KR20060036060A - 아미드 화합물 및 이를 사용한 식물 병해의 방제 방법 - Google Patents
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Abstract
화학식 1
[식 중, R1은 수소원자; 할로겐원자; 할로겐원자 등으로 치환될 수 있는 C1-C6 알킬기 등을 나타내고, R2는 수소원자, 할로겐원자, C1-C6 알킬기 등을 나타내고, R3은 수소원자 등을 나타내고, R4는 C1-C4 알킬기, C3-C4 알케닐기 등을 나타내고, R5는 C1-C4 알킬기, C3-C4 알케닐기 등을 나타내고, R6은 수소원자 등을 나타내고, R7은 수소원자 등을 나타내고, R8은 수소원자 등을 나타내고, R9는 수소원자 등을 나타내고, R10은 수소원자 등을 나타내고, R11은 수소원자 등을 나타내고, R12는 수소원자 등을 나타낸다.]로 표시되는 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물은, 식물 병해에 대한 뛰어난 방제 활성을 갖는다.
N-(α-시아노벤질)아미드 화합물, 식물 병해
Description
본 발명은, 아미드 화합물, 및 이것을 식물 또는 식물이 생육하는 토양에 시용하는 식물 병해의 방제 방법에 관한 것이다.
식물 병해를 방제하기 위한 약제가 개발되어 식물 병해 방제 효과를 갖는 화합물이 다수 발견되고 있지만, 그 효과가 충분치 못한 경우가 있어, 새로운 화합물군의 탐색이 집중적으로 행해지고 있다.
본 발명은, 뛰어난 식물 병해 방제 효력을 갖는 화합물을 제공하는 것을 과제로 한다.
즉, 본 발명은 화학식 1
[식 중, R1은 수소원자; 할로겐원자; 니트로기; 시아노기; 할로겐원자, 시아노기, 히드록실기, C3-C6 시클로알킬기, C1-C6 알콕시기, C3-C6 시클로알콕시기, C1-C6 알킬티오기, C3-C6 시클로알킬티오기 및 트리(C1-C3 알킬)실릴기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 C1-C6 알킬기; 할로겐원자, 시아노기, 히드록실기, C3-C6 시클로알킬기, C1-C6 알콕시기, C3-C6 시클로알콕시기, C1-C6 알킬티오기, C3-C6 시클로알킬티오기 및 트리(C1-C3 알킬)실릴기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 C2-C6 알케닐기; 할로겐원자, 시아노기, 히드록실기, C3-C6 시클로알킬기, C1-C6 알콕시기, C3-C6 시클로알콕시기, C1-C6 알킬티오기, C3-C6 시클로알킬티오기 및 트리(C1-C3 알킬)실릴기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 C2-C6 알키닐기; 할로겐원자, 시아노기, 히드록실기, C3-C6 시클로알킬기, C1-C6 알콕시기, C3-C6 시클로알콕시기, C1-C6 알킬티오기, C3-C6 시클로알킬티오기 및 트리(C1-C3 알킬)실릴기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 C3-C6 시클로알킬기; 할로겐원자, C1-C6 알콕시기 및 C1-C6 알킬티오기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 C1-C6 알콕시기; 할로겐원자, C1-C6 알콕시기 및 C1-C6 알킬티오기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 C3-C6 시클로알콕시기; 할로겐원자, C1-C6 알콕시기 및 C1-C6 알킬티오기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 C1-C6 알킬티오기; 할로겐원자, C1-C6 알콕시기 및 C1-C6 알킬티오기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 C3-C6 시클로알킬티오기; 할로겐원자, C1-C6 알콕시기 및 C1-C6 알킬티오기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 디(C1-C6 알킬)아미노기; 할로겐원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기 및 C1-C6 알콕시기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 페닐기; 할로겐원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기 및 C1-C6 알콕시기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 페녹시기; 할로겐원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기 및 C1-C6 알콕시기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 페닐티오기; 할로겐원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기 및 C1-C6 알콕시기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 벤조일기; 할로겐원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기 및 C1-C6 알콕시기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 벤조일옥시기; 포르밀기; (C1-C6 알킬)카르보닐기; (C2-C6 알케닐)카르보닐기; (C2-C6 알키닐)카르보닐기; (C3-C6 시클로알킬)카르보닐기; (C1-C6 할로알킬)카르보닐기; (C1-C6 알콕시)카르보닐기; 또는 트리(C1-C6 알킬)실릴기를 나타내고,
R2는 수소원자, 할로겐원자, C1-C6 알킬기, C3-C6 시클로알킬기, C2-C6 알케닐기, C2-C6 알키닐기, C1-C6 할로알킬기, C1-C6 알콕시기, C1-C6 할로알콕시기, C1-C6 알킬티오기, C1-C6 할로알킬티오기, 디(C1-C6 알킬)아미노기, 니트로기 또는 시아노기를 나타내거나,
R1과 R2가 함께 할로겐원자, C1-C3 알킬기 및 C1-C3 할로알킬기로 이루어지 는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 C3-C6 폴리메틸렌기; 또는 할로겐원자, C1-C3 알킬기 및 C1-C3 할로알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 1,3-부타디엔-1,4-디일기를 나타내고,
R3은 수소원자, 할로겐원자 또는 C1-C3 알킬기를 나타내고,
R4는 C1-C4 알킬기, C1-C4 할로알킬기, C3-C4 알케닐기 또는 C3-C4 알키닐기를 나타내고,
R5는 C1-C4 알킬기, C3-C4 알케닐기, C3-C6 알키닐기, C1-C4 할로알킬기, 시아노 C1-C6 알킬기 또는 (C1-C3 알킬)카르보닐기를 나타내고,
R6은 수소원자 또는 C1-C4 알킬기, C3-C4 알케닐기 또는 C3-C4 알키닐기를 나타내고,
R7은 수소원자, 할로겐원자 또는 C1-C3 알킬기를 나타내고,
R8은 수소원자, 할로겐원자 또는 C1-C3 알킬기를 나타내고,
R9는 수소원자 또는 C1-C3 알킬기를 나타내고,
R10은 수소원자, 할로겐원자 또는 C1-C3 알킬기를 나타내고,
R11은 수소원자, 할로겐원자 또는 C1-C3 알킬기를 나타내고,
R12는 수소원자, 할로겐원자 또는 C1-C3 알킬기를 나타낸다.]
로 표시되는 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물(이하, 본 발명 화합물이라 함), 본 발명 화합물을 유효 성분으로서 함유하는 것을 특징으로 하는 식물 병해 방제 조성물, 및 본 발명 화합물의 유효량을 식물 또는 식물을 재배하는 토양에 처리하는 것을 특징으로 하는 식물 병해의 방제 방법을 제공한다.
본 발명 화합물에서, R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9, R10, R11 및 R12로 표시되는 각 치환기를 이하에 예시한다.
R1로 표시되는 할로겐원자로서는 불소원자, 염소원자, 브롬원자, 요오드원자를 들 수 있다.
R1로 표시되는 할로겐원자, 시아노기, 히드록실기, C3-C6 시클로알킬기, C1-C6 알콕시기, C3-C6 시클로알콕시기, C1-C6 알킬티오기, C3-C6 시클로알킬티오기 및 트리(C1-C3 알킬)실릴기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 C1-C6 알킬기로서는, 예를 들면 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 펜틸기, 2-메틸펜틸기, 3-메틸펜틸기, 4-메틸펜틸기, 헥실기 등의 C1-C6 알킬기; 플루오로메틸기, 디플루오로메틸기, 트리플루오로메틸기, 클로르메틸기, 디클로르메틸기, 트리클로르메틸기 등의 C1-C6 할로알킬기; 시아노메틸기, 2-시아노에틸기, 1-시아노에틸기 등의 시아노 C1-C6 알킬기; 히드록시메틸기, 1-히드록시에틸기, 2-히드록시에틸기, 3-히드록시프로필기 등의 C1-C6 히드록시알킬기; 시클로프로필메틸기, 시클로부틸메틸기, 시클로펜틸메틸기, 시클로헥실메틸기 등의 C3-C6 시클로알킬 C1-C6 알킬기; 2-메톡시에톡시기, 2-에톡시에톡시기 등의 C1-C6 알콕시 C1-C6 알킬기; 에톡시시아노메틸기, 메톡시시아노메틸기 등의 (C1-C3 알콕시)시아노 C1-C6 알킬기; 시클로프로필옥시메틸기, 시클로부틸옥시메틸기, 시클로펜틸옥시메틸기, 시클로헥실옥시메틸기 등의 C1-C6 시클로알콕시 C1-C6 알킬기; 2-메틸티오에틸기 등의 C1-C6 알킬티오 C1-C6 알킬기; 시클로펜틸티오메틸기 등의 C1-C6 시클로알킬티오 C1-C6 알킬기; 트리(C1-C3 알킬)실릴 C1-C6 알킬기를 들 수 있다.
R1로 표시되는 할로겐원자, 시아노기, 히드록실기, C3-C6 시클로알킬기, C1-C6 알콕시기, C3-C6 시클로알콕시기, C1-C6 알킬티오기, C3-C6 시클로알킬티오기 및 트리(C1-C3 알킬)실릴기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 C2-C6 알케닐기로서는, 예를 들면 비닐기, 1-메틸비닐기, 1-프로페닐기, 2-프로페닐기, 1-메틸-2-프로페닐기, 2-메틸-2-프로페닐기, 2-부테닐기, 3-부테닐기, 1-펜테닐기, 4-펜테닐기, 1-헥세닐기, 5-헥세닐기 등의 C2-C6 알케닐기; 2-플루오로비닐기, 2,2-디플루오로비닐기, 2-클로로비닐기, 2,2-디클로로비닐기, 2-브로모비닐기, 2,2-디브로모비닐기, 2-클로로-2-프로페닐기, 3,3-디클로로-2-프로페닐기 등의 C2-C6 할로알케닐기; 시아노 C2-C6 알케닐기; C2-C6 히드록시알케닐기; C3-C6 시클로알킬 C2-C6 알케닐기; C1-C6 알콕시 C2-C6 알케닐기; C1-C6 시클로알콕시 C2-C6 알케닐기; C1-C6 알킬티오 C2-C6 알케닐기; C1-C6 시클로알킬티오 C2-C6 알케닐기; 트리(C1-C3 알킬)실릴 C2-C6 알케닐기를 들 수 있다.
R1로 표시되는 할로겐원자, 시아노기, 히드록실기, C3-C6 시클로알킬기, C1- C6 알콕시기, C3-C6 시클로알콕시기, C1-C6 알킬티오기, C3-C6 시클로알킬티오기 및 트리(C1-C3 알킬)실릴기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 C2-C6 알키닐기로서는, 예를 들면 에티닐기, 1-프로피닐기, 2-프로피닐기, 1-메틸-2-프로피닐기, 1-부티닐기, 2-부티닐기, 3-부티닐기, 3,3-디메틸-1-부티닐기, 1-펜테닐기, 4-펜테닐기, 1-헥시닐기, 5-헥시닐기 등의 C2-C6 알키닐기; 2-플루오로에티닐기, 2-클로로에티닐기, 2-브로모에티닐기, 2-요오드에티닐기 등의 C2-C6 할로알키닐기; 시아노 C2-C6 알키닐기; C2-C6 히드록시알키닐기; C3-C6 시클로알킬 C2-C6 알키닐기; C1-C6 알콕시 C2-C6 알키닐기; C1-C6 시클로알콕시 C2-C6 알키닐기; C1-C6 알킬티오 C2-C6 알키닐기; C1-C6 시클로알킬티오 C2-C6 알키닐기; 트리메틸실릴에티닐기, 트리에틸실릴에티닐기 등의 트리(C1-C3 알킬)실릴 C2-C6 알키닐기를 들 수 있다.
R1로 표시되는 할로겐원자, 시아노기, 히드록실기, C3-C6 시클로알킬기, C1-C6 알콕시기, C3-C6 시클로알콕시기, C1-C6 알킬티오기, C3-C6 시클로알킬티오기 및 트리(C1-C3 알킬)실릴기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 C3-C6 시클로알킬기로서는, 예를 들면, 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기 등의 C3-C6 시클로알킬기; C3-C6 할로시클로알킬기; 시아노 C3-C6 시클로알킬기; C3-C6 히드록시시클로알킬기; C3-C6 시클로알킬 C3-C6 시클로알킬기; C1-C6 알콕시 C3-C6 시클로알킬기; C1-C6 시클로알콕시 C3-C6 시클로알킬기; C1-C6 알킬티오 C3-C6 시클로알킬기; C1-C6 시클로알킬티오 C3-C6 시클로 알킬기; 트리(C1-C3 알킬)실릴 C3-C6 시클로알킬기를 들 수 있다.
R1로 표시되는 할로겐원자, C1-C6 알콕시기 및 C1-C6 알킬티오기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 C1-C6 알콕시기로서는, 예를 들면 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 이소프로폭시기, 부톡시기, 이소부톡시기, sec-부톡시기, 펜틸옥시기, 헥실옥시기 등의 C1-C6 알콕시기; 플루오로메톡시기, 디플루오로메톡시기, 트리플루오로메톡시기, 2,2,2-트리플루오로에톡시기, 1,1,2,2-테트라플루오로에톡시기, 2-플루오로에톡시기 등의 C1-C6 할로알콕시기; 2-메톡시에톡시기 등의 C1-C6 알콕시 C1-C6 알콕시기; 2-메틸티오에톡시기 등의 C1-C6 알킬티오 C1-C6 알콕시기를 들 수 있다.
R1로 표시되는 할로겐원자, C1-C6 알콕시기 및 C1-C6 알킬티오기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 C3-C6 시클로알콕시기로서는, 예를 들면 시클로프로필옥시기, 시클로부틸옥시기, 시클로펜틸옥시기, 시클로헥실기, 2,2-디메틸프로필기 등의 C3-C6 시클로알콕시기; C3-C6 할로시클로알콕시기; C1-C6 알콕시 C3-C6 시클로알콕시기; C1-C6 알킬티오 C3-C6 시클로알콕시기를 들 수 있다.
R1로 표시되는 할로겐원자, C1-C6 알콕시기 및 C1-C6 알킬티오기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 C1-C6 알킬티오기로서는, 예를 들면 메틸티오기, 에틸티오기, 프로필티오기, 이소프로필티오기, 부틸티오기, 이소부틸티오기, sec-부틸티오기, tert-부틸티오기, 펜틸티오기, 헥실티오기 등의 C1- C6 알킬티오기; 플루오로메틸티오기, 디플루오로메틸티오기, 트리플루오로메틸티오기, 2,2,2-트리플루오로에틸티오기, 1,1,2,2-테트라플루오로에틸티오기, 2-플루오로에틸티오기 등의 C1-C6 할로알킬티오기; 2-메톡시에틸티오기 등의 C1-C6 알콕시 C1-C6 알킬티오기; C1-C6 알킬티오 C1-C6 알킬티오기를 들 수 있다.
R1로 표시되는 할로겐원자, C1-C6 알콕시기 및 C1-C6 알킬티오기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 C3-C6 시클로알킬티오기로서는, 시클로프로필티오기, 시클로부틸티오기, 시클로펜틸티오기 등의 C3-C6 시클로알킬티오기; C3-C6 할로시클로알킬티오기; C1-C6 알콕시 C3-C6 시클로알킬티오기; C1-C6 알킬티오 C3-C6 시클로알킬티오기를 들 수 있다.
R1로 표시되는 할로겐원자, C1-C6 알콕시기 및 C1-C6 알킬티오기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 디(C3-C6 알킬)아미노기로서는, 예를 들면 디메틸아미노기, 디에틸아미노기, 디프로필아미노기, 디펜틸아미노기, 디헥실아미노기 등의 디(C3-C6 알킬)아미노기; 메틸(2-메톡시에틸)아미노기 등의 (C3-C6 알킬)(C1-C6 알콕시 C3-C6 알킬)아미노기; (C3-C6 알킬)(C1-C6 알킬티오 C3-C6 알킬)아미노기를 들 수 있다.
R1로 표시되는 할로겐원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기 및 C1-C6 알콕시기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 페닐기로서는, 페닐기, 2-플루오로페닐기, 3-플루오로페닐기, 4-플루오로페닐기, 3,4-디플루오로페닐기, 2-클로르페닐기, 3-클로르페닐기, 4-클로르페닐기, 3,4-디클로르페닐기, 2-브로모페닐기, 3-브로모페닐기, 4-브로모페닐기, 2-메틸페닐기, 3-메틸페닐기, 4-메틸페닐기, 2-에틸페닐기, 3-에틸페닐기, 4-에틸페닐기, 2-트리플루오로메틸페닐기, 3-트리플루오로메틸페닐기, 4-트리플루오로메틸페닐기, 2-메톡시페닐기, 3-메톡시페닐기, 4-메톡시페닐기를 들 수 있다.
R1로 표시되는 할로겐원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기 및 C1-C6 알콕시기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 페녹시기로서는, 페녹시기, 2-플루오로페녹시기, 3-플루오로페녹시기, 4-플루오로페녹시기, 3,4-디플루오로페녹시기, 2-클로르페녹시기, 3-클로르페녹시기, 4-클로르페녹시기, 3,4-디클로르페녹시기, 2-브로모페녹시기, 3-브로모페녹시기, 4-브로모페녹시기, 2-메틸페녹시기, 3-메틸페녹시기, 4-메틸페녹시기, 2-에틸페녹시기, 3-에틸페녹시기, 4-에틸페녹시기, 2-트리플루오로메틸페녹시기, 3-트리플루오로메틸페녹시기, 4-트리플루오로메틸페녹시기, 2-메톡시페녹시기, 3-메톡시페녹시기, 4-메톡시페녹시기를 들 수 있다.
R1로 표시되는 할로겐원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기 및 C1-C6 알콕시기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 페닐티오기로서는, 페닐티오기, 2-플루오로페닐티오기, 3-플루오로페닐티오기, 4-플루오로페닐티오기, 3,4-디플루오로페닐티오기, 2-클로르페닐티오기, 3-클로르페닐티오기, 4-클로르페닐티오기, 3,4-디클로르페닐티오기, 2-브로모페닐티오기, 3-브로모페닐티오기, 4-브로모페닐티오기, 2-메틸페닐티오기, 3-메틸페닐티오기, 4-메틸페닐티오기, 2-에틸페닐티오기, 3-에틸페닐티오기, 4-에틸페닐티오기, 2-트리플루오로메틸페닐티오기, 3-트리플루오로메틸페닐티오기, 4-트리플루오로메틸페닐티오기, 2-메톡시페닐티오기, 3-메톡시페닐티오기, 4-메톡시페닐티오기를 들 수 있다.
R1로 표시되는 할로겐원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기 및 C1-C6 알콕시기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 벤조일기로서는, 벤조일기, 2-플루오로벤조일기, 3-플루오로벤조일기, 4-플루오로벤조일기, 3,4-디플루오로벤조일기, 2-클로르벤조일기, 3-클로르벤조일기, 4-클로로벤조일기, 3,4-디클로르벤조일기, 2-브로모벤조일기, 3-브로모벤조일기, 4-브로모벤조일기, 2-메틸벤조일기, 3-메틸벤조일기, 4-메틸벤조일기, 2-에틸벤조일기, 3-에틸벤조일기, 4-에틸벤조일기, 2-트리플루오로메틸벤조일기, 3-트리플루오로메틸벤조일기, 4-트리플루오로메틸벤조일기, 2-메톡시벤조일기, 3-메톡시벤조일기, 4-메톡시벤조일기를 들 수 있다.
R1로 표시되는 할로겐원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기 및 C1-C6 알콕시기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 벤조일옥시기로서는, 벤조일옥시기, 2-플루오로벤조일옥시기, 3-플루오로벤조일옥시기, 4-플루오로벤조일옥시기, 3,4-디플루오로벤조일옥시기, 2-클로르벤조일옥시기, 3-클로르벤조일옥시기, 4-클로르벤조일옥시기, 3,4-디클로르벤조일옥시기, 2-브로모벤조일옥시기, 3-브로모벤조일옥시기, 4-브로모벤조일옥시기, 2-메틸벤조일옥시기, 3-메틸벤조일옥시기, 4-메틸벤조일옥시기, 2-에틸벤조일옥시기, 3-에틸벤조일옥시기, 4- 에틸벤조일옥시기, 2-트리플루오로메틸벤조일옥시기, 3-트리플루오로메틸벤조일옥시기, 4-트리플루오로메틸벤조일옥시기, 2-메톡시벤조일옥시기, 3-메톡시벤조일옥시기, 4-메톡시벤조일옥시기를 들 수 있다.
R1로 표시되는 (C1-C6 알킬)카르보닐기로서는, 아세틸기, 프로피오닐기, 부티릴기를 들 수 있다.
R1로 표시되는 (C2-C6 알케닐)카르보닐기로서는, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 크로토노일기, 이소크로토노일기를 들 수 있다.
R1로 표시되는 (C2-C6 알키닐)카르보닐기로서는, 프로피오로일기를 들 수 있다.
R1로 표시되는 (C3-C6 시클로알킬)카르보닐기로서는, 시클로프로필카르보닐기, 시클로부틸카르보닐기, 시클로펜틸카르보닐기, 시클로헥실카르보닐기를 들 수 있다.
R1로 표시되는 (C1-C6 할로알킬)카르보닐기로서는, 클로로아세틸기, 트리플루오로아세틸기를 들 수 있다.
R1로 표시되는 (C1-C6 알콕시)카르보닐기로서는, 아세틸옥시기, 프로피오닐옥시기, 부티릴옥시기를 들 수 있다.
R1로 표시되는 트리(C1-C6 알킬)실릴기로서는, 예를 들면 트리메틸실릴기, 트리에틸실릴기, 트리이소프로필실릴기, tert-부틸디메틸실릴기를 들 수 있다.
R2로 표시되는 할로겐원자로서는, 불소원자, 염소원자, 브롬원자, 요오드원자를 들 수 있다.
R2로 표시되는 C1-C6 알킬기로서는, 예를 들면, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기를 들 수 있다.
R2로 표시되는 C3-C6 시클로알킬기로서는, 예를 들면, 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기를 들 수 있다.
R2로 표시되는 C2-C6 알케닐기로서는, 예를 들면, 비닐기, 1-메틸비닐기, 1-프로페닐기, 2-프로페닐기, 1-메틸-2-프로페닐기, 2-메틸-2-프로페닐기, 2-부테닐기, 3-부테닐기, 1-펜테닐기, 4-펜테닐기, 1-헥세닐기, 5-헥세닐기를 들 수 있다.
R2로 표시되는 C2-C6 알키닐기로서는, 예를 들면, 에티닐기, 1-프로피닐기, 2-프로피닐기, 1-메틸-2-프로피닐기, 1-부티닐기, 2-부티닐기, 3-부티닐기, 3,3-디메틸-1-부티닐기, 1-펜티닐기, 4-펜티닐기, 1-헥시닐기, 5-헥시닐기를 들 수 있다.
R2로 표시되는 C1-C6 할로알킬기로서는, 예를 들면, 플루오로메틸기, 디플루오로메틸기 및 트리플루오로메틸기를 들 수 있다.
R2로 표시되는 C1-C6 알콕시기로서는, 예를 들면, 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 이소프로폭시기, 부톡시기, 이소부톡시기, sec-부톡시기, 펜틸옥시기 및 헥실옥시기를 들 수 있다.
R2로 표시되는 C1-C6 할로알콕시기로서는, 예를 들면, 플루오로메톡시기, 디플루오로메톡시기, 트리플루오로메톡시기, 2,2,2-트리플루오로에톡시기, 1,1,2,2-테트라플루오로에톡시기, 2-플루오로에톡시기를 들 수 있다.
R2로 표시되는 C1-C6 알킬티오기로서는, 예를 들면, 메틸티오기, 에틸티오기, 프로필티오기, 이소프로필티오기, 부틸티오기, 이소부틸티오기, sec-부틸티오기, tert-부틸티오기, 펜틸티오기, 헥실티오기를 들 수 있다.
R2로 표시되는 C1-C6 할로알킬티오기로서는, 예를 들면, 플루오로메틸티오기, 디플루오로메틸티오기, 트리플루오로메틸티오기, 2,2,2-트리플루오로에틸티오기, 1,1,2,2-테트라플루오로에틸티오기, 2-플루오로에틸티오기를 들 수 있다.
R2로 표시되는 디(C1-C6 알킬)아미노기로서는, 예를 들면, 디메틸아미노기, 디에틸아미노기, 디프로필아미노기, 디펜틸아미노기, 디헥실아미노기를 들 수 있다.
R1과 R2가 함께 나타내는 할로겐원자, C1-C3 알킬기 및 C1-C3 할로알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 C3-C6 폴리메틸렌기로서는, 1,3-프로판디일기, 1,3-부탄디일기, 1,4-부탄디일기, 1,5-펜탄디일기, 1,4-펜탄디일기 및 1,6-헥산디일기를 들 수 있다.
R1과 R2가 함께 나타내는 할로겐원자, C1-C3 알킬기 및 C1-C3 할로알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 1,3-부타디엔-1,4-디일기로서는, 예를 들면, 1,3-부타디엔-1,4-디일기, 1-메틸-1,3-부타디엔-1,4-디일기, 2-메틸-1,3-부타디엔-1,4-디일기, 3-메틸-1,3-부타디엔-1,4-디일기, 4-메틸-1,3-부타디엔-1,4-디일기, 2,3-디메틸-1,3-부타디엔-1,4-디일기, 1-에틸-1,3-부타디엔-1,4-디일기, 2-에틸-1,3-부타디엔-1,4-디일기, 3-에틸-1,3-부타디엔-1,4-디일기, 4-에틸-1,3-부타디엔-1,4-디일기, 1-플루오로-부타디엔-1,4-디일기, 2-플루오로-1,3-부타디엔-1,4-디일기, 3-플루오로-1,3-부타디엔-1,4-디일기, 4-플루오로-1,3-부타디엔-1,4-디일기, 2,3-디플루오로-1,3-부타디엔-1,4-디일기, 1-클로로-부타디엔-1,4-디일기, 2-클로로-1,3-부타디엔-1,4-디일기, 3-클로로-1,3-부타디엔-1,4-디일기, 4-클로로-1,3-부타디엔-1,4-디일기, 2,3-디클로로-1,3-부타디엔-1,4-디일기, 1-브로모-부타디엔-1,4-디일기, 2-브로모-1,3-부타디엔-1,4-디일기, 3-브로모-1,3-부타디엔-1,4-디일기, 4-브로모-1,3-부타디엔-1,4-디일기, 2,3-디브로모-1,3-부타디엔-1,4-디일기를 들 수 있다. 또한, 여기서 나타낸 할로겐원자, C1-C3 알킬기 및 C1-C3 할로알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환된 1,3-부타디엔-1,4-디일기의 1-위치의 탄소원자는, R2가 결합하고 있는 위치에서 결합하고 있는 것을 의미한다.
R3으로 표시되는 할로겐원자로서는, 불소원자, 염소원자, 브롬원자, 요오드원자를 들 수 있다.
R3으로 표시되는 C1-C3 알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기를 들 수 있다.
R4로 표시되는 C1-C4 알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기를 들 수 있다.
R4로 표시되는 C1-C4 할로알킬기로서는, 플루오로메틸기, 디플루오로메틸기, 트리플루오로메틸기, 2-플루오로에틸기, 1,1,2,2-테트라플루오로에틸기를 들 수 있다.
R4로 표시되는 C3-C4 알케닐기로서는, 예를 들면, 2-프로페닐기, 1-메틸-2-프로페닐기, 2-메틸-2-프로페닐기, 2-부테닐기, 3-부테닐기를 들 수 있다.
R4로 표시되는 C3-C4 알키닐기로서는, 예를 들면, 2-프로피닐기, 1-메틸-2-프로피닐기, 2-부티닐기, 3-부티닐기를 들 수 있다.
R5로 표시되는 C1-C4 알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기를 들 수 있다.
R5로 표시되는 C3-C4 알케닐기로서는, 예를 들면, 2-프로페닐기, 1-메틸-2-프로페닐기, 2-메틸-2-프로페닐기, 2-부테닐기, 3-부테닐기를 들 수 있다.
R5로 표시되는 C3-C6 알키닐기로서는, 예를 들면, 2-프로피닐기, 1-메틸-2-프로피닐기, 1,1-디메틸-2-프로피닐기, 2-부티닐기, 3-부티닐기, 1-메틸-2-부티닐 기, 2-펜티닐기, 1-메틸-2-펜티닐기, 4-메틸-2-펜티닐기, 3-펜티닐기, 4-펜티닐기, 2-헥시닐기, 3-헥시닐기를 들 수 있다.
R5로 표시되는 C1-C4 할로알킬기로서는, 예를 들면, 플루오로메틸기, 디플루오로메틸기, 트리플루오로메틸기, 2-플루오로에틸기, 2,2,2-트리플루오로에틸기를 들 수 있다.
R5로 표시되는 시아노 C1-C6 알킬기로서는, 예를 들면, 시아노메틸기, 1-시아노에틸기, 2-시아노에틸기, 1-시아노프로필기를 들 수 있다.
R5로 표시되는 (C1-C3 알킬)카르보닐기로서는, 예를 들면, 아세틸기, 프로피오닐기, 부티릴기, 이소부티릴기를 들 수 있다.
R6으로 표시되는 C1-C4 알킬기로서는, 예를 들면, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기를 들 수 있다.
R6으로 표시되는 C3-C4 알케닐기로서는, 예를 들면, 2-프로페닐기, 1-메틸-2-프로페닐기, 2-메틸-2-프로페닐기, 2-부테닐기, 3-부테닐기 들 수 있다.
R6으로 표시되는 C3-C4 알키닐기로서는, 예를 들면, 2-프로피닐기, 1-메틸-2-프로피닐기, 2-부티닐기, 3-부티닐기를 들 수 있다.
R7로 표시되는 할로겐원자로서는, 불소원자, 염소원자, 브롬원자, 요오드원자를 들 수 있다.
R7로 표시되는 C1-C3 알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기를 들 수 있다.
R8로 표시되는 할로겐원자로서는, 불소원자, 염소원자, 브롬원자, 요오드원자를 들 수 있다.
R8로 표시되는 C1-C3 알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기를 들 수 있다.
R9로 표시되는 C1-C3 알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기를 들 수 있다.
R10으로 표시되는 할로겐원자로서는, 불소원자, 염소원자, 브롬원자, 요오드원자를 들 수 있다.
R10으로 표시되는 C1-C3 알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기를 들 수 있다.
R11로 표시되는 할로겐원자로서는, 불소원자, 염소원자, 브롬원자, 요오드원자를 들 수 있다.
R11로 표시되는 C1-C3 알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기를 들 수 있다.
R12로 표시되는 할로겐원자로서는, 불소원자, 염소원자, 브롬원자, 요오드원자를 들 수 있다.
R12로 표시되는 C1-C3 알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기를 들 수 있다.
본 발명 화합물에는 아미드의 질소원자가 결합하는 탄소원자에 기초한 (R) 및 (S)의 광학이성체가 존재하는데, 그 각각의 광학이성체 및 그 혼합물이 본 발명에 포함된다.
본 발명 화합물로서는, 예를 들면 이하의 태양의 화합물을 들 수 있다.
화학식 1에서, R3이 수소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 1에서, R4가 C1-C4 알킬기, C3-C4 알케닐기 또는 C3-C4 알키닐기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 1에서, R5가 C1-C4 알킬기, C3-C4 알케닐기 또는 C3-C4 알키닐기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 1에서, R6이 수소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 1에서, R7이 수소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 1에서, R8이 수소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 1에서, R9가 수소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 1에서, R6 및 R9가 수소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 1에서, R7 및 R8이 수소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 1에서, R10, R11 및 R12가 수소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 1에서, R3, R7 및 R8이 수소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 1에서, R3, R7, R8, R10, R11 및 R12가 수소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 1에서, R3, R7, R8 및 R9가 수소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 1에서, R3, R7, R8, R9, R10, R11 및 R12가 수소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 1에서, R4 및 R5가, 각각 C1-C4 알킬기, C3-C4 알케닐기 또는 C3-C4 알키닐기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 1에서, R6이 수소원자 또는 C3-C4 알키닐기이고, R3, R7 및 R8이 수소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 1에서, R6이 수소원자 또는 C3-C4 알키닐기이고, R3, R7, R8, R10, R11 및 R12가 수소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 1에서, R4가 C1-C4 알킬기, C3-C4 알케닐기 또는 C3-C4 알키닐기이고, R5가 C1-C4 알킬기, C3-C4 알케닐기 또는 C3-C4 알키닐기이고, R6이 수소원자 또는 C3-C4 알키닐기이고, R3, R7 및 R8이 수소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 1에서, R4가 C1-C4 알킬기, C3-C4 알케닐기 또는 C3-C4 알키닐기이고, R5가 C1-C4 알킬기, C3-C4 알케닐기 또는 C3-C4 알키닐기이고, R6이 수소원자 또는 C3-C4 알키닐기이고, R3, R7, R8, R10, R11 및 R12가 수소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 1에서, R1이 수소원자, 할로겐원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 알콕시기 또는 C1-C6 할로알콕시기이고, R2가 수소원자, 할로겐원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 알콕시기 또는 C1-C6 할로알콕시기이거나, 또는 R1과 R2가 함께 C3-C5 알킬렌기 또는 CH=CH-CH=CH를 형성하고, R4가 C1-C4 알킬기, C3-C4 알케닐기 또는 C3-C4 알키닐기이고, R5가 C1-C4 알킬기, C3-C4 알케닐기 또는 C3-C4 알키닐기이고, R6이 수소원자 또는 C3-C4 알키닐기이고, R3, R7, R8 및 R9가 수소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 1에서, R1이 수소원자, 할로겐원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 알콕시기 또는 C1-C6 할로알콕시기이고, R2가 수소원자, 할로겐원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 알콕시기 또는 C1-C6 할로알콕시기이거나, 또는 R1과 R2가 함께 C3-C5 알킬렌기 또는 CH=CH-CH=CH를 형성하고, R4가 C1-C4 알킬기, C3-C4 알케닐기 또는 C3-C4 알키닐기이고, R5가 C1-C4 알킬기, C3-C4 알케닐기 또는 C3-C4 알키닐기이고, R6이 수소원자 또는 C3-C4 알키닐기이고, R3, R7, R8, R9, R10, R11 및 R12가 수소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 1에서, R1이 할로겐원자; 니트로기; 시아노기; 할로겐원자, 시아노기, 히드록실기, C3-C6 시클로알킬기, C1-C6 알콕시기, C3-C6 시클로알콕시기, C1-C6 알킬티오기, C3-C6 시클로알킬티오기 및 트리(C1-C3 알킬)실릴기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 C1-C6 알킬기; 할로겐원자, 시아노기, 히드록실기, C3-C6 시클로알킬기, C1-C6 알콕시기, C3-C6 시클로알콕시기, C1-C6 알킬티오기, C3-C6 시클로알킬티오기 및 트리(C1-C3 알킬)실릴기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 C2-C6 알케닐기; 할로겐원자, 시아노기, 히드록실기, C3-C6 시클로알킬기, C1-C6 알콕시기, C3-C6 시클로알콕시기, C1-C6 알킬티오기, C3-C6 시클로알킬티오기 및 트리(C1-C3 알킬)실릴기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 C2-C6 알키닐기; 할로겐원자, 시아노기, 히드록실기, C3-C6 시클로알킬기, C1-C6 알콕시기, C3-C6 시클로알콕시기, C1-C6 알킬티오기, C3-C6 시클로알킬티오기 및 트리(C1-C3 알킬)실릴기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 C3-C6 시클로알킬기; 할로겐원자, C1-C6 알콕시기 및 C1-C6 알킬티오기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 C1-C6 알콕시기; 할로겐원자, C1-C6 알콕시기 및 C1-C6 알킬티오기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 C3-C6 시클로알콕시기; 할로겐원자, C1-C6 알콕시기 및 C1-C6 알킬티오기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 C1-C6 알킬티오기; 할로겐원자, C1-C6 알콕시기 및 C1-C6 알킬티오기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 C3-C6 시클로알킬티오기; 할로겐원자, C1-C6 알콕시기 및 C1-C6 알킬티오기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 디(C1-C6 알킬)아미노기; 할로겐원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기 및 C1-C6 알콕시기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 페닐기; 할로겐원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기 및 C1-C6 알콕시기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 페녹시기; 할로겐원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기 및 C1-C6 알콕시기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 페닐티오기; 할로겐원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기 및 C1-C6 알콕시기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 벤조일기; 할로겐원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기 및 C1-C6 알콕시기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 벤조일옥시기; 포르밀기; (C1-C6 알킬)카르보닐기; (C2-C6 알케닐)카르보닐기; (C2-C6 알키닐)카르보닐기; (C3-C6 시클로알킬)카르보닐기; (C1-C6 할로알킬)카르보닐기; (C1-C6 알콕시)카르보닐기; 또는 트리(C1-C6 알킬)실릴기이고, R2가 수소원자, 할로겐원자, C1-C6 알킬기, C3-C6 시클로알킬기, C2-C6 알케닐기, C2-C6 알키닐기, C1-C6 할로알킬기, C1-C6 알콕시기, C1-C6 할로알콕시기, C1-C6 알킬티오기, C1-C6 할로알킬티오기, 디(C1-C6 알킬)아미노기, 니트로기 또는 시아노기이거나, R1과 R2가 함께 할로겐원자, C1-C3 알킬기 및 C1-C3 할로알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 C3-C5 폴리메틸렌기; 또는 할로겐원자, C1-C3 알킬기 및 C1-C3 할로알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 1,3-부타디엔-1,4-디일기를 형성하는 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 1에서, R1이 할로겐원자; 니트로기; 시아노기; 할로겐원자, 시아노기, 히드록실기, C3-C6 시클로알킬기, C1-C6 알콕시기, C3-C6 시클로알콕시기, C1-C6 알킬티오기, C3-C6 시클로알킬티오기 및 트리(C1-C3 알킬)실릴기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 C1-C6 알킬기; 할로겐원자, 시아노기, 히드록실기, C3-C6 시클로알킬기, C1-C6 알콕시기, C3-C6 시클로알콕시기, C1-C6 알킬티오기, C3-C6 시클로알킬티오기 및 트리(C1-C3 알킬)실릴기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 C2-C6 알케닐기; 할로겐원자, 시아 노기, 히드록실기, C3-C6 시클로알킬기, C1-C6 알콕시기, C3-C6 시클로알콕시기, C1-C6 알킬티오기, C3-C6 시클로알킬티오기 및 트리(C1-C3 알킬)실릴기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 C2-C6 알키닐기; 할로겐원자, 시아노기, 히드록실기, C3-C6 시클로알킬기, C1-C6 알콕시기, C3-C6 시클로알콕시기, C1-C6 알킬티오기, C3-C6 시클로알킬티오기 및 트리(C1-C3 알킬)실릴기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 C3-C6 시클로알킬기; 할로겐원자, C1-C6 알콕시기 및 C1-C6 알킬티오기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 C1-C6 알콕시기; 할로겐원자, C1-C6 알콕시기 및 C1-C6 알킬티오기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 C3-C6 시클로알콕시기; 할로겐원자, C1-C6 알콕시기 및 C1-C6 알킬티오기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 C1-C6 알킬티오기; 할로겐원자, C1-C6 알콕시기 및 C1-C6 알킬티오기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 C3-C6 시클로알킬티오기; 할로겐원자, C1-C6 알콕시기 및 C1-C6 알킬티오기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 디(C1-C6 알킬)아미노기; 할로겐원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기 및 C1-C6 알콕시기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 페닐기; 할로겐원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기 및 C1-C6 알콕시기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 페녹시기; 할로겐원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기 및 C1-C6 알콕시기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 페닐티오기; 할로겐원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기 및 C1-C6 알콕시기로 이루어 지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 벤조일기; 할로겐원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기 및 C1-C6 알콕시기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 벤조일옥시기; 포르밀기; (C1-C6 알킬)카르보닐기; (C2-C6 알케닐)카르보닐기; (C2-C6 알키닐)카르보닐기; (C3-C6 시클로알킬)카르보닐기; (C1-C6 할로알킬)카르보닐기; (C1-C6 알콕시)카르보닐기; 또는 트리(C1-C6 알킬)실릴기이고, R2가 수소원자, 할로겐원자, C1-C6 알킬기, C3-C6 시클로알킬기, C2-C6 알케닐기, C2-C6 알키닐기 또는 C1-C6 할로알킬기이거나, R1과 R2가 함께 할로겐원자, C1-C3 알킬기 및 C1-C3 할로알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 C3-C5 폴리메틸렌기; 또는 할로겐원자, C1-C3 알킬기 및 C1-C3 할로알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 1,3-부타디엔-1,4-디일기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 1에서, R1이 할로겐원자; 니트로기; 시아노기; 할로겐원자, 시아노기, 히드록실기, C3-C6 시클로알킬기, C1-C6 알콕시기, C3-C6 시클로알콕시기, C1-C6 알킬티오기, C3-C6 시클로알킬티오기 및 트리(C1-C3 알킬)실릴기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 C1-C6 알킬기; C2-C6 알케닐기; C2-C6 알키닐기; C3-C6 시클로알킬기; 할로겐원자로 치환될 수 있는 C1-C6 알콕시기; 할로겐원자로 치환될 수 있는 C3-C6 시클로알콕시기; 할로겐원자로 치환될 수 있는 C1-C6 알킬티오기; 할로겐원자로 치환될 수 있는 C3-C6 시클로알킬티오기; 디(C1-C6 알킬)아미노기; 할로겐원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기 및 C1-C6 알콕시 기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 페닐기; 할로겐원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기 및 C1-C6 알콕시기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 페녹시기; 포르밀기; (C1-C6 알킬)카르보닐기; (C1-C6 알콕시)카르보닐기; 또는 트리(C1-C6 알킬)실릴기이고, R2가 수소원자, 할로겐원자, C1-C6 알킬기, C3-C6 시클로알킬기, C2-C6 알케닐기, C2-C6 알키닐기 또는 C1-C6 할로알킬기이거나, R1과 R2가 함께 할로겐원자, C1-C3 알킬기 및 C1-C3 할로알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 C3-C5 폴리메틸렌기; 또는 할로겐원자, C1-C3-알킬기 및 C1-C3 할로알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 1,3-부타디엔-1,4-디일기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 1에서, R1이 수소원자, 할로겐원자, C1-C6 알킬기, C2-C6 알케닐기, C2-C6 알키닐기, C1-C6 할로알킬기, C1-C6 알콕시기, C1-C6 할로알콕시기, C1-C6 알킬티오기, C1-C6 할로알킬티오기, 디(C1-C6 알킬)아미노기, 페닐기, 페녹시기 또는 시아노기이고, R2가 수소원자, 할로겐원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 알콕시기 또는 C1-C6 할로알킬기이거나, 또는 R1과 R2가 함께 C3-C5 알킬렌기 또는 CH=CH-CH=CH기를 형성하고, R3이 수소원자, 할로겐원자 또는 C1-C3 알킬기이고, R4가 C1-C4 알킬기, C3-C4 알케닐기 또는 C3-C4 알키닐기이고, R5가 C1-C4 알킬기, C3-C4 알케닐기, C3-C6 알키닐기, C1-C4 할로알킬기 또는 (C1-C3 알킬)카르보닐기이고, R6이 수소원자 또는 C1-C4 알킬기, C3-C4 알케닐기, C3-C4 알키닐기이고, R7이 수소원자, 할로겐원자 또는 C1-C3 알킬기이고, R8이 수소원자, 할로겐원자 또는 C1-C3 알킬기이고, R9가 수소원자 또는 C1-C3 알킬기이고, R10, R11 및 R12가 수소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물; 즉, 화학식 60
[R61은 수소원자, 할로겐원자, C1-C6 알킬기, C2-C6 알케닐기, C2-C6 알키닐기, C1-C6 할로알킬기, C1-C6 알콕시기, C1-C6 할로알콕시기, C1-C6 알킬티오기, C1-C6 할로알킬티오기, 디(C1-C6 알킬)아미노기, 페닐기, 페녹시기 또는 시아노기를 나타내고, R62는 수소원자, 할로겐원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 알콕시기 또는 C1-C6 할로알킬기를 나타내거나, 또는 R61과 R62가 함께 C3-C5 알킬렌기 또는 CH=CH-CH=CH를 형성하고, R63은 수소원자, 할로겐원자 또는 C1-C3 알킬기를 나타내고, R64는 C1-C4 알킬기, C3-C4 알케닐기 또는 C3-C4 알키닐기를 나타내고, R65는 C1-C4 알 킬기, C3-C4 알케닐기, C3-C6 알키닐기, C1-C4 할로알킬기 또는 (C1-C3 알킬)카르보닐기를 나타내고, R66은 수소원자 또는 C1-C4 알킬기, C3-C4 알케닐기, C3-C4 알키닐기를 나타내고, R67 및 R68은 독립하여 수소원자, 할로겐원자 또는 C1-C3 알킬기를 나타내고, R69는 수소원자 또는 C1-C3 알킬기를 나타낸다.]로 표시되는 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 60에서, R63이 수소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 60에서, R64가 C1-C4 알킬기, C3-C4 알케닐기 또는 C3-C4 알키닐기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 60에서, R65가 C1-C4 알킬기, C3-C4 알케닐기 또는 C3-C4 알키닐기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 60에서, R66이 수소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 60에서, R67이 수소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 60에서, R68이 수소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 60에서, R69가 수소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 60에서, R66 및 R69가 수소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 60에서, R67 및 R68이 수소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 60에서, R63, R67 및 R68이 수소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 60에서, R63, R67, R68 및 R69가 수소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 60에서, R64 및 R65가 각각 C1-C4 알킬기, C3-C4 알케닐기 또는 C3-C4 알키닐기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 60에서, R66이 수소원자 또는 C3-C4 알키닐기이고, R63, R67 및 R68이 수소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 60에서, R64가 C1-C4 알킬기, C3-C4 알케닐기 또는 C3-C4 알키닐기이고, R65가 C1-C4 알킬기, C3-C4 알케닐기 또는 C3-C4 알키닐기이고, R66이 수소원자 또는 C3-C4 알키닐기이고, R63, R67 및 R68이 수소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 60에서, R61이 할로겐원자, C1-C6 알킬기, C2-C6 알케닐기, C2-C6 알키닐기, C1-C6 할로알킬기, C1-C6 알콕시기, C1-C6 할로알콕시기, C1-C6 알킬티오기, C1-C6 할로알킬티오기, 디(C1-C6 알킬)아미노기, 페닐기, 페녹시기 또는 시아 노기이고, R62가 수소원자, 할로겐원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 알콕시기 또는 C1-C6 할로알킬기를 나타내거나, 또는 R61과 R62가 함께 C3-C5 알킬렌기 또는 CH=CH-CH=CH를 형성하는 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 60에서, R61이 할로겐원자, C1-C6 알킬기, C2-C6 알케닐기, C2-C6 알키닐기, C1-C6 할로알킬기, C1-C6 알콕시기, C1-C6 할로알콕시기, C1-C6 알킬티오기, C1-C6 할로알킬티오기, 디(C1-C6 알킬)아미노기, 페닐기, 페녹시기 또는 시아노기이고, R62가 수소원자, 할로겐원자, C1-C6 알킬기 또는 C1-C6 할로알킬기를 나타내거나, 또는 R61과 R62가 함께 C3-C5 알킬렌기 또는 CH=CH-CH=CH를 형성하는 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 60에서, R61 및 R62가 수소원자, 할로겐원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 알콕시기 또는 C1-C6 할로알콕시기이거나, 또는 R61과 R62가 함께 C3-C5 알킬렌기 또는 CH=CH-CH=CH기를 형성하고, R64가 C1-C4 알킬기, C3-C4 알케닐기 또는 C3-C4 알키닐기이고, R65가 C1-C4 알킬기, C3-C4 알케닐기 또는 C3-C4 알키닐기이고, R66이 수소원자 또는 C3-C4 알키닐기이고, R63, R67, R68 및 R69가 수소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 1에서, R1이 수소원자, 할로겐원자, C1-C4 알킬기, C1-C4 알콕시기 또는 C1-C4 할로알킬기이고, R2가 수소원자, 할로겐원자, C1-C4 알킬기, C1-C4 알콕시기 또는 C1-C4 할로알킬기이거나, 또는 R1과 R2가 함께 C3-C5 알킬렌기 또는 CH=CH-CH=CH기를 형성하고, R4가 C1-C4 알킬기, C3-C4 알케닐기 또는 C3-C4 알키닐기이고, R5가 C1-C4 알킬기, C3-C4 알케닐기 또는 C3-C4 알키닐기이고, R6이 수소원자 또는 C3-C4 알킬기이고, R3, R7, R8, R9, R10, R11 및 R12가 수소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물, 즉, 화학식 50
[식 중, R51 및 R52는 동일하거나 또는 상이하고, 수소원자, 할로겐원자, C1-C4 알킬기, C1-C4 알콕시기 또는 C1-C4 할로알킬기를 나타내거나, 또는 R51과 R52가 함께 C3-C5 알킬렌기 또는 CH=CH-CH=CH기를 나타내고, R54는 C1-C4 알킬기, C3-C4 알케닐기 또는 C3-C4 알키닐기를 나타내고, R55는 C1-C4 알킬기, C3-C4 알케닐기 또는 C3-C4 알키닐기를 나타내고, R56은 수소원자 또는 C3-C4 알키닐기를 나타낸다.]로 표시되는 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R51이 할로겐원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R51이 C1-C4 알킬기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R51이 C1-C4 알콕시기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R51이 C1-C4 할로알킬기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R51이 C1-C2 알킬기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R51이 불소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R51이 수소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R51이 염소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R51이 브롬원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R51이 메틸기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R51이 메톡시기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R51이 트리플루오로메틸기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R52가 수소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R52가 할로겐원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R52가 염소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R54가 C1-C4 알킬기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R54가 C1-C2 알킬기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R54가 C3-C4 알키닐기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R54가 2-프로피닐기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R55가 C1-C4 알킬기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R55가 C3-C4 알키닐기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R55가 C1-C2 알킬기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R55가 2-프로피닐기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R55가 2-프로페닐기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R56이 수소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R51이 할로겐원자이고, R52가 수소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R51이 할로겐원자이고, R52가 할로겐원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R51이 C1-C4 알킬기이고, R52가 수소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R51이 C1-C4 할로알킬기이고, R52가 수소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R51이 염소원자이고, R52가 수소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R51이 염소원자이고, R52가 할로겐원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R51이 C1-C2 알킬기이고, R52가 수소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R51이 C1-C4 알콕시기이고, R52가 수소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R51이 트리플루오로메틸기이고, R52가 수소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R51이 할로겐원자이고, R52가 수소원자이고, R54가 C1-C4 알킬기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R51이 할로겐원자이고, R52가 수소원자이고, R54가 C1-C2 알킬기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R51이 할로겐원자이고, R52가 수소원자이고, R55가 C1-C4 알킬기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R51이 할로겐원자이고, R52가 수소원자이고, R55가 C3-C4 알키닐기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R51이 할로겐원자이고, R52가 수소원자이고, R55가 C1-C2 알킬기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R51이 C1-C4 알킬기이고, R52가 수소원자이고, R54가 C1-C4 알킬기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R51이 C1-C4 알킬기이고, R52가 수소원자이고, R54가 C1-C2 알킬기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R51이 C1-C4 알킬기이고, R52가 수소원자이고, R55가 C1-C4 알킬기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R51이 C1-C4 알킬기이고, R52가 수소원자이고, R55가 C3-C4 알키닐기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R51이 C1-C4 알킬기이고, R52가 수소원자이고, R55가 2-프로피닐기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R51이 C1-C4 알콕시기이고, R52가 수소원자이고, R54가 C1-C4 알킬기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R51이 C1-C4 알콕시기이고, R52가 수소원자이고, R54가 C1-C2 알킬기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R51이 C1-C4 알콕시기이고, R52가 수소원자이고, R55가 C1-C4 알킬기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R51이 C1-C4 알콕시기이고, R52가 수소원자이고, R55가 C3-C4 알키닐기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R51이 C1-C4 알콕시기이고, R52가 수소원자이고, R55가 2-프로피닐기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R51이 C1-C4 할로알킬기이고, R52가 수소원자이고, R54가 C1-C4 알킬기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R51이 C1-C4 할로알킬기이고, R52가 수소원자이고, R54가 C1-C2 알킬기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R51이 C1-C4 할로알킬기이고, R52가 수소원자이고, R55가 C3-C4 알키닐기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R51이 C1-C4 할로알킬기이고, R52가 수소원자이고, R55가 2-프로피닐기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R52가 수소원자이고, R54가 C1-C4 알킬기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R52가 수소원자이고, R54가 C1-C2 알킬기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R52가 수소원자이고, R55가 C1-C4 알킬기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R52가 수소원자이고, R55가 C3-C4 알키닐기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R52가 수소원자이고, R55가 C1-C2 알킬기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R52가 수소원자이고, R55가 2-프로피닐기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R52가 수소원자이고, R54가 C1-C2 알킬기이고, R55가 C3-C4 알키닐기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R52가 수소원자이고, R54가 C1-C2 알킬기이고, R55가 2-프로피닐기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R54가 C1-C4 알킬기이고, R55가 C1-C4 알킬기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R54가 C1-C4 알킬기이고, R55가 C3-C4 알키닐기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R54가 C1-C4 알킬기이고, R55가 C1-C2 알킬기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R54가 C1-C4 알킬기이고, R55가 2-프로피닐기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R54가 C1-C2 알킬기이고, R55가 C1-C4 알킬기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R54가 C1-C2 알킬기이고, R55가 C3-C4 알키닐기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R54가 C1-C2 알킬기이고, R55가 C1-C2 알킬기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R54가 C1-C2 알킬기이고, R55가 2-프로피닐기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R52가 수소원자이고, R54가 C1-C4 알킬기이고, R55가 C3-C4 알키닐기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R52가 수소원자이고, R54가 C1-C4 알킬기이고, R55가 C1-C2 알킬기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R52가 수소원자이고, R54가 C1-C4 알킬기이고, R55가 2-프로피닐기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 1에서, R1이 할로겐원자, C1-C6 알킬기, C2-C6 알케닐기, C2-C6 알키닐기, C1-C6 할로알킬기, C1-C6 알콕시기, C1-C6 할로알콕시기, C1-C6 알킬티오기, C1-C6 할로알킬티오기, 디(C1-C6 알킬)아미노기, 페닐기, 페녹시기 또는 시아노기이고, R2, R3, R7, R8 및 R9가 수소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 1에서, R1이 할로겐원자, C1-C6 알킬기, C2-C6 알케닐기, C2-C6 알키닐기, C1-C6 할로알킬기, C1-C6 알콕시기, C1-C6 할로알콕시기, C1-C6 알킬티오기, C1-C6 할로알킬티오기, 디(C1-C6 알킬)아미노기, 페닐기, 페녹시기 또는 시아노기 이고, R3, R6, R7, R8 및 R9가 수소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 1에서, R1이 할로겐원자, C1-C6 알킬기, C2-C6 알케닐기, C2-C6 알키닐기, C1-C6 할로알킬기, C1-C6 알콕시기, C1-C6 할로알콕시기, C1-C6 알킬티오기, C1-C6 할로알킬티오기, 디(C1-C6 알킬)아미노기, 페닐기, 페녹시기 또는 시아노기이고, R2, R3, R6, R7, R8 및 R9가 수소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 1에서, R1이 할로겐원자, C1-C6 알킬기, C2-C6 알케닐기, C2-C6 알키닐기, C1-C6 할로알킬기, C1-C6 알콕시기, C1-C6 할로알콕시기, C1-C6 알킬티오기 또는 C1-C6 할로알킬티오기이고, R3, R6, R7, R8 및 R9가 수소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 1에서, R1이 할로겐원자, C1-C6 알킬기, C2-C6 알케닐기, C2-C6 알키닐기, C1-C6 할로알킬기, C1-C6 알콕시기, C1-C6 할로알콕시기, C1-C6 알킬티오기 또는 C1-C6 할로알킬티오기이고, R2, R3, R6, R7, R8 및 R9가 수소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 1에서, R1이 할로겐원자, C1-C6 알킬기, C2-C6 알케닐기, C2-C6 알키닐기, C1-C6 할로알킬기, C1-C6 알킬티오기 또는 C1-C6 할로알킬티오기이고, R2, R3, R6, R7, R8 및 R9가 수소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 1에서, R1이 할로겐원자, C1-C6 알킬기, C2-C6 알케닐기, C2-C6 알키닐기, C1-C6 할로알킬기, C1-C6 알킬티오기 또는 C1-C6 할로알킬티오기이고, R2가 수소원자, 할로겐 원자 또는 C1-C6 알킬기, R3, R6, R7, R8 및 R9가 수소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R51이 할로겐원자, C1-C4 알킬기, C1-C4 알콕시기 또는 C1-C4 할로알킬기이고, R52가 수소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
화학식 50에서, R51 및 R52가 동일하거나 또는 상이하고, 할로겐원자, C1-C4 알킬기, C1-C4 알콕시기 또는 C1-C4 할로알킬기인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
다음으로, 본 발명 화합물의 제조법에 관해서 설명한다.
화학식 1로 표시되는 본 발명 화합물은 예를 들면, 이하의 (제조법 A), (제조법 B) 또는 (제조법 C)에 따라서 제조할 수 있다.
(제조법 A)
본 발명 화합물은, 화학식 (2)로 표시되는 화합물(또는 그 염산염 등의 염)과 화학식 (3)으로 표시되는 화합물을 반응시킴으로써 제조할 수 있다.
[식 중, R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9, R10, R11 및 R12는 상기와 동일한 의미를 나타낸다.]
당해 반응은 통상 용매의 존재하, 통상 염기의 존재하에서 행하여진다.
반응에 사용되는 용매로서는, 예를 들면 1,4-디옥산, 테트라히드로푸란, 에틸렌글리콜디메틸에테르, tert-부틸메틸에테르 등의 에테르류, 헥산, 헵탄, 옥탄 등의 지방족 탄화수소류, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소류, 클로로벤젠 등의 할로겐화 탄화수소류, 아세트산에틸, 아세트산부틸 등의 에스테르류, 아세토니트릴, 부티로니트릴 등의 니트릴류, N,N-디메틸포름아미드 등의 산아미드류, 디메틸술폭시드 등의 술폭시드류, 및 이들의 혼합물을 들 수 있다.
반응에 사용되는 염기로서는, 예를 들면 탄산나트륨, 탄산칼륨 등의 탄산염류, 트리에틸아민, 디이소프로필에틸아민, 1,8-디아자비시클로[5.4.0]운덱-7-엔, 1,5-디아자비시클로[4.3.0]논-5-엔 등의 제3급 아민류, 및 피리딘, 4-디메틸아미노피리딘 등의 질소 함유 방향족 화합물을 들 수 있다.
반응시에, 화학식 (3)으로 표시되는 화합물 1몰에 대하여 염기가 통상 1∼10 몰의 비율로, 화학식 (2)로 표시되는 화합물이 통상 1∼5몰의 비율로 사용된다.
당해 반응의 반응 온도는 통상 -20∼100℃의 범위이고, 반응 시간은 통상 0.1∼24시간의 범위이다.
반응 종료후는,
(ⅰ) 반응 혼합물을 물에 부어 첨가하여 유기 용매 추출하고, 유기층을 필요에 따라 산성수(희석 염산 등), 염기성수(탄산수소나트륨 수용액 등)로 세정하고 나서 건조, 농축하거나, 또는
(ⅱ) 반응 혼합물에 소량의 물을 첨가하고 나서 감압하 농축하고, 얻어진 고체를 여과하여 수집하는 등의 조작을 행함으로써, 화학식 1로 표시되는 화합물을 단리할 수 있다. 단리된 화학식 1로 표시되는 화합물은 크로마토그래피, 재결정 등의 조작에 의해 더욱 정제할 수도 있다.
(제조법 B)
본 발명 화합물 중 R6이 C1-C4 알킬기, C3-C4 알케닐기 또는 C3-C4 알키닐기인 화학식 (1-2)로 표시되는 화합물은, 화학식 (4)로 표시되는 화합물과 화학식 (5)로 표시되는 화합물을 반응시킴으로써 제조할 수도 있다.
[식 중, R6 -1은 C1-C4 알킬기, C3-C4 알케닐기 또는 C3-C4 알키닐기를 나타내고, L1은 할로겐원자, 메탄술포닐옥시기, 트리플루오로메탄술포닐옥시기 또는 p-톨루엔술포닐옥시기를 나타내고, R1, R2, R3, R4, R5, R7, R8, R9, R10, R11 및 R12는 상기와 동일한 의미를 나타낸다.]
당해 반응은 통상 용매의 존재하, 통상 염기의 존재하에서 행하여진다.
반응에 사용되는 용매로서는, 예를 들면 1,4-디옥산, 테트라히드로푸란, 에틸렌글리콜디메틸에테르, tert-부틸메틸에테르 등의 에테르류, 헥산, 헵탄, 옥탄 등의 지방족 탄화수소류, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소류, 클로로벤젠 등의 할로겐화 탄화수소류, 아세트산에틸, 아세트산부틸 등의 에스테르류, 아세토니트릴, 부티로니트릴 등의 니트릴류, N,N-디메틸포름아미드 등의 산아미드류, 디메틸술폭시드 등의 술폭시드류, 및 이들의 혼합물을 들 수 있다.
반응에 사용되는 염기로서는, 예를 들면 탄산나트륨, 탄산칼륨 등의 탄산염류, 수소화나트륨, 수소화칼륨 등의 알칼리금속수소화물, 트리에틸아민, 디이소프 로필에틸아민, 1,8-디아자비시클로[5.4.0]운덱-7-엔, 1,5-디지아자비시클로[4.3.0]논-5-엔 등의 제3급 아민류, 및 피리딘, 4-디메틸아미노피리딘 등의 질소 함유 방향족 화합물을 들 수 있다.
반응시에, 화학식 (4)로 표시되는 화합물 1몰에 대하여 염기가 통상 1∼10몰의 비율로, 화학식 (5)로 표시되는 화합물이 통상 1∼5몰의 비율로 사용된다.
당해 반응의 반응 온도는 통상 -20∼100℃의 범위이고, 반응 시간은 통상 0.1∼24시간의 범위이다.
반응 종료후는, 반응 혼합물을 물에 부어 첨가하여 유기 용매 추출하고, 유기층을 필요에 따라 산성수(희석 염산 등), 염기성수(탄산수소나트륨 수용액 등)로 세정하고 나서 건조, 농축하는 등의 조작을 행함으로써, 화학식 (1-2)로 표시되는 화합물을 단리할 수 있다. 단리된 화학식 (1-2)로 표시되는 화합물은 크로마토그래피, 재결정 등의 조작에 의해 더욱 정제할 수도 있다.
(제조법 C)
본 발명 화합물은, 화학식 (2)로 표시되는 화합물(또는 그 염산염 등의 염)과 화학식 (6)으로 표시되는 화합물을 반응시킴으로써 제조할 수도 있다.
[식 중, R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9, R10, R11 및 R12는 상기와 동일한 의미를 나타낸다.]
당해 반응은 탈수축합제의 존재하에서, 통상 용매의 존재하에 행하여진다.
반응에 사용되는 용매로서는, 예를 들면 N,N-디메틸포름아미드 등의 산아미드류, 디메틸술폭시드 등의 술폭시드류, 피리딘, 퀴놀린 등의 질소 함유 방향족 화합물, 및 이들의 혼합물을 들 수 있다.
반응에 사용되는 탈수축합제로서는, 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드염산염(이하, WSC라 함), 1,3-디시클로헥실카르보디이미드 등의 카르보디이미드류를 들 수 있다.
반응시에, 화학식 (6)으로 표시되는 화합물 1몰에 대하여, 화학식 (2)로 표시되는 화합물이 통상 1∼3몰의 비율이고, 탈수축합제가 통상 1∼5몰의 비율로 사용된다.
당해 반응의 반응 온도는 통상 0∼140℃의 범위이고, 반응 시간은 통상 0.1 ∼24시간의 범위이다.
반응 종료후는,
(ⅰ) 반응 혼합물을 물에 부어 첨가하여 유기 용매 추출하고, 유기층을 필요에 따라 산성수(희석 염산 등), 염기성수(탄산수소나트륨 수용액 등)로 세정하고 나서 건조, 농축하거나, 또는
(ⅱ) 반응 혼합물에 소량의 물을 첨가하고 나서 감압하 농축하고, 얻어진 고체를 여과하여 수집하는 등의 조작을 행함으로써, 화학식 1로 표시되는 화합물을 단리할 수 있다. 단리된 화학식 1로 표시되는 화합물은 크로마토그래피, 재결정 등의 조작에 의해 더욱 정제할 수도 있다.
다음으로, 본 발명 화합물의 중간체의 제조법에 관하여 참고 제조법에서 설명한다.
참고 제조법
화학식 (3)으로 표시되는 화합물 및 화학식 (6)으로 표시되는 화합물은, 예를 들면 하기의 반응식에 따라서 제조할 수 있다.
[식 중, R20은 C1-C6 알킬기(메틸기, 에틸기 및 프로필기 등)를 나타내고, R21은 벤질기 또는 메톡시메틸기를 나타내고, L3 및 L4는 각각이 독립하여 할로겐원자, 메탄술포닐옥시기, 트리플루오로메탄술포닐옥시기 또는 p-톨루엔술포닐옥시기를 나타내고, R4, R5, R7, R8, R9, R10, R11 및 R12는 상기와 동일한 의미를 나타낸다.]
공정(Ⅰ-1)
화학식 (9)로 표시되는 화합물은, 화학식 (7)로 표시되는 화합물과 화학식 (8)로 표시되는 화합물을 반응시킴으로써 제조할 수 있다.
당해 반응은, 통상 염기의 존재하에서 행하여진다.
반응시에, 용매를 사용하는 경우에 사용되는 용매로서는 예를 들면, 1,4-디 옥산, 테트라히드로푸란, 에틸렌글리콜디메틸에테르, tert-부틸메틸에테르 등의 에테르류, 헥산, 헵탄, 옥탄 등의 지방족 탄화수소류, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소류, 클로로벤젠 등의 할로겐화 탄화수소류, 아세트산에틸, 아세트산부틸 등의 에스테르류, 아세토니트릴, 부티로니트릴 등의 니트릴류, N,N-디메틸포름아미드 등의 산아미드류, 디메틸술폭시드 등의 술폭시드류, 및 이들의 혼합물을 들 수 있다.
반응에 사용되는 염기로서는, 예를 들면 탄산나트륨, 탄산칼륨 등의 탄산염류, 수소화나트륨, 수소화칼륨 등의 알칼리금속수소물, 트리에틸아민, 디이소프로필에틸아민, 1,8-디아자비시클로[5.4.0]운덱7-엔, 1,5-디아자비시클로[4.3.0]논-5-엔 등의 제3급 아민류, 및 피리딘, 4-디메틸아미노피리딘 등의 질소 함유 방향족 화합물을 들 수 있다.
반응시에, 화학식 (7)로 표시되는 화합물 1몰에 대하여 염기가 통상 1∼50몰의 비율로, 화학식 (8)로 표시되는 화합물이 통상 1∼5몰의 비율로 사용된다.
당해 반응의 반응 온도는 통상 0∼100℃의 범위이고, 반응 시간은 통상 0.1∼24시간의 범위이다.
반응 종료후는, 반응 혼합물을 물에 부어 첨가하여 유기 용매 추출하고, 유기층을 건조, 농축하는 등의 조작을 행함으로써, 화학식 (9)로 표시되는 화합물을 단리할 수 있다. 단리된 화학식 (9)로 표시되는 화합물은 크로마토그래피, 재결정 등의 조작에 의해 더욱 정제할 수도 있다.
또한, 화학식 (7)로 표시되는 화합물은 예를 들면 문헌[Tetrahedron Letters, vo1.36, No.51, pp.9369-9372, 1995]에 기재된 화합물이거나, 또는 해당 문헌에 기재된 방법에 준하여 제조할 수 있는 화합물이다.
공정(Ⅰ-2)
(A) R21이 벤질기인 경우
화학식 (10)으로 표시되는 화합물은, 수소화 촉매의 존재하에 화학식 (9)로 표시되는 화합물과 수소를 반응시킴으로써 제조할 수 있다.
당해 반응은 수소 분위기하, 통상 용매의 존재하에서 행하여진다.
반응에 사용되는 용매로서는, 예를 들면 메탄올, 에탄올, 프로판올 등의 알코올류, 아세트산에틸, 아세트산부틸 등의 에스테르류, 테트라히드로푸란, 1,4-디옥산 등의 에테르류, 및 이들의 혼합물을 들 수 있다.
반응에 사용되는 수소화 촉매로서는, 예를 들면 팔라듐탄소, 수산화팔라듐, 라니니켈, 산화백금 등의 전이금속 화합물을 들 수 있다.
반응시에, 화학식 (9)로 표시되는 화합물 1몰에 대하여 수소화 촉매가 통상 0.001∼0.5몰의 비율로 사용된다. 반응은, 필요에 따라 산(염산 등)을 추가로 첨가하여 행할 수도 있다. 이 때, 화학식 (9)로 표시되는 화합물 1몰에 대하여 산이 통상 0.01몰∼과잉량의 비율로 사용된다.
당해 반응은 통상 1∼100기압의 수소 분위기하에서 행하여진다. 당해 반응의 반응 온도는 통상 -20∼100℃의 범위이고, 반응 시간은 통상 0.1∼24시간의 범위이다.
반응 종료후는, 반응 혼합물을 여과하고 여과액을 유기 용매 추출하여, 얻어진 유기층을 건조, 농축하는 등의 조작을 행함으로써, 화학식 (10)으로 표시되는 화합물을 단리할 수 있다. 단리된 화학식 (10)으로 표시되는 화합물은 크로마토그래피, 재결정 등의 조작에 의해 더욱 정제할 수도 있다.
(B) R21이 메톡시메틸기인 경우
화학식 (10)으로 표시되는 화합물은, 화학식 (9)로 표시되는 화합물을 산의 존재하에서 물과 반응시킴으로써 제조할 수 있다.
당해 반응은 통상 유기 용매의 존재하에서 행하여진다.
반응에 사용되는 유기 용매로서는, 예를 들면 1,4-디옥산, 테트라히드로푸란, 에틸렌글리콜디메틸에테르, tert-부틸메틸에테르 등의 에테르류, 헥산, 헵탄, 옥탄 등의 지방족 탄화수소류, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소류, 클로로벤젠 등의 할로겐화 탄화수소류, 아세트산에틸, 아세트산부틸 등의 에스테르류, 아세토니트릴, 부티로니트릴 등의 니트릴류, N,N-디메틸포름아미드 등의 산아미드류, 디메틸술폭시드 등의 술폭시드류, 메탄올, 에탄올, 프로판올 등의 알코올류, 및 이들의 혼합물을 들 수 있다.
반응에 사용되는 산으로서는, 예를 들면 염산, 황산 등의 무기산, p-톨루엔술폰산, 메탄술폰산 등의 유기산을 들 수 있다.
반응시에, 화학식 (9)로 표시되는 화합물 1몰에 대하여 산이 통상 0.1∼10몰의 비율, 물은 통상 3몰∼과잉량의 비율로 사용한다.
당해 반응의 반응 온도는 통상 0∼100℃의 범위이고, 반응 시간은 통상 0. 1∼24시간의 범위이다.
반응 종료후는, 반응 혼합물을 유기 용매 추출하고 유기층을 건조, 농축하는 등의 조작을 행함으로써, 화학식 (10)으로 표시되는 화합물을 단리할 수 있다. 단리된 화학식 (10)으로 표시되는 화합물은 크로마토그래피, 재결정 등의 조작에 의해 더욱 정제할 수도 있다.
공정(Ⅰ-3)
화학식 (12)로 표시되는 화합물은, 화학식 (10)으로 표시되는 화합물과 화학식 (11)로 표시되는 화합물을 반응시킴으로써 제조할 수 있다.
당해 반응은, 통상 염기의 존재하에서 행하여진다.
반응시에, 용매를 사용하는 경우에 사용되는 용매로서는, 예를 들면 1,4-디옥산, 테트라히드로푸란, 에틸렌글리콜디메틸에테르, tert-부틸메틸에테르 등의 에테르류, 헥산, 헵탄, 옥탄 등의 지방족 탄화수소류, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소류, 클로로벤젠 등의 할로겐화 탄화수소류, 아세트산에틸, 아세트산부틸 등의 에스테르류, 아세토니트릴, 부티로니트릴 등의 니트릴류, N,N-디메틸포름아미드 등의 산아미드류, 디메틸술폭시드 등의 술폭시드류, 및 이들의 혼합물을 들 수 있다.
반응에 사용되는 염기로서는, 예를 들면 탄산나트륨, 탄산칼륨 등의 탄산염류, 트리에틸아민, 디이소프로필에틸아민, 1,8-디아자비시클로[5.4.0]운덱-7-엔, 1,5-디아자비시클로[4.3.0]논-5-엔 등의 제3급 아민류, 및 피리딘, 4-디메틸아미노 피리딘 등의 질소 함유 방향족 화합물을 들 수 있다.
반응시에, 화학식 (10)으로 표시되는 화합물 1몰에 대하여 염기가 통상 1∼50몰의 비율로, 화학식 (11)로 표시되는 화합물이 통상 1∼5몰의 비율로 사용된다.
당해 반응의 반응 온도는 통상 0∼100℃의 범위이고, 반응 시간은 통상 0.1∼24시간의 범위이다.
반응 종료후는, 반응 혼합물에 필요에 따라 유기 용매를 첨가하고 나서 여과하고, 여과액을 농축하는 등의 조작을 행함으로써, 화학식 (12)로 표시되는 화합물을 단리할 수 있다. 단리된 화학식 (12)로 표시되는 화합물은 증류, 크로마토그래피, 재결정 등의 조작에 의해 더욱 정제할 수도 있다.
공정(Ⅰ-4)
화학식 (6)으로 표시되는 화합물은, 화학식 (12)로 표시되는 화합물을 염기의 존재하에서 물과 반응시킴으로써 제조할 수 있다.
당해 반응은 통상, 유기 용매의 존재하에서 행하여진다.
반응에 사용되는 유기 용매로서는, 예를 들면 1,4-디옥산, 테트라히드로푸란, 에틸렌글리콜디메틸에테르, tert-부틸메틸에테르 등의 에테르류, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소류, 클로로벤젠 등의 할로겐화 탄화수소류, 아세토니트릴, 부티로니트릴 등의 니트릴류, 메탄올, 에탄올, 프로판올 등의 알코올류, 및 이들의 혼합물을 들 수 있다.
반응에 사용되는 염기로서는, 예를 들면 수산화리튬, 수산화나트륨, 수산화칼륨 등의 알칼리금속수산화물을 들 수 있다.
반응시에, 화학식 (12)로 표시되는 화합물 1몰에 대하여 염기가 통상 1∼10몰의 비율로, 물은 통상 1몰∼과잉량의 비율로 사용된다.
당해 반응의 반응 온도는 통상 0∼150℃의 범위이고, 반응 시간은 통상 0.1∼24시간의 범위이다.
반응 종료후는, 반응 혼합물에 산성수(염산 등)를 첨가하여 유기 용매 추출하고, 유기층을 건조, 농축하는 등의 조작을 행함으로써, 화학식 (6)으로 표시되는 화합물을 단리할 수 있다. 단리된 화학식 (6)으로 표시되는 화합물은 크로마토그래피, 재결정 등에 의해 더욱 정제할 수도 있지만, 그대로 다음 공정에 사용할 수도 있다.
공정(Ⅰ-5)
화학식 (3)으로 표시되는 화합물은, 화학식 (6)으로 표시되는 화합물과 염소화제를 반응시킴으로써 제조할 수 있다.
반응시에, 용매를 사용하는 경우에 사용되는 용매로서는, 예를 들면 1,4-디옥산, 테트라히드로푸란, 에틸렌글리콜디메틸에테르, tert-부틸메틸에테르 등의 에테르류, 헥산, 헵탄 등의 지방족 탄화수소류, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소류, 클로로벤젠 등의 할로겐화 탄화수소류, 및 이들의 혼합물을 들 수 있다.
반응에 사용되는 염소화제로서는, 예를 들면 염화티오닐, 염화옥살릴 및 옥시염화인을 들 수 있다.
반응시에, 화학식 (6)으로 표시되는 화합물 1몰에 대하여 염소화제가 통상 1∼100몰의 비율로 사용된다.
당해 반응의 반응 온도는 통상 30∼150℃의 범위이고, 반응 시간은 통상 0.1∼24시간의 범위이다.
반응 종료후는, 반응 혼합물을 그대로 농축하는 등의 조작을 행함으로써, 화학식 (3)으로 표시되는 화합물을 단리할 수 있다. 단리된 화학식 (3)으로 표시되는 화합물은 통상 정제하지 않고 다음 공정의 반응에 사용된다.
화학식 (6)으로 표시되는 화합물 중 R7이 수소원자인 화학식 (6-2)로 표시되는 화합물, 및 화학식 (3)으로 표시되는 화합물 중 R7이 수소원자인 화학식 (3-2)로 표시되는 화합물은, 예를 들면 하기의 반응에 따라서 제조할 수도 있다.
[식 중, R14는 벤질기를 나타내고, L5는 염소원자 또는 브롬원자를 나타내고, R4, R5, R8, R10, R11, R12, R20 및 L4는 상기와 동일한 의미를 나타낸다.]
공정(Ⅱ-1)
화학식 (15)로 표시되는 화합물은, 화학식 (13)으로 표시되는 화합물과 화학식 (14)로 표시되는 화합물을 반응시킴으로써 제조할 수 있다.
당해 반응은, 통상 염기의 존재하에서 행하여진다.
반응시에, 용매를 사용하는 경우에 사용되는 용매로서는, 예를 들면 1,4-디옥산, 테트라히드로푸란, 에틸렌글리콜디메틸에테르, tert-부틸메틸에테르 등의 에테르류, 헥산, 헵탄, 옥탄 등의 지방족 탄화수소류, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소류, 클로로벤젠 등의 할로겐화 탄화수소류, 아세트산에틸, 아세트산부틸 등의 에스테르류, 아세토니트릴, 부티로니트릴 등의 니트릴류, N,N-디메틸포름아미드 등의 산아미드류, 디메틸술폭시드 등의 술폭시드류, 및 이들의 혼합물을 들 수 있다.
반응에 사용되는 염기로서는, 예를 들면 탄산나트륨, 탄산칼륨 등의 탄산염류, 수소화나트륨, 수소화칼륨 등의 알칼리금속수소물, 트리에틸아민, 디이소프로필에틸아민, 1,8-디아자비시클로[5.4.0]운덱-7-엔, 1,5-디아자비시클로[4.3.0]논-5-엔 등의 제3급 아민류, 및 피리딘, 4-디메틸아미노피리딘 등의 질소 함유 방향족 화합물을 들 수 있다.
반응시에, 화학식 (13)으로 표시되는 화합물 1몰에 대하여 염기가 통상 1∼50몰의 비율로, 화학식 (14)로 표시되는 화합물이 통상 1∼5몰의 비율로 사용된다.
당해 반응의 반응 온도는 통상 0∼100℃의 범위이고, 반응 시간은 통상 0.1∼24시간의 범위이다.
반응 종료후는, 반응 혼합물을 물에 부어 첨가하여 유기 용매 추출하고, 유기층을 건조, 농축하는 등의 조작을 행함으로써, 화학식 (15)로 표시되는 화합물을 단리할 수 있다. 단리된 화학식 (15)로 표시되는 화합물은 크로마토그래피, 재결정 등의 조작에 의해 더욱 정제할 수도 있다.
공정(Ⅱ-2)
화학식 (16)으로 표시되는 화합물은, 화학식 (15)로 표시되는 화합물과 화학식 (16)으로 표시되는 화합물을 반응시킴으로써 제조할 수 있다.
당해 반응은 용매의 존재하, 염기의 존재하에서 행하여진다.
반응에 사용되는 용매로서는, 예를 들면 1,4-디옥산, 테트라히드로푸란, 에틸렌글리콜디메틸에테르, tert-부틸메틸에테르 등의 에테르류, 헥산, 헵탄, 옥탄 등의 지방족 탄화수소류, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소류, 클로로벤젠 등의 할로겐화 탄화수소류, N,N-디메틸포름아미드 등의 산아미드류, 디메틸술폭시드 등의 술폭시드류, 물 및 이들의 혼합물을 들 수 있다.
반응에 사용되는 염기로서는, 예를 들면 탄산나트륨, 탄산칼륨 등의 탄산염류, 수소화나트륨, 수소화칼륨 등의 알칼리금속수소물, 나트륨메톡시드, 나트륨에톡시드, 칼륨 tert 부톡시드 등의 금속알콕시드를 들 수 있다.
반응시에, 화학식 (15)로 표시되는 화합물 1몰에 대하여 염기가 통상 1∼50몰의 비율로, 화학식 (16)으로 표시되는 화합물이 통상 1∼5몰의 비율로 사용된다.
당해 반응의 반응 온도는 통상 -20∼100℃의 범위이고, 반응 시간은 통상 0.1∼24시간의 범위이다.
반응 종료후는, 반응 혼합물을 물에 부어 첨가하여 유기 용매 추출하고, 유기층을 건조, 농축하는 등의 조작을 행함으로써, 화학식 (17)로 표시되는 화합물을 단리할 수 있다. 단리된 화학식 (17)로 표시되는 화합물은 크로마토그래피, 재결정 등의 조작에 의해 더욱 정제할 수도 있다.
공정(Ⅱ-3)
화학식 (18)로 표시되는 화합물은, 수소화 촉매의 존재하에 화학식 (17)로 표시되는 화합물과 수소를 반응시킴으로써 제조할 수 있다.
당해 반응은 수소 분위기하, 통상 용매의 존재하에서 행하여진다.
반응에 사용되는 용매로서는, 예를 들면 메탄올, 에탄올, 프로판올 등의 알코올류, 아세트산에틸, 아세트산부틸 등의 에스테르류, 테트라히드로푸란, 1,4-디옥산 등의 에테르류, 및 이들의 혼합물을 들 수 있다.
반응에 사용되는 수소화 촉매로서는, 예를 들면 팔라듐탄소, 수산화팔라듐, 라니니켈, 산화백금 등의 전이금속 화합물을 들 수 있다.
반응시에, 화학식 (17)로 표시되는 화합물 1몰에 대하여 수소화 촉매가 통상 0.001∼0.5몰의 비율로 사용된다. 반응은 필요에 따라, 추가로 산(염산 등)을 첨가하여 행할 수도 있다. 이 때, 화학식 (17)로 표시되는 화합물 1몰에 대하여 산이 통상 0.01몰∼과잉량의 비율로 사용된다.
당해 반응은, 통상 1∼100기압의 수소 분위기하에서 행하여진다. 당해 반응의 반응 온도는 통상 -20∼100℃의 범위이고, 반응 시간은 통상 0.1∼24시간의 범위이다.
반응 종료후는, 반응 혼합물을 여과하고 여과액을 유기 용매 추출하여, 얻어진 유기층을 건조, 농축하는 등의 조작을 행함으로써, 화학식 (18)로 표시되는 화합물을 단리할 수 있다. 단리된 화학식 (18)로 표시되는 화합물은 크로마토그래피, 재결정 등의 조작에 의해 더욱 정제할 수도 있다.
공정(Ⅱ-4)
화학식 (20)으로 표시되는 화합물은, 화학식 (18)로 표시되는 화합물과 화학식 (19)로 표시되는 화합물을 반응킴으로써 제조할 수 있다.
당해 반응은, 통상 염기의 존재하에서 행하여진다.
반응시에 용매를 사용하는 경우의 용매로서는, 예를 들면 1,4-디옥산, 테트라히드로푸란, 에틸렌글리콜디메틸에테르, tert-부틸메틸에테르 등의 에테르류, 헥산, 헵탄, 옥탄 등의 지방족 탄화수소류, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소류, 클로로벤젠 등의 할로겐화 탄화수소류, 아세트산에틸, 아세트산부틸 등의 에스테르류, 아세토니트릴, 부티로니트릴 등의 니트릴류, N,N-디메틸포름아미드 등의 산아미드류, 디메틸술폭시드 등의 술폭시드류, 및 이들의 혼합물을 들 수 있다.
반응에 사용되는 염기로서는, 예를 들면 탄산나트륨, 탄산칼륨 등의 탄산염류, 트리에틸아민, 디이소프로필에틸아민, 1,8-디아자비시클로[5.4.0]운덱-7-엔, 1,5-디아자비시클로[4.3.0]논-5-엔 등의 제3급 아민류, 및 피리딘, 4-디메틸아미노피리딘 등의 질소 함유 방향족 화합물을 들 수 있다.
반응에 사용되는 시약의 양은, 화학식 (18)로 표시되는 화합물 1몰에 대하여 염기가 통상 1∼50몰의 비율, 화학식 (19)로 표시되는 화합물이 통상 1∼5몰의 비율이다.
당해 반응의 반응 온도는 통상 0∼100℃의 범위이고, 반응 시간은 통상 0.1∼24시간의 범위이다.
반응 종료후는, 반응 혼합물에 필요에 따라 유기 용매를 첨가하고 나서 여과 하고, 여과액을 농축하는 등의 조작을 행함으로써, 화학식 (20)으로 표시되는 화합물을 단리할 수 있다. 단리된 화학식 (20)으로 표시되는 화합물은 증류, 크로마토그래피, 재결정 등의 조작에 의해 더욱 정제할 수도 있다.
공정(Ⅱ-5)
화학식 (6-2)로 표시되는 화합물은, 화학식 (20)으로 표시되는 화합물을 염기의 존재하에서 물과 반응시킴으로써 제조할 수 있다.
당해 반응은 통상 유기 용매의 존재하에서 행하여진다.
반응에 사용되는 유기 용매로서는, 예를 들면 1,4-디옥산, 테트라히드로푸란, 에틸렌글리콜디메틸에테르, tert-부틸메틸에테르 등의 에테르류, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소류, 클로로벤젠 등의 할로겐화 탄화수소류, 아세토니트릴, 부티로니트릴 등의 니트릴류, 메탄올, 에탄올, 프로판올 등의 알코올류 및 이들의 혼합물을 들 수 있다.
반응에 사용되는 염기로서는, 예를 들면 수산화리튬, 수산화나트륨, 수산화칼륨 등의 알칼리금속수산화물을 들 수 있다.
반응시에, 화학식 (20)으로 표시되는 화합물 1몰에 대하여 염기가 통상 1∼10몰의 비율로, 물이 통상 1몰∼과잉량의 비율로 사용된다.
당해 반응의 반응 온도는 통상 0∼150℃의 범위이고, 반응 시간은 통상 0.1∼24시간의 범위이다.
반응 종료후는, 반응 혼합물에 산성수(염산 등)를 첨가하여 유기 용매 추출하고, 유기층을 건조, 농축하는 등의 조작을 행함으로써, 화학식 (6-2)로 표시되는 화합물을 단리할 수 있다. 단리된 화학식 (6-2)로 표시되는 화합물은 크로마토그래피, 재결정 등에 의해 더욱 정제할 수도 있지만, 그대로 다음 공정에 사용할 수도 있다.
공정 (Ⅱ-6)
화학식 (3-2)로 표시되는 화합물은, 화학식 (6-2)로 표시되는 화합물과 염소화제를 반응시킴으로써 제조할 수 있다.
반응시에 용매를 사용하는 경우 용매로서는, 예를 들면 1,4-디옥산, 테트라히드로푸란, 에틸렌글리콜디메틸에테르, tert-부틸메틸에테르 등의 에테르류, 헥산, 헵탄 등의 지방족 탄화수소류, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소류, 클로로벤젠 등의 할로겐화 탄화수소류, 및 이들의 혼합물을 들 수 있다.
반응에 사용되는 염소화제로서는, 예를 들면 염화티오닐, 염화옥살릴 및 옥시염화인을 들 수 있다.
반응시에, 화학식 (6-2)로 표시되는 화합물 1몰에 대하여 염소화제가 통상 1∼100몰의 비율로 사용된다.
당해 반응의 반응 온도는 통상 30∼150℃의 범위이고, 반응 시간은 통상 0.1∼24시간의 범위이다.
반응 종료후는 반응 혼합물을 그대로 농축하는 등의 조작을 행함으로써, 화학식 (3-2)로 표시되는 화합물을 단리할 수 있다. 단리된 화학식 (3-2)로 표시되는 화합물은 통상 정제하지 않고 다음 공정의 반응에 사용된다.
화학식 (6)으로 표시되는 화합물 중 R8이 수소원자인 화학식 (6-3)으로 표시되는 화합물, 및 화학식 (3)으로 표시되는 화합물 중 R8이 수소원자인 화학식 (3-3)으로 표시되는 화합물은, 예를 들면 하기의 반응식에 따라서 제조할 수도 있다.
[식 중, R4, R5, R7, R20, R14, L4, R10, R11 및 R12는 상기와 동일한 의미를 나타낸다.]
공정(Ⅲ-1)
화학식 (23)으로 표시되는 화합물은, 화학식 (21)로 표시되는 화합물과 화학 식 (22)로 표시되는 화합물을 반응시킴으로써 제조할 수 있다.
당해 반응은, 산무수물의 존재하에서 행하여진다.
반응에 사용되는 산무수물로서는,
(R7CH2CO)2O
[식 중, R7은 상기와 동일한 의미를 나타낸다.]
로 표시되는 산무수물(예를 들면, 무수아세트산, 무수프로피온산, 무수부티르산 등)이 사용된다.
반응시에, 화학식 (21)로 표시되는 화합물 1몰에 대하여 산무수물이 통상 1∼5몰의 비율, 화학식 (22)로 표시되는 화합물이 통상 1∼5몰의 비율로 사용된다.
당해 반응의 반응 온도는 통상 100∼200℃의 범위이고, 반응 시간은 통상 1∼24시간의 범위이다.
반응 종료후는, 반응 혼합물을 물에 부어 첨가하여 유기 용매 추출하고, 유기층을 건조, 농축하는 등의 조작을 행함으로써, 화학식 (23)으로 표시되는 화합물을 단리할 수 있다. 단리된 화학식 (23)으로 표시되는 화합물은 크로마토그래피, 재결정 등의 조작에 의해 더욱 정제할 수도 있다.
공정(Ⅲ-2)
화학식 (25)로 표시되는 화합물은, 화학식 (23)으로 표시되는 화합물과 화학식 (24)로 표시되는 화합물을 반응시킴으로써 제조할 수 있다.
당해 반응은 통상, 산 촉매의 존재하에서 행하여진다.
반응에 사용되는 산으로서는, 예를 들면 염화수소, 브롬화수소 등의 할로겐화수소류, 황산 등의 광물산류, 및 메탄술폰산, 파라톨루엔술폰산 등의 술폰산류를 들 수 있다.
반응시에, 화학식 (23)으로 표시되는 화합물 1몰에 대하여 화학식 (24)로 표시되는 화합물이 통상 3몰∼과잉량의 비율로, 산이 통상 0.001∼0.2몰의 비율로 사용된다.
당해 반응의 반응 온도는 통상 50∼150℃의 범위이고, 반응 시간은 통상 1∼24시간의 범위이다.
반응 종료후는, 반응 혼합물을 물에 부어 첨가하여 유기 용매 추출하고, 유기층을 건조, 농축하는 등의 조작을 행함으로써, 화학식 (25)로 표시되는 화합물을 단리할 수 있다. 단리된 화학식 (25)로 표시되는 화합물은 크로마토그래피, 재결정 등의 조작에 의해 더욱 정제할 수도 있다. 또는, 반응 혼합물을 감압하에서 농축하고 조생성물을 얻어, 그대로 다음 공정에서 사용할 수도 있다.
또한, 당해 반응에서는 산 촉매 대신에 산염화물(염화아세틸 등)을 사용하여 반응을 수행할 수도 있다.
공정(Ⅲ-3)
화학식 (26)으로 표시되는 화합물은, 수소화 촉매의 존재하에 화학식 (25)로 표시되는 화합물과 수소를 반응시킴으로써 제조할 수 있다.
당해 반응은 수소 분위기하, 통상 용매의 존재하에서 행하여진다.
반응에 사용되는 용매로서는, 예를 들면 메탄올, 에탄올, 프로판올 등의 알 코올류, 아세트산에틸, 아세트산부틸 등의 에스테르류, 테트라히드로푸란, 1,4-디옥산 등의 에테르류, 및 이들의 혼합물을 들 수 있다.
반응에 사용되는 수소화 촉매로서는, 예를 들면 팔라듐탄소, 수산화팔라듐, 라니니켈, 산화백금 등의 전이금속 화합물을 들 수 있다.
반응시에, 화학식 (25)로 표시되는 화합물 1몰에 대하여 수소화 촉매가 통상 0.001∼0.5몰의 비율로 사용된다. 반응은, 필요에 따라 추가로 산(염산 등)을 첨가하여 수행할 수도 있다. 이 때, 화학식 (25)로 표시되는 화합물 1몰에 대하여, 산이 통상 0.01몰∼과잉량의 비율로 사용된다.
당해 반응은 통상 1∼100기압의 수소 분위기하에서 행하여진다. 당해 반응의 반응 온도는 통상 -20∼100℃의 범위이고, 반응 시간은 통상 0.1∼24시간의 범위이다.
반응 종료후는, 반응 혼합물을 여과하고 여과액을 유기 용매 추출하여, 얻어진 유기층을 건조, 농축하는 등의 조작을 행함으로써, 화학식 (26)으로 표시되는 화합물을 단리할 수 있다. 단리된 화학식 (26)으로 표시되는 화합물은 크로마토그래피, 재결정 등의 조작에 의해 더욱 정제할 수도 있다.
공정(Ⅲ-4)
화학식 (28)로 표시되는 화합물은, 화학식 (26)으로 표시되는 화합물과 화학식 (27)로 표시되는 화합물을 반응시킴으로써 제조할 수 있다.
당해 반응은, 통상 염기의 존재하에서 행하여진다.
반응시에 용매를 사용하는 경우 용매로서는, 예를 들면 1,4-디옥산, 테트라 히드로푸란, 에틸렌글리콜디메틸에테르, tert-부틸메틸에테르 등의 에테르류, 헥산, 헵탄, 옥탄 등의 지방족 탄화수소류, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소류, 클로로벤젠 등의 할로겐화 탄화수소류, 아세트산에틸, 아세트산부틸 등의 에스테르류, 아세토니트릴, 부티로니트릴 등의 니트릴류, N,N-디메틸포름아미드 등의 산아미드류, 디메틸술폭시드 등의 술폭시드류, 및 이들의 혼합물을 들 수 있다.
반응에 사용되는 염기로서는, 예를 들면 탄산나트륨, 탄산칼륨 등의 탄산염류, 트리에틸아민, 디이소프로필에틸아민, 1,8-디아자비시클로[5.4.0]운덱-7-엔, 1,5-디아자비시클로[4.3.0]논-5-엔 등의 제3급 아민류, 및 피리딘, 4-디메틸아미노피리딘 등의 질소 함유 방향족 화합물을 들 수 있다.
반응시에, 화학식 (26)으로 표시되는 화합물 1몰에 대하여 염기가 통상 1∼50몰의 비율로, 화학식 (27)로 표시되는 화합물이 통상 1∼5몰의 비율로 사용된다.
당해 반응의 반응 온도는 통상 0∼100℃의 범위이고, 반응 시간은 통상 0.1∼24시간의 범위이다.
반응 종료후는, 반응 혼합물에 필요에 따라 유기 용매를 첨가하고 나서 여과하고, 여과액을 농축하는 등의 조작을 행함으로써, 화학식 (28)로 표시되는 화합물을 단리할 수 있다. 단리된 화학식 (28)로 표시되는 화합물은 증류, 크로마토그래피, 재결정 등의 조작에 의해 더욱 정제할 수도 있다.
공정(Ⅲ-5)
화학식 (6-3)으로 표시되는 화합물은, 화학식 (28)로 표시되는 화합물을 염기의 존재하에 물과 반응시킴으로써 제조할 수 있다.
당해 반응은 통상 유기 용매의 존재하에서 행하여진다.
반응에 사용되는 유기 용매로서는, 예를 들면 1,4-디옥산, 테트라히드로푸란, 에틸렌글리콜디메틸에테르, tert-부틸메틸에테르 등의 에테르류, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소류, 클로로벤젠 등의 할로겐화 탄화수소류, 아세토니트릴, 부티로니트릴 등의 니트릴류, 메탄올, 에탄올, 프로판올 등의 알코올류, 및 이들의 혼합물을 들 수 있다.
반응에 사용되는 염기로서는, 예를 들면 수산화리튬, 수산화나트륨, 수산화칼륨 등의 알칼리금속수산화물을 들 수 있다.
반응시에, 화학식 (28)로 표시되는 화합물 1몰에 대하여 염기가 통상 1∼10몰의 비율로 사용된다.
당해 반응의 반응 온도는 통상 0∼150℃의 범위이고, 반응 시간은 통상 0.1∼24시간의 범위이다.
반응 종료후는, 반응 혼합물에 산성수(염산 등)를 첨가하여 유기 용매 추출하고, 유기층을 건조, 농축하는 등의 조작을 행함으로써, 화학식 (6-3)으로 표시되는 화합물을 단리할 수 있다. 단리된 화학식 (6-3)으로 표시되는 화합물은 크로마토그래피, 재결정 등에 의해 더욱 정제할 수도 있지만, 그대로 다음 공정에 사용할 수도 있다.
공정(Ⅲ-6)
화학식 (3-3)으로 표시되는 화합물은, 화학식 (6-3)으로 표시되는 화합물과 염소화제를 반응시킴으로써 제조할 수 있다.
반응시에, 용매를 사용하는 경우의 용매로서는, 예를 들면 1,4-디옥산, 테트라히드로푸란, 에틸렌글리콜디메틸에테르, tert-부틸메틸에테르 등의 에테르류, 헥산, 헵탄 등의 지방족 탄화수소류, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소류, 클로로벤젠 등의 할로겐화 탄화수소류, 및 이들의 혼합물을 들 수 있다.
반응에 사용되는 염소화제로서는, 예를 들면 염화티오닐, 염화옥살릴 및 옥시염화인을 들 수 있다.
반응시에, 화학식 (6-3)으로 표시되는 화합물 1몰에 대하여 염소화제가 통상 1∼100몰의 비율로 사용된다.
당해 반응의 반응 온도는 통상 30∼150℃의 범위이고, 반응 시간은 통상 0.1∼24시간의 범위이다.
반응 종료후는 반응 혼합물을 그대로 농축하는 등의 조작을 행함으로써, 화학식 (3-3)으로 표시되는 화합물을 단리할 수 있다. 단리된 화학식 (3-3)으로 표시되는 화합물은 통상 정제하지 않고 다음 공정의 반응에 사용된다.
화학식 (3)으로 표시되는 화합물은, 예를 들면 화학식 (30)으로 표시되는 화합물을 시안화물, 암모늄염, 및 화학식 (31)로 표시되는 화합물과 반응시킴으로써 제조할 수 있다.
[식 중, R1, R2, R3, R6 및 R9는 상기와 동일한 의미를 나타낸다.]
당해 반응은, 통상 용매의 존재하에서 행하여진다.
반응에 사용되는 용매로서는, 예를 들면 메탄올, 에탄올, 이소프로판올 등의 알코올류, 물, 및 이들의 혼합물을 들 수 있다.
반응에 사용되는 시안화합물로서는, 예를 들면 시안화나트륨, 시안화칼륨을 들 수 있다.
반응에 사용되는 암모늄염으로서는, 예를 들면 염화암모늄, 브롬화암모늄을 들 수 있다.
반응시에 화학식 (30)으로 표시되는 화합물 1몰에 대하여 시안화물이 통상 1∼5몰의 비율로, 암모늄염이 통상 1∼5몰의 비율, 식 (31)로 표시되는 화합물이 통상 1∼50몰의 비율로 사용된다.
당해 반응의 반응 온도는 통상 -10∼100℃의 범위이고, 반응 시간은 통상 1∼50시간의 범위이다.
반응 종료후는, 반응 혼합물에 필요에 따라 유기 용매를 첨가하여 추출하고, 유기층을 농축하는 등의 조작을 행함으로써, 화학식 (3)으로 표시되는 화합물을 단리할 수 있는데, 염산과 혼합함으로써 염산염으로서 취출할 수도 있다.
또한, 화학식 (3)으로 표시되는 화합물은, 예를 들면 문헌[Tetrahedron Letters, vol.25, No.41, pp.4583-4586, 1984] 또는 미국 특허 US4041045호에 기재된 화합물이거나, 또는 이들 문헌에 기재된 방법에 준하여 제조할 수도 있다.
본 발명 화합물이 방제 효력을 갖는 식물 병해로서는, 예를 들면 조균류에 의한 식물 병해를 들 수 있고, 구체적으로는 예를 들면 다음 병해를 들 수 있다: 소채류, 무의 마름병(Peronospora brassicae), 시금치의 마름병(Peronospora spinaciae), 담배의 마름병(Peronospora tabacina), 참외류의 마름병(Pseudoperonospora cubensis), 포도의 마름병(Plasmopara viticola), 사과, 딸기, 인삼의 역병(Phytophthora cactorum), 토마토, 오이의 회색 역병(Phytophthora capsici), 파인애플의 역병(Phytophthora cinnamomi), 감자, 토마토의 역병(Phytophthora infestans), 담배, 누에콩, 파의 역병(Phytophthora nicotianae var . nicotianae), 시금치의 입고병(pythium sp .), 오이 묘입고병(Pythium aphanidermatum), 밀 갈색 설부병(Pythium sp .), 담배 묘입고병(Pythium debaryanum), 콩의 Pythium rot(Pythium aphanidermatum , P. debaryanum , P. irregulare, P. myriotylum , P. ultimum).
본 발명의 식물 병해 방제 조성물은 본 발명 화합물과 불활성인 담체를 함유하고 있다. 본 발명의 식물 병해 방제 조성물은 본 발명 화합물, 불활성인 담체(고체 담체 또는 액체 담체), 필요에 따라 계면활성제 및/또는 그 밖의 제제용 보조제를 혼합하여, 유제, 수화제, 과립 수화제, 플로어블제, 분제, 입제 등의 형태로 제제화된 것이다. 이들 제제는 본 발명 화합물을 통상 0.1∼90 중량% 함유한다.
제제화시에 사용되는 고체 담체로서는, 예를 들면 카올린클레이, 아타풀자이트 클레이(attapulgite clay), 벤토나이트, 몬트모릴로나이트, 산성백토, 파이로필라이트, 탈크, 규조토, 방해석 등의 광물, 옥수수 속대 가루, 호두껍질 가루 등의 천연 유기물, 우레아 등의 합성 유기물, 탄산칼슘, 황산암모늄 등의 염류, 합성 함수산화규소 등의 합성 무기물 등으로 이루어지는 미세 분말 또는 입상물 등을 들 수 있고, 액체 담체로서는, 예를 들면 자일렌, 알킬벤젠, 메틸나프탈렌 등의 방향족 탄화수소류, 2-프로판올, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 셀로솔브(cellosolve) 등의 알코올류, 아세톤, 시클로헥사논, 이소포론 등의 케톤류, 콩기름, 면실유 등의 식물유, 지방족 탄화수소류, 에스테르류, 디메틸술폭시드, 아세토니트릴 및 물을 들 수 있다.
계면활성제로서는 예를 들면, 알킬황산에스테르염, 알킬아릴술폰산염, 디알킬술포숙신산염, 폴리옥시에틸렌알킬아릴에테르인산 에스테르염, 리그닌술폰산염, 나프탈렌술포네이트포름알데히드 중축합물 등의 음이온 계면활성제, 및 폴리옥시에틸렌알킬아릴에테르, 폴리옥시에틸렌알킬폴리옥시프로필렌 블록 코폴리머, 소르비탄지방산에스테르 등의 비이온 계면활성제를 들 수 있다.
그 밖의 제제용 보조제로서는, 예를 들면 폴리비닐알코올, 폴리비닐피롤리돈 등의 수용성 고분자, 아라비아검, 알긴산 및 그의 염, CMC(카르복시메틸셀룰로오스), 크산탄검 등의 다당류, 알루미늄 마그네슘 실리케이트, 알루미나 졸 등의 무기물, 방부제, 착색제, PAP(산성 인산 이소프로필), BHT 등의 안정화제를 들 수 있다.
본 발명의 식물 병해 방제 조성물은, 예를 들면 식물체에 경엽 처리함으로써 당해 식물을 식물 병해로부터 보호하기 위해서 사용되고, 또한 토양에 처리함으로써 당해 토양에 생육하는 식물을 식물 병해로부터 보호하기 위해서 사용된다.
본 발명의 식물 병해 방제 조성물을 식물체에 경엽 처리함으로써 사용하는 경우, 또는 토양에 처리함으로써 사용하는 경우, 그 처리량은 방제 대상 식물인 작물 등의 종류, 방제 대상 병해의 종류, 방제 대상 병해의 발생 정도, 제제 형태, 처리 시기, 기상 조건 등에 따라 변화시킬 수 있지만, 10000 ㎡당 본 발명 화합물로서 통상 1∼5000g, 바람직하게는 5∼1000g이다.
유제, 수화제, 플로어블제 등은 통상 물로 희석하여 살포함으로써 처리한다. 이 경우, 본 발명 화합물의 농도는 통상 0.0001∼3 중량%, 바람직하게는 0.0005∼1 중량%의 범위이다. 분제, 입제 등은 통상 희석하지 않고 그대로 처리한다.
또한, 본 발명의 식물 병해 방제 조성물은 종자 소독 등의 처리 방법으로 사용할 수도 있다. 종자 소독의 방법으로서는, 예를 들면 본 발명 화합물의 농도가 1∼1000 ppm으로 되도록 조제한 본 발명의 식물 병해 방제 조성물에 식물의 종자를 침지하는 방법, 식물의 종자에 본 발명 화합물의 농도가 1∼1000 ppm인 본 발명의 식물 병해 방제 조성물을 분무 또는 도말하는 방법, 및 식물의 종자에 분제로 제제화된 본 발명의 식물 병해 방제 조성물을 코팅하는 방법을 들 수 있다.
본 발명의 식물 병해 방제 방법은, 통상 본 발명의 식물 병해 방제 조성물의 유효량을 병해의 발생이 예측되는 식물, 또는 그 식물이 생육하는 토양에 처리하고/하거나, 병해의 발생이 확인된 식물 또는 그 식물이 생육하는 토양에 처리함으로써 행하여진다.
본 발명의 식물 병해 방제 조성물은 통상, 농원예용 식물 병해 방제 조성물, 즉, 밭, 논, 과수원, 차밭, 목초지, 잔디밭 등의 식물 병해를 방제하기 위한 식물 병해 방제 조성물로서 사용된다.
본 발명의 식물 병해 방제 조성물은 다른 살균제, 살충제, 살진드기제, 살선충제, 제초제, 식물 성장 조절제 및/또는 비료와 함께 사용할 수도 있다.
이러한 식물 병해 방제제의 유효 성분으로서는, 예를 들면 클로로타로닐, 플루아지남, 디클로플루아니드, 포세틸-A1, 환상 이미드 유도체(캡탄, 캡타폴, 폴펫트 등), 디티오카바메이트 유도체(만네브, 만코브, 티우람, 지람, 지네브, 프로피네브 등), 무기 또는 유기의 구리 유도체(염기성 황산구리, 염기성 염화구리, 수산화구리, 옥신구리(copper-oxinate) 등), 아실알라닌 유도체(메타락실, 푸라락실, 오푸레이스, 시프로푸람, 베나락실, 옥사딕실 등), 스트로빌루린계 화합물(크레속심메틸, 아족시스트로빈, 트리플록시스트로빈, 피콕시스트로빈, 피라클로스트로빈, 디목시스트로빈 등), 아닐리노피리미딘 유도체(시프로디닐, 피리메타닐, 메파니피림 등), 페닐피롤 유도체(펜피클로닐, 플루디옥소닐 등), 이미드 유도체(프로시미돈, 이프로디온, 빈크로졸린 등), 벤즈이미다졸 유도체(칼벤다짐, 베노밀, 티아벤다졸, 티오파네이트메틸 등), 아민 유도체(펜프로피몰프, 트리데몰프, 펜프로피딘, 스피록사민 등), 아졸 유도체(프로피코나졸, 트리아디메놀, 프로클로라즈, 펜코나졸, 테브코나졸, 플루시라졸, 디니코나졸, 브로무코나졸, 에폭시코나졸, 디페노코나졸, 시프로코나졸, 메트코나졸, 트리플루미졸, 테트라코나졸, 마이클로부타닐(myclobutanil), 펜부코나졸, 헥사코나졸, 플루퀸코나졸, 트리티코나졸, 비테르타놀, 이마잘릴, 플루트리아폴 등), 시목사닐, 디메토모르프, 파목사돈, 페나미돈, 이프로발리카르브, 벤티아발리카르브, 시아조파미드, 족사미드, 에타복삼, 보스칼 리드, 펜헥사미드, 퀴녹시펜, 프로퀴나지드, 디에토펜카르브 및 아시벤조랄 S-메틸, 구아자틴, 펜티오피라드를 들 수 있다.
본 발명 화합물의 구체예로서는, 이하의 화합물을 들 수 있다.
화학식 (i)∼(LXXii)로 표시되는 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물
또한, 화학식 (i)∼(LXXii)에서 Z는 하기에 나타내는 기 중 어느 하나를 나타낸다.
페닐기, 4-플루오로페닐기, 3-플루오로페닐기, 2-플루오로페닐기, 4-클로로페닐기, 3-클로로페닐기, 2-클로로페닐기, 4-브로모페닐기, 3-브로모페닐기, 2-브로모페닐기, 4-요오드페닐기, 3-요오드페닐기, 2-요오드페닐기, 4-메틸페닐기, 3-메틸페닐기, 2-메틸페닐기, 4-에틸페닐기, 3-에틸페닐기, 2-에틸페닐기, 4-프로필 페닐기, 3-프로필페닐기, 2-프로필페닐기, 4-이소프로필페닐기, 4-부틸페닐기, 3-부틸페닐기, 4-(sec-부틸)페닐기, 4-이소부틸페닐기, 4-(tert-부틸)페닐기, 4-시클로프로필페닐기, 4-시클로부틸페닐기, 4-시클로펜틸페닐기, 4-시클로헥실페닐기, 3-플루오로-4-시클로프로필페닐기, 3-플루오로-4-시클로부틸페닐기, 3-플루오로-4-시클로펜틸페닐기, 3-플루오로-4-시클로헥실페닐기, 4-(플루오로메틸)페닐기, 4-(디플루오로메틸)페닐기, 4-(트리플루오로메틸)페닐기, 4-메톡시페닐기, 4-에톡시페닐기, 3,4-디플루오로페닐기, 2,4-디플루오로페닐기, 4-클로로-3-플루오로페닐기, 4-클로로-2-플루오로페닐기, 4-브로모-3-플루오로페닐기, 4-브로모-2-플루오로페닐기, 3-플루오로-4-메틸페닐기, 2-플루오로-4-메틸페닐기, 4-에틸-3-플루오로페닐기, 4-에틸-2-플루오로페닐기, 3-플루오로-4-(트리플루오로메틸)페닐기, 2-플루오로-4-(트리플루오로메틸)페닐기, 3-플루오로-4-메톡시페닐기, 2-플루오로-4-메톡시페닐기, 4-플루오로-3-클로로페닐기, 4-플루오로-2-클로로페닐기, 3,4-디클로로페닐기, 2,4-디클로로페닐기, 4-브로모-3-클로로페닐기, 4-브로모-2-클로로페닐기, 3-클로로-4-메틸페닐기, 2-클로로-4-메틸페닐기, 3-클로로-4-에틸페닐기, 2-클로로-4-에틸페닐기, 3-클로로-4-(트리플루오로메틸)페닐기, 2-클로로-4-(트리플루오로메틸)페닐기, 3-클로로-4-메톡시페닐기, 2-클로로-4-메톡시페닐기, 3-브로모-4-플루오로페닐기, 2-브로모-4-플루오로페닐기, 3-브로모-4-클로로페닐기, 2-브로모-4-클로로페닐기, 3,4-디브로모페닐기, 2,4-디브로모페닐기, 3-브로모-4-메틸페닐기, 2-브로모-4-메틸페닐기, 3-브로모-4-에틸페닐기, 2-브로모-4-에틸페닐기, 3-브로모-4-(트리플루오로메틸)페닐기, 2-브로모-4-(트리플루오로메틸)페닐기, 3-브로모-4- 메톡시페닐기, 2-브로모-4-메톡시페닐기, 4-플루오로-3-메틸페닐기, 4-플루오로-2-메틸페닐기, 4-클로로-3-메틸페닐기, 4-클로로-2-메틸페닐기, 4-브로모-3-메틸페닐기, 4-브로모-2-메틸페닐기, 3,4-디메틸페닐기, 2,4-디메틸페닐기, 4-에틸-3-메틸페닐기, 4-에틸-2-메틸페닐기, 3-메틸-4-(트리플루오로메틸)페닐기, 2-메틸-4-(트리플루오로메틸)페닐기, 4-메톡시-3-메틸페닐기, 4-메톡시-2-메틸페닐기, 3-에틸-4-플루오로페닐기, 2-에틸-4-플루오로페닐기, 4-클로로-3-에틸페닐기, 4-클로로-2-에틸페닐기, 4-브로모-3-에틸페닐기, 4-브로모-2-에틸페닐기, 3-에틸-4-메틸페닐기, 2-에틸-4-메틸페닐기, 3,4-디에틸페닐기, 2,4-디에틸페닐기, 3-에틸-4-(트리플루오로메틸)페닐기, 2-에틸-4-(트리플루오로메틸)페닐기, 3-에틸-4-메톡시페닐기, 2-에틸-4-메톡시페닐기, 2,3-디플루오로페닐기, 2,3-디클로로페닐기, 2,3-디브로모페닐기, 2,3-디메틸페닐기, 2,3-디에틸페닐기, 4-시아노페닐기, 4-시아노-3-메틸페닐기, 4-시아노-3-에틸페닐기, 4-시아노-3-플루오로페닐기, 4-시아노-3-클로로페닐기, 4-시아노-3-브로모페닐기, 4-트리플루오로메톡시페닐기, 3-메틸-4-트리플루오로메톡시페닐기, 3-에틸-4-트리플루오로메톡시페닐기, 3-플루오로-4-트리플루오로메톡시페닐기, 3-클로로-4-트리플루오로메톡시페닐기, 3-브로모-4-트리플루오로메톡시페닐기, 4-디플루오로메톡시페닐기, 3-메틸-4-디플루오로메톡시페닐기, 3-에틸-4-디플루오로메톡시페닐기, 3-플루오로-4-디플루오로메톡시페닐기, 3-클로로-4-디플루오로메톡시페닐기, 3-브로모-4-디플루오로메톡시페닐기, 4-플루오로메톡시페닐기, 3-메틸-4-플루오로메톡시페닐기, 3-에틸-4-플루오로메톡시페닐기, 3-플루오로-4-플루오로메톡시페닐기, 3-클로로-4-플루오로메톡시페닐기, 3-브로모-4-플루오로 메톡시페닐기, 4-(2,2,2-트리플루오로에톡시)페닐기, 4-(1,1,2,2-테트라플루오로에톡시)페닐기, 4-(2-플루오로에톡시)페닐기, 4-메틸티오페닐기, 3-메틸-4-메틸티오페닐기, 3-에틸-4-메틸티오페닐기, 3-플루오로-4-메틸티오페닐기, 3-클로로-4-메틸티오페닐기, 3-브로모-4-메틸티오페닐기, 4-(플루오로메틸티오)페닐기, 4-(디플루오로메틸티오)페닐기, 4-(트리플루오로메틸티오)페닐기, 4-(2,2,2-트리플루오로에틸티오)페닐기, 4-(1,1,2,2-테트라플루오로에틸티오)페닐기, 4-(2-플루오로에틸티오)페닐기, 4-디메틸아미노페닐기, 3-메틸-4-디메틸아미노페닐기, 3-에틸-4-디메틸아미노페닐기, 3-플루오로-4-디메틸아미노페닐기, 3-클로로-4-디메틸아미노페닐기, 3-브로모-4-디메틸아미노페닐기, 4-페녹시페닐기, 3-메틸-4-페녹시페닐기, 3-에틸-4-페녹시페닐기, 3-플루오로-4-페녹시페닐기, 3-클로로-4-페녹시페닐기, 3-브로모-4-페녹시페닐기, 4-페닐페닐기, 4-(2-플루오로페닐)페닐기, 4-(3-플루오로페닐)페닐기, 4-(4-플루오로페닐)페닐기, 4-(3,4-디플루오로페닐)페닐기, 4-(2-클로르페닐)페닐기, 4-(3-클로르페닐)페닐기, 4-(4-클로르페닐)페닐기, 4-(3,4-디클로르페닐)페닐기, 4-(2-브로모페닐)페닐기, 4-(3-브로모페닐)페닐기, 4-(4-브로모페닐)페닐기, 4-(2-메틸페닐)페닐기, 4-(3-메틸페닐)페닐기, 4-(4-메틸페닐)페닐기, 4-(2-에틸페닐)페닐기, 4-(3-에틸페닐)페닐기, 4-(4-에틸페닐)페닐기, 4-(2-트리플루오로메틸페닐)페닐기, 4-(3-트리플루오로메틸페닐)페닐기, 4-(4-트리플루오로메틸페닐)페닐기, 4-(2-메톡시페닐)페닐기, 4-(3-메톡시페닐)페닐기, 4-(4-메톡시페닐)페닐기, 4-페닐티오페닐기, 4-(2-플루오로페닐티오)페닐기, 4-(3-플루오로페닐티오)페닐기, 4-(4-플루오로페닐티오)페닐기, 4-(3,4-디플루오로페닐티오)페닐기, 4-(2- 클로르페닐티오)페닐기, 4-(3-클로르페닐티오)페닐기, 4-(4-클로르페닐티오)페닐기, 4-(3,4-디클로르페닐티오)페닐기, 4-(2-브로모페닐티오)페닐기, 4-(3-브로모페닐티오)페닐기, 4-(4-브로모페닐티오)페닐기, 4-(2-메틸페닐티오)페닐기, 4-(3-메틸페닐티오)페닐기, 4-(4-메틸페닐티오)페닐기, 4-(2-에틸페닐티오)페닐기, 4-(3-에틸페닐티오)페닐기, 4-(4-에틸페닐티오)페닐기, 4-(2-트리플루오로메틸페닐티오)페닐기, 4-(3-트리플루오로메틸페닐티오)페닐기, 4-(4-트리플루오로메틸페닐티오)페닐기, 4-(2-메톡시페닐티오)페닐기, 4-(3-메톡시페닐티오)페닐기, 4-(4-메톡시페닐티오)페닐기, 4-벤조일페닐기, 4-(2-플루오로벤조일)페닐기, 4-(3-플루오로벤조일)페닐기, 4-(4-플루오로벤조일)페닐기, 4-(3,4-디플루오로벤조일)페닐기, 4-(2-클로르벤조일)페닐기, 4-(3-클로르벤조일)페닐기, 4-(4-클로르벤조일)페닐기, 4-(3,4-디클로르벤조일)페닐기, 4-(2-브로모벤조일)페닐기, 4-(3-브로모벤조일)페닐기, 4-(4-브로모벤조일)페닐기, 4-(2-메틸벤조일)페닐기, 4-(3-메틸벤조일)페닐기, 4-(4-메틸벤조일)페닐기, 4-(2-에틸벤조일)페닐기, 4-(3-에틸벤조일)페닐기, 4-(4-에틸벤조일)페닐기, 4-(2-트리플루오로메틸벤조일)페닐기, 4-(3-트리플루오로메틸벤조일)페닐기, 4-(4-트리플루오로메틸벤조일)페닐기, 4-(2-메톡시벤조일)페닐기, 4-벤조일옥시페닐기, 4-(2-플루오로벤조일옥시)페닐기, 4-(3-플루오로벤조일옥시)페닐기, 4-(4-플루오로벤조일옥시)페닐기, 4-(3,4-디플루오로벤조일옥시)페닐기, 4-(2-클로르벤조일옥시)페닐기, 4-(3-클로르벤조일옥시)페닐기, 4-(4-클로르벤조일옥시)페닐기, 4-(3,4-디클로르벤조일옥시)페닐기, 4-(2-브로모벤조일옥시)페닐기, 4-(3-브로모벤조일옥시)페닐기, 4-(4-브로모벤조일옥시)페닐기, 4-(2-메틸벤조일옥 시)페닐기, 4-(3-메틸벤조일옥시)페닐기, 4-(4-메틸벤조일옥시)페닐기, 4-(2-에틸벤조일옥시)페닐기, 4-(3-에틸벤조일옥시)페닐기, 4-(4-에틸벤조일옥시)페닐기, 4-(2-트리플루오로메틸벤조일옥시)페닐기, 4-(3-트리플루오로메틸벤조일옥시)페닐기, 4-(4-트리플루오로메틸벤조일옥시)페닐기, 4-(2-메톡시벤조일옥시)페닐기, 4-(3-메톡시벤조일옥시)페닐기, 4-(4-메톡시벤조일옥시)페닐기, 3-메틸-4-페닐페닐기, 3-에틸-4-페닐페닐기, 3-플루오로-4-페닐페닐기, 3-클로로-4-페닐페닐기, 3-브로모-4-페닐페닐기, 4-(트리메틸실릴에티닐)페닐기, 4-(트리에틸실릴에티닐)페닐기, 4-(히드록시메틸)페닐기, 4-(1-히드록시에틸)페닐기, 4-(2-히드록시에틸)페닐기, 4-(3-히드록시프로필)페닐기, 4-(에톡시시아노메틸)페닐기, 4-(메톡시시아노메틸)페닐기, 4-트리메틸실릴페닐기, 4-트리에틸실릴페닐기, 4-트리이소프로필실릴페닐기, 4-(tert-부틸디메틸실릴)페닐기, 인단-5-일기, 1-메틸-인단-5-일기, 2-메틸-인단-5-일기, 3-메틸-인단-5-일기, 1,1-디메틸-인단-5-일기, 2,2-디메틸-인단-5-일기, 3,3-디메틸-인단-5-일기, 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌-6-일기, 1-메틸-1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌-6-일기, 2-메틸-1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌-6-일기, 3-메틸-1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌-6-일기, 4-메틸-1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌-6-일기, 2,2-디메틸-1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌-6-일기, 3,3-디메틸-1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌-6-일기, 2,3-디메틸-1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌-6-일기, 2,2, 3,3-테트라메틸-1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌-6-일기, 6,7,8,9-테트라히드로-5H-벤조시클로헵텐-2-일기, 5,6,7,8,9,10-헥사히드로-벤조시클로옥텐-2-일기, 2-나프틸기, 5-플루오로나프탈렌-2-일기, 6-플루오로나프탈렌-2-일기, 7-플루오로나 프탈렌-2-일기, 8-플루오로나프탈렌-2-일기, 5-클로로나프탈렌-2-일기, 6-클로로나프탈렌-2-일기, 7-클로로나프탈렌-2-일기, 8-클로로나프탈렌-2-일기, 5-브로모나프탈렌-2-일기, 6-브로모나프탈렌-2-일기, 7-브로모나프탈렌-2-일기, 8-브로모나프탈렌-2-일기, 5-메틸나프탈렌-2-일기, 6-메틸나프탈렌-2-일기, 7-메틸나프탈렌-2-일기, 8-메틸나프탈렌-2-일기, 5-메톡시나프탈렌-2-일기, 6-메톡시나프탈렌-2-일기, 7-메톡시나프탈렌-2-일기, 8-메톡시나프탈렌-2-일기, 5-트리플루오로메틸나프탈렌-2-일기, 6-트리플루오로메틸나프탈렌-2-일기, 7-트리플루오로메틸나프탈렌-2-일기, 8-트리플루오로메틸나프탈렌-2-일기, 5,6-디플루오로나프탈렌-2-일기, 5,6-디클로르나프탈렌-2-일기, 5,6-디메틸나프탈렌-2-일기, 5-플루오로-6-메틸나프탈렌-2-일기, 6-플루오로-5-메틸나프탈렌-2-일기, 5-클로르-6-메틸나프탈렌-2-일기, 6-클로로-5-메틸나프탈렌-2-일기, 6-클로로-5-플루오로나프탈렌-2-일기 및 5-클로로-6-플루오로나프탈렌-2-일기.
이하, 본 발명을 제조예, 제제예 및 시험예 등에 의해 더욱 자세하게 설명하지만, 본 발명은 이들 예에만 한정되는 것은 아니다.
우선, 본 발명 화합물의 제조예를 나타낸다.
제조예 1
2-아미노-2-(4-클로로페닐)아세토니트릴염산염 8.0g, 디이소프로필에틸아민 17㎖ 및 테트라히드로푸란 150㎖를 혼합하고, 0∼5℃에서 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산염화물 8.3g과 테트라히드로푸란 30㎖의 혼합물을 첨가하 여, 실온에서 1시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 감압하 농축하고, 물을 첨가하여 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5% 염산, 물, 포화 탄산수소나트륨 수용액 및 포화 식염수로 순차 세정하고, 황산마그네슘에서 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔류물을 실리카 겔 칼럼 정제하여, N-{1-(4-클로로페닐)-1-시아노메틸}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 1이라 함) 8.6g을 얻었다.
제조예 2
N-{1-(4-클로로페닐)-1-시아노메틸}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온아미드 2g, 탄산칼륨 2g, 프로파르길브로미드 1㎖ 및 아세토니트릴 30㎖를 혼합하고, 80℃에서 30분간 교반하였다. 그 후, 실온 부근까지 냉각한 반응 혼합물을 여과하여, 얻어진 여과액을 감압하 농축하고, 잔류물을 실리카 겔 칼럼 정제하여, N-{1-(4-클로로페닐)-1-시아노-3-부테닐}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 2라 함) 0.6g을 얻었다.
제조예 3
2-아미노-2-(4-클로로페닐)아세토니트릴염산염 0.5g, 3-(3,4-디메톡시페닐)프로피온산염화물 0.61g, WSC 0.59g 및 디메틸포름아미드 10㎖를 혼합하고, 80℃에서 3시간 교반하였다. 그 후, 실온 부근까지 냉각한 반응 혼합물을 감압하 농축하고, 물을 첨가하여 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5% 염산, 물, 포화 탄산수소나트륨 수용액 및 포화 식염수로 순차 세정하고, 황산나트륨으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔류물을 실리카 겔 칼럼 정제하여, N-{1-(4-클로로페닐)-1-시아노메틸}-3-(3,4-디메톡시페닐)프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 3이라 함) 0.30g을 얻었다.
제조예 4
2-아미노-2-페닐아세토니트릴염산염 0.33g, 디이소프로필에틸아민 0.88㎖ 및 테트라히드로푸란 10㎖를 혼합하고, 0∼5℃에서 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산염화물 0.50g과 테트라히드로푸란 3㎖의 혼합액을 첨가하고, 이어서 실온에서 1시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 감압하 농축하고, 물을 첨가하여 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5% 염산, 물, 포화 탄산수소나트륨 수용액 및 포화 식염수로 순차 세정하고, 황산나트륨으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔류물을 실리카 겔 칼럼 정제하여, N-(1-페닐-1-시아노메틸)-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 4라 함) 0.39g을 얻었다.
제조예 5
2-아미노-2-(4-메틸페닐)아세토니트릴염산염 0.40g 및 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산염화물 0.50g을 사용해서 제조예 4와 마찬가지의 조작을 행하여, N-{1-(4-메틸페닐)-1-시아노메틸}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 5라 함) 0.54g을 얻었다.
제조예 6
2-아미노-2-(3,4-디클로로페닐)아세토니트릴염산염 0.52g 및 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산염화물 0.50g을 사용해서 제조예 4와 마찬가지의 조작을 행하여, N-{1-(3,4-디클로로페닐)-1-시아노메틸}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 6이라 함) 0.45g을 얻었다.
제조예 7
2-아미노-2-(3-클로로페닐)아세토니트릴염산염 0.52g 및 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산염화물 0.50g을 사용해서 제조예 4와 마찬가지의 조작을 행하여, N-{1-(3-클로로페닐)-1-시아노메틸}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 7이라 함) 0.45g을 얻었다.
제조예 8
2-아미노-2-(4-메톡시페닐)아세토니트릴염산염 0.35g 및 3-{3-메톡시-4-(2- 프로피닐옥시)페닐}프로피온산염산염 0.30g을 사용해서 제조예 4와 마찬가지의 조작을 행하여, N-{1-(4-메톡시페닐)-1-시아노메틸}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 8이라 함) 0.24g을 얻었다.
제조예 9
2-아미노-2-(4-브로모페닐)아세토니트릴염산염 0.73g 및 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산염화물 0.50g을 사용해서 제조예 4와 마찬가지의 조작을 행하여, N-{1-(4-브로모페닐)-1-시아노메틸}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 9라 함) 0.67g을 얻었다.
제조예 10
4-에틸벤즈알데히드 0.53g, 트리메틸실릴시아니드 0.55㎖ 및 요오드화아연 0.03g을 혼합하고, 실온에서 15분간 교반한 후, 여기에 10% 암모니아의 메탄올 용 액 1㎖를 첨가하여, 40℃에서 2시간 교반하였다. 실온까지 냉각한 혼합물을 감압하 농축하고, 얻어진 잔류물에 디이소프로필에틸아민 0.68㎖ 및 테트라히드로푸란 10㎖를 첨가하고, 여기에 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산염화물 0.50g과 테트라히드로푸란 3㎖의 혼합 용액을 0∼5℃에서 첨가하여, 실온에서 1시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물에 물을 첨가하여 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5% 염산, 물, 포화 탄산수소나트륨 수용액 및 포화 식염수로 순차 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔류물을 실리카 겔 칼럼 정제하여, N-{1-(4-에틸페닐)-1-시아노메틸}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 10이라 함) 0.73g을 얻었다.
제조예 11
2-나프토알데히드 1.24g 및 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산염화물 1.0g을 사용해서 제조예 10과 마찬가지의 조작을 행하여, N-{1-(나프탈렌-2-일)-1-시아노메틸}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 11이라 함) 0.92g을 얻었다.
제조예 12
4-플루오로벤즈알데히드 0.49g 및 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산염화물 0.50g을 사용해서 제조예 10과 마찬가지의 조작을 행하여, N-{1-(4-플루오로페닐)-1-시아노메틸}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 12라 함) 0.43g을 얻었다.
제조예 13
4-(트리플루오로메틸)벤즈알데히드 0.69g 및 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산염화물 0.50g을 사용해서 제조예 10과 마찬가지의 조작을 행하여, N-{1-(4-트리플루오로메틸페닐)-1-시아노메틸}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 13이라 함) 0.43g을 얻었다.
제조예 14
5,6,7,8-테트라히드로나프탈렌-2-카르보알데히드 0.65g 및 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산염화물 0.50g을 사용해서 제조예 10과 마찬가지의 조작을 행하여, N-{1-(5,6,7,8-테트라히드로나프탈렌-2-일)-1-시아노메틸}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 14라 함) 0.27g을 얻었다.
제조예 15
5,6,7,8-테트라히드로나프탈렌-2-카르보알데히드 0.65g 및 3-(3,4-디메톡시페닐)프로피온산염화물 0.45g을 사용하여 제조예 10과 마찬가지의 조작을 행하여, N-{1-(5,6,7,8-테트라히드로나프탈렌-2-일)-1-시아노메틸}-3-(3,4-디메톡시페닐)프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 15라 함) 0.21g을 얻었다.
제조예 16
2-아미노-2-(4-클로로페닐)아세토니트릴염산염 406㎎, 3-{3,4-비스(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산 517㎎ 및 피리딘 10㎖를 혼합하고, 이 혼합액에 WSC 420㎎을 첨가하고, 실온에서 1.5시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 물에 첨가하여 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5% 염산, 물, 및 포화 식염수로 순차 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔류물을 실리카 겔 칼럼 정제하여, N-{1-(4-클로로페닐)-1-시아노메틸}-3-{3,4-비스(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 16이라 함) 254㎎을 얻었다.
제조예 17
2-아미노-2-(4-클로로페닐)아세토니트릴염산염 457㎎, 트리에틸아민 379㎎ 및 테트라히드로푸란을 혼합하고, 이 혼합액에 0∼5℃에서 3-{3-에톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산염화물 400㎎을 첨가하고, 실온에서 1.5시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 감압하 농축하고, 물을 첨가하여 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5% 염산, 포화 탄산수소나트륨 수용액, 물, 및 포화 식염수로 순차 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔류물을 실리카 겔 칼럼 정제하여, N-{1-(4-클로로페닐)-1-시아노메틸}-3-{3-에톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 17이라 함) 493㎎을 얻었다.
제조예 18
제조예 16과 마찬가지의 방법으로 2-아미노-2-(4-클로로페닐)아세토니트릴염산염 305㎎ 및 3-{4-메톡시-3-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산 380㎎으로부터, N-{1-(4-클로로페닐)-1-시아노메틸}-3-{4-메톡시-3-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 18이라 함) 144㎎을 얻었다.
제조예 19
제조예 16과 마찬가지의 방법으로 2-아미노-2-(4-클로로페닐)아세토니트릴염 산염 406㎎ 및 3-(3-메톡시-4-에톡시페닐)프로피온산 448㎎으로부터, N-{1-(4-클로로페닐)-1-시아노메틸}-3-(3-메톡시-4-에톡시페닐)프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 19라 함) 300㎎을 얻었다.
제조예 20
제조예 16과 마찬가지의 방법으로 2-아미노-2-(4-클로로페닐)아세토니트릴염산염 406㎎ 및 3-{3-메톡시-4-(2-프로페닐옥시)페닐}프로피온산 476㎎으로부터, N-{1-(4-클로로페닐)-1-시아노메틸}-3-{3-메톡시-4-(2-프로페닐옥시)페닐}프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 20이라 함) 247㎎을 얻었다.
제조예 21
제조예 10과 마찬가지의 방법으로 2-클로로벤즈알데히드 0.56g 및 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산염화물 0.50g으로부터, N-{1-(2-클로로페닐)-1-시아노메틸}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온아미드(이하, 본 발 명 화합물 21이라 함) 0.33g을 얻었다.
제조예 22
2-아미노-2-(4-클로로페닐)아세토니트릴염산염 457㎎, 트리에틸아민 379㎎ 및 테트라히드로푸란 10㎖를 혼합하고, 0∼5℃에서 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}부티르산염화물 400㎎과 테트라히드로푸란 5㎖의 혼합물을 첨가하고, 실온에서 2시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 감압하 농축하고, 물을 첨가하여 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5% 염산, 물, 포화 탄산수소나트륨 수용액 및 포화 식염수로 순차 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔류물을 실리카 겔 칼럼 정제하여, N-{1-(4-클로로페닐)-1-시아노메틸}-3-(3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐)부틸아미드(이하, 본 발명 화합물 22라 함) 460㎎을 얻었다.
제조예 23
제조예 22와 마찬가지의 방법으로, 2-아미노-2-(4-클로로페닐)아세토니트릴염산염 457㎎ 및 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}-2-메틸-프로피온산염화물 400㎎으로부터 N-{1-(4-클로로페닐)-1-시아노메틸}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}-2-메틸프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 23이라 함) 370㎎을 얻었다.
제조예 24
제조예 16과 마찬가지의 방법으로, 2-아미노-2-(4-클로로페닐)아세토니트릴염산염 406㎎ 및 3-(3-메톡시-4-프로폭시페닐)프로피온산 476㎎으로부터 N-{1-(4-클로로페닐)-1-시아노메틸}-3-(3-메톡시-4-프로폭시페닐)프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 24라 함) 380㎎을 얻었다.
제조예 25
제조예 16과 마찬가지의 방법으로, 2-아미노-2-(4-클로로페닐)아세토니트릴 염산염 406㎎ 및 3-(4-이소프로폭시-3-메톡시페닐)프로피온산 477㎎으로부터 N-{1-(4-클로로페닐)-1-시아노메틸}-3-(4-이소프로폭시-3-메톡시페닐)프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 25라 함) 398㎎을 얻었다.
제조예 26
제조예 16과 마찬가지의 방법으로, 2-아미노-2-(4-클로로페닐)아세토니트릴염산염 406㎎ 및 3-(4-아세톡시-3-메톡시페닐)프로피온산 476㎎으로부터 N-{1-(4-클로로페닐)-1-시아노메틸}-3-(4-아세톡시-3-메톡시페닐)프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 26이라 함) 420㎎을 얻었다.
제조예 27
제조예 16과 마찬가지의 방법으로, 2-아미노-2-(4-클로로페닐)아세토니트릴염산염 203㎎ 및 3-{4-(2-플루오로에톡시)-3-메톡시페닐}프로피온산 242㎎으로부터 N-{1-(4-클로로페닐)-1-시아노메틸}-3-{4-(2-플루오로에톡시)-3-메톡시페닐}프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 27이라 함) 155㎎을 얻었다.
제조예 28
제조예 16과 마찬가지의 방법으로, 2-아미노-2-(4-클로로페닐)아세토니트릴염산염 203㎎ 및 3-{4-(2-부티닐옥시)-3-메톡시페닐}프로피온산 248㎎으로부터 N-{1-(4-클로로페닐)-1-시아노메틸}-3-{4-(2-부티닐옥시)-3-메톡시페닐}프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 28이라 함) 155㎎을 얻었다.
제조예 29
제조예 16과 마찬가지의 방법으로, 2-아미노-2-(4-클로로페닐)아세토니트릴염산염 244㎎ 및 3-{3-메톡시-4-(1-메틸-2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산 300㎎으로부터 N-{1-(4-클로로페닐)-1-시아노메틸}-3-{3-메톡시-4-(1-메틸-2-프로피닐옥 시)페닐}프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 29라 함) 207㎎을 얻었다.
제조예 30
4-이소프로필벤즈알데히드 0.74g, 트리메틸실릴시아니드 0.71㎖ 및 요오드화아연 53㎎을 혼합하고, 실온에서 15분간 교반한 후, 여기에 10% 암모니아의 메탄올 용액 8㎖를 첨가하고, 40℃에서 2시간 교반하였다. 실온 부근까지 냉각한 혼합물을 감압하 농축하고, 얻어진 잔류물에 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산 0.7g 및 피리딘 5㎖를 첨가하고, 여기에 WSC 0.7g을 첨가하고, 실온에서 4시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물에 물을 첨가하여 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5% 염산, 물, 포화 탄산수소나트륨 수용액 및 포화 식염수로 순차 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔류물을 실리카 겔 칼럼 정제하여, N-{1-(4-이소프로필페닐)-1-시아노메틸}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 30이라 함) 0.93g을 얻었다.
제조예 31
제조예 30과 마찬가지의 방법으로, 4-시아노벤즈알데히드 656㎎ 및 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산 0.7g으로부터 N-{1-(4-시아노페닐)-1-시아노메틸}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 31이라 함) 480㎎을 얻었다.
제조예 32
제조예 30과 마찬가지의 방법으로, 4-트리플루오로메톡시벤즈알데히드 951㎎ 및 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산 0.7g으로부터 N-{1-(4-트리플루오로메톡시페닐)-1-시아노메틸}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 32라 함) 0.93g을 얻었다.
제조예 33
제조예 30과 마찬가지의 방법으로, 4-메틸티오벤즈알데히드 0.76g 및 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산 0.7g으로부터 N-{1-(4-메틸티오페닐)-1-시아노메틸}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 33이라 함) 608㎎을 얻었다.
제조예 34
제조예 30과 마찬가지의 방법으로, 4-디메틸아미노벤즈알데히드 0.75g 및 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산 0.7g으로부터 N-{1-(4-디메틸아미노페닐)-1-시아노메틸}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 34라 함) 75㎎을 얻었다.
제조예 35
제조예 30과 마찬가지의 방법으로, 2,4-디클로로벤즈알데히드 0.88g 및 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산 0.7g으로부터 N-{1-(2,4-디클로로페닐)-1-시아노메틸}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 35라 함) 0.39g을 얻었다.
제조예 36
제조예 30과 마찬가지의 방법으로, 4-클로로-2-플루오로벤즈알데히드 951㎎ 및 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산 0.7g으로부터 N-{1-(4-클로로-2-플루오로페닐)-1-시아노메틸}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 36이라 함) 315㎎을 얻었다.
본 발명 화합물 36
제조예 37
제조예 30과 마찬가지의 방법으로, 2,4-디플루오로벤즈알데히드 0.71g 및 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산 0.7g으로부터 N-{1-(2,4-디플루오로페닐)-1-시아노메틸}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 37이라 함) 0.72g을 얻었다.
제조예 38
제조예 30과 마찬가지의 방법으로, 4-페녹시벤즈알데히드 0.99g 및 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산 0.7g으로부터 N-{1-(4-페녹시페닐)-1-시아노메틸}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 38이라 함) 0.45g을 얻었다.
제조예 39
제조예 30과 마찬가지의 방법으로, 4-페닐벤즈알데히드 0.91g 및 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산 0.7g으로부터 N-{1-(비페닐-4-일)-1-시아노메틸}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 39라 함) 242㎎을 얻었다.
제조예 40
제조예 16과 마찬가지의 방법으로, 2-아미노-2-(4-클로로페닐)프로피오니트릴염산염 0.50g, 3-{3,4-비스(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산 0.49g으로부터 N-{1-(4-클로로페닐)-1-시아노에틸}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 40이라 함) 0.55g을 얻었다.
제조예 41
제조예 30과 마찬가지의 방법으로, 인단-5-카르보알데히드 731㎎ 및 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산 0.7g으로부터 N-{1-(인단-5-일)-1-시아노메틸}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 41이라 함) 250㎎을 얻었다.
제조예 42
2-아미노-2-(4-브로모페닐)아세토니트릴염산염 0.23g 및 2-플루오로-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산 0.20g, WSC 0.18g, 디메틸포름아미드 10㎖ 및 피리딘 1㎖를 혼합하고, 실온에서 3시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물에 물을 첨가하여 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5% 염산으로 2회, 물, 포화 탄산수소나트륨 수용액 및 포화 식염수로 순차 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔류물을 실리카 겔 칼럼 정제하여 N-{1-(4-브로모페닐)-1-시아노메틸}-2-플루오로-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 42라 함) 0.27g을 얻었다.
제조예 43
2-아미노-2-(4-메틸페닐)아세토니트릴염산염 0.59g 및 2-플루오로-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산염화물 0.50g을 사용하여 제조예 4와 마찬가지의 조작을 행하여, N-{1-(4-메틸페닐)-1-시아노메틸}-2-플루오로-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 43이라 함) 0.34g을 얻었다.
제조예 44
제조예 30과 마찬가지의 방법으로, 4-디플루오로메톡시벤즈알데히드 0.55g 및 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산 0.50g으로부터 N-{1-(4-디플루오로메톡시페닐)-1-시아노메틸}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 44라 함) 0.59g을 얻었다.
제조예 45
4-브롬벤즈알데히드 0.59g, 트리메틸실릴시아니드 0.46㎖ 및 요오드화아연 34㎎을 혼합하고, 실온에서 20분간 교반한 후, 여기에 40% 메틸아민의 메탄올 용액 4㎖를 첨가하고, 40℃에서 2시간 교반하였다. 실온 부근까지 냉각한 혼합물을 감압하 농축하고, 얻어진 잔류물에 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산 0.50g 및 디메틸포름아미드 10㎖ 및 피리딘 1㎖를 첨가하고, 여기에 WSC 0.45g을 첨가하고, 실온에서 4시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물에 물을 첨가하여 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5% 염산으로 3회, 물, 포화 탄산수소나트륨 수용액 및 포화 식염수로 순차 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔류물을 실리카 겔 칼럼 정제하여, N-{1-(4-브롬페닐)-1-시아노메틸}-N-메틸-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 45라 함) 0.24g을 얻었다.
제조예 46
제조예 30과 마찬가지의 방법으로, 4-요오드벤즈알데히드 1.0g 및 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산 0.50g으로부터 N-{1-(4-요오드페닐)-1-시아노메틸}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 46이라 함) 0.60g을 얻었다.
제조예 47
제조예 30과 마찬가지의 방법으로, 4-n-부틸벤즈알데히드 0.52g 및 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산 0.50g으로부터 N-{1-(4-부틸페닐)-1-시아노메틸}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 47이라 함) 0.28g을 얻었다.
제조예 48
제조예 30과 마찬가지의 방법으로, 4-(트리메틸실릴에티닐)벤즈알데히드 2.1g 및 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산 1.0g으로부터 N-[1-{4-(트리메틸실릴에티닐)페닐}-1-시아노메틸]-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 48이라 함) 1.2g을 얻었다.
제조예 49
N-[1-{4-(트리메틸실릴에티닐)페닐}-1-시아노메틸]-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온아미드 0.77g, 탄산칼륨 1.0g 및 메탄올 10㎖를 전체 환류하에서 3시간 교반하였다. 혼합물을 냉각 후, 여과하여 감압하에서 용매를 증류 제거하고, 잔류물을 실리카 겔 칼럼 정제하여, N-{1-(4-에티닐페닐)-1-시아노메틸}- 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 49라 함) 0.1g을 얻었다.
제조예 50
4-디에톡시메틸벤즈알데히드 2.66g, 트리메틸실릴시아니드 1.82㎖ 및 요오드화아연 0.14g을 혼합하고, 실온에서 20분간 교반한 후, 여기에 10% 암모니아의 메탄올 용액 20㎖를 첨가하고, 40℃에서 2시간 교반하였다. 실온 부근까지 냉각한 혼합물을 감압하 농축하고, 얻어진 잔류물에 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산 2.0g 및 디메틸포름아미드 50㎖ 및 피리딘 3㎖를 첨가하고, 여기에 WSC 1.8g을 첨가하고, 실온에서 4시간 교반하였다. 그 후, 얻어진 혼합물에 5% 염산 5㎖를 첨가하여 실온에서 1시간 교반하고, 물을 첨가하여 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5% 염산으로 3회, 물, 포화 탄산수소나트륨 수용액 및 포화 식염수로 순차 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 얻어진 잔류물 1.8g에 수소화붕소나트륨 0.09g 및 메탄올 30㎖를 혼합하고, 실온에서 1시간 교반하였다. 그 후, 혼합물에 포화 염화암모늄수를 첨가하여 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 포화 탄산수소나트륨 수용액 및 포화 식염수로 순차 세정하고, 황 산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔류물을 실리카 겔 칼럼 정제하여, N-[1-(4-{히드록시메틸}페닐)-1-시아노메틸]-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 50이라 함) 0.79g 및 N-[1-4-{(에톡시)시아노메틸}페닐]-1-시아노메틸}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 51이라 함) 0.32g을 얻었다.
본 발명 화합물 50
본 발명 화합물 51
제조예 51
제조예 30과 마찬가지의 방법으로, 4-시클로프로필벤즈알데히드 0.47g 및 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산 0.50g으로부터 N-{1-(4-시클로프로필페닐)-1-시아노메틸}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 52라 함) 0.49g을 얻었다.
제조예 52
제조예 30과 마찬가지의 방법으로, 4-클로로-3-플루오로벤즈알데히드 0.51g 및 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산 0.50g으로부터 N-{1-(4-클로로-3-플루오로페닐)-1-시아노메틸}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 53이라 함) 0.29g을 얻었다.
제조예 53
제조예 30과 마찬가지의 방법으로, 4-t-부틸벤즈알데히드 0.52g 및 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산 0.50g으로부터 N-{1-(4-tert-부틸페닐)-1-시아노메틸}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 54라 함) 0.53g을 얻었다.
제조예 54
제조예 30과 마찬가지의 방법으로, 4-트리플루오로메틸티오벤즈알데히드 0.62g 및 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산 0.50g으로부터 N-{1-(4-트리플루오로메틸티오페닐)-1-시아노메틸}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 55라 함) 0.48g을 얻었다.
제조예 55
제조예 30과 마찬가지의 방법으로, 3-트리플루오로메틸벤즈알데히드 0.56g 및 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산 0.50g으로부터 N-{1-(3-트리플루오로메틸페닐)-1-시아노메틸}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 56이라 함) 0.48g을 얻었다.
제조예 56
제조예 30과 마찬가지의 방법으로, 4-(1,1,2,2-테트라플루오로에톡시)벤즈알데히드 0.71g 및 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산 0.50g으로부터 N-{1-(1,1,2,2-테트라플루오로에톡시)페닐)-1-시아노메틸}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 57이라 함) 0.43g을 얻었다.
제조예 57
2-아미노-2-(4-클로로페닐)아세토니트릴염산염 0.21g, WSC 0.25g, 3-{5-플루오로-3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산 0.3g, 디메틸포름아미드 10㎖ 및 피리딘 1㎖의 혼합물을 50℃에서 4시간 교반하였다. 그 후, 물을 첨가하여 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5% 염산, 물, 포화 탄산수소나트륨 수용액 및 포화 식염수로 순차 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔류물을 실리카 겔 칼럼 정제하여, N-{1-(4-클로로페닐)-1-시아노메틸}-3-(5-플루오로-3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐)프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 58이라 함) 0.15g을 얻었다.
제조예 58
제조예 30과 마찬가지의 방법으로, 3-플루오로-4-메틸벤즈알데히드 0.62g 및 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산 0.50g으로부터 N-{1-(3-플루오로-4-메틸페닐)-1-시아노메틸}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 59라 함) 0.35g을 얻었다.
제조예 59
제조예 57과 마찬가지의 방법으로, 2-아미노-2-(4-클로로페닐)아세토니트릴 염산염 0.19g, 3-{6-클로르-3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산으로부터 N-{1-(6-클로르-4-메틸페닐)-1-시아노메틸}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 60이라 함) 0.15g을 얻었다.
본 발명 화합물 60
제조예 60
제조예 30과 마찬가지의 방법으로, 4-트리메틸실릴벤즈알데히드 0.58g 및 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산 0.50g으로부터 N-{1-(4-트리메틸실릴페닐)-1-시아노메틸}-3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 61이라 함) 0.25g을 얻었다.
제조예 61
N-{1-(4-클로로페닐)-1-시아노메틸}-3-(3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐)프 로피온아미드(본 발명 화합물 1) 0.64g을 고속 액체 크로마토그래피(칼럼: CHIRALPAK AD(2㎝Φ×25㎝), 칼럼 온도: 실온, 이동층: 헥산/2-프로판올/트리플루오로아세트산 = 70/30/0.1, 유속 6㎖/분)를 행함으로서 광학 이성체를 분리하고, (+)-N-{1-(4-클로로페닐)-1-시아노메틸}-3-(3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐)프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 62라 함) 0.27g 및 (-)-N-{1-(4-클로로페닐)-1-시아노메틸}-3-(3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐)프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 63이라 함) 0.27g을 얻었다.
본 발명 화합물 62
비선광도:[α]D 22 +6.3도(C1.0, 클로로포름)
본 발명 화합물 63
비선광도:[α]D 22 -6.4도(C1.0, 클로로포름)
제조예 62
제조예 16과 마찬가지의 방법으로, 2-아미노-2-(4-브롬페닐)아세토니트릴염산염 0.36g 및 3-(3-메톡시-4-에톡시페닐)프로피온산 0.30g으로부터 N-{1-(4-브롬페닐)-1-시아노메틸}-3-(3-메톡시-4-에톡시페닐)프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 64라 함) 0.34g을 얻었다.
제조예 63
제조예 16과 마찬가지의 방법으로, 2-아미노-2-(4-메틸페닐)아세토니트릴염산염 0.27g 및 3-(3-메톡시-4-에톡시페닐)프로피온산 0.30g으로부터 N-{1-(4-메틸페닐)-1-시아노메틸}-3-(3-메톡시-4-에톡시페닐)프로피온아미드(이하, 본 발명 화합물 65라 함) 0.24g을 얻었다.
다음으로, 중간체의 제조에 관하여 참고예로서 기술한다.
참고예 1
3-(4-히드록시-3-메톡시페닐)아크릴산 50g, 5% 팔라듐탄소 0.5g, 36% 염산 약 0.05g, 에탄올 250㎖ 및 테트라히드로푸란 100㎖를 혼합하고, 수소 분위기하에서 교반하였다. 수소가스의 흡수가 정지한 후 반응 혼합물을 여과하고, 여과액을 감압하 농축하여 3-(4-히드록시-3-메톡시페닐)프로피온산 52g을 얻었다.
참고예 2
3-(4-히드록시-3-메톡시페닐)프로피온산 50g, 브롬화프로파르길 50㎖, 탄산칼륨 88g 및 아세토니트릴 500㎖를 혼합하고, 80℃에서 3시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 실온 부근까지 냉각하고, 아세트산에틸을 첨가하여 여과하였다. 여과액을 감압하 농축하여 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산 2-프로피닐 67g을 얻었다.
참고예 3
3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산 2-프로피닐 67g, 수산화리튬 8.08g, 테트라히드로푸란 400㎖ 및 물 200㎖를 혼합하고, 65℃에서 3시간 교반 하였다. 그 후, 반응 혼합물을 실온 부근까지 냉각하고 나서 물을 첨가하여 감압하 농축하였다. 잔류물에 5% 염산을 첨가하여 클로로포름으로 3회 추출하였다. 유기층을 황산 마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔류물을 헥산으로 세정하여, 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산 51g을 얻었다.
참고예 4
3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산 12.7g, 염화티오닐 4.3㎖, 톨루엔 100㎖ 및 N,N-디메틸포름아미드 약 0.05g을 혼합하고, 80℃에서 30분간 교반하였다. 그 후, 실온 부근까지 냉각한 반응 혼합물을 감압하 농축하여, 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산염화물 14.6g을 얻었다.
참고예 5
3-에톡시-4-히드록시벤즈알데히드 25g, 브롬화벤질 27g, 탄산칼륨 25g 및 아세토니트릴 250㎖를 혼합하고, 환류하에서 3시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물 을 실온까지 냉각하고 나서, 아세트산에틸을 첨가하고 여과하였다. 얻어진 여과액을 감압하 농축하고, 잔류물을 tert-부틸메틸에테르와 헥산으로 세정하여, 4-벤질옥시-3-에톡시벤즈알데히드 36g을 얻었다.
참고예 6
디에틸포스포노아세트산에틸 19g 및 테트라히드로푸란 400㎖를 혼합하고, 여기에 빙냉하에서 수소화나트륨(함량 60%) 3.3g을 첨가하여 10분간 교반하였다. 이어서, 4-벤질옥시-3-에톡시벤즈알데히드 20g과 테트라히드로푸란 50㎖의 혼합물을 빙냉하에서 서서히 첨가하고, 실온에서 1시간 교반하였다. 얻어진 혼합물에 물을 첨가하여 감압하 농축한 후, 아세트산에틸로 추출하였다. 얻어진 유기층을 물, PH 6.8 완충액, 이어서 포화 식염수로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후 감압하 농축하고, 얻어진 잔류물을 헥산으로 세정하여, 3-{3-에톡시-4-(벤질옥시)페닐}아크릴산에틸 25g을 얻었다.
참고예 7
3-{3-에톡시-4-(벤질옥시)페닐}아크릴산에틸 23g, 5% 팔라듐탄소 0.2g, 36% 염산 약 0.04g, 에탄올 120㎖ 및 테트라히드로푸란 100㎖를 혼합하고, 수소 분위기하에서 교반하였다. 수소 가스의 흡수가 정지한 후 반응 혼합물을 여과하고, 얻어진 여과액을 감압하 농축하여 잔류물을 헥산으로 세정하여, 3-(4-히드록시-3-에톡시페닐)프로피온산에틸 17g을 얻었다.
3-(4-히드록시-3-에톡시페닐)프로피온산에틸
참고예 8
3-(4-히드록시-3-에톡시페닐)프로피온산에틸 16.2g, 브롬화프로파르길 7.3㎖, 탄산칼륨 13.2g 및 아세토니트릴 160㎖를 혼합하고, 80℃에서 2시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 실온 부근까지 냉각하고, 아세트산에틸을 첨가하여 여과하였다. 얻어진 여과액을 감압하 농축하여, 3-{3-에톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산에틸 18.8g을 얻었다.
참고예 9
3-{3-에톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산에틸 28.7g, 수산화리튬 2.3g, 테트라히드로푸란 180㎖ 및 물 60㎖를 혼합하고, 65℃에서 3시간 교반하였다. 그 후, 실온 부근까지 냉각한 반응 혼합물에 물을 첨가하여 감압하에서 농축하였다. 혼합물을 tert-부틸메틸에테르로 세정하고, 얻어진 수층에 5% 염산을 첨가하여 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 포화 식염수로 세정 후, 황산마그네슘으로 건조한 후 감압하 농축하였다. 잔류물을 헥산으로 세정하여, 3-{3-에톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산 15.5g을 얻었다.
참고예 10
3-{3-에톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산 6.7g, 염화티오닐 3.2㎖, 톨루엔 100㎖ 및 N,N-디메틸포름아미드 약 0.03g을 혼합하고, 80℃에서 30분간, 이 어서 100℃에서 30분간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 실온 부근까지 냉각하고 나서 감압하 농축하여, 3-{3-에톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산염화물 17.5g을 얻었다.
참고예 11
4-아세틸-2-메톡시페놀 30g, 브롬화벤질 32g, 탄산칼륨 28g 및 아세토니트릴 300㎖를 혼합하고, 환류하에서 4시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 실온까지 냉각하고 나서 아세트산에틸을 첨가하고, 여과하였다. 얻어진 여과액을 감압하 농축하고, 잔류물을 헥산으로 세정하여, 4-벤질옥시-3-메톡시아세토페논 46g을 얻었다.
참고예 12
디에틸포스포노아세트산에틸 18g 및 테트라히드로푸란 400㎖를 혼합하고, 빙냉하에서 수소화나트륨(함량 60%) 3.2g을 첨가하여 10분간 교반하였다. 이어서 4-벤질옥시-3-메톡시아세토페논 20g과 테트라히드로푸란 50㎖의 혼합물을 빙냉하에서 서서히 첨가하고, 실온에서 2시간 교반하였다. 얻어진 혼합물에 물을 첨가하여 감압하 농축한 후, 아세트산에틸로 추출하였다. 얻어진 유기층을 물, 이어서 포화 식염수로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후 감압하 농축하고, 얻어진 잔류물을 실리카 겔 칼럼으로 정제하여, 3-(3-메톡시-4-벤질옥시페닐)부텐산에틸 17g을 얻었다.
참고예 13
3-(3-메톡시-4-벤질옥시페닐)부텐산에틸 10.0g, 10% 팔라듐탄소 1.0g, 농염산 15㎖, 10% 백금탄소 0.5g 및 에탄올 100㎖를 혼합하고, 수소 분위기하에서 교반하였다. 수소 가스의 흡수가 정지한 후, 반응 혼합물을 여과하고 여과액을 감압하 농축하였다. 잔류물을 아세트산에틸로 세정하여, 3-(4-히드록시-3-메톡시페닐)부티르산에틸 7.24g을 얻었다.
참고예 14
3-(4-히드록시-3-메톡시페닐)부티르산에틸 7.14g, 브롬화벤질 3.93g, 탄산칼륨 4.98g 및 아세토니트릴 50㎖를 혼합하고, 80℃에서 4시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 실온 부근까지 냉각하고, 물을 첨가하여 아세트산에틸로 추출하였다. 얻어진 유기층을 물, 포화 식염수로 순차 세정하고, 황산 마그네슘으로 건조한 후 감압하 농축하여, 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}부티르산에틸 8.3g을 얻었다.
참고예 15
3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}부티르산에틸 8.0g, 수산화리튬 1.04g, 테트라히드로푸란 40㎖ 및 물 15㎖를 혼합하고, 65℃에서 4시간 교반하였다. 그 후, 실온 부근까지 냉각한 반응 혼합물에 물을 첨가하여 감압하 농축하였다. 잔류물에 5% 염산을 첨가하고, 클로로포름으로 3회 추출하여, 유기층을 물 및 포화 식염수로 순차 세정하였다. 유기층을 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔류물을 헥산으로 세정하여, 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}부티르산 7.0g을 얻었다.
참고예 16
3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}부티르산 7.0g, 염화티오닐 5.0g 및 톨루엔 100㎖를 혼합하고, 50℃에서 30분간 교반하고, 이어서 80℃에서 3시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 실온 부근까지 냉각하고 나서 감압하 농축하였다. 잔류물을 헥산으로 세정하여, 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}부티르산염화물 6.3g을 얻었다.
참고예 17
4-벤질옥시-3-메톡시벤즈알데히드 30g, 프로피온산나트륨 12g 및 무수프로피온산 24g을 혼합하고, 150℃에서 6시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 실온까지 냉각하고 나서 물을 첨가하여 아세트산에틸로 추출하였다. 얻어진 유기층을 5% 염산, 이어서 포화 식염수로 2회 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 얻어진 잔류물을 톨루엔 및 헥산으로 세정하여, 3-(3-메톡시-4-벤질 옥시페닐)-2-메틸아크릴산 28g을 얻었다.
참고예 18
에탄올 75㎖와 염화아세틸 9㎖를 혼합하고 실온에서 10분간 교반한 혼합물에, 3-(3-메톡시-4-벤질옥시페닐)-2-메틸아크릴산 8.3g을 첨가하고, 환류하에서 2시간 교반하였다. 반응 혼합물을 실온 부근까지 냉각하고 나서 여과하고, 얻어진 여과액을 감압하 농축하였다. 얻어진 잔류물에, 10% 팔라듐탄소 1.0g, 10% 백금탄소 0.5g, 36% 염산 15㎖ 및 에탄올 80㎖를 혼합하고, 수소 분위기하에서 교반하였다. 수소 가스의 흡수가 정지한 후, 반응 혼합액을 여과하고, 얻어진 여과액을 감압하 농축하였다. 잔류물을 헥산으로 세정하여, 3-(4-히드록시-3-메톡시페닐)-2-메틸프로피온산에틸 5.4g을 얻었다.
참고예 19
참고예 14와 마찬가지의 방법으로, 3-(3-히드록시-4-메톡시페닐)-2-메틸프로 피온산에틸 5.4g으로부터 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}-2-메틸프로피온산에틸 6.8g을 얻었다.
참고예 20
참고예 15와 마찬가지의 방법으로, 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}-2-메틸프로피온산에틸 6.50g으로부터 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}-2-메틸프로피온산 5.33g을 얻었다.
참고예 21
참고예 16과 마찬가지의 방법으로, 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}-2-메틸프로피온산 5.03g으로부터 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}-2-메틸프로피온산염화물 5.09g을 얻었다.
참고예 22
4-히드록시-3-메톡시벤즈알데히드 20g, 아세트산나트륨 21g 및 무수아세트산 40g을 혼합하고, 150℃(욕온)에서 6시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 실온까지 냉각하고 나서 물을 첨가하여 아세트산에틸로 추출하였다. 얻어진 유기층을 물로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 얻어진 잔류물에 톨루엔을 첨가하여 여과하였다. 얻어진 고체를 톨루엔 및 헥산으로 세정 후, 건조하여 3-(3-메톡시-4-아세톡시페닐)아크릴산 14g을 얻었다.
참고예 23
참고예 18과 마찬가지의 방법으로, 3-(3-메톡시-4-아세톡시페닐)아크릴산 10g으로부터 3-(3-메톡시-4-아세톡시페닐)프로피온산 9.7g을 얻었다.
참고예 24
4-벤질옥시-3-메톡시벤즈알데히드 100g, 디에틸포스포노아세트산에틸 120g, 탄산칼륨 570g 및 물 570㎖를 혼합하고, 환류하에서 20시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 실온까지 냉각하고 나서 물을 첨가하여 아세트산에틸로 2회 추출하였다. 얻어진 유기층을 물 이어서 포화 식염수로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 얻어진 잔류물을 에탄올로부터 재결정하여, 3-{3-메톡시-4-(벤질옥시)페닐}아크릴산에틸 58.6g을 얻었다.
참고예 25
3-{3-메톡시-4-(벤질옥시)페닐}아크릴산에틸 33g, 5% 팔라듐탄소 0.3g, 36% 염산 약 0.05g 및 에탄올 200㎖를 혼합하고, 수소 분위기하에서 교반하였다. 수소 가스의 흡수가 정지한 후, 반응 혼합물을 여과하고, 여과액을 감압하 농축하였다. 잔류물에 아세트산에틸과 물을 첨가하여 분액하였다. 얻어진 유기층을 황산마그네 슘으로 건조한 후, 활성탄 약 5g 및 가성백토 약 5g을 첨가하여 여과하고, 여과액을 감압하 농축하였다. 잔류물을 헥산으로 세정하여, 3-(4-히드록시-3-메톡시페닐)프로피온산에틸 23g을 얻었다.
참고예 26
3-히드록시-4-메톡시벤즈알데히드 15.2g, 브롬화벤질 18.0g, 탄산칼륨 15.2g 및 아세토니트릴 200㎖를 혼합하고, 800℃에서 3시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 실온 부근까지 냉각하고, 아세트산에틸을 첨가하여 여과하였다. 여과액을 감압하 농축하고, 잔류물을 실리카 겔 칼럼으로 정제하여, (3-벤질옥시-4-메톡시)벤즈알데히드 23.3g을 얻었다.
참고예 27
수소화나트륨 2.1g 및 테트라히드로푸란 150㎖를 0∼5℃에서 혼합하고, 디에틸포스포노아세트산에틸 11.2g을 조금씩 적하하였다. 적하 후, 실온에서 30분간 교반하였다. 이어서, (3-벤질옥시-4-메톡시)벤즈알데히드 12.1g의 테트라히드로푸 란 혼합액을 적하하고, 0∼5℃에서 15분간 교반하고, 실온에서 30분간 교반하였다. 그 후, 물을 첨가하여 아세트산에틸로 분액하고, 유기층을 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔류물을 헥산 세정하여, 3-(3-벤질옥시-4-메톡시페닐)아크릴산에틸 14.1g을 얻었다.
참고예 28
3-(3-벤질옥시-4-메톡시페닐)아크릴산에틸 8.0g, 10% 팔라듐탄소 0.8g 및 에탄올 80㎖를 혼합하고, 수소 분위기하에서 교반하였다. 수소 가스의 흡수가 정지한 후, 반응 혼합물을 여과하고, 여과액을 감압하 농축하였다. 잔류물을 헥산으로 세정하여, 3-(3-히드록시-4-메톡시페닐)프로피온산에틸 5.53g을 얻었다.
참고예 29
참고예 14와 마찬가지의 방법으로, 3-(3-히드록시-4-메톡시페닐)프로피온산 에틸 2.24g으로부터 3-{4-메톡시-3-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산에틸 2.53g을 얻었다.
참고예 30
참고예 15와 마찬가지의 방법으로, 3-{4-메톡시-3-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산에틸 2.53g으로부터 3-{4-메톡시-3-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산 1.93g을 얻었다.
참고예 31
3,4-디히드록시벤즈알데히드 10.36g, 브롬화벤질 25.65g, 탄산칼륨 22.8g 및 N,N-디메틸포름알데히드 200㎖를 혼합하고, 실온에서 3시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물에 물을 첨가하여 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5% 염산, 물, 포화 식염수로 순차 세정하고, 탄산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔류물을 헥산으로 세정하여, 3,4-비스(벤질옥시)벤즈알데히드 23.27g을 얻었다.
참고예 32
수소화나트륨 1.88g 및 테트라히드로푸란 150㎖를 0∼5℃에서 혼합하고, 디에틸포스포노아세트산에틸 10.0g을 조금씩 적하하였다. 적하 후, 실온에서 30분간 교반하였다. 이어서, 3,4-비스(벤질옥시)벤즈알데히드 114.3g의 테트라히드로푸란 혼합액을 적하하고, 0∼5℃에서 15분간 교반하고, 실온에서 30분간 교반하였다. 그 후, 물을 첨가하여 아세트산에틸로 분액하고, 유기층을 5% 염산, 물, 포화 식염수로 순차 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔류물을 헥산 세정하여, 3-{3,4-비스(벤질옥시)페닐}아크릴산에틸 16.54g을 얻었다.
참고예 33
3-{3,4-비스(벤질옥시)페닐}아크릴산에틸 10.0g, 10% 팔라듐탄소 0.5g 및 에탄올 150㎖를 혼합하고, 수소 분위기하에서 교반하였다. 수소 가스의 흡수가 정지한 후, 반응 혼합물을 여과하고, 여과액을 감압하 농축하였다. 잔류물을 헥산으로 세정하여, 3-(3,4-디히드록시페닐)프로피온산에틸 5.17g을 얻었다.
참고예 34
3-(3,4-디히드록시페닐)프로피온산에틸 5.17g, 브롬화프로파르길 5.85g, 탄산칼륨 7.48g 및 아세토니트릴 60㎖를 혼합하고, 80℃에서 3시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 실온 부근까지 냉각하고, 물을 첨가하여 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5% 염산, 물, 포화 식염수로 순차 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후 감압하 농축하여, 3-{3,4-비스(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산에틸 6.49g을 얻었다.
참고예 35
3-{3,4-비스(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산에틸 6.17g, 수산화리튬 0.77g, 테트라히드로푸란 30㎖ 및 물 15㎖를 혼합하고, 65℃에서 3시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합액을 실온 부근까지 냉각하고 나서 감압하 농축하였다. 잔류물에 5% 염산을 첨가하여, 클로로포름으로 3회 추출하였다. 유기층을 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔류물을 헥산으로 세정하여, 3-{3,4-비스(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산 4.59g을 얻었다.
참고예 36
3-(4-히드록시-3-메톡시페닐)프로피온산에틸 2.24g, 요오드화에틸 1.72g, 탄산칼륨 1.66g 및 N,N-디메틸포름알데히드 50㎖를 혼합하고, 실온에서 4시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물에 물을 첨가하여 tert-부틸메틸에테르로 추출하였다. 유기층을 5% 염산, 물, 포화 식염수로 순차 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하여, 3-{4-에톡시-3-메톡시페닐}프로피온산에틸 2.52g을 얻었다.
참고예 37
3-{4-에톡시-3-메톡시페닐}프로피온산에틸 2.52g, 25% 수산화나트륨수용액 3.2㎖를 혼합하고, 에탄올을 혼합액이 균일해질 때까지 첨가하여, 78℃에서 2시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합액을 감압하 농축하였다. 잔류물에 5% 염산을 첨가하여, 클로로포름으로 3회 추출하였다. 유기층을 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔류물을 헥산으로 세정하여, 3-{4-에톡시-3-메톡시페닐}프로피온산 1.80g을 얻었다.
참고예 38
3-(4-히드록시-3-메톡시페닐)프로피온산에틸 2.24g, 요오드화프로필 1.87g, 탄산칼륨 1.66g 및 N,N-디메틸포름알데히드 50㎖를 혼합하고, 실온에서 2시간 교반하고, 이어서 80℃에서 1시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물에 물을 첨가하여 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5% 염산, 물, 포화 식염수로 순차 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하여, 3-(3-메톡시-4-프로폭시페닐)프로피온산에틸 2.33g을 얻었다.
참고예 39
3-(3-메톡시-4-프로폭시페닐)프로피온산에틸 2.33g, 25% 수산화나트륨 수용액 2.8㎖를 혼합하고, 에탄올을 혼합액이 거의 균일해질 때까지 첨가하여, 78℃에서 2시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합액을 실온 부근까지 냉각하고 나서 감압하 농축하였다. 잔류물에 5% 염산을 첨가하여, 클로로포름으로 3회 추출하였다. 유기층을 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔류물을 헥산으로 세정하여, 3-(3-메톡시-4-프로폭시페닐)프로피온산 1.72g을 얻었다.
참고예 40
3-(4-히드록시-3-메톡시페닐)프로피온산에틸 2.24g, 브롬화알릴 1.33g, 탄산칼륨 1.66g 및 N,N-디메틸포름알데히드 50㎖를 혼합하여, 실온에서 2시간 교반하고, 이어서 80℃에서 4시간 교반하였다. 실온 부근까지 냉각한 반응 혼합물에 물을 첨가하여 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5% 염산, 물, 포화 식염수로 순차 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하여, 3-{3-메톡시-4-(2-프로페닐옥시)페닐}프로피온산에틸 2.40g을 얻었다.
참고예 41
3-{3-메톡시-4-(2-프로페닐옥시)페닐}프로피온산에틸 2.40g, 25% 수산화나트륨 수용액 2.9㎖를 혼합하고, 에탄올을 혼합액이 거의 균일해질 때까지 첨가하여, 환류하에서 2시간 교반하였다. 그 후, 실온 부근까지 냉각한 반응 혼합물을 감압하 농축하였다. 잔류물에 5% 염산을 첨가하여 클로로포름으로 3회 추출하였다. 유기층을 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔류물을 헥산으로 세정하여, 3-{3-메톡시-4-(2-프로페닐옥시)페닐}프로피온산 1.60g을 얻었다.
참고예 42
3-(4-히드록시-3-메톡시페닐)프로피온산에틸 2.24g, 브롬화이소프로필 1.35g, 탄산칼륨 1.66g 및 N,N-디메틸포름알데히드 50㎖를 혼합하여, 실온에서 2시간, 이어서 80℃에서 4시간 교반하였다. 실온 부근까지 냉각한 반응 혼합물에 물을 첨가하여 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5% 염산, 물, 포화 식염수로 순차 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하여, 3-(4-이소프로폭시-3-메톡시페닐)프로피온산에틸 1.19g을 얻었다.
참고예 43
3-(4-이소프로폭시-3-메톡시페닐)프로피온산에틸 1.19g, 25% 수산화나트륨 수용액 1.1㎖를 혼합하고, 에탄올을 혼합액이 거의 균일해질 때까지 첨가하여, 78℃에서 2시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합액을 감압하 농축하였다. 잔류물에 5% 염산을 첨가하여 클로로포름으로 3회 추출하였다. 유기층을 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔류물을 헥산으로 세정하여, 3-(4-이소프로폭시-3-메톡시페닐)-프로피온산 0.98g을 얻었다.
참고예 44
2-플루오로에탄올 3.2g, 트리에틸아민 6.56g 및 테트라히드로푸란 50㎖를 혼합하고, 여기에 0℃에서 염화메탄술폰산 6.3g을 적하하여 0℃에서 30분간, 이어서 실온에서 2시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합액을 감압하 농축하였다. 잔류물에 물을 첨가하여 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5% 염산, 물, 포화 식염수로 순차 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하여, 메탄술폰산(2-플루오로에틸) 4.50g을 얻었다.
참고예 45
3-(4-히드록시-3-메톡시페닐)프로피온산에틸 1.12g, 메탄술폰산(2-플루오로에틸) 0.85g, 탄산칼륨 1.03g 및 아세토니트릴 25㎖를 혼합하고, 80℃에서 4시간 교반하였다. 실온 부근까지 냉각한 반응 혼합물에 물을 첨가하여, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5% 염산, 물, 및 포화 식염수로 순차 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하여, 3-{4-(2-플루오로에톡시)-3-메톡시-페닐}프로피온산에틸 1.08g을 얻었다.
참고예 46
3-{4-(2-플루오로에톡시)-3-메톡시페닐}프로피온산에틸 1.00g, 25% 수산화나 트륨 수용액 0.9㎖를 혼합하고, 에탄올을 혼합액이 거의 균일해질 때까지 첨가하여, 78℃에서 2시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합액을 감압하 농축하였다. 잔류물에 5% 염산을 첨가하여 클로로포름으로 3회 추출하였다. 유기층을 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔류물을 헥산으로 세정하여, 3-{4-(2-플루오로에톡시)-3-메톡시페닐}프로피온산 0.79g을 얻었다.
참고예 47
3-(4-히드록시-3-메톡시페닐)프로피온산에틸 1.12g, 1-브로모-2-부텐 0.80g, 탄산칼륨 1.03g 및 아세토니트릴 25㎖를 혼합하고, 80℃에서 4시간 교반하였다. 실온 부근까지 냉각한 반응 혼합물에 물을 첨가하여 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5% 염산, 물, 포화 식염수로 순차 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하여, 3-{4-(2-부티닐옥시)-3-메톡시페닐}프로피온산에틸 1.10g을 얻었다.
참고예 48
3-{4-(2-부티닐옥시)-3-메톡시페닐}프로피온산에틸 1.10g, 25% 수산화나트륨 수용액 1.0㎖를 혼합하고, 에탄올을 혼합액이 거의 균일해질 때까지 첨가하여, 78℃에서 2시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합액을 감압하 농축하였다. 잔류물에 5% 염산을 첨가하여 클로로포름으로 3회 추출하였다. 유기층을 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔류물을 헥산으로 세정하여, 3-{4-(2-부티닐옥시)-3-메톡시페닐}프로피온산 0.84g을 얻었다.
참고예 49
3-부틴-2-올 3.5g, 트리에틸아민 6.56g 및 테트라히드로푸란 50㎖을 혼합하고, 여기에 0℃에서 염화메탄술폰산 6.3g을 적하하여 첨가하고, 0℃에서 30분간, 이어서 실온에서 4시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합액을 감압하 농축하였다. 잔류물에 물을 첨가하여 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5% 염산, 물, 포화 식염수로 순차 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하여, 메탄술폰산(1-메틸-2-프로피닐) 4.8g을 얻었다.
참고예 50
3-(4-히드록시-3-메톡시페닐)프로피온산에틸 1.12g, 메탄술폰산(1-메틸-2-프로피닐) 0.89g, 탄산칼륨 1.03g 및 아세토니트릴 25㎖를 혼합하고, 80℃에서 4시간 교반하였다. 실온 부근까지 냉각한 반응 혼합물에 물을 첨가하여 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 5% 염산, 물, 포화 식염수로 순차 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔류물을 실리카 겔 칼럼 정제하여, 3-{3-메톡시-4-(1-메틸-2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산에틸 0.53g을 얻었다.
참고예 51
3-{3-메톡시-4-(1-메틸-2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산에틸 0.37g 및 25% 수산화나트륨 수용액 0.3㎖를 혼합하고, 에탄올을 혼합액이 거의 균일해질 때까지 첨가하여 78℃에서 2시간 교반하였다. 그 후, 실온 부근까지 냉각한 반응 혼합액을 감압하 농축하였다. 잔류물에 5% 염산을 첨가하여 클로로포름으로 3회 추출하였다. 유기층을 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔류물을 헥산 으로 세정하여, 3-{3-메톡시-4-(1-메틸-2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산 0.3g을 얻었다.
참고예 52
4-클로로벤즈알데히드 30g, 트리메틸실릴시아니드 34㎖ 및 요오드화아연 1.4g을 혼합하고, 실온에서 15분간 교반한 후, 여기에 10% 암모니아의 메탄올 용액 30㎖를 첨가하여 40℃에서 2시간 교반하였다. 실온 부근까지 냉각한 반응 혼합물을 감압하 농축하고, 얻어진 잔류물에 아세트산에틸을 첨가하여 황산마그네슘으로 건조 후, 여과한 여과액을 감압하 농축하였다. 얻어진 잔류물을 아세토니트릴 300㎖에 용해하고, 0℃에서 36% 염산 25㎖를 서서히 혼합하였다. 이 혼합물을 여과하여 얻어진 고체를 아세토니트릴 및 헥산으로 세정 후, 감압하에서 건조하여, 2-아미노-2-(4-클로로페닐)아세토니트릴염산염 22g을 얻었다.
참고예 53
참고예 52와 마찬가지의 방법으로, 3-클로로벤즈알데히드 5.0g으로부터 2-아 미노-2-(3-클로로페닐)아세토니트릴염산염 1.5g을 얻었다.
참고예 54
참고예 52와 마찬가지의 방법으로, 4-메틸벤즈알데히드 5.0g으로부터 2-아미노-2-(4-메틸페닐)아세토니트릴염산염 2.2g을 얻었다.
참고예 55
참고예 52와 마찬가지의 방법으로, 4-브롬벤즈알데히드 5.0g으로부터 2-아미노-2-(4-브롬페닐)아세토니트릴염산염 1.5g을 얻었다.
참고예 56
참고예 52와 마찬가지의 방법으로, 3,4-디클로로벤즈알데히드 5.0g으로부터 2-아미노-2-(3,4-디클로로페닐)아세토니트릴염산염 2.2g을 얻었다.
참고예 57
염화암모늄 5.2g, 시안화나트륨 4.0g 및 28% 암모니아수용액 100㎖를 혼합하고, 0℃에서 4-클로로아세토페논 10g을 서서히 첨가하였다. 반응 혼합물을 실온에서 24시간 교반한 후, 물을 첨가하여 클로로포름으로 추출하였다. 유기층을 물로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조하여 감압하 농축하였다. 얻어진 잔류물을 아세토니트릴 100㎖에 용해하고, 0℃에서 36% 염산을 서서히 혼합하였다. 당해 혼합액을 감압하 농축하고, 생성한 고체를 아세토니트릴, tert-부틸메틸에테르 및 헥산으로 세정 후, 감압하에서 건조하여, 2-아미노-2-(4-클로로페닐)프로피오니트릴염산염 5.0g을 얻었다.
참고예 58
염화암모늄 22g, 시안화나트륨 12g 및 28% 암모니아수용액 300㎖를 혼합하고, 0℃에서 4-클로로벤즈알데히드 30g을 서서히 첨가하였다. 반응 혼합물을 0℃에서 1시간, 실온에서 8시간 교반한 후, 물을 첨가하여 클로로포름으로 추출하였다. 유기층을 물로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조하여 감압하 농축하였다. 얻 어진 잔류물을 아세토니트릴 300㎖에 용해하고, 0℃에서 36% 염산 25㎖를 서서히 혼합하였다. 생성한 고체를 여과 분리하고, 아세토니트릴, tert-부틸메틸에테르 및 헥산으로 세정 후, 감압하에서 건조하여, 2-아미노-2-(4-클로로페닐)아세토니트릴염산염 23g을 얻었다.
참고예 59
염화알루미늄 31g 및 염화메틸렌 150㎖의 혼합물을 빙냉하고, 에틸옥살릴클로라이드 30g을 혼합하여 빙냉하에서 30분간 교반하였다. 얻어진 혼합물을, 인단 22g 및 염화메틸렌 200㎖의 혼합물에 빙냉하에서 서서히 첨가하여 실온에서 1시간 교반하였다. 반응 혼합물을 얼음물에 서서히 혼합하고, 유기층을 분액하였다. 유기층을 물로 세정하고, 황산 마그네슘으로 건조한 후 감압하 농축하여, 인단-5-일-옥소아세트산에틸의 조생성물 37g을 얻었다.
참고예 60
인단-5-일옥소아세트산에틸에스테르의 조생성물 25g, 수소화 붕소나트륨 7.0g 및 에탄올 250㎖의 혼합물을 실온에서 1시간, 이어서 60℃에서 2시간 교반하였다. 반응 혼합물에 물을 첨가하고, 감압하에서 유기 용매를 증류 제거한 후, 36% 염산으로 PH=2로 조절하여 클로로포름으로 추출하였다. 유기층을 물로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 유기 용매를 증류 제거하고, 잔류물을 헥산으로 세정하여, 인단-5-일에탄-1,2-디올 11g을 얻었다.
참고예 61
인단-5-일에탄-1,2-디올의 조생성물 11g, 과요오드산 18g, 물 100㎖ 및 에탄올 100㎖의 혼합물을 실온에서 12시간 교반하였다. 반응 혼합물에 물을 첨가하고, 아세트산에틸로 추출하여 물로 2회 세정 후, 감압하에서 유기 용매를 증류 제거한 후, 잔류물을 실리카 겔 칼럼으로 정제하여, 인단-5-카르보알데히드 8.1g을 얻었다.
참고예 62
참고예 59와 마찬가지의 방법으로, 테트랄린 58g으로부터 5,6,7,8-테트라히 드로나프탈렌-2-일옥소아세트산에틸의 조생성물 55g을 얻었다.
참고예 63
참고예 60과 마찬가지의 방법으로, 5,6,7,8-테트라히드로나프탈렌-2-일옥소아세트산에틸의 조생성물 30g으로부터 5,6,7,8-테트라히드로나프탈렌-2-일에탄-1,2-디올 17g을 얻었다.
참고예 64
참고예 61과 마찬가지의 방법으로, 5,6,7,8-테트라히드로나프탈렌-2-일에탄-1,2-디올 16g으로부터 5,6,7,8-테트라히드로나프탈렌-2-카르보알데히드 13g을 얻었다.
참고예 65
2-플루오로-2-디에틸포스포노아세트산에틸에스테르 2.2g 및 테트라히드로푸란 50㎖를 혼합하고, 빙냉하에서 수소화나트륨(함량 55%) 0.40g을 첨가하여 10분간 교반하였다. 이어서, 4-벤질옥시-3-메톡시벤즈알데히드 2.0g과 테트라히드로푸란 5㎖의 혼합물을 빙냉하 서서히 첨가하고, 실온에서 3시간 교반하였다. 얻어진 혼합물에 물을 첨가하고, 감압하에서 유기 용매를 증류 제거 후, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 물, 5% 염산, 포화 탄산수소나트륨 수용액, 이어서 포화 식염수로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하고, 얻어진 잔류물을 실리카 겔 칼럼으로 정제하여, 3-(3-메톡시-4-벤질옥시페닐)-2-플루오로아크릴산에틸(cis체와 trans체의 혼합물)의 조생성물 2.8g을 얻었다.
참고예 66
3-(3-메톡시-4-벤질옥시페닐)-2-플루오로아크릴산에틸의 조생성물을 2.6g을 사용하여, 참고예 11과 마찬가지의 방법으로 3-(3-메톡시-4-히드록시페닐)-2-플루오로프로피온산에틸의 조생성물 2.0g을 얻었다.
참고예 67
3-(3-메톡시-4-히드록시페닐)-2-플루오로프로피온산에틸의 조생성물 2.0g, 3-브로모프로핀 0.86㎖를 사용하여, 참고예 12와 마찬가지의 방법으로 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}-2-플루오로프로피온산에틸의 조생성물 2.3g을 얻었다.
참고예 68
3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}-2-플루오로프로피온산에틸의 조생성물 2.3g을 사용하여, 참고예 13과 마찬가지의 방법으로 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}-2-플루오로프로피온산 1.8g을 얻었다.
참고예 69
참고예 4와 마찬가지의 방법으로, 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}-2-플루오로프로피온산 약 4.7g으로부터 3-{3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}-2-플루오로프로피온산염화물의 조생성물 5.0g을 얻었다.
참고예 70
4-브로모벤즈알데히드 1.7g, 시클로프로필보론산 1.0g, 트리페닐포스핀 0.26g, 인산 3칼륨 n-수화물 7.9g, 톨루엔 20㎖ 및 물 1㎖의 혼합물에 아세트산팔라듐 0.10g을 혼합하여 100℃에서 3시간 교반하였다. 실온 부근까지 냉각한 반응 혼합물에 물을 첨가하여 불용물을 여과 분리하고, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 포화 식염수로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후 감압하 농축하고, 실리카 겔 칼럼 정제하여, 4-시클로프로필벤즈알데히드 1.1g을 얻었다.
참고예 71
3-플루오로-4-히드록시-5-메톡시벤즈알데히드 1.1g, 브롬화벤질 1.2g, 탄산 칼륨 1.3g 및 아세토니트릴 15㎖를 혼합하고, 환류 조건하에서 4시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 실온까지 냉각하고 아세트산에틸을 첨가하여 고체를 여과 분리하였다. 얻어진 유기층을 감압하 농축하고, 잔류물을 헥산으로 세정하여, 4-벤질옥시-3-플루오로-5-메톡시벤즈알데히드 1.8g을 얻었다. 다음으로, 디에틸포스포노아세트산에틸 1.5g 및 테트라히드로푸란 20㎖를 혼합하고, 빙냉하에서 수소화나트륨(함량 55%) 0.29g을 첨가하여 10분간 혼합한 혼합물에, 4-벤질옥시-3-플루오로-5-메톡시벤즈알데히드 1.8g과 테트라히드로푸란 5㎖의 혼합물을 빙냉하 서서히 첨가하고, 실온에서 1시간 교반하였다. 얻어진 혼합물에 물을 첨가하고, 감압하에서 유기 용매를 증류 제거 후, 아세트산에틸로 추출하였다. 유층을 분액하고, 5% 염산, 포화 탄산수소나트륨수, 이어서 포화 식염수로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하고, 얻어진 잔류물을 헥산으로 세정하여, 3-(4-벤질옥시-3-플루오로-5-메톡시페닐)아크릴산에틸 3.6g을 얻었다.
참고예 72
3-(4-벤질옥시-3-플루오로-5-메톡시페닐)아크릴산에틸 3.6g, 5% 팔라듐탄소 0.1g, 36% 염산 약 0.01g, 에탄올 50㎖를 수소 분위기하에서 교반하였다. 수소 가스의 흡수가 정지한 후, 여과하고, 여과액을 감압하 농축하여, 3-(3-플루오로-4-히 드록시-5-메톡시페닐)프로판산에틸 2.2g을 얻었다.
참고 제조예 73
3-(3-플루오로-4-히드록시-5-메톡시페닐)프로판산에틸 2.3g, 브롬화프로파르길 0.63㎖, 탄산칼륨 1.23g 및 아세토니트릴 300㎖를 혼합하고, 환류 조건하에서 1시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 실온까지 냉각하고, 아세트산에틸을 첨가하여 여과하였다. 여과액을 감압하 농축하였다. 얻어진 잔류물, 수산화나트륨 0.54g, 테트라히드로푸란 40㎖ 및 물 20㎖를 혼합하고, 환류 조건하에서 3시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물에 물을 첨가하여 감압하 농축하였다. 혼합물을 tert-부틸메틸에테르로 세정하고, 수층을 분액하여 5% 염산을 첨가하고, 클로로포름으로 3회 추출하였다. 유기층을 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔류물을 헥산으로 세정하여, 3-{3-플루오로-5-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로판산 1.5g을 얻었다.
참고예 74
3-(4-히드록시-3-메톡시페닐)프로피온산 20g, 브롬화벤질 55g, 탄산칼륨 45g 및 아세토니트릴 300㎖를 혼합하고, 80℃에서 6시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 실온 부근까지 냉각하고, 아세트산에틸을 첨가하여 여과하고, 여과액을 감압하 농축하였다. 얻어진 잔류물에 20% 수산화나트륨 수용액 46g을 혼합하고, 균일해질 때까지 에탄올을 첨가하여, 전체 환류하에서 1시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 실온 부근까지 냉각하고 나서 물을 첨가하고, 감압하 농축하고, tert-부틸메틸에테르로 세정하였다. 잔류물에 5% 염산을 첨가하여 PH=2로 조절 후, 아세트산에틸로 추출하였다. 유기층을 물 및 포화 식염수로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔류물을 헥산으로 세정 후 건조하여, 3-(3-메톡시-4-벤질옥시페닐)프로피온산 62g을 얻었다.
참고예 75
메탄올 100㎖와 염화아세틸 10㎖를 실온에서 15분간 혼합한 혼합물에 3-(3-메톡시-4-벤질옥시페닐)프로피온산 4.0g을 혼합하고, 전체 환류하에서 6시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 실온 부근까지 냉각하여 감압하 농축 후, tert-부 틸메틸에테르를 첨가하고, 물, 포화 탄산수소나트륨 수용액 및 포화 식염수로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 얻어진 잔류물 3.0g, 모노클로르벤젠 100㎖에 혼합하고, 염화술푸릴 1.7㎖를 서서히 혼합하여, 실온에서 1시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 물, 포화 탄산수소나트륨 수용액 및 포화 식염수로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하였다. 잔류물을 헥산으로 세정 후 건조하여, 3-(6-클로르-3-메톡시-4-벤질옥시페닐)프로피온산메틸 2.3g을 얻었다.
참고예 76
3-(6-클로르-3-메톡시-4-벤질옥시페닐)프로피온산메틸 2.2g, 47%브롬화수소산수용액 1.4g 및 아세트산 30㎖를 혼합하고, 80℃에서 3시간 혼합하였다. 반응 혼합물을 실온 부근까지 냉각하여 톨루엔을 첨가하고, 감압하에서 용매를 증류 제거 후 잔류물을 헥산으로 세정하여, 3-(6-클로르-4-히드록시-3-메톡시페닐)프로피온산 1.4g을 얻었다.
참고예 77
3-(6-클로르-4-히드록시-3-메톡시페닐)프로피온산 1.3g, 브롬화프로파르길 1.6㎖, 탄산칼륨 4.5g 및 아세토니트릴 30㎖를 혼합하고, 전체 환류하에서 1시간 교반하였다. 그 후, 반응 혼합물을 실온 부근까지 냉각하고, 아세트산에틸을 첨가하여 여과하였다. 얻어진 여과액을 감압하 농축하였다. 얻어진 잔류물에 수산화리튬 일수화물 0.55g, 테트라히드로푸란 40㎖ 및 물 20㎖를 혼합하고, 전체 환류하에서 3시간 교반하였다. 그 후, 실온 부근까지 냉각한 반응 혼합물에 물을 첨가하여 감압하 농축하였다. 혼합물을 tert-부틸에틸에테르로 세정하고, 얻어진 수층에 5% 염산을 첨가하여 클로로포름으로 2회 추출하였다. 유기층을 물로 세정 후, 황산마그네슘으로 건조하고, 감압하 농축하였다. 잔류물을 헥산으로 세정하여, 3-{6-클로르-3-메톡시-4-(2-프로피닐옥시)페닐}프로피온산 1.2g을 얻었다.
참고예 79
문헌[Synlett, 2000, No.12, 1801페이지∼1803페이지]에 기재된 방법에 준하 여, 4-브롬벤조니트릴 10g, 트리스디벤질리덴아세톤팔라듐(0), 2-(디tert-부틸포스피노)비페닐 0.98g 및 디메틸이미다졸리논 200㎖를 실온에서 5시간 혼합하였다. 이어서, 헥사메틸디실란 16.9㎖ 및 물 2.0g을 첨가하여 물로 5회 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하여 실리카 겔 칼럼으로 정제하여 4-트리메틸실릴벤조니트릴 8.0g을 얻었다.
참고예 80
4-트리메틸실릴벤조니트릴 1.5g과 톨루엔 30㎖의 혼합물에 디이소부틸알루미늄하이드라이드의 1 M 톨루엔 용액 8.6㎖를 서서히 첨가하고, 45℃에서 2시간 혼합하였다. 이어서, 반응 혼합물을 실온까지 냉각한 후, 포화 염화암모늄 수용액에 서서히 혼합하여, 실온에서 1시간 교반하고, 셀라이트를 첨가하여 불용물을 여과 분리하였다. 얻어진 유기층을 5% 염산, 포화 탄산수소나트륨수, 이어서 포화 식염수로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하 농축하고, 얻어진 잔류물을 헥산으로 세정하여, 4-트리메틸실릴벤즈알데히드 1.2g을 얻었다.
다음으로 제제예를 나타낸다. 부는 중량부를 나타낸다.
제제예 1
본 발명 화합물 1∼46의 각각 50부, 리그닌술폰산칼슘 3부, 라우릴황산마그네슘 2부 및 합성 함수 산화규소 45부를 잘 분쇄 혼합하여, 각각의 수화제를 얻는다.
제제예 2
본 발명 화합물 1∼46의 각각 20부와 솔비탄트리올레에이트 1.5부를, 폴리비닐알코올 2부를 포함하는 수용액 28.5부와 혼합하고, 습식 분쇄법으로 미분쇄한 후, 그 안에 크산탄검 0.05부 및 알루미늄마그네슘실리케이트 0.1부를 포함하는 수용액 40부를 첨가하고, 추가로 프로필렌글리콜 10부를 첨가하고 교반 혼합하여, 각각의 플루어블 제제를 얻는다.
제제예 3
본 발명 화합물 1∼46의 각각 2부, 카올린클레이 88부 및 탈크 10부를 잘 분쇄 혼합하여, 각각의 분제를 얻는다.
제제예 4
본 발명 화합물 1∼46의 각각 5부, 폴리옥시에틸렌스티릴페닐에테르 14부, 도데실벤젠술폰산칼슘 6부 및 자일렌 75부를 잘 혼합하여, 각각의 유제를 얻는다.
제제예 5
본 발명 화합물 1∼46의 각각 2부, 합성 함수 산화규소 1부, 리그닌술폰산칼슘 2부, 벤토나이트 30부 및 카올린클레이 65부를 잘 분쇄 혼합한 후, 물을 첨가하여 잘 반죽하고, 과립화하여 건조함으로써, 각각의 입제를 얻는다.
제제예 6
본 발명 화합물 1∼46의 각각 10부, 폴리옥시에틸렌알킬에테르술페이트 암모늄염 50부를 포함하는 화이트카본 35부 및 물 55부를 혼합하고, 습식 분쇄법으로 미분쇄함으로써, 각각의 제제를 얻는다.
다음으로, 본 발명 화합물이 식물 병해의 방제에 유용함을 시험예에서 나타낸다.
또한, 방제 효과는 조사시 공시 식물 상의 병반 면적을 육안으로 관찰하고, 무처리구의 병반 면적과 본 발명 화합물 처리구의 병반 면적을 비교함으로써 평가하였다.
또한, 문헌[Journal of Chemical and Engineering Data, 10(2), pp.188(1965) 1965년, 제10권, 제2호, 188페이지]에 기재된 화합물 A도 시험에 이용하였다.
시험예 1
플라스틱 포트에 사양토를 채우고, 토마토(품종:폰테로자)를 파종하여 온실 내에서 20일간 생육시켰다. 본 발명 화합물 1, 3∼6, 8∼23, 26∼28, 30∼34, 36, 38, 39, 41∼50, 52∼57, 59 및 61을 제제예 6에 준하여 제제화한 후, 물로 소정 농도(500 ppm)로 희석하고, 희석액이 토마토 잎면에 충분히 부착하도록 경엽 산포하였다. 산포 후, 잎면 상의 희석액이 마를 정도로 공기 건조하고, 토마토 역병의 유주자낭 현탁액(현탁액 1㎖ 당 약 10000개의 유주자낭을 함유함)을 분무 접종(식물 1개체 당 약 2㎖의 비율)하였다. 접종 후, 23℃, 상대 습도 90% 이상의 조건하에서 1일간 재배하고, 이어서 주간 24℃, 야간 20℃의 실온에서 4일간 재배하였다. 그 후, 방제 효과를 조사하였다. 그 결과, 본 발명 화합물을 공시한 식물 상의 병반 면적은, 무처리구의 병반 면적의 10% 이하였다. 화합물 A를 공시한 식물 상의 병반 면적은, 무처리구의 병반 면적의 76∼100%였다.
시험예 2
플라스틱 포트에 사양토를 채우고, 포도(품종:베리 A)를 파종하여 온실 내에서 40일간 생육시켰다. 본 발명 화합물 1∼5, 8∼10, 12∼15, 17, 19, 20, 22, 23, 25, 27∼34, 37, 38, 39, 41∼46, 50∼54, 59, 61∼64 및 65 각각을 제제예 6에 준하여 제제화한 후, 물로 소정 농도(200 ppm)로 희석하고, 희석액이 포도 잎면에 충분히 부착하도록 경엽 산포하였다. 산포 후, 잎면 상의 해당 희석액이 마를 정도로 공기 건조하고, 포도 마름병의 유주자낭 현탁액(현탁액 1㎖ 당 약 10000개의 유주자낭을 함유함)을 분무 접종(식물 1개체 당 약 2㎖의 비율)하였다. 접종 후, 23℃, 상대 습도 90% 이상의 조건하에서 1일간 재배하고, 이어서 주간 24℃, 야간 20℃의 실온으로 옮겨 6일간 재배하였다. 그 후, 방제 효과를 조사하였다. 그 결과, 본 발명 화합물을 공시한 식물 상의 병반 면적은, 무처리구의 병반 면적의 10% 이하였다.
본 발명 화합물은 우수한 식물 병해 방제 효력을 가지므로, 식물 병해 방제 조성물의 유효 성분으로서 유용하다.
Claims (6)
- 화학식 1로 표시되는 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.<화학식 1>식 중, R1은 수소원자; 할로겐원자; 니트로기; 시아노기; 할로겐원자, 시아노기, 히드록실기, C3-C6 시클로알킬기, C1-C6 알콕시기, C3-C6 시클로알콕시기, C1-C6 알킬티오기, C3-C6 시클로알킬티오기 및 트리(C1-C3 알킬)실릴기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 C1-C6 알킬기; 할로겐원자, 시아노기, 히드록실기, C3-C6 시클로알킬기, C1-C6 알콕시기, C3-C6 시클로알콕시기, C1-C6 알킬티오기, C3-C6 시클로알킬티오기 및 트리(C1-C3 알킬)실릴기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 C2-C6 알케닐기; 할로겐원자, 시아노기, 히드록실기, C3-C6 시클로알킬기, C1-C6 알콕시기, C3-C6 시클로알콕시기, C1-C6 알킬티오기, C3-C6 시클로알킬티오기 및 트리(C1-C3 알킬)실릴기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 C2-C6 알키닐기; 할로겐원자, 시아노기, 히드록실기, C3-C6 시클로알킬기, C1-C6 알콕시기, C3-C6 시클로알콕시기, C1-C6 알킬티오기, C3-C6 시클로알킬티오기 및 트리(C1-C3 알킬)실릴기로 이루어지 는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 C3-C6 시클로알킬기; 할로겐원자, C1-C6 알콕시기 및 C1-C6 알킬티오기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 C1-C6 알콕시기; 할로겐원자, C1-C6 알콕시기 및 C1-C6 알킬티오기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 C3-C6 시클로알콕시기; 할로겐원자, C1-C6 알콕시기 및 C1-C6 알킬티오기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 C1-C6 알킬티오기; 할로겐원자, C1-C6 알콕시기 및 C1-C6 알킬티오기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 C3-C6 시클로알킬티오기; 할로겐원자, C1-C6 알콕시기 및 C1-C6 알킬티오기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 디(C1-C6 알킬)아미노기; 할로겐원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기 및 C1-C6 알콕시기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 페닐기; 할로겐원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기 및 C1-C6 알콕시기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 페녹시기; 할로겐원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기 및 C1-C6 알콕시기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 페닐티오기; 할로겐원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기 및 C1-C6 알콕시기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 벤조일기; 할로겐원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 할로알킬기 및 C1-C6 알콕시기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 벤조일옥시기; 포르밀기; (C1-C6 알킬)카르보닐기; (C2-C6 알케닐)카르보닐기; (C2-C6 알키닐)카르보닐기; (C3-C6 시클로알킬)카르보닐기; (C1-C6 할로알킬)카르보닐기; (C1-C6 알콕시)카르보닐기; 또는 트리(C1-C6 알킬)실 릴기를 나타내고,R2는 수소원자, 할로겐원자, C1-C6 알킬기, C3-C6 시클로알킬기, C2-C6 알케닐기, C2-C6 알키닐기, C1-C6 할로알킬기, C1-C6 알콕시기, C1-C6 할로알콕시기, C1-C6 알킬티오기, C1-C6 할로알킬티오기, 디(C1-C6 알킬)아미노기, 니트로기 또는 시아노기를 나타내거나,R1과 R2가 함께 할로겐원자, C1-C3 알킬기 및 C1-C3 할로알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 C3-C6 폴리메틸렌기; 또는 할로겐원자, C1-C3 알킬기 및 C1-C3 할로알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 치환기로 치환될 수 있는 1,3-부타디엔-1,4-디일기를 나타내고,R3은 수소원자, 할로겐원자 또는 C1-C3 알킬기를 나타내고,R4는 C1-C4 알킬기, C1-C4 할로알킬기, C3-C4 알케닐기 또는 C3-C4 알키닐기를 나타내고,R5는 C1-C4 알킬기, C3-C4 알케닐기, C3-C6 알키닐기, C1-C4 할로알킬기, 시아노 C1-C6 알킬기 또는 (C1-C3 알킬)카르보닐기를 나타내고,R6은 수소원자 또는 C1-C4 알킬기, C3-C4 알케닐기 또는 C3-C4 알키닐기를 나타내고,R7은 수소원자, 할로겐원자 또는 C1-C3 알킬기를 나타내고,R8은 수소원자, 할로겐원자 또는 C1-C3 알킬기를 나타내고,R9는 수소원자 또는 C1-C3 알킬기를 나타내고,R10은 수소원자, 할로겐원자 또는 C1-C3 알킬기를 나타내고,R11은 수소원자, 할로겐원자 또는 C1-C3 알킬기를 나타내고,R12는 수소원자, 할로겐원자 또는 C1-C3 알킬기를 나타낸다.
- 제1항에 있어서, R1이 수소원자, 할로겐원자, C1-C6 알킬기, C2-C6 알케닐기, C2-C6 알키닐기, C1-C6 할로알킬기, C1-C6 알콕시기, C1-C6 할로알콕시기, C1-C6 알킬티오기, C1-C6 할로알킬티오기, 디(C1-C6 알킬)아미노기, 페닐기, 페녹시기 또는 시아노기이고, R2가 수소원자, 할로겐원자, C1-C6 알킬기, C1-C6 알콕시기 또는 C1-C6 할로알킬기이거나, 또는 R1과 R2가 함께 C3-C5 알킬렌기 또는 CH=CH-CH=CH기를 형성하고, R3이 수소원자, 할로겐원자 또는 C1-C3 알킬기이고, R4가 C1-C4 알킬기, C3-C4 알케닐기 또는 C3-C4 알키닐기이고, R5가 C1-C4 알킬기, C3-C4 알케닐기, C3-C6 알키닐기, C1-C4 할로알킬기 또는 (C1-C3 알킬)카르보닐기이고, R6이 수소원자 또는 C1-C4 알킬기, C3-C4 알케닐기, C3-C4 알키닐기이고, R7이 수소원자, 할로겐원자 또는 C1-C3 알킬기이고, R8이 수소원자, 할로겐원자 또는 C1-C3 알킬기이고, R9가 수소원자 또는 C1-C3 알킬기이고, R10, R11 및 R12가 수소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
- 제1항에 있어서, R1이 수소원자, 할로겐원자, C1-C4 알킬기, C1-C4 알콕시기 또는 C1-C4 할로알킬기이고, R2가 수소원자, 할로겐원자, C1-C4 알킬기, C1-C4 알콕시기 또는 C1-C4 할로알킬기이거나, 또는 R1과 R2가 함께 C3-C5 알킬렌기 또는 CH=CH-CH=CH기를 형성하고, R4가 C1-C4 알킬기, C3-C4 알케닐기 또는 C3-C4 알키닐기이고, R5가 C1-C4 알킬기, C3-C4 알케닐기 또는 C3-C4 알키닐기이고, R6이 수소원자 또는 C3-C4 알킬기이고, R3, R7, R8, R9, R10, R11 및 R12가 수소원자인 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항의 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물과 불활성인 담체를 함유하는 식물 병해 방제 조성물.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항의 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물의 유효량을 식물 또는 식물을 재배하는 토양에 처리하는 것을 포함하는, 식물 병해의 방 제 방법.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항의 N-(α-시아노벤질)아미드 화합물의 식물 병해 방제 조성물의 유효 성분으로서의 용도.
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