KR20050092848A - Manufacturing method of prism film using the exposure system and exposure system - Google Patents

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Abstract

본 발명은 포토마스크 이동방식 연속 노광 시스템 및 이 노광 시스템을 이용한 프리즘 필름 제조방법에 관한 것으로서, 인쇄회로기판, 반도체, 평판디스플레이 등의 제조공정 중에서 노광공정 진행 중에 패턴이 형성된 포토마스크가 포토레지스터가 도포된 매질을 따라 이동되도록 함으로써, 노광공정시 제조공정이 멈추지 않아 연속생산이 가능하여 생산성 향상을 도모하도록 한 포토마스크 이동방식 연속 노광 시스템과; 사용 패턴이 인각된 롤러를 이용한 연속 롤상에서의 패턴 이미지를 형성하는 프리즘 필름과 같은 구조물 형성에 상기 포토마스크 이동방식 연속 노광 시스템을 적용하여 인각롤러의 사용 없이도 원하는 다양한 패턴을 간단하게 제조할 수 있도록 한 포토마스크 이동방식 연속 노광 시스템을 이용한 프리즘 필름 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photomask transfer type continuous exposure system and a method of manufacturing a prism film using the exposure system, wherein a photomask in which a pattern is formed during an exposure process in a manufacturing process of a printed circuit board, a semiconductor, a flat panel display, or the like is used. A photomask transfer continuous exposure system configured to move along the applied medium so that the production process does not stop during the exposure process, thereby enabling continuous production to improve productivity; By applying the photomask moving continuous exposure system to the formation of a structure such as a prism film that forms a pattern image on a continuous roll using a roller having an engraving pattern used, it is possible to easily manufacture various patterns without using an engraving roller. A method of manufacturing a prism film using a photomask moving continuous exposure system is provided.

Description

포토마스크 이동방식 연속 노광 시스템 및 이 노광 시스템을 이용한 프리즘 필름 제조방법{Manufacturing method of prism film using the exposure system and exposure system}Photomask transfer continuous exposure system and manufacturing method of prism film using the exposure system {Manufacturing method of prism film using the exposure system and exposure system}

본 발명은 포토마스크 이동방식 연속 노광 시스템 및 이 노광 시스템을 이용한 프리즘 필름 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 인쇄회로기판, 반도체, 평판디스플레이 등의 제조공정에서 노광공정 중에 패턴이 형성된 포토마스크가 포토레지스트가 도포된 매질을 따라 이동하도록 함으로써, 노광공정시 제조공정이 멈추지 않아 연속생산이 가능하여 생산성 향상을 도모하도록 한 포토마스크 이동방식 연속 노광 시스템과; The present invention relates to a photomask transfer continuous exposure system and a method of manufacturing a prism film using the exposure system, and more particularly, a photomask having a pattern formed during an exposure process in a manufacturing process of a printed circuit board, a semiconductor, a flat panel display, or the like. A photomask transfer continuous exposure system configured to move along the medium to which the photoresist is applied so that the manufacturing process does not stop during the exposure process and thus continuous production is possible to improve productivity;

패턴 이미지가 형성된 프리즘 필름과 같은 구조물을 제조함에 있어서, 상기와 같은 포토마스크 이동방식 연속 노광 시스템을 적용함으로써, 인각롤러의 사용 없이도 원하는 다양한 패턴을 간단하게 제조할 수 있도록 한 포토마스크 이동방식 연속 노광 시스템을 이용한 프리즘 필름 제조방법에 관한 것이다.In manufacturing a structure such as a prism film on which a pattern image is formed, by applying the photomask moving continuous exposure system as described above, the photomask moving continuous exposure can be easily produced without the use of engraving rollers. It relates to a prism film production method using the system.

일반적으로, 인쇄회로기판, 반도체, 평판디스플레이(액정디스플레이, 플라즈마 디스플레이, 유기전계발광 디스플레이 등) 등을 제조하기 위해서는 여러 단계의 공정을 거치게 되는데, 이러한 공정들 중 필름이나 기판 등의 매질에 감광막 패턴을 형성하기 위한 노광공정은 매우 중요한 공정 중 하나이다.In general, in order to manufacture a printed circuit board, a semiconductor, a flat panel display (liquid crystal display, plasma display, organic light emitting display, etc.), there are several steps. Among these processes, a photoresist pattern is applied to a medium such as a film or a substrate. The exposure process for forming a film is one of very important processes.

이러한 노광공정은, 포토레지스트가 도포된 매질이 노광 시스템에 이르면, 광원이 패턴이 형성된 포토마스크를 조사하여 상기 매질에 패턴이 형성되도록 하는 공정이다.Such an exposure step is a process in which a light source irradiates a photomask on which a pattern is formed to form a pattern on the medium when the medium on which the photoresist is applied reaches the exposure system.

도 1은 종래의 노광 시스템을 개략적으로 도시한 것으로서, 도시된 바와 같이, 전 단계의 공정을 거치고 노광 시스템(2)에 이른 포토레지스트가 도포된 매질(10)은 패턴(6)이 형성된 포토마스크(8)와 일치된 지점에서 멈추게 된다.1 is a schematic illustration of a conventional exposure system. As shown, the photoresist 10, which has undergone a previous step and has been applied to the exposure system 2, has a photomask on which a pattern 6 is formed. It stops at the point coinciding with (8).

이와 같이, 포토마스크(8)와 일치된 지점에 매질(10)이 멈추게 되면, 광원이 포토마스크(8)를 조사하여 이 포트마스크(8)에 형성된 패턴(6)을 포토레지스트가 도포된 매질(10)에 동일 또는 위상반전된 상태의 패턴을 형성시킨 후, 상기 매질(10)은 후공정을 위해 이동하게 된다.As such, when the medium 10 stops at a point coinciding with the photomask 8, the light source irradiates the photomask 8 to apply the photoresist-coated medium to the pattern 6 formed on the port mask 8. After the same or phase inverted pattern is formed in (10), the medium (10) is moved for later processing.

따라서, 상기 매질(10)은 노광공정을 위해서 일정시간 광원(4)으로부터 조사되어야 함으로써, 이 시간 동안 멈춘 상태를 유지하여야 하는 바, 상기 노광공정에서 공정 자체가 멈추어야만 하므로, 전체적인 제조공정 시간이 길어져 생산성이 저하되는 문제점이 있었다.Therefore, since the medium 10 should be irradiated from the light source 4 for a predetermined time for the exposure process, the medium 10 should be stopped for this time. Therefore, the process itself must be stopped in the exposure process, so that the overall manufacturing process time is increased. There was a problem in that the productivity is lowered.

또한, 도 2는 종래의 다른 노광 시스템을 도시한 것으로서, 이는 연성 인쇄회로기판의 제조공정 중에 구리로 이루어진 얇은 막에 패터닝(Pattening)을 하는 롤투롤(Roll to Roll)방식을 나타낸 것이다.2 illustrates another conventional exposure system, which illustrates a roll to roll method for patterning a thin film made of copper during a manufacturing process of a flexible printed circuit board.

상기와 같은 롤투롤 방식의 패터닝 공정에서도 노광이 진행되는 동안에는 전체 롤이 멈추어야만 함으로써, 역시 전체 공정시간이 길어져 생산효율이 좋지 못하게 되고, 또한 롤의 정지에 따라 구리로 이루어진 얇은 막(20)이 처지는 등으로 인하여 불량발생의 원인이 되는 문제점이 있었다.In the roll-to-roll patterning process as described above, the entire roll must be stopped during the exposure, and thus, the overall process time is long, resulting in poor production efficiency, and the thin film 20 made of copper is formed as the roll is stopped. There was a problem that causes the occurrence of defects due to sagging.

한편, 대만민국 공개특허공보 제2003-84949호에서는 자외선 경화형 레진을 사용하여 매질에 패터닝을 하는 것으로서, "미세 구조 복합 물품을 제조하기 위한 스트라이프 코팅방법"을 개시하고 있다.Meanwhile, Taiwan Patent Publication No. 2003-84949 discloses a "stripe coating method for producing a microstructured composite article" by patterning a medium using an ultraviolet curable resin.

이러한 "미세 구조 복합 물품을 제조하기 위한 스트라이프 코팅방법"에서는 도 3에서와 같이, 사용 패턴이 인각되고 그 표면에 수지 복합물이 도포된 롤러(22)에 기판(24)이 롤(26)의 안내를 따라 구동되면서 광원(28)의 조사로 인하여 패턴(30)이 형성되는 것으로서, 이러한 방법은 현재 액정 디스플레이 장치에서 휘도 향상용으로 사용되고 있는 프리즘 필름(32)(도 4 참조)의 제조공정에 적용되고 있다.In this "stripe coating method for producing a microstructured composite article ", as shown in FIG. 3, the substrate 24 guides the roll 26 to a roller 22 having a usage pattern imprinted thereon and a resin composite coated on the surface thereof. The pattern 30 is formed by the irradiation of the light source 28 while being driven along the surface, and this method is applied to the manufacturing process of the prism film 32 (see FIG. 4), which is currently used for brightness enhancement in a liquid crystal display device. It is becoming.

그러나, 상기와 같은 방법은, 롤러에 인각된 패턴이 제한되어 다양한 패턴을 갖는 다른 품종의 생산에 한계가 있었다. However, the above method has a limitation in the production of other varieties having various patterns due to the restriction of the patterns engraved on the rollers.

이에, 다른 패턴의 필름을 제조하기 위해서는 새로운 롤러를 제작하여야 함으로써, 제조원가의 상승이 유발되고, 또한 롤러에 인각된 홈 사이에 채워진 수지 복합물이 자외선 경화 후 탈거되지 않아 일일이 이를 제거해야 하는 등 제조공정이 어려운 문제점이 있었다.Therefore, in order to manufacture a film of a different pattern, a new roller must be manufactured, which leads to an increase in manufacturing cost, and the resin composite filled between the grooves indented in the roller is not removed after UV curing, and thus must be removed one by one. There was this difficult issue.

다시 말해서, 프리즘 필름과 같이 인각된 롤러에 의하여 원하는 패턴을 형성하는 시스템의 경우 패턴 형성이 인각된 롤러의 모양에 한정되어 있으며, 다양한 패턴의 필름을 제조하기 인각 롤러의 신규 제작이 불가피한 바, 제조비용의 상승과 여러 가지의 패턴을 형성하기가 어려우며, 인각된 롤러의 홈에서 자외선 경화 레진의 부착 문제로 인하여 공정진행 중 불량이 발생하는 어려움이 있었던 것이다.In other words, in the case of a system for forming a desired pattern by a rolled roller, such as a prism film, the pattern formation is limited to the shape of the rolled roller. It is difficult to increase the cost and to form a variety of patterns, there was a difficulty in generating a defect during the process due to the problem of adhesion of the UV cured resin in the groove of the stamped roller.

이에, 본 발명은 상기와 같은 제반 문제점들을 해소하기 위하여 안출된 것으로서, 인쇄회로기판, 반도체, 평판디스플레이 등의 제조공정에서 노광공정 중에 패턴이 형성된 포토마스크가 포토레지스터가 도포된 매질을 따라 이동하도록 함으로써, 노광공정시 제조공정이 멈추지 않아 연속생산이 가능하여 생산성 향상을 도모하도록 한 포토마스크 이동방식 연속 노광 시스템을 제공하는데 그 목적이 있다.Accordingly, the present invention has been made to solve the above problems, such that the patterned photomask during the exposure process in the manufacturing process of a printed circuit board, semiconductor, flat panel display, etc. moves along the medium on which the photoresist is applied. It is therefore an object of the present invention to provide a photomask moving continuous exposure system that enables continuous production without interrupting the manufacturing process during the exposure process, thereby improving productivity.

또한, 본 발명은, 사용 패턴이 인각된 롤러를 이용한 연속 롤상에서의 패턴 이미지를 형성하는 프리즘 필름과 같은 구조물 형성에 있어서, 상기 포토마스크 이동방식 연속 노광 시스템을 적용하여 인각롤러의 사용 없이도 원하는 다양한 패턴을 간단하게 제조할 수 있도록 한 포토마스크 이동방식 연속 노광 시스템을 이용한 프리즘 필름 제조방법을 제공하는데 다른 목적이 있다.In addition, the present invention, in the formation of a structure such as a prism film for forming a pattern image on a continuous roll using a roller having a use pattern is stamped, by applying the photomask moving continuous exposure system to a variety of desired without the use of a stamping roller Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing a prism film using a photomask moving continuous exposure system capable of simply manufacturing a pattern.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 포토마스크 이동방식 연속 노광 시스템은, 광원부의 광 조사로 포토마스크의 패턴을 포토레지스트가 도포된 매질에 패터닝하는 노광 시스템에 있어서, 상기 포토레지스트가 도포된 매질이 노광 공정의 전 공정과, 노광 공정 및 후 공정으로 정지됨 없이 일정한 속도로 이동되도록 한 것과; 상기 광원부의 광 조사로 포토레지스트가 도포된 매질에 패터닝이 이루어지도록 패턴이 형성된 포토마스크가 상기 매질과 연동되도록 한 것;을 특징으로 한다.In the photomask moving continuous exposure system of the present invention for achieving the above object, in the exposure system for patterning the pattern of the photomask on the photoresist-coated medium by light irradiation of the light source unit, the photoresist is applied Allowing the medium to be moved at a constant speed without being stopped before and after the exposure process; And a photomask having a pattern formed on the medium to which the photoresist is applied by light irradiation of the light source unit to be interlocked with the medium.

또한, 상기 패턴이 형성된 포토마스크는 원통형 구동부의 외면에 감긴 상태로 씌워지고, 이 원통형 구동부는 포토레지스트가 도포된 매질의 이동속도와 동일속도로 회전되도록 구성된 것을 특징으로 한다.In addition, the patterned photomask is wound on the outer surface of the cylindrical drive unit, characterized in that the cylindrical drive unit is configured to rotate at the same speed as the moving speed of the medium to which the photoresist is applied.

또한, 상기 패턴이 형성된 포토마스크가 복수개 구비되어 롤에 의해 순환되며, 상기 롤에 의해 순환되는 포토마스크들은 상기 포토레지스트가 도포된 매질의 이동속도와 동일속도로 순환되도록 구성된 것을 특징으로 한다.In addition, a plurality of photomasks having the pattern is provided and circulated by the rolls, and the photomasks circulated by the rolls are configured to circulate at the same speed as the moving speed of the medium to which the photoresist is applied.

한편, 상기 포토마스크가 휘지 않는 유리상 포토마스크일 경우, 광원부의 조사 방향을 따라 순환되게 복수개로 구비되며, 상기 복수개의 포토마스크들은 광원부의 조사 방향을 따라 수평 또는 수직으로 순환되도록 구성된 것을 특징으로 한다.On the other hand, when the photomask is a glass-like photomask that is not bent, it is provided with a plurality of circulated along the irradiation direction of the light source, characterized in that the plurality of photomasks are configured to circulate horizontally or vertically along the irradiation direction of the light source. .

이 경우, 상기 복수의 유리상 포토마스크는 이동되는 매질과 동일속도로 순환되는 것을 특징으로 한다. In this case, the plurality of glassy photomasks are circulated at the same speed as the moving medium.

한편, 상기와 같은 구성으로 이루어진 포토마스크 이동방식 연속 노광 시스템을 나란하게 설치하되, 어느 하나의 노광 시스템에 적용되는 포토마스크에는 양각의 패턴을 형성하고, 다른 하나의 노광 시스템에 적용되는 포토마스크에는 음각의 패턴을 형성하여서, 필름이 상기 노광 시스템들을 연속해서 통과하여 노광이 이루어짐에 따라 음/양의 패턴을 갖는 프리즘 필름이 제조되는 것을 특징으로 한다.On the other hand, the photomask transfer continuous exposure system having the above configuration is installed side by side, the embossed pattern is formed on the photomask applied to any one of the exposure system, the photomask applied to the other exposure system By forming a negative pattern, a prism film having a negative / positive pattern is produced as the film passes through the exposure systems continuously and the exposure is made.

이하, 본 발명의 바람직한 실시 예를 첨부된 예시도면에 의거하여 상세히 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 5는 본 발명에 따른 포토마스크 이동방식 연속 노광 시스템(50)의 일실시 예를 개략적으로 구성한 도면으로서, 본 실시 예에서는 휨이 가능한 필름상의 포토마스크(54)를 적용한 경우를 나타낸 것이다.FIG. 5 is a view schematically showing an embodiment of the photomask moving continuous exposure system 50 according to the present invention. In the present embodiment, a film-like photomask 54 capable of warping is applied.

즉, 상기 포토마스크(54)가 필름으로 이루어진 경우, 휨이 자유롭기 때문에 원통형 구동부(52) 외면에 대하여 감은 구조로 형성할 수 있게 된다.That is, when the photomask 54 is made of a film, since the bending is free, it can be formed in a structure wound around the outer surface of the cylindrical drive unit 52.

따라서, 상기 포토마스크(54)는 원통형 구동부(52) 외면에 감겨진 구조로 이루어지고, 상기 원통형 구동부(52)내에 빛에너지를 조사하는 광원부(56)가 설치된 구조로 노광 시스템(50)이 이루어져 있다.Accordingly, the photomask 54 is formed of a structure wound around the outer surface of the cylindrical drive unit 52, and the exposure system 50 is formed in a structure in which a light source unit 56 for irradiating light energy is installed in the cylindrical drive unit 52. have.

상기 포토마스크(54)에서 광원부(56)가 조사하는 방향의 외측으로는 포토레지스트가 도포된 매질(58)이 직선방향으로 이동된다.In the photomask 54, the medium 58 to which the photoresist is applied is moved in a linear direction to the outside of the direction in which the light source 56 is irradiated.

이때, 상기 매질(58)의 이동속도(Vs)와, 상기 원통형 구동부(52)의 회전속도(Vpm)는 동일속도로 진행된다.At this time, the moving speed (Vs) of the medium 58 and the rotational speed (Vpm) of the cylindrical drive unit 52 proceeds at the same speed.

따라서, 상기 매질(58)이 여러 단계의 공정을 거치고 노광 공정을 위하여 노광 시스템(50)으로 이송되어져 오면, 상기 매질(58)의 이동속도와 동일속도로 원통형의 구동부(52)가 회전되면서 노광이 진행되는 바, 상기 매질(58)이 정지됨 없이 계속해서 이동하면서 노광되고, 노광이 끝나면 다음의 후 공정으로 이동하게 된다.Therefore, when the medium 58 passes through the process of several steps and is transferred to the exposure system 50 for the exposure process, the cylindrical drive unit 52 rotates at the same speed as the movement speed of the medium 58 and is exposed. As this progresses, the medium 58 is exposed while moving continuously without stopping, and when the exposure is completed, the medium 58 is moved to the next post process.

참고로, 상기 매질(58)의 양면에 대하여 노광을 진행할 경우, 매질의 상/하측에 나란하게 노광 시스템을 설치할 수 있으며, 이러한 노광 시스템(50)에는 도시되지는 않았지만 부가적으로 광 조사시 포토마스크와 포토레지스트가 도포된 매질의 밀착을 위하여 노광부위의 진공장치와, 기타 얼라인먼트 장치 및 포토마스크의 세정을 위한 세정장치가 포함될 수도 있을 것이다.For reference, when the exposure is performed on both surfaces of the medium 58, an exposure system may be installed side by side on the upper and lower sides of the medium. In addition, although not shown in the exposure system 50, the photo upon irradiation with light A vacuum device on the exposed area for adhesion between the mask and the photoresist-coated medium, and other alignment devices and a cleaning device for cleaning the photomask may be included.

본원발명 출원인은 상기와 같은 구성으로 이루어진 노광 시스템(50)을 이용하여 인쇄회로기판의 제조공정에 적용해 보았다.Applicant of the present invention has been applied to the manufacturing process of a printed circuit board using the exposure system 50 composed of the above configuration.

인쇄회로기판의 매질은 절연층 사이로 구리가 적층된 형태이며, 도포된 포토레지스트는 드라이필름, 액상포토레지스트, 솔더잉크 등을 적용하였는데, 이러한 포토마스크 이동방식 연속 노광 시스템을 적용한 결과, 종래의 포토마스크 고정형 노광 시스템이 적용된 경우에 대비하여 동일한 품질의 제품이 생산된 반면, 공정중의 정지시간이 없음으로 인하여 동일시간에 더욱 많은 제품의 생산이 이루어져 생산성이 향상됨을 확인할 수 있었다.The printed circuit board is formed by laminating copper between insulating layers. The coated photoresist is a dry film, liquid photoresist, solder ink, and the like. Compared to the case where the mask-fixed exposure system was applied, the same quality product was produced, whereas the production of more products was produced at the same time due to the absence of downtime in the process.

위의 사실에 유추해 볼 때, 상기와 같은 포토마스크 이동방식 연속 노광 시스템은 평판 디스플레이용 노광 시스템에도 적용이 가능할 것이다.Inferred from the above fact, the above-described photomask moving continuous exposure system may be applied to an exposure system for flat panel display.

또한, 상기와 같은 포토마스크 이동방식 연속 노광 시스템을 종래 롤투롤 노광 방식을 적용하는 플렉시블 인쇄회로기판이나 리드 프레임 제조공정에 적용해 본 결과, 종래의 롤투롤 노광 방식이 적용된 경우에 대비하여 동일한 품질의 제품이 생산된 반면, 공정중의 정지시간이 없음으로 인하여 동일시간에 더욱 많은 제품의 생산이 이루어졌음을 확인하였다. In addition, as a result of applying the photomask transfer continuous exposure system to a flexible printed circuit board or lead frame manufacturing process using the conventional roll-to-roll exposure method, the same quality as compared to the case where the conventional roll-to-roll exposure method is applied While the product was produced, it was confirmed that more products were produced at the same time due to the absence of in-process downtime.

참고로, 이러한 노광 시스템을 현상, 에칭 등의 후 공정과 연속되는 인라인 시스템으로의 설계가 가능할 것이다.For reference, such an exposure system may be designed as an inline system that is continuous with post-processing such as development, etching, and the like.

한편, 도 6은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 노광 시스템을 도시한 것으로서, 도시된 바와 같이, 롤(62)들에 의해 복수의 포토마스크(64)가 순환되는 구성으로 이루어져 있다.Meanwhile, FIG. 6 illustrates an exposure system according to another embodiment of the present invention. As shown in FIG. 6, a plurality of photomasks 64 are circulated by the rolls 62.

즉, 상기와 같은 포토마스크 순환 이동식 노광시스템(60)은 상기한 포토마스크 이동방식 연속 노광시스템(50)과 마찬가지로 휨이 자유로운 필름상의 포토마스크(64)가 적용되는 것으로서, 복수개의 포토마스크(64)가 상호 연결되어 있고, 이러한 복수개의 포토마스크(64)들은 각 모서리에 설치되는 롤(62)에 의해 순환되는 구성으로 이루어져 있으며, 그 내부에는 한쪽 방향으로 광을 조사하는 광원부(66)가 설치된 구조로 이루어져 있다.That is, the photomask circular transfer type exposure system 60 as described above is applied to the film-like photomask 64 free of warpage similarly to the photomask transfer type continuous exposure system 50 described above, and has a plurality of photomasks 64. ) Are interconnected, and the plurality of photomasks 64 are configured to be circulated by the rolls 62 installed at each corner thereof, and a light source 66 for irradiating light in one direction is installed therein. It consists of a structure.

상기 포토마스크(64)에서 광원부(66)가 조사하는 방향의 외측으로는 포토레지스트가 도포된 매질(68)이 직선방향으로 이동된다.The photoresist-coated medium 68 is moved in a linear direction outside the direction in which the light source unit 66 is irradiated from the photomask 64.

이때, 상기 매질(68)의 이동속도(Vs)와, 상기 포토마스크 순환 이동식 노광 시스템(60)의 롤의 회전속도는 동일속도로 진행된다.At this time, the moving speed Vs of the medium 68 and the rotational speed of the roll of the photomask circulation moving exposure system 60 proceed at the same speed.

따라서, 상기 매질(68)이 여러 단계의 공정을 거치고 노광 공정을 위하여 노광 시스템(60)으로 이송되어져 오면, 상기 매질(68)의 이동속도와 동일속도로 롤(62)이 회전되면서 포토마스크(64)와 포토레지스트가 도포된 매질(68)이 일치된 상태로 진행되면서 노광이 진행되는 바, 상기 매질(68)이 정지됨 없이 계속해서 이동하면서 노광된 후, 다음의 후공정으로 이동하게 된다.Therefore, when the medium 68 passes through the various steps and is transferred to the exposure system 60 for the exposure process, the roll 62 is rotated at the same speed as the moving speed of the medium 68 and the photomask ( 64) and the photoresist-coated medium 68 are exposed in the same state as the exposure proceeds. After the medium 68 is continuously exposed without being moved, it is moved to the next post process.

한편, 도 7은 본 발명의 또 다른 실시 예에 따른 노광 시스템을 개략적으로 도시한 구성도이다.On the other hand, Figure 7 is a schematic diagram showing an exposure system according to another embodiment of the present invention.

본 실시 예에서는 상기한 바의 필름상 포토마스크가 아닌 유리상의 포토마스크(78)가 적용된 경우를 나타낸 것이다.In this embodiment, the case where the glass-like photomask 78 is applied instead of the film-like photomask described above is shown.

즉, 유리상의 포토마스크(78)는 필름상 포토마스크와는 달리 휘지 않는 성질을 이루고 있는 바, 앞선 두 실시 예에서와 같이 회전 또는 롤에 의한 순환 구조로 형성할 수가 없다.That is, the glass-like photomask 78 has a property that does not bend unlike the film-like photomask, and thus cannot be formed in a circulating structure by rotation or roll as in the previous two embodiments.

따라서, 한쪽 방향으로 광을 조사하는 광원부(72)가 내부에 설치되고, 양측에 수평이송을 위한 롤(74)이 형성된 본체(76)에 대하여 휘지 않는 복수의 유리상 포토마스크(78)를 수평 및 수직 이송시킴으로써, 매질(80)을 정지됨 없이 이동시키면서 노광이 이루어지도록 한다.Therefore, the light source portion 72 for irradiating light in one direction is provided inside, and the plurality of glass-like photomasks 78 which are not bent with respect to the main body 76 having the rolls 74 for horizontal transfer on both sides are horizontally and By vertical transfer, exposure is effected while moving the medium 80 without stopping.

이 경우, 상기 포토마스크(78)들의 이송은 본체(76)를 사이에 두고 수평 및 수직으로 이송되며, 노광이 이루어지는 부위에서의 이송속도는 매질(80)의 이송속도와 동일하게 유지함으로써, 상기 매질(80)이 노광되면서 이동되도록 한다.In this case, the conveyance of the photomasks 78 is conveyed horizontally and vertically with the main body 76 interposed therebetween, and the conveying speed at the site where the exposure is made is kept the same as the conveying speed of the medium 80. The medium 80 is moved while being exposed.

참고로, 도시되지는 않았지만, 상기 포토마스크(78)들의 수평이송 및 수직이송은 별도의 이송장치들에 의해 일정속도로 이송되도록 하되, 상기 이송장치들의 구성은 종래에 공지된 다양한 장치들을 적용가능하다. For reference, although not shown, the horizontal transfer and the vertical transfer of the photomasks 78 are transported at a constant speed by separate transfer devices, but the configuration of the transfer devices is applicable to various devices known in the art. Do.

한편, 도 8은 본 발명의 포토마스크 이동방식 연속 노광 시스템(102,104)을 이용하여 프리즘 필름 형태의 구조물 제작을 위한 장치(100)를 개략적으로 도시한 것으로서, 이의 경우 상기 포토마스크 이동방식 연속 노광 시스템(102,104)을 연속해서 설치함으로써 종래와 같이 삼각 단면을 갖는 프리즘 필름(도 4참조) 형태의 구조물을 제작할 수 있게 된다.Meanwhile, FIG. 8 schematically illustrates an apparatus 100 for fabricating a prism film-type structure using the photomask moving continuous exposure systems 102 and 104 of the present invention, in which case the photomask moving continuous exposure system. By providing the 102 and 104 continuously, a structure in the form of a prism film (see Fig. 4) having a triangular cross section as in the prior art can be manufactured.

즉, 연속해서 설치되는 노광 시스템(102,104)에서 어느 하나의 노광 시스템(102)과 다른 하나의 노광 시스템(104)의 각 원통형 구동부에는 각각 패턴이 교차되게 형성되어 있다.That is, in the exposure systems 102 and 104 provided continuously, each cylindrical drive part of one exposure system 102 and the other exposure system 104 is formed so that a pattern may cross | intersect.

다시 말해서, 제 1노광 시스템(102)의 원통형 구동부에 씌워진 포토마스크(103)의 패턴은 도 9a와 같은 형태로 형성되고, 제 2노광 시스템(104)의 원통형 구동부에 씌워진 포토마스크(105)의 패턴은 도 9b와 같이 제 1노광 시스템(102)의 포토마스크(103)에 형성된 패턴과 교차되게 각각 음양으로 형성되어 있다.In other words, the pattern of the photomask 103 covered by the cylindrical drive portion of the first exposure system 102 is formed in the form as shown in FIG. 9A and the pattern of the photomask 105 covered by the cylindrical drive portion of the second exposure system 104. As shown in FIG. 9B, the patterns are formed in yin and yang to intersect with the patterns formed in the photomask 103 of the first exposure system 102.

따라서, 필름(106)이 제 1노광 시스템(102)을 통과하면서 노광이 이루어지게 되면, 필름(106)에 도 10a에서와 같은 형태로 패턴이 형성되고, 연속해서 제 2노광 시스템(104)을 통과하면서 노광이 이루어지게 되면, 필름(106)이 도 10b에서와 같은 형태로 패턴이 형성된다.Accordingly, when the film 106 is exposed while passing through the first exposure system 102, a pattern is formed in the film 106 in the form as shown in FIG. 10A, and the second exposure system 104 is continuously formed. When the exposure is made while passing through, the film 106 is formed in a pattern as shown in FIG. 10B.

참고로, 본 실시 예에 적용되는 노광 시스템(102,104)들을 도 5를 참조로 한 실시예의 노광 시스템을 일예로 들어 설명하였으나, 상기의 노광 시스템은 앞선 도 6, 도 7을 참조로 한 실시 예들의 노광 시스템을 적용할 수도 있다. For reference, although the exposure systems 102 and 104 applied to the present embodiment have been described using the exposure system of the embodiment with reference to FIG. 5 as an example, the above-described exposure system has been described with reference to FIGS. 6 and 7. An exposure system may also be applied.

상기와 같이 프리즘 필름 제조를 위한 장치(100)는, 감겨진 필름(106)이 공급되는 필름공급부(108)와, 이 필름 공급부(108)로부터 공급된 필름(106)에 포토레지스트 코팅을 하는 코팅부(110)와, 코팅을 이룬 필름(106)상에 음양으로 교차되게 노광하여 프리즘이 형성되도록 하는 제 1, 제 2노광 시스템(102,104)과, 현상구조부(112) 및 권취부(114)로 이루어져 있다.As described above, the apparatus 100 for manufacturing a prism film includes a film supply unit 108 to which the wound film 106 is supplied, and a photoresist coating on the film 106 supplied from the film supply unit 108. The first and second exposure systems 102 and 104, the developing structure 112 and the winding 114, which expose the portion 110 and the prism to be formed to cross the negative film on the coated film 106 in a negative and positive manner. consist of.

이때, 상기 제 1, 제 2노광 시스템(102,104)을 통과할 때, 레진이 경화되어 프리즘이 형성되는데, 미경화된 레진은 상기 현상 구조부(112)를 통과하면서 제거된다.At this time, when passing through the first and second exposure systems 102 and 104, the resin is cured to form a prism, and the uncured resin is removed while passing through the developing structure 112.

즉, 상기 현상 구조부(112)는 부가적으로 건조부를 추가로 구성할 수 있으며, 고압기체부나 용매 방식으로 구성될 수 있는데, 미경화 레진의 점도가 낮을 경우 고압기체부로 구성하고, 반대로 미경화 레진의 점도가 높아 고압기체로 제거가 어려울 경우에는 미경화 레진은 용해시키나 경화 레진은 용해시키지 않는 용매를 사용하여 현상이 이루어지도록 함으로써, 프리즘 필름의 구조물을 제작할 수 있게 된다.That is, the developing structure 112 may additionally constitute a dry part, and may be configured by a high pressure gas part or a solvent method. When the viscosity of the uncured resin is low, the developing structure part 112 may be composed of a high pressure gas part and vice versa. When the high viscosity of the gas is difficult to remove the high-pressure gas by using a solvent that dissolves the uncured resin but does not dissolve the cured resin, it is possible to manufacture the structure of the prism film.

따라서, 종래에서는 상기와 같은 프리즘 필름 구조물을 제조하기 위해서는 도 3에서와 같이 롤러에 패턴을 인각하여 제조함으로써, 다른 패턴의 프리즘 필름 구조물을 제조하기 위해서는 다른 패턴이 인각된 신규 롤러를 제작하여야 하였으나, 본 발명에서는 포토마스크만을 교체함으로써 보다 손쉽게 다양한 패턴의 프리즘 필름 구조물을 제조할 수 있게 된다.Therefore, in the related art, in order to manufacture the prism film structure as described above, by manufacturing a pattern on a roller as shown in FIG. 3, in order to manufacture a prism film structure having a different pattern, a new roller having a different pattern is produced. In the present invention, by only replacing the photomask, it is possible to more easily produce a prism film structure of various patterns.

한편, 상기와 같은 방법으로 프리즘 필름을 제조함에 있어서, 도 11에서와 같이 상기 포토마스크에 동심원 상으로 각각 음/양이 교차된 패턴을 형성하여 프리즘 필름 구조물을 제작하게 되면 도 12에서와 같이 동심원 상의 프리즘 필름 구조물(120)을 보다 손쉽게 제조할 수 있게 된다.Meanwhile, in manufacturing the prism film in the same manner as described above, when the prism film structure is fabricated by forming a pattern in which negative / positive crosses are formed concentrically on the photomask as shown in FIG. 11, the concentric circles as shown in FIG. 12. The prism film structure 120 may be more easily manufactured.

즉, 도 12에서와 같이 동심원 상의 프리즘 필름 구조물(120)을 제조하기 위해서는 종래에 롤러에 상기와 같은 구조의 패턴을 인각하기가 매우 어려웠으나, 본 발명에서는 음/양이 교차된 패턴이 형성되어진 포토마스크를 이용하여 매우 손쉽게 제조할 수 있게 되는 것이다.That is, in order to manufacture the prism film structure 120 on the concentric circle as shown in FIG. 12, it is very difficult to infer the pattern of the above structure on the roller in the prior art, but in the present invention, a pattern in which a negative / positive cross is formed is formed. It will be very easy to manufacture using a photomask.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명의 포토마스크 이동방식 연속 노광 시스템에 의하면, 인쇄회로기판, 반도체, 평면액정디스플레이 등의 제조공정에 있어서, 포토레지스트가 도포된 매질이 노광 공정을 진행하게 될 때, 이 노광 공정의 전 공정에서 후 공정으로 정지됨 없이 연속적으로 이동되면서 노광이 이루어지게 됨으로써, 전체적인 제조공정 시간이 단축되어 생산성이 보다 향상되는 효과가 있다.As described above, according to the photomask moving continuous exposure system of the present invention, in a manufacturing process of a printed circuit board, a semiconductor, a flat liquid crystal display, or the like, when a medium coated with a photoresist is subjected to an exposure process, Since the exposure is continuously performed without being stopped from the previous step to the subsequent step of the exposure step, the overall manufacturing process time is shortened and the productivity is further improved.

또한, 종래의 롤투롤 방식의 노광 시스템에서와 같이 얇은 구리 막이 처지는 등의 문제가 개선되어 불량발생의 원인이 해소되는 효과도 있다. In addition, as in the conventional roll-to-roll exposure system, a problem such as sagging of a thin copper film is improved, thereby reducing the cause of defects.

또한, 본 발명에 따른 포토마스크 이동방식 연속 노광 시스템을 나란하게 2개 구비하되, 하나의 포토마스크에는 양각의 패턴을 형성하고, 다른 하나의 포토마스크에는 음각의 패턴을 형성함으로써, 상기 2개의 포토마스크를 연속해서 통과하는 매질에 음양이 교차된 형태의 프리즘 필름 구조물은 물론 그 패턴이 복잡하면서도 다양한 프리즘 필름 구조물을 보다 손쉽게 제조할 수 있는 매우 유용한 효과가 있다.In addition, two photomask moving continuous exposure system according to the present invention is provided side by side, one photomask to form an embossed pattern, the other photomask to form an intaglio pattern, the two photo The prism film structure in which yin and yang are crossed in a medium that passes through the mask continuously has a very useful effect of making the various prism film structures more easily while the pattern is complicated.

도 1은 종래의 노광 시스템을 개략적으로 나타낸 구성도.1 is a schematic view showing a conventional exposure system.

도 2는 종래의 다른 노광 시스템을 개략적으로 나타낸 구성도.2 is a schematic view showing another conventional exposure system.

도 3은 종래에 프리즘 필름을 제조하기 위하여 인각롤러를 이용한 스트라이프 코팅 방식의 구성을 개략적으로 나타낸 사시도.Figure 3 is a perspective view schematically showing the configuration of a stripe coating method using a stamping roller in order to manufacture a conventional prism film.

도 4는 도 3에 의하여 제조된 프리즘 필름의 확대 사시도.FIG. 4 is an enlarged perspective view of the prism film manufactured by FIG. 3. FIG.

도 5는 본 발명에 따른 포트마스크 이동방식 연속 노광 시스템을 개략적으로 나타낸 구성도.Figure 5 is a schematic view showing a port mask movement continuous exposure system according to the present invention.

도 6은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 포토마스크 이동방식 연속 노광 시스템을 개략적으로 나타낸 구성도.6 is a schematic view showing a photomask shift continuous exposure system according to another embodiment of the present invention.

도 7은 본 발명의 또 다른 실시 예에 따른 포토마스크 이동방식 연속 노광 시스템을 개략적으로 나타낸 구성도.7 is a schematic view showing a photomask shift continuous exposure system according to another embodiment of the present invention.

도 8은 본 발명에 따른 포토마스크 이동방식 연속 노광 시스템을 이용하여 프리즘 필름을 제조하는 장치를 개략적으로 나타낸 구성도.8 is a schematic view showing an apparatus for manufacturing a prism film using a photomask moving continuous exposure system according to the present invention.

도 9a는 도 8에서 제 1노광 시스템의 포토마스크 패턴의 평면도이고, FIG. 9A is a plan view of a photomask pattern of the first exposure system in FIG. 8;

도 9b는 도 8에서 제 2노광 시스템의 포토마스크 패턴의 평면도.FIG. 9B is a plan view of a photomask pattern of the second exposure system in FIG. 8; FIG.

도 10a는 매질이 도 8의 제 1노광 시스템을 통과한 상태의 평면도이고,FIG. 10A is a plan view of a medium having passed through the first exposure system of FIG. 8;

도 10b는 매질이 도 8의 제 2노광 시스템을 통과한 상태의 평면도.10B is a plan view of a medium having passed through the second exposure system of FIG. 8.

도 11은 도 8의 프리즘 필름 제조를 위한 장치에 적용되는 노광 시스템에서 포토마스크의 패턴이 동심원 형상으로 이루어진 것을 도시한 평면도.FIG. 11 is a plan view showing that the pattern of the photomask is concentric in the exposure system applied to the apparatus for manufacturing the prism film of FIG. 8; FIG.

도 12는 도 11에 의해 제조된 프리즘 필름의 구성을 나타낸 확대 사시도.12 is an enlarged perspective view showing the configuration of a prism film produced by FIG. 11;

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

50,60,70 : 노광 시스템 52 : 원통형 구동부50,60,70: exposure system 52: cylindrical drive part

54,64,78 : 포토마스크 56,66,72 : 광원부54,64,78: photomask 56,66,72: light source

58,68,80 : 매질 100 : 프리즘 필름 제조 장치58,68,80: Medium 100: Prism film production apparatus

102,104 : 노광 시스템 103,105 : 포토마스크102,104: Exposure system 103,105: Photomask

Claims (6)

광원부의 광 조사로 포토마스크의 패턴을 포토레지스크가 도포된 매질에 패터닝하는 노광 시스템에 있어서,An exposure system for patterning a pattern of a photomask on a medium to which a photoresist is applied by light irradiation of a light source unit, 상기 포토레지스트가 도포된 매질(58,68,80)이 노광 공정의 전 공정과, 노광 공정 및 후 공정으로 정지됨 없이 일정속도로 이동되도록 한 것과;Allowing the photoresist-coated medium (58, 68, 80) to be moved at a constant speed without being stopped in the pre-exposure process and in the post-exposure process and post-process; 상기 광원부(56,66,72)의 광 조사로 상기 포토레지스트가 도포된 매질(58,68,80)에 패터닝이 이루어지도록 패턴이 형성된 포토마스크(54,64,78)가 상기 매질(58,68,80)과 연동되도록 한 것;을 특징으로 하는 포토마스크 이동방식 연속 노광 시스템.The photomasks 54, 64, and 78 having patterns formed to pattern the photoresist-applied media 58, 68, and 80 by light irradiation of the light source units 56, 66, and 72 are provided with the media 58, 68, 80) in conjunction with the photomask mobile continuous exposure system, characterized in that. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 패턴이 형성된 포토마스크(58)는 원통형 구동부(52)의 외면에 감긴 상태로 씌워지고, 이 원통형 구동부(52)는 포토레지스트가 도포된 매질(58)의 이동속도와 동일속도로 회전되도록 구성된 것을 특징으로 하는 포토마스크 이동방식 연속 노광 시스템.The patterned photomask 58 is wound on the outer surface of the cylindrical drive unit 52, and the cylindrical drive unit 52 is configured to rotate at the same speed as the moving speed of the medium 58 to which the photoresist is applied. Photomask transfer continuous exposure system, characterized in that. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 패턴이 형성된 포토마스크(64)가 복수개 구비되어 롤(62)에 의해 순환되며, 상기 롤(62)에 의해 순환되는 포토마스크(64)들은 상기 포토레지스트가 도포된 매질(68)의 이동속도와 동일속도로 순환되도록 구성된 것을 특징으로 하는 포토마스크 이동방식 연속 노광 시스템.A plurality of photomasks 64 having the pattern are provided and circulated by the rolls 62, and the photomasks 64 circulated by the rolls 62 have a moving speed of the medium 68 to which the photoresist is applied. Photomask moving continuous exposure system, characterized in that configured to be circulated at the same speed. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 패턴이 형성된 포토마스크가 휘지 않는 유리상 포토마스크(78)일 경우, 광원부(72)의 조사 방향을 따라 순환되게 복수개로 구비되며, 상기 복수개의 포토마스크(78)들은 광원부(72)의 조사 방향을 따라 수평 또는 수직으로 순환되도록 구성된 것을 특징으로 하는 포토마스크 이동방식 연속 노광 시스템.When the photomask on which the pattern is formed is a glass-like photomask 78 which is not bent, a plurality of photomasks are circulated along the irradiation direction of the light source unit 72, and the plurality of photomasks 78 are provided in the irradiation direction of the light source unit 72. Photomask mobile continuous exposure system, characterized in that configured to circulate horizontally or vertically along. 제 1항 또는 제 4항에 있어서,The method according to claim 1 or 4, 상기 복수의 유리상 포토마스크(78)는 이동되는 매질(80)과 동일속도로 순환됨을 특징으로 하는 포토마스크 이동방식 연속 노광 시스템.The plurality of glass-like photomasks 78 are circulated at the same speed as the moving medium 80, the photomask movement continuous exposure system. 제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항의 포토마스크 이동방식 연속 노광 시스템을 나란하게 설치하되, 어느 하나의 노광 시스템(102)에 적용되는 포토마스크(103)에는 양각의 패턴을 형성하고, 다른 하나의 노광 시스템(104)에 적용되는 포토마스크(105)에는 음각의 패턴을 형성하여서, 필름(106)이 상기 노광 시스템(102,104)들을 연속해서 통과하여 노광이 이루어짐에 따라 음양의 패턴을 갖는 프리즘 필름이 제조되는 것을 특징으로 하는 포토마스크 이동방식 연속 노광 시스템을 이용한 프리즘 필름 제조방법.The photomask movement continuous exposure system of any one of claims 1 to 4 is installed side by side, and an embossed pattern is formed on the photomask 103 applied to any one of the exposure systems 102, and the other is A negative pattern is formed in the photomask 105 applied to the exposure system 104 of the prism film, so that the film 106 passes through the exposure systems 102 and 104 in succession to expose the prism film having a negative pattern. A prism film manufacturing method using a photomask moving continuous exposure system, characterized in that the manufacturing.
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