KR20070039910A

KR20070039910A - Mask blank, manufacturing method thereof and transfer plate manufacturing method

Info

Publication number: KR20070039910A
Application number: KR1020077000004A
Authority: KR
Inventors: 히데오 코바야시
Original assignee: 호야 가부시키가이샤
Priority date: 2004-06-02
Filing date: 2005-06-01
Publication date: 2007-04-13
Also published as: WO2006006318A1; TW200611072A; JPWO2006006318A1

Abstract

마스크 블랭크나 마스크의 제조 공정 중 혹은 보관·반송·수송시 등에 이물질이 기판표면에 직접 부착되는 등으로 문제를 일으킬 우려를 방지한다. 마스크 기능 박막 및 / 또는 마스크 제조 프로세스에 사용되는 박막이 형성된 측의 마스크 블랭크 주표면 상에, 마스크 패턴이 형성되는 유효영역에는 접촉하지 않고, 비유효영역에 접촉하여 밀폐 공간을 형성하는 덮개 형상의 방진보호구를 분리가능하게 고정한다.This prevents the possibility of causing a problem by attaching foreign matter directly to the surface of the mask during the manufacturing process of the mask blank or the mask, or during storage, transportation and transportation. On the mask blank main surface of the side on which the mask function thin film and / or the thin film used for the mask manufacturing process are formed, a cover shape which does not contact an effective area where a mask pattern is formed but contacts an invalid area to form a closed space Securing the dust protection device detachably.

마스크 블랭크, 이물질, 마스크 패턴, 방진보호구 Mask Blank, Foreign Material, Mask Pattern, Dust Protector

Description

마스크 블랭크 및 그 제조 방법과 전사 플레이트의 제조방법{MASK BLANK, MANUFACTURING METHOD THEREOF AND TRANSFER PLATE MANUFACTURING METHOD}MASK BLANK, MANUFACTURING METHOD THEREOF AND TRANSFER PLATE MANUFACTURING METHOD}

본 발명은, 패턴 전사용 마스크나 스탬퍼의 소재인 마스크 블랭크 및 그 제조 방법 및 전사 플레이트의 제조 방법에 관한 것이다.This invention relates to the mask blank which is a raw material of a mask and a stamper for pattern transfer, its manufacturing method, and the manufacturing method of a transfer plate.

마스크 블랭크는, 포토리소그래피법의 패턴 전사용 마스크나, 나노인프린트법의 스탬퍼의 소재로서 이용된다. 이 마스크 블랭크는, 패턴 전사용 마스크의 경우, 예를 들면 기판표면에 형성되는 각종의 마스크 기능 박막 위에 레지스트 막이 형성되거나 또는 이 레지스트 막 위 또는 아래에 반사 방지막이나 도전성 막이 형성되거나, 또한 이들의 박막을 주위의 환경(예를 들면 화학오염 등)으로부터 보호하기 위한 보호막 등이 형성되거나 한다. 또한 나노인프린트법의 스탬퍼의 경우, 예를 들면 기판표면에 미세한 요철을 형성하기 위한 마스크 제조 프로세스에 사용되는 박막, 즉 마스크층 및 / 또는 레지스트 막이 형성되거나 한다.The mask blank is used as a material for a pattern transfer mask of the photolithography method or a stamper of the nanoimprint method. In the case of the pattern transfer mask, for example, a resist film is formed on various mask function thin films formed on the substrate surface, or an antireflection film or a conductive film is formed on or under the resist film, or these thin film masks A protective film or the like is formed to protect it from the surrounding environment (for example, chemical pollution). In the case of the stamper of the nanoinprint method, for example, a thin film, i.e., a mask layer and / or a resist film, used in a mask manufacturing process for forming fine irregularities on the substrate surface is formed.

상기 마스크 블랭크의 구체적인 예로서는, 최상층이 레지스트 막인 레지스트가 부착된 마스크 블랭크가 있다. 이 레지스트가 부착된 마스크 블랭크는, 기판표 면에 각종 마스크 기능 박막 등이 형성된 후, 그 위에 레지스트 막이 회전 도포 방법 등으로 도포되며, 그 후에 가열처리(계속되는 냉각 처리를 포함한다)등의 소정의 처리가 실시되어 형성된다.As a specific example of the said mask blank, the mask blank with a resist whose uppermost layer is a resist film is attached. After the mask blank with the resist is formed with various mask functions thin films or the like on the substrate surface, a resist film is applied thereon by a rotation coating method or the like, and thereafter, predetermined resists such as heat treatment (including subsequent cooling treatment) are applied. Treatment is carried out to form.

상기 기판표면에 형성되는 마스크 기능 박막으로서는, 마스크의 종류나 용도 등에 따라, 차광막, 위상 시프트막(위상 시프트 마스크의 경우), 반사막이나 흡수막(X선 마스크나 EUV마스크의 경우), 반사 방지막 등이 있다. 이들 박막은, 전사 노광광을 통과시키거나, 통과를 저지하거나, 혹은 반사시키는 등, 전사 노광광에 어떠한 작용을 하여 소정의 전사 패턴 상(像)을 전사 대상물 위에 형성시키기 위한 것이다.As the mask function thin film formed on the surface of the substrate, a light shielding film, a phase shift film (in the case of a phase shift mask), a reflecting film or an absorbing film (in the case of an X-ray mask or an EUV mask), an antireflection film, etc., depending on the kind and use of the mask, etc. There is this. These thin films are intended to form a predetermined transfer pattern image on the transfer object by any action on the transfer exposure light, such as passing the transfer exposure light, preventing passage, or reflecting it.

상기 레지스트가 부착된 마스크 블랭크는, 합성 석영 등의 기판 위에, 차광막, 반사 방지막을 스퍼터링법 등으로 순차로 형성하고, 그 위에 레지스트를 회전 도포법 등으로 도포하여 형성된다. 이와 같이 하여 형성된 레지스트 막에서는, 기판의 가장자리부(기판의 주표면의 4변에 따른 부분)에 불필요한 볼록한 부분이 발생하고, 또한 그 기판의 측단면에도 불필요한 레지스트가 형성되는 경우가 많다.The mask blank with the resist is formed by sequentially forming a light shielding film and an antireflection film on a substrate such as synthetic quartz by sputtering or the like, and applying the resist thereon by a spin coating method or the like. In the resist film formed in this way, an unnecessary convex part arises in the edge part (part along four sides of the main surface of a board | substrate) of a board | substrate, and an unnecessary resist is formed in the side surface of the board | substrate in many cases.

그러나, 일반적으로 상기 레지스트가 부착된 마스크 블랭크는, 반송이나 보관시 등에 수납 용기 등에 수납된다. 이 수납 용기로서는, 예를 들면 특허문헌 1에 기재된 유리기판 수납용기와 같은 것이 사용되고 있다. 특허문헌 1에 기재된 수납 용기는, 안쪽 상자와 이 안쪽 상자를 수납하는 바깥 용기로 이루어진다. 안쪽 상자의 내측벽에는, 기판의 양측 가장자리를 구속·위치 결정하면서 슬라이드 안내하여 유지하는 한 쌍의 대향하는 수납홈이 일정한 간격으로 배치되어 있다. 바깥 상자는 그 안쪽 상자를 수납 고정한다.In general, however, the mask blank with the resist is stored in a storage container or the like at the time of conveyance or storage. As this storage container, the same thing as the glass substrate storage container of patent document 1 is used, for example. The storage container of patent document 1 consists of an inner box and the outer container which accommodates this inner box. On the inner wall of the inner box, a pair of opposing receiving grooves which slide and guide the edges of both sides of the substrate while being held and positioned are arranged at regular intervals. The outer box holds and secures the inner box.

그러나, 상기한 바와 같이, 레지스트가 부착된 마스크 블랭크는, 그 가장자리부에 불필요한 볼록부가 생기고, 또한 그 기판의 측단면에도 불필요한 레지스트가 형성된다. 이 때문에, 그 레지스트가 부착된 마스크 블랭크를 안쪽 상자에 수납하거나, 거기에서 추출하거나 할 때, 그 불필요한 볼록부나 불필요한 레지스트가 상기 수납홈에 접촉하여 스치는 것을 피할 수 없다. 또한 그 수납홈에 유지된 상태에서도, 이송, 수송 등에 의해 진동 혹은 충격이 가해졌을 때, 그 불필요한 볼록부나 불필요한 레지스트가 안쪽 상자의 수납홈과 스치는 것을 피할 수 없다.However, as mentioned above, in the mask blank with a resist, an unnecessary convex part arises at the edge part, and unnecessary resist is formed also in the side surface of the board | substrate. For this reason, when the mask blank with the resist is stored in the inner box or extracted therefrom, it is inevitable that the unnecessary convex portions or unnecessary resists come into contact with the storage grooves and rub. In addition, even when held in the storage groove, when vibrations or impacts are applied by transportation, transportation or the like, the unnecessary convex portions and unnecessary resists cannot avoid rubbing with the storage grooves of the inner box.

그 결과, 불필요한 볼록부나 불필요한 레지스트가, 기판으로부터 박리·탈락하여, 이것이 진애가 되어 마스크 블랭크 자체 혹은 각종 처리장치에 부착되고, 최종적으로는 마스크 블랭크를 소재로 하는 제품인 마스크(레티클을 포함한다)의 결함의 원인 또는 마스크의 제조 수율 저하의 원인이 될 우려가 발생한다.As a result, unnecessary convex portions and unnecessary resists are peeled off and dropped off from the substrate, which becomes dust and adheres to the mask blank itself or various processing apparatuses. Finally, the mask (including the reticle) which is a product made of the mask blank as a material There exists a possibility that it may become a cause of a defect or the fall of the manufacturing yield of a mask.

상기 문제의 해결책으로서, 기판의 가장자리부에 형성되는 불필요한 레지스트 막을 선택적으로 제거하는 방법이 일반적으로 채용되고 있다. 이 방법에서는, 레지스트 도포 후에 기판 가장자리부의 불필요한 레지스트 막을 선택적으로 제거한다(예를 들면 특허문헌 2, 특허문헌 3, 특허문헌 4를 참조).As a solution of the above problem, a method of selectively removing an unnecessary resist film formed on an edge portion of a substrate is generally employed. In this method, the unnecessary resist film of a board | substrate edge part is removed selectively after resist coating (for example, refer patent document 2, patent document 3, patent document 4).

특허문헌 1 : 일본국 공개특허공보 특개 2003-264225호 공보Patent Document 1: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-264225

특허문헌 2 : 일본국 공고특허 특공소 57-13863호 공보Patent Document 2: Japanese Patent Application Publication No. 57-13863

특허문헌 3 : 일본국 공개특허 공보 특개소 63-160332호 공보Patent Document 3: Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-160332

특허문헌 4 : 일본국 공개특허공보 특개 2001-259502호 공보Patent Document 4: Japanese Unexamined Patent Publication No. 2001-259502

그러나, 상기의 방법 등에 의해 기판 가장자리부의 불필요한 레지스트 막을 선택적으로 제거한 마스크 블랭크라 하더라도, 이하와 같은 문제가 있음을 알았다. 즉, 예를 들면 특허문헌 1등에 기재한 수납 용기에서는, 마스크 블랭크가 안쪽 상자 등에 부분적으로도 직접 접촉하는 것을 피할 수 없으며, 또한 마스크 블랭크를 수납 용기에 수용 또는 꺼낼 때의 스침, 보관 또는 이송·수송중의 진동 혹은 충격에 의한 마스크 블랭크와 가운데 상자와의 접촉 부위의 스침, 가운데 상자와 바깥 상자와의 접촉 부분의 스침 등, 상당히 많은 개소에서 스침의 발생을 생각할 수 있다. 또한, 스침에 의한 먼지 발생은, 마스크 블랭크측 뿐만아니라, 수납 용기측에서도 생긴다. 특히 수지제의 수납 용기에서는, 그 용기가, 큰 먼지 발생의 원인이 된다.However, even when it is a mask blank by which the unnecessary resist film of the board | substrate edge part was selectively removed by the said method etc., it turned out that there exists a following problem. That is, in the storage container described, for example, in patent document 1, the mask blank cannot be in direct contact with the inner box or the like partially, and the grazing, storage or transporting when the mask blank is accommodated in or taken out of the storage container. The occurrence of grazing can be thought of in many places, such as the grading of the contact area between the mask blank and the center box and the grazing of the contact area between the center box and the outer box due to the vibration or impact during transportation. In addition, dust generation by grazing occurs not only on the mask blank side but also on the storage container side. Especially in the storage container made of resin, this container is a cause of a big dust generation.

이들 모두의 먼지 발생 원인(특히 수지제 용기로부터의 먼지 발생)을 억제하는 것은 극히 곤란하다. 이 때문에, 상기 마스크 블랭크의 용기로의 수용, 보관,또는, 이송·수송중에, 그 마스크 블랭크의 표면 즉 레지스트 막 또는 그 레지스트 막 위에 형성된 최상층 표면으로의 이물질의 부착, 또는 그 부착 가능성이 있는 이물질의 증가를 효과적으로 방지하는 것은, 매우 곤란하다는 것을 알았다.It is extremely difficult to suppress the cause of all these dusts (particularly the generation of dust from the resin container). For this reason, foreign matters that may adhere to, or possibly adhere to, foreign matters on the surface of the mask blank, that is, on the resist film or the top surface layer formed on the resist film during the storage, storage, or transfer and transportation of the mask blank. It was found that it was very difficult to effectively prevent the increase of the.

또한 상기의 레지스트가 부착된 마스크 블랭크를 사용하여 마스크 제조를 행할 경우, 레지스트 도포후부터 마스크 제조 공정에 있어서의 노광 공정에 이르기까지의 경과 시간(혹은 경과 일수)은 여러가지이다. 이 노광 공정에 이르기까지의 경과 시간이나 일수의 변동은, 레지스트 감도의 변동 편차에 영향을 주고, 노광 및 현상 등의 레지스트 프로세스(소위 패터닝)조건을 고정했을 경우, 상기 경과 시간등의 변동이 패턴 치수(CD)의 변동이 되어 나타난다. 이 때문에, 마스크 블랭크에 형성하는 레지스트 막에는, 될 수 있는 한 도포 후의 감도변화가 적은, 도포후의 안정성에 뛰어난 레지스트종, 소위 도포후 안정성(PCD:Post-Coating Delay)의 양호한 레지스트종이 선정되어 사용된다.Moreover, when mask manufacture is performed using said mask blank with a resist, the elapsed time (or days) from a resist application to the exposure process in a mask manufacturing process is various. The variation in the elapsed time and the number of days until the exposure process affects the variation in the variation in resist sensitivity, and when the resist process (so-called patterning) conditions such as exposure and development are fixed, the variation in the elapsed time or the like pattern It appears with the change of the dimension CD. For this reason, as the resist film formed on the mask blank, a resist type excellent in post-coating stability with a small change in sensitivity after application, and a good resist type of so-called post-coating stability (PCD) is selected and used as much as possible. do.

오늘날 보급되고 있는 화학증폭형 레지스트에 있어서는, 도포후 안정성이 양호한 레지스트로서, 일반적으로, 켄쳐(quencher)라고 불리는 첨가제(예를 들면 아민류)가 의도적으로 많이 첨가되고 있다. 그러나, 이 켄쳐는 도포후 안정성을 양호하게 하는 한편, 레지스트 감도를 어느 정도 이상으로 높일 수 없는 등으로, 레지스트 설계상, 또는 마스크 블랭크용 레지스트를 선정하는 데 제약이 발생한다.In the chemically amplified resists that are widely used today, as a resist having good stability after application, an additive (for example, amines) commonly called a quencher is intentionally added. However, this quencher improves the stability after application and cannot raise the resist sensitivity to a certain degree or more, and therefore, a limitation arises in selecting the resist for mask blanks or the resist design.

그러나, 노광 생산성 즉 마스크 생산성, 피노광 안정성의 견지에서는, 레지스트 감도는 높은 것이 바람직하다. 전자선에 의한 노광의 경우, 그 전자선 노광에 의해 야기되는 레지스트 가열에 의해 레지스트의 감도가 변동하는 경우가 있지만, 이러한 변동은 가능한 한 적은 것이 바람직하다. 즉, 피노광 안정성을 구비하고 있는 것이 바람직하다.However, in view of exposure productivity, that is, mask productivity and exposure stability, it is preferable that the resist sensitivity is high. In the case of exposure by an electron beam, although the sensitivity of a resist may fluctuate by the resist heating which arises by the electron beam exposure, it is preferable that this variation is as small as possible. That is, it is preferable to have to-be-exposed stability.

또한 패턴의 미세화 혹은 협 피치화가 요구되고 있는 상황에 있어서, 레지스트 도포후부터 노광 공정에 이르기까지의 경과 시간이나 일수(즉 도포후의 보관 기간)에 의해 야기되는 레지스트 감도의 열화 혹은 변동의 양이 문제가 되고 있다.In addition, in a situation where pattern refinement or narrow pitch is required, there is a problem in the amount of deterioration or variation in resist sensitivity caused by the elapsed time or the number of days from the application of the resist to the exposure process (that is, the storage period after the application). It is becoming.

즉, 종래는 허용되어 온 도포후에 있어서의 레지스트 감도의 경시변화량에서는, 또한 고레벨의 미세화를 달성하는데 필요한 감도 안정성에 대응하지 않게 된다. 이 때문에, 레지스트 막의 형성은, 마스크 제조 공정에 있어서의 노광 공정의 직전에 행하는 것이 바람직하다. 그러나, 기판표면에 전사 노광광에 광학적으로 작용하는 마스크 기능 박막이 형성된 마스크 블랭크를 상기의 수납 용기에 수납하여, 마스크 제조 공정으로 이송·수송 또는 보관할 경우, 마스크 블랭크(전사 노광광에 광학적으로 작용하는 박막)표면으로의 이물질 혹은 화학적 오염물질 등의 부착에 의해, 마스크 제조 공정에 있어서의 노광 공정의 직전에 도포 형성하는 레지스트 막의 품질 혹은 성능발현에 영향을 주어, 마스크의 결함(패턴 치수 편차를 포함한다) 혹은 마스크의 제조 수율 저하를 야기한다.That is, conventionally, the amount of change in resist sensitivity after application, which has been permitted, does not correspond to the sensitivity stability necessary to achieve high level miniaturization. For this reason, it is preferable to perform formation of a resist film immediately before the exposure process in a mask manufacturing process. However, when the mask blank in which the mask function thin film which optically acts on transfer exposure light is formed in the board | substrate surface is accommodated in said storage container, and conveyed, transported, or stored in a mask manufacturing process, it is a mask blank (optically acting on transfer exposure light). The deposition of foreign matter or chemical contaminants on the surface affects the quality or performance expression of the resist film applied and formed immediately before the exposure process in the mask manufacturing process. Or lower the manufacturing yield of the mask.

[과제를 해결하기 위한 수단][Means for solving the problem]

본 발명은, 상기의 과제를 해결하기 위한 것으로, 마스크 블랭크 제조(최상층의 형성 혹은 최종검사 후)부터 마스크 등의 전사 플레이트 제조 공정의 노광 공정에 이르는 동안, 마스크 블랭크의 보관, 반송 혹은 수송시 등에, 이물질이 기판 등에 부착되는 등으로 문제를 야기할 우려를 효과적으로 방지하는 것을 가능하게 한 마스크 블랭크 및 그 제조 방법 및 전사 플레이트의 제조 방법을 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and during storage, conveyance or transportation of the mask blank during the time from the manufacture of the mask blank (after forming the top layer or after the final inspection) to the exposure step of the manufacturing process of the transfer plate such as the mask. In addition, the present invention provides a mask blank, a method of manufacturing the same, and a method of manufacturing the transfer plate, which can effectively prevent a possibility of causing a problem by attaching foreign matter to a substrate or the like.

그 요지로 하는 바는, 특허청구범위에 기재한 바와 같이 하기의 내용이다.The summary is as follows, as described in the claim.

즉, 상술한 과제를 해결하기 위한 수단으로서,That is, as a means for solving the above problem,

제1의 수단은,The first means is

기판표면에 전사 노광광에 광학적으로 작용하는 마스크 기능 박막 및 / 또는 마스크 제조 프로세스에 사용되는 박막이 형성된, 패턴 전사용 마스크 또는 스탬퍼의 소재인 마스크 블랭크이며,A mask blank, which is a material of a pattern transfer mask or stamper, having a mask function thin film and / or a thin film used in a mask fabrication process optically acting on the transfer exposure light on the substrate surface;

상기 마스크 블랭크는, 상기 마스크 기능 박막 및 / 또는 마스크 제조 프로세스에 사용되는 박막이 형성된 측의 마스크 블랭크 주표면 상에 패턴 전사용의 마스크 패턴 또는, 패턴 전사용의 요철이 형성되는 유효 영역에는 접촉하지 않고, 비유효영역에 접촉하여 밀폐 공간을 형성하는 덮개 형상의 방진보호구를 분리할 수 있도록 고정되어 있는 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크이다.The mask blank does not contact a mask pattern for pattern transfer or an effective region in which irregularities for pattern transfer are formed on the mask blank main surface on the side where the mask function thin film and / or the thin film used in the mask manufacturing process are formed. The mask blank is fixed so as to be able to separate the cover-shaped dustproof protective device which contacts the ineffective area and forms a closed space.

이 해결 수단에 의하면, 마스크 블랭크를 수납 용기에 출납하는 것에 의한 마스크 블랭크와 수납 용기의 접촉부에서의 스침 및 마스크 블랭크를 수납 용기에 넣어서 보관, 이동 혹은 수송할 때의 진동 또는 충격에 의한 마스크 블랭크와 수납 용기 등과의 스침 및 수납 용기의 각 구성부재 간에서의 접촉 부위의 스침, 그것들에 기인하여 발생한 진애가 마스크 블랭크 자체에 직접 부착되는 것을 방지한다. According to this solution, the mask blank by putting the mask blank into and out of the storage container, the mask blank by the vibration or impact when storing, moving or transporting the grazing and mask blank at the contact portion of the storage container into the storage container, The grazing with the storage container or the like and the grazing of the contact portions between the respective constituent members of the storage container, and dust generated due to them are prevented from directly adhering to the mask blank itself.

또한 마스크 제조 공정의 주요한 제1공정인 노광 공정에 앞서 방진보호구를 분리하는 것으로 방진보호구 장착 이후에 방진보호구의 표면에 부착된 진애는 제거되어, 마스크 블랭크의 표면결함(이물질)의 증가를 방지하며, 마스크 블랭크 완성 직후의 품질을 마스크 제조 공정에 제공할 수 있고, 또한 상기 표면결함(이물질)에 기인하는 마스크 결함의 발생을 방지하여, 마스크 제조 수율을 향상시키는 수단을 제공할 수 있다. 또한 방진보호구에는 레지스트 막에 영향을 주지 않는(예를 들면 알카리성 혹은 산성가스의 방출이 적은)구성 재료를 사용하는 것으로, 방진보호구를 장착하여 가지는 것에 의한 레지스트 막의 기능 열화가 없이 패턴형성하여 마스크를 크게 패턴형성하여 마스크를 제작할 수 있다.In addition, by separating the dust protection protection prior to the exposure process, which is a major first step of the mask manufacturing process, dust attached to the surface of the protection protection after dust protection is removed, thereby preventing an increase in surface defects (foreign matter) of the mask blank. The quality immediately after completion of the mask blank can be provided to the mask fabrication process, and a means for preventing the occurrence of mask defects due to the surface defects (foreign matters) and providing a means for improving the yield of mask fabrication. In addition, by using a constituent material that does not affect the resist film (e.g., less alkali or acid gas emission), the anti-vibration protective pattern is formed by patterning the mask without deteriorating the function of the resist film by attaching the anti-vibration protective device. A large pattern can be formed to produce a mask.

제2의 수단은,Second means,

상기 제1의 수단에 따른 마스크 블랭크이며,A mask blank according to said first means,

상기 방진보호구는, 마스크 블랭크 표면에,The dust protection device, the mask blank surface,

진공흡착, 흡반 시트 또는 상온에서 접착성을 가지고, 가열하면 접착성이 저하 혹은 상실하는 열가소성 접착제의 어느 것을 사용하여 고정되고 있는 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크이다.It is a mask blank characterized by being fixed using any of the thermoplastic adhesives which have adhesiveness in vacuum adsorption | suction, a suction sheet, or normal temperature, and when it heats, adhesiveness falls or loses.

이 해결 수단에 의하면, 방진보호구를 마스크 블랭크에 확실하게 장착 고정할 수 있고, 또한, 방진보호구의 분리도 마스크 블랭크에 손상을 주지 않고 안전하고 용이하게 할 수 있다. 또한 접착제 등을 사용할 필요가 없기 때문에, 방진보호구를 분리한 후에 접착제 등의 잔재가 남을 걱정이 없으며, 새로운 진애의 발생원을 일으키지 않는다. 또한 접착제 등을 사용할 필요가 없기 때문에, 레지스트 막의 성능열화를 야기하는 화학물질(가스)의 접착제로부터의 방출 가능성을 배제할 수 있다.According to this solution, the dustproof protective equipment can be securely mounted and fixed to the mask blank, and the separation of the dustproof protective equipment can also be safely and easily performed without damaging the mask blank. In addition, since there is no need to use an adhesive or the like, there is no worry of remaining of the adhesive or the like after removing the dustproof protective device, and it does not cause a new dust generation source. In addition, since there is no need to use an adhesive or the like, it is possible to exclude the possibility of releasing a chemical (gas) from the adhesive which causes deterioration of the resist film.

또한 제2의 수단은,In addition, the second means,

상기 방진보호구는 마스크 블랭크 표면에 접촉하는 저부에 흡반 시트를 설치하여, 마스크 블랭크 표면에 고정되어 있는 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크이다.The antivibration protective device is a mask blank, which is provided with a suction plate at the bottom contacting the mask blank surface, and is fixed to the mask blank surface.

이 해결 수단에 의하면, 상기의 수단인 진공흡착법에 필요한 설비는 불필요하다. 특히, 방진보호구에 연결부 혹은 스톱 밸브 등을 부착할 필요가 없어, 매우 간편하게 방진보호구의 장착 및 분리가 가능하게 된다. 또한 이 수단에 의하면, 접착제를 필요로 하지 않기 때문에, 레지스트 막의 성능열화를 야기하는 화학물질의 방출 가능성을 배제할 수 있다. 또한 이 수단인 흡반 시트를 구성하는 수지재료에는, 레지스트 막의 성능열화를 야기하는 화학물질을 포함하지 않는 것을 미리 선정하면 된다.According to this solution, the equipment necessary for the vacuum adsorption method which is said means is unnecessary. In particular, it is not necessary to attach a connection part or a stop valve to the dustproof protector, so that the dustproof protector can be easily attached and detached. This means also eliminates the need for adhesives, thus eliminating the possibility of release of chemicals that cause performance degradation of the resist film. What is necessary is just to select beforehand the resin material which comprises the sucker sheet which is this means which does not contain the chemical substance which causes deterioration of the resist film.

또한 제2의 수단은,In addition, the second means,

상기 방진보호구는, 마스크 블랭크 표면에, 상온에서 접착성을 가지고, 가열하면 접착성이 저하 또는 상실하는 열가소성 접착제에 의해 고정되는 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크이다.The antivibration protective device is a mask blank, which is fixed to a mask blank surface by a thermoplastic adhesive which has adhesiveness at normal temperature and which loses or loses adhesiveness when heated.

이 해결 수단에 의하면, 상기의 수단인 진공흡착법에 필요한 설비는 불필요하다. 특히, 방진보호구에 연결부 혹은 스톱 밸브 등을 부착할 필요가 없어, 매우 간편하게 방진보호구의 장착 및 분리가 가능하게 된다. 또한 상기의 흡반 시트를 이용한 수단에 비해서는, 방진보호구의 분리 시에, 방진보호구를 잡아당겨 흡반 시트의 흡반을 벗겨내기 위한 기계적인 힘을 거의 필요로 하지 않기 때문에, 매우 안전하고 용이하게 방진보호구의 분리가 가능하게 된다.According to this solution, the equipment necessary for the vacuum adsorption method which is said means is unnecessary. In particular, it is not necessary to attach a connection part or a stop valve to the dustproof protector, so that the dustproof protector can be easily attached and detached. In addition, compared to the means using the sucker sheet, when the dustproof protective device is removed, since it requires little mechanical force to pull the dustproof protective device and peel off the sucker of the sucker sheet, the dustproof protective device is very safe and easy. Can be separated.

특히, 마스크 제조 공정에서 널리 일반적으로 사용되고 있는 핫플레이트형 가열처리장치를 사용한 가열처리가 가능하고, 이 접착제의 기능(가열에 의해 접착성의 저하)에 의해, 마스크 블랭크에 장착 고정되고 있는 방진보호구는 분리가 가능하다.In particular, heat treatment using a hot plate type heat treatment apparatus which is widely used in the mask manufacturing process is possible, and the anti-vibration protective equipment fixed to the mask blank by the function of the adhesive (degradation of adhesiveness by heating) It can be separated.

제3의 수단은,Third means,

상기 제2의 수단에 따른 마스크 블랭크이며,A mask blank according to the second means,

상기 열가소성 접착제는, 상온보다 높은 온도로 또한 레지스트 막 형성후의 열처리 온도보다도 낮은 온도로, 마스크 블랭크 표면에서 상기 방진보호구가 박리 가능하게 되는 접착제인 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크이다.The thermoplastic adhesive is a mask blank, characterized in that the dustproof protective device can be peeled off from the mask blank surface at a temperature higher than normal temperature and lower than the heat treatment temperature after formation of the resist film.

이 해결 수단에 의하면, 제2의 수단인 진공흡착법에 필요한 설비는 불필요하며, 또한 제3의 수단에 비해서는, 방진보호구의 분리 시에, 방진보호구를 잡아당겨서 흡반 시트의 흡반을 벗겨내기 위한 기계적인 힘을 거의 필요로 하지 않아, 매우 용이하게 방진보호구의 분리가 가능하게 된다.According to this solution, the equipment necessary for the vacuum adsorption method, which is the second means, is unnecessary, and in comparison with the third means, a machine for pulling the dustproof protector off and removing the sucker of the sucker sheet when the dustproof protector is removed. It requires very little power, making it very easy to remove the dust protection device.

또한, 이 해결 수단에 의하면, 가열하면 그 접착성이 저하하는 열가소성 접착제에, 그 접착성이 저하하는 온도로서, 마스크 블랭크에 형성된 레지스트 막의 도포후의 열처리 온도(프리베이크 온도) 혹은 노광후의 열처리 온도(PEB온도)중 어느 낮은 쪽보다도 낮은 온도를 가지는 접착제를 사용하는 것으로, 방진보호구의 분리를 위한 가열처리가 레지스트 막에 대하여 영향을 주는 것(감도변화, 막두께 감소 등)을 최소한으로 억제할 수 있다.According to this solution, a heat treatment temperature (pre-baking temperature) after application of the resist film formed on the mask blank or a heat treatment temperature after exposure is used as a temperature at which the adhesion decreases to the thermoplastic adhesive whose adhesiveness decreases when heated. By using an adhesive having a lower temperature than any one of the lower PEB temperatures, it is possible to minimize the influence of the heat treatment for the separation of the dustproof protector against the resist film (change in sensitivity, decrease in film thickness, etc.). have.

제4의 수단은,The fourth means,

상기 방진보호구는, 마스크 블랭크 표면에 대향하는 면이 가시광 또는 검사광에 대하여 투명한 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크이다.The dust protection device is a mask blank, characterized in that the surface opposite to the mask blank surface is transparent to visible light or inspection light.

이 해결 수단에 의하면, 방진보호구와 마스크 블랭크가 형성하는 밀폐 공간내(즉 마스크 블랭크 표면)를 목시 관찰하는 것이 가능하고, 또한 검사장치에 의해서는, 이 방진보호구를 장착한 채 레이저 표면 이물질 검사장치로 마스크 블랭크 표면의 이물질 수를 계수 가능하다. 이에 따라 방진보호구를 장착한 후 혹은 분리전의 마스크 블랭크 표면상태의 검사가 가능하게 된다.According to this solution, it is possible to visually observe the inside of the airtight space (that is, the mask blank surface) formed by the dustproof protective equipment and the mask blank, and the inspection apparatus can be used to inspect the laser surface foreign matter with the dustproof protective equipment mounted thereon. The number of foreign substances on the mask blank surface can be counted. This enables inspection of the mask blank surface state after the antivibration protective equipment is attached or before separation.

제5의 수단은,The fifth means is

상기 제1 내지 제4의 수단 중 어느 하나에 따른 마스크 블랭크이며,A mask blank according to any one of the first to fourth means,

상기 방진보호구가 접촉하는 기판표면의 레지스트 막이 제거되고 있는 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크이다.The mask blank is characterized in that the resist film on the surface of the substrate to which the dustproof protective equipment contacts is removed.

이 해결 수단에 의하면, 방진보호구가 접촉하는 마스크 블랭크의 접촉부에는 레지스트 막 등의 박리 비산하기 쉬운 막이 미리 제거되고 있기 때문에, 방진보호구의 장착 혹은 분리 시의 방진보호구와 마스크 블랭크와의 접촉 혹은 스침에 의한 먼지 발생을 배제할 수 있다. 또한 미리 불필요한 레지스트 막 등을 마스크 블랭크 기판 가장자리부 및 방진보호구가 접촉하는 마스크 블랭크의 접촉부로부터 제거해 두는 것으로, 마스크 블랭크와 수납 용기와의 접촉 혹은 스침 등에 의한 진애의 발생 그 자체를 억제할 수 있게 되어, 방진보호구의 장착 혹은 분리 시에 발생한 진애가 마스크 블랭크 표면에 직접 부착되는, 그러한 마스크 블랭크 표면의 오염 가능성을 저감할 수 있다.According to this solution, since the film which easily peels off, such as a resist film, is removed in the contact part of the mask blank which a dust protection protective tool contacts, the contact or grazing of the dust protection and mask blank at the time of attachment or detachment of a dust protection protection is performed. It is possible to exclude the occurrence of dust. In addition, by removing an unnecessary resist film or the like from the mask blank substrate edge and the mask blank contact portion where the dust protection protection contacts, the occurrence of dust due to the contact or masking between the mask blank and the storage container can be suppressed. In addition, the possibility of contamination of the mask blank surface, in which dust generated at the time of mounting or detachment of the dustproof protector directly adheres to the mask blank surface, can be reduced.

제6의 수단은,Sixth means,

기판표면에, 전사 노광광에 광학적으로 작용하는 마스크 기능 박막 및 / 또는 마스크 제조 프로세스에 사용되는 박막이 형성된, 패턴 전사용 마스크 또는 스탬퍼의 소재인 마스크 블랭크를 제조하는 마스크 블랭크 제조 방법에 있어서,In the mask blank manufacturing method which manufactures the mask blank which is a material of a pattern transfer mask or a stamper in which the mask function thin film which acts optically on a transfer exposure light, and / or the thin film used for a mask manufacturing process was formed in the substrate surface,

상기 기판표면상에, 상기 전사 노광광에 광학적으로 작용하는 마스크 기능 박막 및 / 또는 마스크 제조 프로세스에 사용되는 박막을 형성하는 박막 형성공정과,A thin film forming step of forming a mask function thin film optically acting on the transfer exposure light and / or a thin film used in a mask manufacturing process on the substrate surface;

상기 마스크 기능 박막 및 / 또는 마스크 제조 프로세스에 사용되는 박막이 형성된 측의 마스크 블랭크 주표면 상에, 패턴 전사용의 마스크 패턴 또는, 패턴 전사용의 요철이 형성되는 유효영역에는 접촉하지 않고, 비유효영역에 접촉하여 밀폐 공간을 형성하는 덮개 형상의 방진보호구를 장착하는 방진구 장착공정을 가지는 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크 제조 방법이다.On the mask blank main surface of the side on which the said mask function thin film and / or the thin film used for a mask manufacturing process were formed, it does not contact the mask pattern for pattern transfer or the effective area | region where the unevenness | corrugation for pattern transfer is formed, and is invalid It is a mask blank manufacturing method characterized by having a dustproof fitting installation process which mounts the cover-shaped dustproof protective apparatus which contacts a region and forms a sealed space.

이 해결 수단에 의해, 마스크 블랭크를 수납 용기에 출납할 때의 양자의 스침에 의한 먼지 발생 및 마스크 블랭크를 수납 용기에 넣어서 보관, 이동 혹은 수송할 때의 진동 또는 충격에 의한 마스크 블랭크와 수납 용기 혹은 수납 용기의 각 구성부재 간의 스침에 의한 먼지 발생, 그것들에 의한 마스크 블랭크(즉, 마스크 블랭크에 형성된 각종 박막의 최상층 표면)로의 이물질 오염(이물질의 증가)은 크게 저감된다. 즉, 마스크 블랭크 제조 직후의 품질(이물질 결함품질)을 마스크 제조 공정에 공급 가능하게 하는 마스크 블랭크 제조 방법이 제공된다.By this solution, the mask blank and the storage container caused by the dust generated by both grazing when the mask blank is taken in and out of the storage container and the vibration or impact when the mask blank is stored, moved or transported in the storage container or Dust generation due to grazing between the respective constituent members of the storage container and foreign matter contamination (increase of foreign matter) to the mask blanks (that is, the top layer surfaces of various thin films formed on the mask blanks) are greatly reduced. That is, the mask blank manufacturing method which makes it possible to supply the quality (foreign | defective defect quality) immediately after mask blank manufacture to a mask manufacturing process is provided.

제7의 수단은,Seventh means,

패턴 전사용 마스크의 소재인 마스크 블랭크에, 패턴 전사용의 마스크 패턴을 형성하는 마스크 패턴 형성공정을 가지는 마스크의 제조 방법에 있어서,In the mask manufacturing method which has a mask pattern formation process which forms the mask pattern for pattern transfer in the mask blank which is a raw material of the pattern transfer mask,

상기 수단 1 내지 5중 어느 하나에 기재한 마스크 블랭크를 사용하여, 이 마스크 블랭크의 상기 방진보호구를 분리한 후에, 상기 마스크 패턴형성을 행하는 것을 특징으로 하는 마스크의 제조방법이다.The mask pattern formation is performed after using the mask blank described in any one of the said means 1-5, after isolate | separating the said dustproof protective tool of this mask blank.

이 해결 수단에 의해, 마스크 블랭크를 수납 용기에 출납할 때의 양자의 스침에 의한 먼지 발생 및 마스크 블랭크를 수납 용기에 넣어서 보관, 이동 혹은 수송할 때의 진동 또는 충격에 의한 마스크 블랭크와 수납 용기 혹은 수납 용기의 각구성부재 간의 스침에 의한 먼지 발생, 그것들에 의한 마스크 블랭크(즉, 마스크 블랭크에 형성된 각종 박막의 최상층 표면)로의 이물질 오염(이물질의 증가)은 크게 저감된다. 즉, 마스크 블랭크 제조 직후의 품질(이물질 결함품질)을 유지 확보할 수 있는 마스크 제조 공정이 제공된다. 또한 마스크 블랭크 제조 후의 마스크 블랭크(즉, 마스크 블랭크에 형성된 각종 박막의 최상층 표면)로의 이물질 오염(이물질의 증가)에 기인하는 마스크 결함의 발생을 방지하여, 마스크 제조 수율의 저하를 방지하는 마스크 제조 방법이 제공된다.By this solution, the mask blank and the storage container caused by the dust generated by both grazing when the mask blank is taken in and out of the storage container and the vibration or impact when the mask blank is stored, moved or transported in the storage container or Dust generation due to grazing between the respective constituent members of the storage container and foreign matter contamination (increase of foreign matter) to the mask blanks (that is, the top layer surfaces of various thin films formed on the mask blanks) are greatly reduced. That is, the mask manufacturing process which can hold | maintain and ensure the quality (foreign | defective defect quality) immediately after mask blank manufacture is provided. Furthermore, the mask manufacturing method which prevents generation | occurrence | production of the mask defect resulting from a foreign material contamination (increase of a foreign material) to the mask blank (namely, the uppermost surface of the various thin films formed in the mask blank) after mask blank manufacture, and prevents the fall of mask manufacturing yield. This is provided.

여기에서, 본 발명에 있어서의 마스크 블랭크는, 광의의 의미로 사용되는 것으로, 전사 노광광을 차광하는 기능을 가지는 차광막이 형성된 것, 전사 노광광에 대하여 위상차 변화를 초래하는 기능을 가지는 위상 시프트막이 형성된 것, 전사 노광광에 대한 차광 기능과 위상차 변화를 초래하는 기능을 겸비한 광반투과 막의 하프톤 위상 시프트막이 형성된 것, 전사 노광광을 반사하는 기능을 가지는 반사막이 형성된 것, 전사 노광광을 흡수하여 반사를 억제하는 기능을 가지는 흡수막이 형성된 것, 등등, 또는, 그것들의 적층막이 형성된 것으로, 투과형 및 반사형 마스크의 기능을 구성하기 위해 필요하게 되는 모든 기능막 혹은 그것들의 적층막을 포함하는 것이 형성된 것, 또는, 그것들에 레지스트를 도포한 것, 또한 레지스트 막 위 또는 아래에 반사 방지막, 도전성 막이 단독 혹은 적층하여 형성된 것, 레지스트 막 위 혹은 레지스트 막을 포함하는 적층막 위에 내환경성 보호막을 형성한 것을 포함한다. 또한 이들의 막이 형성되지 않아도 된다.Here, the mask blank in the present invention is used in a broad sense, wherein a light shielding film having a function of shielding transfer exposure light is formed, and a phase shift film having a function of causing a phase difference change with respect to the transfer exposure light. Formed, a halftone phase shift film of a light semitransmissive film having a light shielding function with respect to transfer exposure light and a function of causing a phase difference change, a reflection film having a function of reflecting transfer exposure light, and absorbing transfer exposure light An absorption film having a function of suppressing reflection is formed, or the like, or a laminate film thereof is formed, including any functional film or a laminate film thereof required to constitute a function of the transmissive and reflective mask. Or applying resist to them, and also reflecting on or under the resist film The prevention film, the conductive film formed by laminating | stacking alone or laminated | stacked, and the thing which provided the environmentally protective film on the resist film or the laminated film containing a resist film were formed. Moreover, these films do not need to be formed.

또한, 본 발명에 있어서의 마스크 블랭크는, 크롬레스 마스크나, 나노인프린트 기술에서 사용되는 스탬퍼 등에 사용되는 원판을 포함한다. 이 원판은, 기판위에 기판표면에 미세한 요철을 형성하기 위한 마스크 제조 프로세스에 사용되는 박막, 즉 마스크층 및 / 또는 레지스트 막이 형성된 것이다. 또한, 마스크층은, 단층막이라도 복수층 형성된 적층막이어도 된다. 또한 마스크층의 재료는, 마스크층 아래에 있는 기판 등에 대하여 소정이상의 에칭 선택비를 가지는 재료인 것이 바람직하다.In addition, the mask blank in this invention contains the original plate used for the chromeless mask, the stamper used for nanoinprint technology, etc. This original plate is formed with a thin film, that is, a mask layer and / or a resist film, used in a mask manufacturing process for forming fine irregularities on a substrate surface on a substrate. The mask layer may be a single layer film or a laminated film formed of a plurality of layers. In addition, it is preferable that the material of a mask layer is a material which has the etching selectivity more than predetermined with respect to the board | substrate etc. which are under a mask layer.

또한 마스크 블랭크는, LSI(반도체 회로)용 마스크 블랭크, 각종 PD(패널 디스플레이)용 마스크 블랭크 등, 모든 마스크의 소재가 포함된다. 기판의 재료는 특별히 한정되지 않는다. 합성 석영유리, 무알칼리 유리, 붕규산 유리, 알루미노 규산 유리, 소다라임 유리가 일반적으로 투명기판으로서 사용된다. 또한 반사형 마스크용의 기판재료는 초저팽창 유리 혹은 초저팽창 세라믹이 사용된다.The mask blank includes materials of all masks, such as a mask blank for LSI (semiconductor circuit) and a mask blank for various PD (panel display). The material of the substrate is not particularly limited. Synthetic quartz glass, alkali free glass, borosilicate glass, aluminosilicate glass and soda lime glass are generally used as the transparent substrate. As the substrate material for the reflective mask, ultra low expansion glass or ultra low expansion ceramic is used.

기판표면에 형성되는 박막에는, 마스크의 종류에 따라, 차광막, 위상 시프트막(위상 시프트 마스크의 경우), 반사막이나 흡수막(X선 마스크나 EUV마스크의 경우) 혹은 반사 방지막 등이 포함된다. 이들의 박막은, 전사 노광광을 통과시키거나 통과를 저지하거나 하는 등, 전사 노광광에 대하여 어떠한 작용을 하여 소정의 전사 패턴 상을 전사 대상물 위에 형성시키기 위한 것이다. 또한 마스크 제조 프로세스에 사용되는 박막, 예를 들면 레지스트 막 등도 포함된다.The thin film formed on the substrate surface includes a light shielding film, a phase shift film (in the case of a phase shift mask), a reflecting film or an absorbing film (in the case of an X-ray mask or an EUV mask), an antireflection film, or the like depending on the type of mask. These thin films are intended to form a predetermined transfer pattern image on the transfer object by performing any action on the transfer exposure light, such as passing or preventing passage of the transfer exposure light. Also included are thin films used in the mask manufacturing process, for example, resist films.

레지스트는, 네가티브형, 포지티브형 어느 쪽이라도 상관없다. 또한 레지스트종도 특별히 한정되지 않는다. 빛(자외선, 원자외선 등)노광 묘화용, 전자선 노광 묘화용 등등, 무엇이든지 좋다. 레지스트의 형성 방법도 특별히 한정되지 않는다. 회전 도포법, Capillary 도포법, Scan 도포법 등등, 무엇이든지 좋다.The resist may be either negative or positive. Moreover, resist species are not specifically limited, either. Light (ultraviolet rays, far ultraviolet rays, etc.) exposure drawing, electron beam exposure drawing, etc. may be used. The formation method of a resist is not specifically limited, either. Rotary coating, Capillary coating, Scan coating, etc. can be anything.

또한 본 발명에 있어서, 방진보호구는, 마스크 블랭크 주표면 상에 마스크 패턴이 형성되는 유효영역에는 접촉하지 않고, 비유효영역에 접촉하여 밀폐 공간을 형성하는 것, 즉 유효영역의 레지스트 막 그 외의 박막 등에 직접 닿지 않아 손상을 주지 않는 덮개 형상이면, 그 형상을 규정하는 것은 아니고, 무엇이든지 좋다.In the present invention, the anti-vibration protective device does not contact an effective area where a mask pattern is formed on the mask blank main surface, but forms an airtight space by contacting an invalid area, that is, a thin film of the resist film or the like in the effective area. If it is a cover shape which does not directly contact a back and does not damage, it does not prescribe the shape and may be anything.

또한 본 발명에 있어서 밀폐 공간은, 이송·수송 혹은 보관되는 환경과 완전히 차단하는 것에 한정되지 않고, 이물질이나, 과학적 오염물질 등이 마스크 블랭크 주표면에 부착되지 않을 정도로 밀폐된 공간이면 된다.In the present invention, the sealed space is not limited to being completely blocked from the environment to be transported, transported, or stored. The sealed space may be a closed space such that foreign substances, scientific contaminants, and the like are not adhered to the mask blank main surface.

또한 방진보호구는, 예를 들면 마스크 블랭크 사용의 직전에, 즉 마스크 제조 공정의 제1의 주요한 공정인 레지스트 노광 공정에 앞서, 분리된다. 또한 마스크 제조 공정의 레지스트 노광공정 직전에 레지스트를 도포하거나 또는 반사 방지막 및 또는 대전 방지막 등의 마스크 제조 프로세스에 사용되는 박막을 형성하는, 이들의 경우에 있어서는, 레지스트 도포(혹은 다른 박막의 형성에)앞서, 방진보호구를 분리한다.In addition, the dustproof protective equipment is separated, for example, immediately before the use of the mask blank, that is, prior to the resist exposure process, which is the first main process of the mask manufacturing process. In addition, in such a case, a resist is applied immediately before the resist exposure step of the mask manufacturing step or a thin film used in a mask manufacturing process such as an antireflection film and / or an antistatic film is applied. First, remove the dust protection.

따라서, 그 작용은, 마스크 블랭크 제조 공정에서의 최상층 형성의 직후부터, 마스크 블랭크가 수납 용기에 넣어져서, 이송·수송 혹은 보관되고, 그 후 마스크 블랭크가 수납 용기로부터 추출되어, 사용되기 직전까지 유지된다. 또한 이 방진 보호구의 재질 조성은, 마스크 블랭크 혹은 전사 노광광에 광학적으로 작용하는 마스크 기능막이나 마스크 제조 프로세스에 사용되는 레지스트 막 등의 기능 혹은 품질 및 마스크 제조 공정에, 아무런 영향도 주지 않는 것이 미리 선정된다.Therefore, the effect is that the mask blank is placed in the storage container, transferred, transported or stored immediately after formation of the uppermost layer in the mask blank manufacturing process, and then the mask blank is extracted from the storage container and held until just before use. do. In addition, the material composition of the dustproof protective device has no effect on the function or quality of the mask function film or the resist film used in the mask manufacturing process or the mask manufacturing process, which optically acts on the mask blank or the transfer exposure light. Is selected.

[발명의 효과][Effects of the Invention]

마스크 블랭크나 전사 플레이트(마스크나 스탬퍼)의 제조 프로세스 또는, 마스크 블랭크의 보관·반송시 등에 이물질이 마스크 블랭크 주표면의 패턴 전사용의 마스크 패턴 또는, 패턴 전사용의 요철이 형성되는 유효영역에 직접 부착되는 등으로 문제를 일으킬 우려를 효과적으로 방지하는 기능을 한다.During the manufacturing process of the mask blank or transfer plate (mask or stamper), or during storage and transport of the mask blank, foreign matter is directly in the mask area for pattern transfer on the main surface of the mask blank, or in an effective area where irregularities for pattern transfer are formed. It effectively prevents the possibility of causing a problem by being attached.

[발명을 실시하기 위한 최선의 형태]Best Mode for Carrying Out the Invention

도 1과 도 2는 본 발명의 실시예에 따른 마스크 블랭크의 제조 방법, 마스크의 제조 방법의 설명도이다. 이하, 도 1(a∼e)과 도 2(f∼j)를 참조하면서 본 발명의 실시예를 설명한다.1 and 2 are explanatory views of a method of manufacturing a mask blank and a method of manufacturing a mask according to an embodiment of the present invention. Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1A to 2F and 2F to j.

(제1의 실시예)(First embodiment)

우선, 종래법에 따라 마스크 블랭크를 제조한다. 적절히 연마를 실시한 152.4mm X 152.4mm로 두께가 6.35mm의 합성 석영유리로 이루어지는 기판(1)(도 1(a)) 위에, 도 1(b)에 나타나 있는 바와 같이 크롬을 주성분으로 하는 두께 45nm의 차광막(2)을 스퍼터링법에 의해 형성하고, 계속해서, 차광막(2) 위에, 산화 크롬을 주성분으로 하는 두께 25nm의 반사 방지막(3)을 스퍼터링법으로 형성했다.First, a mask blank is manufactured by the conventional method. 45 nm thick on a substrate 1 (FIG. 1 (a)) made of synthetic quartz glass having a thickness of 152.4 mm X 152.4 mm and suitably polished, as shown in FIG. Was formed by the sputtering method, and then on the light shielding film 2, an antireflection film 3 having a thickness of 25 nm containing chromium oxide as a main component was formed by the sputtering method.

다음에 도 1(c)에 나타나 있는 바와 같이 반사 방지막(3) 위에, 가열건조 처리 후의 막두께가 400nm이 되도록 레지스트 막(4)(포지티브형 화학증폭형 전자선 묘화 노광용 레지스트 FEP171:후지필름 아치사 제품)을 회전 도포했다. 다음에 도 1(d)에 나타나 있는 바와 같이 기판(1)의 가장자리부에 형성된 불필요한 레지스트 막을 제거했다.Next, as shown in Fig. 1 (c), on the antireflection film 3, the resist film 4 (positive chemically amplified electron beam drawing exposure resist FEP171: FUJIFILM arch yarn) has a film thickness after heat-drying treatment of 400 nm. Product) was applied by rotation. Next, as shown in Fig. 1 (d), the unnecessary resist film formed at the edge of the substrate 1 was removed.

이 경우, 불필요한 레지스트의 제거는, 공지한 불필요막 제거 장치(예를 들면 특허문헌 5에 기재된 장치)를 사용하고, 용제로서 유기용제를 사용하여 기판 가장자리부의 불필요한 레지스트 막을(기판단에서 약 3mm의 제거폭으로) 용해 제거하는 것으로 행했다. 또한 불필요한 레지스트 막을 용해 제거한 후에, 150℃로 설정한 핫플레이트(프록시미티 갭=0.2mm)를 사용하여 10분간, 레지스트 도포후의 가열건조 처리를 행하여 레지스트가 부착된 마스크 블랭크(101)를 제작했다.In this case, the removal of unnecessary resist is performed by using a well-known unnecessary film removal apparatus (for example, the apparatus described in Patent Document 5) and using an organic solvent as a solvent to remove an unnecessary resist film (about 3 mm from the substrate end). Dissolution removal). After dissolving and removing the unnecessary resist film, a heat-drying treatment after applying the resist was performed for 10 minutes using a hot plate set at 150 ° C. (proxymetic gap = 0.2 mm) to prepare a mask blank 101 with a resist.

그 후에 레이저 주사형 이물질 검사장치(히타치전자 엔지니어사 제품, GM-1000)로 마스크 블랭크 주표면의 이물질 결함수를 측정했다. 이 측정은, 마스크 블랭크의 유효영역 142mm 각(기판 중앙)의 표면의 이물질수(크기 0.25㎛이상)를 계수하는 것이다.Thereafter, the number of foreign matter defects on the main surface of the mask blank was measured by a laser scanning foreign matter inspection device (GM-1000, manufactured by Hitachi Electronics Engineer Co., Ltd.). This measurement counts the number of foreign matters (size 0.25 mu m or more) on the surface of the effective area 142 mm angle (substrate center) of the mask blank.

다음에 도 1(e)에 나타나 있는 바와 같이 방진보호구(5)를 장착했다.Next, as shown in FIG. 1 (e), the dustproof protective equipment 5 was attached.

여기에서, 방진보호구(5)의 형상은, 구체적으로는 도 3에 나타나 있는 바와 같이, 레지스트가 부착된 마스크 블랭크(101)의 주표면을 덮는 덮개 형상이며, 기판 중심부에서 가장자리에 걸친 대부분은 대략 수평한 평탄부(정방형상의 천판)를 가지고, 이 평탄부의 모든 단부(상기 정방형판의 4변)에서 대략 수직으로 아래쪽으로 접어 구부려 측벽부가 형성되어 있다.Here, the shape of the anti-vibration protective device 5 is specifically a cover shape covering the main surface of the mask blank 101 with a resist, as shown in FIG. It has a horizontal flat part (square top plate), and it bends substantially vertically downward at all the edge parts (four sides of the said square plate), and the side wall part is formed.

방진보호구(5)는, 레지스트가 부착된 마스크 블랭크(101)의 주표면에 탑재되었을 때, 방진보호구의 측벽부의 저부에 홈을 형성하여 고정된 기밀성을 유지하기 위한 O링이나 개스킷 등의 씰재(11)를 통해 레지스트가 부착된 마스크 블랭크(101)의 주표면의 비유효영역(기판중앙 142mm각보다 외측의 영역)에 접하고, 또한 측벽부의 저부를 제거하는 부위는 마스크 블랭크의 유효영역(기판중앙 142mm각의 영역)에 직접 닿지 않게, 밀폐 공간을 형성하는 구조로 되어 있다.When the antivibration protective equipment 5 is mounted on the main surface of the mask blank 101 with a resist, a seal member such as an O-ring or a gasket for forming a groove in the bottom of the side wall of the antivibration protective equipment to maintain a fixed airtightness ( 11) a portion in contact with the ineffective area (region outside the center of the substrate 142 mm) of the main surface of the mask blank 101 to which the resist is attached, and removing the bottom of the side wall portion is an effective area of the mask blank (center of the substrate). It is a structure which forms a closed space so that it may not directly contact a 142 mm square area | region.

또한 방진보호구(5)의 평탄부(천판)의 중심에는 연결부(12)를 통해 튜브(13)가 접속되고 있으며, 그 앞(방진보호구의 평탄부(천정판)에 접속된 튜브(13)의 반대의 단)에는, 상시 폐형(閉型) 스톱 밸브(14)(이 예에서는 에어오퍼레이트식)가 배치되고, 또한 스톱 밸브(14)로부터 다른 튜브(13)를 통해 진공펌프(15)(다이어프램식 드라이 펌프 등)에 접속되어 있다. 여기에서 방진보호구(5)는, 구체적으로는, PEEX（폴리·에테르·에테르·케톤)재로 이루어지는 외형 150mm각, 높이 2mm, 천정부의 두께 1mm, 측벽부의 두께 2mm의, 도 3에 기재된 덮개 형상의 방진보호구이다.In addition, the tube 13 is connected to the center of the flat part (top plate) of the anti-vibration protective device 5 through the connecting part 12, and in front of the tube 13 connected to the flat part (the ceiling plate) of the anti-vibration protective device. On the opposite end), a normally closed stop valve 14 (in this example, an air operated type) is arranged, and the vacuum pump 15 (from the stop valve 14 through another tube 13) ( Diaphragm type dry pump). Specifically, the dustproof protective device 5 is formed of a PEEX (polyether ether ketone) material with a lid shape of FIG. Dust protection.

또한 방진보호구(5)의 장착 고정은, 아래와 같이 행했다.The antivibration protective equipment 5 was fixed as follows.

전술과 같이 레이저 주사형 이물질 검사장치로 주표면의 이물질 결함수를 계수 측정한 후, 레지스트가 부착된 마스크 블랭크(101)를, 고정 지그(예를 들면 진공 척)에 주표면을 위로하여 고정하고, 이어서, 상기의 방진보호구(5)의 중심과 레지스트가 부착된 마스크 블랭크(101)의 중심을 맞추어, 방진보호구(5)를 레지스트가 부착된 마스크 블랭크(101)의 주표면에 놓았다. 이 경우, 방진보호구(5)와 마스크 블랭크(101)와의 접촉 부위는, 전술한 바와 같이 불필요한 레지스트 막을 미리 제거한(산화 크롬막이 노출했다) 부위와 방진보호구의 측벽부의 저부에 배치된 O링 등의 씰재(11)이다.As described above, after counting the number of foreign matter defects on the main surface with a laser scanning foreign matter inspection device, the mask blank 101 with a resist is fixed to the fixing jig (for example, a vacuum chuck) with the main surface upward. Subsequently, the center of the dustproof protective part 5 and the mask blank 101 with a resist were aligned, and the dustproof protective part 5 was placed on the main surface of the mask blank 101 with a resist. In this case, the contact portion between the dustproof protective member 5 and the mask blank 101 is, as described above, a portion from which an unnecessary resist film has been previously removed (chromium oxide film has been exposed) and an O-ring disposed at the bottom of the sidewall portion of the dustproof protective equipment. It is a seal material 11.

다음에 상기 상시 폐형 스톱 밸브(14)를 연(작동시킨) 상태에서 상기 진공펌프(15)를 작동시키고, 소정의 감압 압력에 달한 곳에서 상시 폐형 스톱 밸브(14)를 닫아(동작을 멈추어), 상기 스톱 밸브(14)보다 앞의 튜브(13) 및 진공펌프(15)를 분리했다. 상기의 작업에 의해 형성된 밀폐된 감압 공간에 의해, 방진보호구(5)는 마스크 블랭크(101)에 진공흡착되어 유지되고, 본 발명의 방진보호구가 부착된 포토마스크 블랭크(102)는 완성되었다.Next, the vacuum pump 15 is operated in a state where the normally closed stop valve 14 is opened (operated), and the normally closed stop valve 14 is closed (stopped operation) at a place where a predetermined decompression pressure is reached. The tube 13 and the vacuum pump 15 in front of the stop valve 14 were separated. By the sealed pressure-reduced space formed by the above operation, the dustproof protector 5 is vacuum-adsorbed to the mask blank 101, and the photomask blank 102 with the dustproof protector of the present invention is completed.

이 단계에서, 얻어진 방진보호구가 부착된 마스크 블랭크(102)(도 1(e))를 수납 용기에 넣었다. 수납 용기는 바깥 상자와 중간 상자로 이루어지고, 가운데 상자에는 수납홈이 형성되어 있다(예를 들면 특허문헌 1참조). 이 가운데 상자를 바깥 상자내에 소정의 유지 상태로 수용했다. 이 바깥 상자의 뚜껑을 덮어서 비닐 테이프로 고정하고, 수지제의 봉지에 넣어서 열 씰하여 외부로부터의 이물질의 침입을 방지하는 조치를 실시한 후, 발포 스티롤로 이루어지는 완충재와 골판지로 이 루어지는 수송용 곤포상자로 구성되는 수송용의 곤포를 행하고, 마스크 블랭크의 수송을 상정하여, 진동시험처리를 행했다. 이 진동시험은, 가속 평가시험으로서, 「MIL STD-81OD 514·3의 일반 차량환경에서의 처리(단, 가속도 2배로서 XYZ의 3방향에서 처리)」에 따른 진동시험 처리이다.In this step, the mask blank 102 (FIG. 1 (e)) with the obtained dustproof protective equipment was put into a storage container. A storage container consists of an outer box and an intermediate box, and a storage groove is formed in the center box (for example, refer patent document 1). This middle box was accommodated in a predetermined holding state in the outer box. Cover the lid of this outer box, fix it with vinyl tape, put it in a resin bag, heat seal it to prevent foreign material from invading from the outside, and then use a packing material made of foamed styrol and a transport package made of cardboard. The packing for transportation comprised of the box was performed, the transfer of the mask blank was assumed, and the vibration test process was performed. This vibration test is a vibration test process according to "the process in the general vehicle environment of MIL STD-81OD 514 * 3 (but it processes in three directions of XYZ at twice the acceleration)".

다음에 마스크 블랭크의 보관을 상정하여, 상기의 진동시험처리 후, 마스크 블랭크가 들어간 수납 용기를 상기의 수송용 곤포로부터 추출하여, 상기의 수지제의 봉지에 넣어 열 씰 된 상태로 30일간, 온도 및 습도관리된 클린룸 안에 방치했다(이상, 도 2(f)가 나타내는 형태에서의 마스크 블랭크 수송 및 보관).Next, assuming the storage of the mask blank, after the vibration test treatment, the storage container containing the mask blank was extracted from the packing for transportation, put in a resin bag and heat sealed for 30 days in a state of being heat sealed. And left in a humidity-controlled clean room (above, mask blank transport and storage in the form shown in FIG. 2 (f)).

다음에 상기 보관 후의 방진보호구가 부착된 마스크 블랭크(102)를 수납 용기로부터 추출하여, 방진보호구(5)를 분리했다. 구체적으로는, 상기의 방진보호구(5)의 천판에 접속되어 감압 밀폐 공간을 형성하기 위해 감압 처리후에 닫혀진 상시 폐형 스톱 밸브(14)를 개방하여(작동시켜서) 상기 밀폐 공간을 상압으로 되돌리는 것으로, 방진보호구(5)는 고정된 상태로부터 개방되어 분리가능하게 되었다. 여기에서 실제로는, 상기의 밀폐 감압 공간을 상압으로 되돌리기 위해 상시 폐형 스톱 밸브(14)의 개방에 의해 공급된 공기는, 필터를 경유한 별도의 튜브(13)에 의해 상기 스톱 밸브(14)(즉, 상기 밀폐 공간)에 공급했다.Next, the mask blank 102 with the dustproof protective device after the storage was extracted from the storage container, and the dustproof protective device 5 was separated. Specifically, the closed space is returned to normal pressure by opening (operating) the normally closed stop valve 14 which is closed after the decompression treatment in order to be connected to the top plate of the dustproof protective device 5 to form a reduced pressure sealed space. The dustproof protector 5 is opened from the fixed state and becomes detachable. In reality, the air supplied by opening of the normally closed stop valve 14 in order to return the above-mentioned closed pressure reducing space to the normal pressure is transferred to the stop valve 14 (by a separate tube 13 via a filter) ( That is, it supplied to the said sealed space.

방진보호구가 부착된 마스크 블랭크(102)로부터 방진보호구(5)를 분리한 후(도 1(g)), 다시 상기 레이저 주사형 이물질 검사장치로 마스크 블랭크 표면의 이물질수를 측정하여, 진동시험 처리 전후의 이물질의 증가(차이)를 구했다.After removing the dustproof protector 5 from the mask blank 102 with the dustproof protector (FIG. 1 (g)), the number of foreign matters on the surface of the mask blank was again measured by the laser scanning foreign matter inspection device, and the vibration test treatment was performed. The increase (difference) of foreign matters before and after was obtained.

그 결과는, 이물질의 증가수가 0.2개로, 매우 적고, 레이저 주사형 이물질 검사장치의 측정 재현 성능에 같은 값이었다. 이 경우, 이물질의 증가수는, 수납 용기에 넣어진 5장의 마스크 블랭크의 이물질 증가의 평균치를 사용했다.As a result, the number of increase of the foreign matter was 0.2, which was very small, and was the same value for the measurement reproduction performance of the laser scanning foreign matter inspection apparatus. In this case, the increase number of the foreign matter used the average value of the foreign material increase of the five mask blanks put into the storage container.

또한, 비교로서, 방진보호구(5)를 장착하지 않은 것 이외에는 같은 조건으로 진동시험처리 전후의 이물질의 증가(차이)를 구한 결과에서는, 이물질의 증가수가 68개였다. 덧붙여서 말하면, 방진보호막을 설치하지 않은 것과 동시에, 마스크 블랭크 가장자리부의 불필요한 레지스트막의 제거를 미리 행하지 않았을 경우에는, 마찬가지로 이물질의 증가수는 284개이였다.As a comparison, the increase (difference) of foreign matters before and after the vibration test treatment under the same conditions except that the anti-vibration protective equipment 5 was not attached was found to be 68. Incidentally, when the anti-vibration protective film was not provided and the unnecessary resist film of the mask blank edge portion was not removed beforehand, the increase in foreign matter was 284 in the same manner.

다음에 도 2(h)에 나타나 있는 바와 같이 레지스트 막(4)에 패턴 노광을 실시하여, 노광후 베이크 처리하고, 이어서 현상 처리하는 것으로, 레지스트 패턴(4a)을 형성했다. 여기에서, 레지스트 막(4)의 노광, 노광후 베이크, 현상 처리는, 아래와 같이 행했다. 즉, 전자선 노광 장치에 의해 레지스트 막(4)(상기FEP171)을 노광하고(가속 전압 20kV, 노광량 3.5μC/cm²), 노광후, 가열처리(PEB:Post-Exposure Bake처리, 150℃, 10분 처리)하고, 현상 처리(스프레이법, 2.38％·TMAH현상액, 60초 처리)하여, 레지스터 패턴(4a)을 형성했다.Next, as shown in FIG.2 (h), the resist film 4 was subjected to pattern exposure, post-exposure bake treatment, and then developed to form a resist pattern 4a. Here, exposure, post-exposure bake and development of the resist film 4 were performed as follows. That is, the resist film 4 (the said FEP171) is exposed by an electron beam exposure apparatus (acceleration voltage 20kV, exposure amount 3.5 microC / cm <^2> ), after exposure, heat processing (PEB: post-exposure bake treatment, 150 degreeC, 10 Powder treatment) and development treatment (spray method, 2.38% TMAH developer, 60 second treatment) to form a resist pattern 4a.

이와 같이 형성된 레지스트 패턴(4a)(설계값 400nm의 라인·앤드·스페이스·패턴)의 스페이스부의 치수를 측장 SEM으로 계측한 결과는 414nm이었다. 이에 대하여 비교예로서, 방진보호구를 사용하지 않고 제작한 마스크 블랭크에 있어서, 레지스트 막에 대하여, 상기와 동일 조건으로 패터닝 가공하여 완성된 설계값 400nm의 라인·앤드·스페이스·패턴의 스페이스부의 치수는 411nm이었다.The measurement of the dimension of the space part of the resist pattern 4a (line-and-space pattern of 400 nm of design value) formed in this way by the measurement SEM was 414 nm. On the other hand, as a comparative example, in the mask blank produced without using the dustproof protective equipment, the dimension of the space portion of the line and space pattern with a design value of 400 nm completed by patterning the resist film under the same conditions as described above is 411 nm.

양자의 라인·앤드·스페이스·패턴의 스페이스부에서의 치수의 차이(3nm)는, 사용한 계측 수단을 포함하는 패터닝 프로세스의 안정성에 기인하는 오차의 범위 이하이며, 따라서, 방진보호구의 채용에 의한 레지스트 막의 성능의 영향은 없었다고 판단된다.The difference in dimensions (3 nm) in the space portion of both line and space patterns is less than or equal to the range of the error resulting from the stability of the patterning process including the measuring means used, and therefore, the resist by employing the dustproof protective equipment. It was judged that there was no influence of the performance of the membrane.

이어서, 마스크 기능막(반사 방지막(3) 및 차광막(2))에 에칭 처리를 실시하고(도 2(i)), 마지막으로, 레지스트 패턴(4a)을 박리제거하는 것으로, 마스크(레티클)(103)(도 2(j))는 완성되었다. 마스크 검사장치에서, 마스크 패턴을 검사한 바, 방진보호구를 설치한 마스크 블랭크를 사용하여 작성한 마스크에는 패턴 결함은 없었지만, 방진보호구를 설치하지 않은 마스크 블랭크를 사용하여 작성한 마스크에는, 패턴 결함이 발생하며, 특히, 마스크 블랭크 가장자리부의 불필요한 레지스트 막의 제거를 행하지 않은 것에 대해서는, 많이 발견되었다.Subsequently, an etching process is performed on the mask function film (the antireflection film 3 and the light shielding film 2) (FIG. 2 (i)), and finally, the resist pattern 4a is peeled off to remove the mask (reticle) ( 103 (FIG. 2 (j)) is complete. In the mask inspection apparatus, when a mask pattern was inspected, a mask created using a mask blank provided with a dustproof protective device did not have a pattern defect, but a pattern defect occurred in a mask created using a mask blank without a dustproof protective device. In particular, much has been found about not removing the unnecessary resist film of the mask blank edge part.

여기에서, 상기 실시예에서는, 방진보호구의 장착 고정 수단으로서, 방진보호구의 측벽 저부의 홈에 매립된 씰재와 스톱 밸브에 의해 형성시키는 밀폐 공간을 그것에 연결된 진공펌프로 감압시켜 감압 밀폐 공간을 형성하는 진공흡착법을 사용했지만, 이 구성 수단에 한정하는 것은 아니다. 예를 들면 이하와 같은 실시예가 유효하다.Here, in the above embodiment, as the mounting fixing means of the dustproof protector, the sealed space formed by the seal member embedded in the groove of the side wall bottom of the dustproof protector and the stop valve is reduced by a vacuum pump connected thereto to form a reduced pressure sealed space. Although the vacuum adsorption method was used, it is not limited to this structural means. For example, the following embodiments are effective.

(제2의 실시예)(2nd Example)

감압 밀폐 공간을 이용한 진공흡착법을 사용하여 방진보호구를 마스크 블랭크에 장착 고정하는 별도의 수단으로서, 구체적으로는 도 4에 나타나 있는 바와 같은, 방진보호구의 측벽저부의 홈에 매립된 기밀성을 유지하기 위한 O링이나 개스킷 등의 씰재(11)와 천판 등에 설치된 상시 폐형 스톱 밸브(14)에 의해 형성되는 공간을 사용하여, 상시 폐형 스톱 밸브를 개방한(작동시킨)후, 상기의 방진보호구가 부착된 마스크 블랭크를 진공 기밀실(16)에 넣어서, 거기에 연결된 진공펌프(15)를 동작시켜서 감압시키며, 이어서 상시 폐형 스톱 밸브(14)를 닫는(작동을 멈춘다) 것으로, 감압 밀폐 공간을 형성하는 방법이라도 된다.As a separate means for attaching and fixing the dustproof protector to the mask blank using a vacuum adsorption method using a vacuum decompression space, specifically, to maintain the airtightness embedded in the groove of the side wall bottom of the dustproof protector, as shown in FIG. After opening (operating) the normally closed stop valve by using a space formed by a seal member 11 such as an O-ring or a gasket and a normally closed stop valve 14 installed on a top plate, the above dustproof protective device is provided. The mask blank is placed in the vacuum hermetic chamber 16, and the vacuum pump 15 connected thereto is operated to depressurize, and then the closed valve 14 is normally closed (stopped operation), thereby forming a reduced pressure sealed space. do.

(제3의 실시예)(Third Embodiment)

또한, 감압 밀폐 공간을 이용한 진공흡착법을 사용하여 방진보호구를 마스크 블랭크에 장착 고정하는 별도의 수단으로서, 구체적으로는 도 5에 나타나 있는 바와 같은, 방진보호구의 측벽 저부의 홈에 매립된 기밀성을 유지하기 위한 O링이나 개스킷 등의 씰재(11)와, 방진보호구의 예를 들면 측벽부에 형성한 개구부에 별도의 기밀성을 유지하기 위한 O링이나 개스킷 등의 씰재(11a)를 통해 고정판(17)에 의해 고정된 가열에 의한 밀봉(열 씰)이 가능한 열 밀봉용 수지봉지(18)를 구비하여 제작한 방진보호구를 사용하는 방법이 있다.In addition, as a separate means for attaching and fixing the dustproof protector to the mask blank by using a vacuum adsorption method using a pressure-reduced closed space, specifically, the airtightness embedded in the groove of the side wall bottom of the dustproof protector as shown in FIG. 5 is maintained. The fixing plate 17 through the sealing material 11, such as an O-ring and a gasket, and the sealing material 11a, such as an O-ring and a gasket, for maintaining separate airtightness in the opening part formed in the side wall part of an anti-vibration protective device, for example. There is a method of using the dustproof protective equipment provided with the resin bag 18 for heat sealing which can be sealed by heat | fever fixed by heat (heat sealing).

우선, 상기 열 밀봉용 수지봉지(18)의 단(씰재(11a)로 눌려지고 있는 측과는 반대인 단)을 개방으로 한 채, 상기 방진보호구를 놓은 마스크 블랭크를 진공기밀실(16)에 넣고, 거기에 연결된 진공펌프(15)로 진공기밀실 내를 감압시킨다. 그 후에 상기 열 밀봉용 수지봉지의 단부(도면 중, 열 밀봉부(18a))를 가열 밀봉하고, 마지막으로 진공기밀실(16)을 상압으로 되돌리는 것으로 형성되는 감압 밀폐 공간을 이용하는 방법이라도 좋다.First, the mask blank on which the dustproof protective device is placed is placed in the vacuum hermetic chamber 16 with the end of the heat sealing resin bag 18 (the end opposite to the side pressed by the seal member 11a) open. The inside of the hermetic chamber is decompressed by the vacuum pump 15 connected thereto. Thereafter, a method of using a reduced pressure sealed space formed by heat sealing the end portion (heat seal portion 18a of the drawing) of the resin seal for heat sealing and finally returning the vacuum hermetic chamber 16 to normal pressure may be used.

이 방법에 의하면, 방진보호구의 장착 고정은, 널리 일반적으로(식품 등의 진공 곤포에) 사용되고 있는 진공곤포 장치를 사용할 수 있다. 또한 스톱 밸브 등을 방진보호구에 구비한 채 마스크 블랭크를 수송 혹은 보관할 필요가 없다. 또한 마스크 블랭크 사용시의 방진보호구의 분리(즉 밀폐 감압 공간을 상압으로 되돌리는 수단으로서)는, 전술의 열 밀봉용 수지봉지를 찢기만 하면 되므로, 매우 간편하다.According to this method, the vacuum packing apparatus which is widely used for vacuum packing, such as foodstuff, can be used for fixing and mounting a dustproof protective equipment. In addition, there is no need to transport or store the mask blank with a stop valve or the like provided in the dustproof protective device. The separation of the dustproof protective device during use of the mask blank (that is, as a means for returning the sealed pressure-reduced space to normal pressure) is very easy because the resin bag for heat sealing described above needs to be torn.

(제4의 실시예)(4th Example)

감압 밀폐 공간을 이용한 진공흡착법을 사용하여 방진보호구를 마스크 블랭크에 장착 고정하는 별도의 수단으로서, 구체적으로는 도 6에 나타나 있는 바와 같은, 방진보호구의 측벽 저부의 홈에 매립된 기밀성을 유지하기 위한 O링이나 개스킷 등의 씰재(11)와 천판에 설치된 흡반기구(19)에 의한 감압 밀폐 공간의 형성에 의해서도 좋다.As a separate means for attaching and fixing the dustproof protector to the mask blank by using a vacuum adsorption method using a vacuum decompression space, specifically, to maintain the airtightness embedded in the groove of the side wall bottom of the dustproof protector, as shown in FIG. It is also possible to form a pressure-sensitive sealed space by a seal member 11 such as an O-ring or a gasket, and a sucker mechanism 19 provided on the top plate.

이 방법에 의하면, 진공펌프, 스톱 밸브 등의 설비를 필요로 하지 않고, 간편하게 방진보호구의 장착 및 분리가 가능하게 된다. 또한 흡반기구(19)의 배치 위치는, 방진보호구의 고정을 위한 O링과의 감압밀폐 공간을 형성할 수 있는 위치이면 어디라도 좋다.According to this method, it is possible to easily attach and detach the dustproof protective equipment without requiring equipment such as a vacuum pump and a stop valve. In addition, the arrangement | positioning position of the sucker mechanism 19 may be anywhere as long as it can form the pressure-sensitive sealing space with the O-ring for fixing the dustproof protective equipment.

흡반기구(19)는, 흡반에 흡반의 상하 동작기구와 고정 기구와 외곽을 구비한 것이며, 방진보호구를 올려놓거나 혹은 분리할 때에는 흡반을 내려 두고, 방진보호구를 장착 고정할 때에는 흡반을 올려 밀폐 공간 내를 감압하는 기구를 가지는 것이며, 상기 밀폐 공간을 감압하여 방진보호구를 확실하게 고정하는 데 필요한 용적(흡반의 상하 이동에 의한 용적 변화량)이 있으면, 무엇이든 좋다. 또한 흡반소 재 등의 흡반기구의 구성재는, 레지스트 막의 성능에 영향을 주지 않는 재료를 선정하여 사용하는 것이 바람직하다.The sucker mechanism 19 is provided with the up-and-down operation mechanism, the fixing mechanism, and the periphery of the sucker, and the sucker is lowered when the dustproof protective equipment is placed or removed, and the sucker is raised when the dustproof protective equipment is mounted and fixed. It has a mechanism which depressurizes the inside, and if there is a volume (volume change amount by the up-and-down movement of a sucker) required to depressurize the said sealed space and to fix a dustproof protection reliably, anything may be sufficient. In addition, it is preferable to select and use the material which does not affect the performance of a resist film as a structural material of a sucker mechanism, such as a sucker material.

상기의 제1의 실시예와 같이, 진동시험처리 전후의 이물질의 증가(차이)를 조사했지만, 이물질의 증가수는 제1의 실시예와 변함이 없었다. 또한, 이 마스크 블랭크를 사용하여 작성한 마스크의 패턴 결함을 검사했지만 없었다.As in the first embodiment described above, the increase (difference) of foreign matters before and after the vibration test process was examined, but the increase number of foreign matters was not changed from the first embodiment. In addition, the pattern defect of the mask created using this mask blank was not examined.

(제5의 실시예)(Fifth Embodiment)

밀폐 공간을 감압하여 방진보호구를 마스크 블랭크에 장착 고정하는 별도의 수단으로서는, 본 발명의 제3의 수단(청구항 3)으로서 기재한 바와 같이, 마스크 블랭크와 방진보호구(5)의 고정에 흡반 시트(20)를 사용하는 수단을 채용해도 좋다. 구체적으로는 도 7에 나타나 있는 바와 같이 방진보호구(5)의 측벽부의 바닥에 수지 등으로 이루어지는 흡반 시트(20)를 미리 흡착시키고, 다음에 이것을 마스크 블랭크의 비유효 영역(기판중앙 142mm각보다 외측의 영역)에 흡착시키면 좋다.As another means for attaching and fixing the dustproof protective equipment to the mask blank by depressurizing the sealed space, as described as the third means (claim 3) of the present invention, the sucker sheet (for fixing the mask blank and the dustproof protective equipment 5) 20) may be employed. Specifically, as shown in FIG. 7, the sucker sheet 20 which consists of resin etc. is previously adsorb | sucked to the bottom of the side wall part of the dustproof protective part 5, and this is next to the non-effective area | region of a mask blank (outside 142 mm angle of board | substrate center). In the region of?

흡반 시트(20)의 흡반 패턴(공동실의 형상)은, 메쉬 형상, 딤플 형상, 벌집 형상 등등, 무엇이든지 좋지만, 방진보호구가 마스크 블랭크에 흡반 시트(20)에 의해 장착되었을 때, 방진보호구와 마스크 블랭크로 형성되는 공간이 밀폐되도록(외부에서의 이물질의 진입을 억지하기 위해), 흡반 시트의 공동부가 상기 밀폐 공간의 내외에서 관통하지 않는 흡반 패턴으로 하는 것이 바람직하다. 또한 방진보호구의 측벽부의 바닥에, 필요에 따른 장착 고정 강도를 얻을 수 있는 고밀도로 형성하는 것이 바람직하다. 또한 흡반 시트(20)는, 양면이 흡반 시트라도, 한 면(마스크 블랭크에 접하는 측)이 흡반 시트이며, 다른 한 쪽(방진보호구에 흡반 시트가 고정되는 측)이 어떠한 접착제로 구성되어 있어도 된다.The sucker pattern (shape of the cavity) of the sucker sheet 20 may be any of a mesh shape, a dimple shape, a honeycomb shape, and the like, but when the dustproof protector is attached to the mask blank by the sucker sheet 20, It is preferable to set it as the suction pattern which the cavity part of a suction sheet does not penetrate inside and outside of the said sealing space so that the space formed by the mask blank may be sealed (to prevent entry of foreign matter from the outside). Furthermore, it is preferable to form in the bottom of the side wall part of a dustproof protective body with high density which can acquire the mounting fixed strength as needed. In addition, even if both surfaces are a sucker sheet, the sucker sheet 20 may be a sucker sheet on one side (the side which contact | connects a mask blank), and the other side (the side by which a sucker sheet is fixed to a dustproof protector) may be comprised by what kind of adhesive agent. .

상기의 제1의 실시예와 마찬가지로, 진동시험처리 전후의 이물질의 증가(차이)를 조사했지만, 이물질의 증가수는 제1의 실시예와 변함이 없었다. 또한, 이 마스크 블랭크를 사용하여 작성한 마스크의 패턴 결함을 검사했지만 없었다.Similarly to the first embodiment described above, the increase (difference) of foreign matters before and after the vibration test treatment was examined, but the increase number of foreign matters was not changed from the first embodiment. In addition, the pattern defect of the mask created using this mask blank was not examined.

(제6의 실시예)(Sixth Embodiment)

방진보호구를 마스크 블랭크 기판에 장착 고정하는 또 다른 수단으로서는, 본 발명의 제4의 수단(청구항 4)으로서 기재한 바와 같이, 상온에서는 접착성을 가지고, 가열하면 접착성이 저하 혹은 상실하는 열가소성 접착제(21)를 사용할 수 있다. 구체적으로는 도 8에 나타나 있는 바와 같이 방진보호구(5)의 측벽부의 바닥에 상기의 접착제(21)을 도포하고, 이 접착제(21)에 의해 방진보호구(5)를 마스크 블랭크(101)에 고정시킨다.As another means for attaching and fixing the dustproof protective device to the mask blank substrate, as described as the fourth means (claim 4) of the present invention, the thermoplastic adhesive has adhesiveness at room temperature, and the adhesiveness is reduced or lost when heated. 21 may be used. Specifically, as shown in FIG. 8, the adhesive 21 is applied to the bottom of the side wall of the dustproof protective part 5, and the dustproof protective part 5 is fixed to the mask blank 101 by the adhesive 21. Let's do it.

일례로서, 니토덴코사 제품「열 박리 시트·리버알파」를 점착 좌석으로서 사용한 예를 이하에 나타낸다.As an example, the example which used "thermal peeling sheet river alpha" by Nitto Denko Corporation as an adhesive seat is shown below.

상온에서는 접착성을 가지고, 가열하면 접착성이 저하하는 열가소성 접착제를 기본재(폴리에스텔)의 한 쪽에 도포한 상기의 양면 접착테이프를, 나머지 다른 쪽의 베이스 시트 접착용 점착제측을 방진보호막의 측벽부의 바닥으로 하여 붙이고, 이어서, 가열하면 접착성이 저하하는 열가소성 접착제측을 마스크 블랭크의 비유효영역(기판중앙 142mm각보다 외측의 영역)에 접착시킨다.At room temperature, the above-mentioned double-sided adhesive tape obtained by applying a thermoplastic adhesive that has adhesiveness and then deteriorates when heated is applied to one side of the base material (polyester). It is made to adhere to the bottom, and then the thermoplastic adhesive side whose adhesiveness decreases when it heats is adhere | attached on the ineffective area | region (region outside the 142 mm center of board | substrate) of a mask blank.

마스크 제조 공정에 있어서, 마스크 블랭크를 사용하는 데 앞서서는, 마스크 제조 공정에서 널리 일반적으로 사용되고 있는 핫플레이트형 가열처리장치를 사용 하여, 상기의 방진보호구가 부착된 마스크 블랭크를 소정의 가열온도로 처리한다 (예를 들면 150℃에서 7.5분). 이 접착제의 기능(가열에 의해 접착성이 저하한다)에 의해, 마스크 블랭크에 장착 고정되고 있었던 방진보호구는 분리가 가능하게 된다.In the mask manufacturing process, prior to using the mask blank, the mask blank with the dustproof protective device is treated at a predetermined heating temperature by using a hot plate type heat treatment apparatus which is widely used in the mask manufacturing process. (For example 7.5 minutes at 150 ° C.). By the function of this adhesive (adhesion falls by heating), the dustproof protective equipment attached to and fixed to the mask blank is separable.

실시예에서는, 특정의 상온에서는 접착성을 가지고, 가열하면 접착성이 저하하는 열가소성 접착제를 기본재의 한 쪽에 도포한 상기 시판의 양면 접착테이프를 사용했지만, 레지스트가 부착된 마스크 블랭크의 경우, 레지스트 막의 성능에 영향을 주지 않는 접착제 및 그 접착제를 사용한 양면 테이프의 기본재를 선정하는 것이 바람직하다.In the embodiment, although a commercially available double-sided adhesive tape was applied on one side of the base material, which had adhesiveness at a specific room temperature and the adhesiveness decreased when heated, in the case of a mask blank with a resist, It is preferable to select the adhesive which does not affect performance, and the base material of the double-sided tape using the adhesive.

(제7의 실시예)(Seventh embodiment)

상기의 방진보호구를 마스크 블랭크 기판에 장착 고정하는 별도의 수단으로서는, 본 발명의 제5의 수단(청구항 5)으로서 기재한 바와 같은 수단이 바람직하다. 즉, 상온에서는 접착성을 가지고, 가열하면 접착성이 저하하는 열가소성 접착제(21)를 사용할 경우, 그 별도의 구성으로서, 사용하는 열가소성 접착제가, 그 접착성이 저하 또는 상실하는 온도가, 상온보다 높은 온도이고 또한 레지스트 도포 후의 베이크 처리 또는 노광 후의 베이크 처리의 어느 낮은 쪽의 온도보다 낮은 열가소성 접착제(22)를 사용하는 것이 더욱 바람직하다.As another means for attaching and fixing the above-mentioned dustproof protective equipment to the mask blank substrate, the means as described as the fifth means (claim 5) of the present invention is preferable. That is, when using the thermoplastic adhesive 21 which has adhesiveness at normal temperature and whose adhesiveness falls when it heats, as another structure, the temperature at which the thermoplastic adhesive to be used falls or loses the adhesiveness is more than normal temperature. It is more preferable to use the thermoplastic adhesive 22 which is higher in temperature and lower than any lower temperature of the baking treatment after resist coating or the baking treatment after exposure.

상기 접착제(22)를 사용했을 경우, 그 작용 기구는, 도 8에 나타낸 것과 완전 동일하지만, 접착성을 저하시켜서 방진보호구(5)를 분리하기 위한 가열처리 온도가, 레지스트 도포후의 베이크 처리 혹은 노광후의 베이크 처리의 어느 낮은 쪽의 온도보다 낮은 것으로, 특히 레지스트가 부착된 마스크 블랭크(102)에 방진보호구(5)를 장착 고정할 경우에는, 방진보호구(5)의 분리를 위한 가열처리의 레지스트 막으로의 영향(예를 들면 감도변화, 패턴 형상변화, 막 두께 감소 등)을 최소한으로 억제할 수 있다.In the case where the adhesive 22 is used, the working mechanism is exactly the same as that shown in Fig. 8, but the heat treatment temperature for degrading the adhesiveness and separating the dustproof protective device 5 is a bake treatment or exposure after applying the resist. The resist film of the heat treatment for separation of the dustproof protector 5, which is lower than the temperature of any of the subsequent bake treatments, particularly when the dustproof protector 5 is attached to and fixed to the mask blank 102 with a resist. Can be minimized (for example, sensitivity change, pattern shape change, film thickness decrease, etc.).

일례로서, 니토덴코사 제품 「열 박리 시트·리버알파(박리시의 가열온도가 90℃의 것)」를 점착 시트로서 사용한 예를 이하에 나타낸다. 상기의, 상온에서는 접착성을 가지고, 가열하면 접착성이 저하하는 열가소성 접착제를 기본재(폴리에스테르)의 한 쪽에 도포한 양면 접착테이프를, 나머지 한쪽의 베이스 시트 접착용 점착제측을 방진보호막의 측벽부의 바닥으로 하여 붙이고, 이어서, 가열하면 접착성이 저하하는 열가소성 접착제측을 레지스트가 부착된 마스크 블랭크(레지스트는, 전자선 노광 묘화용 포지티브형 화학증폭형 레지스트인, FEP171(후지 필름 아치사 제품))의 비유효영역에 접착시킨다.As an example, the example which used "The heat peeling sheet river alpha (thing of the heating temperature of 90 degreeC at the time of peeling)" made from Nitto Denko Corporation as an adhesive sheet is shown below. The double-sided adhesive tape which apply | coated to one side of a base material (polyester) the thermoplastic adhesive which has adhesiveness at the said normal temperature, and adhesiveness falls when heated, and the adhesive side for adhesion of the other base sheet is a side wall of a dustproof protective film The mask blank (resist is a positive chemically amplified resist for electron beam exposure drawing FEP171 (made by Fujifilm Arch)) which a resist adhered to the thermoplastic adhesive side which adheres as a negative bottom, and, when it heats, and the adhesiveness falls after heating. To an ineffective area of the substrate.

마스크 제조 공정에 있어서, 마스크 블랭크를 사용하는 데 앞서서는, 마스크 제조 공정에서 널리 일반적으로 사용되고 있는 핫플레이트형 가열처리장치를 사용하고, 상기의 방진보호구가 부착된 마스크 블랭크를 소정의 가열온도로 처리한다 (이 예에서는, 90℃에서 7.5분). 이 접착제의 기능(가열에 의해 접착성이 저하한다)에 의해, 마스크 블랭크에 장착 고정되고 있었던 방진보호구는 분리가 가능하게 된다.In the mask fabrication process, prior to using the mask blank, a hot plate type heat treatment apparatus widely used in the mask fabrication process is used, and the mask blank with the dust protection device is treated at a predetermined heating temperature. (In this example, 7.5 minutes at 90 ° C). By the function of this adhesive (adhesion falls by heating), the dustproof protective equipment attached to and fixed to the mask blank is separable.

상기의 레지스트 FEP171은, 도포후의 베타 처리 온도, 노광후 베이크 처리 온도 모두 130∼150℃로 처리되었을 경우에 최대의 성능을 발현한다. 또한 추가의 가열처리가 행해져도, 상기 온도범위 이하의 가열온도이면, 그 성능에 아무런 영향을 받지 않는 것이 확인되고 있다.The above-mentioned resist FEP171 exhibits maximum performance when both the beta treatment temperature after application and the post-exposure bake treatment temperature are treated at 130 to 150 ° C. Moreover, even if additional heat processing is performed, it is confirmed that if the heating temperature is below the said temperature range, the performance will not be influenced at all.

상기의 예에서는, 특정한 상온에서는 접착성을 가지고, 가열하면 접착성이 저하하는 열가소성 접착제를 기본재의 한 쪽에 도포한 상기 시판의 양면 접착테이프를 사용했지만, 레지스트 막의 성능에 영향을 주지 않는 접착제 및 그 접착제를 사용한 양면 테이프의 기본재를 선정하는 것이 바람직하다.In the above example, although the commercially available double-sided adhesive tape which applied the thermoplastic adhesive which has adhesiveness at specific room temperature, and whose adhesiveness falls when it heats was applied to one side of the base material was used, the adhesive which does not affect the performance of a resist film, and its It is preferable to select the base material of the double-sided tape using an adhesive agent.

(제8의 실시예)(Eighth Embodiment)

또한 덮개 형상을 이루는 방진보호구의 다른 형태로서, 본 발명의 제4의 수단(청구항 4)으로서 기재한 구체적인 예로서, 도 9에 나타나 있는 바와 같이 알루미늄 등의 금속으로 이루어지는 프레임(23)의 한 쪽에 니트로셀룰로오스 등의 투명막(22)을 붙인 펠리클을 사용할 수 있다.In addition, as a specific example described as the fourth means (claim 4) of the present invention as another form of the dustproof protective device forming the cover shape, as shown in FIG. 9, one side of the frame 23 made of metal such as aluminum A pellicle with a transparent film 22 such as nitrocellulose can be used.

이 해결 수단에 의하면, 방진보호구와 마스크 블랭크가 형성하는 밀폐 공간내(즉 마스크 블랭크 표면)를, 투명막을 거쳐 목시 관찰하는 것이 가능하고, 또한 검사장치에 따라서는, 이 방진보호구를 장착한 채(니트로셀룰로오스 등의 투명막을 거쳐), 레이저 표면 이물질 검사장치로 마스크 블랭크 표면의 이물질수를 계수가능하다. 이에 따라 방진보호구를 장착한 후 혹은 분리전의 마스크 블랭크 표면상태의 검사가 가능하게 된다.According to this solution, it is possible to visually observe the inside of the airtight space (that is, the mask blank surface) formed by the dustproof protective equipment and the mask blank through the transparent film, and depending on the inspection apparatus, the dustproof protective equipment is mounted ( Through a transparent film such as nitrocellulose), the number of foreign matters on the surface of the mask blank can be counted by a laser surface foreign matter inspection device. This enables inspection of the mask blank surface state after the antivibration protective equipment is attached or before separation.

또한 펠리클은 접착제를 통해 마스크 블랭크에 장착되는 것이 일반적이지만, 이 해결 수단에서는, 펠리클 장착용 접착제 대신에, 방진보호구를 마스크 블랭크에 장착하는 수단으로서, 상기 제2나 제3의 수단의 어느 것을 사용하면 된다.In addition, although the pellicle is generally mounted on the mask blank through an adhesive, in this solution means, in place of the pellicle mounting adhesive, any of the second and third means is used as a means for attaching the dust protection device to the mask blank. Just do it.

상기 실시예에서는, 기판 가장자리부의 불필요한 레지스트 막을 선택적으로 제거한 후에 방진보호구를 장착 고정했지만, 기판 가장자리부의 불필요한 레지스트 막은 제거하지 않아도 된다. 단, 상기 방진보호구를 장착 고정하기 전에는, 기판 가장자리부의 불필요한 레지스트 막을 제거해 두는 것이 바람직하다. 방진보호구의 장착에 의해 레지스트 막(마스크 블랭크) 표면은 진애의 직접적인 부착으로부터 보호되지만, 미리 불필요한 레지스트 막을 기판 가장자리부 혹은 방진보호구와의 접촉부로부터 제거해 두는 것으로 진애의 발생 자체를 억제할 수 있으며, 예를 들면 방진보호구의 장착 혹은 분리 시에, 이들 진애에 의한 마스크 블랭크 표면의 오염(이물질 증가)을 억제할 수 있다. 이것은, 레지스트 막만을 형성한 마스크 블랭크에 방진보호구를 장착하는 경우에 한정하지 않으며, 또한 반사 방지막, 도전성 막, 내환경 보호막 등등을 적층한 경우라도 적용된다.In the above embodiment, the dustproof protective equipment is mounted and fixed after selectively removing the unnecessary resist film at the substrate edge, but the unnecessary resist film at the substrate edge may not be removed. However, it is preferable to remove the unnecessary resist film at the edge of the substrate before attaching and fixing the dustproof protective equipment. Although the surface of the resist film (mask blank) is protected from the direct attachment of dust by the installation of the dust protection device, the occurrence of dust itself can be suppressed by removing unnecessary resist film from the substrate edge or the contact with the dust protection device in advance. For example, when attaching or detaching the dustproof protective device, contamination (increasing foreign matter) on the surface of the mask blank by these dusts can be suppressed. This is not limited to the case where the anti-vibration protective equipment is attached to the mask blank in which only the resist film is formed, and also in the case of laminating an antireflection film, a conductive film, an environmental protection film and the like.

또한 상기 실시예에서는, 레지스트 막의 성막 후에 방진보호구를 장착했지만, 레지스트 막을 도포 형성하지 않고 마스크 블랭크를 보관 혹은 이송·수송하는 경우에는, 예를 들면 차광막 혹은 흡수막 등, 최상층의 성막 형성 후에 방진보호구를 장착하면 된다.In the above embodiment, the dustproof protective equipment was attached after the formation of the resist film. However, when the mask blank is stored, transported or transported without coating the resist film, the dustproof protective equipment is formed after the formation of the uppermost layer such as a light shielding film or an absorbing film. Just install it.

또한 상기 실시예에서는, 방진보호구의 효과를 검증하기 위해, 레지스트를 도포한 후에, 이어서, 레이저 주사형 이물질 검사장치로 마스크 블랭크(레지스트 막)표면의 이물질수를 측정하고, 그 후에 방진보호구를 장착했지만, 레지스트 도포 직후에 방진보호구를 장착해도 된다. 이것에 의해, 레지스트 도포 후의 이물질 검사 공정에서의 마스크 블랭크(즉 레지스트 막)표면으로의 진애의 직접적인 부착을 방지할 수 있다.In the above embodiment, in order to verify the effect of the dustproof protective equipment, after applying the resist, the number of foreign matters on the surface of the mask blank (resist film) is subsequently measured by a laser scanning foreign matter inspection apparatus, and then the dustproof protective equipment is attached. However, you may attach a dustproof protective device immediately after application | coating of a resist. Thereby, direct adhesion of dust to the mask blank (namely, resist film) surface in the foreign material inspection process after resist coating can be prevented.

또한 상기 실시예에서는, 수송을 상정한 진동시험처리를 거쳐, 방진보호구의 분리 후에, 노광 처리에 앞서 레이저 주사형 이물질 검사장치로 마스크 블랭크(레지스트 막)표면의 이물질수를 계수 측정했지만, 이 공정은 반드시 필요하지 않다.In addition, in the above embodiment, after the vibration test treatment assuming transport, the number of foreign matters on the surface of the mask blank (resist film) was counted by the laser scanning foreign matter inspection device prior to the exposure treatment after separation of the dustproof protective equipment. Is not necessary.

이상과 같이, 종래 널리 일반적으로 이용되고 있는 기술인 「레지스트 도포후에 기판 가장자리부의 불필요한 레지스트 막을 선택적으로 제거하는 방법」으로 제작한 마스크 블랭크에서는, 진동에 의한 마스크 블랭크와 수납 용기와의 스침에 의한 레지스트 막의 박리·탈리는 없기 때문에, 기판 가장자리부의 불필요한 레지스트 막을 제거하지 않은 마스크 블랭크에 비하면, 진동시험처리 전후의 이물질증가는 명백하게 억제되고 있었다. 그러나, 기판 가장자리부의 불필요한 레지스트 막을 제거해도, 진동시험처리 전후의 이물질 증가는 0은 되지 않는다.As mentioned above, in the mask blank produced by the technique which is widely used conventionally, the method of selectively removing the unnecessary resist film of the board | substrate edge part after application | coating of a resist, the resist film by grazing of the mask blank by vibration and a storage container is used. Since there was no peeling and peeling off, the increase of the foreign material before and after the vibration test treatment was clearly suppressed compared with the mask blank which did not remove the unnecessary resist film of the board | substrate edge part. However, even if the unnecessary resist film at the edge of the substrate is removed, the increase in foreign matter before and after the vibration test is not zero.

이것은, 진동시험처리(이송·수송을 상정한 가속 평가)에 의해, 마스크 블랭크와 수납 용기, 수납 용기의 구성부재 끼리의 접촉 부위(예를 들면 가운데 상자와 바깥 상자의 내측과의 접촉 부위)의 스침에 의해 진애가 발생하여 기판주표면을 오염시킨 것으로 생각할 수 있다.This is based on the vibration test process (acceleration evaluation assuming transfer and transport), and the contact area (for example, the contact area between the center box and the inside of the outer box) between the mask blank, the storage container, and the constituent members of the storage container. It is thought that dust generated by grazing and contaminated the main surface of the substrate.

이들 진애는, 수납 용기의 구성부재 끼리의 스침에 의해 발생한 것 또는 레지스트 막 형성 전에 마스크 블랭크에 형성된 각종의 막이 박리·탈락한 것으로 생각되며, 이것들이 마스크 블랭크 표면(레지스트 막 위)에 부착된 것으로 생각할 수 있다. 그것들의 오염 이물질이, 최종적으로는 마스크 블랭크를 소재로 하는 제품인 마스크(레티클을 포함한다)의 결함의 원인 혹은 마스크의 제조 수율 저하의 원인이 되는 것은 명백하다.These dusts are considered to be caused by grazing between the constituent members of the storage container, or various films formed on the mask blank prior to the formation of the resist film, which are likely to be peeled off or dropped off, and these are attached to the mask blank surface (on the resist film). I can think of it. It is evident that these contaminating foreign matters may cause a defect of a mask (including a reticle), which is a product made of a mask blank as a material, or a decrease in manufacturing yield of the mask.

따라서, 상기의 실시예에 나타나 있는 바와 같이, 본 발명의 방진보호구를 장착하여 형성되는 마스크 블랭크 및 본 발명의 마스크 블랭크 제조 방법 및 마스크 제조 방법에 의해, 마스크 블랭크를 수납 용기에 출납할 때의 양자의 스침에 의한 먼지 발생 및 마스크 블랭크를 수납 용기에 넣어서 보관, 이동 혹은 수송할 때의 진동 또는 충격에 의한 마스크 블랭크와 수납 용기 혹은 수납 용기의 각 구성부재 간의 스침에 의한 먼지 발생, 이들에 의한 마스크 블랭크(즉 레지스트 막(혹은 마스크 블랭크 최상층)표면의 이물질 오염(이물질의 증가)은 크게 저감된다.Therefore, as shown in the above embodiment, both the mask blank formed by attaching the antivibration protective device of the present invention, and the mask blank when the mask blank is taken out to the storage container by the mask blank manufacturing method and the mask manufacturing method of the present invention. Dust caused by grazing and dust caused by grazing between the mask blank caused by vibration or shock when storing, moving or transporting the mask blank in a storage container and each component of the storage container or storage container, and the mask caused by these Foreign matter contamination (increase of foreign matter) on the surface of the blank (i.e., resist film (or mask blank top layer)) is greatly reduced.

본 발명의 마스크 블랭크, 마스크 블랭크의 제조 방법 및 전사 플레이트(마스크나 스탬퍼)의 제조 방법에 의해, 레지스트 도포 직후의 표면결함(이물질)품질을 유지한 채, 마스크 블랭크를 전사 플레이트 제조 공정에 공급하는 것이 가능하 게 되며, 마스크 블랭크를 수납 용기에 출납할 때 및 마스크 블랭크를 수납 용기에 넣고, 보관, 이동 혹은 수송하는 것에 의한 진동 또는 충격에 기인하는 마스크 블랭크(즉 레지스트 막)표면의 이물질 오염(이물질의 증가)은 억제되어, 전사 플레이트(마스크나 스탬퍼)결함의 증가 및 전사 플레이트(마스크나 스탬퍼)제조 수율의 저하는 억제된다.By supplying the mask blank to the transfer plate manufacturing process while maintaining the surface defect (foreign material) quality immediately after resist application by the mask blank, the method of manufacturing the mask blank, and the method of manufacturing the transfer plate (mask or stamper) of the present invention. And foreign matter contamination of the surface of the mask blank (i.e., resist film) due to vibration or shock caused by putting the mask blank into or out of the storage container and by placing the mask blank into the storage container, and storing, moving or transporting it. The increase of foreign matters) is suppressed, and the increase in the transfer plate (mask or stamper) defect and the decrease in the yield of the transfer plate (mask or stamper) production are suppressed.

[특허문헌 5] : 일본국 공개특허공보 특개2001-259502호 공보Patent Document 5: Japanese Unexamined Patent Publication No. 2001-259502

이상 상세하게 설명한 바와 같이, 본 발명에 의하면, 마스크 블랭크나 전사 플레이트(마스크나 스탬퍼)의 제조 프로세스 또는 마스크 블랭크의 보관·반송시 등에 이물질이 마스크 블랭크 주표면의 패턴 전사용의 마스크 패턴 또는 패턴 전사용의 요철이 형성되는 유효 영역에 직접 부착되는 등으로 문제를 일으킬 우려를 효과적으로 방지하는 것이 가능하다.As described in detail above, according to the present invention, the foreign matter is transferred to the mask pattern or pattern for pattern transfer on the mask blank main surface during the manufacturing process of the mask blank or transfer plate (mask or stamper) or the storage and transport of the mask blank. It is possible to effectively prevent the possibility of causing a problem by attaching directly to the effective area where the unevenness of use is formed.

[도면의 간단한 설명][Brief Description of Drawings]

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 마스크 블랭크의 제조 방법, 마스크의 제조 방법의 설명도(a∼e)이다.1 is an explanatory view (a to e) of a method of manufacturing a mask blank and a method of manufacturing a mask according to an embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 마스크 블랭크의 제조 방법, 마스크의 제조 방법의 설명도(f∼j)이다.2 is an explanatory diagram (f to j) of a method of manufacturing a mask blank and a method of manufacturing a mask according to an embodiment of the present invention.

도 3은 본 발명에 따른 마스크 블랭크의 제1의 실시예를 모식화하여 나타내 는 단면도이다.3 is a cross-sectional view schematically illustrating a first embodiment of a mask blank according to the present invention.

도 4는 본 발명에 따른 마스크 블랭크의 제2의 실시예를 모식화하여 나타내는 단면도이다.4 is a cross-sectional view schematically illustrating a second embodiment of the mask blank according to the present invention.

도 5는 본 발명에 따른 마스크 블랭크의 제3의 실시예를 모식화하여 나타내는 단면도이다.5 is a cross-sectional view schematically illustrating a third embodiment of the mask blank according to the present invention.

도 6은 본 발명에 따른 마스크 블랭크의 제4의 실시예를 모식화하여 나타내는 단면도이다.6 is a cross-sectional view schematically illustrating a fourth embodiment of the mask blank according to the present invention.

도 7은 본 발명에 따른 마스크 블랭크의 제5의 실시예를 모식화하여 나타내는 단면도이다.7 is a cross-sectional view schematically illustrating a fifth embodiment of the mask blank according to the present invention.

도 8은 본 발명에 따른 마스크 블랭크의 제6의 실시예를 모식화하여 나타내는 단면도이다.8 is a cross-sectional view schematically illustrating a sixth embodiment of the mask blank according to the present invention.

도 9는 본 발명에 따른 마스크 블랭크의 제8의 실시예를 모식화하여 나타내는 단면도이다.9 is a cross-sectional view schematically illustrating an eighth embodiment of the mask blank according to the present invention.

[부호의 설명][Description of the code]

1 : 기판 2 : 차광막1 substrate 2 light shielding film

3 : 반사 방지막 4 : 레지스트 막3: antireflection film 4: resist film

4a : 레지스트 패턴 5 : 방진보호구4a: resist pattern 5: dustproof protective equipment

11 : 씰재(방진보호구의 측벽저부)11: Sealing material (side wall bottom of dustproof protective device)

11a : 씰재(열 밀봉용 수지제 봉지의 고정용)11a: sealing material (for fixing the resin bag for heat sealing)

12 : 연결부 13 : 튜브12: connection portion 13: tube

14 : 상시 폐형(閉型) 스톱 밸브 15 : 진공펌프14: normally closed stop valve 15: vacuum pump

16 : 진공기밀실 17 : 열 밀봉봉지의 고정판16: vacuum hermetic chamber 17: fixing plate of heat sealing bag

18 : 열 밀봉용 수지봉지 18a : 열 밀봉부18: resin bag for heat sealing 18a: heat seal

19 : 흡반기구19: sucker mechanism

20 : 열가소성 접착제(상온에서 접착성을 가지고, 가열에 의해 접착성이 저하 또는 상실하는 접착제)20: Thermoplastic adhesive (adhesive which has adhesiveness at normal temperature and whose adhesiveness falls or loses by heating)

21 : 열가소성 접착제(상기와 동일하고 또한 접착성이 저하하는 가열처리 온도가 상온보다 높은 온도이며 또한 레지스트의 가열온도의 낮은 쪽보다도 낮은 것이다) 21: Thermoplastic adhesive (The same as above, the heat treatment temperature at which the adhesiveness is lowered is higher than room temperature and lower than the lower temperature of the resist heating)

22 : 투명막 23 : 알루미늄제 프레임22: transparent film 23: aluminum frame

24 : 접착제24: adhesive

Claims

기판표면에 전사 노광광에 광학적으로 작용하는 마스크 기능 박막 및 / 또는 마스크제조 프로세스에 사용되는 박막이 형성된, 패턴 전사용 마스크 또는 스탬퍼의 소재인 마스크 블랭크로서,A mask blank, which is a material of a pattern transfer mask or stamper, having a mask function thin film optically acting on transfer exposure light and / or a thin film used in a mask manufacturing process, formed on a substrate surface,

상기 마스크 블랭크는, 상기 마스크 기능 박막 및 / 또는 마스크 제조 프로세스에 사용되는 박막이 형성된 측의 마스크 블랭크 주표면 상에 패턴 전사용의 마스크 패턴 또는 패턴 전사용의 요철이 형성되는 유효 영역에는 접촉하지 않고, 비유효영역에 접촉하여 밀폐 공간을 형성하는 덮개 형상의 방진보호구가 분리가능하도록 고정되어 있는 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크.The mask blank is not in contact with an effective region in which a mask pattern for pattern transfer or an unevenness for pattern transfer is formed on a mask blank main surface on the side where the mask function thin film and / or a thin film used in a mask manufacturing process is formed. And a mask-shaped dustproof protector which is detachably fixed to contact the invalid area to form a closed space.

제 1항에 있어서,The method of claim 1,

진공흡착, 흡반 시트 또는 상온에서 접착성을 가지고, 가열하면 접착성이 저하 또는 상실하는 열가소성 접착제의 어느 것을 사용하여 고정되고 있는 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크.A mask blank, which is fixed by using any one of a vacuum adhesive, a suction sheet, or a thermoplastic adhesive that has adhesiveness at room temperature and which loses or loses adhesiveness when heated.

제 2항에 있어서,The method of claim 2,

상기 열가소성 접착제는, 상온보다 높은 온도이고, 레지스트 막 형성 후의 열처리 온도보다도 낮은 온도이며, 마스크 블랭크 표면에서 상기 방진보호구가 박리 가능하게 되는 접착제인 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크.The said thermoplastic adhesive is the temperature higher than normal temperature, it is lower than the heat processing temperature after formation of a resist film, and the mask blank characterized by the said dust-proof protection tool peeling off on the mask blank surface.

제 1항에 있어서,The method of claim 1,

상기 방진보호구는, 마스크 블랭크 표면에 대향하는 면이 가시광 또는 검사광에 대하여 투명한 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크.The dust protection device is a mask blank, characterized in that the surface opposite to the mask blank surface is transparent to visible light or inspection light.

제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 4,

상기 방진보호구가 접촉하는 기판표면의 레지스트 막이 제거되고 있는 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크.A mask blank, wherein the resist film on the surface of the substrate to which the dustproof protective equipment contacts is removed.

기판표면에, 전사 노광광에 광학적으로 작용하는 마스크 기능 박막 및 / 또는 마스크 제조 프로세스에 사용되는 박막이 형성된, 패턴 전사용 마스크 또는 스탬퍼의 소재인 마스크 블랭크로서,A mask blank, which is a material of a pattern transfer mask or stamper, having a mask function thin film optically acting on transfer exposure light and / or a thin film used in a mask manufacturing process, formed on a surface of a substrate,

상기 기판표면 위에 상기 전사 노광광에 광학적으로 작용하는 마스크 기능 박막 및 /또는 마스크 제조 프로세스에 사용되는 박막을 형성하는 박막 형성공정 과,A thin film forming step of forming a mask function thin film optically acting on the transfer exposure light and / or a thin film used for a mask manufacturing process on the substrate surface;

상기 마스크 기능 박막 및 / 또는 마스크 제조 프로세스에 사용되는 박막이 형성된 측의 마스크 블랭크 주표면 상에, 패턴 전사용의 마스크 패턴 또는 패턴 전사용의 요철이 형성되는 유효영역에는 접촉하지 않고, 비유효 영역에 접촉하여 밀폐 공간을 형성하는 덮개 형상의 방진보호구를 장착하는 방진구 장착공정을 특징으로 하는 마스크 블랭크 제조 방법.On the mask blank main surface of the side on which the mask function thin film and / or the thin film used for the mask manufacturing process are formed, the effective area in which the mask pattern for pattern transfer or the unevenness for pattern transfer are formed is not contacted, and is ineffective. A mask blank manufacturing method, comprising: a dustproof fitting mounting step of attaching a cover-shaped dustproof protector in contact with and forming a closed space.

패턴 전사용 마스크의 소재인 마스크 블랭크를 사용하여, 기판표면 위에 패턴 전사용의 마스크 패턴 또는 패턴 전사용의 요철을 형성하는 전사패턴 형성공정을 가지는 전사 플레이트의 제조 방법으로서,A manufacturing method of a transfer plate having a transfer pattern forming step of forming a mask pattern for pattern transfer or irregularities for pattern transfer on a substrate surface using a mask blank that is a material of a pattern transfer mask,

청구항 1 내지 청구항 5항 중 어느 한 항에 기재된 마스크 블랭크를 사용하여, 이 마스크 블랭크의 상기 방진보호구를 분리한 후에, 상기 마스크 패턴 형성공정을 행하는 것을 특징으로 하는 전사 플레이트의 제조방법.Using the mask blank of any one of Claims 1-5, after isolate | separating the said dustproof protective device of this mask blank, the said mask pattern formation process is performed, The manufacturing method of the transfer plate characterized by the above-mentioned.