KR20060074403A

KR20060074403A - Apparatus for cleaning wafer stage

Info

Publication number: KR20060074403A
Application number: KR1020040113132A
Authority: KR
Inventors: 배재성
Original assignee: 삼성전자주식회사
Priority date: 2004-12-27
Filing date: 2004-12-27
Publication date: 2006-07-03

Abstract

본 발명은 스테이지 세정 장치에 관한 것으로, 노광장비의 스테이지에서 발생하는 오염을 제거하여 포커스 불량의 원인을 제거하는 효과가 있다. 이를 위한 본 발명의 스테이지 세정 장치는 고정을 위한 몸체; 상기 몸체의 하부에 연결되어 회전에 의해서 상하운동을 하는 구동나사; 및 상기 구동나사에 연결되어 하면에 스테이지 상의 먼지를 연마 또는 분쇄하는 복수의 돌출부를 가지며, 상기 돌출부 사이에 진공 흡입구를 가지는 연마 수단을 구비하는 것을 특징으로 한다.
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a stage cleaning apparatus, and has an effect of removing a cause of focus failure by removing contamination generated at a stage of an exposure apparatus. Stage cleaning apparatus of the present invention for this purpose is a body for fixing; A driving screw connected to the lower portion of the body to move up and down by rotation; And a plurality of protrusions connected to the drive screw for grinding or pulverizing dust on the lower surface thereof, and polishing means having a vacuum suction port between the protrusions.

노광장비, 스테이지, 포커스 불량Exposure equipment, stage, bad focus

Description

스테이지 세정 장치{Apparatus for cleaning wafer stage }Stage cleaning device {Apparatus for cleaning wafer stage}

도1은 본 발명의 실시예에 따른 스테이지 세정 장치를 보여주는 사시도.1 is a perspective view showing a stage cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention.

도2는 본 발명의 스테이지 세정 장치가 노광장비에 장착된 모습을 보여주는 단면도.
Figure 2 is a cross-sectional view showing a state in which the stage cleaning apparatus of the present invention mounted on the exposure equipment.

*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *

10 : 몸체 20 : 구동나사10 body 20 drive screw

30 : 연마수단 40 : 돌출부30: grinding means 40: protrusion

50 : 진공 흡입구 60 : 스테이지 세정 장치50: vacuum suction port 60: stage cleaning device

70 : 투영렌즈 80 : 플레이트70: projection lens 80: plate

90 : 스테이지
90 stage

본 발명은 스테이지 세정 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 노광장비의 스테이지에서 발생하는 오염을 제거하기 위한 스테이지 세정 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a stage cleaning apparatus, and more particularly, to a stage cleaning apparatus for removing contamination generated in the stage of the exposure equipment.

반도체 장치의 패턴을 형성하기 위한 리소그래피 공정은 반도체 기판에 포토레지스트의 도포, 노광 및 현상에 의해서 이루어진다. 반도체 소자의 집적도를 증가시키기기 위하여 패턴이 미세화 됨에 따라 원가 절감을 위한 불량의 제어가 점점 더 중요해지고 있다. 한편 반도체 장치의 집적도가 증가하고 패턴이 미세화 됨에 따라 리소그래피 공정에서 점점 더 미세한 패턴을 형성하여야 한다. 리소그래피 공정에서 미세패턴을 형성하기 위하여 노광장비의 해상력을 증가시키기 위한 기술들이 개발되고 있다. 노광장비에서 해상력을 증가시키기 위하여 대구경 렌즈를 채택하는 것이 일반적인데, 이 경우 렌즈의 행상도가 증가함에 따라 초점심도(depth of focus)가 작아져서 공정 여유도가 감소하는 단점이 있다. Lithographic processes for forming patterns of semiconductor devices are accomplished by the application, exposure and development of photoresists to semiconductor substrates. As the pattern is miniaturized to increase the integration degree of the semiconductor device, it is increasingly important to control defects for cost reduction. Meanwhile, as the degree of integration of semiconductor devices increases and patterns become finer, finer patterns must be formed in the lithography process. In order to form fine patterns in a lithography process, techniques for increasing the resolution of an exposure apparatus have been developed. It is common to adopt a large-diameter lens in order to increase the resolution in the exposure equipment, in this case, as the degree of in-depth of the lens increases, the depth of focus (small) is reduced, the process margin is reduced.

노광공정에서 스테이지에 오염이 있는 경우 웨이퍼의 이면이 부분적으로 상기 오염의 영향을 받아 오염된 부분에 국부적인 포커스 불량이 발생되어 패턴 불량을 유발한다. 통상 국부적인 포커스 불량을 로컬 포커스(focus)라고 하는데, 이러한 로컬 포커스는 상기 웨이퍼를 육안으로 확인하여 찾는 것이 가능하지만 불량을 찾아내는데 시간적으로 많은 시간이 소요되고, 한번 발생하면 발견하기까지 진행되는 로토에서 다량의 불량이 발생한다. 다행히 리소그래피 공정에서 발견되면 제작업이 가능하지만 상당한 생산성 손실이 있고, 후속 공정으로 진행되면 생산 제품이 불량처리 되어 수율이 저하되기도 한다.In the exposure process, when the stage is contaminated, the back surface of the wafer is partially affected by the contamination, so that a local focus failure occurs at the contaminated portion, thereby causing a pattern defect. Local focus defects are commonly referred to as local focus, which can be checked by visual inspection of the wafer, but it takes a lot of time to find the defects, and once it occurs, the roto is processed. A large amount of defects occur at. Fortunately, if found in a lithography process, it is possible to produce it, but there is a significant loss of productivity, and subsequent processes can lead to poor production and poor yields.

또한 로컬 포커스 발생시 노광장비의 스테이지를 세척하기 위해 상기 스테이지를 수동으로 세정하는 경우 적어도 30분 이상의 상당한 시간이 소요되고, 공정을 진행할 수 없기 때문에 생산성이 저하된다. 따라서 노광장비의 스테이지에서 발생 하는 오염에 의한 패턴 불량을 방지할 수 있는 방안이 절실히 요구되고 있다.
In addition, when the stage is manually cleaned to clean the stage of the exposure equipment when the local focus occurs, at least 30 minutes or more time is required, and the process cannot proceed, thereby lowering the productivity. Therefore, there is an urgent need for a method for preventing a pattern defect due to contamination occurring at the stage of the exposure apparatus.

따라서 본 발명은 상기의 문제점을 해결하기 위하여 이루어진 것으로, 본 발명의 목적은 노광장비의 스테이지에서 발생하는 오염에 의한 패턴 불량을 방지하기 위하여 상기 스테이지 상의 상기 오염을 노광장비에서 수시로 제거할 수 있는 스테이지 세정 장치를 제공하는데 있다.
Accordingly, the present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to remove the contamination on the stage from the exposure equipment in order to prevent the pattern defects caused by the pollution occurring in the stage of the exposure equipment from time to time It is to provide a cleaning device.

상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 스테이지 세정 장치는 고정을 위한 몸체; 상기 몸체의 하부에 연결되어 회전에 의해서 상하운동을 하는 구동나사; 및 상기 구동나사에 연결되어 하면에 스테이지 상의 먼지를 연마 또는 분쇄하는 복수의 돌출부를 가지며, 상기 돌출부 사이에 진공 흡입구를 가지는 연마 수단을 구비하는 것을 특징으로 한다.Stage cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention for achieving the above object is a body for fixing; A driving screw connected to the lower portion of the body to move up and down by rotation; And a plurality of protrusions connected to the drive screw for grinding or pulverizing dust on the lower surface thereof, and polishing means having a vacuum suction port between the protrusions.

바람직한 실시예에 있어서, 상기 돌출부가 상기 스테이지를 손상시키는 것을 방지하기 위한 압력계가 상기 몸체에 부착된 것을 특징으로 한다.In a preferred embodiment, a pressure gauge is attached to the body to prevent the protrusion from damaging the stage.

바람직한 실시예에 있어서, 상기 연마수단은 세라믹으로 형성된 것을 특징으로 한다.In a preferred embodiment, the polishing means is formed of a ceramic.

이하 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도1은 본 발명의 실시예에 따른 스테이지 세정 장치를 보여주는 사시도이다. 1 is a perspective view showing a stage cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention.

도1을 참조하여 설명하면, 본 발명의 스테이지 세정 장치(60)는 고정을 위한 몸체(10), 상기 몸체(10)의 하부에 연결되어 회전에 의해서 상하운동을 하는 구동나사(20) 및 상기 구동나사(20)에 연결되어 하면에 스테이지 상의 먼지를 연마 또는 분쇄하는 복수의 돌출부(40)를 가지며, 상기 돌출부(40) 사이에 진공 흡입구(50)를 가지는 연마수단(30)을 구비한다. 상기 몸체(10)는 상기 구동나사(20)와 연결되어 나사의 회전에 의해서 상기 구동나사(20)가 상하 이동시 지지대 역할을 하고, 상기 스테이지 상의 오염을 제거하기 위하여 상기 구동나사(20)가 상기 스테이지로 방향으로 하강하여 상기 돌출부(40)가 상기 스테이지를 손상시키는 것을 방지하기 위하여 상기 연마 수단(30)에 압력계(도면에 표시하지 않음)를 부착하면 상기 구동나사(20)가 과도하게 하강하는 것을 방지한다. 또한 동일한 목적으로 상기 구동나사(20)와 상기 연마수단(30) 연결부위는 탄성을 주어 과도한 힘이 상기 스테이지에 전달되지 않도록 할 수 있고, 상기 연마수단(30)은 세라믹(ceramic) 재료로 형성하여 손상이나 파괴를 방지하면서 오염을 연마할 수 있게 한다.Referring to Figure 1, the stage cleaning device 60 of the present invention is a body 10 for fixing, the drive screw 20 is connected to the lower portion of the body 10 to move up and down by rotation and the It is connected to the drive screw 20 has a plurality of protrusions 40 for grinding or pulverizing the dust on the lower surface, and has a polishing means 30 having a vacuum suction port 50 between the protrusions 40. The body 10 is connected to the drive screw 20 and the drive screw 20 serves as a support when the drive screw 20 is moved up and down by the rotation of the screw, the drive screw 20 is to remove the contamination on the stage When the pressure gauge (not shown) is attached to the polishing means 30 to lower the direction toward the stage and prevent the protrusion 40 from damaging the stage, the driving screw 20 is excessively lowered. To prevent them. In addition, for the same purpose, the driving screw 20 and the connecting portion of the polishing means 30 may be elastic to prevent excessive force from being transmitted to the stage, and the polishing means 30 may be formed of a ceramic material. So that contamination can be polished while preventing damage or destruction.

도2는 본 발명의 스테이지 세정 장치가 노광장비에 장착된 모습을 보여주는 단면도이다.2 is a cross-sectional view showing a stage cleaning apparatus of the present invention mounted on an exposure apparatus.

도2를 참조하여 설명하면, 본 발명의 스테이지 세정 장치(60)가 투영렌즈(70)에 연결된 플레이트(80)에 연결되어 하부에 스테이지(90) 상의 오염을 제거하기 위하여 상기 플레이트(80)에 부착되어 있다. 노광장비에서 동일한 샷(shot)에 대하여 3회 이상 포커스 에러로 처리되는 경우 그 지점에 오염이 있는 것으로 판단하여 상기 샷의 위치에 대하여 상기 스테이지(90)의 위치를 이동시켜서 상기 오염이 있는 것으로 판단되는 위치로 상기 스테이지 세정 장치(60)를 일치시킨 다음 상기 구동나사(20)를 하강시켜서 상기 스테이지(90)를 세정한다. 즉 상기 돌출부(40)를 이용하여 상기 오염을 연마하고, 상기 진공 흡입구(50)로 연마된 상기 오염 물질을 흡착하여 상기 스테이지(90) 상의 상기 오염을 제거할 수 있다. Referring to Figure 2, the stage cleaning device 60 of the present invention is connected to the plate 80 connected to the projection lens 70 to the plate 80 to remove the contamination on the stage 90 at the bottom Attached. If the exposure apparatus is treated with a focus error three or more times for the same shot, it is determined that there is contamination at that point, and the position is determined by moving the position of the stage 90 with respect to the position of the shot. The stage cleaning apparatus 60 is aligned to a position where the stage cleaning apparatus 60 is aligned, and then the driving screw 20 is lowered to clean the stage 90. That is, the dirt may be polished using the protrusion 40, and the dirt on the stage 90 may be removed by adsorbing the polluted material polished by the vacuum suction port 50.

본 발명의 스테이지 세정 장치로 이러한 방법에 의해서 상기 스테이지 상의 오염을 자동으로 제거할 수 있다. The stage cleaning apparatus of the present invention can automatically remove contamination on the stage by this method.

이상에서, 본 발명의 구성 및 동작을 상기한 설명 및 도면에 따라 도시하였지만, 이는 예를 들어 설명한 것에 불과하며 본 발명의 기술적 사상 및 범위를 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 변화 및 변경이 가능함은 물론이다.
In the above, the configuration and operation of the present invention has been shown in accordance with the above description and drawings, but this is merely described, for example, and various changes and modifications are possible without departing from the spirit and scope of the present invention. .

상술한 바와 같이 본 발명에 의하면, 노광장비의 스테이지에 발생하는 오염에 의한 로컬 포커스 불량을 방지하기 위하여 노광장비의 스테이지를 자동으로 세정할 수 있는 본 발명의 스테이지 세정 장치로 상기 스테이지에 발생한 오염을 수시로 제거할 수 있어, 상기 스테이지 오염에 의한 포커스 불량을 방지하는 효과가 있다.
As described above, according to the present invention, the stage cleaning apparatus of the present invention that can automatically clean the stage of the exposure equipment in order to prevent the local focus failure due to the contamination occurring on the stage of the exposure equipment, It can be removed from time to time, and there is an effect of preventing the poor focus caused by the stage contamination.

Claims

고정을 위한 몸체;A body for fixing;

상기 몸체의 하부에 연결되어 회전에 의해서 상하운동을 하는 구동나사; 및A driving screw connected to the lower portion of the body to move up and down by rotation; And

상기 구동나사에 연결되어 하면에 스테이지 상의 먼지를 연마 또는 분쇄하는 복수의 돌출부를 가지며, 상기 돌출부 사이에 진공 흡입구를 가지는 연마 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 스테이지 세정 장치. And a grinding means connected to the drive screw, the lower surface having a plurality of protrusions for grinding or pulverizing dust on the stage and having a vacuum suction port between the protrusions.

제1항에 있어서,The method of claim 1,

상기 돌출부가 상기 스테이지를 손상시키는 것을 방지하기 위한 압력계가 상기 몸체에 부착된 것을 특징으로 하는 스테이지 세정 장치.And a pressure gauge attached to the body to prevent the protrusion from damaging the stage.

제1항에 있어서,The method of claim 1,

상기 연마수단은 세라믹으로 형성된 것을 특징으로 하는 스테이지 세정 장치.And said polishing means is formed of ceramic.