KR20060105817A - Wafer cassette station - Google Patents

Wafer cassette station Download PDF

Info

Publication number
KR20060105817A
KR20060105817A KR1020050028243A KR20050028243A KR20060105817A KR 20060105817 A KR20060105817 A KR 20060105817A KR 1020050028243 A KR1020050028243 A KR 1020050028243A KR 20050028243 A KR20050028243 A KR 20050028243A KR 20060105817 A KR20060105817 A KR 20060105817A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
loading plate
horizontal
wafer cassette
cassette station
plate
Prior art date
Application number
KR1020050028243A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
김동규
Original Assignee
삼성전자주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전자주식회사 filed Critical 삼성전자주식회사
Priority to KR1020050028243A priority Critical patent/KR20060105817A/en
Publication of KR20060105817A publication Critical patent/KR20060105817A/en

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65B—MACHINES, APPARATUS OR DEVICES FOR, OR METHODS OF, PACKAGING ARTICLES OR MATERIALS; UNPACKING
    • B65B39/00—Nozzles, funnels or guides for introducing articles or materials into containers or wrappers
    • B65B39/06—Nozzles, funnels or guides for introducing articles or materials into containers or wrappers adapted to support containers or wrappers
    • B65B39/08—Nozzles, funnels or guides for introducing articles or materials into containers or wrappers adapted to support containers or wrappers by means of clamps
    • B65B39/10—Nozzles, funnels or guides for introducing articles or materials into containers or wrappers adapted to support containers or wrappers by means of clamps operating automatically
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61H—PHYSICAL THERAPY APPARATUS, e.g. DEVICES FOR LOCATING OR STIMULATING REFLEX POINTS IN THE BODY; ARTIFICIAL RESPIRATION; MASSAGE; BATHING DEVICES FOR SPECIAL THERAPEUTIC OR HYGIENIC PURPOSES OR SPECIFIC PARTS OF THE BODY
    • A61H39/00—Devices for locating or stimulating specific reflex points of the body for physical therapy, e.g. acupuncture
    • A61H39/08—Devices for applying needles to such points, i.e. for acupuncture ; Acupuncture needles or accessories therefor

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

웨이퍼 카세트 스테이션을 개시한다. 개시된 웨이퍼 카세트 스테이션은 웨이퍼 카세트가 안착되는 로딩 플레이트와, 상기 로딩 플레이트의 하부에 위치하여 상기 로딩 플레이트를 지탱하는 베이스 플레이트와, 상기 로딩 플레이트와 상기 베이스 플레이트 사이에 개재되어 상기 로딩 플레이트에 가해지는 충격을 완화함과 아울러 상기 로딩 플레이트의 수평을 조절하는 수평 조절 수단, 및 상기 로딩 플레이트의 상면에 장착되어 상기 로딩 플레이트의 수평 상태를 나타내는 수평 확인 수단을 포함한다.A wafer cassette station is disclosed. The disclosed wafer cassette station includes a loading plate on which a wafer cassette is seated, a base plate positioned below the loading plate to support the loading plate, and an impact applied to the loading plate interposed between the loading plate and the base plate. And a horizontal adjusting means for adjusting the horizontality of the loading plate and a horizontal checking means mounted on an upper surface of the loading plate to indicate a horizontal state of the loading plate.

웨이퍼 카세트, 수준기 Wafer cassette, spirit level

Description

웨이퍼 카세트 스테이션{WAFER CASSETTE STATION}Wafer cassette station {WAFER CASSETTE STATION}

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 웨이퍼 카세트 스테이션의 사시도이다.1 is a perspective view of a wafer cassette station in accordance with one embodiment of the present invention.

도 2는 도 1의 Ⅰ-Ⅰ' 절단면도이다.FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line II ′ of FIG. 1.

도 3은 도 1의 Ⅱ-Ⅱ' 절단면도이다.3 is a cross-sectional view taken along the line II-II 'of FIG. 1.

**도면 중 주요 부분에 대한 부호의 설명**** Description of the symbols for the main parts of the drawings **

110 : 로딩 플레이트 120 : 베이스 플레이트110: loading plate 120: base plate

130 : 수평 조절 수단 132 : 수평 조절 볼트130: leveling means 132: leveling bolt

134 : 스프링 140 : 수평 확인 수단 134: spring 140: level check means

142 : 하우징 144 : 제 1 수준기 142: housing 144: first level

144a, 146a : 액체 수용부 144b, 146b : 액체144a, 146a: liquid container 144b, 146b: liquid

144c, 146c : 공기 방울 144d, 146d : 투명창144c, 146c: Air bubbles 144d, 146d: Transparent window

144e, 146e : 눈금자 146 : 제 2 수준기144e, 146e: ruler 146: second level

본 발명은 웨이퍼 카세트 스테이션에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 복수의 웨이퍼가 적재된 웨이퍼 카세트가 로딩 및 언로딩되는 웨이퍼 카세트 스테이션 에 관한 것이다.The present invention relates to a wafer cassette station, and more particularly, to a wafer cassette station in which a wafer cassette loaded with a plurality of wafers is loaded and unloaded.

일반적으로 반도체 소자는 실리콘 기판인 웨이퍼에 산화막을 성장시키고, 불순물을 침적시키며, 침적된 불순물을 웨이퍼 내로 원하는 깊이까지 침투시키는 확산 공정과, 식각이나 이온 주입이 이루어질 부위의 보호 부위를 선택적으로 한정하기 위해 마스크나 레티클(Reticle)의 패턴을 웨이퍼 상에 형성하는 포토 공정과, 감광액 현상이 끝난 후 감광액 밑에 성장되거나 침적 또는 증착된 박막들을 가스나 화학약품을 이용하여 선택적으로 제거하는 식각 공정 및 화학기상증착(CVD; Chemical Vapor Deposition)이나 이온 주입 또는 금속 증착 방법을 이용하여 특정한 막을 형성시키는 박막 공정 등의 여러 공정을 반복적으로 수행함으로써 제조된다.In general, semiconductor devices grow a oxide film on a wafer, which is a silicon substrate, deposit impurities, penetrate the deposited impurities into the wafer to a desired depth, and selectively define the protection sites of the sites where etching or ion implantation is to be performed. A photo process for forming a mask or reticle pattern on the wafer, and an etching process and chemical vapor phase to selectively remove thin films grown, deposited or deposited under the photoresist after the development of the photoresist using gas or chemicals. It is manufactured by repeatedly performing various processes such as a thin film process for forming a specific film by using a chemical vapor deposition (CVD), an ion implantation or a metal deposition method.

한편, 상기 웨이퍼는 운반, 보관 및 공정 진행 동안에 시종일관 최고의 물리적, 화학적 상태가 유지되어야 한다. 만약, 상기 웨이퍼가 제한 량 이상의 먼지나 기타 오염물에 노출되면, 상기 반도체소자의 불량률이 높아진다. 따라서, 반도체 제조 현장에서는 상기 웨이퍼의 운반, 보관, 공정 진행 중에 상기 웨이퍼의 보호를 위해 별도의 웨이퍼 관리 장치로서 상기 웨이퍼를 넣어두기 위한 웨이퍼 카세트가 사용되어 왔다.On the other hand, the wafer must be consistently maintained at its best physical and chemical state during transport, storage and processing. If the wafer is exposed to dust or other contaminants more than a limited amount, the defect rate of the semiconductor device is increased. Therefore, a wafer cassette has been used at the semiconductor manufacturing site to store the wafer as a separate wafer management device for protecting the wafer during the transportation, storage, and process of the wafer.

한편, 위와 같은 각 공정의 진행은 일반적으로 각 공정이 진행될 다수의 웨이퍼가 적재된 웨이퍼 카세트 단위로 각 공정으로 이동하면서 이루어지게 되며, 이를 위해 각 공정을 위한 설비에는 상기 웨이퍼 카세트가 로딩 및 언로딩되는 웨이퍼 카세트 스테이션이 마련된다.On the other hand, the progress of each process as described above is generally made while moving to each process in a wafer cassette unit with a plurality of wafers to be processed in each process, for this purpose, the wafer cassette is loaded and unloaded in the equipment for each process A wafer cassette station is provided.

이때, 상기 웨이퍼 카세트 스테이션은 수평도가 정확히 유지되어야 한다. 왜냐하면, 웨이퍼 카세트 스테이션의 수평도가 제대로 유지되지 못할 경우, 각 공정의 진행을 위해 상기 웨이퍼 카세트 스테이션에서 이송암으로 웨이퍼를 반출하여 이송하는 과정에서 이송암에 의해 웨이퍼 표면에 스크래치가 발생하거나 심할 경우 웨이퍼와 이송암이 부딪치면서 웨이퍼 자체가 파손되는 경우가 발생하기 때문이다.At this time, the wafer cassette station should be maintained at a level of accuracy. This is because when the level of wafer cassette station is not properly maintained, when the wafer surface is scratched or severed by the transfer arm in the process of transporting the wafer from the wafer cassette station to the transfer arm for the progress of each process. This is because the wafer itself is broken when the wafer and the transfer arm collide with each other.

따라서 각 공정을 진행하기에 앞서 웨이퍼 카세트 스테이션에 대한 수평도를 수시로 검사하여 수평도를 교정해야만 효과적인 웨이퍼 이송 작업의 수행이 가능하다. Therefore, before performing each process, the wafer cassette station should be inspected from time to time to calibrate the level so that effective wafer transfer can be performed.

그런데, 종래의 경우 웨이퍼 카세트 스테이션의 수평도를 검사하기 위해서는 항상 별도의 수평 검사 장치를 사용하여 웨이퍼 카세트 스테이션의 수평도를 검사하여 왔다. 즉, 수평도를 교정하기 위해 수평 검사 장치의 동원, 수평 검사 장치의 설치, 수평도 확인, 수평 조절 등의 과정을 순차적으로 수행하여야 하므로 작업 효율이 매우 떨어지고, 제조 공정 시간을 상승시켜 반도체 소자의 제조 수율에 악영향을 미치는 문제점이 있다.However, in the conventional case, in order to inspect the horizontality of the wafer cassette station, the horizontality of the wafer cassette station has always been inspected using a separate horizontal inspection apparatus. In other words, the process of mobilizing the horizontal inspection device, installing the horizontal inspection device, checking the horizontality, and adjusting the horizontal level must be performed in order to correct the horizontality. There is a problem that adversely affects the manufacturing yield.

본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 단점을 극복하기 위해 안출된 것으로서, 웨이퍼 카세트 스테이션 자체에 수평 확인 수단을 장착하여 별도의 수평 검사 장치를 동원하지 않고도 용이하게 수평 조절이 가능할 뿐만 아니라, 수평 조정에 소요되는 시간을 최소화함으로써 반도체 소자의 제조 수율을 향상시킬 수 있는 웨이퍼 카세트 스테이션을 제공하는 것을 기술적 과제로 삼고 있다.The present invention has been made to overcome the drawbacks of the prior art as described above, and is equipped with a horizontal check means on the wafer cassette station itself, which can be easily adjusted horizontally without mobilizing a separate horizontal inspection device, It is a technical problem to provide a wafer cassette station capable of improving the manufacturing yield of semiconductor devices by minimizing the time required.

상기와 같은 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 따른 웨이퍼 카세트 스테이션은, 웨이퍼 카세트가 안착되는 로딩 플레이트와, 상기 로딩 플레이트의 하부에 위치하여 상기 로딩 플레이트를 지탱하는 베이스 플레이트를 포함한다. 상기 로딩 플레이트와 상기 베이스 플레이트 사이에는 상기 로딩 플레이트에 가해지는 충격을 완화함과 아울러 상기 로딩 플레이트의 수평을 조절하는 수평 조절 수단이 개재된다. 상기 로딩 플레이트의 상면에는 상기 로딩 플레이트의 수평 상태를 나타내는 수평 확인 수단이 장착된다.According to an aspect of the present invention, a wafer cassette station includes a loading plate on which a wafer cassette is seated, and a base plate positioned below the loading plate to support the loading plate. A horizontal adjusting means is interposed between the loading plate and the base plate to mitigate the impact applied to the loading plate and to adjust the horizontality of the loading plate. On the upper surface of the loading plate is mounted horizontal checking means indicating the horizontal state of the loading plate.

즉, 본 발명에 따른 웨이퍼 카세트 스테이션은 그 자체에 수평확인수단을 장착하여 별도의 수평검사장치를 동원하지 않고도 용이하게 수평 조절이 가능할 뿐만 아니라, 수평 조절에 소요되는 시간을 최소화함으로써 반도체 소자의 제조 수율을 향상시킬 수 있다.In other words, the wafer cassette station according to the present invention can be easily mounted horizontally without the use of a separate horizontal inspection device by mounting a horizontal checking means on itself, and minimizing the time required for horizontal adjustment to manufacture semiconductor devices. Yield can be improved.

이때, 상기 수평 확인 수단은 X축 방향의 수평 상태를 나타내는 제 1 수준기와, Y축 방향의 수평 상태를 나타내는 제 2 수준기로 구성될 수 있다.In this case, the horizontal checking means may be composed of a first level indicating the horizontal state in the X-axis direction, and a second level indicating the horizontal state in the Y-axis direction.

또한, 상기 수평 조절 수단은 상기 로딩 플레이트를 관통하는 축과, 상기 축의 상단에 연결되어 상기 로딩 플레이트에 걸리도록 형성된 헤드와, 상기 축의 하부에 형성되어 상기 베이스 플레이트에 나사체결되는 나사부로 구성된 수평 조절 볼트를 구비하며, 상기 로딩 플레이트와 상기 베이스 플레이트 사이에 상기 수평 조절 볼트가 관통되도록 스프링이 개재되어 상기 로딩 플레이트에 가해지는 충격을 완화하도록 할 수 있다.In addition, the horizontal adjustment means is a horizontal adjustment consisting of a shaft passing through the loading plate, a head connected to the upper end of the shaft to be caught by the loading plate, and a screw portion formed in the lower portion of the shaft and screwed to the base plate A bolt may be provided, and a spring may be interposed between the loading plate and the base plate to penetrate the horizontal adjustment bolt to mitigate an impact applied to the loading plate.

이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 웨이퍼 카세트 스테이션에 대해 상세히 설명한다. Hereinafter, a wafer cassette station according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 웨이퍼 카세트 스테이션의 사시도이고, 도 2는 도 1의 Ⅰ-Ⅰ' 절단면도이며, 도 3은 도 1의 Ⅱ-Ⅱ' 절단면도이다. 여기서 명세서 전체에 걸쳐 동일한 참조번호들은 동일한 구성요소들을 나타낸다.1 is a perspective view of a wafer cassette station according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a sectional view taken along line II ′ of FIG. 1, and FIG. 3 is a sectional view taken along line II-II ′ of FIG. 1. Here, like reference numerals denote like elements throughout the specification.

본 발명의 일 실시예에 따른 웨이퍼 카세트 스테이션(100)은, 도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 크게 로딩 플레이트(110), 베이스 플레이트(120), 수평 조절 수단(130) 및 수평 확인 수단(140)으로 구성된다.Wafer cassette station 100 according to an embodiment of the present invention, as shown in Figures 1 to 3, the loading plate 110, the base plate 120, the horizontal adjusting means 130 and the horizontal checking means largely 140.

먼저, 로딩 플레이트(110)에 대해 설명하면, 로딩 플레이트(110)의 상부에는 복수의 웨이퍼(미도시)가 적재된 웨이퍼 카세트(미도시)가 안착되며, 상기 웨이퍼 카세트를 고정 지지하기 위한 다수의 지지대(112)가 마련된다. 상부 중앙에는 후술할 수평 확인 수단(140)이 삽입되도록 장착되며, 상부 가장자리 부분에는 후술할 수평 조절 수단(130)의 헤드(132b)가 걸리도록 하는 걸림턱(114)이 형성된다.First, the loading plate 110 will be described. A wafer cassette (not shown) loaded with a plurality of wafers (not shown) is mounted on the loading plate 110, and a plurality of wafer cassettes for fixing and supporting the wafer cassette are provided. A support 112 is provided. A horizontal check means 140 to be described later is inserted into the upper center, and a locking jaw 114 is formed at the upper edge portion to catch the head 132b of the horizontal adjusting means 130 to be described later.

다음으로, 베이스 플레이트(120)에 대해 설명하면, 베이스 플레이트(120)는 상기 로딩 플레이트(110)의 하부에 이격되게 배치되며, 후술할 수평 조절 수단(130)을 통해 상기 로딩 플레이트(110)와 결합하여 상기 로딩 플레이트(110)를 지탱하는 역할을 수행한다. 상기 베이스 플레이트(120)의 하부에는 도시되지 않은 구동수단이 연결되어 상기 웨이퍼 카세트 스테이션(100)을 상하이동 또는 수평이동하도록 할 수 있다.Next, with reference to the base plate 120, the base plate 120 is spaced apart from the lower portion of the loading plate 110, and the loading plate 110 through the horizontal adjustment means 130 to be described later It serves to support the loading plate 110 by combining. A driving means (not shown) may be connected to the lower portion of the base plate 120 to move the wafer cassette station 100 in a vertical motion or horizontal motion.

다음으로, 수평 조절 수단(130)에 대해 설명하면, 수평 조절 수단(130)은 크 게 수평 조절 볼트(132)와 스프링(134)으로 구성된다. 상기 수평 조절 볼트(132)는 로딩 플레이트(110)에 형성된 관통홀(116)에 끼워지는 축(132a)과, 상기 축(132a)의 상단에 연결되어 상기 로딩 플레이트(110)에 형성된 걸림턱(114)에 걸리도록 구성된 헤드(132b)와, 상기 축(132a)의 하부에 형성되어 상기 베이스 플레이트(120)에 형성된 암나사부(124)에 나사체결되는 나사부(132c)로 구성된다. 또한, 상기 헤드(132b)의 외주면에는 주름부(132d)가 형성되어 상기 로딩 플레이트(110)의 수평도 조절시 상기 수평 조절 볼트(132)의 회전 작업을 용이하게 한다. Next, referring to the horizontal adjustment means 130, the horizontal adjustment means 130 is largely composed of a horizontal adjustment bolt 132 and the spring 134. The horizontal adjustment bolt 132 is a shaft (132a) to be fitted into the through hole 116 formed in the loading plate 110, and the locking jaw (connected to the upper end of the shaft 132a formed on the loading plate 110 ( The head 132b is configured to be caught by the 114, and the screw portion 132c which is formed under the shaft 132a and screwed to the female screw portion 124 formed on the base plate 120. In addition, a wrinkle portion 132d is formed on an outer circumferential surface of the head 132b to facilitate the rotation operation of the horizontal adjustment bolt 132 when adjusting the horizontality of the loading plate 110.

한편, 스프링(134)은 상기 수평 조절 볼트(132)가 관통되도록 상기 로딩 플레이트(110)와 상기 베이스 플레이트(120) 사이에 개재되어, 상기 로딩 플레이트(110)에 웨이퍼 카세트가 안착될 때 가해지는 충격을 완화하도록 한다. Meanwhile, the spring 134 is interposed between the loading plate 110 and the base plate 120 so that the horizontal adjustment bolt 132 penetrates, and is applied when the wafer cassette is seated on the loading plate 110. Try to mitigate the impact.

본 발명의 일 실시예에서 수평 조절 볼트(132)와 스프링(134)으로 구성된 상기 수평 조절 수단(130)은 상기 로딩 플레이트(110)와 상기 베이스 플레이트(120) 사이에 대략 삼각형 형태로 3개가 마련되도록 구성되나, 그 수의 증감은 조절될 수 있다. 미설명부호 122는 상기 베이스 플레이트(120)에 설치되어 상기 스프링(134)을 지지하는 스프링 지지부를 나타낸다.In one embodiment of the present invention, the horizontal adjusting means 130 composed of a horizontal adjusting bolt 132 and a spring 134 is provided in three substantially in the form of a triangle between the loading plate 110 and the base plate 120. It is configured to, but the increase and decrease of the number can be adjusted. Reference numeral 122 denotes a spring support part installed on the base plate 120 to support the spring 134.

다음으로, 수평 확인 수단(140)에 대해 설명하면, 수평 확인 수단(140)은 상기 로딩 플레이트(110)의 X축 방향 수평 상태를 나타내는 제 1 수준기(144)와 상기 로딩 플레이트(110)의 Y축 방향 수평 상태를 나타내는 제 2 수준기(146)로 구성되며, 상기 로딩 플레이트(110)의 상부 중앙에 삽입되도록 장착된다. Next, the horizontal check means 140, the horizontal check means 140 is the first level 144 indicating the horizontal state of the X-axis direction of the loading plate 110 and the Y of the loading plate 110 It is composed of a second level (146) indicating an axial horizontal state, and is mounted to be inserted into the upper center of the loading plate (110).

상기 제 1,2 수준기(144, 146)는 각각 하우징(142) 내부에 공기 방울(144c, 146c)을 갖는 액체(144b, 146b)가 담기는 액체 수용부(144a, 146a)와, 상기 액체 수용부(144a, 146a)의 상부에 마련된 투명창(144d, 146d)과, 상기 하우징(142)의 상부에 상기 투명창(144d, 146d)의 측면을 따라 일정 간격으로 표시된 눈금자(144e, 146e)를 구비한다. 상기 로딩 플레이트(110)의 수평 상태가 불량할 경우에는 상기 공기 방울(144c, 146c)이 상기 눈금자(144e, 146e)의 중앙으로부터 벗어나게 되므로, 상기 공기 방울(144c, 146c)의 위치를 확인함으로써 상기 로딩 플레이트(110)의 수평 상태를 바로 확인할 수 있다.The first and second spirit levels 144 and 146 include liquid receiving portions 144a and 146a in which the liquids 144b and 146b having the air bubbles 144c and 146c are contained in the housing 142, respectively, and the liquid receiving portion. Transparent windows 144d and 146d provided on the upper portions of the portions 144a and 146a, and rulers 144e and 146e displayed at regular intervals along the side surfaces of the transparent windows 144d and 146d on the housing 142. Equipped. When the horizontal state of the loading plate 110 is poor, since the air bubbles 144c and 146c are moved out of the center of the rulers 144e and 146e, the air bubbles 144c and 146c are identified by checking the positions of the air bubbles 144c and 146c. The horizontal state of the loading plate 110 can be checked immediately.

따라서, 복수의 웨이퍼가 적재된 웨이퍼 카세트를 상기 웨이퍼 카세트 스테이션(100)에 로딩하기에 앞서, 수평 확인 수단(140)에 구비된 제 1,2 수준기(144, 146)를 통해 X축 및 Y축 방향의 수평 상태를 확인한다. 만일 수평 상태가 불량할 경우 수평 조절 수단(130)의 수평 조절 볼트(132)를 회전시켜 수평 확인 수단(140)의 공기 방울(144c, 146c)이 눈금자(144e, 146e)의 중앙에 위치하도록 조정함으로써 로딩 플레이트(110)의 수평도를 조정할 수 있다.Therefore, prior to loading the wafer cassette on which the plurality of wafers are loaded into the wafer cassette station 100, the X-axis and the Y-axis through the first and second levels 144 and 146 provided in the horizontal checking means 140. Check the horizontal state of the direction. If the horizontal state is poor, adjust the air bubble 144c, 146c of the horizontal check means 140 is located in the center of the rulers 144e, 146e by rotating the horizontal adjustment bolt 132 of the horizontal adjusting means 130. As a result, the horizontality of the loading plate 110 can be adjusted.

이상 설명한 바와 같이, 본 발명의 상세한 설명에서는 본 발명의 바람직한 실시예에 관하여 설명하였으나, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 범주에서 벗어나지 않는 한도 내에서 여러 가지 변형이 가능함은 물론이다. 따라서 본 발명의 권리 범위는 설명된 실시예에 국한되어 정해져서는 안되며, 후술하는 특허청구범위 뿐만 아니라, 이 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.As described above, in the detailed description of the present invention has been described with respect to preferred embodiments of the present invention, those skilled in the art to which the present invention pertains various modifications without departing from the scope of the present invention Of course it is possible. Therefore, the scope of the present invention should not be limited to the described embodiments, but should be defined not only by the claims below, but also by the equivalents of the claims.

상기와 같은 구성을 갖는 본 발명에 의하면, 웨이퍼 카세트 스테이션 자체에 수평 확인 수단을 장착하여 별도의 수평 검사 장치를 동원하지 않고도 용이하게 수평 조절이 가능할 뿐만 아니라, 수평 조정에 소요되는 시간을 최소화하여 반도체 소자의 제조를 위한 공정 시간을 단축함으로써 반도체 소자의 제조 수율을 향상시킬 수 있는 이점이 있다.According to the present invention having the above-described configuration, by mounting the horizontal identification means on the wafer cassette station itself, it is possible to easily adjust the horizontal level without mobilizing a separate horizontal inspection device, and to minimize the time required for the horizontal adjustment semiconductor By reducing the process time for manufacturing the device there is an advantage that can improve the manufacturing yield of the semiconductor device.

Claims (3)

웨이퍼 카세트가 안착되는 로딩 플레이트;A loading plate on which a wafer cassette is seated; 상기 로딩 플레이트의 하부에 위치하여 상기 로딩 플레이트를 지탱하는 베이스 플레이트;A base plate positioned below the loading plate to support the loading plate; 상기 로딩 플레이트와 상기 베이스 플레이트 사이에 개재되어 상기 로딩 플레이트에 가해지는 충격을 완화함과 아울러 상기 로딩 플레이트의 수평을 조절하는 수평 조절 수단; 및Horizontal adjustment means interposed between the loading plate and the base plate to alleviate the impact applied to the loading plate and to adjust the horizontality of the loading plate; And 상기 로딩 플레이트의 상면에 장착되어 상기 로딩 플레이트의 수평 상태를 나타내는 수평 확인 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 카세트 스테이션.And a horizontal identification means mounted on an upper surface of the loading plate to indicate a horizontal state of the loading plate. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 수평 확인 수단은 X축 방향의 수평 상태를 나타내는 제 1 수준기와, Y축 방향의 수평 상태를 나타내는 제 2 수준기로 구성된 것을 특징으로 하는 웨이퍼 카세트 스테이션.And said level checking means comprises a first level indicating a horizontal state in the X-axis direction and a second level indicating a horizontal state in the Y-axis direction. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 수평 조절 수단은 The horizontal adjusting means 상기 로딩 플레이트를 관통하는 축과, 상기 축의 상단에 연결되어 상기 로딩 플레이트에 걸리도록 형성된 헤드와, 상기 축의 하부에 형성되어 상기 베이스 플레 이트에 나사체결되는 나사부로 구성된 수평 조절 볼트; 및A horizontal adjustment bolt comprising a shaft passing through the loading plate, a head connected to an upper end of the shaft to be caught by the loading plate, and a screw portion formed below the shaft and screwed to the base plate; And 상기 수평 조절 볼트가 관통되도록 상기 로딩 플레이트와 상기 베이스 플레이트 사이에 개재되는 스프링으로 구성된 것을 특징으로 하는 웨이퍼 카세트 스테이션.And a spring interposed between the loading plate and the base plate to allow the horizontal adjustment bolt to pass therethrough.
KR1020050028243A 2005-04-04 2005-04-04 Wafer cassette station KR20060105817A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020050028243A KR20060105817A (en) 2005-04-04 2005-04-04 Wafer cassette station

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020050028243A KR20060105817A (en) 2005-04-04 2005-04-04 Wafer cassette station

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20060105817A true KR20060105817A (en) 2006-10-11

Family

ID=37635275

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020050028243A KR20060105817A (en) 2005-04-04 2005-04-04 Wafer cassette station

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20060105817A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101274038B1 (en) * 2006-11-29 2013-06-12 엘지디스플레이 주식회사 Automatic guided vehicle

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101274038B1 (en) * 2006-11-29 2013-06-12 엘지디스플레이 주식회사 Automatic guided vehicle

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN109415837B (en) Substrate holder and plating apparatus
CN110050336B (en) Wafer edge lift pin design for manufacturing semiconductor devices
US20090110532A1 (en) Method and apparatus for providing wafer centering on a track lithography tool
KR102220336B1 (en) Teaching method of hoist module and apparatus for performing the same
KR20060073491A (en) Substrate processing apparatus and transfer positioning method thereof
US20210366792A1 (en) Backside deposition tuning of stress to control wafer bow in semiconductor processing
US11933808B2 (en) Buffer unit and method for storaging substrate type sensor for measuring of horizontality of a substrate support member provided on a temperature varying atmosphere
TWI810766B (en) Substrate type sensor for measuring horizontality of substrate support member provided in atmosphere accompanied by temperature change, method for measuring horizontality of substrate support member by using the same, and non-transitory computer readable medium
US20100007869A1 (en) Reticle Handler
KR20060105817A (en) Wafer cassette station
US7361920B2 (en) Substrate processing apparatus and transfer positioning method thereof
KR20060121362A (en) Apparatus for measuring esc edge ring
KR20060011671A (en) Align apparatus of exposing equipment having particle sensing means
US20090148256A1 (en) Support Pin with Dome Shaped Upper Surface
KR20070024907A (en) Dummy chamber having wafer align means and manufacturing apparatus of semiconductor device comprising the same
US20230375945A1 (en) Workpiece support
CN111699548B (en) Substrate holding apparatus and shape measurement method
KR20100050119A (en) Support member and apparatus for treating substrate with the same
KR100542725B1 (en) Apparatus for aligning of a wafer in semiconductor processing
KR100619116B1 (en) Wafer aligner for the ion implant equipment
US20130269877A1 (en) Semiconductor processing apparatus
KR20240048254A (en) Nozzle cutting zig apparatus for cleaning apparatus for substrate
KR100783282B1 (en) Orientation Aligning Unit In The Aligning Chamber
KR20060067509A (en) Indexer table of spinner equipment
CN115763339A (en) Apparatus for processing substrate and method for processing substrate

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Withdrawal due to no request for examination