KR20070026496A - Ultra hydrophilic ti-o-c based nano film and fabrication method thereof - Google Patents

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Abstract

A ultra hydrophilic thin film excellent in hydrophilicity and aging characteristics, a nano thin film which is excellent in deposition efficiency and can be uniformly deposited, and a manufacturing method of a ultra hydrophilic nano thin film excellent in productivity and economic efficiency are provided. A manufacturing method of a ultra hydrophilic Ti-O-C based nano thin film comprises: positioning a treatment object(18) in a reaction chamber(12) at a vacuum state in which one or more electrodes(16) are installed; introducing a Ti precursor gas, a reactive gas selected from air and oxygen, and a volatile catalyst with low boiling point as a Ti deposition accelerator; applying a high voltage to the electrodes to change the gases into a plasma state; and forming a Ti-O-C based nano thin film on at least one face of the treatment object. The volatile catalyst is any one selected from DMB(di-methyl butadiene), THF(tetrahydrofuran), and hexane. The Ti precursor is titanium tetraisopropoxide [Ti(OC3H7)4]. The Ti precursor is a liquid phase precursor vaporized such that the vaporized precursor is introduced into the reaction chamber. The treatment object is a metal.

Description

초친수성 Ti-O-C 계 나노 박막 및 그 제조방법{ULTRA HYDROPHILIC Ti-O-C BASED NANO FILM AND FABRICATION METHOD THEREOF}Super hydrophilic Ti-O-C nano thin film and its manufacturing method {ULTRA HYDROPHILIC Ti-O-C BASED NANO FILM AND FABRICATION METHOD THEREOF}

본 발명은 초친수성 Ti-O-C 계 나노 박막 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a super hydrophilic Ti-O-C-based nano thin film and a method for manufacturing the same.

재료 표면에 박막을 형성하여 표면 특성을 변화시키는 방법이 산업상 많이 이용되어 왔다. 예를 들어, 재료 표면에 적절한 표면층을 부가적으로 형성함으로써 기계적 강도를 향상시키고, 전기적 절연성 또는 전도성을 부여하고, 친수성을 부여하거나, 내식성을 향상시키는 것 등이 가능하다.Background Art A method of changing the surface properties by forming a thin film on the material surface has been widely used in industry. For example, by additionally forming an appropriate surface layer on the surface of the material, it is possible to improve mechanical strength, impart electrical insulation or conductivity, impart hydrophilicity, improve corrosion resistance, and the like.

온도가 서로 다른 두 유체를 접촉시켜 열교환시키는 열교환기는 많은 공업 분야에서 널리 쓰이고 있으며, 특히 냉동 공조용 열교환기는 열전달을 향상시키기 위해 열교환기 튜브에 열전달 표면을 확장시키기 위한 핀(fin)을 부가적으로 형성한다.Heat exchangers that exchange heat by contacting two fluids at different temperatures are widely used in many industrial fields. In particular, heat exchangers for refrigeration and air conditioning have additional fins to extend the heat transfer surface in the heat exchanger tubes to improve heat transfer. Form.

습한 공기가 열교환기 핀을 지날 때 열교환기 튜브 안으로 공급되는 낮은 온도의 냉매와 열전달이 일어난다. 이 경우, 핀 표면의 온도가 습한 공기의 이슬점 온도 이하가 되면 열교환기 핀 표면에 물방울이 응축되어 공기의 흐름을 방해한다. 따라서, 동일 유량의 공기를 공급하기 위해서는 팬(fan)의 파워를 증가시켜야 하며, 결과적으로 전력 소모가 커진다.As moist air passes through the heat exchanger fins, heat transfer occurs with the low temperature refrigerant supplied into the heat exchanger tubes. In this case, when the temperature of the fin surface is lower than the dew point temperature of the humid air, water droplets condense on the heat exchanger fin surface, thereby obstructing the flow of air. Therefore, in order to supply air at the same flow rate, the power of the fan must be increased, resulting in high power consumption.

종래에는 열교환기 핀에 Cr+6을 이용해 방청처리를 한 뒤, 그 위에 규산염(silicate)계 코팅막을 형성함으로써 친수성을 향상시키고, 이에 따라 핀 표면에 형성되는 응축수가 용이하게 흘러내리도록 하였다. 그러나, 종래의 친수성 코팅은 시간이 지남에 따라 친수 특성이 감소하는 단점이 있다.Conventionally, after the anti-corrosive treatment using Cr +6 in the heat exchanger fins, the hydrophilicity is improved by forming a silicate-based coating film thereon, thereby allowing the condensate formed on the fin surface to easily flow. However, conventional hydrophilic coatings have the disadvantage that their hydrophilic properties decrease over time.

또한, 종래에는 열교환기 핀 표면에 탄화수소 고분자 박막을 형성하여 친수성 및 경시변화 특성을 향상시키고자 하였다. 그러나, 고분자 박막 만으로는 항균성이나 탈취성 등의 다른 효과를 얻을 수 없으며, 부가적인 효과를 얻기 위해서는 별도의 코팅 작업을 추가적으로 수행해야하는 불편이 있었다.In addition, conventionally, a hydrocarbon polymer thin film was formed on a surface of a heat exchanger fin to improve hydrophilicity and change over time. However, the polymer thin film alone cannot obtain other effects such as antimicrobial activity or deodorization, and in order to obtain additional effects, additional coating work has to be performed.

한편, 종래의 방법에 따른 코팅막은 균일성이 떨어지고, 표면처리 공정시 증착 효율이 낮은 문제점이 있었다.On the other hand, the coating film according to the conventional method is inferior in uniformity, there was a problem of low deposition efficiency during the surface treatment process.

기술적 과제Technical challenge

따라서, 본 발명의 목적은 친수성 및 에이징 특성이 우수한 초친수성 박막을 제공하는 것이다.Accordingly, it is an object of the present invention to provide a superhydrophilic thin film having excellent hydrophilicity and aging characteristics.

또한, 본 발명의 다른 목적은 증착 효율이 우수하고, 균일한 증착이 가능한 나노 박막을 제공하는 것이다.In addition, another object of the present invention is to provide a nano thin film having excellent deposition efficiency and uniform deposition.

뿐만 아니라, 본 발명의 목적은 생산성과 경제성이 우수한 초친수성 나노 박막의 제조 방법을 제공하는 것이다.In addition, it is an object of the present invention to provide a method for producing a superhydrophilic nano thin film excellent in productivity and economy.

기술적 해결방법Technical solution

상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 하나 이상의 전극이 설치된 진공 상태의 반응 챔버에 피도물을 위치시키고, 상기 반응 챔버 내로 Ti 전구체 가스, 공기 또는 산소 중에서 선택되는 반응성 가스, 및 Ti의 증착 촉진제로서 비점이 낮은 휘발성 촉매 가스를 도입하고, 상기 전극에 고전압을 인가하여 상기 가스들을 플라즈마 상태로 변화시키고, 상기 피도물의 적어도 일면에 Ti-O-C 계 나노 박막을 형성하는 것을 포함하는 초친수성 Ti-O-C 계 나노 박막 제조방법을 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention provides a boiling point as a deposition promoter for Ti, by placing a workpiece in a vacuum reaction chamber provided with one or more electrodes, and selecting a Ti precursor gas, air or oxygen into the reaction chamber. A superhydrophilic Ti-OC based nanoparticle comprising introducing a low volatile catalyst gas, applying a high voltage to the electrode to change the gases into a plasma state, and forming a Ti-OC based nano thin film on at least one surface of the workpiece Provided is a thin film manufacturing method.

상기 휘발성 촉매는 DMB (di-methyl butadiene), THF (tetra hydro furan) 및 Hexane 중에서 선택되는 어느 하나를 사용할 수 있으며, 비점이 낮고 휘발성이 있는 다른 물질도 사용 가능하다.The volatile catalyst may be any one selected from DMB (di-methyl butadiene), THF (tetra hydro furan) and Hexane, and other materials having low boiling point and volatile properties may be used.

상기 Ti 전구체는 티타늄 테트라이소프로폭사이드(titanium tetraisopropoxide)[Ti(OC3H7)4]을 사용할 수 있으나, 반드시 이에 한정되지는 않는다.The Ti precursor may use titanium tetraisopropoxide [Ti (OC 3 H 7 ) 4 ], but is not necessarily limited thereto.

상기 Ti 전구체는 액상의 전구체를 기화시켜 상기 반응챔버 내로 도입되는 것이 바람직하다.The Ti precursor is preferably introduced into the reaction chamber by vaporizing a liquid precursor.

상기 피도물은 금속이며, 특히 알루미늄, 구리, 기타 열전도성이 우수한 금속쉬트를 포함한다.The workpiece is a metal, particularly aluminum, copper, and other metal sheets having excellent thermal conductivity.

상기 피도물에는 직류 고전압이 인가되어, 피도물 자체를 전극으로 이용할 수도 있다. 이 경우, 피도물이 양(+) 전극이 되도록 하는 것이 바람직하다.DC high voltage is applied to the workpiece, and the workpiece itself can be used as an electrode. In this case, it is preferable to make the object to be a positive electrode.

상기 Ti 전구체는 별도의 캐리어 가스에 의하여 상기 반응 챔버로 운반될 수 있으며, 이 경우, 상기 캐리어 가스는 He, N2 및 Ar 중에서 선택되는 어느 하나를 사용할 수 있다.The Ti precursor may be delivered to the reaction chamber by a separate carrier gas, in which case the carrier gas may use any one selected from He, N 2, and Ar.

상기 Ti 전구체와 상기 휘발성 촉매의 비율은 70 : 30 ~ 50 : 50 인 것이 바람직하다.It is preferable that the ratio of the Ti precursor and the volatile catalyst is 70:30 to 50:50.

또한, 본 발명은 모재의 표면상에 형성되는 나노 박막으로서, Ti 전구체, 공기 또는 산소 중에서 선택되는 반응성 가스 및 Ti의 증착 촉진제로서 비점이 낮은 휘발성 촉매로부터 얻어지는 Ti-O-C 계 화합물로 구성되는 초친수성 Ti-O-C 계 나노 박막을 제공한다.In addition, the present invention is a nano-thin film formed on the surface of the base material, a super-hydrophilic composition composed of a Ti-OC-based compound obtained from a low boiling point volatile catalyst as a reactive gas selected from Ti precursors, air or oxygen and a deposition promoter for Ti Provides a Ti-OC based nano thin film.

상기 나노 박막의 두께는 1 내지 100 nm 인 것이 바람직하며, 상기 모재는 금속, 특히 열교환기 핀용 알루미늄 쉬트를 사용한다.It is preferable that the thickness of the said nano thin film is 1-100 nm, and the said base material uses a metal sheet, especially the aluminum sheet for heat exchanger fins.

도 1은 본 발명에 따른 초친수성 코팅막을 형성하기 위한 플라즈마 중합장치를 보여주는 개념도이다.1 is a conceptual diagram showing a plasma polymerization apparatus for forming a superhydrophilic coating film according to the present invention.

도 2는 알루미늄 표면에 코팅된 티타늄 화합물 박막의 미세조직을 보여주는 SEM 사진이다.2 is a SEM photograph showing the microstructure of a titanium compound thin film coated on the aluminum surface.

도 3 및 4는 코팅처리되지 않은 알루미늄 표면과 코팅처리한 알루미늄 표면을 비교한 사진이다.3 and 4 are photographs comparing the uncoated aluminum surface with the coated aluminum surface.

도 5는 사용된 원료의 혼합 비율에 따른 증착 두께를 비교한 그래프이다.5 is a graph comparing deposition thicknesses according to mixing ratios of raw materials used.

도 6은 친수성 표면에서 물방울의 퍼짐 정도를 보여주는 사진이다.Figure 6 is a photograph showing the degree of spread of the water droplets on the hydrophilic surface.

발명의 실시를 위한 형태Embodiment for Invention

도 1은 본 발명에 따라 쉬트 형상의 금속 모재 위에 초친수성 티타늄 화합물을 코팅하기 위한 플라즈마 중합장치를 보여준다.1 shows a plasma polymerization apparatus for coating a superhydrophilic titanium compound on a sheet-shaped metal base material according to the present invention.

플라즈마 중합장치는 진공으로 유지되며 내부에 플라즈마가 형성될 수 있는 반응챔버와, 상기 반응챔버 내로 반응성 가스, 기상 전구체, 또는 캐리어 가스 등을 도입하는 가스 공급 시스템으로 이루어진다.The plasma polymerization apparatus is composed of a reaction chamber in which a plasma can be formed therein and maintained in a vacuum, and a gas supply system for introducing a reactive gas, a gaseous precursor, a carrier gas, or the like into the reaction chamber.

반응챔버(12)에는 챔버 내에 진공을 형성하기 위한 진공펌프(14)가 연결되어 있고, 상하 혹은 좌우 양면으로 설치된 전극(16) 사이로 중합 처리 대상인 기재(예를 들면, 금속 쉬트)(18)가 공급된다. 전원공급장치(13)로부터 상기 전극(16)에 전원이 인가되면, 반응챔버(12) 내부로 공급된 가스들이 상기 전극(16) 사이에서 플라즈마 상태로 변화된다. 플라즈마 상태의 가스들은 기재(18) 표면에 중합되어 화합물 박막이 코팅된다.A vacuum pump 14 for forming a vacuum in the chamber is connected to the reaction chamber 12, and a substrate (for example, a metal sheet) 18, which is a polymerization target, is disposed between the electrodes 16 disposed on both upper and lower sides, and on both sides. Supplied. When power is applied to the electrode 16 from the power supply device 13, the gases supplied into the reaction chamber 12 are changed into a plasma state between the electrodes 16. Gases in the plasma state are polymerized on the surface of the substrate 18 to coat the compound thin film.

반응챔버(12)에 공급되는 가스는 형성하려는 중합막의 특성에 따라 여러가지 종류가 사용될 수 있다.Gas supplied to the reaction chamber 12 may be used in various kinds depending on the characteristics of the polymer film to be formed.

예를 들어, 공기, 산소, 질소 등의 반응성 가스가 반응성 가스 봄베(20)로부터 밸브(22)를 거쳐 배관(60)을 통해 상기 반응챔버(12) 내로 도입된다.For example, reactive gas such as air, oxygen, nitrogen, or the like is introduced into the reaction chamber 12 from the reactive gas cylinder 20 through the valve 22 and through the pipe 60.

또한, 또 다른 반응성 가스로서, 가압부(32)에 의해 가압되고 있는 저장용기(30)내에 수용되어 있는 액체 상태의 전구체가 질량유량계(mass flow controller)(38)를 통해 압력차에 의해 기화기(40)로 도입되고, 기화기(40)를 거쳐 기화된 기상 전구체가 반응챔버(12)내로 도입된다. 34 및 36은 각각 밸브를 나타낸 다.In addition, as another reactive gas, the liquid precursor contained in the storage container 30 pressurized by the pressurizing unit 32 is vaporized by a pressure difference through a mass flow controller 38. 40 is introduced, and vaporized gaseous precursor via vaporizer 40 is introduced into reaction chamber 12. 34 and 36 represent valves, respectively.

질량유량계(38)와 기화기(40) 사이의 배관(66)으로, 바람직하게는 헬륨(He)이나 아르곤(Ar) 또는 질소(N2)가 될 수 있는 캐리어 가스가 도입되어 상기 기상 전구체가 반응챔버(12)내로 도입되는 것을 돕는다. 이들 캐리어 가스는 캐리어 가스 봄베(50)내에 수용되어 있고, 별도의 밸브(52)를 통해 배관(66) 내로 도입된다.In the piping 66 between the mass flow meter 38 and the vaporizer 40, a carrier gas, which may be helium (He), argon (Ar) or nitrogen (N 2 ), is introduced to react the gas phase precursor. Help to be introduced into the chamber 12. These carrier gases are housed in the carrier gas cylinder 50 and are introduced into the pipe 66 through separate valves 52.

기화기(40)는 액상 티타늄 전구체를 가열하여 기화시킬 수 있도록 히터 코일(42)이 주위를 감싸져 설치되는 구조를 갖는다.The vaporizer 40 has a structure in which the heater coil 42 is wrapped around the installation so as to vaporize the liquid titanium precursor by heating.

이와 같은 구조의 플라즈마 중합장치에서, 상기 반응챔버(12) 내부로 바람직하게는 공기나 산소(O2)가 될 수 있는 반응성 가스, 기상 전구체 (예를 들어, 티타늄 전구체 또는 실리콘 전구체) 및 캐리어 가스를 도입하여 플라즈마 중합 반응에 의해 기재(18)에 나노 플라즈마 코팅층을 형성할 수 있다.In the plasma polymerization apparatus having such a structure, a reactive gas, a gaseous precursor (for example, a titanium precursor or a silicon precursor) and a carrier gas, which may be air or oxygen (O 2 ), preferably into the reaction chamber 12. To form a nanoplasma coating layer on the substrate 18 by a plasma polymerization reaction.

기상 전구체의 반응챔버 내부로의 도입량은 상기 기화기(40)로 도입되는 상기 액상 전구체, 예를 들어 티타늄 전구체로서, 액상 티타늄테트라이소프로폭사이드의 양을 조절함으로써 제어된다.The amount of gaseous precursor introduced into the reaction chamber is controlled by adjusting the amount of liquid titanium tetraisopropoxide as the liquid precursor, for example titanium precursor, introduced into the vaporizer 40.

이때, 상기 반응성 가스, 기상 티타늄 전구체 및 캐리어 가스는 도면에 보인 바와 같이 반응챔버(12) 외부에서 합지되어 하나의 배관(60)을 통해 상기 반응챔버(12) 내부로 도입될 수도 있고, 아니면 별도의 배관을 통해 상기 반응챔버(12) 내부로 도입된 후, 반응챔버(12) 내부에서 하나의 배관으로 합지될 수도 있다. 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 합지 배관(60)이 반응챔버(12)의 일측 구멍을 통해 도 입되는 형상으로 나타나 있으나, 상기 배관(60)을 통해 도입되는 혼합 가스를 코팅되는 기재(18)의 직상 및 직하로 토출시키기 위해 바람직하게는 상기 배관(60)의 출구, 즉 가스 분출구(70)가 상기 시료(18)의 상,하면에 근접되어 형성되는 것이 좋다.In this case, the reactive gas, the gaseous titanium precursor and the carrier gas may be laminated outside the reaction chamber 12 and introduced into the reaction chamber 12 through a single pipe 60, as shown in the drawing, or separately. After being introduced into the reaction chamber 12 through the piping of, the reaction chamber 12 may be laminated in one pipe. As shown in FIG. 1, although the laminated pipe 60 is shown as being introduced through one hole of the reaction chamber 12, the substrate 18 coated with the mixed gas introduced through the pipe 60 is provided. Preferably, the outlet of the pipe 60, that is, the gas ejection opening 70, is formed adjacent to the upper and lower surfaces of the sample 18 so as to be discharged directly above and below.

제2반응성 가스로서, 저온에서 응축이 쉬운 기상 전구체를 사용하는 경우, 상기 배관(60)이 상온으로 유지되면 배관(60) 내벽에 기상 전구체가 응축하기 때문에 이를 방지하기 위하여 상기 기상 전구체 가스가 흐르는 배관의 외벽에 열선(64)을 감아서 일정 온도 이상으로 유지시켜 주는 것이 좋다. 이것은 액상 전구체가 흐르는 영역의 배관(66)에서도 마찬가지이다. 상기 배관(66)의 외벽에도 열선(68)을 감아서 일정 온도 이상으로 유지시켜 배관(66) 내벽에 액상 전구체가 응축하는 것을 막는다.In the case of using a gaseous precursor that is easily condensed at a low temperature as the second reactive gas, the gaseous precursor gas flows to prevent the gaseous precursor from condensing on the inner wall of the pipe 60 when the pipe 60 is kept at room temperature. It is good to wrap the hot wire 64 on the outer wall of the pipe and keep it above a certain temperature. The same applies to the piping 66 in the region where the liquid precursor flows. The heating wire 68 is also wound around the outer wall of the pipe 66 and maintained at a predetermined temperature or more to prevent the liquid precursor from condensing on the inner wall of the pipe 66.

실시예 : 초친수성 Ti-O-C 계 화합물 박막 코팅Example: Superhydrophilic Ti-O-C Compound Thin Film Coating

상기와 같은 구성을 갖는 진공챔버(12) 내로 연속적으로 공급되는 금속 쉬트(18) 위에 플라즈마를 이용해서 초친수성 티타늄 화합물 박막을 연속적으로 코팅하였다.The superhydrophilic titanium compound thin film was continuously coated on the metal sheet 18 continuously supplied into the vacuum chamber 12 having the above configuration by using plasma.

먼저, 상기 반응챔버(12)에 진공펌프(14)를 이용하여 10-3 Torr까지 진공을 형성한 후, 상하로 설치된 전극(16) 사이로 연속적으로 금속 쉬트(18)를 공급하였다. 상기 금속 쉬트로는 열교환기 핀에 사용되는 알루미늄 쉬트를 공급하였다. 상기 전극 사이에서 발생하는 플라즈마에 의해 금속 쉬트(18) 양면에 초친수성 티타 늄 화합물 박막이 연속적으로 코팅된 후, 상기 금속 쉬트(18)는 반응챔버(12)로부터 배출된다. 상기 전극(16)에는 전원(13)이 인가된다. 전원으로는 직류 전압 또는 RF 전압을 사용할 수 있다.First, a vacuum was formed to 10 −3 Torr using the vacuum pump 14 in the reaction chamber 12, and then a metal sheet 18 was continuously supplied between the electrodes 16 disposed up and down. The metal sheet was supplied with the aluminum sheet used for the heat exchanger fins. After the superhydrophilic titanium compound thin film is continuously coated on both sides of the metal sheet 18 by the plasma generated between the electrodes, the metal sheet 18 is discharged from the reaction chamber 12. The power source 13 is applied to the electrode 16. DC power or RF voltage may be used as the power source.

경우에 따라서는 금속 쉬트에도 전원을 인가하여 전극의 하나로서 이용할 수 있다. 이 경우, 바람직하게는 금속 쉬트가 애노드가 되도록 전기를 인가한다. 사용되는 가스의 종류에 따라 차이가 있지만, 양 전극에 대한 코팅 효율이 더 좋은 것을 실험적으로 확인하였다. 금속 쉬트(18)를 아노드(anode)에 연결하 경우, 전극(16)과 30 ~ 150 mm 의 거리를 유지시켰다.In some cases, power can also be applied to the metal sheet and used as one of the electrodes. In this case, electricity is preferably applied so that the metal sheet becomes an anode. Although there are differences depending on the type of gas used, it was confirmed experimentally that the coating efficiency of both electrodes is better. When the metal sheet 18 was connected to the anode, a distance of 30 to 150 mm was maintained with the electrode 16.

반응성 가스로서 공기 또는 산소 중에서 어느 하나를 반응성 가스 봄베(20)로부터 밸브(22)를 통해 상기 반응챔버(2)내로 도입하였다.Either air or oxygen as the reactive gas was introduced from the reactive gas cylinder 20 through the valve 22 into the reaction chamber 2.

또한, 액체 상태의 티타늄 테트라이소프로폭사이드(titanium tetraisopropoxide)[Ti(OC3H7)4]를 기화기(40)에서 기화시킨 후, 기상 티타늄 전구체를 반응챔버(12)내로 도입하였다. 액상의 전구체를 기화시키기 위하여 기화기의 히터 코일(42)을 80℃ ~ 120℃의 온도가 되도록 통전 가열하였으며, 배관(60, 66) 외벽에 감겨진 열선도 80℃ ~ 120℃의 온도로 통전 가열하여 티타늄 전구체가 배관 내벽에 응축하는 일이 없도록 하였다.In addition, after vaporizing a liquid titanium tetraisopropoxide [Ti (OC 3 H 7 ) 4 ] in the vaporizer 40, a gas phase titanium precursor was introduced into the reaction chamber (12). In order to vaporize the liquid precursor, the heater coil 42 of the vaporizer was energized and heated to a temperature of 80 ° C to 120 ° C. Thus, the titanium precursor was not condensed on the inner wall of the pipe.

필요에 따라, 티타늄 전구체에 소량의 실리콘 전구체가 혼합될 수 있다. 실리콘은 기재 표면에 형성되는 코팅막의 내식성을 강화시키고 경시변화(aging) 특성을 향상시킬 수 있다.If desired, a small amount of silicon precursor may be mixed with the titanium precursor. Silicon may enhance the corrosion resistance of the coating film formed on the surface of the substrate and improve aging characteristics.

질량유량계(38)와 기화기(40) 사이의 배관으로, 헬륨 또는 아르곤 중에서 선택되는 어느 하나를 캐리어 가스로서 도입하여 기상 티타늄 전구체 (및 기상 실리콘 전구체)가 상기 반응챔버(12)내로 도입되는 것을 보조하였다. 이때, 상기 기상 전구체 가스와 캐리어 가스는 3 : 1의 비율로 도입되는 것이 바람직하며, 상기 캐리어 가스와 반응성 가스는 1 : 3의 비율로 상기 진공챔버(2) 내부로 도입되는 것이 바람직하다.Piping between the mass flow meter 38 and the vaporizer 40, which introduces a gaseous titanium precursor (and vapor phase silicon precursor) into the reaction chamber 12 by introducing any one of helium or argon as a carrier gas. It was. In this case, the gaseous precursor gas and the carrier gas are preferably introduced at a ratio of 3: 1, and the carrier gas and the reactive gas are preferably introduced into the vacuum chamber 2 at a ratio of 1: 3.

상기 티타늄 전구체에는 부가적으로 비점이 낮은 휘발성 촉매로서 DMB (di-methyl butadiene), THF (tetra hydro furan), Hexane 중에서 선택되는 어느 하나를 혼합하였다. 상기 촉매는 액상 티타늄 전구체에 직접 혼합될 수도 있고, 별도의 가스 봄베에 수용된 촉매를 배관이나 기화기에서 혼합되도록 할 수도 있다.The titanium precursor was additionally mixed with any one selected from among DMB (di-methyl butadiene), THF (tetra hydrofuran), and Hexane as a low boiling point volatile catalyst. The catalyst may be mixed directly with the liquid titanium precursor, or the catalyst contained in a separate gas cylinder may be mixed in a pipe or a vaporizer.

티타늄 전구체와 휘발성 촉매의 혼합 비율은 90 : 10 ~ 50 : 50 으로 변화시켰다.The mixing ratio of the titanium precursor and the volatile catalyst was changed to 90:10 to 50:50.

기상 전구체 가스, 휘발성 촉매, 캐리어 가스 및 반응성 가스가 배관을 통해 진공챔버(12) 내부로 도입되어 금속 쉬트(18)의 직상 및 직하로 토출되었다.The gaseous precursor gas, the volatile catalyst, the carrier gas and the reactive gas were introduced into the vacuum chamber 12 through the piping and discharged directly above and directly below the metal sheet 18.

주입된 가스에 의해 원하는 작업 진공도가 얻어졌을 때, 전원을 "ON"시켜서 금속 쉬트(18)가 이동되면서 상기 전극(16) 사이에서 연속적으로 상기 혼합 가스들에 의한 플라즈마를 형성시켰다. 이에 따라, 금속 쉬트(18)의 양면 위에 초친수성 Ti-O-C 계 화합물 박막이 코팅되었다.When the desired working vacuum was obtained by the injected gas, the power was turned "ON" to move the metal sheet 18 to form plasma by the mixed gases continuously between the electrodes 16. Accordingly, a superhydrophilic Ti-O-C compound thin film was coated on both surfaces of the metal sheet 18.

플라즈마 처리시 전류는 1.0 A 였으며, 헬륨 혹은 아르곤 가스인 캐리어 가스의 유량은 800 sccm이었으며, 산소 또는 공기인 반응성 가스의 유량은 1500 sccm 이었으며, 기상 전구체 가스의 유량은 1000 sccm이었으며, 플라즈마 처리시 챔버 내 진공도는 0.2 ~ 0.35 Torr로 유지되었다. 금속 쉬트의 공급 속도는 4m/min이었다.The current was 1.0 A during the plasma treatment, the flow rate of the carrier gas, which was helium or argon gas, was 800 sccm, the flow rate of the reactive gas, which was oxygen or air, was 1500 sccm, the flow rate of the gaseous precursor gas was 1000 sccm, and the chamber during the plasma treatment. The vacuum degree was maintained at 0.2 ~ 0.35 Torr. The feed rate of the metal sheet was 4 m / min.

코팅막의 특성 분석Characterization of Coating Film

처리된 박막 시료의 조성을 XPS(X-ray Photoelectric Spectroscopy)에 의해 분석하였고, 두께는 AES(Atomic Emission Spectrometry)에 의해 분석하였다.The composition of the treated thin film sample was analyzed by X-ray Photoelectric Spectroscopy (XPS), and the thickness was analyzed by Atomic Emission Spectrometry (AES).

AES 데이터에 따른 박막 두께는 약 300Å (30.0 nm)이었으며, Ti 전구체와 휘발성 촉매로 사용한 THF의 혼합 비율에 따른 구성 성분을 다음의 표1에 나타내었다.The thickness of the thin film according to AES data was about 300Å (30.0 nm), and the components according to the mixing ratio of the TH precursor used as the Ti precursor and the volatile catalyst are shown in Table 1 below.

표 1Table 1

Figure 112006080766119-PCT00001
Figure 112006080766119-PCT00001

분석 결과, 조건에 따라 약간 차이가 있었으나, 본 발명에 따른 티타늄 화합물 박막은 원자％로, 20 ~ 25％의 C와, 56 ~ 60％의 O와, 17 ~ 19％의 Ti가 분석되었으며, 얻어진 화합물 박막이 Ti-O-C 계 화합물 박막임을 확인할 수 있었다.As a result of the analysis, there was a slight difference depending on the conditions, the titanium compound thin film according to the present invention was analyzed by atomic%, 20 to 25% C, 56 to 60% O, and 17 to 19% Ti. It was confirmed that the compound thin film was a Ti-OC compound thin film.

특히, Ti 전구체만을 사용한 경우 보다도 Ti 함량이 많은 것을 알 수 있는데, 이러한 결과로 인하여 후술하는 바와 같이 증착 두께의 증가를 얻을 수 있었다.In particular, it can be seen that the Ti content is higher than when only the Ti precursor is used. As a result, an increase in deposition thickness can be obtained as described below.

도 2에 본 발명에 따른 Ti-O-C계 화합물 박막의 주사전자현미경(SEM) 사진을 나타내었다. 도시된 바와 같이 치밀한 박막이 얻어졌으며, 상기 박막은 비정질(amorphous) 조직임을 확인할 수 있었다.2 shows a scanning electron microscope (SEM) photograph of the Ti-O-C compound thin film according to the present invention. As shown, a dense thin film was obtained, and the thin film was confirmed to be amorphous.

도 3 및 4는 각각 Bare Al 쉬트 및 Ti-O-C 계 화합물 박막을 형성한 Al 쉬트에 대한 내식성 테스트 후의 결과를 보여주는 사진이다. 각각의 쉬트에 염수를 분무하고 15일 경과한 후의 표면을 조사하였다. 도면으로부터 확인할 수 있는 바와 같이, Bare Al 쉬트에서는 전면부식이 일어났으나, 본 발명에 따른 코팅막이 형성된 쉬트에서는 공식(pitting) 숫자가 10개 미만으로 극도로 우수한 내식 특성을 보여주었다.3 and 4 are photographs showing the results after the corrosion resistance test for the Al sheet formed with the Bare Al sheet and Ti-O-C-based compound thin film, respectively. Each sheet was sprayed with saline and the surface was examined after 15 days. As can be seen from the figure, the front surface corrosion occurred in the Bare Al sheet, the coating film formed according to the present invention showed a very excellent corrosion resistance characteristics of less than 10 pitting (pitting) number.

Ti 전구체와 휘발성 촉매로 사용한 THF의 혼합 비율에 따른 증착 두께를 조사하여, 그 결과를 도 5에 도시하였다.Deposition thickness according to the mixing ratio of the TH precursor used as the Ti precursor and the volatile catalyst was investigated, and the results are shown in FIG. 5.

Ti 전구체만을 사용한 경우(Ti 100％) 보다, THF 를 혼합한 경우에 증착 두께가 더 큰 것을 알 수 있다. 본 발명에 의한 Ti-O-C 계 화합물 박막은 증착 효율이 매우 우수하므로, 금속 쉬트의 표면처리 공정의 생산성도 향상시킬 수 있을 것이다. 이러한 증착 효율의 증가는 Ti 전구체에 휘발성 촉매를 혼합함으로써 Ti 전구체의 기화를 촉진하고 Ti의 반응성을 높인데 기인하는 것으로 판단된다.It can be seen that the deposition thickness is larger when THF is mixed than when only Ti precursor is used (Ti 100%). Since the Ti-O-C compound thin film according to the present invention has excellent deposition efficiency, the productivity of the surface treatment process of the metal sheet may be improved. This increase in deposition efficiency is believed to be attributable to promoting vaporization of the Ti precursor and increasing the reactivity of Ti by mixing the volatile catalyst with the Ti precursor.

본 발명에 따른 Ti-O-C 계 화합물 박막의 친수성능을 평가하였다. 0.1 cc의 물방울을 높이 10 mm에서 떨어뜨려 시료 표면 위의 물방울 크기(Droplet size)를 측정하였다. 친수성이 좋을수록 물방울의 퍼짐성이 좋아서 물방울 크기가 커지고, 소수성일수록 물방울의 퍼짐성이 나빠서 물방울 크기가 작아진다. 도 6은 본 발명 에 따른 코팅막이 형성되어 친수성을 갖는 Al 쉬트 표면 위의 물방울의 모양을 보여준다. 물방울 직경은 9 ~ 11 mm 였고, 물방울이 매우 빠른 속도로 상기 표면 위에서 퍼지는 것을 확인하였다.The hydrophilic performance of the Ti-O-C compound thin film according to the present invention was evaluated. A droplet size of 0.1 cc was dropped at a height of 10 mm to measure the droplet size on the sample surface. The better the hydrophilicity, the better the droplet's spread, and the larger the droplet's size. The hydrophobic, the smaller the droplet's spread, the smaller the droplet size. Figure 6 shows the shape of the water droplets on the surface of the Al sheet having a hydrophilic coating layer formed in accordance with the present invention. The droplet diameter was 9-11 mm and it was confirmed that the droplet spreads on the surface at a very high speed.

아울러, 친수성의 에이징 특성을 평가하기 위해 친수 처리된 시편을 증류수로 반복적으로 10분 침수/10분 건조를 반복하여 300 싸이클 후의 친수 성능을 초기 친수성과 비교하였다. 300 싸이클 가속 후 플라즈마에 의해 처리된 본 발명에 따른 박막은 친수 성능에 변화가 없음을 확인하였다.In addition, in order to evaluate the hydrophilic aging characteristics, the hydrophilic treated specimens were repeatedly immersed in distilled water for 10 minutes and then dried for 10 minutes to compare the hydrophilic performance after 300 cycles with the initial hydrophilicity. It was confirmed that the thin film according to the present invention treated by plasma after 300 cycles acceleration showed no change in hydrophilic performance.

본 발명에서는 Ti 전구체에 비점이 낮고 휘발성이 좋은 액체를 일정 비율로 혼합함으로써 증착 두께가 향상되고 증착 균일도도 우수한 코팅막을 얻을 수 있다. 추가로 포함된 촉매는 가격이 저렴하여 Ti 전구체의 사용량을 줄일 수 있다.In the present invention, by coating a Ti precursor with a low boiling point and good volatility at a constant ratio, the deposition thickness is improved and the coating uniformity is also excellent. The additionally included catalysts are low in cost and can reduce the amount of Ti precursor used.

또한, 상기 촉매는 Ti 전구체의 기화를 촉진시키고 Ti 전구체가 반응챔버로 분사되는 것을 용이하게 하여 플라즈마 중합처리 효율이 향상시킨다.In addition, the catalyst promotes vaporization of the Ti precursor and facilitates injection of the Ti precursor into the reaction chamber, thereby improving the plasma polymerization treatment efficiency.

본 발명에 따른 초친수성 코팅막이 형성된 금속 쉬트는 핀(fin) 형상으로 가공하여 열교환기에 적용될 수 있으며, 기타 기계 부품으로 활용될 수 있을 것이다.The metal sheet on which the superhydrophilic coating film according to the present invention is formed may be applied to a heat exchanger by processing into a fin shape and may be used as other mechanical parts.

Claims (15)

하나 이상의 전극이 설치된 진공 상태의 반응 챔버에 피도물을 위치시키고, 상기 반응 챔버 내로 Ti 전구체 가스, 공기 또는 산소 중에서 선택되는 반응성 가스, 및 Ti의 증착 촉진제로서 비점이 낮은 휘발성 촉매를 도입하고, 상기 전극에 고전압을 인가하여 상기 가스들을 플라즈마 상태로 변화시키고,Placing a workpiece in a vacuum reaction chamber provided with at least one electrode, introducing a reactive gas selected from Ti precursor gas, air or oxygen, and a low boiling volatile catalyst as a deposition promoter of Ti into the reaction chamber, Applying a high voltage to the gases to change the plasma state, 상기 피도물의 적어도 일면에 Ti-O-C 계 나노 박막을 형성하는 것을 포함하는Forming a Ti-O-C-based nano thin film on at least one surface of the workpiece 초친수성 Ti-O-C 계 나노 박막 제조방법.Super hydrophilic Ti-O-C-based nano thin film manufacturing method. 제1항에 있어서, 상기 휘발성 촉매는 DMB (di-methyl butadiene), THF (tetra hydro furan) 및 Hexane 중에서 선택되는 어느 하나 인 것을 특징으로 하는 초친수성 Ti-O-C 계 나노 박막 제조방법.The method of claim 1, wherein the volatile catalyst is any one selected from DMB (di-methyl butadiene), THF (tetra hydro furan) and Hexane. 제1항에 있어서, 상기 Ti 전구체는 티타늄 테트라이소프로폭사이드(titanium tetraisopropoxide)[Ti(OC3H7)4]인 것을 특징으로 하는 초친수성 Ti-O-C 계 나노 박막 제조방법.The method of claim 1, wherein the Ti precursor is titanium tetraisopropoxide [Ti (OC 3 H 7 ) 4 ]. 제1항에 있어서, 상기 Ti 전구체는 액상의 전구체를 기화시켜 상기 반응챔버 내로 도입되는 것을 특징으로 하는 초친수성 Ti-O-C 계 나노 박막 제조방법.The method of claim 1, wherein the Ti precursor is introduced into the reaction chamber by vaporizing a liquid precursor. 제1항에 있어서, 상기 피도물은 금속인 것을 특징으로 하는 초친수성 Ti-O-C 계 나노 박막 제조방법.The method of claim 1, wherein the workpiece is a metal. 제5항에 있어서, 상기 피도물에는 직류 고전압이 인가되는 것을 특징으로 하는 초친수성 Ti-O-C 계 나노 박막 제조방법.The method of claim 5, wherein a DC high voltage is applied to the workpiece. 제1항에 있어서, 상기 Ti 전구체는 별도의 캐리어 가스에 의하여 상기 반응챔버로 운반되는 것을 특징으로 하는 초친수성 Ti-O-C 계 나노 박막 제조방법.The method of claim 1, wherein the Ti precursor is transported to the reaction chamber by a separate carrier gas. 제7항에 있어서, 상기 캐리어 가스는 He, N2, 또는 Ar 중에서 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 초친수성 Ti-O-C 계 나노 박막 제조방법.The method of claim 7, wherein the carrier gas is any one selected from He, N 2 , and Ar. 제1항에 있어서, 상기 Ti 전구체와 상기 휘발성 촉매의 비율은 70 : 30 ~ 50 : 50 인 것을 특징으로 하는 초친수성 Ti-O-C 계 나노 박막 제조방법.The method of claim 1, wherein the ratio of the Ti precursor and the volatile catalyst is 70:30 to 50:50. 모재의 표면상에 형성되는 나노 박막으로서, Ti 전구체, 공기 또는 산소 중에서 선택되는 반응성 가스 및 Ti의 증착 촉진제로서 비점이 낮은 휘발성 촉매로부 터 얻어지는 Ti-O-C 계 화합물로 구성되는A nano thin film formed on the surface of a base material, consisting of a Ti precursor, a reactive gas selected from air or oxygen, and a Ti-O-C compound obtained from a low boiling point volatile catalyst as a deposition promoter for Ti. 초친수성 Ti-O-C 계 나노 박막.Super Hydrophilic Ti-O-C Nano Films. 제10항에 있어서, 상기 나노 박막의 두께는 1 내지 100 nm 인 것을 특징으로 하는 초친수성 Ti-O-C 계 나노 박막.The super-hydrophilic Ti-O-C based nano thin film according to claim 10, wherein the nano thin film has a thickness of 1 to 100 nm. 제10항에 있어서, 상기 모재는 금속인 것을 특징으로 하는 초친수성 Ti-O-C 계 나노 박막.The super hydrophilic Ti-O-C nano thin film of claim 10, wherein the base material is a metal. 제10항에 있어서, 상기 모재는 열교환기 핀용 알루미늄 쉬트인 것을 특징으로 하는 초친수성 Ti-O-C 계 나노 박막.The super-hydrophilic Ti-O-C based nano thin film according to claim 10, wherein the base material is an aluminum sheet for heat exchanger fins. 제10항에 있어서, 상기 휘발성 촉매는 DMB (di-methyl butadiene), THF (tetra hydro furan) 및 Hexane 중에서 선택되는 어느 하나 인 것을 특징으로 하는 초친수성 Ti-O-C 계 나노 박막.The super-hydrophilic Ti-O-C nano thin film according to claim 10, wherein the volatile catalyst is any one selected from dimethyl butadiene (DMB), tetra hydro furan (THF), and hexane. 제10항에 있어서, 상기 Ti 전구체는 티타늄 테트라이소프로폭사이드(titanium tetraisopropoxide)[Ti(OC3H7)4]인 것을 특징으로 하는 초친수성 Ti-O-C 계 나노 박막.11. The superhydrophilic Ti-OC based nano thin film of claim 10, wherein the Ti precursor is titanium tetraisopropoxide [Ti (OC 3 H 7 ) 4 ].
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