KR20060133424A - Photo mask and jig for moving the photo mask - Google Patents

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Abstract

A photomask and a jig are provided to prevent contamination of the photomask owing to movement by using a transparent substrate having a plurality of grooves having predetermined diameter and depth. A photomask(20) includes a transparent substrate(200) and a light-blocking pattern(210). The transparent substrate is provided with a plurality of grooves(205) having predetermined diameter and depth. The light-blocking pattern is formed on the transparent substrate to shield a light. A jig(30) is comprised of a body(300), a plurality of protruded sections(305), and a handle(310). The body has a rectangular shape of which one side is opened and a width thereof is adjusted. The protruded sections are formed on both sides contacted to the opened side of the body and inserted into the grooves of the photomask. The handle is formed on a side opposite to the open side of the body.

Description

포토 마스크 및 포토 마스크를 집어서 이동하기 위한 지그{Photo mask and jig for moving the photo mask}Photo mask and jig for moving the photo mask

도 1은 종래의 포토 마스크의 구조를 나타내는 단면도이다.1 is a cross-sectional view showing the structure of a conventional photo mask.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 포토 마스크를 나타내는 입체 사시도이다.2 is a three-dimensional perspective view showing a photo mask according to an embodiment of the present invention.

도 3은 본 발명의 실시예에 따른 포토 마스크를 집어서 이동하기 위한 지그(jig)를 나타내는 도면이다.3 is a view showing a jig for picking up and moving a photo mask according to an embodiment of the present invention.

도 4는 본 발명의 실시예에 의한 포토 마스크(20)과 지그(30)의 사용방법을 설명하기 위한 입체 사시도이다.4 is a perspective view illustrating a method of using the photomask 20 and the jig 30 according to the embodiment of the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

200: 투명 기판 205: 홈200: transparent substrate 205: groove

210: 차광 패턴 300: 몸체부210: shading pattern 300: body portion

305: 돌출부 310: 손잡이부305: protrusion 310: handle

본 발명은 포토 마스크 및 포토 마스크를 집어서 이동하기 위한 지그에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 포토 마스크의 이동시 포토 마스크의 오염 및 파손을 방지하기 위한 포토 마스크 및 포토 마스크를 집어서 이동하기 위한 지그에 관한 것이다.The present invention relates to a jig for picking up and moving a photomask and a photomask, and more particularly, to a jig for picking up and moving a photomask and a photomask for preventing contamination and damage of the photomask when the photomask is moved. It is about.

포토 마스크란 회로 패턴(pattern)이 형성된 석영(quartz) 유리 기판을 말하며, 웨이퍼 표면에 원하는 회로 패턴을 형성하기 위해 반드시 필요한 원재료로, 웨이퍼와 함께 반도체 소자를 제조하기 위한 가장 중요한 재료이다.The photo mask refers to a quartz glass substrate on which a circuit pattern is formed, and is a raw material necessary for forming a desired circuit pattern on a wafer surface, and is the most important material for manufacturing a semiconductor device together with a wafer.

도 1은 종래의 포토 마스크의 구조를 나타내는 단면도이다.1 is a cross-sectional view showing the structure of a conventional photo mask.

도 1에 도시된 바와 같이 종래의 포토 마스크(10)는 석영으로된 투명 기판(100) 상에 차광 패턴(110)이 형성되어 있는 구조를 가지고 있다.As shown in FIG. 1, the conventional photo mask 10 has a structure in which a light blocking pattern 110 is formed on a transparent substrate 100 made of quartz.

차광 패턴(110)은 빛(UV, X-ray)이 통과하지 못하는 불투명 지역(111)과 빛을 통과시키는 투명지역(112)로 나뉘며, 이 포토 마스크(10) 상의 패턴을 리소그라피(lithography) 공정에서 웨이퍼 위에 복사하여 반도체 소자를 제조하는 것이다. 투명 기판(100)위에 빛을 차광하는 물질로는 크롬(Cr) 에멀전(emulsion), 산화철, 실리콘 등이 사용된다.The light shielding pattern 110 is divided into an opaque region 111 through which light (UV, X-ray) cannot pass and a transparent region 112 through which light passes. The pattern on the photo mask 10 is subjected to a lithography process. To make a semiconductor device by copying onto a wafer. As a light blocking material on the transparent substrate 100, a chromium (Cr) emulsion, iron oxide, silicon, or the like is used.

이러한, 포토 마스크(10)는 실제 공정에 적용함에 있어서 마스크를 이동시키기 위해 다루거나, 실제 공정에의 적용을 위해 로딩시 외부의 오염으로 인하여 포토 마스크(10) 상에 결함(defect)이 발생하는 문제가 있으며 마스크 프로세스 상의 핸들링(handling) 및 로딩(loading)이 단계별로 진행되므로 이동시 결함 (defect)이 다발성으로 발생하게 된다.Such a photo mask 10 may be handled to move the mask in an actual process, or defects may be generated on the photo mask 10 due to external contamination during loading for application to an actual process. There is a problem and handling and loading on the mask process step by step, resulting in multiple defects during movement.

포토 마스크에 표면에 이물질이 부착되면, 노광 공정 시 빛의 산란(scattering), 흡수와 같은 광반응으로 인한 광분해능의 감소를 야기하며, 결국 웨이퍼 상 패턴 형성에 치명적인 결함을 야기 시킨다.If foreign matter adheres to the surface of the photo mask, it causes a reduction in light resolution due to photoreaction such as scattering and absorption of light during the exposure process, which in turn causes a fatal defect in pattern formation on the wafer.

이러한 문제의 해결 방법으로 종래에는 펠리클(pellicle)이라는 부재를 포토 마스크의 표면에 설치하여 포토 마스크 표면의 오염을 방지하였다.In order to solve this problem, conventionally, a member called a pellicle is installed on the surface of the photo mask to prevent contamination of the photo mask surface.

펠리클(pellicle)이란 얇고 투명한 막으로 포토 마스크의 표면을 대기중의 분자나 다른 형태의 오염으로부터 보호해 주는 투명막이다. 보통 펠리클막은 금속 또는 양극 산화된 알루미늄 프레임에 부착시킨 후, 패턴이 형성된 포토 마스크 위에 단단하게 밀착시킨 후, 사진공정을 수행하는 부재를 말한다.A pellicle is a thin, transparent film that protects the surface of a photomask from molecules and other forms of contamination in the atmosphere. Usually, the pellicle film refers to a member that adheres to a metal or anodized aluminum frame, adheres tightly to a patterned photo mask, and then performs a photo process.

그러나, 이러한 펠리클은 파티클(particle)과 같은 자연 불순물이 포토 마스크에 부착되어 생기는 패턴 불량(pattern fail)은 방지할 수 있으나, 다음 공정으로 넘어가기 위해 이동하거나 로딩시에 마스크면을 손으로 잡을 경우, 또는 이동용 집게인 지그(jig)를 이용하여 마스크를 로딩할 경우 마스크 표면에 유기성(organic) 이물질 또는 파티클이 발생할 우려가 있다.However, these pellicles can prevent pattern failure caused by natural impurities such as particles adhering to the photo mask, but when the mask surface is held by hand during movement or loading to move to the next process, When the mask is loaded by using a jig, which is a movable forceps, organic particles or particles may be generated on the mask surface.

또한, 펠리클을 사용하더라도 지그를 이용하여 포토 마스크를 로딩할 경우 펠리클의 파손의 우려가 있으며 실제 공정에서도 이러한 펠리클의 파손은 빈번이 일어나고 있는 실정이다.In addition, even when the pellicle is used, the pellicle may be damaged when the photomask is loaded using the jig, and the pellicle is frequently broken even in the actual process.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 포토 마스크의 이동시 포토 마스크의 오염 및 파손을 방지하기 위한 포토 마스크를 제공하는데에 있다.An object of the present invention is to provide a photo mask for preventing contamination and damage of the photo mask when the photo mask is moved.

본 발명이 이루고자 하는 다른 기술적 과제는 상기 포토 마크스를 집어서 이동시킬 수 있는 지그를 제공하는데에 있다.Another object of the present invention is to provide a jig that can pick up and move the photo mark.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.Technical problems to be achieved by the present invention are not limited to the technical problems mentioned above, and other technical problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상기의 기술적 과제를 해결하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 포토 마스크는 측면에는 이동시 피고정체가 고정되도록 소정의 지름과 소정의 깊이를 가진 홈이 소정의 갯수만큼 형성되어 있는 투명 기판, 상기 투명기판 상에 형성되며 빛을 차폐시키는 차광패턴을 포함한다.The photomask according to the embodiment of the present invention for solving the above technical problem is a transparent substrate having a predetermined number of grooves having a predetermined diameter and a predetermined depth formed on the side to fix the fixed body, the transparent substrate It is formed on the light shielding pattern to shield the light.

상기의 다른 기술적 과제를 해결하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 포토 마스크를 집어서 이동하기 위한 지그는 일면이 트인 사각형 형태로 그 폭이 조절되는 몸체부, 상기 몸체부의 상기 트인 일면과 접하는 양측면에 서로 마주보도록 서로 일정한 간격을 가지고 형성되는 돌출부, 및 몸체부의 상기 트인 일면과 마주보는 면에 형성되는 손잡이부를 포함한다.Jig for picking up and moving the photo mask according to an embodiment of the present invention for solving the above other technical problem is a body portion whose width is adjusted in the form of a square of one side, both sides of the body portion in contact with the open one side Protruding portions formed at regular intervals to face each other, and a handle portion formed on the surface facing the open one of the body portion.

기타 실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 첨부 도면들에 포함되어 있다.Specific details of other embodiments are included in the detailed description and the accompanying drawings.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성요소를 지칭한다.Advantages and features of the present invention and methods for achieving them will be apparent with reference to the embodiments described below in detail with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but may be implemented in various different forms, only the present embodiments to make the disclosure of the present invention complete, and common knowledge in the art to which the present invention pertains. It is provided to fully inform the person having the scope of the invention, which is defined only by the scope of the claims. Like reference numerals refer to like elements throughout.

또한, 도면에서 층과 막 또는 영역들의 크기 두께는 명세서의 명확성을 위하여 과장되어 기술된 것이며, 어떤 막 또는 층이 다른 막 또는 층의 "상에" 형성된다라고 기재된 경우, 상기 어떤 막 또는 층이 상기 다른 막 또는 층의 위에 직접 존재할 수도 있고, 그 사이에 제3의 다른 막 또는 층이 개재될 수도 있다.In addition, in the drawings, the size and thickness of layers and films or regions are exaggerated for clarity of description, and when any film or layer is described as being formed "on" of another film or layer, It may be directly on top of the other film or layer, and a third other film or layer may be interposed therebetween.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 포토 마스크를 나타내는 입체 사시도이다.2 is a three-dimensional perspective view showing a photo mask according to an embodiment of the present invention.

도 2에 도시된 바와 같이 본 발명의 실시예에 따른 포토 마스크(20)는 투명 기판(200) 및 차광패턴(210)을 포함한다.As shown in FIG. 2, the photomask 20 according to the embodiment of the present invention includes a transparent substrate 200 and a light shielding pattern 210.

투명 기판(200)은 일반적으로 석영으로된 기판이 주로 사용된다. 투명 기판(200)의 측면, 구체적으로는 서로 대면되는 양측면에 일정한 피고정체가 고정되도록 하는 홈(205)이 형성된다.As the transparent substrate 200, a substrate made of quartz is generally used. Grooves 205 are formed on the side surfaces of the transparent substrate 200, specifically, on both sides of the transparent substrate 200 to fix a fixed object.

이 홈(205)은 소정의 지름을 가지고, 소정의 깊이만큼 형성되며, 적어도 포토 마스크(20)를 안정적으로 집고 고정시키기 위해서는 적어도 양측에 각각 2개씩의 홈(205)이 형성되어야 할 것이다. 다만, 본 발명에서는 상기 홈의 지름을 24mm 가 되도록 형성하였다.The grooves 205 have a predetermined diameter and are formed to a predetermined depth, and at least two grooves 205 should be formed on at least two sides in order to stably hold and fix the photo mask 20. However, in the present invention, the groove was formed to have a diameter of 24 mm.

투명 기판(200) 상에는 빛이 투과되는 부분과 투과되지 않는 부분이 일정한 패턴을 가지고 형성되어 있는 차광패턴(210)이 형성되어 있다. 차광 패턴(210)을 형성하는 물질로는 크롬(Cr), 에멀전(emulsion), 산화철, 실리콘 등이 사용될 수있으며, 차광 패턴(210)의 형상은 형성하고자 하는 웨이퍼의 형태에 따라서 변화될 수 있다.On the transparent substrate 200, a light shielding pattern 210 is formed in which a portion where light is transmitted and a portion that is not transmitted have a predetermined pattern. As the material for forming the light shielding pattern 210, chromium (Cr), emulsion, iron oxide, silicon, or the like may be used, and the shape of the light shielding pattern 210 may be changed according to the shape of the wafer to be formed. .

도 3은 본 발명의 실시예에 따른 포토 마스크를 집어서 이동하기 위한 지그(jig)를 나타내는 도면이다.3 is a view showing a jig for picking up and moving a photo mask according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 실시예에 따른 지그(jig;30)는 몸체부(300), 돌출부(305) 및 손잡이부(310)를 포함하는 구조로 되어 있다.Jig (jig) 30 according to an embodiment of the present invention has a structure including a body portion 300, the protrusion 305 and the handle portion 310.

몸체부(300)는 일면이 트인 사각형 내지는 "ㄷ" 자형으로 세개의 면이 존재하는 형태로 되어 있으며, 그 중 몸체부(300)의 트인 일면과 접하는 양측면에 서로 마주 보도록 일정한 간격을 가진 돌출부(305)가 형성되어 있다.Body portion 300 is three-sided in the form of a square or "c" shape of one side is open, of which the protrusions having a predetermined interval so as to face each other on both sides in contact with the open one side of the body (300) ( 305 is formed.

이 돌출부(305)는 앞서 도 2에서 설명한 홈(도 2의 205 참조)에 끼워지게 되며, 오염의 방지를 위해 테프론(Teflon)과 같은 반응성 및 내식성이 강한 고분자로 형성하거나 코팅처리를 해준다.The protrusion 305 is inserted into the groove described above with reference to FIG. 2 (see 205 of FIG. 2), and formed or coated with a polymer having high reactivity and corrosion resistance such as Teflon to prevent contamination.

몸체부(300)는 그 폭이 일정한 메카니즘에 의해 조절되도록 하는 구조로 되어 있는데, 상기 몸체부(300)의 폭을 조절하는 메카니즘은 스패너나 집게와 같은 도구의 집게폭을 조절하는데 사용되는 메카니즘을 이용하여 그 폭을 조절할 수 있을 것이다.Body portion 300 has a structure that the width is to be adjusted by a constant mechanism, the mechanism for adjusting the width of the body portion 300 is a mechanism used to adjust the width of the forceps of the tool, such as spanners or tongs You can use it to adjust the width.

손잡이부(310)는 몸체부(300)의 트인면과 마주보는 면, 즉 돌출부(305)가 형성되는면의 사이면에 형성되며 몸체부(300)의 이동시 사용자로 하여금 잡을 수(grip)있도록 하는 기능을 제공한다.The handle portion 310 is formed on a surface facing the open surface of the body portion 300, that is, between the surfaces on which the protrusion 305 is formed, so that the user may grip when the body portion 300 moves. Provides the ability to

도 4는 본 발명의 실시예에 의한 포토 마스크(20)과 지그(30)의 사용방법을 설명하기 위한 입체 사시도이다.4 is a perspective view illustrating a method of using the photomask 20 and the jig 30 according to the embodiment of the present invention.

도 4에 도시된 바와 같이 홈(205)이 형성된 포토 마스크(20)에 상기 포토 마스크(20)의 폭보다 넓은 폭으로 몸체부(300)가 벌려진 지그(30)가 위치한다.As shown in FIG. 4, the jig 30 having the body portion 300 extended to be wider than the width of the photo mask 20 is disposed in the photo mask 20 having the groove 205 formed therein.

그 후, 상기 지그(30)의 몸체부(300)의 폭이 일정한 메카니즘에 의해 좁아지게 되면 돌출부(305)가 포토 마스크(20)의 측면에 형성된 홈(205)에 단단하게 끼워져 고정되게 되고, 그 후 손잡이부를 이용하여 포토 마스크(20)를 이동하거나 원하는 공정단계에 로딩시킨 후, 지그(30)를 포토 마스크(20)로부터 제거하게 된다.Thereafter, when the width of the body portion 300 of the jig 30 is narrowed by a certain mechanism, the protrusion 305 is firmly fitted into the groove 205 formed on the side surface of the photo mask 20 and fixed. Thereafter, after the photo mask 20 is moved or loaded in a desired process step using the handle, the jig 30 is removed from the photo mask 20.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 제조될 수 있으며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. Although the embodiments of the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings, the present invention is not limited to the above embodiments but may be manufactured in various forms, and having ordinary skill in the art to which the present invention pertains. It will be understood by those skilled in the art that the present invention may be embodied in other specific forms without changing the technical spirit or essential features of the present invention. Therefore, it should be understood that the embodiments described above are exemplary in all respects and not restrictive.

본 발명의 실시예에 따른 포토 마스크 및 이를 이동시키기 위한 지그에 의하 면 포토 마스크를 노광공정 단계 및 기타 공정 단계로 이동시 이동이 비교적 간편하고 이동에 의한 오염을 방지할 수 있게 된다.According to the photomask and the jig for moving the photomask according to the embodiment of the present invention, when the photomask is moved to the exposure process step and other process steps, the movement is relatively simple and contamination by the movement can be prevented.

Claims (6)

측면에는 이동시 피고정체가 고정되도록 소정의 지름과 소정의 깊이를 가진 홈이 소정의 갯수만큼 형성되어 있는 투명 기판;A transparent substrate having a predetermined number of grooves having a predetermined diameter and a predetermined depth formed on the side thereof so that the fixed body is fixed when moved; 상기 투명기판 상에 형성되며 빛을 차폐시키는 차광패턴을 포함하는 포토 마스크.And a light blocking pattern formed on the transparent substrate to shield light. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 홈은 상기 투명기판의 양측면에 서로 일정한 간격을 가지고 각각 2개씩 형성되는 것을 특징으로 하는 포토 마스크.Two photo grooves are formed on both sides of the transparent substrate at regular intervals from each other. 일면이 트인 사각형 형태로 그 폭이 조절되는 몸체부;A body portion whose width is adjusted to a square shape having one surface open; 상기 몸체부의 상기 트인 일면과 접하는 양측면에 서로 마주보도록 서로 일정한 간격을 가지고 형성되는 돌출부; 및Protruding portions formed at regular intervals so as to face each other on both side surfaces contacting the open one surface of the body portion; And 상기 몸체부의 상기 트인 일면과 마주보는 면에 형성되는 손잡이부를 포함하는 포토 마스크를 집어서 이동하기 위한 지그.Jig for picking up and moving the photo mask including a handle portion formed on the surface facing the open one surface of the body portion. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 돌출부는 테프론으로 형성되는 것을 특징으로 하는 포토 마스크를 집어서 이동하기 위한 지그.The jig for picking up and moving the photo mask, characterized in that the protrusion is formed of Teflon. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 돌출부는 상기 홈에 들어가도록 하는 크기를 가지는 것을 특징으로 하는 포토 마스크를 집어서 이동하기 위한 지그.The jig for picking up and moving the projections, characterized in that the protrusion has a size to enter the groove. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 돌출부는 각 면에 두개씩 형성되는 것을 특징으로 하는 포토 마스크를 집어서 이동하기 위한 지그.Jig for picking up and moving the photo mask, characterized in that formed on each side two projections.
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