thin film transistor substrate 80 has an active layer 44a overlapping the gate electrode 42 with the gate electrode 42 and the gate insulating film 34 connected to the gate line 36 interposed therebetween. And a channel formed by the semiconductor layer 44 and the source electrode 46 connected to the data line 38 with the semiconductor layer 44 composed of the ohmic contact layer 44b interposed therebetween. A drain electrode 48 is disposed to face each other.

이때, 박막 트랜지스터(40)는 게이트 라인(36)의 스캔신호에 응답하여 데이터 라인(38)으로부터 전달되는 화소신호를 보호막(50)을 관통하는 접촉홀을 통해 드레인 전극 (48)에 접속된 화소전극(60)으로 전달하는 역할을 수행한다. In this case, the thin film transistor 40 connects the pixel signal transmitted from the data line 38 to the drain electrode 48 through the contact hole passing through the passivation layer 50 in response to the scan signal of the gate line 36. It serves to deliver to the electrode (60).

화소전극(60)은 보호막(50)을 관통하는 콘택홀을 통해 박막 트랜지스터(40)의 드레인 전극(48)에 접속되며 컬러필터기판(70)의 공통전극(8)과 함께 액정(90)을 구동시키기 위한 수직전계를 형성한다.The pixel electrode 60 is connected to the drain electrode 48 of the thin film transistor 40 through a contact hole penetrating through the passivation layer 50, and the liquid crystal 90 together with the common electrode 8 of the color filter substrate 70. A vertical electric field for driving is formed.

즉, 박막 트랜지스터(40)를 통해 화소 신호가 공급된 화소 전극(60)과 공통 라인을 통해 기준 전압이 공급된 공통 전극(8) 사이에는 수직 전계가 형성되고, 이러한 수직전계는 박막 트랜지스터 기판(80)과 컬러필터기판(70) 사이에서 수평 방향으로 배열된 액정(90)을 소정 방향으로 회전시켜 광 투과율을 변화시킴으로써 화상을 구현시키는 것이다. That is, a vertical electric field is formed between the pixel electrode 60 supplied with the pixel signal through the thin film transistor 40 and the common electrode 8 supplied with the reference voltage through the common line. The image is realized by changing the light transmittance by rotating the liquid crystal 90 arranged in the horizontal direction between the 80 and the color filter substrate 70 in a predetermined direction.

하부 배향막(62)은 박막 트랜지스터(40)를 덮는 보호막(50) 상에 형성되며 박막 트랜지스터 기판(80)과 컬러필터기판(70) 사이에 위치하는 액정을 소정 방향으로 배향시키는 역할을 수행한다.The lower alignment layer 62 is formed on the passivation layer 50 covering the thin film transistor 40 and serves to orient the liquid crystal positioned between the thin film transistor substrate 80 and the color filter substrate 70 in a predetermined direction.

이하, 도 3 및 도 4를 참조하여 종래의 액정표시장치를 구성하는 컬러필터기 판의 구조에 대해 설명한다. 여기서, 도 3 은 종래의 액정표시장치를 구성하는 컬러필터기판의 단면도이고, 도 4는 도 3에서 Ⅰ-Ⅰ'선을 따라 절취된 액정표시장치의 단면도이다.Hereinafter, the structure of the color filter substrate constituting the conventional liquid crystal display device will be described with reference to FIGS. 3 and 4. 3 is a cross-sectional view of a color filter substrate constituting a conventional liquid crystal display device, and FIG. 4 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device taken along line II ′ of FIG. 3.

도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이, 종래의 액정표시장치를 구성하는 컬러필터의 경우, 유리기판(2)상에 순차적으로 블랙 매트릭스(4), 컬러필터(6), 화소전극(6), 오버코팅층(8), 스페이서(10), 배향막(12) 및 실패턴(14)이 형성된다. 이때, 블랙 매트릭스(4)는 접착부재를 개재하지 않은 상태에서 유리기판(2) 상에 형성되어 있다.3 and 4, in the case of the color filter constituting the conventional liquid crystal display device, the black matrix 4, the color filter 6, and the pixel electrode 6 on the glass substrate 2 in sequence The overcoat layer 8, the spacer 10, the alignment film 12, and the failure turn 14 are formed. At this time, the black matrix 4 is formed on the glass substrate 2 without the adhesive member interposed therebetween.

이하, 도 5a 내지 도 5h를 참조하여 종래의 액정표시장치를 구성하는 컬러필터기판의 제조공정을 상세하게 설명한다. Hereinafter, a manufacturing process of the color filter substrate constituting the conventional liquid crystal display device will be described in detail with reference to FIGS. 5A to 5H.

도 5a에 도시된 바와 같이, 유리기판(2)상에 빛샘현상을 방지하는 블랙 메트릭스(4)를 형성한다.As shown in FIG. 5A, a black matrix 4 is formed on the glass substrate 2 to prevent light leakage.

이를 보다 구체적으로 설명하면, 유리기판(2)상에 불투명 물질을 전면 도포한다. 이때, 불투명 물질은 크롬(Cr)을 포함하는 불투명 금속 또는 불투명 수지가 이용된다. 이후, 마스크를 이용하여 불투명 물질에 대한 포토리소그래피공정 및 식각공정을 통한 패터닝을 수행함으로써 블랙 매트릭스(4)를 형성한다.In more detail, the opaque material is coated on the glass substrate 2 in its entirety. In this case, an opaque metal or an opaque resin containing chromium (Cr) is used as the opaque material. Subsequently, the black matrix 4 is formed by performing patterning through a photolithography process and an etching process on the opaque material using a mask.

상술한 바와 같이 블랙 매트릭스(4)를 형성한 후, 도 5b에 도시된 바와 같이, 유리기판(2)상에 블랙 매트릭스(4)에 의해 구획된 셀 영역에 적색 컬러필터(6R)를 형성한다.After forming the black matrix 4 as described above, as shown in FIG. 5B, the red color filter 6R is formed on the glass substrate 2 in the cell region partitioned by the black matrix 4. .

이를 보다 구체적으로 설명하면, 블랙 매트릭스(4)가 형성된 유리기판(2) 상 에 적색의 감광성 칼라 수지를 전면 증착한다. 이후, 마스크를 이용하여 적색의 감광성 칼라수지에 대한 포토리소그래피공정 및 식각공정을 통한 패터닝을 수행하여 적색 컬러필터(6R)를 형성한다.In more detail, the red photosensitive color resin is deposited on the glass substrate 2 on which the black matrix 4 is formed. Subsequently, a red color filter 6R is formed by performing a patterning process through a photolithography process and an etching process on the red photosensitive color resin using a mask.

상술한 바와 같이 적색 컬러필터를 형성한 후, 도 5c에 도시된 바와 같이, 적색 컬러필터(R)가 형성된 유리기판(2)상에 녹색의 감광성 컬러 수지를 전면 증착시킨다. 이후, 마스크를 이용하여 녹색의 감광성 칼라 수지에 대한 포토리소그래피공정 및 식각공정을 통한 패터닝을 수행함으로써 녹색 컬러필터(6G)를 형성한다.After the red color filter is formed as described above, as shown in FIG. 5C, a green photosensitive color resin is entirely deposited on the glass substrate 2 on which the red color filter R is formed. Subsequently, the green color filter 6G is formed by performing patterning through a photolithography process and an etching process on the green photosensitive color resin using a mask.

상술한 바와 같이 녹색 컬러필터(R)를 형성한 후, 도 5d에 도시된 바와 같이, 적색 및 녹색 컬러필터(6R, 6G)가 형성된 유리기판(2) 상에 청색의 감광성 칼라 수지를 전면 증착시킨다. 이후, 마스크를 이용하여 청색 수지에 대한 포토리소그래피 공정 및 식각동정을 통한 패터닝을 수행하여 청색 컬러필터(6B)를 형성함으로써 유리기판(2) 상에 최종적으로 컬러필터(6)를 완성한다.After forming the green color filter R as described above, as shown in FIG. 5D, a blue photosensitive color resin is entirely deposited on the glass substrate 2 on which the red and green color filters 6R and 6G are formed. Let's do it. Subsequently, the color filter 6 is finally completed on the glass substrate 2 by forming a blue color filter 6B by performing a photolithography process on the blue resin using a mask and patterning through etching.

상술한 바와 컬러필터(6)를 형성한 후, 도 5e에 도시된 바와 같이, 컬러필터(6)가 형성된 유리기판(2)상에 액정을 구동시키기기 위한 수직전계를 형성하기 위한 공통전극(8)을 형성한다.After forming the color filter 6 as described above, as shown in FIG. 5E, the common electrode for forming a vertical electric field for driving the liquid crystal on the glass substrate 2 on which the color filter 6 is formed ( 8) form.

이를 보다 구체적으로 설명하면, 컬러필터(6)가 형성된 유리기판(2)상에 도전성 금속을 타겟으로 하는 스퍼터링 공정을 통해 도전성 금속막(ITO)을 형성한다. 이후, 마스크를 이용한 포토리소그래피공정 및 식각공정을 수행하여 컬러필터(6)가 형성된 유리기판(2) 상에 공통전극(8)을 형성한다.In more detail, the conductive metal film ITO is formed on the glass substrate 2 on which the color filter 6 is formed through a sputtering process targeting the conductive metal. Thereafter, a photolithography process and an etching process using a mask are performed to form a common electrode 8 on the glass substrate 2 on which the color filter 6 is formed.

상술한 바와 같이 공통전극을 형성한 후, 도 5f에 도시된 바와 같이, 공통전 극(8)이 형성된 유리기판(2) 상에 컬러필터(6)에 의해 형성된 단차를 제거하기 위한 오버 코팅층(10)을 형성한다. 이때, 오버 코팅층(10)을 형성시에 셀갭을 유지시키는 스페이서(12)를 동시에 형성할 수 있다.After forming the common electrode as described above, as shown in FIG. 5F, the overcoating layer for removing the step formed by the color filter 6 on the glass substrate 2 on which the common electrode 8 is formed ( 10) form. In this case, the spacer 12 may be formed at the same time to maintain the cell gap when the overcoat layer 10 is formed.

상술한 바와 같이 오버 코팅층(10) 및 스페이서(12)를 형성한 후, 도 5g에 도시된 바와 같이, 오버 코팅층(10) 및 스페이서(12)가 형성된 유리기판(2) 상에 액정을 배향시키기 위한 배향막(14)을 형성한다.After forming the overcoating layer 10 and the spacer 12 as described above, as shown in Figure 5g, to align the liquid crystal on the glass substrate 2 on which the overcoating layer 10 and the spacer 12 is formed The alignment film 14 for this is formed.

이후, 배향막(14) 상에 실링제를 이용한 스크린 인쇄공정을 수행함으로써, 도 5h에 도시된 바와 같이, 컬러필터기판과 박막 트랜지스터 기판 사이에 액정이 충진되는 셀 갭을 형성하고, 셀갭에 충진된 액정이 외부로 유출되는 것을 방지하는 동시에 양 기판을 합착시키는 역할을 수행하는 실패턴(seal pattern)(16)을 형성한다.Thereafter, a screen printing process using a sealing agent is performed on the alignment layer 14 to form a cell gap in which a liquid crystal is filled between the color filter substrate and the thin film transistor substrate, as shown in FIG. 5H, and filled in the cell gap. A seal pattern 16 is formed to prevent the liquid crystal from leaking to the outside and to bond both substrates together.

상술한 바와 같은 종래의 액정표시장치를 구성하는 컬러필터기판의 경우에 있어서, 유리기판(2)과 유기화합물로 구성된 블랙 매트리스(4) 사이의 접착력은 블랙 매트릭스(4)와 공통전극(8) 사이의 접착력보다 약하다.In the case of the color filter substrate constituting the conventional liquid crystal display device as described above, the adhesive force between the glass substrate 2 and the black mattress 4 made of the organic compound is the black matrix 4 and the common electrode 8. Weaker than the adhesion between.

따라서, 외부로부터 일정 크기를 갖는 외력이 인가되는 경우, 도 6에 도시된 바와 같이, 유리기판(2)과 블랙 매트릭스(4) 사이에 뜯김 현상이 발생하고 이에 의해 블랙 매트릭스(4)상에 형성된 실패턴(seal pattern)(16)이 파손된다는 문제점이 있었다.Therefore, when an external force having a predetermined magnitude is applied from the outside, a tearing phenomenon occurs between the glass substrate 2 and the black matrix 4 as shown in FIG. 6, thereby forming on the black matrix 4. There was a problem that the failure pattern 16 was broken.

상술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위해, 본 발명은 유리기판의 외주변에 거칠기를 처리하여 블랙 매트릭스와의 접착력을 강화시킨 컬러필터기판 및 그 제조방법을 제공하는 데 있다.In order to solve the above problems, the present invention is to provide a color filter substrate and a method of manufacturing the same by processing the roughness on the outer periphery of the glass substrate to enhance the adhesion to the black matrix.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 액정표시장치를 구성하는 컬러필터기판은, 주변부에 접착력을 강화시키기 위한 거칠기(roughness)가 처리된 기판; 기판상에 형성되어 셀 영역을 구획하는 동시에 빛샘현상을 방지하는 블랙 매트릭스; 블랙 매트리스에 의해 구획된 셀 영역에 형성된 컬러필터; 컬러필터 상에 형성되어 액정 배향을 위한 수직전계를 형성하는 공통전극; 공통전극 상에 형성되며 소정 방향으로 액정을 배향시키는 배향막; 및 블랙 매트릭스 상에 중첩되게 형성되어 액정이 충진되는 셀 갭을 형성하고, 셀갭에 충진된 액정이 외부로 유출되는 것을 방지하는 실패턴을 포함하고, 유리기판의 주변부에 형성된 거칠기는 블랙 매트릭스와의 접착력을 강화시키는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the color filter substrate constituting the liquid crystal display device according to the present invention, the substrate is treated with a roughness (roughness) for enhancing the adhesion to the peripheral portion; A black matrix formed on the substrate to partition the cell region and prevent light leakage; A color filter formed in the cell region partitioned by the black mattress; A common electrode formed on the color filter to form a vertical electric field for liquid crystal alignment; An alignment layer formed on the common electrode and aligning the liquid crystal in a predetermined direction; And a failure turn formed to overlap the black matrix to form a cell gap in which the liquid crystal is filled, and a failure turn to prevent the liquid crystal filled in the cell gap from flowing out, and the roughness formed at the periphery of the glass substrate is different from that of the black matrix. It is characterized by enhancing the adhesion.

여기서, 본 발명에 따른 컬러필터기판은 공통전극 상에 컬러필터에 의해 형성된 단차를 제거하기 위한 오버코팅층(overcoating)을 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The color filter substrate according to the present invention may further include an overcoating layer (overcoating) for removing a step formed by the color filter on the common electrode.

또한, 본 발명에 따른 컬러필터기판은 유리기판의 주변부에 형성되는 거칠기(roughness)는 포토레지스트를 이용한 마스크 공정을 통해 유리기판의 표면을 에칭처리하여 형성된 것을 특징으로 한다.In addition, the color filter substrate according to the present invention is characterized in that the roughness (roughness) formed on the periphery of the glass substrate is formed by etching the surface of the glass substrate through a mask process using a photoresist.

또한, 본 발명에 따른 컬러필터기판은 스크린 공정을 통해 실링제를 블랙 매트릭스상에 인쇄한 후 열처리를 수행하여 실패턴(seal pattern)을 형성하는 것을 특징으로 한다.In addition, the color filter substrate according to the present invention is characterized by forming a seal pattern by printing a sealing agent on a black matrix through a screen process and then performing heat treatment.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 액정표시장치를 구성하는 컬러필터기판의 제조방법은, 기판의 주변부에 접착력을 강화시키기 위한 거칠기를 처리하는 단계; 기판상에 셀 영역을 구획하는 동시에 빛샘현상을 방지하는 블랙 매트릭스를 형성하는 단계; 블랙 매트리스에 의해 구획된 셀 영역에 컬러필터를 형성하는 단계; 컬러필터 상에 형성되어 액정 배향을 위한 수직전계를 형성하는 공통전극을 형성하는 단계; 공통전극 상에 형성되며 소정 방향으로 액정을 배향시키는 배향막을 형성하는 단계; 및 블랙 매트릭스 상에 중첩되게 형성되어 액정이 충진되는 셀 갭을 형성하고, 셀 갭에 충진된 액정이 외부로 유출되는 것을 방지하는 실패턴을 형성하는 단계를 포함하고, 유리기판의 주변부에 형성된 거칠기는 블랙 매트릭스와의 접착력을 강화시키는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the manufacturing method of the color filter substrate constituting the liquid crystal display device according to the present invention comprises the steps of: processing the roughness to enhance the adhesion to the peripheral portion of the substrate; Forming a black matrix on the substrate which partitions the cell region and prevents light leakage; Forming a color filter in the cell region partitioned by the black mattress; Forming a common electrode formed on the color filter to form a vertical electric field for liquid crystal alignment; Forming an alignment layer formed on the common electrode to orient the liquid crystal in a predetermined direction; And forming a cell gap in which the liquid crystal is filled to form a cell gap superimposed on the black matrix, and forming a failure turn that prevents the liquid crystal filled in the cell gap from leaking to the outside. It is characterized in that to enhance the adhesion with the black matrix.

상기 목적 외에 본 발명의 다른 목적 및 특징들은 첨부도면을 참조한 실시예에 대한 설명을 통하여 명백하게 드러나게 될 것이다.Other objects and features of the present invention in addition to the above objects will become apparent from the description of the embodiments with reference to the accompanying drawings.

이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시예에 대하여 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

먼저, 도 7 및 도 8을 참조하여 본 발명에 따른 수평 전계형 액정표시장치를 구성하는 컬러필터기판의 구성에 대해 설명하면 다음과 같다. 여기서, 도 7는 본 발명에 따른 컬러필터기판의 평면도이고, 도 8은 도 7에서 Ⅱ-Ⅱ' 선을 따라 절취된 컬러필터기판의 단면도이다.First, the configuration of the color filter substrate constituting the horizontal field type liquid crystal display device according to the present invention will be described with reference to FIGS. 7 and 8. 7 is a plan view of the color filter substrate according to the present invention, and FIG. 8 is a cross-sectional view of the color filter substrate cut along the line II-II 'of FIG. 7.

도 7 및 도 8을 참조하면, 본 발명에 따른 컬러필터기판은 주변부에 접착력 을 강화시키기 위한 거칠기(103)가 처리된 기판(101)과, 기판(101)상에 형성되어 셀 영역을 구획하는 동시에 빛샘현상을 방지하는 블랙 매트릭스(102)와, 블랙 매트릭스(102)에 의해 구획된 화소영역에 형성되는 컬러필터(104)와, 컬러필터 상에 형성되며 액정을 구동시키기 위한 수직전계를 형성하는 공통전극(106)과, 공통전극(106) 상에 형성되어 컬러필터(104)에 의해 형성된 단차를 제거하는 오버코팅층(108)과, 오버 코팅층(108)과 동시에 형성되어 액정이 충진되는 셀갭을 유지시키는 스페이서(110)와, 오버코팅층(108) 상에 형성되며 소정 방향으로 액정을 배향시키는 배향막(112)과, 배향막(112)에 형성되어 셀 갭에 충진된 액정이 외부로 유출되는 것을 방지하는 동시에 접착력을 제공하는 실패턴(114)을 구비한다.Referring to FIGS. 7 and 8, the color filter substrate according to the present invention may be formed on a substrate 101 on which roughness 103 is treated to enhance adhesion to a peripheral portion, and formed on the substrate 101 to partition a cell region. At the same time, a black matrix 102 for preventing light leakage, a color filter 104 formed in the pixel region partitioned by the black matrix 102, and a vertical electric field formed on the color filter to drive the liquid crystal The cell gaps formed on the common electrode 106, the overcoat layer 108 formed on the common electrode 106 to remove the step formed by the color filter 104, and the overcoating layer 108 coincident with the liquid crystal are filled. The spacer 110 to be retained, the alignment film 112 formed on the overcoating layer 108 to orient the liquid crystal in a predetermined direction, and the liquid crystal filled in the cell gap to be prevented from flowing out to the outside. While providing adhesion Provided with a pattern (114).

여기서, 기판(101)에는 블랙 매트릭스(102)와의 접착력을 강화시키기 위해 외주변에 거칠기(roughness)(103)가 처리되어 있다. Here, the roughness 103 is processed on the outer periphery of the substrate 101 to enhance the adhesive force with the black matrix 102.

이때, 기판(101)의 외주변에 처리된 거칠기(103)는 마스크를 이용하여 외주변에 코팅된 포토레지스트에 대한 노광 및 식각공정을 통해 레지스트 패턴을 형성한 후, 레지스트 패턴에 의해 노출된 유리기판(101)의 표면을 에칭액을 이용하여 에칭함으로써 형성된다.At this time, the roughness 103 processed on the outer periphery of the substrate 101 is formed by forming a resist pattern through exposure and etching processes on the photoresist coated on the outer periphery using a mask, and then the glass exposed by the resist pattern. It forms by etching the surface of the board | substrate 101 using an etching liquid.

블랙 매트릭스(102)는 유리기판(101)상에 매트릭스 형태로 형성되어 컬러필터(104)들이 형성될 다수의 셀 영역을 구획하는 동시에 인접한 셀 영역간의 광간섭을 방지하는 역할을 수행하는 것으로서, 박막 트랜지스터 기판의 화소전극을 제외한 영역인 게이트 라인, 데이터 라인 및 박막 트랜지스터와 중첩되게 형성된다.The black matrix 102 is formed in a matrix form on the glass substrate 101 to partition a plurality of cell regions in which the color filters 104 are to be formed and to prevent optical interference between adjacent cell regions. The gate line, the data line, and the thin film transistor, which are regions except the pixel electrode of the transistor substrate, are formed to overlap each other.

이때, 블랙 매트릭스(102)는 유리기판(101)상에 불투명 금속, 예를 들면 크 롬(Cr 또는 CrOx) 등의 불투명 금속을 약 1500~2000Å의 두께 및 5~25㎛의 선폭을 갖도록 증착시킨 후 이를 포토리소그래피공정 및 식각공정을 통해 패터닝시킴으로써 형성된다.In this case, the black matrix 102 is formed by depositing an opaque metal such as chromium (Cr or CrOx) on the glass substrate 101 to have a thickness of about 1500 to 2000 microns and a line width of 5 to 25 μm. It is then formed by patterning it through a photolithography process and an etching process.

또한, 블랙 매트릭스(102)는 유리기판(101)상에 절연성 수지를 1.0~1.5㎛의 두께를 갖는 동시에 5~25㎛ 선폭을 갖도록 형성한 후 이를 포토리소그래피공정 및 식각공정을 통해 패터닝시킴으로써 형성될 수도 있다.In addition, the black matrix 102 is formed by forming an insulating resin on the glass substrate 101 to have a thickness of 1.0 to 1.5 μm and a line width of 5 to 25 μm, and then patterning the insulating resin through a photolithography process and an etching process. It may be.

컬러필터(104)는 블랙 매트릭스(102)에 의해 구획된 다수의 셀 영역에 형성된다. 이때, 컬러필터(104)는 적색, 녹색 및 청색을 갖는 감광성 칼라 수지를 안료 분사법을 통해 순차적으로 유리기판상에 분사시킨 후 마스크를 이용한 포토리소그래피공정 및 식각공정을 통해 패터닝 함으로써, 적색을 구현하는 적색 컬러필터(104R), 녹색을 구현하는 녹색 컬러필터(104G) 및 청색을 구현하는 청색 컬러필터(104B)로 구성된다.The color filter 104 is formed in a plurality of cell regions partitioned by the black matrix 102. In this case, the color filter 104 sequentially sprays the photosensitive color resin having red, green, and blue colors on the glass substrate through a pigment spraying method, and then patternes the photolithography and etching processes using a mask to realize red color. It is composed of a red color filter 104R, a green color filter 104G for implementing green color, and a blue color filter 104B for implementing blue color.

이때, 컬러필터(104)를 구현하는 방법으로는 감광성 칼라수지를 이용한 안료 분사법에 한정되는 것은 아니며, 안료 분사법 이외에도 각종 방법, 예를 들면 염색법, 전착법 및 인쇄법 등 다양한 방법을 통해서 형성될 수 있다고 해석되는 것이 바람직하다.In this case, the method of implementing the color filter 104 is not limited to the pigment spraying method using the photosensitive color resin, and is formed through various methods such as dyeing, electrodeposition and printing in addition to the pigment spraying method. It is preferred that it be interpreted.

공통전극(106)은 도전성 금속을 타겟으로 하는 스퍼터링 공정을 통해 컬러필터가 형성된 유리기판(101)상에 전면 증착된다. 여기서, 공통전극(106)은 박막 트랜지스터 기판에 형성된 은 도트 패턴과 전기적으로 연결되어 수직전계를 형성시에 이용되는 기준전압을 인가받는다.The common electrode 106 is entirely deposited on the glass substrate 101 on which the color filter is formed through a sputtering process targeting a conductive metal. Here, the common electrode 106 is electrically connected to the silver dot pattern formed on the thin film transistor substrate to receive a reference voltage used in forming a vertical electric field.

이때, 박막 트랜지스터를 통해 화소 신호가 공급된 화소전극과 공통 라인을 통해 기준 전압이 공급된 공통 전극(106) 사이에는 수직 전계가 형성되고, 이러한 수직전계는 박막 트랜지스터 기판과 칼라필터기판 사이에서 위치하는 액정 분자들을 소정 방향으로 회전시켜 광 투과율을 변화시킴으로써 화상을 구현시키는 것이다. In this case, a vertical electric field is formed between the pixel electrode supplied with the pixel signal through the thin film transistor and the common electrode 106 supplied with the reference voltage through the common line, and the vertical electric field is positioned between the thin film transistor substrate and the color filter substrate. By rotating the liquid crystal molecules in a predetermined direction to change the light transmittance to realize the image.

오버코팅층(108)은 공통전극(106)이 형성된 유리기판(101)상에 형성되어 컬러필터(104)에 의해 형성된 단차를 제거함으로써, 후속 공정에 의해 형성되는 배향막(110)을 유리기판(101)상에 평탄하게 형성될 수 있도록 하는 역할을 수행한다.The overcoat layer 108 is formed on the glass substrate 101 on which the common electrode 106 is formed to remove the step formed by the color filter 104, thereby removing the alignment layer 110 formed by the subsequent process. It serves to be formed flat on).

이때, 오버코팅층(108)이 형성시에 박막 트랜지스터와 컬러필터기판 사이에 액정이 충진될 수 있도록 하는 셀갭을 유지시키는 스페이서(110)를 동시에 형성할 수 있다. 여기서, 스페이서(110)는 오버코팅층(108)과 동일물질로 블랙 매트릭스(104)와 중첩되도록 형성된다.In this case, when the overcoating layer 108 is formed, the spacer 110 may be formed at the same time to maintain the cell gap between the thin film transistor and the color filter substrate so that the liquid crystal may be filled. Here, the spacer 110 is formed to overlap the black matrix 104 with the same material as the overcoat layer 108.

배향막(112)은 오버코팅층(108) 상에 형성되어 액정분자를 소정 방향으로 배향시키는 역할을 수행한다. 이때, 배향막(112)은 폴리이미드 등의 유기 배향막을 이용한 러빙공정을 통해 형성되며 액정을 소정 방향으로 정렬시키기 위한 배향홈(미도시)이 형성되어 있다. The alignment layer 112 is formed on the overcoat layer 108 to align the liquid crystal molecules in a predetermined direction. In this case, the alignment layer 112 is formed through a rubbing process using an organic alignment layer such as polyimide, and an alignment groove (not shown) for aligning the liquid crystal in a predetermined direction is formed.

실패턴(114)은 배향막(112) 또는 유리기판(101)의 외주변에 위치하는 블랙 매트릭스(102)와 중첩되도록 형성되어 액정이 충진되는 셀 갭을 형성하는 것으로서, 스크린 인쇄를 통해 실링제를 배향막(112) 또는 블랙 매트릭스(102) 상에 인쇄시킨 후 열처리를 통해 형성된다.The failure turn 114 is formed to overlap the black matrix 102 positioned at the outer periphery of the alignment layer 112 or the glass substrate 101 to form a cell gap in which the liquid crystal is filled. After printing on the alignment layer 112 or the black matrix 102 is formed through heat treatment.

이때, 실패턴(114)은 셀 갭에 충진된 액정이 외부로 유출되는 것을 방지하는 동시에 컬러필터기판과 박막 트랜지스터 기판을 합착시키기 위한 접착력을 제공하는 역할을 또한 수행한다.In this case, the failure turn 114 also prevents the liquid crystal filled in the cell gap from leaking to the outside and also provides an adhesive force for bonding the color filter substrate and the thin film transistor substrate.

이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명에 따른 액정표시장치에 이용되는 컬러필터기판의 제조방법에 대해 상세하게 설명한다.Hereinafter, a manufacturing method of a color filter substrate used in a liquid crystal display device according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

먼저, 도 9a 및 도 9b에 도시된 바와 같이 유리기판(101)의 외주변에 블랙 매트릭스(102)와의 접착력을 강화시키기 위한 거칠기(103)를 처리한다. 여기서, 도 9a는 본 발명에 따른 거칠기(103)가 처리된 기판(101)으로 구성된 컬러필터기판의 평면도 이도, 도 9b는 도 9a에서 Ⅱ-Ⅱ'선을 따라 절취된 컬러필터기판의 단면도이다.First, as shown in FIGS. 9A and 9B, a roughness 103 for enhancing adhesion with the black matrix 102 is disposed on the outer periphery of the glass substrate 101. 9A is a plan view of a color filter substrate composed of a substrate 101 treated with roughness 103 according to the present invention, and FIG. 9B is a cross-sectional view of the color filter substrate cut along the line II-II ′ in FIG. 9A. .

도 9a 및 도 9b에 도시된 바와 같이, 유리기판(101)상에 포토레지스트를 도포한 상태에서 마스크를 이용한 노광 및 에칭공정을 통해 유리기판(101)의 외주변을 노출시키기 위한 포토레지스트 패턴을 형성한다. 이후, 포토 레지스트 패턴에 의해 노출된 유리기판(101)의 외주변을 에칭하여 거칠기(roughness)(103)를 처리한다. 9A and 9B, a photoresist pattern for exposing the outer periphery of the glass substrate 101 through an exposure and etching process using a mask while the photoresist is applied on the glass substrate 101 is shown. Form. Thereafter, the outer periphery of the glass substrate 101 exposed by the photoresist pattern is etched to treat the roughness 103.

이를 보다 구체적으로 설명하면, 도 10a에 도시된 바와 같이, 유리기판(101)상에 감광성 포토레지스트를 전면 도포한 상태에서 거칠기(103)를 처리시에 이용되는 패턴이 형성된 마스크(200)를 이용하여 포토레지스트(PR)에 대한 노광을 수행한다 More specifically, as shown in FIG. 10A, a mask 200 having a pattern used for treating roughness 103 in a state where the photosensitive photoresist is entirely coated on the glass substrate 101 is used. Exposure to photoresist PR is performed.

이후, 노광된 포토레지스트마스크(200)에 대한 에칭공정을 수행함으로써, 도 10b에 도시된 바와 같이, 유리기판(101)의 외주변을 노출시키기 위한 포토레지스트 패턴을 형성한다. Thereafter, an etching process is performed on the exposed photoresist mask 200 to form a photoresist pattern for exposing the outer periphery of the glass substrate 101 as shown in FIG. 10B.

이때, 포토레지스트 패턴에 의해 노출된 유리기판(101)의 외주변에 대해 dp칭액을 이용한 에칭공정을 수행한 후 잔류한 레지스트 패턴을 제거함으로써, 도 10c에 도시된 바와 같이, 유리기판(101)의 외주변에 블랙 매트릭스(102)와의 접착력을 강화시키기 위한 거칠기(roughness)(103)를 처리한다.At this time, by performing an etching process using a dp quenching liquid on the outer periphery of the glass substrate 101 exposed by the photoresist pattern, by removing the remaining resist pattern, as shown in Figure 10c, the glass substrate 101 The roughness 103 for enhancing the adhesion with the black matrix 102 is treated on the outer periphery.

상술한 바와 같이 유리기판(101)의 외주변에 거칠기(103)를 처리한 후, 도 11a 및 도 11b에 도시된 바와 같이, 유리기판(101)상에 셀 영역을 구획하는 동시에 빛샘현상을 방지하는 블랙 매트릭스(102)를 형성한다. 여기서, 도 11a는 본 발명에 따른 블랙 매트릭스가 형성된 컬러필터기판의 평면도이고, 도 11b는 도 11a에서 선 Ⅱ-Ⅱ'을 따라 절취한 컬러필터기판의 단면도이다.After processing the roughness 103 on the outer periphery of the glass substrate 101 as described above, as shown in Figs. 11A and 11B, the cell region is partitioned on the glass substrate 101 at the same time to prevent light leakage phenomenon. The black matrix 102 is formed. FIG. 11A is a plan view of a color filter substrate having a black matrix according to the present invention, and FIG. 11B is a cross-sectional view of the color filter substrate taken along the line II-II 'of FIG. 11A.

도 11a 및 도 11b를 참조하면, 컬러필터기판을 구성하는 유리기판(101)상에 불투명 금속, 예를 들면 크롬(Cr 또는 CrOx) 등의 불투명 금속을 약 1500~2000Å의 두께 및 5~25㎛의 선폭을 갖도록 증착시킨다.11A and 11B, an opaque metal such as chromium (Cr or CrOx) such as opaque metal, such as chromium (Cr or CrOx), is formed on the glass substrate 101 constituting the color filter substrate and has a thickness of about 5 to 25 μm. It is deposited to have a line width of.

이후, 유리기판(101)상에 증착된 불투명 금속에 대해 마스크를 이용한 포토리소그래피공정 및 식각공정을 수행함으로써, 유리기판(101)상에 매트릭스 형태로 형성되어 컬러필터(104)들이 형성될 다수의 셀 영역을 구획하는 동시에 인접한 셀 영역간의 광간섭을 방지하는 역할을 수행하는 블랙 매트릭스(102)를 형성한다.Thereafter, by performing a photolithography process and an etching process using a mask on the opaque metal deposited on the glass substrate 101, a plurality of color filters 104 are formed on the glass substrate 101 in a matrix form. A black matrix 102 is formed to partition the cell region and to prevent optical interference between adjacent cell regions.

이때, 유리기판(101)상에 형성되는 블랙 매트릭스(102)는 절연성 수지를 1.0~1.5㎛의 두께 및 5~25㎛ 선폭을 갖도록 형성한 후 이를 포토리소그래피공정 및 식각공정을 통해 패터닝시킴으로써 형성될 수도 있다.In this case, the black matrix 102 formed on the glass substrate 101 may be formed by forming an insulating resin having a thickness of 1.0 to 1.5 μm and a line width of 5 to 25 μm, and then patterning the insulating resin through a photolithography process and an etching process. It may be.

상술한 바와 같이 유리기판(101)상에 블랙 매트릭스(102)를 형성한 후, 도 12a 및 도 12b에 도시된 바와 같이, 블랙 매트릭스(102)에 의해 구획화된 셀 영역에 컬러필터(104)를 형성한다. 여기서, 도 12a는 본 발명에 따른 컬러필터가 형성된 컬러필터기판의 평면도이고, 도 12b는 도 12a에서 Ⅱ-Ⅱ' 선을 따라 절취된 컬러필터기판의 단면도이다.After the black matrix 102 is formed on the glass substrate 101 as described above, as shown in FIGS. 12A and 12B, the color filter 104 is applied to the cell region partitioned by the black matrix 102. Form. 12A is a plan view of a color filter substrate on which a color filter according to the present invention is formed, and FIG. 12B is a cross-sectional view of the color filter substrate cut along the line II-II ′ in FIG. 12A.

도 12a 및 도 12b를 참조하면, 블랙 매트릭스(102)가 형성된 유리기판(101)상에 적색, 녹색 및 청색을 갖는 감광성 칼라수지를 안료 분사법을 통해 순차적으로 형성한 후 마스크를 이용한 포토리소그래피공정 및 식각공정을 통해 적색 컬러필터(104R), 녹색 컬러필터(104G) 및 청색 컬러필터(104B)로 구성된 컬러필터(104)를 형성한다.12A and 12B, a photolithography process using a mask after sequentially forming a photosensitive color resin having red, green and blue color on the glass substrate 101 on which the black matrix 102 is formed by a pigment spraying method is performed. And a color filter 104 including a red color filter 104R, a green color filter 104G, and a blue color filter 104B through an etching process.

이를 보다 구체적으로 설명하면, 도 13a에 도시된 바와 같이 블랙 매트릭스(102)에 의해 구획화된 유리기판(101)상에 안료 분사법을 이용하여 적색의 감광성 칼라수지를 전면 도포한다.More specifically, as shown in FIG. 13A, the red photosensitive color resin is completely coated on the glass substrate 101 partitioned by the black matrix 102 using the pigment spraying method.

이후, 적색의 감광성 칼라필터에 대해 마스크를 이용한 포토리소그래피공정 및 식각공정을 통해 패터닝을 수행함으로써, 블랙 매트릭스(102)에 의해 구획된 셀영역에 적색을 나타내는 적색 컬러필터(104R)를 형성한다.Thereafter, the red photosensitive color filter is patterned through a photolithography process and an etching process using a mask to form a red color filter 104R representing red in the cell region partitioned by the black matrix 102.

상술한 바와 같이 적색 컬러필터를 형성한 후, 도 13b에 도시된 바와 같이, 유리기판(101)상에 안료 분사법을 이용하여 녹색의 감광성 칼라수지를 전면 도포한다.After the red color filter is formed as described above, as shown in FIG. 13B, the green photosensitive color resin is completely coated on the glass substrate 101 using the pigment spraying method.

이후, 녹색의 감광성 칼라필터에 대해 마스크를 이용한 포토리소그래피공정 및 식각공정을 통해 패터닝을 수행함으로써, 블랙 매트릭스(102)에 의해 구획된 셀영역에 녹색을 나타내는 녹색 컬러필터(104G)를 형성한다. Thereafter, the green photosensitive color filter is patterned through a photolithography process and an etching process using a mask to form a green color filter 104G representing green in the cell region partitioned by the black matrix 102.

상술한 바와 같이 적색 및 녹색 컬러필터를 형성한 후, 도 13c에 도시된 바와 같이, 유리기판(101)상에 안료 분사법을 이용하여 청색의 감광성 칼라수지를 전면 도포한다.After the red and green color filters are formed as described above, as shown in FIG. 13C, the blue photosensitive color resin is completely coated on the glass substrate 101 using the pigment spraying method.

이후, 청색의 감광성 칼라필터에 대해 마스크를 이용한 포토리소그래피공정 및 식각공정을 통해 패터닝을 수행함으로써, 블랙 매트릭스(102)에 의해 구획된 셀영역에 청색을 나타내는 청색 컬러필터(104B)를 형성하여 유리기판(101)상에 최종적인 컬러필터(104)를 형성한다. Subsequently, the blue photosensitive color filter is patterned through a photolithography process and an etching process using a mask to form a blue color filter 104B representing blue in the cell region partitioned by the black matrix 102 to form glass. The final color filter 104 is formed on the substrate 101.

상술한 바와 같이 블랙 매트릭스에 의해 구획된 다수의 셀 영역에 컬러필터를 형성한 후, 도 14a 및 도 14b에 도시된 바와 같이, 유리기판(101)상에 액정을 구동시키기 위한 수직전계를 형성하는 공통전극(106)을 형성한다. 여기서, 도 14a는 공통전극(106)이 형성된 컬러필터기판의 평면도이고, 도 14b는 Ⅱ-Ⅱ' 선을 따라 절취된 컬러필터기판의 단면도이다.After the color filter is formed in the plurality of cell regions partitioned by the black matrix as described above, as shown in FIGS. 14A and 14B, a vertical electric field for driving the liquid crystal on the glass substrate 101 is formed. The common electrode 106 is formed. FIG. 14A is a plan view of the color filter substrate on which the common electrode 106 is formed, and FIG. 14B is a cross-sectional view of the color filter substrate cut along the line II-II '.

도 14a 및 도 14b를 참조하면, 컬러필터(104)가 형성된 유리기판(101)상에 타겟으로 설정된 도전성 금속에 대한 스퍼터링 공정을 수행함으로써, 유리기판(101)상에 화소전극과 함께 수직전계를 형성하는 공통전극(106)을 형성한다. 여기서, 공통전극(106)은 박막 트랜지스터 기판에 형성된 은 도트 패턴과 전기적으로 연결되어 수직전계를 형성시에 이용되는 기준전압을 인가받는다.Referring to FIGS. 14A and 14B, a vertical electric field is formed on a glass substrate 101 together with a pixel electrode by performing a sputtering process for a conductive metal set as a target on the glass substrate 101 on which the color filter 104 is formed. The common electrode 106 to be formed is formed. Here, the common electrode 106 is electrically connected to the silver dot pattern formed on the thin film transistor substrate to receive a reference voltage used in forming a vertical electric field.

따라서, 박막 트랜지스터를 통해 화소 신호가 공급된 화소전극과 은 도트 패턴을 통해 공통전극(106)에 기준 전압이 공급됨에 따라, 공통전극(106)과 화소전극 사이에는 액정을 구동시키기 위한 수직전계가 형성되고, 이러한 수직전계는 박막 트랜지스터 기판과 칼라 필터 기판 사이에서 위치하는 액정 분자들을 소정 방향으로 회전시켜 광 투과율을 변화시킴으로써 화상을 구현시킨다. Therefore, as the reference voltage is supplied to the common electrode 106 through the pixel electrode supplied with the pixel signal through the thin film transistor and the silver dot pattern, a vertical electric field for driving the liquid crystal is provided between the common electrode 106 and the pixel electrode. The vertical electric field is formed to rotate the liquid crystal molecules positioned between the thin film transistor substrate and the color filter substrate in a predetermined direction to change the light transmittance, thereby realizing an image.

상술한 바와 같이 공통전극을 형성한 후, 도 15a 및 도 15b에 도시된 바와 같이, 유리기판(101)상에 컬러필터(104)에 의해 형성된 단차를 제거하여 평탄화하기 위한 오버코팅층(108)을 형성한다. 여기서, 도 15a는 본 발명에 따른 오버코팅층이 형성된 컬러필터기판의 평면도이고, 도 15b는 도 15a에서 Ⅱ-Ⅱ' 선을 따라 절취된 컬러필터기판의 단면도이다.After forming the common electrode as described above, as shown in FIGS. 15A and 15B, the overcoating layer 108 for removing and leveling the step formed by the color filter 104 on the glass substrate 101 is planarized. Form. FIG. 15A is a plan view of a color filter substrate on which an overcoating layer according to the present invention is formed, and FIG. 15B is a cross-sectional view of the color filter substrate cut along the line II-II ′ in FIG. 15A.

도 15a 및 도 15b를 참조하면, 공통전극이 형성된 유리기판(101)상에 해당 컬러필터(104)에 의해 형성된 단차를 보상하기 위해 열경화성 수지, 보다 구체적으로는 폴리 디메틸 실옥산 등과 같은 열경화성 수지를 전면 형성한다.15A and 15B, in order to compensate for the step formed by the color filter 104 on the glass substrate 101 on which the common electrode is formed, a thermosetting resin, more specifically, a thermosetting resin such as polydimethyl siloxane; Forms the front.

이후, 유리기판(101)상에 형성된 열경화성 수지에 대해 마스크를 이용한 포토리소그래피공정 및 식각공정을 통해 패터닝을 수행함으로써, 컬러필터(104)에 의해 유리기판(101)상에 형성된 단차를 제거하기 위한 오버코팅층(108)을 형성한다. 이때, 오버코팅층(108)은 공통전극(106)이 유리기판(101)상에 평탄하게 형성되는 경우에는 생략할 수도 있다.Thereafter, the thermosetting resin formed on the glass substrate 101 is patterned through a photolithography process and an etching process using a mask to remove the step formed on the glass substrate 101 by the color filter 104. Overcoat layer 108 is formed. In this case, the overcoat layer 108 may be omitted when the common electrode 106 is formed flat on the glass substrate 101.

여기서, 오버 코팅층(108)은 컬러필터(104)에 의해 유리기판(101)상에 형성되는 단차를 제거함으로써, 후속공정을 통해 형성되는 배향막(112)이 평탄한 형상 으로 유리기판(101)상에 형성될 수 있도록 하는 역할을 또한 수행한다.Here, the overcoating layer 108 removes the step formed on the glass substrate 101 by the color filter 104, so that the alignment layer 112 formed through the subsequent process is flat on the glass substrate 101. It also plays a role to be formed.

스페이서(110)는 컬러필터기판과 박막 트랜지스터기판 사이에 액정이 충진될 수 있도록 하는 셀갭을 유지시키는 역할을 수행한다. 이때, 스페이서(110)는 오버코팅층(108)과 동일물질로 블랙 매트릭스(102)와 중첩되도록 형성된다.The spacer 110 maintains a cell gap that allows liquid crystal to be filled between the color filter substrate and the thin film transistor substrate. In this case, the spacer 110 is formed to overlap the black matrix 102 with the same material as the overcoat layer 108.

상술한 바와 같이, 오버 코팅층(108) 및 스페이서(110)를 형성한 후, 도 16a 및 도 16b에 도시된 바와 같이, 오버코팅층(108) 상에 소정 방향으로 액정을 배향시키기 위한 배향막(112)을 형성한다. 여기서, 도 16a는 본 발명에 따른 배향막(110)이 형성된 컬러필터기판의 평면도이고, 도 16b는 도 16a에서 Ⅱ-Ⅱ' 선을 따라 절취된 컬러필터기판의 단면도이다.As described above, after the overcoat layer 108 and the spacer 110 are formed, the alignment layer 112 for orienting the liquid crystal in a predetermined direction on the overcoat layer 108 as shown in FIGS. 16A and 16B. To form. 16A is a plan view of a color filter substrate on which an alignment layer 110 according to the present invention is formed, and FIG. 16B is a cross-sectional view of the color filter substrate cut along the line II-II 'of FIG. 16A.

도 16a 및 도 16b를 참조하면, 오버 코팅층(108)이 형성된 유리기판(101)상에 배향막(108)을 형성시에 이용되는 폴리이미드 등의 유기 배향막을 전면 도포한다. 이후, 유기 배향막에 대한 러빙공정을 수행함으로써 소정 방향으로 액정을 배향시키는 배향홈을 갖는 배향막(112)을 형성한다.Referring to FIGS. 16A and 16B, an organic alignment film such as polyimide used for forming the alignment film 108 on the glass substrate 101 on which the overcoating layer 108 is formed is coated on the entire surface. Thereafter, an alignment film 112 having an alignment groove for aligning the liquid crystal in a predetermined direction is formed by performing a rubbing process on the organic alignment film.

상술한 바와 같이 배향막(110)을 형성한 후, 도 17a 및 도 17b에 도시된 바와 같이, 유리기판(101)상에 액정을 충진시키기 위한 셀갭을 형성하는 동시에 접착력을 제공하는 실패턴(114)을 형성한다. 여기서, 도 17a는 본 발명에 따른 실패턴이 형성된 컬러필터기판의 평면도이고, 도 17b는 도 17a에서 Ⅱ-Ⅱ' 선을 따라 절취된 컬러필터기판의 단면도이다.After the alignment layer 110 is formed as described above, as shown in FIGS. 17A and 17B, a failure turn 114 that forms an cell gap for filling liquid crystal on the glass substrate 101 and provides adhesive force is also performed. To form. 17A is a plan view of a color filter substrate on which a failure turn is formed according to the present invention, and FIG. 17B is a cross-sectional view of the color filter substrate cut along the line II-II 'of FIG. 17A.

도 17a 및 17b를 참조하면, 유기기판(101)상에 형성된 배향막(110) 또는 블랙 매트릭스(102) 상에 스크린을 이용하여 실링제를 인쇄시킨다.Referring to FIGS. 17A and 17B, a sealing agent is printed on the alignment layer 110 or the black matrix 102 formed on the organic substrate 101 using a screen.

이후, 소정의 열처리 환경, 예를 들면 95도의 온도에서 액 600초 동안 실링제에 대한 열처리를 수행함으로써, 박막 트랜지스터 기판과 컬러필터기판 사이에 액정을 충진시키기 위한 셀갭을 형성하고, 셀갭에 충진된 액정이 외부로 유출되는 것을 방지하는 동시에 기판을 접착시키는 실패턴(114)을 형성한다.Thereafter, heat treatment is performed on the sealing agent for 600 seconds in a predetermined heat treatment environment, for example, at a temperature of 95 degrees, thereby forming a cell gap for filling the liquid crystal between the thin film transistor substrate and the color filter substrate, and filling the cell gap. A failure turn 114 for adhering the substrate is formed while preventing the liquid crystal from leaking out.

따라서, 본 발명에 따른 컬러필터기판의 경우, 유리기판(101)의 외주변에 처리된 거칠기(103)를 통해 블랙 매트릭스(102)와의 접착력을 강화시킴으로써 외력에 의해 블랙 매트릭스(102)가 뜯어지는 현상을 방지하고, 이에 의해 블랙 매트릭스 (102)상에 형성된 실패턴(seal pattern)(114)이 파손되는 것을 방지할 수 있다. Therefore, in the case of the color filter substrate according to the present invention, the black matrix 102 is torn off by external force by strengthening the adhesive force with the black matrix 102 through the roughness 103 processed on the outer periphery of the glass substrate 101. It is possible to prevent the phenomenon, thereby preventing the failure pattern 114 formed on the black matrix 102 from being broken.

상술한 바와 같이 본 발명에 따른 컬러필터기판 및 그 제조방법은, 유리기판의 주변부에 거칠기를 처리하여 블랙 매트릭스와의 접착력을 강화시킴으로써, 외력에 의해 블랙 매트릭스가 유리기판으로부터 뜯어지는 현상을 방지할 수 있다는 효과를 갖는다.As described above, the color filter substrate and the method of manufacturing the same according to the present invention process the roughness on the periphery of the glass substrate to enhance the adhesion with the black matrix, thereby preventing the black matrix from being peeled from the glass substrate by external force. Has the effect that it can.

또한, 본 발명은 유리기판의 주변부에 처리된 거칠기에 의해 블랙 매트릭스와의 접착력이 강화됨에 따라, 외력에 의해 블랙 매트릭스 상에 형성되는 실패턴(seal pattern)이 터지는 것을 방지할 수 있다는 효과를 갖는다.In addition, the present invention has an effect of preventing the failure pattern formed on the black matrix from bursting by the external force, as the adhesion to the black matrix is enhanced by the roughness processed on the periphery of the glass substrate. .

이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여져야만 할 것이다.Those skilled in the art will appreciate that various changes and modifications can be made without departing from the technical spirit of the present invention. Therefore, the technical scope of the present invention should not be limited to the contents described in the detailed description of the specification but should be defined by the claims.

Claims (9)

주변부에 접착력을 강화시키기 위한 거칠기(roughness)가 처리된 기판;A substrate treated with roughness to enhance adhesion to the periphery; 상기 기판상에 형성되어 셀 영역을 구획하는 동시에 빛샘현상을 방지하는 블랙 매트릭스; A black matrix formed on the substrate to partition a cell region and prevent light leakage; 상기 블랙 매트리스에 의해 구획된 셀 영역에 형성된 컬러필터; A color filter formed in a cell region partitioned by the black mattress; 상기 컬러필터 상에 형성되어 액정 배향을 위한 수직전계를 형성하는 공통전극; A common electrode formed on the color filter to form a vertical electric field for liquid crystal alignment; 상기 공통전극 상에 형성되며 소정 방향으로 액정을 배향시키는 배향막; 및 An alignment layer formed on the common electrode to orient the liquid crystal in a predetermined direction; And 상기 블랙 매트릭스 상에 중첩되게 형성되며 셀 갭에 충진된 액정이 외부로 유출되는 것을 방지하는 동시에 접착력을 제공하는 실패턴(seal pattern)을 포함하고,It is formed to overlap on the black matrix and comprises a seal pattern (seal pattern) to prevent adhesion of the liquid crystal filled in the cell gap to the outside while providing adhesive force, 상기 기판의 주변부에 형성된 거칠기는 블랙 매트릭스와의 접착력을 강화시키는 것을 특징으로 하는 컬러필터기판.The roughness formed on the periphery of the substrate is characterized in that to enhance the adhesive force with the black matrix. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 공통전극 상에 컬러필터에 의해 형성된 단차를 제거하기 위한 오버코팅층; 및 An overcoat layer for removing a step formed by a color filter on the common electrode; And 상기 오버코팅층과 동시에 형성되어 액정이 충진되는 셀 갭을 유지시키는 스페이서를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 컬러필터기판.And a spacer formed at the same time as the overcoating layer to maintain a cell gap in which liquid crystal is filled. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 기판의 주변부에 처리된 거칠기(roughness)는 마스크 공정을 통해 상기 주변부의 표면을 에칭하여 형성된 것을 특징으로 하는 컬러필터기판.The roughness processed on the periphery of the substrate is formed by etching the surface of the periphery through a mask process. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 실패턴(seal pattern)은 실링제를 이용한 스크린 인쇄를 통해 형성되는 것을 특징으로 하는 컬러필터기판.The seal pattern is a color filter substrate, characterized in that formed through screen printing using a sealing agent. 기판의 주변부에 접착력을 강화시키기 위한 거칠기를 처리하는 단계;Processing roughness to enhance adhesion to the periphery of the substrate; 상기 기판상에 셀 영역을 구획하는 동시에 빛샘현상을 방지하는 블랙 매트릭스를 형성하는 단계; Forming a black matrix on the substrate that partitions the cell region and prevents light leakage; 상기 블랙 매트리스에 의해 구획된 셀 영역에 컬러필터를 형성하는 단계; Forming a color filter in a cell region partitioned by the black mattress; 상기 컬러필터 상에 형성되어 액정 배향을 위한 수직전계를 형성하는 공통전극을 형성하는 단계; Forming a common electrode formed on the color filter to form a vertical electric field for liquid crystal alignment; 상기 공통전극 상에 형성되며 소정 방향으로 액정을 배향시키는 배향막을 형성하는 단계; 및 Forming an alignment layer formed on the common electrode to orient the liquid crystal in a predetermined direction; And 상기 블랙 매트릭스 상에 중첩되게 형성되며 셀 갭에 충진된 액정이 외부로 유출되는 것을 방지하는 동시에 접착력을 제공하는 실패턴을 형성하는 단계를 포함하고,Forming a failure turn formed to overlap on the black matrix and preventing adhesion of liquid crystal filled in the cell gap to the outside and at the same time providing adhesion; 상기 기판의 주변부에 형성된 거칠기는 블랙 매트릭스와의 접착력을 강화시키는 것을 특징으로 하는 컬러필터기판의 제조방법.The roughness formed on the periphery of the substrate is a manufacturing method of the color filter substrate, characterized in that to enhance the adhesion with the black matrix. 제 5 항에 있어서, 상기 공통전극을 형성하는 단계 이후에, The method of claim 5, wherein after forming the common electrode, 상기 컬러필터에 의해 형성된 단차를 제거하여 기판을 평탄화시키는 오버 코팅층을 형성하는 단계; 및 Forming an overcoating layer to planarize the substrate by removing the step formed by the color filter; And 상기 오버 코팅층과 동시에 형성되어 액정이 충진될 셀 갭을 유지시키는 스페이서를 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 컬러필터기판의 제조방법.And forming a spacer formed at the same time as the overcoating layer to maintain a cell gap in which liquid crystal is filled. 제 5 항에 있어서, 상기 기판의 주변부에 거칠기(roughness)를 처리하는 단계는,The method of claim 5, wherein the processing of the roughness on the periphery of the substrate comprises: 상기 기판상에 포토레지스트를 도포하는 단계;Applying a photoresist on the substrate; 마스크를 이용하여 포토레지스트를 노광 및 에칭하여 상기 기판의 주변부를 노출시키는 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계;Exposing and etching the photoresist using a mask to form a photoresist pattern exposing the periphery of the substrate; 상기 포토레지스트 패턴에 의해 노출된 기판의 주변부를 에칭하는 단계; 및 Etching peripheral portions of the substrate exposed by the photoresist pattern; And 상기 기판의 주변부에 잔류한 포토레지스트 패턴을 제거하여 주변부에 거칠기를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 컬러필터기판의 제조방법.Removing the photoresist pattern remaining in the periphery of the substrate to form a roughness in the periphery. 제 5 항에 있어서, 상기 실패턴(seal pattern)을 형성하는 단계는,The method of claim 5, wherein forming the seal pattern comprises: 상기 기판의 주변부에 중첩되어 위치하는 블랙 매트릭스 상에 실링제를 형성하는 단계; 및 Forming a sealing agent on a black matrix positioned overlapping the periphery of the substrate; And 상기 블랙 매트릭스 상에 형성된 실링제를 어닐링 처리하여 경화시키는 단계를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 컬러필터기판의 제조방법.And annealing and curing the sealing agent formed on the black matrix. 제 8 항에 있어서,The method of claim 8, 상기 블랙 매트릭스 상에 형성되는 실링제는 스크린 인쇄를 통해 형성되는 것을 특징으로 하는 컬러필터기판의 제조방법.The sealing agent formed on the black matrix is a method of manufacturing a color filter substrate, characterized in that formed through screen printing.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN104360532A (en) * 2014-12-02 2015-02-18 京东方科技集团股份有限公司 Color film base plate, manufacturing method of color film base plate, liquid crystal panel and display device

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