KR20060000057A - 러빙 장비 - Google Patents

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박재양
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엘지.필립스 엘시디 주식회사
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Abstract

본 발명은 러빙 공정을 진행 전 기판을 챔버 내 스테이지에 장착한 후, 상기 챔버 내의 오염물을 진공관을 통해 제거시킨 러빙 장비 및 이를 이용한 러빙 방법에 관한 것으로, 본 발명의 러빙 장비는 기판의 유입구 및 유출구를 구비한 챔버와, 상기 챔버 내에 기판이 장착되는 스테이지와, 상기 스테이지 양측에 위치하며, 스테이지 및 스테이지 주변의 오염물을 빨아들여 배기하는 진공관 및 상기 기판의 진행 방향 상에 위치한 러빙포를 포함하여 이루어짐에 그 특징이 있으며, 이를 이용한 러빙 장비는 상기 진공관을 통해 상기 기판의 챔버 유입 전 상기 스테이지 상부 및 주변의 이물을 빨아들이는 단계와, 상기 챔버 내에 기판을 유입시켜 상기 스테이지 상에 장착시키는 단계 및 상기 스테이지를 이동시켜 상기 러빙포에 대응하여 러빙을 기판 상에 진행하는 단계를 포함하여 이루어짐을 특징으로 한다.
러빙포, 러빙 장비, 진공관, 평탄성(uniformity)

Description

러빙 장비{Apparatus for Rubbing}
도 1은 일반적인 액정 표시 장치를 나타낸 구조 단면도
도 2는 종래의 러빙 챔버에 들어온 기판을 스테이지 상에 장착한 모습을 나타낸 평면도
도 3은 종래의 러빙포에 기판을 대응시켜 러빙 공정을 진행하는 모습을 나타낸 도면
도 4는 본 발명의 러빙 장비를 나타낸 개략도
도 5는 본 발명의 러빙 장비를 러빙 포에 대응시키는 모습을 나타낸 도면
*도면의 주요 부분에 대한 부호 설명*
90 : 기판 대응 영역 100 : 기판
101 : 이물 110 : 스테이지
120a : 제 1 진공관 120b : 제 2 진공관
130 : 러빙포
본 발명은 액정 표시 장치에 관한 것으로 특히, 러빙 공정을 진행 전 기판을 챔버 내 스테이지에 장착한 후, 챔버 내의 오염물을 진공관을 통해 제거시킨 러빙 장비 및 이를 이용한 러빙 방법에 관한 것이다.
정보화 사회가 발전함에 따라 표시 장치에 대한 요구도 다양한 형태로 점증하고 있으며, 이에 부응하여 근래에는 LCD(Liquid Crystal Display Device), PDP(Plasma Display Panel), ELD(Electro Luminescent Display), VFD(Vacuum Fluorescent Display) 등 여러 가지 평판 표시 장치가 연구되어 왔고, 일부는 이미 여러 장비에서 표시 장치로 활용되고 있다.
그 중에, 현재 화질이 우수하고 경량, 박형, 저소비 전력의 특징 및 장점으로 인하여 이동형 화상 표시 장치의 용도로 CRT(Cathode Ray Tube)를 대체하면서 LCD가 가장 많이 사용되고 있으며, 노트북 컴퓨터의 모니터와 같은 이동형의 용도 이외에도 방송 신호를 수신하여 디스플레이하는 텔레비젼 및 컴퓨터의 모니터 등으로 다양하게 개발되고 있다.
이와 같은 액정 표시 장치가 일반적인 화면 표시 장치로서 다양한 부분에 사용되기 위해서는 경량, 박형, 저 소비 전력의 특징을 유지하면서도 고정세, 고휘도, 대면적 등 고품위 화상을 얼마나 구현할 수 있는가에 관건이 걸려 있다고 할 수 있다.
일반적인 액정 표시 장치는, 화상을 표시하는 액정 패널과 상기 액정 패널에 구동 신호를 인가하기 위한 구동부로 크게 구분될 수 있으며, 상기 액정 패널은 일정 공간을 갖고 합착된 제 1, 제 2 유리 기판과, 상기 제 1, 제 2 유리 기판 사이에 주입된 액정층으로 구성된다.
여기서, 상기 제 1 유리 기판(TFT 어레이 기판)에는 일정 간격을 갖고 일 방향으로 배열되는 복수개의 게이트 라인과, 상기 각 게이트 라인과 수직한 방향으로 일정한 간격으로 배열되는 복수개의 데이터 라인과, 상기 각 게이트 라인과 데이터 라인이 교차되어 정의된 각 화소 영역에 매트릭스 형태로 형성되는 복수개의 화소 전극과 상기 게이트 라인의 신호에 의해 스위칭되어 상기 데이터 라인의 신호를 각 화소 전극에 전달하는 복수개의 박막 트랜지스터가 형성된다.
그리고, 제 2 유리 기판(칼라 필터 기판)에는, 상기 화소 영역을 제외한 부분의 빛을 차단하기 위한 블랙 매트릭스층과, 칼라 색상을 표현하기 위한 R, G, B 칼라 필터층과 화상을 구현하기 위한 공통 전극이 형성된다.
상기 일반적인 액정 표시 장치의 구동 원리는 액정의 광학적 이방성과 분극 성질을 이용한다. 액정은 구조가 가늘고 길기 때문에 분자의 배열에 방향성을 갖고 있으며, 인위적으로 액정에 전기장을 인가하여 분자 배열의 방향을 제어할 수 있다.
따라서, 상기 액정의 분자 배열 방향을 임의로 조절하면, 액정의 분자 배열이 변하게 되고, 광학적 이방성에 의하여 상기 액정의 분자 배열 방향으로 빛이 굴절하여 화상 정보를 표현할 수 있다.
현재에는 박막 트랜지스터와 상기 박막 트랜지스터에 연결된 화소 전극이 행렬 방식으로 배열된 능동 행렬 액정 표시 장치(Active Matrix LCD)가 해상도 및 동영상 구현 능력이 우수하여 가장 주목받고 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 종래의 러빙 장비를 설명하면 다음과 같다.
도 1은 종래의 액정 표시 장치를 나타낸 구조 단면도이다.
도 1과 같이, 종래의 액정표시장치는, 크게 일정 공간을 갖고 합착된 제 1 기판(1) 및 제 2 기판(2)과, 상기 제 1 기판(1)과 제 2 기판(2) 사이에 주입된 액정층(3)으로 구성되어 있다.
보다 구체적으로 설명하면, 상기 제 1 기판(1)에는 화소 영역(P)을 정의하기 위하여 일정한 간격을 갖고 일방향으로 형성된 복수개의 게이트 라인(4)과, 상기 게이트 라인(4)에 수직한 방향으로 일정한 간격을 갖고 형성된 복수개의 데이터 라인(5)이 배열된다. 그리고, 상기 각 화소 영역(P)에는 화소 전극(6)이 형성되고, 상기 각 게이트 라인(4)과 데이터 라인(5)이 교차하는 부분에 박막 트랜지스터(T)가 형성되어 상기 박막트랜지스터가 상기 게이트 라인의 신호에 따라 상기 데이터 라인의 데이터 신호를 상기 각 화소 전극에 인가한다.
그리고, 상기 제 2 기판(2)에는 상기 화소 영역(P)을 제외한 부분의 빛을 차단하기 위한 블랙 매트릭스층(7)이 형성되고, 상기 각 화소 영역에 대응되는 부분에는 색상을 표현하기 위한 R,G,B 칼라 필터층(8)이 형성되고, 상기 칼라 필터층(8)위에는 화상을 구현하기 위한 공통 전극(9)이 형성되어 있다.
상기와 같은 액정 표시 장치는 상기 화소 전극(6)과 공통 전극(9) 사이의 전계에 의해 상기 제 1, 제 2 기판(1, 2) 사이에 형성된 액정층(3)이 배향되고, 상기 액정층(3)의 배향 정도에 따라 액정층(3)을 투과하는 빛의 양을 조절하여 화상을 표현할 수 있다.
좀 더 자세히 설명하면, 종래의 액정 표시 장치는 일정 공간을 갖고 합착된 박막 트랜지스터 어레이 기판(10) 및 컬러 필터 어레이 기판(50)과, 상기 제 1 기판(1)과 제 2 기판(2) 사이에 주입된 액정층(3)으로 구성되어 있다.
상기 제 1 기판(1) 상에는 수직으로 교차하여 화소 영역을 정의하는 복수개의 게이트 라인(4, 도 1 참조) 및 데이터 라인(5, 도 1 참조)과, 상기 게이트 라인(4)들과 데이터 라인(5)들이 교차하는 각 화소 영역에 형성된 화소 전극(6)들과, 상기 각 게이트 라인(4)과 데이터 라인(5)이 교차하는 부분에 형성된 박막 트랜지스터(T)를 포함하여 이루어진다.
상기 박막 트랜지스터(T)는 게이트 전극(11a), 소정의 폭으로 상기 게이트 전극(11a)의 상부를 덮는 반도체층(14)과, 상기 게이트 전극(11a)의 양측에 대응되어 형성된 소오스/드레인 전극(12a, 12b)으로 이루어진다. 여기서, 상기 반도체층(14)은 비정질 실리콘층(14a)과, 상부와 채널 영역에 대응되는 부분이 제거된 n+층(14b)을 적층하여 이루어진다.
이러한, 종래의 액정 표시 장치는 다음과 같은 공정으로 이루어진다.
먼저, 상기 제 1 기판(1) 상에 Mo, Al 또는 Cr 등과 같은 금속물질을 스퍼터링 방법으로 전면 증착한 다음 제 1 마스크(미도시)를 통해 패터닝하여 복수개의 게이트 라인(4) 및 상기 게이트 라인(4)들에서 돌출되는 형상으로 게이트 전극(11a)을 형성한다.
이어, 상기 게이트 라인(4)들을 포함한 제 1 기판(1) 상에 SiNx 등의 절연물질을 전면 증착하여 게이트 절연막(13)을 형성한다.
이어, 상기 게이트 절연막(13) 상에 상기 게이트 전극(11a)을 덮는 형상으로 반도체층(14)을 형성한다. 여기서 상기 반도체층(14)은 상기 게이트 절연막(13) 상에 비정질 실리콘(amorphous silicon)층(14a), 인(P)이 고농도로 도핑된 n+층(14b)을 연속 증착한 다음 제 2 마스크(미도시)를 통해 상기 n+층(14b), 비정질 실리콘층(14a)을 동시에 패터닝하여 형성한다.
이어, Mo, Al 또는 Cr 등과 같은 금속물질을 스퍼터링 방법으로 전면 증착한 다음 제 3 마스크(미도시)를 이용하여 패터닝하여 데이터 라인(5) 및 상기 게이트 전극(11a) 양측에 소오스 전극(12a), 드레인 전극(12b)을 형성한다. 여기서, 상기 소오스 전극(12a)은 상기 데이터 라인(5)에서 돌출되어 형성된 것이며, 상기 드레인 전극(12b)은 이와 소정 간격 이격되어 형성된 것이다. 이러한 금속 패터닝 공정에서, 상기 소오스 전극(12a), 드레인 전극(12b) 하부에 n+층(14b)까지 오버 에칭(over etching)이 이뤄지게 하여, 상기 n+층(14b)이 상기 게이트 전극(11a) 상부에서 제거되도록 한다. 따라서, 상기 비정질 실리콘층이 상기 게이트 전극(11a) 상부에서 노출되는 데, 그 노출 부위가 박막 트랜지스터(T)의 채널 영역으로 정의되는 영역이다. 여기서, 상기 비정질 실리콘층(14a)과, n+층(14b)으로 이루어진 것이 반도체층(14)이다.
이어, 상기 반도체층(14)을 포함하여 소스 전극(12a)과 드레인 전극(12b) 및 데이터 라인(12)이 형성된 게이트 절연막(13) 상에 화학 기상 증착(chemical vapor deposition : CVD) 방식을 통해 SiNx 재질의 보호막(passivation film, 15)을 전면 증착한다. 이러한 보호막(15)의 재료로는 주로 SiNx 등의 무기물질 또는 BCB(BenzoCycloButene), SOG(Spin On Glass) 또는 Acryl 등의 유전율이 낮은 유기 물질이 사용되고 있다.
이어, 제 4 마스크(미도시)를 통해 상기 드레인 전극(12b) 상의 보호막(15) 일부를 선택적으로 식각하여 드레인 전극(102b)의 일부를 노출시키는 콘택홀을 형성한다.
이어, 상기 보호막(15) 상에 상기 콘택홀을 충분히 매립하도록 투명 전극물질을 스퍼터링하여 증착한 다음, 제 5 마스크(미도시)를 통해 패터닝하여 화소 영역에 화소 전극(6)을 형성한다.
상기 제 1 기판(1)과 대향되는 상기 제 2 기판(2) 상에는 화소 영역을 제외한 부분(게이트 라인 및 데이터 라인 영역, 박막 트랜지스터 영역)의 빛을 차단하기 위한 블랙 매트릭스층(7)을 형성하고, 상기 화소 영역에 대응되어 칼라 색상을 표현하기 위한 R, G, B 칼라 필터층(8)을 형성하고, 상기 블랙 매트릭스층(7)과 칼라 필터층(8)을 포함한 제 2 기판(2) 전면에 공통전극(9)을 형성한다.
이어, 상기 제 1, 제 2 기판(1, 2)이 서로 대향되는 최상면에 각각 제 1, 제 2 배향막(21, 22)을 형성한다.
이와 같이, 제 1 기판(1)과 제 2 기판(2) 각각의 어레이 공정을 완료한 후, 제 1 기판(1) 또는 제 2 기판(2) 중 일 기판에 스페이서(30)를 산포하고, 타 기판의 액티브 영역 주위에 액정 주입구(미도시)를 제외한 영역에 씰 패턴(미도시)을 인쇄(Printing) 또는 디스펜싱(Dispensing)한 후, 상기 제 1, 제 2 기판(1, 2)을 적절히 가압하여 합착한다.
이어, 상기 합착된 제 1, 제 2 기판(1, 2)을 패널 단위로 절단한다.
이어, 상기 액정 주입구를 통해 액정을 주입하여 액정 패널을 형성한다.
이어, 상기 액정 패널과 구동부(미도시) 및 백 라이트 유닛(미도시)을 조합하여 액정 표시 장치를 완성한다.
한편, 액정층을 개재하여 서로 대향되는 박막 트랜지스터 어레이 기판(10)과 컬러 필터 어레이 기판(50)의 최상부면에 형성되는 상기 제 1, 제 2배향막(21, 22)은 배향 물질을 각각의 기판 상에 형성한 후, 이를 소정 방향으로 러빙하는 공정을 진행하여 형성한다.
이하에서는, 러빙 공정에 대해 설명한다.
도 2는 종래의 러빙 챔버에 들어온 기판을 스테이지 상에 장착한 모습을 나타낸 평면도이다.
도 2와 같이, 종래의 러빙 챔버 내부에는 계속적인 러빙 공정으로 러빙 포털(rubbing portal) 등의 이물들이 공기 중에 부유하고 있고, 또한, 상기 스테이지(80) 표면에도 이물(55)들이 묻게 된다.
이 때, 상기 러빙 챔버 내부에 기판(10 또는 50)이 유입되었을 경우, 상기 이물(55)이 묻은 스테이지에 기판이 장착되면, 상기 기판(10 또는 50)이 이물(55)이 묻은 스테이지(80) 상부에 대응되어, 기판(10 또는 50)의 배면에 이물(55)이 묻어나게 된다.
또한, 상기 이물(55)이 큰 사이즈일 경우, 기판(10 또는 50)은 상기 이물(55)로 인한 굴곡(57)이 발생한다.
이 경우, 상기 기판(10 또는 50)이 스테이지(80)에 장착될 경우, 상기 스테 이지(80)에 구비된 진공 장비를 통해 상기 기판(10 또는 50)이 스테이지(80)에 강한 인력이 흡착되어야 하는데, 스테이지(80)의 굴곡(57)이 발생된 부위에서 흡착력이 떨어져 러빙 불균일을 일으킬 수 있다.
도 3은 종래의 러빙포에 기판을 대응시켜 러빙 공정을 진행하는 모습을 나타낸 도면이다.
도 3과 같이, 상기 스테이지(80)를 이동시켜 상기 기판(10 또는 50)을 러빙 포(70)에 대응시켜 러빙 공정을 진행하게 되면, 공기 중에 부유하는 이물(55)에 의해 러빙포(70) 상에 묻은 이물에 의해 상기 기판(10 또는 50) 표면에 이물이 다시 묻을 수도 있고, 또는 상기 기판(10 또는 50) 배면에 묻어있는 이물로 인한 굴곡(57)의 영향으로 해당 부위의 러빙이 원하는 위치에 이루어지지 않을 수도 있다.
상기와 같은 종래의 러빙 장비는 다음과 같은 문제점이 있다.
첫째, 러빙 공정을 계속적으로 진행하는 러빙 챔버 내에는 러빙 포털(rubbing portal) 및 이물이 부유하게 되거나, 스테이지의 표면에 묻게 되어, 스테이지와 기판과의 흡착 상태 불균일을 유발시킬 가능성이 있다.
둘째, 스테이지와 기판 사이의 이물성 찌꺼기에 의해 흡착시 기판 표면에 굴곡진 부분이 발생하므로, 상기 굴곡이 일어난 부위에 러빙 불량을 발생시킨다. 이는 또한, 전체 기판 상에서 러빙 불균일을 유발시키는 문제점을 야기한다.
셋째, 계속적인 러빙 공정으로 공기 중에 부유하는 러빙 포털 및 이물성 찌꺼기는 러빙 포에도 묻게 되어, 러빙 포를 포함한 러빙 롤러를 교체를 야기시켜 비 용의 증가라는 문제점을 발생시킨다.
넷째, 다른 러빙 롤러 교체시 대기 시간이 증가하여, 러빙 전(前)공정 시간이 늘어나는 문제점을 일으킨다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로 러빙 공정을 진행 전 기판을 챔버 내 스테이지에 장착한 후, 챔버 내 오염물을 진공관을 통해 제거시킨 러빙 장비 및 이를 이용한 러빙 방법을 제공하는 데, 그 목적이 있다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 러빙 장비는 기판의 유입구 및 유출구를 구비한 챔버와, 상기 챔버 내에 기판이 장착되는 스테이지와, 상기 스테이지 양측에 위치하며, 스테이지 및 스테이지 주변의 오염물을 빨아들여 배기하는 진공관 및 상기 기판의 진행 방향 상에 위치한 러빙포를 포함하여 이루어짐에 그 특징이 있다.
상기 기판을 반송시키는 반송 수단을 더 포함한다.
또한, 동일한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 러빙 방법은 챔버 내에 기판이 장착되는 스테이지와, 상기 스테이지 양측에 위치하는 진공관 및 상기 기판의 진행 방향 상에 위치한 러빙포를 포함하여 이루어진 러빙 장비를 이용한 러빙 방법에 있어서, 상기 진공관을 통해 상기 기판의 챔버 유입 전 상기 스테이지 상부 및 주변의 이물을 빨아들이는 단계와, 상기 챔버 내에 기판을 유입시켜 상기 스테이지 상에 장착시키는 단계 및 상기 스테이지를 이동시켜 상기 러빙포에 대응하여 러빙을 기판 상에 진행하는 단계를 포함하여 이루어진 것에 그 특징이 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 을 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 4는 본 발명의 러빙 장비를 나타낸 개략도이다.
도 4와 같이, 본 발명의 러빙 장비는 기판의 유입구 및 유출구를 구비한 챔버(미도시)와, 상기 챔버 내에 기판(도 5의 100 참조)이 장착되는 스테이지(110)와, 상기 스테이지(110) 양측에 위치하며, 스테이지(110) 및 스테이지(110) 주변의 오염물을 빨아들여 배기하는 제 1, 제 2 진공관(120a, 120b) 및 상기 기판(100)의 진행 방향 상에 위치한 러빙포(도 5의 130 참고)와, 상기 기판(100)을 반송시키는 반송 수단(미도시)을 포함한다.
러빙 챔버 내부에는 계속적인 러빙 공정으로 러빙 포털(rubbing portal) 등의 이물들이 공기 중에 부유하고 있고, 또한, 상기 스테이지(110) 표면의 기판 대응영역(90)에도 이물(101)들이 묻게 된다.
본 발명의 러빙 장비는 상기 스테이지(110) 상에 기판(100)이 장착되기 전 먼저, 스테이지 양측에 위치한 제 1, 제 2 진공관(120a, 120b)을 이용하여 스테이지(110) 상부에 묻어있거나 상기 스테이지(110) 주위에 부유하는 이물(101)을 빨아들여 이를 러빙 챔버 외부로 배기시키는 점을 특징으로 한다.
따라서, 상기 러빙 챔버 내부에 기판(100)이 유입되었을 경우, 표면에 이물이 제거되어 평탄성이 좋은 스테이지(110)에 기판(100)이 장착되게 되어, 상기 스테이지에 구비된 진공 장비로 상기 기판(100)은 안정하게 스테이지(110) 상에 균일한 평탄성을 갖고 장착이 이루어지는 것이다.
도 5는 본 발명의 러빙 장비를 러빙 포에 대응시키는 모습을 나타낸 도면이 다.
도 5와 같이, 스테이지(110) 상에 기판(100)이 장착된 상태에서 상기 스테이지(110)를 이동시켜 챔버 내에 위치한 러빙포(130)에 대응시키면, 상기 러빙포(130)는 스테이지(110)를 따라 균일한 면을 갖는 기판(100)에 고르게 러빙을 진행할 수 있다.
여기서, 상기 기판(100)은 박막 트랜지스터 어레이 공정 또는 컬러 필터 어레이 공정이 완료된 기판 표면에 배향 물질이 고른 두께로 형성된 상태이다.
상기 스테이지(110)를 이동시켜 상기 기판(100)을 러빙 포(130)에 대응시켜 러빙 공정을 진행하게 되면, 상기 스테이지(110) 주위나 러빙 포(130) 주변에 이물이 제거된 상태에서 러빙이 이루어져 원하는 위치는 고른 러빙을 진행할 수 있게 된다.
본 발명의 러빙 방법은 상술한 러빙 장비를 이용한 것으로, 상기 제 1, 제 2 진공관(120a, 120b)을 통해 상기 기판(100)의 러빙 챔버 유입 전 상기 스테이지(11) 상부 및 주변의 이물을 빨아들이는 단계와, 상기 러빙 챔버 내에 기판(100)을 유입시켜 상기 스테이지(110) 상에 장착시키는 단계 및 상기 스테이지(110)를 이동시켜 상기 러빙포(130)에 대응하여 러빙을 기판(100) 상에 진행하는 단계를 포함하여 이루어진다.
상기와 같은 본 발명의 러빙 장비 및 이를 이용한 러빙 방법은 다음과 같은 효과가 있다.
첫째, 스테이지 상부에 기판 유입 전 스테이지 좌우측 상부에 진공관을 설치하여, 챔버 내에서 비산되어 떨어진 이물 혹은 러빙 진행시 탈리된 러빙 포털 찌꺼기를 제거함으로 스테이지와 기판과의 균일한 접촉과 러빙 진행을 가능하게 한다. 따라서, 스테이지와 기판과의 이물에 의한 갭이 없어, 러빙 진행의 균일성을 유지한다.
둘째, 러빙 진행 전 스테이지 상부에 이물 혹은 러빙 포털(portal) 찌꺼기를 러빙 공정 전에 제거함으로써, 기판에 굴곡진 부분에 발생하지 않아 기판 전면에 러빙을 균일하게 진행한다.
셋째, 진공관을 통해 빨아들인 이물 밑 러빙 포털 등은 상기 러빙 챔버 외부로 배출시켜 러빙 장비 내 환경 개선 효과를 유발한다.

Claims (3)

  1. 기판의 유입구 및 유출구를 구비한 챔버;
    상기 챔버 내에 기판이 장착되는 스테이지;
    상기 스테이지 양측에 위치하며, 스테이지 및 스테이지 주변의 오염물을 빨아들여 배기하는 진공관; 및
    상기 기판의 진행 방향 상에 위치한 러빙포를 포함하여 이루어짐을 특징으로 하는 러빙 장비.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 기판을 반송시키는 반송 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 러빙 장비.
  3. 챔버 내에 기판이 장착되는 스테이지와, 상기 스테이지 양측에 위치하는 진공관 및 상기 기판의 진행 방향 상에 위치한 러빙포를 포함하여 이루어진 러빙 장비를 이용한 러빙 방법에 있어서,
    상기 진공관을 통해 상기 기판의 챔버 유입 전 상기 스테이지 상부 및 주변의 이물을 빨아들이는 단계;
    상기 챔버 내에 기판을 유입시켜 상기 스테이지 상에 장착시키는 단계; 및
    상기 스테이지를 이동시켜 상기 러빙포에 대응하여 러빙을 기판 상에 진행하 는 단계를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 러빙 방법.
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