KR20070057573A - 액정 표시 장치의 제조 방법 - Google Patents

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KR20070057573A
KR20070057573A KR1020050117195A KR20050117195A KR20070057573A KR 20070057573 A KR20070057573 A KR 20070057573A KR 1020050117195 A KR1020050117195 A KR 1020050117195A KR 20050117195 A KR20050117195 A KR 20050117195A KR 20070057573 A KR20070057573 A KR 20070057573A
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서덕종
전백균
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삼성전자주식회사
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Abstract

편광 기능이 우수한 편광막을 포함하는 액정 표시 장치의 제조 방법이 제공된다. 액정 표시 장치의 제조 방법은, 투명 기판 상에 이색성 염료를 형성하는 단계와, 이색성 염료는 건조하는 단계와, 이색성 염료를 러빙하여 편광막을 완성하는 단계를 포함한다.
LCD, 편광막, 러빙

Description

액정 표시 장치의 제조 방법{Method of fabricating liquid crystal display}
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 방법에 의해 제조된 액정 표시 장치의 단면도이다.
도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따른 방법에 의해 제조된 액정 표시 장치의 단면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법에 포함되는 편광막의 제조 과정을 나타내는 공정 순서도이다.
도 4는 도 3의 편광막을 러빙하는 러빙 장치를 개략적으로 나타낸 도면이다.
(도면의 주요부분에 대한 부호의 설명)
10: 편광막 20: 배향막
33: 박막 트랜지스터 표시판 34: 공통 전극 표시판
100: 액정 표시 장치 110: 상부 투명 기판
112: 블랙 매트릭스 114: 색 필터
116: 공통 전극 130: 액정층
132: 실라인 150: 하부 투명 기판
152: 게이트 전극 154: 게이트 절연막
156: 액티브층 158: 소스 전극
160: 드레인 전극 162: 보호막
164: 화소 전극 410: 스테이지
420: 투명 기판 430: 편광막
440: 롤러 450: 러빙천
본 발명은 액정 표시 장치의 제조 방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 코팅 방식을 이용하여 형성된 편광막을 포함하는 액정 표시 장치의 제조 방법에 관한 것이다.
일반적인 액정 표시 장치는 한 쌍의 기판 내에 삽입된 액정과 기판 내부에 형성된 액정 제어용 전극 등을 갖는 액정 패널과, 광원 및 광원으로부터 나온 빛을 액정 패널 전달하기 위한 백라이트 유니트로 구성된다.
액정 표시 소자에서 별도의 광원이 필요한 이유는 액정 표시 장치는 유기EL(OLED, organic light emitting diode)이나 PDP(plasma display panel) 등 다른 디스플레이와 달리 자체 발광하지 않고, 한 쌍의 기판에 형성된 전극을 이용하여 액정의 움직임을 제어하는 것을 통해서 광원으로부터의 빛을 차단하거나 투과시킴으로써 디스플레이를 구현하기 때문이다. 이러한 광학적인 시스템 구성에서 기판의 바깥 면에 부착된 상부 및 하부 편광판은 일정 방향으로 진동하는 빛만을 통과시킴 으로써 액정이 빛을 제어하기 용이하도록 만들어 준다.
일반적인 편광판의 구조는, 고분자 편광 매질인 폴리비닐알코올(poly-vinyl alcohol)층을 중심으로 상하 양면에 트리아세틸 셀룰로오스(TAC: triacetyl cellulous) 지지체층이 부착되고, 상측 지지체층 위에는 상측 보호막이 부착되며, 하측 지지체층 위에는 접착층과 하부 보호막이 차례로 부착된다. 이러한 적층 구조로 인해서 편광판 자체의 두께는 0.2~0.3 mm로 기판의 바깥 면에 부착된다.
상기에 설명한 편광판은 액정 표시 장치의 대형화에 따라 편광판 자체의 대형화의 어려움과 편광판 부착 공정 중의 불량으로 인한 수율 저하 및 원가 상승의 문제를 발생시켜 왔다.
이러한 문제점을 해결하기 위해 편광판을 별도로 제작하여 기판 상에 부착하는 방식이 아닌, 플라스틱이나 유리 기판 위에 수용성 유기 염료(soluble organic dyestuff)를 코팅하여 편광막을 직접 형성하는 기술이 개발되어 왔다. 그러나 이러한 코팅 방식을 액정 표시 장치에 적용하는 경우에는 바깥 면에 편광판을 부착하는 경우와 비교해서, 유리 혹은 플라스틱 기판이 직접 외부에 노출되어 파손 및 긁힘에 취약하게 된다. 더구나, 반사되어 나오는 외부광에 의해 눈부심 현상이 발생할 뿐 아니라, 백라이트 유니트(backlight unit)의 광학 시트류와 패널 간의 간섭으로 인한 모아레(moire) 현상에 직접적으로 노출되어 이로 인한 표시 품질의 저하를 유발하는 문제점이 있다.
더욱이 편광판과 비교하여 코팅된 편광막은 대체적으로 편광 기능이 떨어지는 문제가 있다. 이는 편광막 제조 공정 시에 이색성 염료에 인가되는 전단 응력 (shear stress)이 균일하지 못하여 염료의 배열이 깨지기 때문이다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 편광 기능이 우수한 편광막을 포함하는 액정 표시 장치의 제조 방법을 제공하고자 하는 것이다.
본 발명의 기술적 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법은, 투명 기판 상에 이색성 염료를 형성하는 단계와, 상기 이색성 염료는 건조하는 단계와, 상기 이색성 염료를 러빙하여 편광막을 완성하는 단계를 포함한다.
기타 실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.
이하 도 1 내지 도 4를 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세히 설명한다.
우선 도 1을 참조하여 본 발명의 액정 표시 장치를 구성하는 공통 전극 표시판과 박막 트랜지스터 표시판에 대하여 구체적으로 설명한다. 도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 방법에 의해 제조된 액정 표시 장치의 단면도이다.
도 1을 참조하면, 액정 표시 장치(100)는 박막 트랜지스터 표시판(33), 박막 트랜지스터 표시판(33)과 대향하여 구비되는 공통 전극 표시판(34), 및 박막 트랜지스터 표시판(33)과 공통 전극 표시판(34) 사이에 개재된 액정층(130)을 포함한다.
여기서 박막 트랜지스터 표시판(33)은 절연성 재질의 하부 투명 기판(150) 상에 다수의 박막 트랜지스터 어레이 및 화소 전극(164)을 구비한다. 여기서 박막 트랜지스터 어레이는 하부 투명 기판(150) 상에 형성된 게이트 전극(152), 소스 전극(158) 및 드레인 전극(160) 등으로 이루어진다. 게이트 전극(152), 소스 전극(158) 및 드레인 전극(160)으로는 알루미늄(Al), 크롬(Cr) 또는 몰리브덴 텅스텐(MoW) 등의 도전막을 사용할 수 있다.
이러한 박막 트랜지스터 어레이 상부에는 드레인 전극(160)을 노출시키기 위한 콘택홀을 갖는 보호막(162)이 형성된다. 보호막(162)은 유기 절연막으로 이루어질 수 있으며, 예를 들어 아크릴계 수지로 이루어진 감광성 절연 물질로 이루어질 수 있다.
보호막(162) 상에는 콘택홀을 통해 드레인 전극(160)과 전기적으로 접촉되는 화소 전극(164)이 균일한 두께로 적층된다. 화소 전극(164)은 투명성 도전 물질인 인듐 틴 옥사이드(Indium Tin Oxide; 이하, ITO) 또는 인듐 징크 옥사이드(Indium Zinc Oxide; 이하, IZO)로 이루어진 투명 전극이다.
그리고 화소 전극(164) 상에는 편광막(10)이 형성되고, 편광막(10) 상에는 배향막(orientation layer)(20)이 적층된다. 배향막(20)은 유기질의 폴리이미드(polyimide) 계열이 주로 사용될 수 있다. 미설명된 도면 부호 154는 게이트 절연막이고, 도면 부호 156은 액티브층이다.
공통 전극 표시판(34)은 상부 투명 기판(110) 상에 형성된 블랙 매트릭스(112), 색 필터(114), 공통 전극(116)을 포함한다.
구체적으로 상부 투명 기판(110) 상에 R(Red), G(Green), B(Blue)로 이루어진 색 필터(114)가 구비된다. 그리고 박막 트랜지스터 어레이와 대향하는 위치에는 블랙 매트릭스(112)가 형성되어 난반사되는 빛을 흡수하는 역할을 한다. 색 필터(114) 상에는 공통 전극(116)이 균일한 두께로 적층된다. 여기서 공통 전극(116)은 투명성 도전 물질인 ITO 또는 IZO로 이루어진 투명 전극이다.
그리고 공통 전극(116) 상에는 편광막(10)이 형성되고, 편광막(10) 상에는 배향막(20)이 적층된다. 박막 트랜지스터 표시판(33)과 공통 전극 표시판(34) 상에 형성된 배향막(20)에 의해 박막 트랜지스터 표시판(33)과 공통 전극 표시판(34) 사이에 개재된 액정층(130) 내의 액정 분자들은 선택된 각으로 프리틸팅(pre-tilting)된다.
박막 트랜지스터 표시판(33)과 공통 전극 표시판(34)의 가장자리 결합부에는 실라인(seal line)(132)이 형성된다. 실라인(132)은 박막 트랜지스터 표시판(33)과 공통 전극 표시판(34) 사이에 액정이 개재되기 위한 갭을 형성하고 액정이 새지 않게 하는 기능을 수행한다. 이러한 실라인(132)은 열경화성 에폭시(epoxy) 수지 등을 일정하게 원하는 패턴으로 형성한 것이다.
이와 같은 편광막(10)은 화소 전극(164) 및 공통 전극(116)과 같은 투명 전극 상에 코팅 또는 인쇄 등의 방법으로 형성된다. 편광막(10)은 이색성(dichroism)을 가지는 염료를 이용하여 형성된다. 이러한 편광막(10)의 재료로는 PPMA(Poly Methyl MethAcrylate), PC(Poly Carbonate), 요오드(iodine), 설포 엑시드(sulfo-acid)계 염료 또는 다이설포 엑시드(disulfo-acid)계 염료 등을 사용할 수 있다. 여기서 설포 엑시드계 염료 또는 다이설포 엑시드계 염료는 미국 특허 제5,739,296호 및 제6,049,428호에 개시되어 있는 이색성 편광물질을 사용할 수 있으며, 상기 특허들은 본 명세서에 충분히 개시된 것처럼 원용되어 통합된다. 또한 편광막(10)은 디스코틱(discotic) 액정으로 이루어지는 것이 바람직하며, 편광막(10)은 약 0.1 - 10 ㎛의 두께로 형성될 수 있다.
투명 전극 상에 코팅된 편광막(10)의 편광 기능을 높이기 위해 편광막(10)을 러빙(rubbing)하게 되는데 이 경우 편광막(10)이 배향막(20)의 역할까지 수행하게 되므로 도 2에 도시된 액정 표시 장치와 같이 배향막을 생략할 수 있다. 여기서 도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따른 방법에 의해 제조된 액정 표시 장치의 단면도이다.
이상과 같이 편광막(10)은 투명 전극(116, 164)이나 배향막(20)의 형성과 같 이 박막 트랜지스터 표시판(33)과 공통 전극 표시판(34)의 내부 구조를 형성할 때에 액정 표시 장치(100)의 내부에 코팅 방식으로 형성할 수도 있으며, 투명 기판의 외부에 형성할 수도 있다. 이하 설명의 편의를 위하여 도 1 또는 도 2에 도시된 바와 같이 액정 표시 장치(100)의 내부에 코팅된 편광막(10)을 이용하여 본 발명을 설명한다.
이하 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법에 대하여 설명한다.
박막 트랜지스터 표시판(33)의 형성 방법을 설명하면, 유리 또는 세라믹과 같은 절연 물질로 이루어진 하부 투명 기판(150) 상에 알루미늄(Al), 크롬(Cr) 또는 몰리브덴 텅스텐(MoW) 등의 금속막을 증착한 후, 이러한 금속막을 패터닝하여 게이트 라인(미도시) 및 게이트 라인으로부터 분기되는 게이트 전극(152)을 형성한다. 이어서 게이트 전극(152)을 포함하는 하부 투명 기판(150)의 전면에 실리콘 질화물을 증착하여 게이트 절연막(154)을 형성한다.
게이트 절연막(154) 상에 비정질 실리콘막을 형성한 후, 패터닝하여 게이트 전극(152) 윗부분의 게이트 절연막(154) 상에 액티브층(156)을 형성한다.
계속해서, 상기 결과물의 전면에 알루미늄(Al), 크롬(Cr) 또는 몰리브덴 텅스텐(MoW) 등의 금속막을 증착한 후, 이러한 금속막을 패터닝하여 게이트 라인에 직교하는 데이터 라인(미도시)과, 데이터 라인으로부터 분기되는 소스 전극(158) 및 드레인 전극(160)을 형성한다. 따라서 게이트 전극(152), 액티브층(156), 소스 전극(158) 및 드레인 전극(160)을 포함하는 박막 트랜지스터 어레이가 완성된다. 이때, 게이트 라인과 데이터 라인 사이에는 게이트 절연막(154)이 개재되어 게이트 라인이 데이터 라인과 접촉되는 것을 방지한다.
이어서 박막 트랜지스터 어레이가 형성된 하부 투명 기판(150)의 전면에 레지스트를 약 1∼3㎛의 두께로 도포하여 유기물로 이루어진 단층 구조 또는 무기물 및 유기물로 이루어진 다층 구조의 보호막(162)을 형성한다. 그리고, 사진/식각 공정을 통하여 보호막(162) 상에 드레인 전극(160)을 부분적으로 노출시키는 콘택 홀을 형성한다.
그리고 보호막(162) 상에 금속막, 예컨대 반사 도전막 또는 투명 도전막 또는 반사 도전막과 투명 도전막이 적층된 금속막을 증착한 후, 이러한 금속막을 소정의 화소 형상으로 패터닝하여 화소 전극(164)을 형성한다.
계속해서 화소 전극(164) 상에 편광막(10)을 형성한다. 편광막(10)의 제조 방법에 대해서는 이후 도 3 및 도 4를 참조하여 자세히 설명한다.
이어서 편광막(10) 상에 레지스트를 도포하고 러빙(rubbing) 처리 등을 통해 액정층내의 액정 분자들을 선택된 각으로 프리틸팅시키는 배향막(20)을 선택적으로 형성한다. 배향막(20)은 하부 투명 기판(150) 상에 균일한 두께로 증착되어야 하고, 러빙 또한 균일해야 한다. 또한 러빙은 액정의 초기 배열 방향을 결정하는 주요한 공정으로, 배향막(20)의 러빙에 의해 정상적인 액정의 구동이 가능하고, 균일한 디스플레이 특성을 갖게 된다. 이러한 배향막(20)은 유기질의 폴리이미드(polyimide) 계열이 주로 쓰이고 있다.
상술한 공정을 수행하여, 게이트 전극(152), 게이트 절연막(154), 액티브층 (156), 소스 전극(158) 및 드레인 전극(160)을 포함하는 박막 트랜지스터 표시판(33)이 완성된다.
또한 하부 투명 기판(150)과 동일한 물질로 구성된 상부 투명 기판(110) 상에 색 필터(114), 공통 전극(116), 편광막(10) 및 배향막(20)을 형성하여, 상기 소자들을 포함하는 공통 전극 표시판(34)을 형성한다.
이어서, 박막 트랜지스터 표시판(33)의 가장자리에 열경화성 실라인(132)을 개재한다. 실라인(132)이 형성되는 영역은 박막 트랜지스터 표시판(33)에서 박막 트랜지스터 어레이를 포함하지 않는 영역이다. 열경화성 실라인(132)은 열을 가함으로써 두 물체를 합착시킬 수 있는 물질이다. 다만, 본 발명의 실라인(132)은 열경화성 수지뿐만 아니라, 광경화성 수지도 포함될 수 있으나, 열경화성 수지를 중심으로 설명하기로 한다.
실라인(132)이 도포된 박막 트랜지스터 표시판(33)과 공통 전극 표시판(34)을 서로 대향하도록 배치시켜 열을 가하면서 두 기판을 접합한다.
이후, 공통 전극 표시판(34)과 박막 트랜지스터 표시판(33)이 합착된 상태에서, 공통 전극 표시판(34)과 박막 트랜지스터 표시판(33) 사이 공간에 액정 물질을 주입하여 액정층(130)을 형성함으로써, 액정 표시 장치를 완성한다.
액정층(130)을 형성하는 단계는 공통 전극 표시판(34)과 박막 트랜지스터 표시판(33)을 합착시키기 이전에, 정확하게는 공통 전극 표시판(34)과 박막 트랜지스터 표시판(33)을 서로 대향하도록 배치시킨 이후에 액정 물질을 공통 전극 표시판(34) 또는 박막 트랜지스터 표시판(33) 상에 적하(dropping)하여 형성할 수도 있 다.
이하 도 3 및 도 4를 참조하여 편광막 제조 방법을 설명한다. 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법에 포함되는 편광막의 제조 과정을 나타내는 공정 순서도이다. 도 4는 도 3의 편광막을 러빙하는 러빙 장치를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 3에 도시된 바와 같이 우선 공통 전극 표시판(34) 또는 박막 트랜지스터 표시판(33)과 같은 투명 기판 상에 공통 전극(116) 또는 화소 전극(164)과 같은 투명 전극으로 형성한다(S310).
이어서 투명 전극 상에 편광막을 형성한다(S320). 구체적으로 편광막 형성 공정을 살펴보면 다음과 같다.
우선 이색성 염료를 용매(solvent)에 첨가하여 농도전이형 액정(lyotropic liquid crystal)상을 만든 후, 이색성 염료에 전단 응력(shear stress)을 가하면서 투명 전극 상에 코팅한다(S302). 여기서 염료를 코팅하기 위해 스핀 코팅법을 사용하거나 인쇄법 등을 사용할 수 있다.
그리고 코팅된 염료에 대하여 예비 러빙을 수행한다(S324). 이러한 예비 러빙 공정은 염료의 코팅 공정에서 불규칙적으로 배열된 액정상의 염료를 정렬하는 공정이다. 이는 편광막의 편광 기능을 높이는 역할을 한다. 이러한 예비 러빙 공정은 후속하는 러빙 공정에 의해 선택적으로 생략될 수 있다.
이 후 코팅된 염료를 건조하여 용매를 증발시켜 염료를 경화시킨다(S326). 건조 온도는 예를 들어 약 50 - 250℃로 한다.
경화된 염료에 대하여 러빙을 수행하여 편광막을 완성한다(S328). 이러한 러빙 공정은 염료의 건조 공정에서 다시 염료를 배열이 불규하게 된 것을 재정렬하는 공정이다. 이는 편광막의 편광 기능을 더욱 높이는 역할을 한다.
이 후 선택적으로 편광막 상에 배향막을 형성할 수 있다.
앞서 언급한 예비 러빙 공정과 러빙 공정은 도 4의 러빙 장치를 이용한다. 도 4에 도시된 바와 같이 러빙 장치는 편광막(430)이 코팅된 투명 기판(420)이 안착된 스테이지(stage)(410)와, 편광막(430)을 러빙하는 러빙천(450)으로 감싸인 롤러(440)를 포함한다.
러빙천(450)으로는 면이나 나일론계의 섬유가 식모된 천 등을 사용할 수 있으며, 편광막(430)을 구성하는 디스코틱 액정을 한 방향으로 러빙하여 디스코틱 액정들이 일정한 방향으로 배열시켜 편광 기능을 높일 수 있다. 이와 같이 러빙을 통하여 우수한 편광 기능을 가지는 편광막(430)을 형성하기 위해서는 적당한 러빙 세기(rubbing strength)를 적용하여 러빙 처리하는 것이 중요하다.
이러한 러빙 세기는 아래의 식 1에 나타난 바와 같이 러빙 장치에 의한 공정 매개변수들(N, L, r, n, V)로 정의될 수 있다.
[식 1]
Figure 112005070664035-PAT00001
여기서, 공정 매개변수 N은 러빙 회수이며, 편광막의 우수한 편광 기능을 구현하기 위해서는 1 - 2회가 적절하며 광시야각을 구현하는 액정 표시 장치의 경우 최고 9 - 10회까지 적용할 수 있다.
공정 매개변수 L은 러빙 깊이로서 러빙천(450)의 끝단이 편광막(430) 표면을 기준으로 아래쪽으로 들어가는 깊이를 말한다. L은 약 0.1 - 1 mm 정도의 값을 가지는 것이 바람직하다.
공정 매개변수 r은 롤러(440) 반지름이고, 러빙 장치의 사양에 따라 변경될 수 있다. 예를 들어 r은 약 20 - 200 mm 정도의 값을 가질 수 있다.
공정 매개변수 n은 롤러(440)의 회전수(단위: rpm)이고, 약 250 - 2000 rpm 정도의 값을 가지는 것이 바람직하다.
공정 매개변수 V는 스테이지(410)의 이동 속도이며, V가 클수록 편광 기능은 높아지나 수율이 낮아지므로 약 10 - 90 mm/sec 정도의 값을 가지는 것이 바람직하다.
이들 공정 매개변수들에 의한 러빙 세기는 약 10 - 200 mm 정도의 값을 가지는 것이 바람직하다. 다만 공정 매개변수들은 러빙 장치에 따라 다양하게 변경될 수 있으므로 본 발명의 앞서 언급한 공정 매개변수들의 값들에 한정되지 않으며, 러빙 세기가 약 10 - 200 mm 정도의 값을 가지도록 공정 매개변수들의 값들은 서로 변경될 수 있다.
이러한 예비 러빙 공정 또는 러빙 공정을 통하여 편광막을 이루는 디스코틱 액정의 질서 정도를 아래의 식 2에 나타난 질서 매개변수(order parameter)(S)를 통하여 정의할 수 있다.
[식 2]
Figure 112005070664035-PAT00002
여기서 θ는 편광막의 전체 액정 분자가 향하고 있는 평균 방향과 각 액정 분자의 축이 이루는 각을 의미하며, <cos2θ>는 전 공간에서의 평균을 나타낸다. 액정 분자의 방향의 액체처럼 무질서하게 배열되면 <cos2θ>는 1/3이 되어 질서 매개변수(S)는 0이 되고, 액정 분자의 방향이 결정처럼 규칙적으로 배열되면 <cos2θ>는 1이 되어 질서 매개변수(S)는 1이 된다. 본 발명의 일 실시예에 의한 액정 표시 장치의 제조 방법에 따라 형성된 편광막은 러빙 공정을 거쳐 질서 매개변수(S)가 0.85 < S < 1의 범위를 가진다. 편광막의 질서 매개변수(S)는 X-선 회절장치(X-Ray Diffractometer, XRD)를 이용하여 측정할 수 있다.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.
상술한 바와 같이 본 발명에 따른 액정 표시 장치에 의하면, 편광 기능이 우수한 편광막을 포함하는 액정 표시 장치를 제공할 수 있다.

Claims (11)

  1. 투명 기판 상에 이색성 염료를 형성하는 단계;
    상기 이색성 염료는 건조하는 단계; 및
    상기 이색성 염료를 러빙하여 편광막을 완성하는 단계를 포함하는 액정 표시 장치의 제조 방법.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 편광막의 질서 매개변수(S)는 하기 식에 의해 0.85 내지 1 사이의 값을 가지는 액정 표시 장치의 제조 방법.
    Figure 112005070664035-PAT00003
    (여기서, θ는 상기 편광막의 전체 액정 분자가 향하고 있는 평균 방향과 각 액정 분자의 축이 이루는 각이고, <cos2θ>는 전 공간에서의 평균을 나타낸다.)
  3. 제1 항에 있어서,
    상기 이색성 염료를 러빙하는 단계는 하기 식에 의한 약 10 - 200 mm의 러빙 강도로 러빙하는 단계인 액정 표시 장치의 제조 방법.
    Figure 112005070664035-PAT00004
    (여기서, N은 러빙 회수이고, L은 러빙 깊이이고, r은 롤러 반지름이고, n은 롤러의 회전수(단위: rpm)이고, V는 스테이지의 이동 속도이다.)
  4. 제1 항에 있어서, 상기 이색성 염료를 형성하기 전,
    상기 투명 기판 상에 투명 전극을 형성하는 단계를 더 포함하고,
    상기 이색성 염료는 상기 투명 전극 상에 형성되는 액정 표시 장치의 제조 방법.
  5. 제1 항에 있어서,
    상기 이색성 염료를 형성하는 단계는 스핀 코팅법을 이용하는 액정 표시 장치의 제조 방법.
  6. 제1 항에 있어서, 상기 이색성 염료를 형성한 후,
    상기 이색성 염료를 예비 러빙하는 단계를 더 포함하는 액정 표시 장치의 제조 방법.
  7. 제6 항에 있어서,
    상기 이색성 염료를 예비 러빙하는 단계는 약 10 - 200 mm의 러빙 강도로 예비 러빙하는 단계인 액정 표시 장치의 제조 방법.
    Figure 112005070664035-PAT00005
    (여기서, N은 러빙 회수이고, L은 러빙 깊이이고, r은 롤러 반지름이고, n은 롤러의 회전수(단위: rpm)이고, V는 스테이지의 이동 속도이다.)
  8. 제1 항에 있어서, 상기 편광막을 완성한 후,
    상기 편광막 상에 배향막을 형성하는 단계를 더 포함하는 액정 표시 장치의 제조 방법.
  9. 제1 항에 있어서,
    상기 이색성 염료는 PPMA(Poly Methyl MethAcrylate), PC(Poly Carbonate), 요오드(iodine), 설포 엑시드(sulfo-acid)계 염료 또는 다이설포 엑시드(disulfo-acid)계 염료로 이루어진 액정 표시 장치의 제조 방법.
  10. 제1 항에 있어서,
    상기 편광막은 약 0.1 - 10 ㎛의 두께를 가지는 액정 표시 장치의 제조 방법.
  11. 제1 항에 있어서,
    상기 편광막은 디스코틱 액정으로 이루어진 액정 표시 장치의 제조 방법.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR100965107B1 (ko) * 2008-02-26 2010-06-22 웅진케미칼 주식회사 무연신 편광필름, 그의 제조방법 및 이를 이용한 편광판
KR20110056913A (ko) * 2009-11-23 2011-05-31 삼성전자주식회사 액정 표시 장치 및 그 제조 방법

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