KR20050102745A - 플라즈마 디스플레이 패널과 이의 제조 방법 - Google Patents

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KR20050102745A
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Abstract

플라즈마 디스플레이 패널과 이의 제조 방법을 개시한다. 본 발명은 방전 전극이 배치된 복수개의 기판을 준비하는 단계;와, 대향되는 기판상에 제 1 격벽을 형성하는 단계;와, 제 1 격벽상에 제 2 격벽을 형성하여서, 적어도 2층 이상의 다중층 구조로 된 격벽를 형성하는 단계;를 포함하는 것으로서, 수회에 걸친 에칭법에 의하여 다중층 격벽 구조를 이루게 됨에 따라서 격벽의 직진성을 확보할 수가 있게 된다. 이에 따라, 방전 공간의 확대로 인하여 형광체 도포 면적이 증가하게 되어서 방전 특성이 향상된다.

Description

플라즈마 디스플레이 패널과 이의 제조 방법{Plasma display panel and the fabrication methode thereof}
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 격벽의 직진성을 확보하여서 방전 공간을 확장시킬 수 있도록 구조와 이에 따른 방법이 개선된 플라즈마 디스플레이 패널과 이의 제조 방법에 관한 것이다.
통상적으로, 플라즈마 디스플레이 패널은 전극이 형성된 두 대향되는 기판 사이에 밀봉된 방전 가스를 방전시키고, 이로 인하여 발생되는 자외선에 의하여 형광체층을 여기시켜 소망하는 숫자, 문자 또는 그래픽을 구현하는 표시 장치이다.
플라즈마 디스플레이 패널은 방전 셀에 인가되는 구동 전압의 형식, 예컨대 방전 형식에 따라 직류형과 교류형으로 분류하고, 전극들의 구성 형태에 따라 대향 방전형 및 면 방전형으로 구분할 수가 있다.
직류형 플라즈마 디스플레이 패널은 모든 전극들이 방전 공간에 노출되는 구조로서, 대응 전극들 사이에 전하의 이동이 직접적으로 이루어진다. 반면에, 교류형 플라즈마 디스플레이 패널은 적어도 한 전극이 유전체층에 매립되고, 대응하는 전극들 사이에 직접적인 전하의 이동이 이루어지지 않은 대신에, 유전체층 표면에 방전에 의하여 생성된 이온과 전자가 부착하여 벽전압(wall voltage)을 형성하고, 유지 전압(sustaing voltage)에 의하여 방전 유지가 가능하다.
한편, 대향 방전형 플라즈마 디스플레이 패널은 단위 화소마다 어드레스 전극과 Y 전극이 대향하여 마련되고, 두 전극간에 어드레싱 방전 및 유지 방전이 일어나는 방식이다. 반면에, 면 방전형 플라즈마 디스플레이 패널은 각 단위 화소마다 어드레스 전극과 그에 해당되는 X 및 Y 전극이 마련되어 어드레싱 방전과 유지 방전이 발생하게 되는 방식이다.
이러한 종래의 플라즈마 디스플레이 패널은 전면 기판과, 이와 대향되게 배치된 배면 기판과, 전면 기판의 아랫면에 배치된 한 쌍의 유지 전극과, 유지 전극을 매립하는 전면 유전체층과, 전면 유전체층의 표면에 코팅된 보호막층과, 배면 기판의 윗면에 코팅된 어드레스 전극과, 어드레스 전극을 매립하는 배면 유전체층과, 전면 및 배면 기판 사이에 설치된 격벽과, 격벽 내측의 방전 공간에 코팅된 적,녹,청색의 형광체층을 포함하고 있다.
이때, 격벽은 기판을 세정하고, 격벽 형성용 원소재를 전면 도포하고, 이를 건조한 다음에 포토 마스크를 정렬하여서 노광 및 현상하고, 샌드 블라스트(sand blast) 공법으로 격벽이 형성되는 부분 이외의 격벽 형성용 원소재를 제거하고, 잔류하는 포토 레지스터층을 박리하고,소성하여 완성하게 된다.
이러한 과정을 통하여 완성된 종래의 격벽은 샌드 블라스트 공법을 사용함에 따라서 탄산칼슘(CaCO3)과 같은 연마제가 기판상에 고압으로 분사되는 과정에서 기판상에 미세한 흠을 발생시킬 문제점이 있다.
이에 따라, 최근 들어서는 격벽 형성용 원소재를 기판상에 도포한 다음에 포토 레지스터층를 형성하고, 이를 노광 및 현상한 다음에 방전 공간이 형성될 부분에 에칭액을 분사하여 격벽을 성형하는 에칭 공법이 적용되고 있는 추세이다.
한국 공개 특허 제2000-13228호에는 기판상에 홈을 형성한 이후에 에칭하여서, 폭보다 높이가 큰 격벽을 개시하고 있으며, 한국 공개 특허 제1993-8917호에는 기판상에 직접적인 에칭을 통하여 격벽을 성형하는 것을 도시하고 있다.
도 1a 내지 도 1e는 종래의 격벽을 형성하기 위한 과정을 순차적으로 도시하고 있다.
도면을 참조하면, 기판(111) 상에 소정 패턴의 어드레스 전극(112)을 패턴화시키고, 상기 어드레스 전극(112)을 유전체층(113)에 의하여 매립한 다음에, 상기 유전체층(113)의 윗면에 격벽 형성용 원소재(114)를 전면 도포하게 된다.(도 1a)
다음으로, 상기 격벽 형성용 원소재(114)의 윗면에 포토 레지스터층(115)을 전면 도포하게 된다.(도 1b) 포토 레지스터층(115)의 도포가 완료된 다음에는 그 상부로부터 포토 마스크(116)를 정렬하고, 노광 및 현상을 거치게 된다.(도 1c)
이어서, 에칭에 의하여 격벽 형성용 원소재(114)의 불필요한 부분을 제거하여서, 소망하는 형상의 격벽(117)을 형성하게 된다. 이때, 상기 격벽(114)의 윗면에는 포토 레지스터층(115)이 잔류하고 있으며(도 1d), 후속 공정으로 잔류하는 포토 레지스터층(115)을 제거하여서 격벽(117)을 완성하게 된다.
그런데, 에칭 공법에 의하여 형성된 격벽(117)은 격벽 형성용 원소재(114)의 측면 형상이 움푹 파인 것과 같은 현상이 일어나게 된다. 이에 따라, 격벽(117)의 상단부의 폭(W1)에 비하여 중앙부의 폭(W2)은 상당폭으로 줄어들게 된다. 이는 상기 격벽(117)의 소망하는 높이(H1)를 가지기 위하여 등방향 에칭 속도에 따라 발생되는 언더 컷(under cut) 현상에 기인한다.
예컨대, 격벽(117)의 상단부의 폭(W1)을 40 마이크로미터로 성형할 경우에 에칭 메커니즘에 의하여 중앙부의 폭(W2)은 그 절반인 20 마이크로미터밖에 성형되지 않는다. 이에 따라, 격벽(117) 측면의 형광체가 발광시 발광 진로를 방해할 뿐만 아니라, 방전 공간이 작아져서 발광 효율이 저하된다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 에칭 공법에 의하여 이중 격벽을 형성함에 따라서 격벽의 직진성을 확보하게 되어서 방전 특성이 향상된 플라즈마 디스플레이 패널과 이의 제조 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 일 측면에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은,
서로 대향되게 배치된 복수개의 기판;
상기 기판의 대향되는 면에 패턴화된 방전 전극;
상기 방전 전극을 매립하는 유전체층;
상기 대향되는 기판 사이에 배치되며, 적어도 2층 이상의 다중층 구조로 된 격벽; 및
상기 격벽의 내측면에 도포된 적,녹,청색의 형광체층;을 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 격벽은 상기 기판상에 형성된 제 1 격벽과, 상기 제 1 격벽의 상단부에 형성된 제 2 격벽을 포함하는 것을 특징으로 한다.
더욱이, 상기 제 2 격벽은 상기 제 1 격벽과 실질적으로 동일한 형상인 것을 특징으로 한다.
아울러, 상기 제 2 격벽은 상기 제 1 격벽과 일체로 형성된 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 측면에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법은,
방전 전극이 배치된 복수개의 기판을 준비하는 단계;
대향되는 기판상에 제 1 격벽을 형성하는 단계; 및
상기 제 1 격벽상에 제 2 격벽을 형성하여서, 적어도 2층 이상의 다중층 구조로 된 격벽를 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 격벽은 적어도 2회 이상의 에칭을 반복하여 형성하는 것을 특징으로 한다.
게다가, 제 1 격벽을 형성하는 단계에서는,
상기 기판상에 제 1 격벽 형성용 원소재를 도포하는 단계;
상기 제 1 격벽 형성용 원소재상에 제 1 포토 레지스터를 도포하는 단계;
상기 제 1 포토 레지스터를 노광 및 현상하여 제 1 격벽의 패턴을 형성하는 단계;
상기 제 1 격벽 형성용 원소재상에 제 1 에칭하여 제 1 격벽을 형성하는 단계; 및
상기 제 1 격벽상에 잔류하는 제 1 포토 레지스터를 박리하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
더욱이, 제 1 격벽상에 제 2 격벽을 형성하기 이전에는,
제 1 격벽 사이의 공간에 제 2 포토 레지스터층을 패턴화시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
나아가, 제 2 격벽을 형성하는 단계에서는,
상기 제 2 격벽과, 제 2 포토 레지스터층상에 제 2 격벽 형성용 원소재를 도포하는 단계;
상기 제 2 격벽 형성용 원소재상에 제 3 포토 레지스터를 도포하는 단계;
상기 제 3 포토 레지스터를 노광 및 현상하여 제 2 격벽의 패턴을 형성하는 단계;
상기 제 2 격벽 형성용 원소재상에 제 2 에칭하여 제 2 격벽을 형성하는 단계; 및
상기 제 1 격벽 사이에 잔류하는 제 2 포토 레지스터와, 상기 제 2 격벽상에 잔류하는 제 3 포토 레지스터를 박리하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
이하에서 첨부된 도면을 참조하면서 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널을 상세하게 설명하고자 한다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널(200)을 일부 절제하여 도시한 것이다.
도면을 참조하면, 상기 플라즈마 디스플레이 패널(200)에는 전면 기판(210)과, 상기 전면 기판(210)과 대향되게 배치되는 배면 기판(250)이 마련되어 있다.
상기 전면 기판(210)의 아랫면에는 유지 전극(220)이 패턴화되어 있다. 상기 유지 전극(220)은 스트립 형상으로 배치된 버스 전극(221)과, 인접한 버스 전극(221)의 내측벽으로부터 대향되는 방향으로 돌출한 소정 크기의 X 전극(222)과, Y 전극(223)을 포함하고 있다. 상기 X 및 Y 전극(222)(223)은 상기 버스 전극(221)의 내측벽을 따라서 길이 방향으로 소정 간격 이격되게 배치되어 있으며, 대향되는 X 전극(222)과 Y 전극(223)은 하나의 방전 공간(S)에 위치하고 있다.
상기 전면 기판(210)에는 상기 버스 전극(221)과, X 전극(222)과, Y 전극(223)을 공히 매립하기 위하여 전면 유전체층(230)이 형성되어 있다. 상기 전면 유전체층(230)의 표면에는 산화 마그네슘막과 같은 보호막층(240)이 전면 도포되어 있다.
상기 배면 기판(250)의 윗면에는 소정 간격 이격되게 어드레스 전극(260)이 형성되어 있다. 상기 어드레스 전극(260)은 상기 버스 전극(221)이 배치된 방향과 직교하는 방향으로 위치하고 있다. 상기 어드레스 전극(260)의 윗면에는 이를 매립하기 위하여 배면 유전체층(270)이 형성되어 있다. 상기 배면 유전체층(270)의 윗면에는 방전 공간을 구획하고, 크로스 토크를 방지하기 위하여 격벽(280)이 형성되어 있다. 상기 배면 유전체층(270)의 윗면과 격벽(280)의 내측면에는 방전 공간별로 적,녹,청색의 형광체층(290)이 코팅되어 있다.
본 발명의 특징에 따르면, 상기 플라즈마 디스플레이 패널(200)은 적어도 2회 이상의 에칭 공법에 의하여 다중층 격벽을 형성하여서 격벽의 직진성을 확보한데에 있다.
보다 상세하게 설명하면 다음과 같다.
상기 배면 기판(250) 상에는 방전 공간을 구획하는 격벽(280)이 형성되어 있다. 상기 격벽(280)은 상기 배면 유전체층(270)의 표면에 직접적으로 패턴화된 제 1 격벽(281)과, 상기 제 1 격벽(281)의 상단부에 형성되는 제 2 격벽(282)을 포함하고 있다. 상기 제 2 격벽(282)은 상기 제 1 격벽(281)의 상단면에 이와 일체로 형성되며, 상기 제 1 격벽(281)의 형상과 실질적으로 동일한 형상이다. 이에 따라, 상기 제 1 및 제 2 격벽(281)(282)은 상하로 이중층 구조를 이루고 있다.
이러한 격벽(280)중 일부 격벽(283)은 어드레스 전극(260)과 직교하는 방향으로 배치되며, 나머지 격벽(284)은 상기 어드레스 전극(260)과 나란한 방향으로 배치되어 있다. 본 실시예에서는 상기 격벽(280)이 격자형 구조를 이루어서 방전 공간을 구획하고 있다. 대안으로는, 상기 격벽(280)은 스트립형으로 형성될 수도 있으며, 와플형(waffle type)이나, 미앤더 타입(meander type)등 방전 공간을 구획하는 구조라면 어느 한 구조에 한정되지 않는다.
이하, 본 발명의 실시예에 따른 격벽을 제조하기 위한 제조 공정을 도 3a 내지 3l을 참조하면서 단계별로 상세하게 설명하고자 한다.
먼저, 도 3에 도시된 바와 같이, 투명한 글래스로 된 기판(311)을 마련한다. 마련된 기판(311) 상에는 어드레스 전극(312)을 인쇄하여 소성하게 된다. 상기 어드레스 전극(312)은 상기 기판(311)상의 어느 한 방향으로 소정 간격 이격되게 패턴화되어 있다. 그리고, 상기 기판(311) 상에는 상기 어드레스 전극(312)을 매립하기 위하여 유전체층(313)을 코팅하게 된다.
다음으로, 도 3b에 도시된 바와 같이, 상기 배면 기판(311) 상에는 제 1 격벽 형성용 원소재(314)를 전면 인쇄하게 된다. 상기 제 1 격벽 형성용 원소재(314)는 다양한 방법으로 전면 코팅할 수 있으며, 본 실시예에서는 스크린(315) 상에 제 1 격벽 형성용 원소재(314)를 적재하고, 스퀴지(316)를 일방향으로 진행시킴에 따라 전면 도포가 가능하다.
이어서, 도 3c에 도시된 바와 같이, 상기 격벽 형성용 원소재(314)의 윗면에 제 1 포토 레지스터(317)를 전면 도포하게 된다.
도포된 제 1 포토 레지스터(317)의 상부에는 도 3d에 도시된 바와 같이 이로부터 소정 간격 이격되게 포토 마스크(318)를 정렬하고, 자외선을 쬐여서 노광 및 현상 공정을 수행하게 된다.
이에 따라, 도 3e에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 격벽 형성용 원소재(317)의 표면에는 형성시키고자 하는 형상, 예컨대 격자형의 제 1 격벽과 대응되는 부분에만 제 1 포토 레지스터(317)가 남게 되고, 그 나머지 부분은 제거된다.
제 1 격벽과 대응되는 제 1 포토 레지스터(317)의 패턴이 남은 다음에는 그 상부에서 노즐(318)을 통하여 에칭액(319)을 분사하여 소정 시간 침식시켜서 도 3f에 도시된 바와 같이 소망하는 형상의 제 1 격벽(320)을 형성하게 된다. 이때, 제 1 격벽(320)은 에칭액(319)의 등방향 에칭 속도에 따른 제 1 에칭에 의하여 형성된다.
다음으로, 도 3g에 도시된 바와 같이, 제 1 격벽(320)에 잔류하는 제 1 포토 레지스터(317)를 박리하여, 이를 완성하게 된다.
제 1 격벽(320)의 성형이 완료되면, 도 3h에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 격벽(317) 사이의 빈 공간에 제 2 포토 레지스터(321)를 전면 도포하고, 노광 및 현상하여 패턴화시킨다. 실질적으로, 상기 제 2포토 레지스터(321)의 두께는 30 마이크로미터정도로, 상기 제 1 격벽(317) 사이의 빈 공간에 침투하기 보다는 빈 공간을 차단하게 된다.
이어서, 도 3i에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 격벽(320)과, 제 2 포토 레지스터(321)의 윗면에는 제 2 격벽 형성용 원소재(322)를 전면 도포하게 된다.
제 2 격벽 형성용 원소재(322)의 도포가 완료되면, 도 3j에 도시된 바와 같이, 상기 제 2 격벽 형성용 원소재(322)의 윗면에 제 3 포토 레지스터(323)를 전면 도포하게 된다. 도포된 제 3 포토 레지스터(323)는 전술한 바와 같이 이로부터 소정 간격 이격되게 포토 마스크를 설치하고, 노광 및 현상을 하여 격자형으로 패턴화시킨다. 이때, 상기 제 3 포토 레지스터(323)는 제 1 격벽(320)과 대응되는 부분의 제 2 격벽 형성용 원소재(322) 상에 패턴화되어 있다.
다음으로, 도 3k에 도시된 바와 같이, 상기 제 3 포토 레지스터(323) 사이에는 노즐을 통하여 에칭액을 도포하여서 제 2 에칭을 수행하게 된다. 이러한 에칭액의 등방향 에칭 속도에 따라서, 상기 제 1 격벽(320)의 상단부에는 제 2 격벽(324)이 형성된다. 상기 제 2 격벽(324)은 실질적으로 상기 제 1 격벽(320)과 동일한 형상이다.
이어서, 도 3l에 도시된 바와 같이, 상기 제 2 격벽(324)의 상단부에 잔류하는 제 3 포토 레지스터(323)와, 제 1 격벽(320) 사이에 잔류하는 제 2 포토 레지스터(320)를 박리하여서 제 2 격벽(324)을 완성하게 된다.
이러한 제 1 및 제 2 차 에칭에 의하여 형성된 제 1 및 제 2 격벽(320)(324)은 이중층 구조를 이루고 있다. 상기 격벽은 적어도 2회 이상의 에칭에 의하여 형성된 다중층 구조라면 상술한 실시예의 이중층 구조에 한정된 것은 아니다. 또한, 상기 제 1 및 제 2 격벽(320)(324)의 전체 높이(H2)는 종래의 격벽(117,도 1e 참조)의 높이(H2)와 실질적으로 동일하다.
이에 따라, 완성된 격벽(320)(324)은 적어도 2회 이상에 걸쳐서 완성되었으므로, 에칭액의 등방향 에칭 속도에 따라서 에칭시에 나타나는 언더 컷 현상을 크게 줄일 수 있다. 즉, 제 2 격벽(324)의 중앙부의 폭(W4)은 상단부의 폭(W3)에 비하여 파먹힘 현상을 줄일 수 있다. 이는 상기 제 1 및 제 2 격벽(320)(324) 각각의 높이가 종래의 경우보다 낮음에 따라서 동일한 높이를 가지는 격벽의 경우라면 수회에 걸친 에칭에 의하여 움푹 파이는 폭이 상대적으로 좁아지기 때문이다.
본 출원인의 실험에 따르면 표 1에 도시된 바와 같은 결과을 얻을 수 있었다.
비교예 실시예 차이 향상비율
F/W 휘도 174 cd/m2 201 cd/m2 27 cd/m2 15.5%
발광 효율 1.07 lu/w 1.17 lu/w 0.1 lu/w 9.34%
실시예는 상술한 도 3a 내지 3l에 의하여 제 1 차 및 제 2 차 에칭법으로 제조된 이중층 구조로 된 격벽이 형성된 경우이고, 비교예는 종래의 방법에 의하여 제조된 단일층 구조로 된 격벽이 형성된 경우로서, 패널 조립체의 풀 칼라(full color, F/W) 휘도와, 이에 따른 발광 효율을 측정한 것이다.
표 1을 참조하면, 본 실시예의 경우는 풀 칼라 휘도가 201 cd/m2 인데 비하여, 비교예의 풀칼라 휘도는 174 cd/m2로서, 27 cd/m2 정도의 휘도 차이가 났으며, 15.5%의 휘도 향상을 나타내 보였다. 또한, 본 실시예의 경우에는 발광 효율이 1.17 lu/w인데 비하여, 비교예의 발광 효율은 1.07 lu/w로서, 0.1 lu/w 정도의 효율 차이가 났으며, 9.34%의 효율 향상을 나타내 보였다.
이러한 방전 특성의 향상은 격벽을 수회에 걸친 에칭법에 의하여 제조함에 따라서, 격벽의 높이가 상대적으로 낮아지게 되어서 에칭액의 등방향 에칭 속도에 따른 깊이 방향으로 에칭으로 일어날 때 폭 방향으로 파먹힘 현상에 대한 절대 수치가 감소하는데 기인한 것이다.
이상의 설명에서와 같이 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널과 이의 제조 방법은 다음과 같은 효과를 얻을 수 있다.
첫째, 수회에 걸친 에칭법에 의하여 다중층 격벽 구조를 이루게 됨에 따라서 격벽의 직진성을 확보할 수가 있게 된다. 이에 따라, 방전 공간의 확대로 인하여 형광체 도포 면적이 증가하게 되어서 방전 특성이 향상된다.
둘째, 격벽의 파먹힘 현상이 줄어듬에 따라서 발광 능력이 향상되고, 휘도 및 발광 효율이 향상된다.
셋째, 격벽이 다중층을 이루게 됨에 따라서, 격벽이 무너지는 등의 파손 현상을 미연에 방지할 수가 있게 된다.
본 발명은 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 등록청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.
도 1a 내지 도 1e는 종래의 격벽을 제조하기 위한 과정을 순차적으로 도시한 것으로서,
도 1a는 종래의 기판상에 격벽 형성용 원소재를 도포한 이후의 상태를 도시한 단면도,
도 1b는 도 1a의 기판상에 포토 레지스터층을 코팅한 이후의 상태를 도시한 단면도,
도 1c는 도 1b는 도 1b의 기판상에 노광, 현상하는 상태를 도시한 단면도,
도 1d는 도 1c의 기판상에 격벽이 형성된 이후의 상태를 도시한 단면도,
도 1e는 도 1d의 기판상에 잔류하는 포토 레지스터층을 박리한 이후의 상태를 도시한 단면도,
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널을 도시한 단면도,
도 3a 내지 도 3l은 본 발명의 일 실시예에 따른 격벽을 제조하기 위한 과정을 순차적으로 도시한 것으로서,
도 3a는 본 발명의 기판상에 어드레스 전극을 패턴화시킨 이후의 상태를 도시한 단면도,
도 3b는 도 3a의 기판상에 제 1 격벽 형성용 원소재를 도포하는 상태를 도시한 단면도,
도 3c는 도 3b의 기판상에 제 1 포토 레지스터층이 코팅된 이후의 상태를 도시한 단면도,
도 3d는 도 3c의 기판상에 노광, 현상하는 상태를 도시한 단면도,
도 3e는 도 3d의 기판상에 에칭하는 상태를 도시한 단면도,
도 3f는 도 3e의 기판상에 제 1 격벽을 형성한 이후의 상태를 도시한 단면도,
도 3g는 도 3f의 기판상에 잔류하는 제 1 포토 레지스터층을 박리한 이후의 상태를 도시한 단면도,
도 3h는 도 3g의 제 1 격벽 사이에 제 2 포토 레지스터층을 코팅한 이후의 상태를 도시한 단면도,
도 3i는 도 3h의 기판상에 제 2 격벽 형성용 원소재를 도포한 이후의 상태를 도시한 단면도,
도 3j는 도 3i의 기판상에 제 2 포토 레지스터층을 패턴화한 이후의 상태를 도시한 단면도,
도 3k는 도 3j의 기판상에 제 2 격벽을 형성한 이후의 상태를 도시한 단면도,
도 3l는 도 3k의 기판상에 제 1 격벽과 제 2 격벽의 결합으로 된 격벽을 형성한 이후의 상태를 도시한 단면도.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 간단한 설명>
200...플라즈마 디스플레이 패널
210...전면 기판 220...유지 전극
230...전면 유전체층 240...배면 유전체층
250...배면 기판 260...어드레스 전극
270...배면 유전체층 280...격벽
281...제 1 격벽 282...제 2 격벽
290...형광체층

Claims (12)

  1. 서로 대향되게 배치된 복수개의 기판;
    상기 기판의 대향되는 면에 패턴화된 방전 전극;
    상기 방전 전극을 매립하는 유전체층;
    상기 대향되는 기판 사이에 배치되며, 적어도 2층 이상의 다중층 구조로 된 격벽; 및
    상기 격벽의 내측면에 도포된 적,녹,청색의 형광체층;을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 격벽은 상기 기판상에 형성된 제 1 격벽과, 상기 제 1 격벽의 상단부에 형성된 제 2 격벽을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 제 2 격벽은 상기 제 1 격벽과 실질적으로 동일한 형상인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  4. 제 2 항에 있어서,
    상기 제 1 및 제 2 격벽을 구비한 격벽은 격자형으로 배치된 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  5. 제 2 항에 있어서,
    상기 제 2 격벽은 상기 제 1 격벽과 일체로 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  6. 방전 전극이 배치된 복수개의 기판을 준비하는 단계;
    대향되는 기판상에 제 1 격벽을 형성하는 단계; 및
    상기 제 1 격벽상에 제 2 격벽을 형성하여서, 적어도 2층 이상의 다중층 구조로 된 격벽를 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 격벽은 적어도 2회 이상의 에칭을 반복하여 형성하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
  8. 제 7 항에 있어서,
    제 1 격벽을 형성하는 단계에서는,
    상기 기판상에 제 1 격벽 형성용 원소재를 도포하는 단계;
    상기 제 1 격벽 형성용 원소재상에 제 1 포토 레지스터를 도포하는 단계;
    상기 제 1 포토 레지스터를 노광 및 현상하여 제 1 격벽의 패턴을 형성하는 단계;
    상기 제 1 격벽 형성용 원소재상에 제 1 에칭하여 제 1 격벽을 형성하는 단계; 및
    상기 제 1 격벽상에 잔류하는 제 1 포토 레지스터를 박리하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
  9. 제 7 항에 있어서,
    제 1 격벽상에 제 2 격벽을 형성하기 이전에는,
    제 1 격벽 사이의 공간에 제 2 포토 레지스터층을 패턴화시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
  10. 제 9 항에 있어서,
    제 2 격벽을 형성하는 단계에서는,
    상기 제 2 격벽과, 제 2 포토 레지스터층상에 제 2 격벽 형성용 원소재를 도포하는 단계;
    상기 제 2 격벽 형성용 원소재상에 제 3 포토 레지스터를 도포하는 단계;
    상기 제 3 포토 레지스터를 노광 및 현상하여 제 2 격벽의 패턴을 형성하는 단계;
    상기 제 2 격벽 형성용 원소재상에 제 2 에칭하여 제 2 격벽을 형성하는 단계; 및
    상기 제 1 격벽 사이에 잔류하는 제 2 포토 레지스터와, 상기 제 2 격벽상에 잔류하는 제 3 포토 레지스터를 박리하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
  11. 제 7 항에 있어서,
    제 2 격벽을 형성하는 단계에서는,
    제 2 격벽은 상기 제 1 격벽과 상응하는 형상으로 패턴화시키는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
  12. 제 7 항에 있어서,
    상기 제 2 격벽은 제 1 격벽에 대하여 일체로 결합되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
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