KR20060097275A - Plasma display panel and manufacturing method thereof - Google Patents

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KR20060097275A KR1020050018368A KR20050018368A KR20060097275A KR 20060097275 A KR20060097275 A KR 20060097275A KR 1020050018368 A KR1020050018368 A KR 1020050018368A KR 20050018368 A KR20050018368 A KR 20050018368A KR 20060097275 A KR20060097275 A KR 20060097275A
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박승준
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Abstract

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널의 보호층 역할을 하는 기능성 표면층과 기능성 표면층의 형성과정에 대한 플라즈마 디스플레이 패널 및 그의 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma display panel for forming a functional surface layer serving as a protective layer of a plasma display panel and a process of forming the functional surface layer, and a method of manufacturing the same.

이러한 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은 전면 글라스, 전면 글라스 상에 형성된 유지 전극, 유지 전극을 포함하는 전면 글라스 상에 형성되는 유전체층 및 유전체층 상에 형성된 기능성 표면층을 포함하되, 유전체층과 기능성 표면층은 유전체 재료로부터 서로 상분리되어 형성된다.The plasma display panel according to the present invention includes a front glass, a sustain electrode formed on the front glass, a dielectric layer formed on the front glass including the sustain electrode, and a functional surface layer formed on the dielectric layer, wherein the dielectric layer and the functional surface layer are formed of a dielectric material. From the phase separation from each other.

또한, 이러한 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법은 (a) 전면 글라스 상부에 유지 전극을 형성하는 단계, (b) 유지 전극을 포함하는 전면 글라스 상부에 소정의 첨가물이 포함된 유전체 재료를 도포하는 단계 및 (c) 도포된 유전체 재료를 열처리하여 유전체 재료와 유전체 재료에 포함된 첨가물을 상분리하여 유전체층과 기능성 표면층을 형성하는 단계를 포함한다.In addition, the manufacturing method of the plasma display panel according to the present invention includes (a) forming a sustain electrode on the front glass, and (b) applying a dielectric material including a predetermined additive on the front glass including the sustain electrode. And (c) heat treating the applied dielectric material to phase-separate the dielectric material from the additives included in the dielectric material to form a dielectric layer and a functional surface layer.

따라서, 본 발명은 보호층의 역할을 하는 기능성 표면층을 유전체층 형성과 동시에 형성함으로써 플라즈마 디스플레이 패널의 공정 수를 줄여 플라즈마 디스플레이 패널의 단가를 낮출 수 있는 효과가 있다.Therefore, the present invention has the effect of reducing the unit cost of the plasma display panel by reducing the number of processes of the plasma display panel by forming a functional surface layer serving as a protective layer at the same time as the dielectric layer formation.

Description

플라즈마 디스플레이 패널 및 그의 제조방법{Plasma Display Panel and Manufacturing Method Thereof}Plasma Display Panel and Manufacturing Method Thereof

도 1은 종래 플라즈마 디스플레이 패널의 구조를 나타낸 도.1 is a view showing the structure of a conventional plasma display panel.

도 2는 종래 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 패널 제조 공정을 순차적으로 나타낸 공정도.2 is a process chart sequentially showing a front panel manufacturing process of a conventional plasma display panel.

도 3은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 구조를 나타낸 도.3 is a view showing the structure of a plasma display panel according to the present invention;

도 4는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법을 순차적으로 나타낸 블록도.4 is a block diagram sequentially illustrating a method of manufacturing a plasma display panel according to the present invention;

도 5는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 패널 제조공정을 나타낸 도.5 is a view showing a front panel manufacturing process of the plasma display panel according to the present invention.

도 6은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체층과 기능성 표면층을 형성하는 과정을 나타낸 도.6 is a view showing a process of forming a dielectric layer and a functional surface layer of the plasma display panel according to the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

300: 전면 패널 301: 전면 글라스300: front panel 301: front glass

302: 스캔 전극 303: 서스테인 전극302: scan electrode 303: sustain electrode

304: 상부 유전체층 305: 기능성 표면층304: top dielectric layer 305: functional surface layer

310: 후면 패널 311: 후면 글라스310: rear panel 311: rear glass

312: 격벽 313: 어드레스 전극312: partition 313: address electrode

314: 형광체 315: 하부 유전체층314: phosphor 315: lower dielectric layer

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것으로, 더욱 자세하게는 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 패널의 보호층 역할을 하는 기능성 표면층과 기능성 표면층의 형성과정에 대한 플라즈마 디스플레이 패널 및 그의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a plasma display panel, and more particularly, to a plasma display panel and a method of manufacturing the same for a process of forming a functional surface layer and a functional surface layer serving as a protective layer of a front panel of the plasma display panel.

일반적으로, 플라즈마 디스플레이 패널은 전면 패널과 후면 패널 사이에 형성된 격벽이 하나의 단위 셀을 이루는 것으로, 각 셀 내에는 네온(Ne), 헬륨(He) 또는 네온과 헬륨의 혼합기체(Ne+He)와 같은 주 방전 기체와 소량의 크세논을 함유하는 불활성 가스가 충진되어 있다. 고주파 전압에 의해 방전이 될 때, 불활성 가스는 진공자외선(Vacuum Ultraviolet Rays)을 발생하고 격벽 사이에 형성된 형광체를 발광시켜 화상이 구현된다. 이와 같은 플라즈마 디스플레이 패널은 얇고 가벼운 구성이 가능하므로 차세대 표시장치로서 각광받고 있다.In general, a plasma display panel is a partition wall formed between a front panel and a rear panel to form one unit cell, and each cell includes neon (Ne), helium (He), or a mixture of neon and helium (Ne + He). An inert gas containing a main discharge gas such as and a small amount of xenon is filled. When discharged by a high frequency voltage, the inert gas generates vacuum ultraviolet rays and emits phosphors formed between the partition walls to realize an image. Such a plasma display panel has a spotlight as a next generation display device because of its thin and light configuration.

도 1은 일반적인 플라즈마 디스플레이 패널의 구조를 나타낸 도이다.1 illustrates a structure of a general plasma display panel.

도 1에 도시된 바와 같이, 플라즈마 디스플레이 패널은 화상이 디스플레이 되는 표시면인 전면 글라스(101)에 스캔 전극(102) 및 서스테인 전극(103)이 쌍을 이뤄 형성된 복수의 유지전극쌍이 배열된 전면 패널(100) 및 배면을 이루는 후면 글라스(111) 상에 전술한 복수의 유지전극쌍과 교차되도록 복수의 어드레스 전극(113)이 배열된 후면 패널(110)이 일정거리를 사이에 두고 평행하게 결합된다.As shown in FIG. 1, a plasma display panel includes a front panel in which a plurality of sustain electrode pairs formed by pairing a scan electrode 102 and a sustain electrode 103 are arranged on a front glass 101 that is a display surface on which an image is displayed. The rear panel 110 on which the plurality of address electrodes 113 are arranged so as to intersect the plurality of sustain electrode pairs on the back glass 111 forming the back surface 100 and the rear surface is coupled in parallel with a predetermined distance therebetween. .

전면 패널(100)은 하나의 방전셀에서 상호 방전시키고 셀의 발광을 유지하기 위한 스캔 전극(102) 및 서스테인 전극(103), 즉 투명한 ITO 물질로 형성된 투명 전극(a)과 금속재질로 제작된 버스 전극(b)으로 구비된 스캔 전극(102) 및 서스테인 전극(103)이 쌍을 이뤄 포함된다. 스캔 전극(102) 및 서스테인 전극(103)은 방전 전류를 제한하며 전극 쌍 간을 절연시켜주는 상부 유전체층(104)에 의해 덮혀지고, 상부 유전체층(104) 상면에는 방전 조건을 용이하게 하기 위하여 산화마그네슘(MgO)을 증착한 보호층(105)이 형성된다.The front panel 100 is made of a scan electrode 102 and a sustain electrode 103, that is, a transparent electrode (a) formed of a transparent ITO material and a metal material to mutually discharge and maintain light emission of the cells in one discharge cell. The scan electrode 102 and the sustain electrode 103 provided as the bus electrode b are included in pairs. The scan electrode 102 and the sustain electrode 103 are covered by an upper dielectric layer 104 that limits the discharge current and insulates the pair of electrodes, and the upper surface of the upper dielectric layer 104 is magnesium oxide to facilitate the discharge conditions. A protective layer 105 on which (MgO) is deposited is formed.

후면 패널(110)은 복수 개의 방전 공간 즉, 방전셀을 형성시키기 위한 스트라이프 타입의 격벽(112)이 평행을 유지하여 배열된다. 또한, 어드레스 방전을 수행하여 진공자외선을 발생시키는 다수의 어드레스 전극(113)이 격벽(112)에 대해 평행하게 배치된다. 후면 패널(110)의 상측면에는 어드레스 방전 시 화상표시를 위한 가시광선을 방출하는 R, G, B 형광체(114)가 도포된다. 어드레스 전극(113)과 형광체(114) 사이에는 어드레스 전극(113)을 보호하기 위한 하부 유전체층(115)이 형성된다.The rear panel 110 is arranged in such a manner that a plurality of discharge spaces, that is, stripe-type partitions 112 for forming discharge cells are maintained in parallel. In addition, a plurality of address electrodes 113 which perform address discharge to generate vacuum ultraviolet rays are arranged in parallel with the partition wall 112. On the upper side of the rear panel 110, R, G, and B phosphors 114 which emit visible light for image display during address discharge are coated. A lower dielectric layer 115 is formed between the address electrode 113 and the phosphor 114 to protect the address electrode 113.

이와 같은 플라즈마 디스플레이 패널에 있어서, 전면 패널의 보호층은 플라즈마 디스플레이 패널의 방전전압을 낮추기 위한 이차전자를 공급해주며 상부 유전 체층이 이온으로부터 받는 손상을 막아주는 역할을 한다. 이러한 보호층은 CVD법, E-beam법, 스퍼터링법 등을 이용하여 유전체층 상부에 증착되는데 이를 포함한 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 패널 제조공정을 살펴보면 다음과 같다.In such a plasma display panel, the protective layer of the front panel supplies secondary electrons for lowering the discharge voltage of the plasma display panel and prevents damage of the upper dielectric layer from ions. The protective layer is deposited on the dielectric layer by CVD, E-beam, sputtering, etc. Looking at the front panel manufacturing process of the plasma display panel including the same as follows.

도 2는 종래 플라즈마 디스플레이 패널의 전면패널 제조 공정을 순차적으로 나타낸 공정도이다.2 is a process diagram sequentially illustrating a front panel manufacturing process of a conventional plasma display panel.

도 2에 도시된 바와 같이, (a) 단계에서는 전면 글라스(101)에 유지전극인 스캔 전극(102)과 서스테인 전극(103)을 형성한다.As shown in FIG. 2, in step (a), the scan electrode 102 and the sustain electrode 103 which are sustain electrodes are formed on the front glass 101.

이러한 스캔 전극(102)과 서스테인 전극(103)은 투명 전극(a)과 버스 전극(b)으로 형성되는데 먼저 투명 전극(a)의 형성 방법을 살펴보면, 산화인듐과 산화주석으로 이루어진 ITO(Indium Tin Oxide)물질로 형성된 투명전극막 상부에 드라이 필름을 라미네이팅하여 소정의 패턴이 형성된 포토 마스크(Photo Mask)의 패턴으로 노광한 후, 현상 및 에칭 공정을 거쳐 스캔용 투명전극(102a)과 서스테인용 투명전극(103a)을 형성한다.The scan electrode 102 and the sustain electrode 103 are formed of a transparent electrode (a) and a bus electrode (b). First, a method of forming the transparent electrode (a) will be described. An indium tin (ITO) made of indium oxide and tin oxide is described. Laminate the dry film on the transparent electrode film formed of an oxide material and expose it with a pattern of a photo mask in which a predetermined pattern is formed, followed by a development and etching process to scan the transparent electrode 102a and the sustain transparent The electrode 103a is formed.

이러한 스캔용 투명전극(102a)과 서스테인용 투명전극(103a) 상부에 버스전극(b)이 형성되는데, 이러한 버스전극(b)의 형성 방법을 살펴보면, 감광성 은(Ag) 페이스트를 스크린 인쇄(Screen-printing)방식으로 인쇄한 후, 전술한 투명전극(a) 형성방법과 마찬가지로 노광공정을 이용하여 버스전극(b)을 형성한다. 그 후 550℃ 정도의 온도로 가열하여 소성을 행함으로써 스캔 전극(102) 및 서스테인 전극(103) 즉 유지전극이 형성된다.The bus electrode b is formed on the scan transparent electrode 102a and the sustain transparent electrode 103a. Referring to the method of forming the bus electrode b, the photosensitive silver paste is screen-printed. After printing by a printing method, the bus electrode b is formed using an exposure process similarly to the above-described method of forming the transparent electrode a. Thereafter, the substrate is heated to a temperature of about 550 ° C. and fired to form the scan electrode 102 and the sustain electrode 103, that is, the sustain electrode.

이 후, (b) 단계에서, 스캔 전극(102) 및 서스테인 전극(103)이 형성된 전면 글라스(101) 상부에 상부 유전체층(104)을 형성한다. 이러한 상부 유전체층(104)의 형성의 예를 들면, 유전체 유리 페이스트를 도포하여 건조한 후, 약 500℃이상 600℃이하의 온도로 소성을 행하여 상부 유전체층(104)을 형성한다.Thereafter, in step (b), the upper dielectric layer 104 is formed on the front glass 101 on which the scan electrode 102 and the sustain electrode 103 are formed. For example, the upper dielectric layer 104 is formed by applying and drying a dielectric glass paste, followed by baking at a temperature of about 500 ° C. to 600 ° C. to form the upper dielectric layer 104.

마지막으로, (c) 단계에서, 유전체층(104)의 표면상에 전술한 바와 같이 CVD법, E-beam법, 스퍼터링법 등을 이용하여 산화마그네슘(MgO)으로 이루어지는 보호층(105)이 형성되면 플라즈마 디스플레이 패널의 전면패널이 완성된다.Finally, in step (c), when the protective layer 105 made of magnesium oxide (MgO) is formed on the surface of the dielectric layer 104 by using the CVD method, the E-beam method, the sputtering method, and the like, as described above. The front panel of the plasma display panel is completed.

여기서, 상부 유전체층 상부에 형성되는 보호층은 전술한 바와 같이 주로 산화마그네슘(MgO)으로 형성된다.Here, the protective layer formed on the upper dielectric layer is mainly formed of magnesium oxide (MgO) as described above.

그러나 이러한 산화마그네슘 물질의 비용으로 인하여 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 단가가 상승하게 된다.However, the cost of the magnesium oxide material increases the manufacturing cost of the plasma display panel.

또한, 산화마그네슘의 물질 특성상 다른 불순 물질들과의 반응으로 인하여 보호층 증착 후 표면처리를 해야 하는 후공정이 필수적으로 필요하게 되고, 보호층을 형성하기 위한 공정 수 및 공정 장비가 더 추가되고 제조 시간이 증가됨으로써 플라즈마 디스플레이 패널의 제조단가를 더욱 상승시키는 문제점이 있다.In addition, due to the material properties of magnesium oxide, the post-process of the surface treatment after the deposition of the protective layer is indispensable due to the reaction with other impurities, and the number of processes and the process equipment for forming the protective layer are further added and manufactured. As the time increases, there is a problem of further increasing the manufacturing cost of the plasma display panel.

또한, 이와 같이 형성되는 전면 패널의 보호층의 증착 방법에 따라 유전체층과 보호층이 박리가 되는 경우가 발생한다. 이에 따라 보호층이 유전체층으로부터 박리되면 플라즈마 디스플레이 패널의 방전 특성에 심각한 악영향을 미치는 문제점이 있다.In addition, the dielectric layer and the protective layer may be peeled off depending on the deposition method of the protective layer of the front panel thus formed. Accordingly, when the protective layer is peeled off from the dielectric layer, there is a problem that seriously affects the discharge characteristics of the plasma display panel.

따라서 본 발명은 유전체층의 구조 및 유전체층 형성 공정을 개선하여 유전 체층과 보호층 역할을 하는 층의 박리 현상이 없을 뿐 아니라, 보호층의 공정과 그에 따른 후공정이 필요 없게 되어 플라즈마 디스플레이 패널의 공정 수를 줄임으로써 플라즈마 디스플레이 패널의 단가를 낮출 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널 및 그의 제조방법을 제공하는데 그 목적이 있다.Accordingly, the present invention improves the structure of the dielectric layer and the process of forming the dielectric layer, thereby eliminating delamination between the layer serving as the dielectric layer and the protective layer, and eliminating the need for the protective layer and subsequent processes, thereby reducing the number of steps of the plasma display panel. It is an object of the present invention to provide a plasma display panel and a method of manufacturing the same that can reduce the unit cost of the plasma display panel by reducing the.

상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널은 전면 글라스, 전면 글라스 상에 형성된 유지 전극, 유지 전극을 포함하는 전면 글라스 상에 형성되는 유전체층 및 유전체층 상에 형성된 기능성 표면층을 포함하되, 유전체층과 기능성 표면층은 유전체 재료로부터 서로 상분리되어 형성된다.Plasma display panel of the present invention for achieving the above object comprises a front glass, a sustain electrode formed on the front glass, a dielectric layer formed on the front glass including the sustain electrode and a functional surface layer formed on the dielectric layer, The functional surface layers are formed phase separated from each other from the dielectric material.

유전체 재료는 유전체 페이스트에 소정의 첨가물이 포함된 것을 특징으로 한다.The dielectric material is characterized in that certain additives are included in the dielectric paste.

첨가물은 붕소(B), 티탄(Ti), 지르코늄(Zr), 알루미늄(Al), 마그네슘(Mg), 아연(Zn) 중 적어도 어느 하나인 것을 특징으로 한다.The additive is at least one of boron (B), titanium (Ti), zirconium (Zr), aluminum (Al), magnesium (Mg), zinc (Zn).

첨가물은 전체 상기 유전체 재료에 대하여 5mol%이상 50mol%이하인 것을 특징으로 한다.The additive is characterized in that 5 mol% or more and 50 mol% or less with respect to the entire dielectric material.

기능성 표면층은 상기 유전체층의 표면에 형성되는 것을 특징으로 한다.The functional surface layer is formed on the surface of the dielectric layer.

기능성 표면층의 두께는 1000Å이상 5000Å이하인 것을 특징으로 한다.The thickness of the functional surface layer is characterized by being 1000 mW or more and 5000 mW or less.

기능성 표면층은 재질이 산화티탄(TiO2), 지르코니아(ZrO2), 질화붕소(BN), 알루미나(Al2O3), 질화티탄(TiN), 산화마그네슘(MgO), 산화아연(ZnO) 중 적어도 어 느 하나인 것을 특징으로 한다.The functional surface layer is made of titanium oxide (TiO 2 ), zirconia (ZrO 2 ), boron nitride (BN), alumina (Al 2 O 3 ), titanium nitride (TiN), magnesium oxide (MgO), zinc oxide (ZnO). It is characterized by at least one.

또한, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법은 (a) 전면 글라스 상부에 유지 전극을 형성하는 단계, (b) 유지 전극을 포함하는 전면 글라스 상부에 소정의 첨가물이 포함된 유전체 재료를 도포하는 단계 및 (c) 도포된 유전체 재료를 열처리하여 유전체 재료와 상기 유전체 재료에 포함된 첨가물을 상분리하여 유전체층과 기능성 표면층을 형성하는 단계를 포함한다.In addition, the method of manufacturing a plasma display panel according to the present invention comprises the steps of (a) forming a sustain electrode on the front glass, and (b) applying a dielectric material including a predetermined additive on the front glass including the sustain electrode. And (c) heat treating the applied dielectric material to phase-separate the dielectric material from the additives included in the dielectric material to form a dielectric layer and a functional surface layer.

첨가물은 붕소(B), 티탄(Ti), 지르코늄(Zr), 알루미늄(Al), 마그네슘(Mg), 아연(Zn) 중 적어도 어느 하나인 것을 특징으로 한다.The additive is at least one of boron (B), titanium (Ti), zirconium (Zr), aluminum (Al), magnesium (Mg), zinc (Zn).

첨가물은 전체 유전체 재료에 대하여 5mol%이상 50mol%이하인 것을 특징으로 한다.The additive is characterized in that 5 mol% or more and 50 mol% or less with respect to the entire dielectric material.

유전체 재료의 열처리 온도는 350℃이상 550℃이하인 것을 특징으로 한다.The heat treatment temperature of the dielectric material is characterized by being 350 ° C or more and 550 ° C or less.

기능성 표면층은 유전체층의 표면에 형성되는 것을 특징으로 한다.The functional surface layer is formed on the surface of the dielectric layer.

기능성 표면층의 두께는 1000Å이상 5000Å이하인 것을 특징으로 한다.The thickness of the functional surface layer is characterized by being 1000 mW or more and 5000 mW or less.

기능성 표면층은 재질이 산화티탄(TiO2), 지르코니아(ZrO2), 질화붕소(BN), 알루미나(Al2O3), 질화티탄(TiN), 산화마그네슘(MgO), 산화아연(ZnO) 중 적어도 어느 하나인 것을 특징으로 한다.The functional surface layer is made of titanium oxide (TiO 2 ), zirconia (ZrO 2 ), boron nitride (BN), alumina (Al 2 O 3 ), titanium nitride (TiN), magnesium oxide (MgO), zinc oxide (ZnO). It is characterized by at least one.

이하에서는 첨부된 도면을 참고로 하여 본 발명의 바람직한 실시예를 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail a preferred embodiment of the present invention.

도 3은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 구조를 나타낸 도이다.3 is a view showing the structure of a plasma display panel according to the present invention.

도 3에 도시된 바와 같이, 플라즈마 디스플레이 패널은 화상이 디스플레이 되는 표시면인 전면 글라스(301)에 스캔 전극(302) 및 서스테인 전극(303)이 쌍을 이뤄 형성된 복수의 유지전극쌍이 배열된 전면 패널(300) 및 배면을 이루는 후면 글라스(311) 상에 전술한 복수의 유지전극쌍과 교차되도록 복수의 어드레스 전극(313)이 배열된 후면 패널(310)이 일정거리를 사이에 두고 평행하게 결합된다.As shown in FIG. 3, a plasma display panel includes a front panel in which a plurality of sustain electrode pairs formed by pairing a scan electrode 302 and a sustain electrode 303 are formed on a front glass 301 that is a display surface on which an image is displayed. A rear panel 310 having a plurality of address electrodes 313 arranged so as to intersect the plurality of storage electrode pairs described above on the rear glass 311 forming the back surface 300 and the rear surface is coupled in parallel with a predetermined distance therebetween. .

전면 패널(300)은 하나의 방전셀에서 상호 방전시키고 셀의 발광을 유지하기 위한 스캔 전극(302) 및 서스테인 전극(303), 즉 투명한 ITO 물질로 형성된 투명전극(a)과 금속재질로 제작된 버스 전극(b)으로 구비된 스캔 전극(302) 및 서스테인 전극(303)이 쌍을 이뤄 포함된다. 스캔 전극(302) 및 서스테인 전극(303)은 방전 전류를 제한하며 전극 쌍 간을 절연시켜주는 상부 유전체층(304)에 의해 덮혀진다. 또한 이러한 상부 유전체층(304)의 표면에 보호층 역할을 하는 기능성 표면층(305)이 형성된다. 이러한 기능성 표면층(305)은 상부 유전체층(304)을 형성하기 위한 유전체 페이스트에 소정의 첨가물을 혼합한 유전체 재료를 열처리를 한다. 이 때, 유전체 재료에 혼합되는 첨가물은 붕소(B), 티탄(Ti), 지르코늄(Zr), 알루미늄(Al), 마그네슘(Mg), 아연(Zn) 중 적어도 어느 하나이며, 유전체 재료에 대해 5mol%이상 50mol%이하의 함량비를 갖는다. 이와 같이 유전체 재료를 350℃이상 550℃이하의 온도에서 열처리하면 유전체 재료가 상분리되어 유전체층(304)과 유전체층(304) 표면에 기능성 표면층(305)이 형성된다. 이 때, 형성되는 기능성 표면층(305)의 두께는 1000Å이상 5000Å이하이며, 재질은 산화티탄(TiO2), 지르코니아 (ZrO2), 질화붕소(BN), 알루미나(Al2O3), 질화티탄(TiN), 산화마그네슘(MgO), 산화아연(ZnO) 중 적어도 어느 하나로 형성된다.The front panel 300 is made of a scan electrode 302 and a sustain electrode 303, that is, a transparent electrode (a) formed of a transparent ITO material and a metal material to mutually discharge and maintain light emission of the cells in one discharge cell. The scan electrode 302 and the sustain electrode 303 provided as the bus electrode b are included in pairs. Scan electrode 302 and sustain electrode 303 are covered by an upper dielectric layer 304 that limits the discharge current and insulates the electrode pairs. In addition, a functional surface layer 305 is formed on the surface of the upper dielectric layer 304 to serve as a protective layer. The functional surface layer 305 heat-treats the dielectric material in which a predetermined additive is mixed with the dielectric paste for forming the upper dielectric layer 304. At this time, the additive mixed in the dielectric material is at least one of boron (B), titanium (Ti), zirconium (Zr), aluminum (Al), magnesium (Mg), zinc (Zn), 5mol relative to the dielectric material It has a content ratio of more than 50 mol%. As such, when the dielectric material is heat-treated at a temperature of 350 ° C. or more and 550 ° C. or less, the dielectric material is phase separated to form a functional surface layer 305 on the surface of the dielectric layer 304 and the dielectric layer 304. At this time, the thickness of the functional surface layer 305 formed is 1000 kPa or more and 5000 kPa or less, and the material is titanium oxide (TiO 2 ), zirconia (ZrO 2 ), boron nitride (BN), alumina (Al 2 O 3 ), titanium nitride (TiN), magnesium oxide (MgO), and zinc oxide (ZnO).

후면 패널(310)은 복수 개의 방전 공간 즉, 방전셀을 형성시키기 위한 스트라이프 타입의 격벽(312)이 평행을 유지하여 배열된다. 또한, 어드레스 방전을 수행하여 진공자외선을 발생시키는 다수의 어드레스 전극(313)이 격벽(312)에 대해 평행하게 배치된다. 후면 패널(310)의 상측면에는 어드레스 방전 시 화상표시를 위한 가시광선을 방출하는 R, G, B 형광체(314)가 도포된다. 어드레스 전극(313)과 형광체(314) 사이에는 어드레스 전극(313)을 보호하기 위한 하부 유전체층(315)이 형성된다.The rear panel 310 is arranged such that a plurality of discharge spaces, that is, stripe-type partition walls 312 for forming discharge cells are arranged in parallel. In addition, a plurality of address electrodes 313 that perform address discharge to generate vacuum ultraviolet rays are arranged in parallel with the partition 312. On the upper side of the rear panel 310, R, G, and B phosphors 314 that emit visible light for image display during address discharge are coated. A lower dielectric layer 315 is formed between the address electrode 313 and the phosphor 314 to protect the address electrode 313.

이러한 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법을 살펴보면 다음과 같다.Looking at the manufacturing method of the plasma display panel according to the present invention as follows.

도 4는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법을 순차적으로 나타낸 블록도이다.4 is a block diagram sequentially illustrating a method of manufacturing a plasma display panel according to the present invention.

도 4에서 보는 바와 같이, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법은 도 4의 우측에 나열된 전면 패널 제조과정과 좌측에 나열된 후면 패널 제조과정 및 하측에 나열된 실링 과정 등을 포함한 조립과정을 포함한다.As shown in FIG. 4, the method of manufacturing a plasma display panel according to the present invention includes an assembly process including a front panel manufacturing process listed on the right side of FIG. 4, a rear panel manufacturing process listed on the left side, and a sealing process listed below. .

먼저 도 4의 우측에 나열된 전면 패널은 기재가 되는 전면 글라스를 준비한 후(400) 전면 글라스 상부에 복수의 유지전극이 형성된다(401). 이 후, 유지전극쌍 상부에 상부 유전체층 및 기능성 표면층이 형성된다(402). 좀 더 정확히 기술하면 상부 유전체층 표면에 보호막 역할을 하는 기능성 표면층이 형성된다.First, the front panel listed on the right side of FIG. 4 prepares a front glass as a substrate (400), and then a plurality of sustain electrodes are formed on the front glass (401). Thereafter, an upper dielectric layer and a functional surface layer are formed on the sustain electrode pair (402). More precisely, a functional surface layer is formed on the surface of the upper dielectric layer to serve as a protective film.

이어서 도 4의 좌측에 나열된 후면 패널 제조과정을 살펴보면 전면 패널과 마찬가지로 먼저 기재가 되는 후면 글라스를 준비하고(410) 전면 패널에 형성된 유지전극과 교차하여 대향되도록 복수의 어드레스 전극이 후면 글라스에 형성된다(411). 이 후, 어드레스 전극 상면에 하부 유전체층이 형성되고(412), 하부 유전체층 상면에 형광체층이 형성된다(413).Subsequently, referring to the rear panel manufacturing process listed on the left side of FIG. 4, similarly to the front panel, a plurality of address electrodes are formed on the rear glass so as to prepare a rear glass, which is first described as a front panel, and to cross and face the sustain electrode formed on the front panel. (411). Thereafter, a lower dielectric layer is formed on the upper surface of the address electrode (412), and a phosphor layer is formed on the upper surface of the lower dielectric layer (413).

이와 같이 제조된 전면 패널과 후면 패널은 서로 합착되어(420) 플라즈마 디스플레이 패널을 형성한다(430).The front panel and the rear panel manufactured as described above are bonded to each other (420) to form a plasma display panel (430).

이와 같이 형성되는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널에서 전면 패널의 제조과정을 살펴보면 다음과 같다.Looking at the manufacturing process of the front panel in the plasma display panel according to the present invention formed as described above are as follows.

도 5는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 패널 제조공정을 나타낸 도이다.5 is a view showing a front panel manufacturing process of the plasma display panel according to the present invention.

도 5에 도시된 바와 같이, (a) 단계에서는 전면 글라스(301)에 유지전극인 스캔 전극(302)과 서스테인 전극(303)을 형성한다.As shown in FIG. 5, in step (a), the scan electrode 302 and the sustain electrode 303 which are sustain electrodes are formed on the front glass 301.

이러한 스캔 전극(302)과 서스테인 전극(303)은 투명전극(a)과 버스전극(b)으로 형성되는데 먼저 투명 전극(a)의 형성 방법을 살펴보면, 산화인듐과 산화주석으로 이루어진 ITO(Indium Tin Oxide)물질로 형성된 투명전극막 상부에 드라이 필름을 라미네이팅하여 소정의 패턴이 형성된 포토 마스크(Photo Mask)의 패턴으로 노광한 후, 현상 및 에칭 공정을 거쳐 스캔용 투명전극(302a)과 서스테인용 투명전극(303a)을 형성한다.The scan electrode 302 and the sustain electrode 303 are formed of a transparent electrode (a) and a bus electrode (b). First, a method of forming the transparent electrode (a) is described. An indium tin (ITO) made of indium oxide and tin oxide is described. Laminate the dry film on the transparent electrode film formed of an oxide material and expose it with a pattern of a photo mask in which a predetermined pattern is formed, and then, through the development and etching process, the scan transparent electrode 302a and the sustain transparent The electrode 303a is formed.

이러한 스캔용 투명전극(302a)과 서스테인용 투명전극(303a) 상부에 버스전극(b)이 형성되는데, 이러한 버스전극(b)의 형성 방법을 살펴보면, 감광성 은(Ag) 페이스트를 스크린 인쇄(Screen-printing)방식으로 인쇄한 후, 전술한 투명전극(a) 형성방법과 마찬가지로 노광공정을 이용하여 버스전극(b)을 형성한다. 그 후, 550℃ 정도의 온도로 가열하여 소성을 행함으로써 스캔 전극(302) 및 서스테인 전극(303) 즉 유지전극이 형성된다.The bus electrode b is formed on the scan transparent electrode 302a and the sustain transparent electrode 303a. Referring to the method of forming the bus electrode b, the photosensitive silver paste is screen printed. After printing by a printing method, the bus electrode b is formed using an exposure process similarly to the above-described method of forming the transparent electrode a. Thereafter, the substrate is heated to a temperature of about 550 ° C. and fired to form the scan electrode 302 and the sustain electrode 303, that is, the sustain electrode.

이 후, (b) 단계에서 유전체 페이스트에 소정의 첨가물이 첨가된 유전체 재료를 스캔 전극(302)과 서스테인 전극(303) 상부에 도포한 후, (c) 단계에서 유전체 재료를 350℃이상 550℃이하의 온도에서 가열을 하면 첨가물과 유전체 페이스트가 서로 상분리하게 되고 이러한 상분리가 완료되면 유전체 재료를 500℃이상 600℃이하의 온도로 소성하면 유전체층(304)과 기능성 표면층(305)이 형성된다.Thereafter, in step (b), a dielectric material having a predetermined additive added to the dielectric paste is coated on the scan electrode 302 and the sustain electrode 303, and in step (c), the dielectric material is 350 ° C or higher and 550 ° C. When heated at the following temperature, the additive and the dielectric paste are phase separated from each other. When the phase separation is completed, the dielectric material 304 and the functional surface layer 305 are formed by firing the dielectric material at a temperature of 500 ° C. or higher and 600 ° C. or lower.

이와 같이 형성되는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체층(304)과 기능성 표면층(305)을 형성하기 위한 상분리 되는 과정을 좀 더 자세히 살펴보면 다음과 같다.The process of phase separation for forming the dielectric layer 304 and the functional surface layer 305 of the plasma display panel according to the present invention formed as described above will be described in more detail as follows.

도 6은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체층(304)과 기능성 표면층(305)을 형성하는 과정을 나타낸 도이다.6 is a diagram illustrating a process of forming the dielectric layer 304 and the functional surface layer 305 of the plasma display panel according to the present invention.

도 6에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체층(304)과 기능성 표면층(305)을 형성하기 위해 먼저 (a) 단계에서 유전체층을 형성하기 위한 유전체 페이스트(304a)에 소정의 첨가물(305a)을 혼합하여 유전체 재료(304a, 305a)를 형성한다. 이 때 소정의 첨가물(305a)은 유전체 재료(304a, 305a)에 대해 5mol%이상 50mol%이하 혼합된다. 여기서 전술한 첨가물이 5mol%미만인 경우 유전체층(304) 표면에 형성되는 기능성 표면층(305)이 유전체층을 충분히 보호할 수 있을 만큼의 두께를 갖지 못하게 된다. 또한, 이러한 첨가물이 50mol%초과이면 유전체층(304)의 고유 특성을 저하시키게 된다. 또한, 소정의 첨가물(305a)은 저분자량 물질인데 이러한 저분자량 물질 중 붕소(B), 티탄(Ti), 지르코늄(Zr), 알루미늄(Al), 마그네슘(Mg), 아연(Zn) 중 적어도 어느 하나로 이루어진다.As shown in FIG. 6, a predetermined additive is added to the dielectric paste 304a for forming the dielectric layer in step (a) first to form the dielectric layer 304 and the functional surface layer 305 of the plasma display panel according to the present invention. 305a are mixed to form dielectric materials 304a and 305a. At this time, the predetermined additive 305a is mixed with 5 mol% or more and 50 mol% or less with respect to the dielectric materials 304a and 305a. If the above-mentioned additive is less than 5 mol%, the functional surface layer 305 formed on the surface of the dielectric layer 304 may not have a thickness sufficient to sufficiently protect the dielectric layer. In addition, when the additive exceeds 50 mol%, the intrinsic properties of the dielectric layer 304 are lowered. In addition, the predetermined additive 305a is a low molecular weight material, and among these low molecular weight materials, at least any one of boron (B), titanium (Ti), zirconium (Zr), aluminum (Al), magnesium (Mg), and zinc (Zn) Done in one.

이 후, (b) 단계에서 혼합된 유전체 재료(304a, 305a)를 350℃이상 550℃이하의 온도로 가열을 하게 되면 소정의 첨가물(305a)이 유전체 페이스트(304a)의 표면으로 이동하게 되어 상분리 현상이 일어나게 된다. 이 때, 유전체 재료를 350℃미만의 온도에서 가열을 하는 경우에는 첨가물과 유전체 페이스트의 충분한 상분리가 되지 않아 유전체층의 고유 특성이 저하되며, 유전체 재료를 550℃초과인 경우에는 기능성 표면층의 과소성으로 인하여 기능성 표면층의 특성이 저하된다. Thereafter, when the mixed dielectric materials 304a and 305a are heated to a temperature of 350 ° C. or higher and 550 ° C. or lower in step (b), the predetermined additive 305a moves to the surface of the dielectric paste 304a to phase separate. The phenomenon occurs. At this time, when the dielectric material is heated at a temperature lower than 350 ° C., the intrinsic properties of the dielectric layer are deteriorated due to insufficient phase separation between the additive and the dielectric paste. When the dielectric material is over 550 ° C., the functional surface layer is under-baked. This lowers the properties of the functional surface layer.

이러한 상분리 현상이 완료된 후 (c) 단계에서 유전체 재료(304a, 305a)를 소성을 하게 되면 유전체 내부엔 기존의 유전체층(304)이 형성되고 표면에는 보호층 역할을 하는 기능성 표면층(305)이 형성된다. 이 때, 형성되는 기능성 표면층(305) 두께는 1000Å이상 5000Å이하이며, 재질은 산화티탄(TiO2), 지르코니아(ZrO2), 질화붕소(BN), 알루미나(Al2O3), 질화티탄(TiN), 산화마그네슘(MgO), 산화아연(ZnO) 중 적어도 어느 하나가 된다. 여기서, 기능성 표면층의 두께가 1000Å미만인 경우에는 충분한 보호막의 역할을 할 수 없으며, 기능성 표면층의 두께가 5000Å초과인 경우에는 플라즈마 디스플레이 패널 구동 시 방전 지연 특성을 더욱 악화시킨다.After the phase separation is completed, when the dielectric materials 304a and 305a are fired in step (c), an existing dielectric layer 304 is formed inside the dielectric, and a functional surface layer 305 is formed on the surface as a protective layer. . At this time, the thickness of the functional surface layer 305 formed is 1000 kPa or more and 5000 kPa or less, and the material is titanium oxide (TiO 2 ), zirconia (ZrO 2 ), boron nitride (BN), alumina (Al 2 O 3 ), titanium nitride ( TiN), magnesium oxide (MgO), and zinc oxide (ZnO). Here, when the thickness of the functional surface layer is less than 1000 GPa, it may not function as a sufficient protective film, and when the thickness of the functional surface layer is more than 5000 GPa, the discharge delay characteristic may be worsened when the plasma display panel is driven.

이와 같이 유전체층(304)과 보호층 역할을 하는 기능성 표면층(305)을 유전체 재료로부터 상분리하여 형성함으로써 종래 전면 패널 공정 중 보호층 생성을 위한 공정이 따로 필요없게 되어 플라즈마 디스플레이 패널의 공정 수를 줄이게 된다. 이에 따라, 플라즈마 디스플레이 패널의 단가를 낮출 수 있다.As such, the dielectric layer 304 and the functional surface layer 305 serving as the protective layer are formed by phase separation from the dielectric material, thereby eliminating the need for a protective layer generation during the conventional front panel process, thereby reducing the number of processes of the plasma display panel. . As a result, the unit cost of the plasma display panel can be reduced.

상술한 바와 같이, 본 발명의 기술적 구성은 본 발명이 속하는 기술분야의 당업자가 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.As described above, it will be understood by those skilled in the art that the technical configuration of the present invention may be implemented in other specific forms without changing the technical spirit or essential features of the present invention.

그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해되어야 하고, 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.Therefore, the above-described embodiments are to be understood as illustrative and not restrictive in all respects, and the scope of the present invention is indicated by the appended claims rather than the detailed description, and the meaning and scope of the claims and All changes or modifications derived from the equivalent concept should be interpreted as being included in the scope of the present invention.

이상에서 상세히 설명한 본 발명은 유전체층 상에 유전체 재료로부터 상분리된 기능성 표면층을 형성하여, 산화마그네슘(MgO)으로 이루어진 보호층이 없이도 유전체층을 충분히 보호함으로써, 보호층의 형성 공정과 그에 따른 후공정이 필요 없게 되어 플라즈마 디스플레이 패널의 공정 수를 줄임으로써 플라즈마 디스플레이 패널의 단가를 낮추는 효과가 있다.The present invention described above in detail forms a functional surface layer separated from the dielectric material on the dielectric layer, and sufficiently protects the dielectric layer without a protective layer made of magnesium oxide (MgO), thereby forming a protective layer and a subsequent process. Since the number of steps of the plasma display panel is reduced, the cost of the plasma display panel can be reduced.

Claims (14)

전면 글라스;Front glass; 상기 전면 글라스 상에 형성된 유지 전극;A storage electrode formed on the front glass; 상기 유지 전극을 포함하는 전면 글라스 상에 형성되는 유전체층; 및A dielectric layer formed on the front glass including the sustain electrode; And 상기 유전체층 상에 형성된 기능성 표면층Functional surface layer formed on the dielectric layer 을 포함하되,Including, 상기 유전체층과 상기 기능성 표면층은 유전체 재료로부터 서로 상분리되어 형성되는 플라즈마 디스플레이 패널.And the dielectric layer and the functional surface layer are formed to be separated from each other from a dielectric material. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 유전체 재료는 유전체 페이스트에 소정의 첨가물이 포함된 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.And said dielectric material comprises a predetermined additive in the dielectric paste. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 첨가물은 붕소(B), 티탄(Ti), 지르코늄(Zr), 알루미늄(Al), 마그네슘(Mg), 아연(Zn) 중 적어도 어느 하나인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.The additive is at least one of boron (B), titanium (Ti), zirconium (Zr), aluminum (Al), magnesium (Mg), zinc (Zn). 제 2 항 또는 제 3 항에 있어서,The method of claim 2 or 3, 상기 첨가물은 전체 상기 유전체 재료에 대하여 5mol%이상 50mol%이하인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.And the additive is 5 mol% or more and 50 mol% or less with respect to the entire dielectric material. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 기능성 표면층은 상기 유전체층의 표면에 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.And the functional surface layer is formed on a surface of the dielectric layer. 제 1 항 또는 제 5 항에 있어서,The method according to claim 1 or 5, 상기 기능성 표면층의 두께는 1000Å이상 5000Å이하인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.And the thickness of the functional surface layer is 1000 mW or more and 5000 mW or less. 제 1 항 또는 제 5 항 또는 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 5 or 6, 상기 기능성 표면층은 재질이 산화티탄(TiO2), 지르코니아(ZrO2), 질화붕소(BN), 알루미나(Al2O3), 질화티탄(TiN), 산화마그네슘(MgO), 산화아연(ZnO) 중 적어도 어느 하나인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.The functional surface layer is made of titanium oxide (TiO 2 ), zirconia (ZrO 2 ), boron nitride (BN), alumina (Al 2 O 3 ), titanium nitride (TiN), magnesium oxide (MgO), zinc oxide (ZnO) At least one of the plasma display panel. (a) 전면 글라스 상부에 유지 전극을 형성하는 단계;(a) forming a storage electrode on the front glass; (b) 상기 유지 전극을 포함하는 전면 글라스 상부에 소정의 첨가물이 포함된 유전체 재료를 도포하는 단계; 및(b) applying a dielectric material including a predetermined additive on the front glass including the sustain electrode; And (c) 도포된 상기 유전체 재료를 열처리하여 상기 유전체 재료와 상기 유전체 재료에 포함된 첨가물을 상분리하여 유전체층과 기능성 표면층을 형성하는 단계;(c) heat treating the applied dielectric material to phase-separate the dielectric material from the additives included in the dielectric material to form a dielectric layer and a functional surface layer; 를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.Method of manufacturing a plasma display panel comprising a. 제 8 항에 있어서,The method of claim 8, 상기 첨가물은 붕소(B), 티탄(Ti), 지르코늄(Zr), 알루미늄(Al), 마그네슘(Mg), 아연(Zn) 중 적어도 어느 하나인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.The additive is at least one of boron (B), titanium (Ti), zirconium (Zr), aluminum (Al), magnesium (Mg), zinc (Zn). 제 9 항에 있어서,The method of claim 9, 상기 첨가물은 전체 상기 유전체 재료에 대하여 5mol%이상 50mol%이하인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.And the additive is 5 mol% or more and 50 mol% or less with respect to the entire dielectric material. 제 8항에 있어서,The method of claim 8, 상기 유전체 재료의 열처리 온도는 350℃이상 550℃이하인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.And a heat treatment temperature of the dielectric material is 350 ° C. or more and 550 ° C. or less. 제 8 항에 있어서,The method of claim 8, 상기 기능성 표면층은 상기 유전체층의 표면에 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.And the functional surface layer is formed on the surface of the dielectric layer. 제 12 항에 있어서.The method of claim 12. 상기 기능성 표면층의 두께는 1000Å이상 5000Å이하인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.And the thickness of the functional surface layer is 1000 mW or more and 5000 mW or less. 제 8 항 또는 제 12 항 또는 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 8 or 12 or 13, 상기 기능성 표면층은 재질이 산화티탄(TiO2), 지르코니아(ZrO2), 질화붕소(BN), 알루미나(Al2O3), 질화티탄(TiN), 산화마그네슘(MgO), 산화아연(ZnO) 중 적어도 어느 하나인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.The functional surface layer is made of titanium oxide (TiO 2 ), zirconia (ZrO 2 ), boron nitride (BN), alumina (Al 2 O 3 ), titanium nitride (TiN), magnesium oxide (MgO), zinc oxide (ZnO) At least one of the manufacturing method of the plasma display panel.
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