KR20050071045A - Vertical multi gas supply system - Google Patents

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Abstract

수직 다중 가스 공급 시스템을 제시한다. 본 발명의 일 관점에 따르면, 다수의 반도체 소자 제조용 장비들에 요구되는 가스를 저장하는 가스 용기가 설치되는 캐비넷(cabinet), 및 캐비넷 내부의 가스 용기 상측에 도입되어 가스 용기로부터 다수의 반도체 소자 제조용 장비들에 가스를 배분하여 공급하는 가스 배분 공급 배관부를 포함하여 구성된다. We present a vertical multiple gas supply system. According to an aspect of the present invention, a cabinet in which a gas container for storing gas required for a plurality of semiconductor device manufacturing equipment is installed, and introduced into the gas container inside the cabinet for manufacturing a plurality of semiconductor devices from the gas container. It comprises a gas distribution supply pipe for distributing and supplying gas to the equipment.

Description

수직 다중 가스 공급 시스템{vertical multi gas supply system}Vertical multi gas supply system

본 발명은 반도체 소자 제조 장비에 관한 것으로, 특히, 수직 다중 가스 공급 시스템(vertical multi gas supply system)에 관한 것이다. TECHNICAL FIELD The present invention relates to semiconductor device manufacturing equipment, and more particularly, to a vertical multi gas supply system.

현재 반도체 소자 제조 공정에는 다양한 가스의 사용이 요구된다. 이에 따라, 반도체 공정에 사용되는 가스 중 중앙 공급식으로 제공되는 가스를 제외하고는, 가스 용기(bottle)를 포함하는 가스 캐비넷(gas cabinet)을 이용하여 가스 용기로부터 주 장비에 가스를 직접적으로 공급하고 있다. Currently, the use of various gases is required in the semiconductor device manufacturing process. Accordingly, gas is directly supplied from the gas container to the main equipment by using a gas cabinet including a gas bottle except for a gas supplied centrally among the gases used in the semiconductor process. Doing.

하지만, 가스의 압력에 따라 가스 용기 하나 당 주 장비 하나씩 연결하여 이용하는 것이 아니라, VMB(Valve Manifold Box) 장비를 이용하여 가스 용기 한 개에 2 혹은 3대 이상의 장비를 연결하여 사용하고 있다. However, depending on the pressure of the gas, not one main equipment is connected to each gas container, but two or three or more devices are connected to one gas container using VMB (Valve Manifold Box) equipment.

하지만, 거리가 먼 가스 룸(gas room)에서 오는 가스의 경우를 제외하고, 서브 팹(sub FAB)에 설치하는 가스 캐비넷의 경우 VMB를 추가로 설치하면, 서브 팹의 공간 확보가 사실상 어렵게 된다. 그리고, VMB를 추가로 구매해야 하는 문제가 발생하고, 안전 상의 문제를 무시하고 밸브 박스(valve box)를 사용하게 되면, 안정 규정을 무시하게 되는 결과가 발생하게 된다. However, except for gas coming from a far-away gas room, the gas cabinet to be installed in the sub FAB will be difficult to secure the space of the sub-fab if additional VMB is installed. In addition, the problem of having to purchase an additional VMB occurs, and if the valve box (valve box) is used in ignoring the safety problem, the result is that the stability rule is ignored.

도 1a 및 도 1b는 종래의 다중 가스 공급 시스템을 설명하기 위해서 개략적으로 도시한 도면들이다. 1A and 1B are diagrams schematically illustrating a conventional multiple gas supply system.

도 1a를 참조하면, 종래의 다중 가스 공급 시스템은 서브 팹에 가스 캐비넷(10)이 설치되고, 클린 룸(clean room)에 설치된 여러 대의 장비들(31, 33, 35)에 가스를 동시에 배분하여 공급하게 된다. 이때, 가스 공급 경로 중간에 가스 배분을 위한 VMB(20)가 도입되고 있다. Referring to FIG. 1A, a conventional multi-gas supply system has a gas cabinet 10 installed in a sub fab and simultaneously distributes gas to a plurality of devices 31, 33, and 35 installed in a clean room. Will be supplied. At this time, the VMB 20 for gas distribution is introduced in the middle of the gas supply path.

물론, 도 1b에 제시된 바와 같이 VMB(20) 대신에 단순한 밸브 박스(25)를 설치하여 가스 분배를 구현할 수도 있으나, 반도체 소자 제조 공정에 사용되는 가스들은 위험 성분을 포함한 가스들이 다분하므로, 이러한 밸브 박스(25)의 사용은 가스 누설(gas leakage) 발생 또는 누설 가스 검출 등이 미비하여 적절하지 못하다. Of course, the gas distribution may be implemented by installing a simple valve box 25 instead of the VMB 20 as shown in FIG. 1B, but the gas used in the semiconductor device manufacturing process is divided into gases including dangerous components. The use of the box 25 is not suitable due to insufficient gas leakage or leakage gas detection.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 여러 반도체 소자 제조용 장비들로 가스를 배분 공급할 수 있는 개선된 다중 가스 공급 시스템을 제공하는 데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in an effort to provide an improved multi-gas supply system capable of distributing and supplying gas to equipment for manufacturing various semiconductor devices.

상기의 기술적 과제들을 달성하기 위한 본 발명의 일 관점은, 다수의 반도체 소자 제조용 장비들에 요구되는 가스를 저장하는 가스 용기가 설치되는 캐비넷(cabinet), 및 상기 캐비넷 내부의 상기 가스 용기 상측에 도입되어 상기 가스 용기로부터 상기 다수의 반도체 소자 제조용 장비들에 상기 가스를 배분하여 공급하는 가스 배분 공급 배관부를 포함하는 다중 가스 공급 시스템을 제시한다. One aspect of the present invention for achieving the above technical problem is a cabinet (cabinet) is installed, a gas container for storing a gas required for a plurality of semiconductor device manufacturing equipment, and introduced into the gas container inside the cabinet The present invention provides a multiple gas supply system including a gas distribution supply pipe that distributes and supplies the gas to the plurality of semiconductor device manufacturing equipment from the gas container.

상기 가스 배분 공급 배관부는 상기 가스 용기로부터 제공되는 가스를 상기 다수의 반도체 소자 제조용 장비들 각각에 배분하는 다수의 가스 공급 배관들, 및 상기 가스 공급 배관들에 설치되어 상기 가스의 공급을 배분하는 운행 밸브들을 포함하여 구성될 수 있다. The gas distribution supply piping unit is provided with a plurality of gas supply pipes for distributing the gas provided from the gas container to each of the plurality of semiconductor device manufacturing equipment, and the operation to distribute the supply of the gas installed in the gas supply pipe It may be configured to include valves.

상기 캐비넷 내에 누설될 수 있는 가스를 검출하기 위한 가스 검출기를 더 포함하여 구성될 수 있다. The gas detector may further include a gas detector for detecting a gas that may leak in the cabinet.

상기 캐비넷 내에 질소 가스를 제공하기 위한 가스 공급관은 더 포함하여 구성될 수 있다. The gas supply pipe for providing a nitrogen gas in the cabinet may further comprise.

상기 질소 가스를 제공하기 위한 가스 공급관은 상기 가스 배분 공급 배관부도 연결되는 것일 수 있다. The gas supply pipe for providing the nitrogen gas may also be connected to the gas distribution supply pipe.

상기 캐비넷 내에 밸브 구동을 위한 질소 가스를 공급하기 위한 가스 공급관을 더 포함하여 구성될 수 있다. The cabinet may further include a gas supply pipe for supplying nitrogen gas for driving the valve.

본 발명에 따르면, 여러 반도체 소자 제조용 장비들로 가스를 배분 공급할 수 있는 개선된 다중 가스 공급 시스템을 제공하는 데 있다.According to the present invention, there is provided an improved multi-gas supply system capable of distributing and supplying gas to equipment for manufacturing various semiconductor devices.

이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다. 그러나, 본 발명의 실시예들은 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시예들로 인해 한정되어지는 것으로 해석되어져서는 안되며, 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되어지는 것으로 해석되는 것이 바람직하다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the embodiments of the present invention may be modified in many different forms, and the scope of the present invention should not be construed as being limited by the embodiments described below, and should be understood by those skilled in the art. It is preferred that the present invention be interpreted as being provided to more fully explain the present invention.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 수직 다중 가스 공급 시스템을 설명하기 위해서 개략적으로 도시한 도면이다. 2 is a diagram schematically illustrating a vertical multiple gas supply system according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 2를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 수직 다중 가스 공급 시스템은 외관을 이루는 캐비넷(100) 내에 가스 용기(200)가 설치되게 구성된다. 이러한 가스 용기(200)는 가스의 연속적 공급 등을 위해서 보조 용기를 포함하여 적어도 2개 정도 설치되며, 이러한 가스 용기(200)로부터 가스의 이송을 위한 제1 공급 배관(410)이 연결된다. 이러한 제1 공급 배관(410)에는 제어 밸브(310)가 설치되어 가스 용기(200)로부터의 가스의 공급이 통제된다. 2, the vertical multiple gas supply system according to an embodiment of the present invention is configured such that the gas container 200 is installed in the cabinet 100 forming the appearance. The gas container 200 is installed at least two including the auxiliary container for the continuous supply of the gas, the first supply pipe 410 for the transfer of gas from the gas container 200 is connected. The control valve 310 is installed in the first supply pipe 410 to control the supply of gas from the gas container 200.

이러한 제1 공급 배관(410)에는 다수의 제2 공급 배관들(431, 433, 435, 437)들이 연결되고, 제2 공급 배관들(431, 433, 435, 437)에는 각각의 제2 공급 배관들(431, 433, 435, 437) 개개로 가스들의 분배 공급을 위한 운행 밸브들(330)이 설치된다. 이러한 운행 밸브(330)들의 선택적 작동에 의해서, 제2 공급 배관들(431, 433, 435, 437) 각각에 연결되는 클린 룸 내에 설치된 반도체 소자 제조용 장비들(61-, 620, 630, 640)에 가스가 배분 공급된다. A plurality of second supply pipes 431, 433, 435, and 437 are connected to the first supply pipe 410, and each second supply pipe is connected to the second supply pipes 431, 433, 435, and 437. Each of the fields 431, 433, 435, 437 is provided with driving valves 330 for distributing and supplying gases. By selective operation of the driving valves 330, the devices 61-, 620, 630, and 640 installed in the clean room connected to each of the second supply pipes 431, 433, 435, and 437 are provided. Gas is distributed and supplied.

한편, 이러한 제2 공급 배관들(431, 433, 435, 437)에는 질소 가스 등을 제공하기 위한 제3 가스 배관(440)이 연결될 수 있다. 이러한 제3 가스 배관(440)에는 압력 게이지(pressure gauge:350)가 설치되어 질소 가스의 압력을 검출하게 된다. 그리고, 제3 가스 배관(440)에는 제4 가스 배관(450)이 연결되어 질소 가스 등을 공급하게 된다. 제4 가스 배관(450)은 캐비넷(100) 내에 가스 누설 검사에 요구되는 질소 가스 등을 제공하는 역할도 함께 겸하게 설치된다. Meanwhile, a third gas pipe 440 for providing nitrogen gas or the like may be connected to the second supply pipes 431, 433, 435, and 437. A pressure gauge 350 is installed in the third gas pipe 440 to detect the pressure of the nitrogen gas. The fourth gas pipe 450 is connected to the third gas pipe 440 to supply nitrogen gas. The fourth gas pipe 450 also serves to provide nitrogen gas or the like required for gas leakage inspection in the cabinet 100.

그리고, 캐비넷(100) 내에 도입되는 여러 밸브들의 구동을 위한 질소 가스의 공급을 위한 제5가스 배관(460) 및 이러한 질소 가스의 배기를 위한 제6가스 배관(470)이 더 캐비넷(100)에 설치된다. 또한, 캐비넷(100) 내에 발생될 수 있는 누설 가스의 검출을 위해 누설 가스 검출기(490)가 캐비넷(100) 내에 설치된다. In addition, a fifth gas pipe 460 for supplying nitrogen gas for driving various valves introduced into the cabinet 100 and a sixth gas pipe 470 for exhausting the nitrogen gas are further provided in the cabinet 100. Is installed. In addition, a leak gas detector 490 is installed in the cabinet 100 to detect leaking gas that may be generated in the cabinet 100.

이와 같은 다중 가스 공급 장치는 실질적으로 가스 저장을 위한 가스 용기(200) 상측에 가스 분배를 위한 가스 배분 공급 배관부(150)가 수직하게 배치된 구조로 구성된다. Such a multi-gas supply device is configured of a structure in which a gas distribution supply pipe 150 for distributing gas is vertically disposed above the gas container 200 for gas storage.

이와 같은 다중 가스 공급 장치는 종래의 VMB(도 1a의 20)의 별도 설치 없이 가스를 여러 반도체 소자 제조용 장비들에 배분할 수 있다. 이에 따라, 서브 팹 영역에 VMB(20)를 설치할 필요가 없어 VMB 설치에 따른 비용을 절감할 수 있고, 또한, VMB 설치에 따른 가스 검출기의 필요 수량을 절감할 수 있다. 또한, VMB 설치에 따라 요구되는 서브 팹 영역의 공간을 절감할 수 있다. 이에 따라 서브 팹 영역의 공간 확보가 됨에 따라 공간 관리가 보다 양호해질 수 있다. 즉, 훅 라인(hook line)의 일원화로 팹 환경이 우수해질 수 있다. Such a multi-gas supply device may distribute gas to various semiconductor device manufacturing equipments without installing a conventional VMB (20 of FIG. 1A). Accordingly, it is not necessary to install the VMB 20 in the subfab area, thereby reducing the cost of installing the VMB, and also reducing the number of gas detectors required by the VMB installation. In addition, the space in the subfab area required by the VMB installation can be saved. Accordingly, as space is secured in the subfab area, space management may be better. That is, the fab environment can be improved by unifying hook lines.

이상, 본 발명을 구체적인 실시예를 통하여 상세히 설명하였으나, 본 발명은 이에 한정되지 않고, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 그 변형이나 개량이 가능함이 명백하다. As mentioned above, although this invention was demonstrated in detail through the specific Example, this invention is not limited to this, It is clear that the deformation | transformation and improvement are possible by the person of ordinary skill in the art within the technical idea of this invention.

상술한 본 발명에 따르면, 별도의 VMB없이 가스 배분 공급이 가능하여 비용 절감을 구현할 수 있다. VMB의 도입이 필요없어 팹 공간이 효율적으로 관리될 수 있다.According to the present invention described above, it is possible to supply gas distribution without a separate VMB can implement a cost reduction. Eliminating the need for VMB, fab space can be managed efficiently.

도 1a 및 도 1b는 종래의 다중 가스 공급 시스템을 설명하기 위해서 개략적으로 도시한 도면들이다. 1A and 1B are diagrams schematically illustrating a conventional multiple gas supply system.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 수직 다중 가스 공급 시스템을 설명하기 위해서 개략적으로 도시한 도면이다. 2 is a diagram schematically illustrating a vertical multiple gas supply system according to an exemplary embodiment of the present invention.

Claims (6)

다수의 반도체 소자 제조용 장비들에 요구되는 가스를 저장하는 가스 용기가 설치되는 캐비넷(cabinet); 및A cabinet in which a gas container for storing gas required for a plurality of semiconductor device manufacturing equipments is installed; And 상기 캐비넷 내부의 상기 가스 용기 상측에 도입되어 상기 가스 용기로부터 상기 다수의 반도체 소자 제조용 장비들에 상기 가스를 배분하여 공급하는 가스 배분 공급 배관부를 포함하는 것을 특징으로 하는 다중 가스 공급 시스템. And a gas distribution supply pipe which is introduced above the gas container inside the cabinet and distributes the gas from the gas container to the plurality of semiconductor device manufacturing equipment. 제 1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 가스 배분 공급 배관부는 상기 가스 용기로부터 제공되는 가스를 상기 다수의 반도체 소자 제조용 장비들 각각에 배분하는 다수의 가스 공급 배관들; 및The gas distribution supply pipe part may include a plurality of gas supply pipes for distributing gas provided from the gas container to each of the plurality of semiconductor device manufacturing equipments; And 상기 가스 공급 배관들에 설치되어 상기 가스의 공급을 배분하는 운행 밸브들을 포함하는 것을 특징으로 하는 다중 가스 공급 시스템. And gas valves installed in the gas supply pipes to distribute the supply of the gas. 제 1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 캐비넷 내에 누설될 수 있는 가스를 검출하기 위한 가스 검출기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 다중 가스 공급 시스템.And a gas detector for detecting a gas that may leak in the cabinet. 제 1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 캐비넷 내에 질소 가스를 제공하기 위한 가스 공급관은 더 포함하는 것을 특징으로 하는 다중 가스 공급 시스템.And a gas supply line for supplying nitrogen gas into the cabinet. 제 4항에 있어서, The method of claim 4, wherein 상기 질소 가스를 제공하기 위한 가스 공급관은 상기 가스 배분 공급 배관부도 연결되는 것을 특징으로 하는 다중 가스 공급 시스템.Gas supply pipe for supplying the nitrogen gas is a multiple gas supply system, characterized in that also connected to the gas distribution supply pipe. 제 1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 캐비넷 내에 밸브 구동을 위한 질소 가스를 공급하기 위한 가스 공급관을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 다중 가스 공급 시스템.And a gas supply pipe for supplying nitrogen gas for driving the valve into the cabinet.
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