KR20050008686A - Hermetic encapsulation of organic electro-optical elements - Google Patents

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Abstract

유기 광전 소자들의 동작 수명 증대를 달성하기 위하여, 본 발명은 그 생산 방법을 제공하는 바, 상기 방법은 기판(3)을 제공하는 단계와, 제 1 도전층(13, 17)을 도포하는 단계와, 적어도 하나의 유기 광전 물질을 포함하는 적어도 하나의 층(15)을 도포하는 단계와, 제 2 도전층(13, 17)을 도포하는 단계와, 그리고 유리질 구조를 구비한 적어도 하나의 층(7, 71, 72, ..., 7N)을 증착하는 단계를 포함한다.In order to achieve an increase in the operating life of the organic photoelectric devices, the present invention provides a method for producing the same, comprising the steps of providing a substrate 3, applying the first conductive layers 13, 17 and Applying at least one layer 15 comprising at least one organic photovoltaic material, applying second conductive layers 13, 17, and at least one layer 7 having a glassy structure , 71, 72, ..., 7N).

Description

유기 광전 소자의 밀봉식 캡슐화{HERMETIC ENCAPSULATION OF ORGANIC ELECTRO-OPTICAL ELEMENTS}HERMETIC ENCAPSULATION OF ORGANIC ELECTRO-OPTICAL ELEMENTS}

유기발광다이오드(organic light-emitting diodes:OLED 이하 OLED' 이라 한다)는 고도의 발전분야이다. 때문에 해당 소자는 여러 조명 및 전시 수단으로 많은 장점을 가지고 있다. 예를 들어, OLED은 매우 얇고도 유동(flexibel)적으로 만들 수 있다. 또한, LCD와 비교할 때 OLED은 스스로 발광하는 특성을 갖고 있다.Organic light-emitting diodes (hereinafter referred to as OLED's) are a highly developed field. Because of this, the device has many advantages as a means of lighting and exhibition. For example, OLEDs can be made very thin and flexibel. In addition, compared with LCDs, OLEDs emit light by themselves.

그렇지만, 지금까지 알려진 바에 의하면, OLED의 중요한 문제점은 제한된 소자 동작 수명(service life)시간이다. 상기의 문제점은 소자의 동작시간이 5000시간을 넘지 못한다고 입증되어 왔다. 일반적으로 낮은 일함수를 지닌 금속 캐소드(cathodes)가  OLED에 사용되고 있다. 이러한 배경에서,  특히 금속성 칼슘이 통상적으로 사용되고 있다.However, as is known so far, an important problem with OLEDs is their limited device service life time. The above problem has been demonstrated that the operation time of the device does not exceed 5000 hours. In general, metal cathodes with low work functions are used in OLEDs. Against this background, metal calcium, in particular, is commonly used.

그렇지만, 일반적으로 낮은 작업 기능성을 지닌 이러한 물질은  매우 민감하여, 금속층에서 일어나는 화학적 반응과 일함수상의 연계된 변화들은 소자의 동작수명 시간을 제한하는 주요 요인 중 하나로 여겨진다.However, in general, these materials with low working functionality are very sensitive, so that the chemical reactions in the metal layer and the associated changes in work function are considered to be one of the major factors limiting the device's operating life time.

특히, 이러한 환경에서 공기 또는 대기상에 수분으로 존재하는 물과의 반응은 OLED의 전극을 퇴화(degradation)시키는 원인이 된다.In particular, the reaction with water present in the air or moisture in the atmosphere in such an environment causes degradation of the electrodes of the OLED.

이러한 문제를 해결하기 위하여, 미국 특허 US 5,882,761에서 OLED의 구조가 유선형 금속 시트(curved metal sheet)로 덮혀진 OLED를 제안하고 있다. 게다가, 상기 특허의 OLED은 건조제 또는 흡수제 갖는 저장소(reservoir)가 있는 것으로 기술하고 있다. 상기의 건조제 저장소와 OLED의 구조는 다공성의 접착 테이프에 의하여 상호 분리되어 있다. 금속성 시트가 UV 접착 수단에 의하여 유리기판에 접합되어 있다.In order to solve this problem, US patent US 5,882,761 proposes an OLED in which the structure of the OLED is covered with a curved metal sheet. In addition, the OLED of this patent describes it as having a reservoir with a desiccant or absorbent. The structure of the desiccant reservoir and the OLED is separated from each other by porous adhesive tape. The metallic sheet is bonded to the glass substrate by UV bonding means.

그러나, 상기 해결책의 결점은 금속시트와 유리기판 사이의 결합 부위(bonding area)와 같이 유기층(organic layers)들은  작은 가스분자가 비교적 쉽게 침투된다는 것이다. 그러므로, 접착식 결합(adhesive bonding)은 일종의 통로를 말하는 것이며, 특히 대기중 산소와 물에 대한 통로를 말한다. 따라서, 건조제가 소진되고 금속 전극의 퇴화가 시작될 때까지의 시간이 문제인 것이다. 나아가서, 이러한 캡슐화 형식으로는 극도로 얇거나 유동적인 소자와 같은 OLED 기술의 중요한 속성을 수행하기가 불가능하다.However, a drawback of the solution is that organic layers, such as the bonding area between metal sheets and glass substrates, penetrate relatively small gas molecules relatively easily. Therefore, adhesive bonding refers to a kind of passage, especially to oxygen and water in the atmosphere. Therefore, the time until the desiccant is exhausted and the degeneration of the metal electrode starts is a problem. Furthermore, this encapsulation format makes it impossible to fulfill the important attributes of OLED technology such as extremely thin or flexible devices.

공지된 흡수 물질의 일례들로서 JP 7211456, US 5,821,692, 또는 US 5962962에 개시된 액체들이 있다. 나아가서, EP 0776147 고체상태 물질의 흡수제의 사용을 소개하고 있다. 그 밖에도 공개된 WO 99/03112 바에 의하면, 유기 소자를 위한 흡수 매체로서 가스를 사용할 수 있다고 한다.Examples of known absorbent materials are the liquids disclosed in JP 7211456, US 5,821,692, or US 5962962. Furthermore, EP 0776147 introduces the use of absorbents in solid state materials. In addition, published WO 99/03112 discloses that gas can be used as an absorption medium for organic devices.

그렇지만, 선행기술로부터 알려진 상기 개시된 해결책들의 공통 특징은 가스의 사용 빈도 횟수가 계속됨에 따라서, 흡수 물질의 효율이 떨어지며 결과적으로 퇴화에 대한 항구적 보호책이 될 수 없다는 것이다.However, a common feature of the disclosed solutions known from the prior art is that as the frequency of use of the gas continues, the efficiency of the absorbent material decreases and consequently cannot be a permanent protection against degradation.

본 발명은 유기(organic), 광전소자(electro-optical elements)에 관한 것으로, 상기 소자를 생산하는 공정에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 밀봉하여 캡슐화한 유기 광전소자이고, 또한 밀봉하여 캡슐화한 광전소자를 생산하는 공정에 관한 것이다.The present invention relates to organic, electro-optical elements, and to a process for producing the device. In particular, the present invention relates to a process for producing an encapsulated organic optoelectronic device, and also to produce an encapsulated optoelectronic device.

도 1은 본 발명에 따른 OLED의 제 1 실시예이다.1 is a first embodiment of an OLED according to the invention.

도 2는 본 발명에 따른 역층구조(inverse layer structure)를  가지는 OLED 실시예이다.2 is an OLED embodiment having an inverse layer structure according to the present invention.

도 3은 예비 캡슐화 층이 있는 OLED의 실시예이다.3 is an embodiment of an OLED with a preliminary encapsulation layer.

도 4A-4D 는 OLED층 구조를 보호하기 위한 부가 덮개가 있는 실시예이다.4A-4DV are embodiments with additional lids to protect the OLED layer structure.

도 5는 OLED층 구조와 기판 사이에 배열된 유리질 구조의 층이 있는 OLED의 실시예이다.5 is an embodiment of an OLED with a layer of glassy structure arranged between the OLED layer structure and the substrate.

도 6은 OLED층 구조에 다중층 캡슐이 있는 실시예이다.6 is an embodiment in which the OLED layer structure has a multilayer capsule.

도 7은 OLED 층 구조와 개별적인 층에서 다른 굴절 지수의 다중 층 캡슐을 구비한 실시예이다.7 is an embodiment with multilayer capsules of different refractive indices in the OLED layer structure and the individual layers.

도 8A 및 8B는 OLED의 두개의 실시예에 다른 유리질 구조 층의 굴절지수의 곡선이다.8A and 8B are curves of the refractive index of the glassy structure layer according to two embodiments of " OLED "

도 9는 빗살 모양 형태로 구조화된 도전층들이 있는 OLED 실시예이다.9 is an OLED embodiment with conductive layers structured in the shape of a comb.

도 10은 이산화 규소(SiO2)로 코팅된 칼슘 스트립(strips)과 증발 코팅 유리의 실시예 비교이다.FIG. 10 is a comparative example of calcium strips coated with silicon dioxide (SiO 2) and evaporation coated glass.

도 11은 시간에 따라 캡슐화된 칼슘 스트립의 광학적 밀도를 설명하는 그래프이다.11 is a graph illustrating the optical density of calcium strips encapsulated over time.

도 12는 여러 캡슐화된 OLED의 효율성 비교이다.12 is a comparison of the efficiency of several encapsulated OLEDs.

도 13은 환경 챔버(climate chamber)에서 존재날짜에 따른 여러 캡슐화한 OLED 소자의 광도 변화이다.FIG. 13 is a luminosity change of several encapsulated OLED devices depending on the date of existence in a climate chamber.

그러므로, 본 발명은  OLED과 같은 유기, 광전소자의 퇴화를 지연시키고, 또한 동작수명 시간을 증가시키는 것을 목적으로 하고 있다.Therefore, the present invention aims to delay the deterioration of organic and photoelectric devices such as OLEDs and to increase the operation life time.

상기 목적은 놀라울 정도로 매우 간단한 방법에 의하여 달성되는 바, 유기, 광전소자를 생산하는 방법과 특허청구범위의 독립항으로 청구된 바와 같은 유기광전소자이다.The object is an organic photoelectric device as claimed in the independent claims of the method and method for producing an organic, optoelectronic device, which is achieved by a surprisingly very simple method.

따라서, 본 발명의 유기, 광전 소자의 생산 방법은 기판을 제공하는 단계와, 제 1 도전층을 도포하는 단계와, 적어도 하나의 유기, 광전 물질을 포함하는 적어도 하나의 층을 도포하는 단계와, 제 2 도전층을 도포하는 단계와, 그리고 적어도 하나의 유리질(vitreous) 구조의 층(7,71,72,...,7N)을 증착하는 단계를 포함한다.Thus, the method of producing an organic, optoelectronic device of the present invention comprises the steps of providing a substrate, applying a first conductive layer, applying at least one layer comprising at least one organic, photoelectric material, Applying a second conductive layer, and depositing at least one layer 7,71,72,..., 7N of vitreous structure.

유리질 구조의 층들은 극도로 양호한 배리어작용을 가지는 것으로 알려져 있다. 이러한 점에서, 유리질 구조의 물질을 형성하는 장기식(long-range order)의 소자 그리고/또는 재료가 없으며, 동시에 폐쇄식(close-range order)의 재료 그리고/또는 소자를 가지는 층은 유리질 구조의 층으로 이해되고 있다. 그러므로, 용어상 유리질 구조의 층은 유리질, 무정형의 층을 의미한다.Layers of glassy structure are known to have extremely good barrier action. In this respect, there is no long-range order of devices and / or materials forming the material of the glass structure, and at the same time the layer with the close-range order of materials and / or devices is of It is understood as a layer. Thus, the term glassy layer refers to a glassy, amorphous layer.

따라서, 상기 타입의 층들은 유리를 구성할 뿐아니라, 유리에 더하여 그 밖에 유리질층들은, 예를 들어, 유기물질, 합금, 또는 무정형 소자 층들을 포함할 수 있다.Thus, the layers of this type not only make up the glass, but in addition to the glass, the other glassy layers may include, for example, organic material, alloy, or amorphous device layers.

일례로서 실질적으로 미정질 층(microcrystalline layer), 다결정질층(polycrystalline layer), 또는 결정질 층(crytalline layer)의 비유리질층들과 비교할 때, 본 발명에 따른 공정에 의해 도포되어진 층들은  결정상태 경계들(grain boundaries)이 없음으로써, 특히 무정형 구조인 것 때문에 구별되어 진다. 그렇지만, 이러한 결정상태 경계들은 실질적으로 결정질 또는 다결정질 매체를 통하여, 일례로서 산소 또는 물과 같은, 작은 분자들에 대한 높은 투과율을 보이는 성향이 있다.As an example, the layers applied by the process according to the invention, when compared with substantially noncrystalline layers of a microcrystalline layer, a polycrystalline layer or a crystalline line, have a crystalline state boundary. The absence of grain boundaries makes them distinct, especially because of their amorphous structure. However, these crystallographic boundaries tend to exhibit high permeability for small molecules, such as oxygen or water, for example through substantially crystalline or polycrystalline media.

특히 본 발명에 의하여 구현하려는 구체적 실시의 일례는 유리(glass), 특히 무기 유리(inorganic glass) 증착 단계를 구성하는  최소한 한 개의 유리질 구조의 층의 증착을 제공하는 것이다.In particular, one specific implementation to be implemented by the present invention is to provide deposition of a layer of glass, in particular at least one glassy structure, which constitutes an inorganic glass deposition step.

다른 기판들과 구성요소들을 캡슐화하기 위한 증발 코팅 유리의 배리어 특성에 관하여, 동일인 명의로 출원된 다음의 출원에 기술되고 있으며, 참고로서 본 명세서에 인용한다.Regarding the barrier properties of evaporation coated glass for encapsulating other substrates and components, it is described in the following application filed under the same name, which is incorporated herein by reference.

DE 202 05 830.1, 출원일자 2002년 4월 15일;DE 202 05 830.1, filed April 15, 2002;

DE 102 22 964.3, 출원일자 2002년 5월 23일;DE 102 22 964.3, filed May 23, 2002;

DE 102 22 609.1, 출원일자 2002년 5월 23일;DE 102 22 609.1, filed May 23, 2002;

DE 102 22 958.9, 출원일자 2002년 5월 23일;DE 102 22 958.9, filed May 23, 2002;

DE 102 52 787.3, 출원일자 2002년 11월 13일;DE 102 52 787.3, filed November 13, 2002;

DE 103 01 599.0, 출원일자 2003년 1월 16일;DE 103 01 599.0, filed Jan. 16, 2003;

증발 코칭 유리층들의 불투과 속성에 관하여, 측정은 증발 코팅 유리 두께를 8 ㎛에서 18 ㎛의 범위내로 하고, 헬륨 누설율은 초당 10 mbar 보다 작게 또는 초당10 mbar로 신뢰성 있게 취한다.  측정은 0과 초당 2 * 10 mbar 사이의 헬륨 누설율로 하였으며, 이들 상위 한정 값은 이미 실질적으로 수행된 테스트들의 측정 부정확성에 의해 영향 받아진 것이다.With regard to the impermeable properties of the evaporated coaching glass layers, the measurement takes the evaporation coating glass thickness in the range of 8 μm to 18 μm and the helium leak rate is reliably taken to be less than 10 mbar per second or 10 mbar per second. Measurements were made with helium leak rates between 0 and 2 * 10 mbar per second, and these upper limit values were influenced by the measurement inaccuracies of the tests that were actually performed.

50 ㎛의 층 두께로 가능한 측정 수단을 사용하여, 헬륨을 제외한 모든 가스에 대하여 투과성을 기록할 수 없는 많은 유리들이 알려져 있다.Many glasses are known which are unable to record permeability for all gases except helium, using measuring means possible with a layer thickness of 50 μm.

예를 들어, 유리를 통한 확산율 대한 개요는 "Handbook of Gas Diffusion in Solids and Melts"에서 찾아 볼 수 있다.For example, an overview of diffusion rates through glass can be found in "Handbook of Gas Diffusion in Solids and Melts".

그렇지만, 헬륨 그 자체는 비활성 성질 때문에 OLED층들에 영향을 주지 않고, 또한 OLED의 동작수명에 대하여도 중요한 영향을 받지 않는다.However, helium itself does not affect the OLED layers because of its inert nature and also has no significant influence on the operating life of the OLED.

특히, 알카리 금속를 함유한 유리(alkali-metal-containing glass)를 구성하는 유리질 구조의 층은 밀봉식 캡슐화에 적합하다. 알카리금속 이온으로 유리 골격에 있는 간극을 채우고, 그리하여 매우 낮은 투과성 과 밀도가 농후한 층을 제공한다.In particular, the layer of glass structure constituting the alkali-metal-containing glass is suitable for hermetic encapsulation. Alkali metal ions fill the gaps in the glass skeleton, thus providing a layer with a very low permeability and a high density.

그 밖에도, 특히 붕규산염(borosilicate)유리는  유리질 구조의 층에 적합한 물질이다. 이들 유리는 투과성을 줄이기 위하여 알카리 금속 이온을 포함할 수 있다.In addition, especially borosilicate glass is a suitable material for layers of glassy structure. These glasses may include alkali metal ions to reduce permeability.

용어상 유기, 광전 물질은 전자발광속성을 가지며, OLED의 구성에 적합한 유기 물질과 광전성 속성이 있는 유기 물질, 두가지 모두를 포함한다. The term organic, photovoltaic material has electroluminescent properties and includes both organic materials with photoelectric properties and organic materials suitable for the construction of OLEDs.

명료화를 위하여, 용어상 OLED는, 일례로서 동일구조로 인하여 발광소자 와 광기전성 소자를 위한 광전 소자의 의미의 일반적인 용어로 사용되고 있다.For the sake of clarity, the term OLED is used as a general term in the meaning of a photoelectric device for a light emitting device and a photovoltaic device due to the same structure as an example.

해당 기술분야의 통상의 지식을 가진 당업자에게 알려진 기판의 넓은 도포성은 유기, 광전물질로 사용될 수 있다. 그 중에서도 특히 금속유기물질, 특히 트리플렛 에미터(triplet emitters) 또는 라탄족(lanthanide) 복합체와 같은 금속유기 복합체는 이 목적을 위해 사용될 수 있다.Wide applicability of substrates known to those of ordinary skill in the art can be used as organic, photoelectric materials. Among others, metalorganic materials, in particular metalorganic complexes such as triplet emitters or lanthanide complexes, can be used for this purpose.

일례의 방법으로서, tris-(8-hydroyquinolino)-aluminum(Alq) 또는 MEH-PPV(poly(2-methoxy, 5-(2'-ethyl-hexyloxy) 파라페닐린 비닐린(paraphenylene vinylene(MEH-PPV))는 전자발광 물질로 사용될 수 있다.As an example method, tris- (8-hydroyquinolino) -aluminum (Alq) or MEH-PPV (poly (2-methoxy, 5- (2'-ethyl-hexyloxy) paraphenylene vinylene (MEH-PPV) )) Can be used as an electroluminescent material.

그 밖에도 층은 , 예를 들어 발광 염료, 또는 광전물질과 같은 에미터를 갖도록 도포된 유기 또는 무기 매트릭스 층을 구성한다.In addition, the layers constitute an organic or inorganic matrix layer applied to have an emitter such as, for example, a luminescent dye, or a photovoltaic material.

그 중에서도 특히, 무기 매트릭스는 다공성의 티타늄 이산화물( titanium dioxide)이다.In particular, the inorganic matrix is porous titanium dioxide.

나아가,  참고로 여기에 인용하는 US6107452, EP 0573549, EP 800563 A1, EP 800563 B1, 그리고 EP 1006169A1에서도 전자발광 기판을 기재하고 있다. 비록 해당 기술분야의 통상의 기술을 가진자에게 알려진 것일 지라도,  본 발명의 명세서는 OLED의 구조를 기술함에 있어서 상기 문헌들을 참조하고 있으며, 이들의 내용은 본 출원의 일부를 형성하고 있다.Furthermore, US 6107452, EP 0573549, EP 800563 A1, EP 800563 B1, and EP 1006169A1, which are incorporated herein by reference, also describe electroluminescent substrates. Although known to those skilled in the art, the specification of the present invention refers to the above documents in describing the structure of an OLED, the contents of which form part of the present application.

더욱이, 본 발명에 따른 증착은, 유리질 구조의 층과 가스가 투과할 수 있는캐버티(cavities) 또는 접합점(joining points)을 형성하지 않는 상기 층 아래의 물질 사이에, 친밀한 접합(intimate join)이 만들어진다. 따라서 층은  그 아래의 표면에 직접 성장한다. 더욱이, 유리질 구조 층들은, 실질적으론 결정성의 국부 영역 또는 서브영역이 없으면서, 결정성의 물질과 비교하여 기계적 부하를 고려하여 볼 때, 보다 양호한 내성이 있다는 점으로 구별된다. 이것은 그러한 물질들의 매우 양호한 불투과성 작용이 그 물질의 기계적 부하 한계치 이내에서 변형된 경우에만 유지된다는 것을 의미한다.Moreover, the deposition according to the invention provides an intimate join between the layer of the glass structure and the material under the layer that does not form cavities or joining points through which the gas can permeate. Is made. Thus the layer grows directly on the surface below it. Moreover, the glassy structure layers are distinguished in that they are better resistant in view of the mechanical load compared to crystalline materials, substantially free of crystalline local or subregions. This means that very good impermeable action of such materials is maintained only if they are deformed within the mechanical load limits of the materials.

그러므로, 본 발명의 공정는 높은 동작수명을 가지는 유동적인 OLED를 생산 가능하게 한다.Therefore, the process of the present invention makes it possible to produce flexible OLEDs with high operating life.

본 발명에 따른 유리질 구조를 가지는 층의 증착은, 일례로서 진공 또는 저압의 코팅에 의하여 층에 증착하는 것과 같이, 층의 진공 또는 저압 증착을 포함한다. 모든 진공코팅 공정는 상기 목적을 위해 적합할 수 있다. 따라서, 유리질 구조의 층을 증착하기 위하여, PVD 또는 CVD 공정를 사용하는 것이 가능하다. 그 밖에 다수의 증착 공정들이 상호간 연결되어 지도록 하는 것이 가능하다.Deposition of a layer having a glassy structure according to the present invention includes vacuum or low pressure deposition of a layer, for example as deposited on the layer by vacuum or low pressure coating. Any vacuum coating process may be suitable for this purpose. Thus, it is possible to use PVD or CVD processes to deposit layers of glass structure. It is also possible for multiple deposition processes to be interconnected.

진공 코팅 공정, 또는 PVD 혹은 CVD의 일례와 같은 저압 코팅 공정는 유리한 면이 있다. 즉, 이러한 공정를 진공 그리고/또는 건조한 대기 상에서 수행될 수 있기 때문이다. 그리하여, 코팅을 하는 동안에, 습기에 민감한 OLED 층의 오염을 방지할 수 있다.Vacuum coating processes, or low pressure coating processes such as one example of PVD or CVD, have advantages. That is because this process can be carried out in a vacuum and / or on a dry atmosphere. Thus, during coating, contamination of the moisture sensitive OLED layer can be prevented.

본 발명의 구체적인 실시예로서, 최소한 한개 유리질 구조의 층이 증발 코팅에 의해 증착되도록 하는 것이다. 증발 코팅은 높은 층 성장률을 얻는 것을 가능하게 하고, 이는 본 발명의 따른 상이한 공정를 특히 빠르게 하고, 그리하여 큰 횟수를 수행할 경우 경제적이다.In a specific embodiment of the present invention, at least one glassy layer is deposited by evaporation coating. Evaporation coatings make it possible to obtain high layer growth rates, which makes the different processes according to the invention particularly fast, and therefore economical when carrying out a large number of times.

그 밖에, 증발코딩에 의한 유리질 구조를 가지는 층의 증착은 프라즈마 이온 보조 증착(plasma ion assisted deposition : PIAD) 단계를 구성함에 유리한 점이 있다. 이 경우 이온빔은 부가적으로 코팅되어질 기판상에 부가적으로 가해진다. 이온빔은 적합한 가스를 이온화한 것과 같은 프라즈마 소스에 의해서 생성될 수 있다. 상기 가스 이온은  증발 코팅 소스로부터 방출된 미립자(paritcles)를 부가적으로 가속시킨다. 이는 특히 밀도가 농후하고 결함이 작은 증착 층을 형성하게 한다.In addition, the deposition of a layer having a glassy structure by evaporation coding has an advantage in configuring a plasma ion assisted deposition (PIAD) step. In this case the ion beam is additionally applied on the substrate to be additionally coated. The ion beam can be generated by a plasma source such as ionizing a suitable gas. The gas ions additionally accelerate the particles released from the evaporation coating source. This results in the formation of a particularly dense and small defect deposition layer.

그 밖에 유리질 구조를 가지는 층을 증착하는 단계가 증발 코팅 유리로 증착하는 단계를 포함할 수 있는 것이다.  이런 타입의 유리들은 증발 코팅에 의하여 증착되어 질 수 있는 물질들이다. 증발 코팅한 유리는 탁월한 캡슐화 속성이 있음이 확인된다. 그러나, 증발 코팅에 의한 바람직한  증착이외에도, 이들 유리들은 다른 진공 또는 낮은 압력 코팅 공정를 사용하여 증착할 수 있는 것은 당연하다.In addition, depositing a layer having a glassy structure may include depositing with an evaporation coated glass. Glasses of this type are materials that can be deposited by evaporation coating. Evaporated coated glass is found to have excellent encapsulation properties. However, in addition to the preferred vapor deposition by evaporation coating, it is natural that these glasses can be deposited using other vacuum or low pressure coating processes.

일례로서, 전자 빔 코팅은 특히 증발 코팅에 적합하다. 이러한 목적을 위하여, 전자빔을 목표물 상에 가해지고, 이에 의하여 전자들의 역학 에너지(kinetic enerqy)를 목표물에 방출하도록 하고, 이는 결과적으로 가열을 일으킨다. 최종적으로 목표물질은 가열에 의하여 증발된다. 이어서, 증발된 물질은 코팅되어진 표면과 접촉되어 유리질 구조를 가지는 층으로 증착된다.As an example, electron beam coating is particularly suitable for evaporation coatings. For this purpose, an electron beam is applied on the target, thereby releasing the kinetic enerqy of the electrons to the target, which in turn causes heating. Finally the target material is evaporated by heating. The evaporated material is then deposited into a layer having a glassy structure in contact with the coated surface.

또한, 유리질 구조의 층을 형성하기 위한 증발 코팅 단계는, 최소한 두개의증발소스로부터 공동 증발(co-evaporation)하는 단계를 포함한다. 상기의 방법에 의하여, 소스들의 증발 코팅율에 따라 증착된 층의 화학량(stoichiometry)을 조정할 수 있다. 그밖에 특히 공동증발단계는 증발소스 중 최소한 한 개의 증발 코팅율을 주기적으로 변경하는 단계를 포함할 수 있다.In addition, the evaporation coating step for forming a layer of glassy structure includes co-evaporation from at least two evaporation sources. By the above method, the stoichiometry of the deposited layer can be adjusted according to the evaporation coating rate of the sources. In particular, the co-evaporation step may include periodically changing the evaporation coating rate of at least one of the evaporation sources.

유리질 구조를 가지는 층의 물질상의 속성은 증발 코팅율을 변화시켜서 증발 코팅된 표면에 수직방향으로 영향 받을 수 있고, 또한 도포될 수 있다. 예를 들어, 층 화학량(layer stoichiometry)을 변화시켜서, 열팽창(thermal expansion)계수를 코팅된 표면의 계수와 매치(match)시키는 것이 가능하다. 그래서, 표면물질과 증발 코팅된 층간의 열 스트레스(thermal stresses)를 피하거나 감소하게 된다. 증발 코팅율의 주기적 변화는, 일례로 코팅된 표면과 수직한 증발 코팅 층에 굴절 지수(refractive index)의 주기적 변화들을 생산하기 위하여 사용될 수 있다.The material properties of the layer with the glassy structure can be influenced in the direction perpendicular to the evaporated coated surface by varying the evaporation coating rate and can also be applied. For example, by changing the layer stoichiometry, it is possible to match the coefficient of thermal expansion with that of the coated surface. Thus, thermal stresses between the surface material and the evaporated coated layer are avoided or reduced. Periodic changes in evaporation coating rate can be used, for example, to produce periodic changes in refractive index in an evaporation coating layer perpendicular to the coated surface.

그러나, 일반적으로 증발 코팅에 의한 증착은 비교적 높은 증기압을 가지는 특별한 증발 코팅 물질을 요구한다. 특별한 OLED 도포을 위해서, 낮은 증기압과 이와 대응하여 일반적으로 높은 녹는점(melting points)을 가지는 물질이 적합할 수 있기 때문에, 물리적 그리고/또는 화학적 증착 수단에 의하여, 최소한 한 개의 유리질 구조를 가지는 층을 증착하는 단계는, 그 밖에 유리질 구조의 층에 유리하게 스퍼터링하는 단계를 포함할 수 있다. 이러한 맥락에서, 용어상 스퍼터링이란 PVD공정들 중 하나를 의미하는 것으로 이해된다. 층의 스퍼터링은, 증발 코팅과는 달리, 비교적 증발하기 어려운 물질들도 수행할 수 있다.In general, however, deposition by evaporation coatings requires special evaporation coating materials having a relatively high vapor pressure. For special OLED applications, a material having at least one glassy structure is deposited by physical and / or chemical vapor deposition means, since materials with low vapor pressure and correspondingly high melting points in general may be suitable. The step of elsewhere may comprise advantageously sputtering onto a layer of glassy structure. In this context, the term sputtering is understood to mean one of the PVD processes. Sputtering of the layer can, unlike evaporation coatings, also perform materials that are relatively difficult to evaporate.

그러나, 그 밖에 유리질 구조를 가지는 층은 타 공정, 예를 들어 프라즈마강화 화학적 기상 증착(plasma-enhanced chemical vapor deposition:PCVD) 방법을 사용하여 유리하게 생산할 수 있다. 이런 점에서, 프라즈마 임펄스 화학적 기상 증착(plasma impluse chemical vapor deposition:PICVD)이 적합하다; 프라즈마는 시간 추이에 따라는 것뿐만 아니라, 펄스식에서도 일정하게 생산되지 않는며, 이는 코팅될 소자에 낮은 열 부하(thermal load)를 이끌어낸다.However, other glassy layers may be advantageously produced using other processes, for example, plasma-enhanced chemical vapor deposition (PCVD). In this respect, plasma impluse chemical vapor deposition (PICVD) is suitable; Plasma is not only produced over time, but also in a pulsed fashion, which leads to a low thermal load on the device to be coated.

더욱이, 유리질 구조를 가지는 층의 증착은, 공정의 유리한 구성면에 있어서, 유기물질의 공동증착 단계를 포함한다. 유기물질에 상기 공동 증착 또는 동시증착은 유리질 구조를 가지는 층을 형성하는 층 물질과 함께 잔여가스 대기로부터 공동증발 또는 증착에 의하여 영향 받을 수 있다. 상기의 경우, 유기물질 분자는 유리질 구조를 가지는 층에서 합체된다. 유기 물질은, 여러 가지 면에서 층의 속성에 대해, 긍정적인 영향을 가질 수 있다.  기계적 부하에 대한 층의 높은 유동성, 광학적 속성과 기계적 속성과의 매칭, 유기 내용물 내 변화를 가지는 경사 층(gradient layer)의 결과로서 층 결합(layer bonding)에 대한 개선, 패킹밀도와 층의 미세구조에 있어서의 변화, 그리고, 특히 소수성 물질(hydrophobic materials) 또는 흡수제가 긍정적 영향의 예이다.Moreover, the deposition of a layer having a glassy structure includes, in an advantageous configuration of the process, a step of co-deposition of organic materials. The co-deposition or co-deposition on organic material may be effected by co-evaporation or deposition from the residual gas atmosphere with the layer material forming a layer having a glassy structure. In this case, organic molecules are coalesced in a layer having a glassy structure. The organic material can, in many ways, have a positive effect on the properties of the layer. High flowability of layers to mechanical loads, matching of optical and mechanical properties, improvement of layer bonding as a result of gradient layers with changes in organic content, packing density and layer microstructure Changes in, and in particular hydrophobic materials or absorbents are examples of positive effects.

도전층들 중에 하나가 타 도전층보다 낮은 동작기능을 갖도록 층들을 도포한다. 제 1 및 제 2 도전층은 전극으로 사용되고, 그 전극사이의 유기, 광전물질을 포함하는 층이 있는  제 1 및 2 도전층 간의 동작기능의 차이점과, 또한 전극에 인가된 전압의 소정의 정정 극성(correction polarity) 때문에,  전자들은 캐소드로 동작하는 층에 유기, 광전 물질의 점거되지 않은  전자 상태(electronic states)로주입(inject)한다. 동시에 결함 전자(defect electrons) 또는 정공을 애노드(anode)로 동작하고 낮은 동작기능을 가지는 층으로부터 주사한다. 이는 결함전자와 전자의 재결합의 결과로서 유기 물질에서 방사되는 빛의 양의 결과와 함께 이루어진다.The layers are applied such that one of the conductive layers has a lower operating function than the other conductive layer. The first and second conductive layers are used as electrodes, and there is a difference in operating function between the first and second conductive layers, in which there is a layer comprising organic and photoelectric materials between the electrodes, and also a predetermined correction polarity of the voltage applied to the electrodes. Because of correction polarity, electrons are injected into the cathode acting layers as unoccupied electronic states of organic and photovoltaic materials. At the same time defect electrons or holes operate from the anode and are scanned from a layer with low operating capability. This is done with the result of the amount of light emitted from the organic material as a result of the recombination of the defective electrons and the electrons.

많은 경우에 있어서, 부가적 기능성 층들은 , 특히 제 1 및 2 도전층 사이에 도포되며, OLED를 생산하기 위하여 사용된다. 따라서, 그 밖에 바람직한 공정은 최소한 하나의 정공주입층 그리고/또는 잠재 매칭층(potential-matching layer) 그리고/또는 전자차단층 그리고/또는 정공차단층 그리고/또는 전자도전층 그리고/또는 정공도전층 그리고/또는 전자주입층을 도포하는 단계를 포함한다.In many cases, additional functional layers are applied, in particular between the first and second conductive layers, and are used to produce the OLED. Thus, other preferred processes include at least one hole injection layer and / or a potential-matching layer and / or an electron blocking layer and / or a hole blocking layer and / or an electron conductive layer and / or a hole conductive layer and And / or applying an electron injection layer.

다음의 시퀀스에 따르는 경우, 특히 많은 양 또는 빛 효율 수득율을 획득할 수 있다:Particularly high yields or yields of light efficiency can be obtained when following the sequence:

잠재매칭층/정공주입층/전자차단층/ 적어도 하나의 유기광전물질을 포함하는 층/정공차단층 그리고/또는 전자도전층/전자주입층/잠재매칭층.Latent matching layer / hole injection layer / electron blocking layer / layer / hole blocking layer and / or electron conductive layer / electron injection layer / potential matching layer containing at least one organic photoelectric material.

명료화를 위하여 유기, 광전소자의 기능성 층의 시퀀스는 아래의 OLED층 구조와 같다. 이는 특히, 제 1 및 2의 도전층과 유기, 광전물질을 포함하는 층을 구성한다. 게다가, 상기에서 언급한 바와 같이 본 발명의 OLED층 구조는 더 향상된 기능성 층을 구성할 수 있다.For clarity, the sequence of functional layers of organic and optoelectronic devices is as shown in the OLED layer structure below. This constitutes in particular a layer comprising the first and second conductive layers and an organic, photoelectric material. In addition, as mentioned above, the OLED layer structure of the present invention may constitute a further improved functional layer.

빛이 입출력되려면, 최소한 도전층 중 하나가 부분적으로 투명하다면 유리하다. 인듐 주석 산화물 및/또는 불소 첨가 주석 산화물(SnO:F))은 상기 층에 적합한 것으로 입증되어 있다.In order for light to be input and output, it is advantageous if at least one of the conductive layers is partially transparent. Indium tin oxide and / or fluorinated tin oxide (SnO: F)) has proven to be suitable for this layer.

상기 공정의 더 나은 장점은 층을 도포하는 공정 순서가 변할 수 있다는 것이다. 일반적으로 투명한 도전층을 투명한 기판에 도포 한 후에, 유기, 광전물질을 포함하는 층을 투명한 도전층에 증착함으로써 OLED를 생성한다. 다음으로, 이런 상기 구조는 투명한 도전층보다 낮은 기능을 갖고, 차후 전극으로 도포될 도전층으로 덮혀진다. 이러한 경우, 방사되는 빛은 투명한 기판을 통하여 입력 또는 출력 수 있다.A further advantage of the process is that the process sequence of applying the layer can be changed. In general, after applying a transparent conductive layer to a transparent substrate, the OLED is produced by depositing a layer containing an organic, photoelectric material on the transparent conductive layer. Next, this structure has a lower function than the transparent conductive layer and is covered with a conductive layer to be subsequently applied to the electrode. In this case, the emitted light can be input or output through the transparent substrate.

바람직한 상기 공정의 구성을 보면, 먼저 최소한 한 개의 유기, 광전물질을 포함하는 한개의 층 과 제 1 및 2의 도전층을 도포한 후에, 다음으로 적어도 하나의 유리질 구조의 층을 증착하는 단계로 이루어진다. 상기 층들이 기판의 동일 면상에, 일례로 증착에 의해 도포되면 최소한 한 개의 유기, 광전물질을 포함하는 층은 기판과 유리질 구조의 층 사이에 위치한다. 이러한 상기 방법에 의하여, OLED층 구조는 기판과 유리질 구조의 층 사이에 캡슐화 된다.According to the preferred configuration of the process, first, at least one layer comprising organic and photoelectric materials and first and second conductive layers are applied, and then, at least one layer of glassy structure is deposited. . If the layers are applied on the same side of the substrate, for example by vapor deposition, a layer comprising at least one organic, photoelectric material is located between the substrate and the layer of the glass structure. By this method, the OLED layer structure is encapsulated between the substrate and the layer of the glassy structure.

본 발명에 따라 도포된 유리질 구조의 층은 그 자체가 투명하기 때문에, 유기, 광전물질을 가지는 층 다음으로, 투명한 도전층을 기판에 도포하도록 시퀀스를 정렬할 수 있다. 이런 상기 방법으로 비투명한 기판을 가지는 OLED를 생산할 수 있다. 상기의 경우, 빛은 유리질 구조의 층과 투명한 도전층을 거쳐서 통과한다. Since the layer of the glassy structure applied according to the invention is itself transparent, the sequence can be arranged to apply a transparent conductive layer to the substrate, next to the layer with the organic, photoelectric material. In this way it is possible to produce OLEDs having non-transparent substrates. In this case, light passes through the glassy structure layer and the transparent conductive layer.

유리하게는 하나 또는 둘의 도전층, 그 밖에 하나 또는 둘의 유기, 광전물질을 포함하는 구조화된 형상(structured form)의 층을 도포 또는 증착하는 것이 가능하다. 특히 일례로서 표면을 따라 측면방향으로 구성된 형상으로 상기 층들을 생성할 수 있다. 상기의 성향을 있는 구조화는 그러한 많은 소자의 속성에 영향을 준다. 예를 들면, 빛 통과 개구는 도전층에서 만들어 질수 있다. 나아가, 층 배열 상, 층들을 상호간의 위에 반드시 도포되어야만 할 필요가 없으며, 상기 층 배열은 그 외에도 가능하다. 그러나, 일례로서 구성된 층들이 상호간 서로 맞물리는 것이 가능하다. 예를 들면, 제 1 그리고/또는 제 2의 도전 층을 도포하면 빗 모양으로 구성할 수 있다 그 다음, 적어도 하나의 유기, 광전물질을 포함하는 층은 빗 구조상에 부분적으로 또는 완전하게 위치시킬 수 있다. 게다가, 구성은 전용 스위칭 소자에 동작하는 픽셀 구조에 적합하다. 또한, 능동 매트릭스 디스플레이의 유기 광전소자의 생산에도 적합하다.Advantageously, it is possible to apply or deposit a layer of structured form comprising one or two conductive layers, in addition one or two organic, photovoltaic materials. In particular, the layers may be produced in a shape configured laterally along the surface. The inclined structuring affects the properties of many such devices. For example, light passage openings can be made in the conductive layer. Furthermore, in the layer arrangement, the layers do not necessarily have to be applied on top of each other, and the layer arrangement is otherwise possible. However, it is possible for the layers constructed as an example to interlock with each other. For example, the application of the first and / or second conductive layer can be comb shaped. The layer comprising at least one organic, photoelectric material can then be partly or completely positioned on the comb structure. have. In addition, the configuration is suitable for pixel structures operating on dedicated switching elements. It is also suitable for the production of organic optoelectronic devices of active matrix displays.

최소한 이원계(binary system)의 물질을 구성하는 유리질 구조의 층들은 특히 OLED의 봉합 캡슐화에 적합하다. 상기와 같은 형식의 층들은 일반적으로 낮은 투과율에 의하여 구분되어진다. 따라서 , 상기 층들은 석영유리와 달리, 간헐적으로 결정질 영역을 형성하는 경향이 있으며, 그 외에 밀도가 농후한 구조를 가지는다. 최소한 이원계의 물질은 최소한 두개의 금속산화물, 또는 이산화규소(silicon dioxide) 한, 두개의 금속 산화물로 구성된다. The glassy layers that make up at least the binary system of material are particularly suitable for sealing encapsulation of OLEDs. Layers of this type are generally distinguished by low transmittance. Thus, the layers, unlike quartz glass, tend to form crystalline regions intermittently, and have a dense structure. At least the binary system consists of at least two metal oxides, or two metal oxides, one of silicon dioxide.

그 위에, 상기 공정는 도전층들 중 하나에 도포하기 전에 적어도 하나의 유리질 구조의 층에 증착하는 단계가 일어나도록 구성될 수 있다. 결과적으로, 유리질 구조의 층은 기판과 OLED 층 구조사이에 위치된다. 상기 공정의 하나의 변화(variant)는 OLED를 생성하며, 상기 OLED 내에서 기판을 통하여 OLED 층 구조를 확산되는 것을 억제할 수 있다. 상기 공정로 OLED의 기판상에 봉합 캡슐화를 할 수 있다. 만약 기판이 전형적으로 작은 가스분자에도 투과성이 있는 유동적인 플라스틱 물질을 포함한다면, 상기와 같은 공정는 유동적인 OLED에 유리하다. 이와 같은 경우, 유리질 층은 굴절지수를 매칭하여, OLED 양품율을 증가시키기 위해서 OLED에서 방사되는 빛에 대하여 입력 또는 출력하는 층의 기능을 충족한다.On top of that, the process may be configured such that the step of depositing in at least one layer of glassy structure occurs before applying to one of the conductive layers. As a result, a layer of glassy structure is placed between the substrate and the OLED layer structure. One variation of the process produces an OLED and can inhibit diffusion of the OLED layer structure through the substrate within the OLED. The process allows suture encapsulation on the substrate of the OLED. If the substrate typically contains a flexible plastic material that is transparent to even small gas molecules, such a process is advantageous for flexible OLEDs. In this case, the glassy layer matches the refractive index, meeting the function of the layer input or output against the light emitted from the OLED to increase the OLED yield.

게다가, 상기 최소한 한 개의 유리질 구조의 층을 유기, 광전물질을 포함하는 층을 도포할 면으로부터 기판의 반대 면에 도포할 수 있다. 그러므로 상기 기판상에 빛이 OLED의 기준층 구조가 있는 환경으로 빛이 나가도록 상기 기판의 상기 면에 층을 도포한다. 또한, 이 경우에 유리질 구조의 층에 의하여 굴절지수를 매칭시키는 것은 출력효율을 증가시키고, 그렇지 않은 경우 특히 물질/공기 접촉면(material/air interface)에 강한 역반사 성향의 상당한 굴절지수의 변화가 있다.In addition, the at least one layer of glassy structure can be applied to the opposite side of the substrate from the side from which the layer comprising the organic, photoelectric material is to be applied. Therefore, a layer is applied to the side of the substrate so that the light is emitted to the environment where the reference layer structure of the OLED is on the substrate. Also in this case, matching the refractive index by the layer of the glass structure increases the output efficiency, otherwise there is a significant change in the refractive index of the retroreflective tendency, especially to the material / air interface. .

게다가, 상기와 같은 형태의 층은 OLED의 동작수명을 늘리기 위한 확산 방지를 할 수 있다. In addition, this type of layer can prevent diffusion to increase the operating life of the OLED.

본 발명의 따른 OLED에 대한 정수(refinement)는 매우 유익한 속성을 가지는 OLED 생산 공정이다. 즉, 이는 물리적 그리고/또는 화학적 증기 증착에 의하여 유리질 구조의 층을 도포 단계는 다중층을 포함한 단계를 포함한다. 이와 같은 형태의 다중 층의 다수의 개별 층들은 다른 화학적 합성물을 갖고, 따라서 개별 층들의 불투과성의 동작을 동작수명에 역효과를 주는 특정 가스에 대하여 맞출 수 있다. 예를 들어 유동성, 층 접합 또는 고유의 층 스트레스와 같은 기계적 속성을 유동성 상호층들의 소개로 개선할 수 있다. 다중 층의 모든 개별 층들이 유리질 구조를 가져야만 하는 것은 아니다. 다만, 유리질 층 물질을 가지는 개별층들은 화학적, 물리적 층 속성을 특정 요건에 매치하기 위하여 ,예를 들어 금속층들 또는 특히 중합체 층들과 같은, 유기 층들과 같이 다른 화학합성의 타 개별층들과 연결 할 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 상기와 같은 공정에서, 다중층 도포 단계는 최소한 두개의 개별층 내에 다른 화학합성 그리고/또는 다른 기계적 속성을 가지는 다중층을 도포하는 단계를 포함한다. 이러한 맥락에서 다른 생산 공정를 상호간 그리고 최소한 한 개의 유리질 구조의 증착과 예를 들어 접착결합, 딥-코팅(dip-coating), 스핀 코팅(spin-coating)과 같이 개별층들을 연결하는 것이 가능하다.The refinement for OLEDs according to the invention is an OLED production process with very beneficial properties. That is, this includes applying multiple layers of glassy structure by physical and / or chemical vapor deposition. Multiple individual layers of multiple layers of this type have different chemical compounds, so that the impermeable behavior of the individual layers can be tailored for a particular gas that adversely affects operating life. For example, mechanical properties such as flowability, layer bonding or inherent layer stress can be improved with the introduction of flowable interlayers. Not all individual layers of the multilayer need to have a glassy structure. However, individual layers with glassy layer materials may be combined with other individual layers of other chemical compositions, such as metal layers or organic layers, in particular polymer layers, to match chemical and physical layer properties to specific requirements. Can be. Thus, in such a process according to the invention, the multilayer application step comprises the application of multiple layers having different chemical synthesis and / or other mechanical properties in at least two separate layers. In this context it is possible to combine different production processes with each other and with the deposition of at least one glassy structure and to connect the individual layers, for example adhesive bonding, dip-coating, spin-coating.

특히 최소 두개의 개별층이 다른 굴절 지수를 갖도록, 다수의 개별층들을 도포할 수 있다. 상기의 실시는 다른 층 물질을 도포하여 획득될 수 있다. 그러나 도포하는 동안 예를 들면 증발 코팅율를 선택하는 경우와 같이, 공정 파라미터를 선택함으로써 굴절지수에 영향을 줄 수 있다. In particular, it is possible to apply a plurality of individual layers such that at least two individual layers have different refractive indices. The above implementation can be obtained by applying another layer material. However, the index of refraction can be influenced by selecting process parameters during application, for example, by selecting evaporation coating rates.

유리질 구조의 층에 대한 여러가지 증착 공정에 있어서, 특정 열 부하를 OLED층 구조에 도포하여, 층들에 역효과를 가져 올 수 있다. 특히 열부하는 CVD 또는 PVD 코팅에서 층합성에 영향을 줄 수 있다. 열부하에 의한 역효과를 줄이기 위해서, 부가적으로 적어도 하나의 예비캡슐화 층을 도포할 수 있다. 상기 예비캡슐화 코팅은 열전달을 줄이고, 따라서 OLED층들의 열화를 예방한다. In various deposition processes for layers of glassy structure, a specific thermal load can be applied to the OLED layer structure, adversely affecting the layers. In particular, thermal loads can affect layer synthesis in CVD or PVD coatings. In order to reduce the adverse effects of heat load, it is additionally possible to apply at least one preencapsulation layer. The preencapsulation coating reduces heat transfer and thus prevents degradation of the OLED layers.

게다가, 적합한 예비 캡슐화 코팅은 PVD 또는 CVD코팅에 의한 도포 시에 유리질 구조의 층이 또 다른 층을 침투하거나 화학적으로 변화시키는 것을 예방한다. 이는 제 2도전층의 경우, 만약 후자가 일례로서 칼슘과 같이 매우 소프트하거나 또는 반작용이 있는 금속으로 만들어진다면, 이는 제 2 도전층의 경우일 수 있다.In addition, suitable pre-encapsulated coatings prevent a layer of glassy structure from penetrating or chemically changing another layer upon application by PVD or CVD coating. This may be the case for the second conductive layer if the latter is made of a very soft or reactive metal such as calcium as an example.

게다가, 상기 프로세서는 덮개를 도포하는 단계를 포함할 수 있다. 일반적으로 유리질을 가지는 매우 얇은 층으로 인한 또는 손상으로부터 OLED의 다른 층들을 보호하기 위해서 상기 덮개는 유리질 구조를 가지는 층에 도포될 수 있다.In addition, the processor may include applying a lid. The cover can be applied to a layer having a glassy structure in order to protect other layers of the OLED from damage due to or in general a very thin layer with glassy.

그러나, 상기 덮개와 기판 사이 접촉 표면을 밀봉하고 유리질 구조의 층으로 봉합하여 폐쇄하는 방법으로 유리질 구조의 층을 도포할 수 있다.However, the layer of vitreous structure can be applied by sealing the contact surface between the lid and the substrate and by sealing it with a layer of vitreous structure.

이와 같은 상기 목적을 위하여, 적어도 하나의 유리질 구조의 층을  증착하는 단계는 최소한 힌개의 유리질 구조의 층에 덮개 베어링(bearing)표면의 경계 테두리를 덮는 단계를 포함한다. 상기의 방식에 의하여, 봉합 밀봉(hermetic seal)을 제공하는 목적을 취할 수 있을 뿐만 아니라, 일례로서 납땜 유리에 유사한 방식으로 덮개를 보호하기 위하여 증발 코팅 유리와 같은 층을 허용한다. 용어상 베어링 표면은 표면상에 더 먼 구성소자와 덮개 사이의 접촉점들이 형성된 표면으로 엄격하게 이해되지는 않는다. 예를 들면, OLED 층 구조는 일반적으로 약간 높여져 있기 때문에, OLED층 구조가 이웃에 있는 인접영역에서 덮개와, 일례로서 기판과 같은 상응 베이스(corresponding base)간에 단축거리가 있을 수 있다. 그러나 이들 상기영역은 베어링 표면의 일부로 이해된다. 베어링 표면은 베이스상에 베이스를 맞대는 덮개의 그 면의 돌출면(projection surface)으로 이해될 수 있다.For this purpose, the step of depositing at least one layer of glassy structure comprises covering the boundary border of the covering bearing surface on at least a layer of glassy structure. In this way, not only the purpose of providing a hermetic seal can be taken, but it also allows a layer, such as evaporation coated glass, to protect the lid in a manner similar to soldered glass as an example. In terms of bearing, a bearing surface is not strictly understood as a surface on which contact points between components and the cover are further formed on the surface. For example, since the OLED layer structure is generally slightly elevated, there may be a short distance between the covering in the adjacent area where the OLED layer structure is adjacent and a corresponding base such as, for example, a substrate. However, these areas are to be understood as part of the bearing surface. The bearing surface can be understood as the projection surface of that side of the lid against the base on the base.

더욱이, 최소한 한 개의 결합층을 도포하는 단계를 부가적으로 포함하는 경우, 본 발명에 따른 공정를 개선할 수 있다. 특히 상기의 결합층은 최소한 한 개의 유리질 구조의 층을 상기 결합층에 도포하는 것을 의미한다. 상기 형태의 층은 특히 유리질 구조의 층이 플라스틱 표면에 접합 속성을 개선할 수 있으며, 이는 밴딩 부하와 같은 열적 또는 기계적 부하 하에서 미세구조층의 기계적 안정성에 유리한효과가 있다. 상기 방법에 의한, 연속층을 더 빨리 생산할 수 있고 낮은 간극(porosity)을 가지는 고른 층들을 얻을 수 있다.Moreover, if it additionally comprises applying at least one bonding layer, the process according to the invention can be improved. In particular, the bonding layer means applying at least one layer of glassy structure to the bonding layer. Layers of this type can in particular improve the bonding properties of the glassy structure to the plastic surface, which has an advantageous effect on the mechanical stability of the microstructured layer under thermal or mechanical loads such as banding loads. By this method, it is possible to produce a continuous layer faster and to obtain even layers with low porosity.

본 발명은 상기 기술된 공정에 의하여 생산될 수 있는 유기 광전자소자를 제공한다.The present invention provides an organic optoelectronic device that can be produced by the above described process.

따라서 본 발명에 따른 소자는:The device according to the invention thus comprises:

- 기판과,A substrate;

- 제 1 도전층과,A first conductive layer,

- 적어도 하나의 유기, 광전 물질을 포함하는 적어도 하나의 층과,At least one layer comprising at least one organic, photovoltaic material,

- 제 2 도전층과,A second conductive layer,

-유기질 구조의 증착된 층을 포함한다.A deposited layer of an organic structure.

OLED생산을 위한 공정와 관련하여 위에서 이미 기술한 것과 같이, 유리질 구조의 층은 작은 분자에 대한 확산 배리어로 특히 적합하며, 또한 소자의 퇴화에 대하여 효과적인 보호를 제공한다. 소자의 표면에 층이 증착되었다는 사실은, 특히 편리한 중간물이나 전이층들이 없이 봉합밀봉을 얻는다는 점에서,  층과 표면 사이에 접합이 존재한다는 것을 의미한다. 일례로서 스퍼터링, 증발 코팅, PCVD 또는 PICVD와 같은 CVD 그리고/또는 PVD에 의하여 표면상에 바람직하게 층을 증착한다.As already described above in connection with the process for OLED production, the layer of glass structure is particularly suitable as a diffusion barrier for small molecules, and also provides effective protection against device degradation. The fact that a layer has been deposited on the surface of the device means that there is a junction between the fin layer and the surface, in that a sealing seal is obtained without particularly convenient intermediates or transition layers. As an example a layer is preferably deposited on the surface by sputtering, evaporation coating, CVD such as PCVD or PICVD and / or PVD.

층들 간에 일함수의 차이를 만들기 위해서, 도전층들 하나는 타 도전층보다 낮은 일함수을 가지는 것이 바람직하다. 발광소자의 경우, 전압이 도전층에 인가 시, 전자들를 낮은 일함수을 가지고 층으로부터 점거되지 않은 에너지 상태로 주입된다. 그런 후에 높은 일함수을 가지는 층으로 부터 주입된 결함 전자와 재결합하고, 이는 빛 양자(light quanta)의 방사를 일으킨다.In order to make a difference in the work function between the layers, one conductive layer preferably has a lower work function than the other conductive layer. In the case of a light emitting device, when a voltage is applied to the conductive layer, electrons are injected in an energy state not occupied from the layer with a low work function. It then recombines with the defect electrons injected from the high work function layer, which causes the emission of light quanta.

본 발명에 따라 OLED의 획기적인 효율을 증가시키기 위해서 OLED는 부가적으로 더 나은 기능성 층들을 가질 수 있다. 예를 들면, 최소한 하나의 정공주입층 그리고/또는 최소한 한 개의 잠재 매칭층 그리고/또는 최소한 한 개의 전자 차단층 그리고/또는 최소한 한 개의 정공 차단층 그리고/또는 적어도 하나의 전자 도전층 그리고/또는 정공 도전층 그리고/또는 적어도 하나의 전자 주입층이 유리하다.In order to increase the breakthrough efficiency of the OLED according to the invention, the OLED may additionally have better functional layers. For example, at least one hole injection layer and / or at least one potential matching layer and / or at least one electron blocking layer and / or at least one hole blocking layer and / or at least one electron conductive layer and / or hole A conductive layer and / or at least one electron injection layer is advantageous.

방사된 빛 양자가 출력되기 위해서는, 도전층들 중 하나가 유기, 광전물질을 포함하는 층에 의해 방사된 빛이 출력되도록, 최소한 일부 투명하다면 유리하다. 만약 제 1 도전층이 인듐 주석 산화물 또는 불소 첨가 주석 산화물(SnO:F))을 포함한다면 상기의 요구되어지는 속성은 충족되어질 수 있다.In order for both emitted light to be output, it is advantageous if one of the conductive layers is at least partially transparent so that light emitted by the layer comprising organic, photoelectric material is output. If the first conductive layer comprises indium tin oxide or fluorinated tin oxide (SnO: F), the above required properties can be satisfied.

게다가, 유리질 구조의 최소한 한 개의 층은 유기, 광전 물질을 포함하는 층이 위치한 기판의 그 면에 위치하여야 할 필요는 없다. 오히려, 유리질 구조의 층을 상기 면과 반대인 기판의 면에 배열할 수 있다. 한편으로는 기판을 통하여 가스 분자의 확산을 제한하는 것이 가능하고, 또 다른 한편으로 유리질 구조의 층이 결과적으로 굴절 지수의 매칭을 만드는데 긍정적인 영향을 줄 수 있다.In addition, at least one layer of glassy structure need not be located on that side of the substrate on which the layer comprising organic, photoelectric material is located. Rather, a layer of glassy structure can be arranged on the side of the substrate opposite the face. On the one hand it is possible to limit the diffusion of gas molecules through the substrate, and on the other hand a layer of glassy structure can have a positive effect on making the matching of the refractive index consequently.

더욱이, 최소한 한 개의 유리질 구조의 층은 합성 그리고/또는 코팅된 표면에 수직방향을 따라 변하는 굴절 지수를 가질 수 있다. 표면에 수직인 합성 내에서 변화는 층이 상응하게 변하는 물질 속성이, 예를 들면 변화하는 열팽창계수 또는 굴절지수와 같은 속성을 이런 방향으로 갖도록 한다. 그러나 굴절 지수는 층의 형태(morphology)와 같은 다른방법에서 영향을 받을 수 있다. 특히 합성 그리고/또는굴절지수는 주기적으로 변한다. Moreover, the at least one layer of glassy structure may have a refractive index that varies along the direction perpendicular to the synthetic and / or coated surface. Changes in the composition perpendicular to the surface cause the material properties of the layer to change correspondingly to have properties in this direction, such as changing coefficient of thermal expansion or index of refraction, for example. However, the index of refraction can be affected in other ways, such as the morphology of the layer. In particular, the composite and / or refractive indices change periodically.

유리질 구조의 층과 주기적으로 변화하는 굴절지수는 소자에 빛이  입출력하는데 적합하다. 상기 적어도 하나의 유리질 구조의 층을 기판과 제 1 또는 제 2 도전층 사이에 배열되는 것이 특히 유리할 수 있다. 이러한 배열은 그 밖에도 기판을 통하는 가스분자의 확산을 억제한다. 게다가, OLED층 구조와 기판 사이에 굴절지수 매칭을 생산할 수 있다.The layer of glass structure and the periodically changing refractive index are suitable for light input and output to the device. It may be particularly advantageous to arrange the layer of at least one glassy structure between the substrate and the first or second conductive layer. This arrangement further suppresses the diffusion of gas molecules through the substrate. In addition, refractive index matching can be produced between the OLED layer structure and the substrate.

유기 광전소자는 유리질 구조의 적어도 하나의 층을 포함하는 다중층을 포함할 수 있다. 이것을 광학적 속성 또는 빛의 출입 그리고 밴딩 내성과 같은 기계적 속성에도 유리할 수 있다. The organic optoelectronic device may comprise multiple layers comprising at least one layer of glassy structure. This may be advantageous for optical properties or mechanical properties such as light entry and bending resistance.

만약 다중 층의 개별층들이 다른 굴절지수를 가진다면, 빛 출입에 대한 알맞은 용량을 얻을 수 있다.If individual layers of multiple layers have different refractive indices, adequate capacity for light entry and exit can be obtained.

게다가, OLED는 열 배리어 코팅으로 제공될 수 있고, 층 또는 유리질 구조의 층에 코팅하는 동안에 OLED상의 열 부하를 줄일 수 있는 적어도 하나의 예비 캡슐화를 포함할 수 있다. 또한, 예비 캡슐화 코팅은 유리질 구조의 층에 안정한 베이스를 만들도록 제공될 수 있다. In addition, the OLED can be provided with a thermal barrier coating and can include at least one pre-encapsulation that can reduce the thermal load on the OLED during coating on the layer or layer of the glass structure. In addition, preliminary encapsulation coatings may be provided to make a stable base on the layer of glass structure.

유리질 구조의 층 또는 다른 층들을 기계적 손상으로 부터 보호하기 위하여 OLED는 덮개를 가질 수 있다. The OLED may have a cover to protect the layer of glass structure or other layers from mechanical damage.

게다가, OLED는 바람직하게는 적어도 하나의 유리질 구조의 층에 인접하는 결합층을 포함할 수 있다. In addition, the OLED may preferably comprise a bonding layer adjacent to the layer of at least one glassy structure.

게다가, OLED는 바람직하게는 유리질 구조의 최소한 한 개의 층에 인접하는접합 층을 포함 할 수 있다. 상기와 같은 형태의 접합층은 유리질 구조의 층에 개선된 결합으로 귀착한다. 결과적으로 증착하는 동안 보다 평탄한 층에서 비교적 높은 성장률을 얻을 수 있다.게다가, 상기 이런 형태의 결합층은 고유의 층 스트레스를 줄이는데 사용될 수 있다.In addition, the OLED may preferably comprise a bonding layer adjacent to at least one layer of the glassy structure. Bonding layers of this type result in improved bonding to the layers of the glassy structure. As a result, relatively high growth rates can be obtained in flatter layers during deposition. In addition, this type of bonding layer can be used to reduce inherent layer stress.

게다가, 본 발명에 따른 광전소자는 구조화된 층을 유리하게 포함할 수 있다. 예를 들면, 제 1 그리고/또는 제 2 도전 층들 그리고/또는 적어도 하나의 유기, 광전 물질을 포함하는 적어도 하나의 층을, 한개 또는 그 이상의 상기 층들에 부가 기능성 통합하도록 구조화할 수 있다. 특히, 제 1 그리고/또는 도전 층들이 빗 모양 형태로 구조화 할 수 있다. 상기 층들을 빗 모양 형태로 구조화 할 수 있다. 상기 층들을 빗 모양 형태로 구조화한 손가락 모양의 층 전극들은 상호 맞물려져서, 전압을 인가하거나 하나의 레벨에 위치한 도전 층들 사이에 전압을 유출할 수 있다.In addition, the optoelectronic device according to the invention may advantageously comprise a structured layer. For example, the first and / or second conductive layers and / or at least one layer comprising at least one organic, photovoltaic material can be structured to add functional integration to one or more of these layers. In particular, the first and / or conductive layers can be structured in the shape of a comb. The layers can be structured in the shape of a comb. The finger-shaped layer electrodes that structure the layers in the shape of a comb can be interlocked to apply a voltage or to bleed the voltage between conductive layers located at one level.

그러나, 그 밖에 다른 구조를 가지는 층에도 적합하다. 예를 들면, 도전 층들은 일례로 상호연결(interconnects)용 라인을 가질 수 있다. 상호 연결은 다른 레벨을 가지는 기판상에 상호 교차하고, 특히 디스플레이 응용 분야에 개별적 스위칭 픽셀(pixel)구조들의 픽셀 동작을 가능하게 한다. 도전 층들 사이에 위치하고 적어도 하나의 광전 물질을 포함하는 층은 도전 층들의 두개의 구동된 상호 연결 교차점 근처에서 여기 되어(excited) 전기 발광한다. 반대로, 상응하는 광기전성 배열(photovoltaic arrangement)을, 일례로 이미지 기록과 같은 센서응용분야의 로컬 신호 감지에 사용 될 수 있다.However, it is also suitable for layers having other structures. For example, the conductive layers can have lines for interconnects as an example. The interconnects cross each other on substrates with different levels and enable pixel operation of individual switching pixel structures, particularly for display applications. A layer located between the conductive layers and comprising at least one photovoltaic material is excited near the two driven interconnect intersections of the conductive layers to electroluminesce. Conversely, corresponding photovoltaic arrangements can be used for local signal sensing in sensor applications, for example image recording.

게다가, 본 발명은 위에서 기술된 생산 공정용 장치, 그리고/또는 본 발명에 따른 광전소자를 생산하는 장치를 제공한다. 상기 장치는, OLED 층 구조를 생산하는 수단 외에도,  적어도 하나의 유리질 구조의  층을 증착하는 코팅 수단을 구비하고 있다.In addition, the present invention provides an apparatus for the production process described above, and / or an apparatus for producing the optoelectronic device according to the present invention. In addition to the means for producing the OLED layer structure, the apparatus comprises coating means for depositing a layer of at least one glassy structure.

본 발명의 첨부된 도면을 참조하여, 이하 구체적 실시예를 기술하기로 한다. 도면상 동일한 참조 번호들은 동일 또는 유사 부분을 지정한 것이다.With reference to the accompanying drawings of the present invention, specific embodiments will be described below. Like reference numerals in the drawings designate the same or similar parts.

도 1은 본발명에 의한 OLED의 제 1실시예의 도식적 단면도이며, 전부 1로 지정하였다. 상기 OLED는 일면(9) 사에 OLED층 구조(5)를 도포한 기판(3)을 포함한다. 상층 구조(5)는 제 1 도전층(13), 최소한 한 개의 유기, 광전물질을 포함하는 층(15), 그리고 제 2 도전층(17)을 포함한다. 상기 OLED의 층 구조(5)는 유리질 구조의 층(7)에 덮혀지고, PVD 그리고/또는 CVD코팅 방식에 의해 도포된다. 낮은 투과성 때문에 층(7)은 물 내지 산소와 같은 자연대기중의 작은 가스 분자에 대하여 OLED층 구조(5)에 봉합 캡슐을 제공한다. 이와 같은 방법에서 반작용 가스와 층 구조물질 간에 화학적 작용의 결과로 상기 OLED의 퇴화는 크게 줄어든다. 따라서, OLED의 동작 수명을 증가시킬 수 있다. 무기 유리는 낮은 투과성 때문에 층(7)의 물질로 특히 편리하다. 특히 알카리 금속 함유 유리는 낮은 투과성을 가지고, 그 밖에 붕규산염 유리도 적합하다.1 is a schematic cross-sectional view of a first embodiment of an OLED according to the present invention, all designated 1. The OLED comprises a substrate 3 coated with an OLED layer structure 5 on one side 9. The upper structure 5 comprises a first conductive layer 13, a layer 15 comprising at least one organic, photoelectric material, and a second conductive layer 17. The layer structure 5 of the OLED is covered by the layer 7 of glassy structure and applied by PVD and / or CVD coating. Because of the low permeability, layer 7 provides a sealing capsule in OLED layer structure 5 for small gas molecules in natural atmosphere such as water to oxygen. In this way the degradation of the OLED is greatly reduced as a result of the chemical action between the reaction gas and the layered material. Thus, the operating life of the OLED can be increased. Inorganic glass is particularly convenient as the material of layer 7 because of its low permeability. In particular, alkali metal-containing glass has low permeability, and borosilicate glass is also suitable.

유리질 구조 층이 소자(1)에서 증발 코팅에 의하여 증착된 증발 코팅 유리를포함하는 것이 바람직하다.It is preferred that the glassy structure layer comprises evaporation coated glass deposited by evaporation coating in device 1.

간편성이란 목적 하에서,  유기, 광전 물질을 함유한 층(15)는  유기, 발광층으로 아래와 같이 참조된다.  그 밖에도 상기 층은 광기전성 소자에 빛 흡수 또는 광기전성 층으로 설계될 수 있다.For the purpose of simplicity, the layer 15 containing the organic and photoelectric materials is referred to as an organic or light emitting layer as follows. In addition, the layer may be designed as a light absorbing or photovoltaic layer in the photovoltaic device.

Scott에 의하여 생산된 증발 코팅 유리 타입 8329는 다음과 같은 중량의 퍼센트로 합성된다.The evaporation coated glass type 8329 produced by Scott is synthesized in the following weight percentages.

SiO           84.1%SiO 84.1%

BO           11.0%BO 11.0%

NaO  ~      2.0%NaO ~ 2.0%

KO    ~      0.3%   (층에서 => 3.3%)KO ~ 0.3% (from floor => 3.3%)

LiO   ~      0.3%  LiO ~ 0.3%

AlO  ~      2.6% (층에서 = 0.5%)AlO ~ 2.6% (in layer = 0.5%)

이상의 중량 퍼센트 비가 적합하다.Weight percentage ratios above are suitable.

상기 괄호안의 값들은 증발 코팅으로 증착된 층에서 상응하는 구성요소의 중량비이다.The values in parentheses are the weight ratios of the corresponding components in the layer deposited with the evaporation coating.

붕규산염 유리의 전기저항은 거의 10 Ω/cm (100℃)이다. 게다가, 순정 상태에서 상기 유리는 굴절 지수는 거의 1.469이다. 유전 상수(ε)는 거의 4.7이고(25℃, 1㎒)는 tanδ는 약 45*10(25℃, 1㎒) 증발 코팅 공정과 상기시스템의 구성요소의 다른 휘발성은 목표물질과 증발 코팅으로 도포된 층 간에 조금 다른 화학량으로 귀착한다. 증발 코팅으로 도포된 층에서의 편차는 괄호 안에 있다. 아래 유리 2로참조되는, 또 다른 적합한 증발 코팅 유리는 다음과 같은 중량의 퍼센트비로 합성된다.The electrical resistance of borosilicate glass is almost 10 Ω / cm (100 ° C). In addition, the glass in the pure state has an index of refraction of approximately 1.469. The dielectric constant (ε) is almost 4.7 (25 ° C, 1MHz) and tanδ is about 45 * 10 (25 ° C, 1MHz) evaporation coating process and other volatility of the components of the system applied to the target material and evaporation coating. Results in slightly different stoichiometry between the layers. The deviation in the layer applied with the evaporation coating is in parentheses. Another suitable evaporation coated glass, referred to below as glass 2, is synthesized in the following percentage by weight.

구성요소:            유리 2Component: glass 2

SiO                           71%SiO 71%

BO                           26%BO 26%

NaO          ~              0.5%NaO ~ 0.5%

LiO           ~              0.5%  LiO ~ 0.5%

KO            ~              1.0%  KO ~ 1.0%

AlO          ~              1.0%  :                  AlO ~ 1.0%:

상기의 두 붕규산염 유리는 바람직하게 사용되기 위해서 아래의 표에 나타난 속성이 있어야 한다.Both borosilicate glasses must have the properties shown in the table below in order to be used preferably.

속성property 83298329 유리2Glass2 α [10K]α [10K] 2.752.75 3.23.2 밀도( g/cm)Density (g / cm) 2.2012.201 2.122.12 변형점(Transfomation point) [℃ ]Transfomation point [℃] 562℃562 ℃ 742742 굴절율Refractive index n = 1469n = 1469 1.4651.465 ISO719에 따른 내가수성 등급Water resistance grade according to ISO719 HGB 1HGB 1 HGB 2HGB 2 DIN 12 116에 따른 내산화성 등급Oxidation Resistance Rating to DIN 12 116 0.60.6 22 DIN 52322에 따른 내알카리성 등급Alkali resistance rating according to DIN 52322   33 유전 상수(ε)Dielectric constant (ε) 4.7( 1MHZ)4.7 (1MHZ) 3.9( 40GHZ)3.9 (40GHZ) tanδtanδ 45*10( 1MHZ)45 * 10 (1MHZ) 26*10( 40GHZ)26 * 10 (40GHZ)

일례로서 CVD 그리고/또는 PVD와 같은 진공 증착에 의한 층(7)의 응용은 OLED구조와 이웃한 영역에 있는 기판 자체와 상기 층 구조(5)의 표면 모두에 상기 층(7)의 친밀한 결합(intimate bonding)의 형태로 귀착된다. 결과적으로, OLED층구조의 테두리 영역에 투과 통로(permeability passages)를 피한다; 지금까지 알려진 바에 의해, 일례로 접착제 결합과 같이 상기 통로를 캡슐화 한다. 상기 층(7)을 증발 코팅으로 증착하고, 특히 상기 증발 코팅은 위에서 주어진 합성 중 하나를 가지는 유리 목표물을 전자 빔 증발 방법에 의한 것을 말한다.Application of the layer 7 by vacuum deposition, such as CVD and / or PVD, as an example is the intimate bonding of the layer 7 to both the OLED structure and the substrate itself in the adjacent region and the surface of the layer structure 5 ( intimate bonding). As a result, permeability passages in the edge region of the OLED layer structure are avoided; As is known to date, the passages are encapsulated, for example as adhesive bonds. The layer 7 is deposited with an evaporation coating, in particular the evaporation coating refers to a glass target having one of the compositions given above by an electron beam evaporation method.

밀도가 높고 낮은 결함의 층들을 생성하기 위해서, APS(=advanced plasma source)를 사용하고 플라즈마 이온 보조 증착, 특히 플라즈마 이온이 보조된 증발 코팅을 수행하는 것이 유리한 것으로 입증되었다.In order to produce layers of high density and low defects, it has proven advantageous to use APS (= advanced plasma source) and to perform plasma ion assisted deposition, in particular plasma ion assisted evaporation coating.

이와 같은 구체적 실시예에서 보여준 기판은 투명하다. 유기, 발광층(15)로 부터 방사된 빛은 먼저 제 1도전층 (13)을 거쳐서 통과하고, 다음으로 투명한 기판의 일측면(11)의 접촉면을 거쳐서 통과한다.The substrate shown in this specific embodiment is transparent. The light emitted from the organic and light emitting layer 15 first passes through the first conductive layer 13 and then passes through the contact surface of one side 11 of the transparent substrate.

제 1 도전층(13)은 빛이 통과되도록 인산화주석과 같은 투명한 도전 물질로 구성된다.The first conductive layer 13 is made of a transparent conductive material such as tin phosphate to allow light to pass through.

제 2 도전층은 제 1 도전층의 동작 기능성보다 낮은 작업 기능성을 가지는 물로 구성된다. 인산화 주석의 경우, 작업 기능은 거의 4.9eV이다. 칼슘은 제 2 도전층에 특히 적합한 물질이다. 그러나, 칼슘은 매우 반응성 있어서 공기중에 습기로 존재하는 물과 대기중의 산소와 반응한다. 특히 상기 층을 보호하기 위하여 OLED층 구조를 봉합 캡슐화 하는 것이 퇴화를 피하는데 있어서 중요하다.The second conductive layer is composed of water having a lower working functionality than the operating functionality of the first conductive layer. For tin phosphate, the working function is almost 4.9 eV. Calcium is a particularly suitable material for the second conductive layer. However, calcium is very reactive and reacts with water in the air as moisture and oxygen in the atmosphere. In particular, sealing encapsulation of the OLED layer structure to protect the layer is important in avoiding degradation.

상기의 OLED의 구체적 실시예 따르면, 기판/제 1도전층/유기, 발광층/제 2 도전층의 순서로 층이 구성된다. 상기는 OLED의 표준구조와도 일치한다. 그러나, 역층 시퀀스를 가지는 구조는 유리구조의 층의 도포에 의하여, 동시에 OLED층 구조(5)를 효율적으로 캡슐화 할 수 있다.According to a specific embodiment of the above OLED, the layers are formed in the order of substrate / first conductive layer / organic, light emitting layer / second conductive layer. This is also consistent with the standard structure of OLEDs. However, the structure having the reverse layer sequence can simultaneously encapsulate the OLED layer structure 5 by application of a layer of glass structure.

상기 변화는 도 2에서 도시하고 있다. 도 2에 따른 구체적 실시 예에서, 층 시퀀스는 : 기판/제 2 도전층/유기, 발광층/제 1 도전층의 순이다. 상기 실시 예에서, 기판(3)은 불투명한 물질을 포함한다. 유기 발광층(15)에서 방사된 빛은  제 1 도전층 거쳐서 통과한 후에, 유리질 구조의 층(7)을 지나 바깥 측면(19) 방향으로 사라진다.The change is shown in FIG. In a specific embodiment according to FIG. 2, the layer sequence is: substrate / second conductive layer / organic, light emitting layer / first conductive layer. In this embodiment, the substrate 3 comprises an opaque material. The light emitted from the organic light emitting layer 15 passes through the first conductive layer and then disappears toward the outer side 19 through the layer 7 of the glass structure.

도 3은 예비 캡슐 층(21)을 가지는 실시예를 도식적으로 묘사한다. 상기 예비 캡슐층은 유리질 구조의 층(7)에 안정한 베이스를 만들도록 사용된다. 제 2 도전층(17)은 바람직하게는 매우 소프트한 금속 칼슘을 포함한다. 상기 예비 캡슐 층(21)은 층(7)을 뚫고 들어오는 분자들을 예방한다. 게다가, 층(21)은 유리질 구조의 층(7)의 도포 시에 낮은 열 도전성으로 인한 OLED 층 구조로 전달되는 높은 레벨의 열 출력을 예방할 열 배리어 코팅을 형성한다.3 diagrammatically depicts an embodiment with a preliminary capsule layer 21. The preliminary capsule layer is used to make a stable base on the layer 7 of the glass structure. The second conductive layer 17 preferably comprises very soft metal calcium. The preliminary capsule layer 21 prevents molecules entering the layer 7. In addition, layer 21 forms a thermal barrier coating that will prevent the high level of heat output transferred to the OLED layer structure due to low thermal conductivity upon application of layer 7 of glassy structure.

도4A 내지 4D는 부가적으로 덮개(23)를 가지는 유기, 광전소자(1)의 구체적 실시 예이다. 상기 덮개(23)는 특히 기계적 손상에 대한 보호를 위해 사용되어 진다. 소자(1)의 층 13 내지 17은 비교적 소프트하기 때문에, 상기 층(7)은 OLED층 구조(5)의 영역에 있는 매우 불안정한 베이스에 접합된다. 따라서, 상기 층(7)은 기계적 효과에 민감할 수 있다. 상기 덮개(23)는 접착식으로 OLED에 결합된다. 도 4A에 도시된 구체적 실시 예에서 상기 덮개(23)는 합성수지 또는 플라스틱 층(25)를 통하여 멀리 위치한 소자의 구성요소와 결합된다. 합성 수지 또는 플라스틱 층(25)는 예를 들어 돌출된 OLED층 구조로 인한 고르지 못한 표면을 보상하기에 적합하다.4A to 4D are specific embodiments of the organic, optoelectronic device 1 additionally having a cover 23. The cover 23 is used in particular for protection against mechanical damage. Since layers 13 to 17 of the device 1 are relatively soft, the layer 7 is bonded to a very unstable base in the region of the OLED layer structure 5. Thus, the layer 7 can be sensitive to mechanical effects. The cover 23 is adhesively bonded to the OLED. In the specific embodiment shown in FIG. 4A, the cover 23 is coupled with components of the device located remotely through the resin or plastic layer 25. The synthetic resin or plastic layer 25 is suitable for compensating for uneven surfaces due to, for example, the protruding OLED layer structure.

도 4B에 도시된 발명의 실시 예에서, 상기 덮개의 베어링 표면 경계 테두리가 덮혀지도록 상기 유리질 구조의 층(7)을 증착한다. 상기 목적을 위하여, 상기 덮개(23)는 상기 유리질 구조의 층(7) 앞에 코팅된 기판에 도포하였다. 그렇게 한 후, 상기 덮개의 베어링 표면의 경계선 윤곽을 정하는 테두리에 상기 유리질 구조의 층(7)을 상기 덮개 위에 증착하였다. 그래서 상기 덮개(23)의 테두리는 상기 층(7)에 봉합된다. 이는 덮개와 기판 사이를 침투하는 가스를 예방하고, 상기 OLED 층 구조(5)에 도달할 수 없도록 방지한다.In the embodiment of the invention shown in FIG. 4B, the layer 7 of glass structure is deposited so that the bearing surface boundary border of the cover is covered. For this purpose, the lid 23 was applied to the coated substrate in front of the layer 7 of the glassy structure. After that, a layer 7 of glassy structure was deposited on the cover at the border defining the boundary of the bearing surface of the cover. The rim of the lid 23 is thus sealed to the layer 7. This prevents gas penetrating between the lid and the substrate and prevents the OLED layer structure 5 from reaching.

도 4C에 도시된 실시 예에서, 베이스에 상기 덮개를 접착식 결합이 필요없는 경우이다. 상기 유리질 구조의 층(7)은 상기 덮개(23)를 보호하기 위해 사용된 것이다. 상기 덮개의 테두리를 봉합하는 것 외에도, 유리질 구조의 어느 특별한 열부하에 된 OLED층 구조가 없다는 가정 하에 층의 증착은 납땜에 유리를 가지고 얻을 수 있는 유사한 방식으로 귀착된다.In the embodiment shown in Figure 4C, the cover is not required to have an adhesive bond to the base. The layer 7 of glass structure is used to protect the lid 23. In addition to sealing the rim of the lid, deposition of the layer results in a similar way that can be obtained with glass for soldering, assuming no OLED layer structure under any particular thermal load of the glass structure.

상기 층(7)은 연속 층처럼 디자인 되지 않고, 오히려 상기 덮개의 베어링 표면 경계선 또는 상기 덮개 테두리에 상기 층(7)을 증착한다. 있는 그대로 도 4B에 도시된 바와 같이, 유사한 방식으로 소자의 코팅된 면의 전 표면을 덮을 수 있도록 상기 층(7)을 증착할 수 있다.  The layer 7 is not designed as a continuous layer, but rather deposits the layer 7 at the bearing surface boundary of the lid or at the lid edge. As shown in FIG. 4B, the layer 7 may be deposited in a similar manner to cover the entire surface of the coated side of the device.

도 4D에 도시된 소자(1)의 보다 구체적인 실시는 덮개(23)를 제공하고 있으며 상기 덮개의 베어링 표면 경계선이 유리질 구조의 상기 층(7)로 덮여져 있다.  이 경우에도, 도 4C에 나타난 실시 예와 같이, 봉합 외에 상기 덮개 보호가 상기층(7)에 의해 얻어진다.A more specific implementation of the device 1 shown in FIG. 4D provides a cover 23 in which the bearing surface boundary of the cover is covered with the layer 7 of glass structure. Even in this case, as in the embodiment shown in Fig. 4C, the cover protection is obtained by the layer 7 in addition to the suture.

그렇지만, 대조적으로 상기 층(7)은 측면부에 증발 코팅된 것이며, 소자(1)의 테두리가 봉인된다.However, in contrast, the layer 7 is evaporated coated on the side and the edge of the device 1 is sealed.

도4E에 도시된 실시 예에서, OLED층 구조와 보호용 덮개(23)를 봉인 또는 봉쇄식 마감(hermetic closure), 상기 덮개의 반대 면에 증착하여서 얻어진다. 이 경우에도, 도 4B, 4C, 그리고 4D에 도시된 실시 예들과의 공통 특징은 상기 덮개(23)의 베어링 표면의 경계선이 상기 유리질 구조의 층(7)에 덮혀진다는 것이다.In the embodiment shown in Fig. 4E, an OLED layer structure and protective cover 23 are obtained by depositing a sealed or hermetic closure on the opposite side of the cover. Even in this case, a common feature with the embodiments shown in Figs. 4B, 4C and 4D is that the boundary of the bearing surface of the lid 23 is covered by the layer 7 of the glass structure.

도 5에 도시된 실시 예에서, 유리질 구조의 층은 제 1 및 2 도전층과 유기, 발광층 도포전에 기판(3)에 도포되는 것이다. 결과적으로 유리질 구조의 상기 층은 상기 기판과 상기 OLED층 구조 사이에 위치한다. 이와 같은 방법에 의할 때 상기 기판을 지나서 OLED층 구조로 확산되는 것을 억제한다.  게다가, OLED층 구조(5)와 기판(3) 사이에 상기 층(7)이 배열된 상기 기판(3)의 일면에 있는 OLED의 캡슐화는, 가스 분자가 침투할 수 있는 물질을 상기 기판(3)에 사용하는 것이 가능하다. 예를 들면 상기의 방법에 의할 때 플라스틱의 취약한 배리어작용 때문에, 가스분자가 OLED층 구조로 이동된 경우에도 플라스틱 기판을 사용하는 것이 가능하다. 플라스틱 기판의 사용은 특히 유동적 OLED의 생산에 적합하다.In the embodiment shown in Fig. 5, the layer of the glass structure is applied to the substrate 3 before the application of the first and second conductive layers and the organic, light emitting layer. As a result, the layer of glassy structure is located between the substrate and the OLED layer structure. By this method, the diffusion of the OLED layer structure beyond the substrate is suppressed. In addition, the encapsulation of the OLED on one side of the substrate 3 in which the layer 7 is arranged between the OLED layer structure 5 and the substrate 3 allows the substrate 3 to contain a substance through which gas molecules can penetrate. Can be used). For example, it is possible to use a plastic substrate even when gas molecules are transferred to the OLED layer structure due to the weak barrier action of the plastics by the above method. The use of plastic substrates is particularly suitable for the production of flexible OLEDs.

게다가, OLED는 유리질 구조의 층(7)을 플라스틱 기판에 접합하기 위한 결합층(10)을 포함한다. 상기 결합층(10)을 상기 유리질 구조의 층(7)에 인접하고 기판(3)과 층(7)에 위치한다. 상기 결합층(10)은 유리질 구조의 상기 층(7)과 기판(3)사이에 고정되어 항구적인 결합을 이룬다.In addition, the OLED comprises a bonding layer 10 for bonding the layer 7 of glass structure to a plastic substrate. The bonding layer 10 is adjacent to the glassy structure layer 7 and is located on the substrate 3 and the layer 7. The bonding layer 10 is fixed between the layer 7 of the glass structure and the substrate 3 to form a permanent bond.

그래서, OLED가 굽어졌을 때, 상기 층(7)은 유동적인 기판(3)으로부터 분리되는 것을 방지할 수 있다. 물론, 위에서 기술된 발명의 실시  예들과 이하 기술될 실시 예에서 상기 형태의 결합층들을 포함하는 것도 가능하다.Thus, when the OLED is bent, the layer 7 can be prevented from separating from the flexible substrate 3. Of course, it is also possible to include bonding layers of this type in the embodiments of the invention described above and in the embodiments described below.

게다가, 더 나은 캡슐화 방법으로 (도면 5에는 도시되지 않음) 상기 OLED층 구조(5)를 봉인할 수 있다. 상기의 캡슐화는, 바람직하게는 CVD 그리고/또는 PVD 코팅에 의한 유리질 구조의 층을 도포함에 영향 받는다. 상기 유리질 구조의 층은 상기 OLED층 구조(5)와 상기 기판(3) 사이에 도포되어, 확산 배리어으로 기능하는 것 이외에도 유기 층(15)에서 발광되는 빛의 출력을 개선시키기 위하여, 유기 층(15)에서 발광되는 빛의 출력을 개선시키기 위하여 OLED층 구조(5)와 기판(3)사이에 굴절지수를 매칭하는데 공급된다.In addition, the OLED layer structure 5 can be sealed in a better encapsulation method (not shown in FIG. 5). The encapsulation is effected by applying a layer of glassy structure, preferably by CVD and / or PVD coating. The glassy layer is applied between the OLED layer structure 5 and the substrate 3 to improve the output of light emitted from the organic layer 15 in addition to functioning as a diffusion barrier. 15 is supplied to match the refractive index between the OLED layer structure 5 and the substrate 3 in order to improve the output of the light emitted from the light.

도 5에 도시된 것과 같이 구성된 유동적 기판(3)을 가지는 OLED의 경우에, 상기 층(7)은 가능한 한 구조의 중립 파이버(neutral fiber)를 따라 달린다. 그래서, OLED가 굽혀졌을 때, 퇴화를 증가 시킬 수 있는 모든 틈들이 상기 층에서 형성되는 것이 불가능하다. 도 6에 도시된 실시 예는 구조의 유동성을 증가시키기 위하여 다증층(27)을 도포하는 것을 보여주고 있다. 기판(3)과 OLED층 구조(5)사이의 상기 기판의 일면(9)에 상기 다중층(27)을 도포하는 것이다. 상기 실시 예에서, 다중층(27)은 유리질 구조의 N개의 층들로 층(71, 72,---,7N)을 포함한다.In the case of an OLED having a flexible substrate 3 configured as shown in FIG. 5, the layer 7 runs along the neutral fiber of the structure as much as possible. Thus, when the OLED is bent, it is impossible for all the gaps to be formed in this layer to increase the degradation. The embodiment shown in FIG. 6 shows the application of a multi-layer 27 to increase the fluidity of the structure. The multilayer layer 27 is applied to one surface 9 of the substrate between the substrate 3 and the OLED layer structure 5. In this embodiment, the multilayer 27 comprises layers 71, 72, ---, 7N with N layers of glassy structure.

상기 층(71, 72----7N)의 대안으로 N개의 유동적 층(81, 82---8N)을 도포할 수 있다. 상기 유동적 층(81, 82---8N)은 중합체(polymer) 층들을 포함할 수 있다. 만약 OLED가 굽어졌다면, 쉬어력(shear forces)이 독자 층들 사이에서 일어난다.쉬어포스는 상기 층(81 내지 8N)의 유동성 때문에 상기 층들의 변형에 의하여 흡수된다.As an alternative to the layers 71, 72-7N, N fluid layers 81, 82 --8N can be applied. The fluidized layers 81, 82--8N may comprise polymer layers. If the OLED is bent, shear forces occur between the original layers. The shear force is absorbed by the deformation of the layers due to the fluidity of the layers 81-8N.

물론, 완전하게 동시에 유동적으로 OLED층 구조(5)를 캡슐화하기 위하여, 동일 원칙이 OLED층 구조의 반대 면에도 도포될 수 있다.Of course, in order to encapsulate the OLED layer structure 5 completely and simultaneously, the same principle can be applied to the opposite side of the OLED layer structure.

명료한 기재를 위하여, 기판의 반대 면에 OLED층 구조의 캡슐화에 대하여 도5와 6에 도시하지 않았다.For the sake of clarity, the encapsulation of the OLED layer structure on the opposite side of the substrate is not shown in FIGS. 5 and 6.

도7은 도6에서 설명된 실시 예와 같은 방식이며, 유리질 구조의 층(71, 72---7N)과 또한 층(81, 82----8N)을 구성하는 다중층(27)을 가지는 OLED의 실시 예이다. 그러나, 도 6에서 나타나는 실시 예와는 다르며, 이 경우 OLED층 구조 5가 도포된 일면(9)로 부터 기판(3)의 반대면(11)에 도포된다. OLED층 구조(5)의 캡슐화는 도 1내지 4에서 설명된 유리질 구조의 층(7)에 의한 실시 예와 동일하게 설명된다.FIG. 7 is in the same manner as the embodiment described in FIG. 6, and shows the layers 71 and 72--7N of the glass structure and also the multilayers 27 constituting the layers 81 and 82--8N. Is an embodiment of an OLED. However, unlike the embodiment shown in FIG. 6, in this case, the OLED layer structure 5 is applied to the opposite surface 11 of the substrate 3 from one surface 9 to which the OLED layer structure 5 is applied. The encapsulation of the OLED layer structure 5 is described in the same manner as in the embodiment by the layer 7 of the glassy structure described in FIGS. 1 to 4.

이 경우, 층(71 내지 7N)에 의하여 획득되는 배리어작용 외에도 OLED와 환경간의 접촉면에 유기 층(15)에 의해 방사되는 빛의 출력을 개선하기 위해서 다중층(27)을 굴절지수 매칭에 사용한다. 다중층(27)의 개별층들 71 내지 7N과 81 내지 8N은 상기 목적을 위해, 다른 굴절지수를 가진다. 특히 층(27)은 유리질구조의 층(71 내지 7N) 동일한 굴절 지수를 가지고, 또한 유리질 구조의 층(71 내지 8N)은 동일한 굴절지수를 가지는 방법으로 구성된다. 이와 같은 방법으로 층들의 대안적 배열을 통하여 층에서 층으로 굴절지수가 번갈아 사용된다.In this case, in addition to the barrier action obtained by the layers 71 to 7N, the multilayer 27 is used for refractive index matching in order to improve the output of light emitted by the organic layer 15 on the contact surface between the OLED and the environment. . The individual layers 71-7N and 81-8N of the multilayer 27 have different refractive indices for this purpose. In particular, the layer 27 is constructed in such a way that the layers 71 to 7N of the glass structure have the same refractive index, and the layers 71 to 8N of the glass structure have the same refractive index. In this way the refractive index is used alternately from layer to layer through alternative arrangements of layers.

그렇지만, 굴절 지수의 변화는 다른 층들을 연결함으로써 생성될 수 있는 것은 아니다. 오히려, 유리질 구조의 층이 코팅된 표면에 수직 방향에 따라 변화하는 합성물을 갖거나, 그리고/또는 상기 방향에 따라 변화는 굴절지수를 가짐으로써 가능하다. 굴절지수의 변화는 층합성을 변화함으로써 얻는 것이 바람직하다. 그러나 상기 방향을 따라 변하는 층의 형태에 의한 변화, 즉 예들 들어 변화하는 밀도가 일예로서 생각될 수 있다. 층 합성을 변화하는 결과로서 굴절지수의 변화가 있는 층들이 공동증발에 의하여 층을 증착함으로써 생산될 수 있다. 이때 최소한 한 개의 증발소스의 증발 코팅율이 증발 코팅 공정 동안에 변화된다. 그러므로, 예를 들어 상기 소스들 중 하나로 부터 출력을 주기적으로 변화시킴으로써 증발 코팅율의 주기적 변화가 코팅된 표면에 수직하여 주기적으로 변하는 굴절지수를 가지고 상응하는 유리질 구조의 층을 생산가능하게 한다.However, a change in the refractive index can not be produced by connecting the other layers. Rather, the layer of glass structure has a composite that changes in a direction perpendicular to the coated surface, and / or a change in the direction is possible by having a refractive index. The change in the refractive index is preferably obtained by changing the layer synthesis. However, variations due to the shape of the layer changing along the direction, ie changing density, for example, can be considered as an example. Layers with a change in refractive index as a result of changing the layer composition can be produced by depositing the layer by coevaporation. The evaporation coating rate of at least one evaporation source is then changed during the evaporation coating process. Thus, for example, by periodically changing the output from one of the sources, a periodic change in evaporation coating rate makes it possible to produce a layer of corresponding glassy structure with a refractive index that changes periodically perpendicular to the coated surface.

그러한 굴절지수 변화 커브는 도8A와 도8B에 설명하고 있다. 도면에서, 좌표Z는 코팅된 표면에 수직방향을 가리킨다. 도면상의 두 커브는 Z방향에서 굴절지수의 주기적 변화를 나타낸다. 도 8A에서 나타난 굴절지수의 커브는 주기적 변화 외에도 Z방향으로 크기가 감소함을 보여주며, 소자의 입출력효율에 유익함을 보인다.Such refractive index change curves are explained in Figs. 8A and 8B. In the figure, the coordinate Z points in the direction perpendicular to the coated surface. The two curves in the figure show the periodic change of the refractive index in the Z direction. The curve of the refractive index shown in FIG. 8A shows that the size decreases in the Z direction in addition to the periodic change, which is beneficial for the input / output efficiency of the device.

마지막으로, 도 9는 기능성 층들을 구성하는 OLED 또는 유기, 광전소자의 더 나은 실시 예를 보여준다. 상기 실시 예에서 도전층 (13)과 (17)은 빗살모양의 형태로 구조화 되고, 두 층은 기판(3)에 동일 레벨에 위치한다. 층(13)과 층(17)은 각각 적어도 하나의 웹(web)(32)에 연결된 손가락형 전극(30)을 가진다.Finally, FIG. 9 shows a better embodiment of an OLED or organic, optoelectronic device constituting the functional layers. In this embodiment, the conductive layers 13 and 17 are structured in the shape of a comb, and the two layers are located at the same level on the substrate 3. Layers 13 and 17 each have a finger-shaped electrode 30 connected to at least one web 32.

광기전성 소자의 경우에 전압의 공급 또는 전압의 유출(tap)은 웹(32)을 통하여 영향 받는다. 적어도 하나의 유기, 광전 물질을 포함하는 층(15)는 구조화된층(13)과 (17)에 도포된다. 그래서 손가락형 전극들 사이에 층(15)의 물질이 존재한다. 이와 같은 상기의 실시 예에서, 캡슐화를 위해서 이러한 방법으로 생산된 OLED 층구조는 다시 한번, 도1에서 설명된 실시 예와 유사한 방법으로, 유리질 구조의 층(7)으로 덮힌다.In the case of a photovoltaic element the supply of voltage or the tap of the voltage is effected via the web 32. Layer 15 comprising at least one organic, photovoltaic material is applied to structured layers 13 and 17. So there is a material of layer 15 between the finger electrodes. In such an embodiment, the OLED layer structure produced in this way for encapsulation is once again covered with a layer 7 of glassy structure, in a manner similar to the embodiment described in FIG. 1.

물론, 위에서 설명된 실시 예들은 폭넓은 방법으로 결합될 수 있다. 예들 들면, 유리질 구조의 층들을 다수의 기판이 면들에 도포하는 경우가 그 예에 해당한다. 그 중에서도 도 7에 도시된 실시 예는 도5와 도6에서 보여 지는 실시 예들처럼, OLED층 구조(5)와 직면하고 있는 기판의 면에 코팅과 결합될 수 있다. 그 밖에 보여준 실시 예들의 여러 희망하는 결합이 가능하다. 그 밖에 모든 실시는, 예들 들면 지금까지 기술되었던 소자들의 매트릭스 배열을 이용함으로써 또는 상응하게 구조된 도전층을 상호간 교차하는 상호 연결를 가지고 픽셀 디스플레이에서 사용할 수 있다.Of course, the embodiments described above can be combined in a wide variety of ways. For example, the case where a plurality of substrates are applied to the surfaces of the glass structure layers. In particular, the embodiment illustrated in FIG. 7 may be combined with a coating on the surface of the substrate facing the OLED layer structure 5, as shown in FIGS. 5 and 6. Many other desired combinations of the embodiments shown are possible. All other implementations can be used in pixel displays, for example, by using a matrix arrangement of the elements described so far or with interconnects intersecting correspondingly structured conductive layers.

도 10는 두개의 표본을 통하여 빛 전송의 사진 이미지를 보여준다. 상기 표본들은 두개의 칼슘 스트립을 도포한 유리 기판들이다. 상기 기판들은 칼슘스트립을 지닌 면에 캡슐화 하였다. 도 10의 왼쪽편의 표본이미지의 경우, 캡슐화를 위해 증발 코팅 유리 도포하며, 한편 도10의 오른쪽의 표본이미지 경우, 캡슐화를 위해 산화규소층을 선택한다.10 shows a photographic image of light transmission through two specimens. The specimens are glass substrates coated with two calcium strips. The substrates were encapsulated on the side with the calcium strips. In the case of the sample image on the left side of FIG. 10, an evaporated coating glass is applied for encapsulation, while for the sample image on the right side of FIG. 10, a silicon oxide layer is selected for encapsulation.

상기 이미지들은 상기 표본들을 공기 중에 20시간동안 노출한 후 얻은 것이다. 칼슘 층의 퇴화되지 않은 영역(undegraded regions)은 이미지에서 어둡게 나타난다. 상기 두 이미지로부터 증발 코팅 유리로 코팅된 칼슘 스트립들은 훨씬 덜 부식된다는 것을 알 수 있다. 산화규소를 코팅된 표본의 퇴화는 증발 코팅 유리로 코팅을 한 표본과 비교할 때 전 표면에 훨씬 더 진행된다.The images were obtained after exposing the specimens to air for 20 hours. Undegraded regions of the calcium layer appear dark in the image. From these two images it can be seen that the calcium strips coated with the evaporation coated glass are much less corroded. Degradation of silicon oxide coated specimens is much more pronounced on the entire surface as compared to specimens coated with evaporated coated glass.

도 11은, 각 표본들 증발 코팅 유리로 또는 산화규소로 되어진 다수의 표본에 대한 칼슘 스트립들의 광학적 밀도를 공기의 노출시간에 따라 보여준다. 측정을 한 표본들은 도10에 보여지는 표본들과 유사하다. 이 경우에도, 칼슘스트립들이 기판에 증착되었고, 스트립들이 산출된 면을 증발 코팅 유리 또는 산화규소층으로 증발 코팅하여 캡슐화 하였다.FIG. 11 shows the optical density of calcium strips for each sample of evaporation coated glass or of multiple specimens of silicon oxide over time of exposure to air. The measured samples are similar to the samples shown in FIG. In this case, calcium strips were deposited on the substrate, and the strips were encapsulated by evaporation coating the surface from which the strips were produced.

도 11에서 보여주는 그래프가 나타내듯이 칼슘스트립들의 퇴화는 산화규소가 캡슐화 물질로사용 되어질 때에 증발 코팅 유리로 캡슐화하는 표본을 가진 경우보다 더 빨리 일어난다.As the graph shown in FIG. 11 shows, the degeneration of calcium strips occurs faster than when the silicon oxide is used as an encapsulating material than when the sample encapsulates with the evaporation coated glass.

도 12는 다르게 캡슐화한 OLED의 효율에 대한 비교를 나타내는 막대표이다. 증발 코팅 유리로 캡슐화한 OLED는 캡슐화하지 않은 OLED와 산화규소로 캡슐화한 OLED와 대비된다. 효율의 측정은 캡슐화 직후에 두개의 다른 광도에서 계측하였다. 상기의 OLED들은 캡슐화 하지 않은 OLED의 퇴화를 방지하기 위하여 가스가 차단되는 대기 중에서 실험되었다. 12 is a bar chart showing a comparison of the efficiency of differently encapsulated OLEDs. OLEDs encapsulated with evaporation coated glass are contrasted with OLEDs encapsulated with unencapsulated and silicon oxide. The measurement of efficiency was measured at two different intensities immediately after encapsulation. The OLEDs were tested in an atmosphere in which gas was blocked in order to prevent degradation of unencapsulated OLEDs.

도 12에 나타난 상기 측정들로부터, 산화규소 증착과 달리 증발 코팅 유리 증착은 실질적으로 완성된 OLED의 양에 영향을 주지 않는다는 것을 보여주며, 따라서 증발 코팅 유리로 캡슐화한 OLED의 효율은 캡슐화하지 않은 OLED와 대비해 볼 때 거의 차이가 나타나지 않는다. 대조적으로 산화규소로 캡슐화한 OLED의 효율이 상당히 줄어든다.The measurements shown in FIG. 12 show that, unlike silicon oxide deposition, evaporation coated glass deposition does not substantially affect the amount of finished OLED, so the efficiency of OLEDs encapsulated with evaporation coated glass is not encapsulated OLED. In contrast, there is almost no difference. In contrast, the efficiency of OLEDs encapsulated with silicon oxide is significantly reduced.

도 13은 환경챔버에서 점유시간에 따라, 두개의 다른 캡슐화한 OLED소자의 광도를 나타내는 그래프이다. 산화규소로 캡슐화한 OLED는 증발 코팅 유리로 캡슐화한 OLED와 대비하였다. 광도는 감광소자를 사용하여 측정하였고, 측정된 값들은 관련 유니트에서 주어진다. 광도는 OLED의 일정한 동작전류 2mA에서 결정하였다.13 is a graph showing the luminosities of two different encapsulated OLED devices, depending on their occupancy time in the environmental chamber. OLEDs encapsulated with silicon oxide were compared to OLEDs encapsulated with evaporated coated glass. Luminance was measured using a photosensitive device, and the measured values were given in the relevant unit. The luminous intensity was determined at 2mA of constant operating current of OLED.

표본들을 기후챔버에서 공기온도 85℃와 85%의 대기습도에서 노출하였다. 산화규소로 캡슐화한 OLED는 기후챔버에서 10일후에 본래 광도의 거의 4분의 1로 떨어짐을 볼 수 있다. 대조적으로, 증발 코팅 유리로 캡슐화한 OLED는 조금 증가된 광도를 보여준다.Samples were exposed in an air chamber at an air temperature of 85 ° C. and an air humidity of 85%. OLEDs encapsulated with silicon oxide can be seen to drop to nearly a quarter of their original brightness after 10 days in the climate chamber. In contrast, OLEDs encapsulated with evaporated coated glass show slightly increased brightness.

도면의 참조 번호표Reference Number Table in Drawings

1One 유기, 전광소자Organic, all-optical 33 기판Board 55 OLED 층 구조OLED layer structure 7, 71, 72, ...,7N7, 71, 72, ..., 7N 유리질 구조의 층Layer of glassy structure 99 기판의 제 1면First side of substrate 1010 결합층Bonding layer 1111 기판의 제 2면Second side of the substrate 1313 제 1 도전층First conductive layer 1515 유기, 발광 층Organic, emitting layer 1717 제2 도전층Second conductive layer 1919 OLED의 외피면OLED outer surface 2121 예비 캡슐화 층Preliminary encapsulation layer 2323 덮개cover 2525 접착 결합Adhesive bonding 2727 다중 층Multi-layer 3030 손가락형 전극Finger electrode 3232 웹Web 81, 82, ..., 8N81, 82, ..., 8N 다중층(27)의 층들Layers of Multilayer 27

Claims (58)

기판(3)을 제공하는 단계와;Providing a substrate (3); 제 1 도전층(13, 17)을 도포하는 단계와;Applying a first conductive layer (13, 17); 적어도 하나의 유기 광전 물질을 포함하는 적어도 하나의 층(15)을 도포하는 단계와;Applying at least one layer 15 comprising at least one organic photovoltaic material; 제 2 도전층(13, 17)을 도포하는 단계와; 그리고Applying a second conductive layer (13, 17); And 유리질 구조를 구비한 적어도 하나의 층(7, 71, 72, ..., 7N)을 증착하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자 생산 방법.And depositing at least one layer (7, 71, 72, ..., 7N) with a glassy structure. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 유리질 구조를 구비한 적어도 하나의 층(7, 71, 72, ..., 7N)을 증착하는 단계는 상기 층을 진공 또는 저압 증착하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자 생산 방법.Depositing at least one layer (7, 71, 72, ..., 7N) with a glassy structure comprises vacuum or low pressure deposition of the layer. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 유리질 구조를 구비한 적어도 하나의 층을 증착하는 단계는 유기 유리를 증착하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자 생산 방법.Depositing at least one layer having a glassy structure comprises depositing an organic glass. 전술한 항들 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of the preceding claims, 유리질 구조를 구비한 적어도 하나의 층을 증착하는 단계는 알카리 금속 함유 유리를 증착하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자 생산 방법.Depositing at least one layer having a glassy structure comprises depositing an alkali metal containing glass. 전술한 항들 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of the preceding claims, 유리질 구조를 구비한 적어도 하나의 층을 증착하는 단계는 붕규산 유리를 증착하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자 생산 방법.Depositing at least one layer having a glassy structure comprises depositing borosilicate glass. 전술한 항들 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of the preceding claims, 유리질 구조를 구비한 적어도 하나의 층을 증착하는 단계는 증발 코팅 유리를 증착하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자 생산 방법.Depositing at least one layer having a glassy structure comprises depositing an evaporated coated glass. 전술한 항들 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of the preceding claims, 유리질 구조를 구비한 적어도 하나의 층(7, 71, 72, ..., 7N)을 증착하는 단계는 물리적 및/또는 화학적 기상 증착에 의하여 유리질 구조를 구비한 적어도 하나의 층(7, 71, 72, ..., 7N)을 증착하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자 생산 방법.Deposition of at least one layer 7, 71, 72,..., 7N having a glassy structure comprises at least one layer 7, 71, having a glassy structure by physical and / or chemical vapor deposition. 72, ..., 7N). 전술한 항들 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of the preceding claims, 유리질 구조를 구비한 적어도 하나의 층(7, 71, 72, ..., 7N)을 증착하는 단계는 유리질 구조를 구비한 적어도 하나의 층(7, 71, 72, ..., 7N)을 증발 코팅하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자 생산 방법.Depositing at least one layer (7, 71, 72, ..., 7N) with a glassy structure comprises depositing at least one layer (7, 71, 72, ..., 7N) with a glassy structure. An organic photoelectric device production method comprising the step of evaporating coating. 제 8항에 있어서,The method of claim 8, 유리질 구조를 구비한 층(7, 71, 72, ..., 7N)을 생산하기 위하여 증발 코팅하는 단계는 전자 빔 증발 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자 생산 방법.Evaporating coating to produce a layer having a glassy structure (7, 71, 72, ..., 7N) comprises an electron beam evaporation process. 제 8항 또는 제 9항에 있어서,The method according to claim 8 or 9, 유리질 구조를 구비한 층(7, 71, 72, ..., 7N)을 생산하기 위하여 증발 코팅하는 단계는 적어도 두 개의 증발 소스로부터의 공동증발 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자 생산 방법.Evaporating coating to produce layers 7, 71, 72, ..., 7N having a glassy structure comprises co-evaporation from at least two evaporation sources. . 제 10항에 있어서,The method of claim 10, 공동증발 단계는 상기 증발 소스들 중 적어도 하나의 증발율을 변화시키는, 특히 주기적으로 변화시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자 생산 방법.The co-evaporation step comprises changing, in particular periodically, the evaporation rate of at least one of the evaporation sources. 제 8항 내지 제 11항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 8 to 11, 증발 코팅에 의하여 층을 증착하는 단계는 플라즈마 이온 보조 증착 단계를포함하는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자 생산 방법.And depositing the layer by evaporation coating comprises a plasma ion assisted deposition step. 전술한 항들 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of the preceding claims, 유리질 구조를 구비한 층(7, 71, 72, ..., 7N)을 증착하는 단계는 플라즈마 강화 화학 기상 증착(PECVD)에 의하여 증착하는 단계, 특히 플라즈마 임펄스 화학 기상 증착(PICVD)에 의하여 증착하는 단계 및/또는 유리질 구조를 구비한 층(7, 71, 72, ..., 7N)을 스퍼터링하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자 생산 방법.Deposition of the layers 7, 71, 72, ..., 7N having a glassy structure is carried out by plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD), in particular by plasma impulse chemical vapor deposition (PICVD). And / or sputtering the layers (7, 71, 72, ..., 7N) with a glassy structure. 전술한 항들 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of the preceding claims, 유리질 구조를 구비한 층을 증착하는 단계는 유기 물질의 공동증착 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자 생산 방법.Depositing a layer having a glassy structure comprises co-depositing an organic material. 전술한 항들 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of the preceding claims, 상기 도전성 층들(13, 17) 중 하나는 나머지 도전성 층(13)보다 낮은 일함수를 가지는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자 생산 방법.Wherein one of the conductive layers (13, 17) has a lower work function than the other conductive layer (13). 전술한 항들 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of the preceding claims, 적어도 하나의 정고주입층 및/또는 잠재매칭층 및/또는 전자차단층 및/또는 정공차단층 및/또는 전자도전층 및/또는 정공도전층 및/또는 전자주입층을 도포하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자 생산 방법.Applying at least one of the fixed injection layer and / or the latent matching layer and / or the electron blocking layer and / or the hole blocking layer and / or the electron conductive layer and / or the hole conductive layer and / or the electron injection layer. An organic optoelectronic device production method characterized by the above. 전술한 항들 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of the preceding claims, 상기 도전성 층들(13, 17) 중 적어도 하나는 적어도 하나의 유기 광전 물질을 포함하는 층(15)으로부터 방출된 빛에 적어도 부분적으로 투명한 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자 생산 방법.At least one of said conductive layers (13, 17) is at least partially transparent to light emitted from a layer (15) comprising at least one organic photovoltaic material. 제 17항에 있어서,The method of claim 17, 상기 층(13, 17)은 인듐 주석 산화물 및/또는 불소 첨가 주석 산화물을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자 생산 방법.Said layer (13, 17) comprises indium tin oxide and / or fluorinated tin oxide. 제 17항 또는 제 18항에 있어서,The method of claim 17 or 18, 유리질 구조를 구비한 적어도 하나의 층(7, 71, 72, ..., 7N)은 적어도 하나의 유기 광전 물질을 포함하는 상기 층을 도포한 후에 증착되는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자 생산 방법.At least one layer (7, 71, 72, ..., 7N) having a glassy structure is deposited after applying said layer comprising at least one organic photoelectric material. 전술한 항들 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of the preceding claims, 상기 제 1 및/또는 제 2 도전성 층 및/또는 적어도 하나의 유기 광전 물질을 포함하는 적어도 하나의 층은 구조화된 형태로 도포되는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자 생산 방법.At least one layer comprising said first and / or second conductive layer and / or at least one organic photovoltaic material is applied in a structured form. 제 20항에 있어서,The method of claim 20, 상기 제 1 도전성 층(13) 및/또는 상기 제 2 도전성 층(15)은 빗살 형태로 구조화되도록 도포되는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자 생산 방법.The first conductive layer (13) and / or the second conductive layer (15) are applied so as to be structured in the form of a comb tooth. 전술한 항들 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of the preceding claims, 유리질 구조를 구비한 층(7, 71, 72, ..., 7N)은 적어도 이원계 물질들을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자 생산 방법.A method (7, 71, 72, ..., 7N) with a glassy structure comprises at least binary materials. 전술한 항들 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of the preceding claims, 유리질 구조를 구비한 층(7, 71, 72, ..., 7N)을 증착하는 단계는 상기 제 1 도전성 층(13) 및 상기 제 2 도전성 층(17)의 도포 후에, 그리고 상기 적어도 하나의 유기 광전 물질을 포함하는 적어도 하나의 층의 도포 후에 이루어지는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자 생산 방법.Depositing layers 7, 71, 72,..., 7N with a glassy structure is performed after application of the first conductive layer 13 and the second conductive layer 17 and the at least one A method for producing an organic photoelectric device, characterized in that after application of at least one layer comprising an organic photoelectric material. 전술한 항들 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of the preceding claims, 유리질 구조를 구비한 층(7, 71, 72, ..., 7N)을 증착하는 단계는 상기 도전성 층들(13, 17) 중 하나의 도포 전에 이루어지는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자 생산 방법.And depositing a layer (7, 71, 72, ..., 7N) having a glassy structure before the application of one of the conductive layers (13, 17). 전술한 항들 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of the preceding claims, 유리질 구조를 구비한 층(7, 71, 72, ..., 7N)을 증착하는 단계는, 적어도 하나의 유기 광전 물질을 포함하는 상기 층(15)이 도포되는 층의 면(11)으로부터 상기 기판의 대향하는 면(9) 상에, 유리질 구조를 구비한 층(7, 71, 72, ..., 7N)을 증착하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자 생산 방법.Deposition of the layers 7, 71, 72,..., 7N with the glassy structure is carried out from the face 11 of the layer on which the layer 15 comprising at least one organic photovoltaic material is applied. Depositing a layer (7, 71, 72, ..., 7N) with a glassy structure on the opposite side (9) of the substrate. 전술한 항들 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of the preceding claims, 유리질 구조를 구비한 층(7, 71, 72, ..., 7N)을 증착하는 단계는 상기 제 1 도전성 층(13) 및 상기 제 2 도전성 층(17)의 도포 전에, 그리고 적어도 하나의 유기 광전 물질을 포함하는 층의 도포 후에 이루어지는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자 생산 방법.Depositing the layers 7, 71, 72,..., 7N with the glassy structure is carried out prior to the application of the first conductive layer 13 and the second conductive layer 17 and at least one organic A method for producing an organic optoelectronic device, characterized in that after application of a layer comprising a photoelectric material. 전술한 항들 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of the preceding claims, 유리질 구조를 구비한 층(7, 71, 72, ..., 7N)을 증착하는 단계는 다중 층(27)을 도포하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자 생산 방법.Depositing a layer (7, 71, 72, ..., 7N) with a glassy structure comprises applying multiple layers (27). 제 27항에 있어서,The method of claim 27, 다중 층을 도포하는 단계는 적어도 두 개의 개별적인 층들(71, 72, ...,7N, 81, 82, ..., 8N)에서 상이한 화학 조성 및/또는 상이한 기계적 특성을 가지는 다중 층을 도포하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자 생산 방법.The step of applying the multiple layers comprises applying multiple layers with different chemical composition and / or different mechanical properties in at least two individual layers 71, 72,..., 7N, 81, 82,..., 8N. Organic photoelectric device production method comprising the step of. 제 28항에 있어서,The method of claim 28, 상기 다중 층(27)의 개별적인 층들(71, 72, ...,7N, 81, 82, ..., 8N)은 다른 굴절률을 가지는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자 생산 방법.And the individual layers (71, 72, ..., 7N, 81, 82, ..., 8N) of the multilayer (27) have different refractive indices. 전술한 항들 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of the preceding claims, 선밀봉 층(21)을 도포하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자 생산 방법.A method for producing an organic photoelectric device, comprising applying a pre-sealing layer (21). 전술한 항들 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of the preceding claims, 덮개층(23)을 도포하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자 생산 방법.Method for producing an organic photoelectric device comprising the step of applying a cover layer (23). 제 31항에 있어서,The method of claim 31, wherein 유리질 구조를 구비한 적어도 하나의 층을 증착하는 단계는 유리질 구조를 구비한 적어도 한 층으로 상기 덮개층의 베어링 표면의 경계선을 덮는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자 생산 방법.Depositing at least one layer with a glassy structure comprises covering a boundary of the bearing surface of the covering layer with at least one layer with a glassy structure. 전술한 항들 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of the preceding claims, 적어도 하나의 접합 층(10), 특히 상기 유리질 구조를 구비한 적어도 하나의층(7, 71, 72, ...,7N)이 도포되는 접합 층을 도포하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자 생산 방법.Applying an at least one bonding layer (10), in particular a bonding layer to which at least one layer (7, 71, 72, ..., 7N) having said glassy structure is applied. Photoelectric device production method. 전술한 항들 중 어느 한 항에서의 방법을 이용하여 생산가능한 유기 광전 소자(1)에 있어서, 상기 유기 광전 소자는:In an organic photoelectric device (1) producible using the method of any one of the preceding claims, the organic photoelectric device is: 기판(3)과,The substrate 3, 제 1 도전층(13)과With the first conductive layer 13 적어도 하나의 유기 광전 물질을 포함하는 적어도 하나의 층(15)과,At least one layer 15 comprising at least one organic photovoltaic material, 제 2 도전성 층(17)과, 그리고The second conductive layer 17, and 유리질 구조를 구비한 적어도 하나의 증착된 층(7, 71, 72, ...,7N)을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자.Organic photovoltaic device comprising at least one deposited layer (7, 71, 72, ..., 7N) having a glassy structure. 제 34항에 있어서,The method of claim 34, 유리질 구조를 구비한 적어도 하나의 증착된 층(7, 71, 72, ...,7N)은 비유기 유리 층을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자.At least one deposited layer (7, 71, 72, ..., 7N) having a glassy structure comprises an inorganic glass layer. 제 34항 또는 제 35항에 있어서,The method of claim 34 or 35, 유리질 구조를 구비한 적어도 하나의 증착된 층(7, 71, 72, ...,7N)은 알카리 금속함유 유리를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자.At least one deposited layer (7, 71, 72, ..., 7N) having a glassy structure comprises an alkali metal-containing glass. 제 34항 내지 제 36항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 34 to 36, 유리질 구조를 구비한 적어도 하나의 증착된 층(7, 71, 72, ...,7N)은 붕규산 유리를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자.At least one deposited layer (7, 71, 72, ..., 7N) having a glassy structure comprises borosilicate glass. 제 34항 내지 제 36항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 34 to 36, 유리질 구조를 구비한 적어도 하나의 증착된 층(7, 71, 72, ...,7N)은 증발 코팅 유리를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자.At least one deposited layer (7, 71, 72, ..., 7N) having a glassy structure comprises evaporation coated glass. 제 38항에 있어서,The method of claim 38, 유리질 구조를 구비한 적어도 하나의 층은 화학적 및/또는 물리적 기상 증착에 의하여 증착되는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자.At least one layer having a glassy structure is deposited by chemical and / or physical vapor deposition. 제 34항 내지 제 39항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 34 to 39, 유리질 구조를 구비한 적어도 하나의 증착된 층(7, 71, 72, ...,7N)은 증발 코팅에 의하여 도포되는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자.At least one deposited layer (7, 71, 72, ..., 7N) having a glassy structure is applied by evaporation coating. 제 34항 내지 제 40항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 34 to 40, 유리질 구조를 구비한 적어도 하나의 증착된 층(7, 71, 72, ...,7N)은 스퍼터링에 의하여 도포되는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자.At least one deposited layer (7, 71, 72, ..., 7N) having a glassy structure is applied by sputtering. 제 34항 내지 제 41항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 34 to 41, 상기 도전성 층들(13, 17) 중 하나는 나머지 도전성 층(17, 13)보다 낮은 일함수를 가지는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자.Organic conductive device, characterized in that one of the conductive layers (13, 17) has a lower work function than the other conductive layers (17, 13). 제 34항 내지 제 42항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 34 to 42, 상기 도전성 층들(13, 17) 중 적어도 하나는 적어도 하나의 유기 광전 물질을 포함하는 층(15)으로부터 방출된 빛에 적어도 부분적으로 투명한 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자.At least one of the conductive layers (13, 17) is at least partially transparent to light emitted from the layer (15) comprising at least one organic photovoltaic material. 제 34항 내지 제 43항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 34 to 43, 상기 적어도 부분적으로 투명한 도전성 층(13)은 인듐 주석 산화물 및/또는 불소 도핑 주석 산화물을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자.The at least partially transparent conductive layer (13) comprises indium tin oxide and / or fluorine doped tin oxide. 제 34항 내지 제 44항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 34 to 44, 유리질 구조를 구비한 적어도 하나의 층(7, 71, 72, ..., 7N)은 상기 기판(3)과 제 1 도전성 층(13) 또는 제 2 도전성 층(15) 사이에 배치되는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자.At least one layer 7, 71, 72,... 7N with a glassy structure is arranged between the substrate 3 and the first conductive layer 13 or the second conductive layer 15. An organic photoelectric device. 제 34항 내지 제 45항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 34 to 45, 유리질 구조를 구비한 적어도 하나의 층(7, 71, 72, ..., 7N)은, 유기 광전물질을 포함하는 상기 층(15)이 위치하는 상기 면(9)로부터 상기 기판의 대향하는 면(11) 상에, 위치하는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자.At least one layer 7, 71, 72,... 7N having a glassy structure is the opposite side of the substrate from the face 9 on which the layer 15 comprising an organic photoelectric material is located. It is located on (11), The organic photoelectric element characterized by the above-mentioned. 제 34항 내지 제 46항 중 어느 한 항에 있어서,The method of any one of claims 34-46, 유리질 구조를 구비한 적어도 하나의 층(7, 71, 72, ..., 7N)은 상기 코팅된 표면에 수직하는 방향으로 변화하는 조성 및/또는 그 방향으로 변화하는 굴절율을 가지는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자.The at least one layer 7, 71, 72,... 7N having a glassy structure is characterized by having a composition that changes in a direction perpendicular to the coated surface and / or a refractive index that changes in that direction. Organic photoelectric devices. 제 47항에 있어서,The method of claim 47, 유리질 구조를 구비한 적어도 하나의 층(7, 71, 72, ..., 7N)의 조성 및/또는 굴절률이 상기 코팅된 표면에 수직하는 방향으로 주기적으로 변화하는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자.An organic photovoltaic device characterized in that the composition and / or refractive index of at least one layer (7, 71, 72, ..., 7N) with a glassy structure changes periodically in a direction perpendicular to the coated surface. 제 34항 내지 제 48항 중 어느 한 항에 있어서,49. The method of any one of claims 34 to 48, 유리질 구조를 구비한 적어도 하나의 층(7, 71, 72, ..., 7N)을 포함하는 다중 층(27)을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자.An organic photovoltaic device comprising multiple layers (27) comprising at least one layer (7, 71, 72, ..., 7N) with a glassy structure. 제 49항에 있어서,The method of claim 49, 상기 다중 층(27)의 개별적인 층들(71, 72, ...,7N, 81, 82, ..., 8N)은 다른 굴절률을 가지는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자.And the individual layers (71, 72, ..., 7N, 81, 82, ..., 8N) of the multilayer (27) have different refractive indices. 제 34항 내지 제 50항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 34 to 50, 적어도 하나의 선밀봉 층(21)을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자.An organic photoelectric device comprising at least one pre-sealing layer (21). 제 34항 내지 제 51항 중 어느 한 항에 있어서,The method of any one of claims 34-51, 적어도 하나의 정공주입층 및/또는 적어도 하나의 잠재매칭층층 및/또는 적어도 하나의 전자차단층 및/또는 적어도 하나의 정공차단층 및/또는 적어도 하나의 전자도전층 및/또는 적어도 하나의 정공도전층 및/또는 적어도 하나의 전자주입층을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자.At least one hole injection layer and / or at least one latent matching layer layer and / or at least one electron blocking layer and / or at least one hole blocking layer and / or at least one electron conductive layer and / or at least one hole conductive An organic photoelectric device comprising a layer and / or at least one electron injection layer. 제 34항 내지 제 52항 중 어느 한 항에 있어서,The method of any one of claims 34-52, 덮개층(23)을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자.An organic photoelectric device comprising a cover layer (23). 제 53항에 있어서,The method of claim 53, 상기 덮개층(23)의 베어링 표면의 경계선이 유리질 구조를 구비한 적어도 하나의 층으로 덮어지는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자.The boundary of the bearing surface of the cover layer (23) is covered with at least one layer having a glassy structure. 제 34항 내지 제 54항 중 어느 한 항에 있어서,The method of any one of claims 34-54, 접합 층(10), 특히 상기 유리질 구조를 구비한 적어도 하나의 층(7, 71, 72,...,7N)에 결합되는 접합 층(10)을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자.An organic photoelectric device, characterized in that it comprises a bonding layer (10) bonded to the bonding layer (10), in particular at least one layer (7, 71, 72, ..., 7N) having said glassy structure. 제 34항 내지 제 55항 중 어느 한 항에 있어서,The method of any one of claims 34-55, 상기 제 1 및/또는 제2 도전성 층, 및/또는 적어도 하나의 유기 광전 물질을 포함하는 적어도 하나의 층을 구조화되는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자.And at least one layer comprising said first and / or second conductive layers, and / or at least one organic photovoltaic material. 제 56항에 있어서,The method of claim 56, wherein 상기 제 1 도전성 층(13) 및/또는 상기 제 2 도전성 층(15)이 빗살 형태로 구조화되는 것을 특징으로 하는 유기 광전 소자.The organic photoelectric device according to claim 1, wherein the first conductive layer (13) and / or the second conductive layer (15) are structured in the shape of a comb. 전술한 항들 중 어느 한 항에서의 방법을 실행하고 및/또는 상기 유기 광전 소자를 생산하는 디바이스에 있어서, 상기 디바이스는 유리질 구조를 구비한 적어도 하나의 층(7, 71, 72, ...,7N)을 증착하는 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 디바이스.In a device for carrying out the method of any one of the preceding claims and / or for producing the organic photoelectric device, the device comprises at least one layer (7, 71, 72, ..., with a glassy structure). 7N) means for depositing the device.
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