KR20050077417A - Multi point source for thermal evaporation process of large size organic film - Google Patents
Multi point source for thermal evaporation process of large size organic film Download PDFInfo
- Publication number
- KR20050077417A KR20050077417A KR1020040005264A KR20040005264A KR20050077417A KR 20050077417 A KR20050077417 A KR 20050077417A KR 1020040005264 A KR1020040005264 A KR 1020040005264A KR 20040005264 A KR20040005264 A KR 20040005264A KR 20050077417 A KR20050077417 A KR 20050077417A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- evaporation
- organic
- crucible
- deposition process
- evaporation source
- Prior art date
Links
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F21—LIGHTING
- F21V—FUNCTIONAL FEATURES OR DETAILS OF LIGHTING DEVICES OR SYSTEMS THEREOF; STRUCTURAL COMBINATIONS OF LIGHTING DEVICES WITH OTHER ARTICLES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- F21V21/00—Supporting, suspending, or attaching arrangements for lighting devices; Hand grips
- F21V21/36—Hoisting or lowering devices, e.g. for maintenance
- F21V21/38—Hoisting or lowering devices, e.g. for maintenance with a cable
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F21—LIGHTING
- F21V—FUNCTIONAL FEATURES OR DETAILS OF LIGHTING DEVICES OR SYSTEMS THEREOF; STRUCTURAL COMBINATIONS OF LIGHTING DEVICES WITH OTHER ARTICLES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- F21V21/00—Supporting, suspending, or attaching arrangements for lighting devices; Hand grips
- F21V21/14—Adjustable mountings
- F21V21/16—Adjustable mountings using wires or cords
Abstract
본 발명은 유기EL 증착 공정용 다점 증발원에 관한 것으로서 특히, 증착 공정을 위해 증발원 내의 유기물질을 대면적의 기판에 증착시킴에 있어서, 도가니 내부의 유기물질에 열을 가하여 유기물의 증발을 위한 것으로서, 증발되는 물질을 기판에 균일하게 증착시키고, 유기 화학 물질의 증발 방향을 결정하는 다수개의 증발관(21)이 형성된 증발 기체 분출부(20)와; 상측이 개구된 원통형의 증발도가니(22)와; 도가니 외부에 장착된 열선(24)에 의한 열이 도가니내부의 유기물질 분말의 내측까지 전달되도록 하기 위한 돌출부(23)를 포함하여 구성되어, 특히 대면적 기판의 유기박막 제작시에 기판에 증착되는 박막의 두께의 균일성을 향상시키고, 유기물질의 증착속도와 사용율을 높이기 위한 것이다. The present invention relates to a multi-point evaporation source for the organic EL deposition process, in particular, in the deposition of organic materials in the evaporation source on a large-area substrate for the deposition process, for evaporating the organic material by applying heat to the organic material in the crucible, An evaporation gas ejection unit 20 in which a plurality of evaporation tubes 21 are formed to uniformly deposit the evaporated material on the substrate and determine the evaporation direction of the organic chemicals; A cylindrical evaporation crucible 22 having an upper side opened; And a protrusion 23 for allowing heat from the hot wire 24 mounted outside the crucible to be transferred to the inside of the organic material powder in the crucible, which is deposited on the substrate, particularly when fabricating an organic thin film of a large area substrate. To improve the uniformity of the thickness of the thin film, and to increase the deposition rate and utilization rate of the organic material.
Description
본 발명은 유기 증착 공정용 다점 증발원에 관한 것으로서 특히, 유기이엘 디스플레이 소자 등의 제작을 위한 증착 공정에 사용되는 증발원에 관한 것으로서, 증착 공정을 위해 증발원 내의 물질을 대면적 기판에 증착시킴에 있어서, 증발되는 물질을 기판에 균일하게 증착시키도록 하기 위한 것이다.The present invention relates to a multi-point evaporation source for an organic deposition process, and more particularly, to an evaporation source used in a deposition process for fabricating an organic EL display device, etc., in depositing a material in an evaporation source on a large area substrate for a deposition process, It is to uniformly deposit the material to be evaporated on the substrate.
따라서, 특히 대면적 기판의 제작시에 기판에 증착되는 유기 박막의 두께의 균일성을 향상시키고, 유기 물질의 증착율과 사용율을 높이기 위한 증착 공정용 다점 증발원에 관한 것이다. Therefore, in particular, the present invention relates to a multi-point evaporation source for a deposition process for improving the uniformity of the thickness of the organic thin film deposited on the substrate during fabrication of a large-area substrate, and for increasing the deposition rate and utilization rate of the organic material.
진공 증착 공정은 유기이엘 디스플레이 소자의 유기 박막 제작에 주로 사용되고 있는 방법으로서, 유기 화학 물질을 대면적의 기판에 증착코팅하기 위하여, 유기 화학 물질이 들어있는 도가니 주위를 가열하여 유기물질을 증발시켜 도가니의 상부에 위치한 글라스 기판에 증착되게 하여 글라스 위에 얇은 박막을 제작하는 방법이며, 이때 유기물의 오염을 방지하고, 소자의 수명을 장기화하기 위함은 물론, 적당한 증착율의 조절을 위하여 주로 고진공 분위기의 진공 챔버내에서 공정을 하게 된다.The vacuum deposition process is a method mainly used to fabricate an organic thin film of an organic EL display device. In order to deposit and coat an organic chemical on a large-area substrate, the organic material is evaporated by heating around a crucible containing the organic chemical. It is a method of manufacturing a thin film on the glass by being deposited on the glass substrate located on the top of the glass, in this case, to prevent contamination of organic matter, to prolong the life of the device, as well as to control the appropriate deposition rate vacuum chamber mainly in a high vacuum atmosphere You will be fair within.
고진공 유기 증착 공정에 있어서 가장 중요한 부분은, 대면적의 박막 균일도가 보장되고, 안정한 열적 상태를 장기간 유지할 수 있는 열에 의한 유기물의 증발을 유도하는 증발원이며, 증발원은 주로 분출부와 증발도가니로 이루어진다. 주로 사용되는 증발원으로는 점 증발원으로 알려져 있다. The most important part of the high vacuum organic deposition process is an evaporation source which induces evaporation of organic matter by heat, which ensures a large area of film uniformity and maintains a stable thermal state for a long time, and the evaporation source mainly consists of a blower and an evaporation crucible. The main evaporation source is known as a point evaporation source.
점 증발원의 일반적인 구조는, 도 1에서 도시하는 바와 같이, 유기 화학 물질(11)을 담을 수 있는 도가니(10)의 외부에 열을 가하여 유기물질이 증발되도록 하고 있는데, 이러한 점 증발원은 손쉽게 제작하여 사용할 수 있기 때문에 연구용으로 널리 사용되어 왔지만, 대면적의 기판 양산 제작시에는 글라스(12)의 중앙에는 기체가 많이 날라가 증착되고 글라스의 가장자리부분은 유기물질이 적게 날라가 증착 박막이 얇게 형성되어, 유기박막(13)의 균일도가 매우 좋지 않은 것으로 알려져 있다.The general structure of the point evaporation source, as shown in Figure 1, by applying heat to the outside of the crucible 10, which can contain the organic chemical material (11), such that the point evaporation source is easily manufactured Although it has been widely used for research because it can be used for mass production of large-area substrates, a large amount of gas is deposited in the center of the glass 12, and the edges of the glass are less organic materials, and thus thin films are formed. It is known that the uniformity of the organic thin film 13 is not very good.
상기 문제점을 개선하기 위해, 도 2에 도시한 바와 같이, 점 증발원을 글라스의 중심위치로부터 좌우로 또는 위로 멀리 떨어뜨려 설치하고, 글라스를 회전하여 대면적 유기박막의 균일도를 향상시키고 있으나, 이때 유기물질의 사용률의 저하와 고진공 챔버의 크기가 매우 커지는 등의 문제점을 가지고 있다. In order to improve the above problem, as shown in FIG. 2, the point evaporation source is installed far away from the center position of the glass to the left or right, and the glass is rotated to improve the uniformity of the large-area organic thin film. There are problems such as a decrease in the utilization rate of the material and a large size of the high vacuum chamber.
본 발명은 상기의 문제점을 해소하기 위한 것으로, 다점 증발원에 있어서, 특히 대면적 기판의 유기 박막 제작 시에 기판에 증착되는 유기 박막의 균일성을 향상시키고, 유기 물질의 사용율을 높이기 위한 유기 박막 증착 공정용 다점 증발원를 제공하고자 한다.The present invention is to solve the above problems, in the multi-point evaporation source, organic thin film deposition for improving the uniformity of the organic thin film deposited on the substrate, especially during the production of the organic thin film of a large area substrate, and to increase the use rate of the organic material It is intended to provide a multipoint evaporation source for a process.
이러한 본 발명은 유기 물질의 증발방향을 결정하는 증발관들이 균일하게 분포된 분출부와; 상측이 개구된 원통형의 증발 도가니로 형성되고, 도가니에 전달된 열이 도가니내부의 유기물질에까지 균일하게 전달되도록 하기 위한 돌출부를 포함하여 구성함으로써 달성된다. The present invention comprises a spraying unit is uniformly distributed evaporation tubes for determining the evaporation direction of the organic material; The upper side is formed of an open cylindrical evaporation crucible, and is achieved by including a protrusion for uniformly transferring heat transferred to the crucible to the organic material inside the crucible.
본 발명의 실시예를 첨부 도면을 참고하여 상세히 설명하면 다음과 같다.An embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 3은 본 발명의 증착 공정용 다점 증발원의 분출부와 증발도가니를 나타내는 단면도이고, 도 4는 본 발명의 증착 공정용 다점 증발원의 실시예를 나타내는 개략도로서, 본 발명은, 유기물질의 증발방향을 결정하는 증발관(21)이 원띠형태를 따라 균일하게 분포하여 형성된 분출부(20)와; 상측이 개구된 원통형으로 형성된 증발 도가니(22)와; 증발도가니의 하부 내부에는 원뿔형의 돌출부(23)를 포함하여 구성되는 것을 그 기술상의 특징으로 한다. Figure 3 is a cross-sectional view showing the ejection part and the evaporation crucible of the multi-point evaporation source for the deposition process of the present invention, Figure 4 is a schematic diagram showing an embodiment of the multi-point evaporation source for the deposition process of the present invention, the present invention, evaporation direction of the organic material An evaporating tube 21 for determining a spraying portion 20 formed to be uniformly distributed along a circular shape; An evaporation crucible 22 formed in a cylindrical shape having an upper side opened; The technical features of the lower inside of the evaporation crucible comprises a conical projection 23.
증발도가니와 분출부 사이는 증발되는 유기물질이 새어나오는 것을 방지하기 위해, 걸림턱이나 나사산을 이용하여 돌려서 잠그면 연결부위를 밀폐시킬 수 있다. In order to prevent leakage of the evaporated organic material between the evaporation crucible and the ejection part, the connection part may be sealed by locking by using a locking jaw or a screw thread.
상기 증발 도가니(22)내에는 적당한 양의 유기물질을 넣어 증발시키게 하는데, 도가니의 하부 중앙에는 원뿔형의 돌출부(23)가 있어 증발도가니 외부의 열선(24)에서 전달되어 오는 열이나 방사선이 도가니 내부에 놓이는 유기물질 내부에 까지 효과적으로 전달되도록 한다. 이때, 도가니의 온도를 관측하기위한 센서가 온도측정선 유입구(25)에 인입된다. In the evaporation crucible 22, an appropriate amount of organic material is put into the evaporation crucible, and the lower center of the crucible has a conical protrusion 23, so that heat or radiation transmitted from the heating wire 24 outside the evaporation crucible is inside the crucible. Effectively transfer to the inside of the organic material placed in the. At this time, a sensor for observing the temperature of the crucible is introduced into the temperature measuring line inlet 25.
도 5는 본 발명의 증착 공정용 다점 증발원의 분출부가 한개의 증발관을 가질때의 실시예를 나타내는 단면도로서, 각도 X와 Y 및 증발관의 각도와 크기를 조절하여 대면적 유기박막의 두께의 균일도를 향상시킬 수 있다. 이때, 증발관의 크기는 길이 방향으로 증가하는 폭을 가지도록 하는 것이 바람직하다. Figure 5 is a cross-sectional view showing an embodiment when the ejection portion of the multi-point evaporation source for the deposition process of the present invention has a single evaporation tube, the uniformity of the thickness of the large area organic thin film by adjusting the angle and size of the angle X and Y and the evaporation tube Can improve. At this time, the size of the evaporation tube is preferably to have a width increasing in the longitudinal direction.
도 6은 본 발명의 증착공정용 다점 증발원의 유입형 분출구(30)가 기체 유입관(31)과 연결된 단면도로서, 고진공 증착 챔버의 외부에서 유기물질의 기체를 공급할 수 있도록 한 것이다. 도 7은 상기 유입형 분출구의 다른 실시예를 나타낸 것이다. 6 is a cross-sectional view connected to the gas inlet pipe 31 of the multi-point evaporation source for the vapor deposition process of the present invention, it is possible to supply the gas of the organic material from the outside of the high vacuum deposition chamber. 7 shows another embodiment of the inlet spout.
이하, 상기 분출부(20)를 이용하여 증착박막의 균일성을 확보할 수 있는 동작원리를 설명하면 다음과 같다. Hereinafter, the operation principle that can ensure the uniformity of the deposited thin film using the ejection portion 20 as follows.
일반적인 점 증발원의 경우를 살펴보면, 증발물질이 한 점과 같은 개구부를 통하여 증발 출발하여 도가니의 개구방향을 중심으로 방사형으로 퍼져나가는 원리를 가진다. 이때, 개구의 외부를 향하는 중심선 방향으로 사선방향보다 훨씬 많은 증발물질이 퍼져나가므로 실제 증착이 이루어지는 유리 기판의 중앙에서 바깥부분으로 갈수록, 증발원과의 거리가 멀어지며, 증발물질의 퍼짐 방향과 기판 면과의 각도가 커지기 때문에, 기판중앙에서의 증착박막의 두께가 바깥부분보다 두꺼워져서 기판전체의 증착 박막 두께의 균일도를 얻기가 어렵다. 이 경우 박막두께를 균일하게 얻기 위하여 기판을 회전하거나, 점 증발원의 위치를 눕혀서 사용하기도 하지만, 물질의 사용효율이 현저히 낮아진다. Looking at the case of a general point evaporation source, the evaporation material has a principle that the evaporation material starts to evaporate through the same opening and radially spreads around the opening direction of the crucible. At this time, since much more evaporated material spreads in the direction of the center line toward the outside of the opening than the oblique direction, the distance from the evaporation source is farther away from the center of the glass substrate on which the actual deposition is performed, and the evaporation material spreads from the substrate. Since the angle with the surface becomes large, the thickness of the deposited thin film in the center of the substrate becomes thicker than the outer portion, making it difficult to obtain uniformity of the deposited thin film thickness of the entire substrate. In this case, the substrate may be rotated or the point evaporation source may be laid down to obtain a thin film thickness uniformly, but the use efficiency of the material is significantly lowered.
도 3 에 도시한, 본 발명에 따른 다점 증발원의 경우 분출부(20)의 증발관(21)들이, 기판의 바깥부분을 향하도록 원통형태로 제작하면, 증발관의 각도와 크기에 따라 증발물질의 퍼짐방향과 양을 조절하는 효과가 생기므로, 기판의 바깥부분에는 더욱 많은 증발물질이 방사형으로 증발되어 증착되고, 증발물질의 퍼짐 방향과 기판과의 각도에 의한 영향은 기판의 중앙부분을 적당히 두껍게 하기 때문에, 점 증발원을 사용 할 때와 같이, 기판을 회전하지 않고도 대면적 기판에 전체적으로 균일한 증착박막의 두께를 얻을 수 있다. In the case of the multi-point evaporation source according to the present invention shown in FIG. 3, when the evaporation tubes 21 of the ejection part 20 are manufactured in a cylindrical shape to face the outer portion of the substrate, the evaporation material is according to the angle and size of the evaporation tube. Since the effect of controlling the spreading direction and the amount of is generated, more evaporated material is evaporated and deposited on the outer portion of the substrate radially, and the influence of the spreading direction of the evaporated material and the angle of the substrate is appropriately applied to the center portion of the substrate. Due to the thickening, as in the case of using a point evaporation source, it is possible to obtain a uniform thickness of the overall deposited thin film on a large area substrate without rotating the substrate.
이때 원통형 증발관과 분출부의 중심선과의 각도(X)는, 기판의 크기와 기판과 분출부사이의 거리에 따라 10°에서 80°이내의 적절한 각도를 찾아 제작하게 되고, 또한, 분출부의 꼭지각(Y)을 10°에서 170°이내에서 적절하게 찾아 제작된다. At this time, the angle (X) between the cylindrical evaporation tube and the center line of the ejection part is made by finding an appropriate angle within 10 ° to 80 ° according to the size of the substrate and the distance between the substrate and the ejection part, and the vertex angle of the ejection part (Y). ) Is appropriately manufactured within 10 ° to 170 °.
또한 도 5 에 도시한 경우와 같이, 분출부(20)의 원통형 증발관을 한개 또는 두개만을 뚫어서 사용하되, 기판을 회전하면 기판 전체의 균일한 박막두께를 얻을 수도 있는데, 점 증발원의 경우처럼, 증발원을 기울여서 사용하는 문제를 개선할 수 있고, 증발관의 각도(X, Y)를 조절하여 제작하면, 증발원과 기판과의 거리를 단축하게 되어 물질 사용효율을 현저히 개선하게 된다. In addition, as shown in FIG. 5, only one or two cylindrical evaporation tubes of the jetting part 20 are used, and when the substrate is rotated, a uniform thin film thickness of the entire substrate may be obtained, as in the case of a point evaporation source. The problem of tilting the evaporation source can be improved and manufactured by adjusting the angle (X, Y) of the evaporation tube, which shortens the distance between the evaporation source and the substrate, thereby significantly improving the material use efficiency.
이상과 같은 본 발명은 증착 공정용 다점 증발원에 있어서, 특히 대면적 유기 박막 기판의 제작 시에 글라스 기판에 증착되는 유기 박막의 두께의 균일성을 향상시키고, 유기물질이 증착율과 사용율을 높이기 위한 효과가 있는 발명인 것이다. As described above, the present invention improves the uniformity of the thickness of the organic thin film deposited on the glass substrate during the production of the large-area organic thin film substrate in the deposition process, and the effect of increasing the deposition rate and the utilization rate of the organic material. It is an invention with.
도 1은 종래의 유기증착 공정용 점 증발원의 사용례를 나타내는 개략도,1 is a schematic view showing an example of use of a point evaporation source for a conventional organic vapor deposition process,
도 2는 종래의 유기증착 공정용 점 증발원의 다른 사용례를 나타내는 개략도,2 is a schematic view showing another example of use of a point evaporation source for a conventional organic vapor deposition process,
도 3은 본 발명의 유기 증착 공정용 다점 증발원의 내부상태를 나타내는 개략도, 3 is a schematic view showing an internal state of a multi-point evaporation source for an organic deposition process of the present invention;
도 4는 본 발명의 유기 증착 공정용 다점 증발원의 외부상태를 나타내는 개략도, Figure 4 is a schematic diagram showing the external state of the multi-point evaporation source for the organic deposition process of the present invention,
도 5는 본 발명의 유기 증착 공정용 다점 증발원 분출부의 실시예를 나타내는 단면도,5 is a cross-sectional view showing an embodiment of a multi-point evaporation source jet for an organic deposition process of the present invention;
도 6은 본 발명의 유기 증착 공정용 다점 증발원 분출부의 다른 실시예를 나타내는 단면도,6 is a cross-sectional view showing another embodiment of the multi-point evaporation source jet for the organic vapor deposition process of the present invention;
도 7은 본 발명의 유기 증착 공정용 다점 증발원 기체 유입형 분출부의 실시예를 나타내는 개략도, 7 is a schematic view showing an embodiment of a multi-point evaporation source gas inlet jet for an organic deposition process of the present invention;
10 : 점 증발원 도가니 11 : 유기 화학 물질10 point evaporation source crucible 11: organic chemicals
12 : 글라스 13 : 유기박막12 glass 13 organic thin film
20 : 분출부 21 : 증발관20: blower 21: evaporation tube
22 : 증발도가니 23 : 돌출부22: evaporation crucible 23: protrusion
24 : 열선 25 : 온도측정선 유입구24: hot wire 25: temperature measuring line inlet
30 : 유입형 분출부 31 : 기체 유입관 30: inlet blower 31: gas inlet pipe
Claims (6)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020040005264A KR20050077417A (en) | 2004-01-28 | 2004-01-28 | Multi point source for thermal evaporation process of large size organic film |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020040005264A KR20050077417A (en) | 2004-01-28 | 2004-01-28 | Multi point source for thermal evaporation process of large size organic film |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20050077417A true KR20050077417A (en) | 2005-08-02 |
Family
ID=37264914
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020040005264A KR20050077417A (en) | 2004-01-28 | 2004-01-28 | Multi point source for thermal evaporation process of large size organic film |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR20050077417A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100805323B1 (en) * | 2006-12-28 | 2008-02-20 | 세메스 주식회사 | Apparatus for depositing organic film on substrate |
| KR100813199B1 (en) * | 2006-07-31 | 2008-03-13 | 세메스 주식회사 | The evaporators with the openings having different angles and apparatus for vapor deposition of thin film using the evaporators |
| KR20140136758A (en) * | 2013-05-21 | 2014-12-01 | 삼성디스플레이 주식회사 | Deposition source and organic layer depositoin apparatus |
-
2004
- 2004-01-28 KR KR1020040005264A patent/KR20050077417A/en not_active Application Discontinuation
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100813199B1 (en) * | 2006-07-31 | 2008-03-13 | 세메스 주식회사 | The evaporators with the openings having different angles and apparatus for vapor deposition of thin film using the evaporators |
| KR100805323B1 (en) * | 2006-12-28 | 2008-02-20 | 세메스 주식회사 | Apparatus for depositing organic film on substrate |
| KR20140136758A (en) * | 2013-05-21 | 2014-12-01 | 삼성디스플레이 주식회사 | Deposition source and organic layer depositoin apparatus |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI495741B (en) | Evaporation source assembly, thin film deposition apparatus and thin film deposition method | |
| US6982005B2 (en) | Multiple-nozzle thermal evaporation source | |
| KR20140119654A (en) | Single Point Linear Evaporation Source System | |
| US20140109829A1 (en) | Linear evaporation source and vacuum deposition apparatus including the same | |
| KR20080003720A (en) | Multiple nozzle evaporator for vacuum thermal evaporation | |
| TW200814392A (en) | Deposition apparatus | |
| TWI437111B (en) | Evaporation apparatus, thin film depositing apparatus and method for feeding source material of the same | |
| JP4545797B2 (en) | Multi-nozzle crucible device for organic light emitting diode deposition process | |
| JP2018532876A (en) | Nozzle for material deposition source configuration dispensing assembly, material deposition source configuration, vacuum deposition system, and method for depositing material | |
| TWI690611B (en) | Vacuum deposition chamber | |
| JP2018538429A (en) | Measuring assembly, evaporation source, deposition apparatus and method therefor for measuring deposition rate | |
| KR20160005877A (en) | Thin Film Deposition Apparatus with Multiple Evaporation Source | |
| CN102239528A (en) | System and method for top-down material deposition | |
| KR100434438B1 (en) | Circular nozzle source for thermal evaporation process | |
| KR20110095982A (en) | Multi storage thermal evaporation source for cigs thin films | |
| KR101063192B1 (en) | Deposition source capable of downward deposition | |
| KR20050077417A (en) | Multi point source for thermal evaporation process of large size organic film | |
| JP2018519423A (en) | Measuring assembly and method for measuring deposition rate | |
| KR102018865B1 (en) | Material source arrangement and nozzle for vacuum deposition | |
| KR100624767B1 (en) | OLED evaporation system using shutter rotation for continuous deposition process | |
| KR101037121B1 (en) | Vapor deposition system and vapor deposition method | |
| KR20170038288A (en) | Evaporation source of mixed organic gases | |
| KR101200641B1 (en) | Array Method of linear type crucible with multi nozzles for large-size OLED deposition | |
| KR101006952B1 (en) | A vacuum effusion cell for forming a thin film | |
| JP2003129231A (en) | Vacuum deposition apparatus and vacuum deposition method |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| N231 | Notification of change of applicant | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E601 | Decision to refuse application |