KR20060038009A - 유기실록산 중합체의 제조방법, 및 이를 이용한 절연막의제조방법 - Google Patents
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Abstract
Description
실시예 1 | 실시예 2 | 실시예 3 | 비교예 1 | 비교예 2 | 비교예 3 | 비교예 6 | |
강도 | 8.6 | 5.5 | 6.3 | 7.3 | 4.4 | 12.0 | 3.2 |
유전율 | 2.51 | 2.25 | 2.25 | 2.51 | 2.25 | 3.1 | 2.65 |
Claims (16)
- a) i) 실란화합물,ii) 물, 또는 물과 유기용매의 혼합용매, 및iii) 산촉매를 혼합하여 pH 0.5 내지 4의 조건에서 1차 반응시키는 단계;b) 상기 제1차 반응 후에i) 물, 또는 물과 유기용매의 혼합용매, 및ii) 염기촉매를 추가로 혼합하여 pH 9 내지 13의 조건에서 2차 반응시키는 단계; 및c) 염기 촉매를 제거하거나 산성 촉매를 혼합하여 반응액을 pH 2 내지 5로 안정화시키는 단계를 포함하는 유기실록산 중합체의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 실란화합물은 하기 화학식 1, 화학식 2, 및 화학식 3으로 표시되는 실란화합물, 이들로부터 제조되는 다이머, 이들로부터 제조되는 올리고머, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 실란화합물인 유기실록산 중합체의 제조방법.[화학식 1]상기 화학식 1의 식에서, R1은 수소, 불소, 아릴, 비닐, 알릴이거나, 또는 불소로 치환되거나 치환되지 않은 직쇄 또는 분지쇄상의 탄소수 1 내지 4의 알킬이고,R2는 직쇄 또는 분지쇄상의 탄소수 1 내지 4의 알콕시이고,p는 1 내지 2의 정수이다.[화학식 2]상기 화학식 2의 식에서, R3 및 R5는 각각 독립적으로 수소, 불소, 아릴, 비닐, 알릴이거나, 또는 불소로 치환되거나 치환되지 않은 직쇄 또는 분지쇄상의 탄소수 1 내지 4의 알킬이고,R4, 및 R6는 각각 독립적으로 직쇄 또는 분지쇄상의 탄소수 1 내지 4의 알콕시이고,M은 탄소수 2 내지 3의 알킬렌이고,q, 및 r은 각각 0 내지 2의 정수이다.[화학식 3]상기 화학식 3의 식에서, R7은 수소, 불소, 아릴, 비닐, 알릴이거나, 또는 불소로 치환되거나 치환되지 않은 직쇄 또는 분지쇄상의 탄소수 1 내지 4의 알킬이고,R8은 수소, 하이드록시, 또는 직쇄 또는 분지쇄 상의 탄소수 1 내지 4의 알콕시이고,m 및 n은 각각 3 내지 7의 정수이다.
- 제1항에 있어서, 상기 산촉매는 염산, 질산, 황산, 인산, 불산, 포름산, 아세트산, 프로피온산, 부탄산, 펜탄산, 헥산산, 모노클로로아세트산, 디클로로아세트산, 트리클로로아세트산, 트리플로로아세트산, 옥살산, 말론산, 술폰산, 프탈산, 푸마르산, 구연산, 말레산, 올레산, 메틸말론산, 아디프산, p-아미노벤조산, 및 p-톨루엔술폰산으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 산촉매인 유기실록산 중합체의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 염기촉매는 암모니아, 유기아민 및 알킬암모늄 하이드로옥사이드염으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 염기촉매인 유기실록산 중합체의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 염기촉매는 메틸아민, 에틸아민, 프로필아민, N,N-디메틸아민, 트리메틸아민, N,N-디에틸아민, N,N-디프로필아민, 트리프로필아민, 테트라메틸암모늄하이드로옥사이드, 테트라에틸암모늄하이드로옥사이드, 메틸아미노메틸아민, 메틸아미노에틸아민, 에틸아미노메틸아민, 에틸아미노에틸, 메틸알콜아민, 에틸알콜아민, 프로판올아민, N-메틸메틸알콜아민, N-에틸메틸알콜아민, N-메틸에틸알콜아민, N-에틸에틸알콜아민, N,N-디메틸메틸알콜아민, N,N-디에틸메틸알콜아민, N-메틸디메탄올아민, N-에틸디메탄올아민, N-메틸디에탄올아민, N-에틸디에탄올아민, 메톡시메틸아민, 에톡시메틸아민, 메톡시에틸아민, 에톡시에틸아민, 아닐린, 디아자비시클로운데센, 피리딘, 피롤, 피페리딘, 콜린, 피롤리딘, 및 피페라진으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 염기촉매인 유기실록산 중합체의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 1차 반응 단계에서 실란화합물의 반응기인 알콕시기 1몰에 대한 물의 몰비가 0.5 내지 10인 유기실록산 중합체의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 2차 반응 단계에서 실란화합물의 반응기인 알콕시기 1몰에 대한 물의 몰비가 2 내지 30인 유기실록산 중합체의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 1차 반응 단계 및 2차 반응 단계는 0 내지 120 ℃의 온도에서 진행되는 것인 유기실록산 중합체의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 유기용매는 메틸알콜, 에틸알콜, n-프로판올, i-프로판올, n-부탄올, i-부탄올, sec-부탄올, t-부탄올, 4-메틸 2-펜탄올, 시클로 헥사놀, 메틸사이클로 헥사놀, 글리세롤, n-펜탄, i-펜탄, n-헥산, i-헥산, 2,2,4-트리메틸펜탄, 시클로 헥산, 메틸시클로 헥산, 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 크실렌, 트리메틸 벤젠, 에틸 벤젠, 메틸 에틸 벤젠, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸-n-프로필케톤, 메틸-n-부틸케톤, 메틸-i-부틸케톤, 디에틸케톤, 시클로헥사논, 메틸시클로헥사논, 아세틸아세톤, 테트라하이드로퓨란, 2-메틸 테트라하이드로 퓨란, 에틸에테르, n-프로필에테르, i-프로필에테르, n-부틸에테르, 디글라임(diglyme), 디옥신, 디메틸디옥신, 에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 에틸렌글리콜-n-프로필에테르, 에틸렌글리콜 디메틸에테르, 에틸렌글리콜 디에틸에테르, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르, 프로필렌글리콜 모노프로필에테르, 프로필렌글리콜 디메틸에테르, 프로필렌글리콜 디에틸에테르, 프로필렌글리콜 디프로필에테르, 디에틸카보네이트, 메틸아세테이트, 에틸아세테이트, n-프로필아세테이트, i-프로필아세테이트, n-부틸아세테이트, 에틸락테이트, 에틸렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜 모노에틸아세테이트, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜 모노프로필에테르아세테이트, 에틸렌글리콜 디아세테이트, 프로필렌글리콜 디아세테이트, N-메틸피롤리돈, 포름아마이드, N-메틸포름아마이드, N-에틸 포름아마이드, N,N-디메틸포름아마이드, N,N-디에틸포름아마이드, N-메틸아세트아마이드, N-에틸아세트아마이드, N,N-디메틸아세트아마이드, 및 N,N-디에틸아세트아마이드로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상인 유기실록산 중합체의 제조 방법.
- a) i) 실란화합물,ii) 물, 또는 물과 유기용매의 혼합용매, 및iii) 산촉매를 혼합하여 pH 0.5 내지 4의 조건에서 1차 반응시키는 단계;b) 상기 제1차 반응 후에i) 물, 또는 물과 유기용매의 혼합용매, 및ii) 염기촉매를 추가로 혼합하여 pH 9 내지 13의 조건에서 2차 반응시키는 단계; 및c) 염기 촉매를 제거하거나 산성 촉매를 혼합하여 반응액을 pH 2내지 5로 안정화시키는 단계를 포함하는 방법으로 제조되며, 중량평균 분자량이 30,000 내지 1,500,000 g/mol인 유기실록산 중합체.
- 제10항에 있어서, 상기 실란화합물은 하기 화학식 1, 화학식 2, 및 화학식 3으로 표시되는 실란화합물, 이들로부터 제조되는 다이머, 이들로부터 제조되는 올리고머, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 실란화합물인 유기실록산 중합체.[화학식 1]상기 화학식 1의 식에서, R1은 수소, 불소, 아릴, 비닐, 알릴이거나, 또는 불소로 치환되거나 치환되지 않은 직쇄 또는 분지쇄상의 탄소수 1 내지 4의 알킬이고,R2는 직쇄 또는 분지쇄상의 탄소수 1 내지 4의 알콕시이고,p는 1 내지 2의 정수이다.[화학식 2]상기 화학식 2의 식에서, R3 및 R5는 각각 독립적으로 수소, 불소, 아릴, 비닐, 알릴이거나, 또는 불소로 치환되거나 치환되지 않은 직쇄 또는 분지쇄상의 탄소수 1 내지 4의 알킬이고,R4, 및 R6는 각각 독립적으로 직쇄 또는 분지쇄상의 탄소수 1 내지 4의 알콕시이고,M은 탄소수 2 내지 3의 알킬렌이고,q, 및 r은 각각 0 내지 2의 정수이다.[화학식 3]상기 화학식 3의 식에서, R7은 수소, 불소, 아릴, 비닐, 알릴이거나, 또는 불소로 치환되거나 치환되지 않은 직쇄 또는 분지쇄상의 탄소수 1 내지 4의 알킬이고,R8은 수소, 하이드록시, 또는 직쇄 또는 분지쇄 상의 탄소수 1 내지 4의 알콕시이고,m 및 n은 각각 3 내지 7의 정수이다.
- 제10항의 유기실록산 중합체 및 유기용매를 포함하는 절연막 형성용 코팅 조성물.
- 제12항에 있어서, 상기 코팅 조성물은 고형분 농도가 2 내지 60 중량%인 절연막 형성용 코팅 조성물.
- a) 제12항의 절연막 형성용 코팅 조성물을 기재 위에 코팅하고 건조시키는 단계; 및b) 상기 건조과정 후에, 질소 분위기 하에서 소성하여 경화시키는 단계를 포함하는 유기실록산 절연막의 제조 방법.
- 제14항의 제조방법으로 제조되는 유기실록산 절연막.
- 제15항의 유기실록산 절연막을 포함하는 반도체 소자.
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