KR20050083438A - Stepper for glass-substrate - Google Patents
Stepper for glass-substrate Download PDFInfo
- Publication number
- KR20050083438A KR20050083438A KR1020040011954A KR20040011954A KR20050083438A KR 20050083438 A KR20050083438 A KR 20050083438A KR 1020040011954 A KR1020040011954 A KR 1020040011954A KR 20040011954 A KR20040011954 A KR 20040011954A KR 20050083438 A KR20050083438 A KR 20050083438A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- glass substrate
- exposure unit
- light source
- exposure
- source lamp
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
본 발명은 유리기판의 표면에 형성된 감광막의 특정부위를 제거하기 위한 노광장치에 관한 것으로, 그 목적은 유리기판의 크기와 상응하는 대형 광원램프를 이용하여 유리기판 및 패널셀의 주변부에 형성된 감광막에 빛을 직접 조사함으로써, 장치의 구성을 간소화함과 동시에 노광에 소요되는 시간을 단축할 수 있도록 한 유리기판용 노광장치를 제공함에 있다.The present invention relates to an exposure apparatus for removing a specific portion of the photosensitive film formed on the surface of the glass substrate, an object thereof is to a photosensitive film formed on the periphery of the glass substrate and the panel cell using a large light source lamp corresponding to the size of the glass substrate The present invention provides a glass substrate exposure apparatus that can simplify the configuration of an apparatus and shorten the time required for exposure by directly irradiating light.
이에 본 발명은 유리기판 및 패널셀 주변부의 불필요한 감광막을 노광하기 위한 유리기판용 노광장치에 있어서, 상기 유리기판을 거치하는 테이블과, 상기 테이블의 상측에 위치하며 상기 유리기판의 크기에 상응하는 길이로 형성되어 그 길이만큼을 동시에 노광할 수 있는 주변노광유닛을 포함하되, 상기 주변노광유닛은 케이스와, 상기 케이스의 내부에 장착되는 광원램프와, 상기 광원램프의 상측에 구비되어 발산된 빛을 하향으로 반사하는 반사미러와, 상기 광원램프의 하측에 구비되어 상기 유리기판상에 조사되는 광폭을 조절하는 조리개를 포함하는 것을 특징으로 한다.Accordingly, the present invention provides a glass substrate exposure apparatus for exposing an unnecessary photosensitive film on the periphery of a glass substrate and a panel cell, comprising: a table on which the glass substrate is mounted and a length corresponding to the size of the glass substrate and positioned above the table. And a peripheral exposure unit configured to simultaneously expose the length of the peripheral exposure unit, wherein the peripheral exposure unit includes a case, a light source lamp mounted inside the case, and light emitted and provided on an upper side of the light source lamp. And a diaphragm for reflecting downward and a stop provided at a lower side of the light source lamp to adjust the width of the light irradiated on the glass substrate.
Description
본 발명은 유리기판의 표면에 형성된 감광막의 특정부위를 제거하기 위해 빛을 조사하는 유리기판용 노광장치에 관한 것이다.The present invention relates to a glass substrate exposure apparatus for irradiating light to remove a specific portion of the photosensitive film formed on the surface of the glass substrate.
일반적으로 유리기판은 액정표시장치(LCD)에 사용되는데, 상기 액정표시장치는 두장의 유리기판 사이에 액정을 충진하고 투명한 전극을 통해 전압을 가하여 액정분자의 배열방향을 바꾸어 빛을 통과 또는 반사하도록 함으로써 시각정보를 표시하는 장치이다.In general, a glass substrate is used in a liquid crystal display (LCD), which fills a liquid crystal between two glass substrates and applies a voltage through a transparent electrode to change the arrangement direction of the liquid crystal molecules so as to pass or reflect light. This is a device for displaying time information.
이때, 상기 유리기판의 표면에는 정밀한 회로패턴을 형성해야 한다. 이를 위해 유리기판의 표면에 감광막(PR)을 형성하고, 회로패턴이 형성된 마스크를 이용하여 특정부분을 자외선에 노출(노광공정)시킨 후, 노광에 의해 변형된 감광막을 세정액으로 제거(현상공정)하는 포토에칭 작업을 거치게 된다.At this time, a precise circuit pattern should be formed on the surface of the glass substrate. To this end, a photoresist film PR is formed on the surface of the glass substrate, and a specific portion is exposed to ultraviolet rays (exposure step) using a mask on which a circuit pattern is formed, and then the photosensitive film deformed by exposure is removed with a cleaning solution (development step). Photoetching is performed.
한편, 회로패턴이 형성되지 않는 부분 즉, 가장자리에 형성된 감광막은 상기와 같은 노광공정 및 현상공정을 통해 제거해야 한다. 대한민국 특허출원 제2000-70953호에는 이와 같은 가장자리의 감광막을 노광하기 위한 노광장치에 대한 기술이 개시된 바 있다.On the other hand, the portion where the circuit pattern is not formed, that is, the photoresist formed on the edge should be removed through the above exposure process and development process. Korean Patent Application No. 2000-70953 discloses a technique for an exposure apparatus for exposing such a photosensitive film of the edge.
도 4는 종래의 일 예를 보인 사시도이다. 도시된 바와 같이, 테이블(T)상에 고정되는 유리기판(S)의 표면에는 다수개의 패널셀(P)이 분할 형성된다. 상기 유리기판 및 패널셀의 주변부에 형성된 감광막을 노광하는 노광장치는 상기 테이블의 상측에 설치되는 가이드대(100)와, 상기 가이드대상에 이송가능하게 설치되는 주변노광유닛(200)과, 광섬유(300)를 통해 상기 주변노광유닛으로 빛을 공급하는 광원(미도시)을 포함하여 구성된다.4 is a perspective view showing an example of the related art. As shown, a plurality of panel cells P are dividedly formed on the surface of the glass substrate S fixed on the table T. As shown in FIG. An exposure apparatus for exposing the photosensitive film formed on the periphery of the glass substrate and the panel cell includes a guide table 100 provided above the table, a peripheral exposure unit 200 provided to be transported to the guide object, and an optical fiber ( It comprises a light source (not shown) for supplying light to the peripheral exposure unit through 300.
이때, 상기 주변노광유닛(200)은 별도의 구동 및 제어수단에 의해 가이드대(100)상을 왕복운동하면서 유리기판(S)의 주변부에 형성된 불필요한 감광막을 노광하게 된다.At this time, the peripheral exposure unit 200 is exposed to the unnecessary photosensitive film formed on the periphery of the glass substrate (S) while reciprocating on the guide table 100 by a separate drive and control means.
상기와 같은 종래의 노광장치는 유리기판 및 패널셀의 주변부에 형성된 감광막을 전부 노광하기 위해 테이블을 이동 및 회전시키며 노광작업을 수행해야 한다. 그러나, 유리기판이 갈수록 대형화되고 있는 현실에 비추어 볼 때, 유리기판을 고정한 테이블의 이동 및 회전을 위해서는 노광장치가 보다 대형화되어야 하는 것은 물론 작업효율이 현저하게 저하되는 문제점이 있었다.In the conventional exposure apparatus as described above, the exposure operation must be performed by moving and rotating the table to expose all of the photoresist formed on the periphery of the glass substrate and the panel cell. However, in view of the fact that glass substrates are becoming larger in size, there is a problem that the exposure apparatus must be made larger and the work efficiency is significantly lowered in order to move and rotate the table on which the glass substrate is fixed.
또한, 주변노광유닛이 일정구간을 반복적으로 이동하면서 노광작업을 수행하기 때문에, 장시간 작동시 피로에 의해 광섬유가 열화되어 내면에 크랙이 발생될 우려가 있었으며, 이에 따라 광섬유를 주기적으로 교체해야 하는 문제점이 있었다.In addition, since the exposure unit performs the exposure while repeatedly moving a predetermined period, there is a risk that the optical fiber deteriorates due to fatigue during long time operation, causing cracks on the inner surface, and thus the optical fiber should be replaced periodically. There was this.
한편, 주변노광유닛의 이송을 위한 구동 및 제어수단이 구비되어 구성이 매우 복잡할 뿐만 아니라, 이동시 발생되는 진동으로 인해 상기 주변노광유닛에 내장된 정밀부품인 렌즈나 필터 등이 손상되어 수명이 단축되는 등 많은 문제점이 있었다.On the other hand, the drive and control means for the transfer of the peripheral exposure unit is provided with a very complicated configuration, and the vibration or vibration generated during the movement damages the lens or filter, which is a precision part built into the peripheral exposure unit, and thus shortens the life. There were many problems such as becoming.
이에, 본 발명은 상술한 바와 같은 종래의 제반 문제점을 해소하기 위해 안출된 것으로, 그 목적은 유리기판의 크기와 상응하는 대형 광원램프를 이용하여 유리기판 및 패널셀의 주변부에 형성된 감광막에 빛을 직접 조사함으로써, 장치의 구성을 간소화함과 동시에 노광에 소요되는 시간을 단축할 수 있도록 한 유리기판용 노광장치를 제공함에 있다.Accordingly, the present invention has been made to solve the conventional problems as described above, the purpose of the light to the photosensitive film formed on the periphery of the glass substrate and the panel cell using a large light source lamp corresponding to the size of the glass substrate. The present invention provides a glass substrate exposure apparatus that can simplify the configuration of the apparatus and shorten the time required for exposure.
본 발명의 다른 목적은 유리기판이 거치된 테이블을 이동할 필요없이 노광작업을 신속하게 수행할 수 있도록 한 유리기판용 노광장치를 제공함에 있다.Another object of the present invention is to provide an exposure apparatus for a glass substrate, which enables the exposure operation to be performed quickly without having to move the table on which the glass substrate is mounted.
본 발명의 또 다른 목적은 조리개 사이의 간격을 조절하여 유리기판상의 조사면적을 조절할 수 있도록 한 유리기판용 노광장치를 제공함에 있다.Still another object of the present invention is to provide an exposure apparatus for a glass substrate, which enables to control the irradiation area on the glass substrate by adjusting the interval between apertures.
상기와 같은 목적을 이루기 위해 본 발명은 유리기판 및 패널셀 주변부의 불필요한 감광막을 노광하기 위한 유리기판용 노광장치에 있어서, 상기 유리기판을 거치하는 테이블과, 상기 테이블의 상측에 위치하며 상기 유리기판의 크기에 상응하는 길이로 형성되어 그 길이만큼을 동시에 노광할 수 있는 주변노광유닛을 포함하되, 상기 주변노광유닛은 케이스와, 상기 케이스의 내부에 장착되는 광원램프와, 상기 광원램프의 상측에 구비되어 발산된 빛을 하향으로 반사하는 반사미러와, 상기 광원램프의 하측에 구비되어 상기 유리기판상에 조사되는 광폭을 조절하는 조리개를 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the present invention provides a glass substrate exposure apparatus for exposing an unnecessary photosensitive film on the periphery of the glass substrate and the panel cell, comprising a table on which the glass substrate is mounted, and positioned above the table. A peripheral exposure unit is formed to have a length corresponding to the size of the peripheral exposure unit that can simultaneously expose as much as the length, the peripheral exposure unit includes a case, a light source lamp mounted inside the case, and the upper side of the light source lamp And a reflection mirror configured to reflect the emitted light downward and a stop provided at a lower side of the light source lamp to adjust the width of the light emitted on the glass substrate.
상술한 본 발명의 양상은 첨부된 도면을 참조하여 설명되는 바람직한 실시예들을 통하여 더욱 명백해질 것이다. 이하에서는 바람직한 실시예를 통해 당업자가 본 발명을 용이하게 이해하고 재현할 수 있도록 상세히 설명하기로 한다.Aspects of the present invention described above will become more apparent through preferred embodiments described with reference to the accompanying drawings. Hereinafter, the present invention will be described in detail so that those skilled in the art can easily understand and reproduce the present invention.
도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 노광장치의 사시도이고, 도 2는 도 1의 A-A'선에 대한 단면도이다. 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 노광장치는 유리기판(S)과 그 표면에 형성된 다수개의 패널셀(P) 주변부의 불필요한 감광막을 노광하기 위한 것으로, 유리기판을 거치하는 테이블(T)과, 상기 테이블의 상측에 위치하며 상기 유리기판의 크기에 상응하는 길이로 형성되어 그 길이만큼을 동시에 노광할 수 있는 주변노광유닛(10)을 포함하는 것을 특징으로 한다.1 is a perspective view of an exposure apparatus according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line AA ′ of FIG. 1. As shown, the exposure apparatus according to the present invention is for exposing the unnecessary photosensitive film of the peripheral portion of the plurality of panel cells (P) formed on the glass substrate (S), the table (T) for mounting the glass substrate, Located in the upper side of the table is formed to a length corresponding to the size of the glass substrate characterized in that it comprises a peripheral exposure unit 10 that can simultaneously expose as much as the length.
상기 주변노광유닛(10)은 케이스(10)와, 상기 케이스의 내부에 장착되는 광원램프(12)와, 상기 광원램프의 상측에 구비되어 발산된 빛을 하향으로 반사하는 반사미러(13)와, 상기 광원램프의 하측에 구비되어 상기 유리기판상에 조사되는 광폭을 조절하는 조리개(14a,14b)로 구성된다.The peripheral exposure unit 10 includes a case 10, a light source lamp 12 mounted inside the case, a reflection mirror 13 provided on an upper side of the light source lamp to reflect the emitted light downwardly; And apertures 14a and 14b provided below the light source lamp to adjust the width of the light irradiated onto the glass substrate.
이에 따라, 테이블(T)이 지정된 위치에 셋팅되면 광원램프(12)가 점등되고, 발산된 빛은 조리개(14a,14b)의 사이를 통과하여 유리기판(S)의 일측 주변부에 형성된 감광막(PR)을 동시에 노광하게 된다.Accordingly, when the table T is set at the designated position, the light source lamp 12 is turned on, and the emitted light passes between the apertures 14a and 14b to form the photoresist film PR formed at one peripheral portion of the glass substrate S. ) At the same time.
한편, 도 1에 도시된 바와 같이 주변노광유닛(10)을 유리기판(S)의 세로축 및 가로축에 각각 대응되도록 제1노광유닛(10a)과 제2노광유닛(10b)으로 구성할 수 있다.Meanwhile, as shown in FIG. 1, the peripheral exposure unit 10 may be configured of the first exposure unit 10a and the second exposure unit 10b so as to correspond to the vertical axis and the horizontal axis of the glass substrate S, respectively.
도 3은 본 발명의 제2 실시예에 따른 노광장치의 평면도이다. 도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 노광장치는 상술한 제1 실시예의 구성을 모두 포함하며, 특히 상기 주변노광유닛(10)은 유리기판(S)의 세로축 및 가로축에 각각 대응되는 제1노광유닛(10a)과 제2노광유닛(10b)으로 구성되고, 상기 제1노광유닛을 가로방향으로 구동하기 위한 제1구동부(20a)와, 상기 제2노광유닛을 세로방향으로 구동하기 위한 제2구동부(20b)가 더 구비된 것을 특징으로 한다.3 is a plan view of an exposure apparatus according to a second embodiment of the present invention. As shown, the exposure apparatus according to the present embodiment includes all of the configurations of the first embodiment described above, in particular, the peripheral exposure unit 10 has a first exposure corresponding to the vertical axis and the horizontal axis of the glass substrate S, respectively. A first driving unit 20a for driving the first exposure unit in a horizontal direction, and a second for driving the second exposure unit in a vertical direction, the unit 10a and a second exposure unit 10b. It is characterized in that the drive unit 20b is further provided.
즉, 제1 및 제2노광유닛(10a)(10b)을 유리기판(S)상에서 각각 가로 및 세로방향으로 이송할 수 있도록 구성하고, 제어부를 통해 제1 및 제2구동부(20a)(20b)를 각각 제어하여 지정된 위치에서 정확히 노광작업을 수행할 수 있도록 구성한다.That is, the first and second exposure units 10a and 10b are configured to be transported in the horizontal and vertical directions on the glass substrate S, respectively, and the first and second driving units 20a and 20b are controlled by the control unit. Each control is configured so that the exposure can be performed accurately at the designated position.
이에 따라, 테이블(T)을 이동시킬 필요없이 유리기판(S) 및 패널셀(P) 주변부의 감광막을 신속하게 노광할 수 있게 된다. 한편 상기 제1,2구동부(20a)(20b) 및 제어부는 당업자라면 공지수단을 이용하여 다양한 방식으로 용이하게 실시할 수 있는 기술이므로 상세한 설명을 생략하기로 한다.Accordingly, the photosensitive film around the glass substrate S and the panel cell P can be quickly exposed without the need to move the table T. Meanwhile, since the first and second driving units 20a and 20b and the control unit may be easily implemented by those skilled in the art in various manners, a detailed description thereof will be omitted.
도 1 및 도 3에서는 주변노광유닛(10)을 유리기판(S)의 가로축과 세로축에 대응되도록 각각 하나씩 설치한 것이나, 가로축 혹은 세로축에 하나만 설치하고 테이블(T)을 90도로 회전시키는 방식으로도 노광작업을 수행할 수 있다. 또한 주변노광유닛(10)은 고정하고 테이블(T)을 이동 및 회전시키면서 노광작업을 수행할 수도 있음은 자명할 것이다.In FIGS. 1 and 3, the peripheral exposure unit 10 is installed one by one to correspond to the horizontal and vertical axes of the glass substrate S, but only one is installed on the horizontal or vertical axis and the table T is rotated by 90 degrees. Exposure can be performed. In addition, it will be apparent that the peripheral exposure unit 10 may perform the exposure operation while fixing and moving and rotating the table T.
도 4는 본 발명에 따른 조리개의 폭조절부에 대한 개략도로서, 케이스(11)의 하부에 구비된 조리개(14a,14b) 사이의 간격(D)을 조절하여, 유리기판(S)상의 조사면적을 조절하는 폭조절부를 설명한다.4 is a schematic view of the width adjusting portion of the aperture according to the present invention, by adjusting the distance (D) between the aperture (14a, 14b) provided in the lower portion of the case 11, the irradiation area on the glass substrate (S) It describes the width control to adjust.
도시된 바와 같이, 폭조절부는 각각의 조리개(14a,14b)를 수평방향으로 이송하는 구동수단(30)과, 상기 구동수단의 작동을 제어하는 제어부로 구성되며, 사용자는 상기 제어부를 통해 상기 조리개를 동시에 전,후진시킴으로써 그 사이의 간격(D)을 정밀하게 조절할 수 있다.As shown, the width adjusting unit is composed of a driving means 30 for transferring each of the apertures (14a, 14b) in the horizontal direction, and a control unit for controlling the operation of the drive means, the user through the control unit By simultaneously moving forward and backward, the distance D therebetween can be precisely adjusted.
상기와 같이 조리개(14a,14b) 사이의 간격을 조절하면 광원램프의 위치 또는 조리개와 유리기판 사이의 간격 등을 조정할 필요없이 유리기판상의 조사면적을 손쉽게 조절할 수 있게 된다.By adjusting the distance between the apertures (14a, 14b) as described above, it is possible to easily adjust the irradiation area on the glass substrate without the need to adjust the position of the light source lamp or the distance between the aperture and the glass substrate.
한편, 본 실시예에서는 조리개의 구동수단으로 실린더장치를 이용하였으나, 모터를 이용한 장치를 포함하여 산업에서 이용되고 있는 다양한 구동수단이 적용가능하며, 이는 당업자가 용이하게 채택하여 실시할 수 있는 것이다.On the other hand, although the cylinder device is used as the driving means of the aperture in the present embodiment, various driving means used in the industry are applicable, including a device using a motor, which can be easily adopted and implemented by those skilled in the art.
도 5는 본 발명의 제3 실시예에 따른 요부 단면도이다. 도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 노광장치는 상술한 제1 실시예 또는 제2 실시예의 구성을 모두 포함하며, 특히 케이스(11)의 내부에 광원램프(20)의 하측으로 집광용 렌즈부(40)가 더 구비된 것을 특징으로 한다.5 is a sectional view showing main parts of a third embodiment of the present invention. As shown, the exposure apparatus according to the present embodiment includes all of the configurations of the above-described first or second embodiment, and in particular, a lens unit for condensing under the light source lamp 20 inside the case 11. It is characterized in that 40 is further provided.
이에 따라, 광원램프(12)에서 발산된 빛은 렌즈부(40)를 통해 1차적으로 집광된 상태로 조리개(14a,14b)의 사이를 통과하게 됨으로써, 상기 제1 실시예와 같이 유리기판상에 빛을 직접 조사하는 방식에 비해 빛의 퍼짐이 감소되어 집광이 보다 효율적으로 이루어지게 된다.Accordingly, the light emitted from the light source lamp 12 passes between the diaphragms 14a and 14b in a state where the light is primarily collected through the lens unit 40, thereby assembling on the glass substrate as in the first embodiment. Compared to the method of directly irradiating light, the spread of light is reduced, so that the light is collected more efficiently.
상술한 바와 같이 본 발명은 유리기판의 크기와 대응되는 대형 광원램프를 이용하여 빛을 직접 조사함으로써, 종래와는 달리 노광에 필요한 구성이 간소화됨에 따라 제조원가가 절감되며, 광원램프를 제외한 모든 부품을 반영구적으로 사용할 수 있으므로 유지비용을 절감할 수 있는 효과를 가진다.As described above, according to the present invention, by directly irradiating light using a large light source lamp corresponding to the size of the glass substrate, unlike the conventional method, the manufacturing cost is reduced by simplifying the configuration required for exposure. Since it can be used semi-permanently, it has the effect of reducing the maintenance cost.
아울러, 빛의 조도 및 조사면적이 증가되어 노광시간이 단축됨으로써, 유리기판이 갈수록 대형화되고 있는 현실에 비추어 볼 때 작업효율을 현저하게 향상시킬 수 있는 효과를 가진다. In addition, by increasing the illuminance and irradiation area of the light to shorten the exposure time, in view of the reality that the glass substrate is becoming larger and larger, the work efficiency can be remarkably improved.
또한, 주변노광유닛을 유리기판상의 가로 및 세로방향에 각각 설치하고 이를 이동시키면서 노광작업을 수행하도록 구성하여, 테이블의 위치를 고정한 상태에서 노광작업을 신속하게 수행할 수 있으므로, 테이블의 이동에 따른 문제점을 해소할 수 있음은 물론 작업효율을 더욱 향상시킬 수 있는 효과를 가진다.In addition, by installing the peripheral exposure unit in the horizontal and vertical direction on the glass substrate, respectively, and configured to perform the exposure operation while moving, since the exposure operation can be performed quickly in a fixed position of the table, Not only can the problem be solved, but the work efficiency can be further improved.
또한, 조리개 사이의 간격을 조절하는 폭조절부를 구비하여 유리기판상의 조사면적을 필요에 따라 조절할 수 있으므로, 테이블을 움직이거나 다른 부품의 위치를 조정할 필요없이 신속하게 노광작업을 수행할 수 있는 효과를 가진다.In addition, the width adjusting section for adjusting the interval between the aperture can be adjusted as necessary to adjust the irradiation area on the glass substrate, so that the exposure can be performed quickly without the need to move the table or adjust the position of other parts. Have
또한, 조리개와는 별도로 집광용 렌즈부를 구비하여 빛을 집광함으로써, 유리기판상에 빛을 직접 조사하는 방식에 비해 빛의 퍼짐이 감소되어 집광이 보다 효율적으로 이루어지게 된다.In addition, by condensing light with a condenser lens unit separate from the diaphragm, light spreading is reduced compared to a method of directly irradiating light on a glass substrate, thereby condensing the light more efficiently.
한편, 본 발명은 도면에 도시된 실시예들을 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호범위는 첨부된 특허청구범위에 의해서만 정해져야 할 것이다.On the other hand, the present invention has been described with reference to the embodiments shown in the drawings, but this is only exemplary, those skilled in the art will understand that various modifications and equivalent other embodiments are possible from this. . Therefore, the true technical protection scope of the present invention should be defined only by the appended claims.
도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 노광장치의 사시도.1 is a perspective view of an exposure apparatus according to a first embodiment of the present invention.
도 2는 도 1의 A-A'선에 대한 단면도.2 is a cross-sectional view taken along line AA ′ of FIG. 1.
도 3은 본 발명의 제2 실시예에 따른 노광장치의 평면도.3 is a plan view of an exposure apparatus according to a second embodiment of the present invention;
도 4는 본 발명에 따른 조리개의 폭조절부에 대한 개략도.Figure 4 is a schematic view of the width adjustment of the stop according to the invention.
도 5는 본 발명의 제3 실시예에 따른 요부 단면도.5 is a sectional view showing the main parts of a third embodiment of the present invention;
도 6은 종래기술에 따른 노광장치의 사시도.6 is a perspective view of an exposure apparatus according to the prior art;
※ 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명※ Explanation of codes for main parts of drawing
10 : 주변노광유닛 11 : 케이스10: ambient exposure unit 11: case
12 : 광원램프 13 : 반사미러12: light source lamp 13: reflection mirror
14a,14b : 조리개 20a,20b : 제1,2 구동부14a, 14b: Aperture 20a, 20b: First and second drive parts
30 : 구동수단 40 : 렌즈부30: driving means 40: lens unit
T : 테이블 S : 유리기판T: Table S: Glass Board
P : 패널셀 PR : 감광막P: Panel cell PR: Photosensitive film
Claims (5)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020040011954A KR100588053B1 (en) | 2004-02-23 | 2004-02-23 | Stepper for glass-substrate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020040011954A KR100588053B1 (en) | 2004-02-23 | 2004-02-23 | Stepper for glass-substrate |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20050083438A true KR20050083438A (en) | 2005-08-26 |
KR100588053B1 KR100588053B1 (en) | 2006-06-09 |
Family
ID=37269686
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020040011954A KR100588053B1 (en) | 2004-02-23 | 2004-02-23 | Stepper for glass-substrate |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100588053B1 (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100823179B1 (en) * | 2006-06-21 | 2008-04-18 | 오에프티 주식회사 | Exposure device for edge of substrate |
KR100965570B1 (en) * | 2005-12-29 | 2010-06-23 | 엘지디스플레이 주식회사 | Apparatus and method for exposing edge of substrate |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3091460B1 (en) * | 1999-12-10 | 2000-09-25 | 東レエンジニアリング株式会社 | Exposure equipment |
JP2003114535A (en) * | 2001-10-05 | 2003-04-18 | Canon Inc | Aligner and exposing method |
JP2003337428A (en) * | 2002-05-20 | 2003-11-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | Exposure device |
-
2004
- 2004-02-23 KR KR1020040011954A patent/KR100588053B1/en not_active IP Right Cessation
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100965570B1 (en) * | 2005-12-29 | 2010-06-23 | 엘지디스플레이 주식회사 | Apparatus and method for exposing edge of substrate |
US20110069294A1 (en) * | 2005-12-29 | 2011-03-24 | Lg Display Co., Ltd. | Apparatus and method for exposing edge of substrate |
KR100823179B1 (en) * | 2006-06-21 | 2008-04-18 | 오에프티 주식회사 | Exposure device for edge of substrate |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR100588053B1 (en) | 2006-06-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8531647B2 (en) | Exposure method and exposure apparatus for photosensitive film | |
JP2006276862A (en) | Exposure apparatus for flat panel display device and method of exposing using same | |
JP2007017895A (en) | Exposure apparatus | |
KR100588053B1 (en) | Stepper for glass-substrate | |
JP2000331909A (en) | Scanning projection | |
US7206061B2 (en) | Mask supporting apparatus using vacuum and light exposing system, and method using the same | |
KR20040104396A (en) | Apparatus and method for projection exposure | |
JP4045892B2 (en) | Display panel bonding method and apparatus | |
JP4148171B2 (en) | Display panel bonding device | |
KR100609055B1 (en) | UV Exposure apparatus of LCD substrate | |
JP4693347B2 (en) | Exposure shutter, exposure apparatus, exposure method, and substrate manufacturing method | |
JP2007017897A (en) | Exposure apparatus and cleaning method | |
CN108614396B (en) | Slit switching device and method for exposure machine | |
CN102540575A (en) | Exposing device and exposing method | |
KR20030059705A (en) | A photo maskless facing exposure | |
KR100958574B1 (en) | Apparatus and method fabrication liquid crystal display device | |
JPH11338162A (en) | Exposure device | |
US20060215146A1 (en) | Exposure process and apparatus using glass photomasks | |
WO2024089737A1 (en) | Synthetic optical element, lighting unit, exposure device, and exposure method | |
JP2024032060A (en) | Exposure device and exposure method | |
KR101266612B1 (en) | Exposure apparatus | |
JP2006261163A (en) | Aligner and electrooptical apparatus | |
KR20080107628A (en) | Exposure method for display panel | |
KR101102695B1 (en) | exposure apparatus | |
KR0163091B1 (en) | Expose apparatus |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20100525 Year of fee payment: 5 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |