KR20040043936A - Plasma display panel with multipurpose filter - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널(PDP)에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 전자파를 차폐함과 동시에 콘트라스트를 향상시킬 수 있는 다용도 필터를 구비한 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma display panel (PDP), and more particularly, to a plasma display panel having a multipurpose filter capable of shielding electromagnetic waves and improving contrast.
통상적으로 플라즈마 디스플레이 패널은 가스 방전 현상을 이용하여 화상을 표시하기 위한 것으로서, 표시 용량, 휘도, 콘트라스트, 잔상, 시야각 등의 각종 표시 능력이 우수하여, 음극선관을 대체할 수 있는 표시 장치로 각광을 받고 있다. 이러한 플라즈마 디스플레이 패널은 전극에 인가되는 직류 또는 교류 전압에 의하여 전극 사이의 가스에서 방전이 발생하고, 여기에서 수반되는 자외선의 방사에 의하여 형광체를 여기시켜 발광하게 된다.In general, a plasma display panel is used to display an image using a gas discharge phenomenon, and is excellent in various display capabilities such as display capacity, brightness, contrast, afterimage, viewing angle, and the like. I am getting it. In such a plasma display panel, a discharge is generated in a gas between the electrodes by a direct current or an alternating voltage applied to the electrode, and the phosphor emits light by exciting the phosphor by radiation of ultraviolet rays.
플라즈마 디스플레이 패널은 방전 메카니즘에 따라 교류형(AC형)과 직류형(DC형)으로 양분될 수 있는 데, 상기 직류형은 플라즈마 디스플레이 패널을 구성하는 각 전극들이 방전 셀에 봉입되는 가스층에 직접적으로 노출되어 그에 인가되는 전압이 그대로 방전 가스층에 인가되는 것이고, 상기 교류형은 각 전극들이 방전 가스층과 유전체층에 의하여 분리되어 방전 현상 시 발생되는 하전입자들을 상기 전극들이 흡수하지 않고 벽전하를 형성하게 되며, 이와 같은 벽전하를 이용하여 방전을 일으키는 것이다.The plasma display panel may be divided into an alternating current (AC type) and a direct current type (DC type) according to a discharge mechanism, which is directly connected to a gas layer in which each electrode constituting the plasma display panel is enclosed in a discharge cell. The exposed and applied voltage is applied to the discharge gas layer as it is, and the AC type separates the electrodes by the discharge gas layer and the dielectric layer to form wall charges without absorbing the charged particles generated during the discharge phenomenon. By using such wall charges, a discharge is caused.
일반적인 플라즈마 디스플레이 장치의 구조는 도 1에서 볼 수 있듯이, 케이스(1)와, 상기 케이스(1)의 상부를 덮는 커버(5)와, 상기 케이스(1) 내에 수용되는 구동 회로 기판(4), 패널 조립체(2) 및 전자파 차폐 필터(3)로 이루어져 있다.As shown in FIG. 1, the structure of a general plasma display apparatus includes a case 1, a cover 5 covering an upper portion of the case 1, a driving circuit board 4 accommodated in the case 1, It consists of a panel assembly 2 and an electromagnetic wave shielding filter 3.
이 중 패널 조립체는 도 2에 도시된 바와 같이 서로 대향된 전면기판(21) 및 배면기판(22)을 구비하며, 상기 배면기판(22) 위에는 소정의 패턴으로 형성된 어드레스 전극(23a)들과, 유전체층(24b)이 순차로 형성되고, 이 유전체층(24b) 상에는 방전거리를 유지시키고 화소 간의 전기적 광학적 크로스 토크를 방지하는 격벽(25)이 형성되고, 이 격벽(25)에 의해 구획된 방전공간 내의 적어도 일측에는 형광체층(26)이 형성된다. 상기 배면기판(22)과 결합되는 전면기판(21)에는 상기 어드레스 전극(23a)과 직교하도록 소정의 패턴의 공통 전극(23b)들과 주사 전극(23c)들이 구비된다. 그리고 상기 전면기판(21)의 하면에는 상기 공통 및 주사 전극들이 매립되는 유전체층(24a)이 형성되며, 그 하부로는 MgO 등으로 구비된 MgO층(29)이 형성된다. 상기와 같은 배면기판(22)과 전면기판(21)에 의해 구획된 방전공간에는 소정의 가스가 주입된다.Among these, the panel assembly includes a front substrate 21 and a rear substrate 22 facing each other as shown in FIG. 2, and address electrodes 23a formed in a predetermined pattern on the rear substrate 22; Dielectric layers 24b are formed in sequence, and partition walls 25 are formed on the dielectric layer 24b to maintain the discharge distance and to prevent electro-optical crosstalk between the pixels, and within the discharge space partitioned by the partition walls 25. The phosphor layer 26 is formed on at least one side. The front substrate 21 coupled to the back substrate 22 is provided with common electrodes 23b and scan electrodes 23c having a predetermined pattern so as to be orthogonal to the address electrode 23a. The lower surface of the front substrate 21 is formed with a dielectric layer 24a in which the common and scan electrodes are embedded, and an MgO layer 29 including MgO is formed under the front substrate 21. A predetermined gas is injected into the discharge space partitioned by the back substrate 22 and the front substrate 21 as described above.
이렇게 구성된 플라즈마 표시장치는 상기 어드레스 전극(23a)과 주사 전극 전극(23c)에 전압이 인가됨에 따라 이들 사이에서 예비방전이 일어나 전면기판(21)의 유전체층(24a) 하면에 하전입자가 형성된다. 이 상태에서 유지 방전이 이루어지는데, 이 유지방전은 해당되는 공통 전극(23b)과 주사 전극(23c) 사이에 소정의 전압이 인가됨으로써 전면기판의 유전체층(24a) 표면에서 이루어진다. 이때에 가스층에서 플라즈마가 형성됨으로써 형성되는 자외선에 의해 형광체가 여기되어 화소를 형성하게 된다. 따라서 상기 공통 및 주사 전극(23b, 23c)이 일 방전 셀, 즉, 하나의 화소를 구성한다.In the plasma display device configured as described above, when voltage is applied to the address electrode 23a and the scan electrode electrode 23c, preliminary discharge occurs between the charged electrode and the lower surface of the dielectric layer 24a of the front substrate 21. In this state, sustain discharge is performed. The sustain discharge is generated on the surface of the dielectric layer 24a of the front substrate by applying a predetermined voltage between the corresponding common electrode 23b and the scan electrode 23c. At this time, the phosphor is excited by ultraviolet rays formed by plasma formation in the gas layer to form a pixel. Therefore, the common and scan electrodes 23b and 23c constitute one discharge cell, that is, one pixel.
상기 전면기판(21)에 형성되는 전극들(23b, 23c)은 투명전극으로 형성되는 데, 그 라인 저항을 줄이기 위하여 그 폭이 상기 투명 전극들보다 좁은 버스 전극들(28)이 형성되어 있다.The electrodes 23b and 23c formed on the front substrate 21 are formed of transparent electrodes, and bus electrodes 28 having narrower widths than the transparent electrodes are formed to reduce the line resistance.
이러한 플라즈마 디스플레이 패널에서, 그 콘트라스트를 높이기 위한 방법으로 상기 공통 전극(23b) 및 주사 전극(23c)에 의하여 형성되는 일 방전 셀들 사이의 비방전 영역에 블랙 매트릭스(27)가 형성된다. 이 블랙 매트릭스(27)는 검은색과 같이 광 흡수율이 높은 안료가 착색된 절연체층이 상기 일 방전셀간의 사이에 형성된다. 그러므로서, 비방전영역인 방전셀간의 사이영역에서 발생하는 약한 발광현상에 의한 색번짐 현상을 없애주어 콘트라스트를 향상시킨다.In such a plasma display panel, a black matrix 27 is formed in a non-discharge region between one discharge cells formed by the common electrode 23b and the scan electrode 23c as a method for increasing the contrast. In the black matrix 27, an insulator layer colored with a pigment having a high light absorption such as black is formed between the one discharge cells. Therefore, the color bleeding phenomenon caused by the weak light emission phenomenon occurring in the region between the discharge cells, which is the non-discharge region, is eliminated to improve the contrast.
또한, 이렇게 전면 기판(21)에서의 외광 반사율을 낮추기 위하여, 미국 특허 제 6,097,149호에는 상기 버스 전극을 검은색의 도전 물질로 구성하거나, 버스 전극을 이층구조로 형성하여 일층을 검은색 안료가 들어간 감광성 페이스트로 형성하고, 이층을 전도성이 높은 물질로 형성하는 기술이 개시되어 있다.In addition, in order to lower the external light reflectance on the front substrate 21, US Patent No. 6,097,149 discloses that the bus electrode is composed of a black conductive material, or the bus electrode is formed in a two-layer structure, where one layer contains black pigment. A technique for forming a photosensitive paste and forming a bilayer from a highly conductive material is disclosed.
그리고, 일본 공개 특허공보 제 2000-113809호에는 금속 산화물막의 무전해도금을 통한 배면흑화현상을 이용하여 전극과 블랙 매트릭스를 동시에 형성하는 기술이 개시되어 있다.Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2000-113809 discloses a technique for simultaneously forming an electrode and a black matrix by using a back blackening phenomenon through electroless plating of a metal oxide film.
그러나, 이러한 블랙 매트릭스는 콘트라스트를 높이고, 화상의 품위를 향상시키는 데에는 효과적이지만, 블랙 매트릭스의 면적에 해당하는 만큼 빛이 투과할 수 없기 때문에 전체 휘도가 낮아지는 단점을 감수해야 한다.However, although such a black matrix is effective in increasing contrast and improving image quality, it is necessary to bear the disadvantage of lowering the overall luminance because light cannot penetrate as much as the area of the black matrix.
뿐만 아니라, 도 1에서 볼 수 있듯이, 전자파를 차폐하기 위해 패널 조립체(2)의 전면에 전자파 차폐 필터(3)를 장착하는 데, 이 전자파 차폐 필터(3)에 의해 광투과율은 한번 더 감소하게 되어 휘도는 더욱 낮아지게 되는 문제가 있다.In addition, as shown in FIG. 1, an electromagnetic wave shielding filter 3 is mounted on the front of the panel assembly 2 to shield the electromagnetic wave, and the electromagnetic wave shielding filter 3 further reduces the light transmittance. There is a problem that the brightness is further lowered.
상기 전자파 차폐 필터(3)는 도 3에서 볼 수 있듯이, 글라스나 플라스틱 소재로 이루어진 박판의 투명 기판(32)에 금속 등에 의해 도전 메쉬(33)를 형성한 후, 그 상하로 반사 방지층(31)을 형성한다. 상기 도전 메쉬(33)는 도 1의 커버(5)를 통하여 케이스(1)로 접지되고, 상기 반사 방지층(31)은 일반적으로 근적외선 차단필름(NIR), 표면반사 방지필름(AR), 네온광 차폐필름 등을 이용하여 구성되도록 한다. 그리고, 유효화면 이외의 부분을 블랙으로 처리하여 화면의 시감효과를 높이기 위하여, 패널의 가장자리부를 두르도록 블랙 처리층(34)을 형성하고, 이 블랙 처리층(34) 위로는 도전 메쉬(33)와 섀시, 곧 플라즈마 표시장치의 커버와 케이스와의 접지 효율을 높이기 위하여 은(Ag) 페이스트(paste)층(35)을 형성한다.As shown in FIG. 3, the electromagnetic wave shielding filter 3 forms a conductive mesh 33 on a thin transparent substrate 32 made of glass or plastic, and is formed of a metal or the like, and then the anti-reflection layer 31 is disposed above and below. To form. The conductive mesh 33 is grounded to the case 1 through the cover 5 of FIG. 1, and the antireflection layer 31 is generally a near infrared ray blocking film (NIR), a surface antireflection film (AR), and neon light. It is to be configured using a shielding film. In order to increase the visibility effect of the screen by processing portions other than the effective screen in black, a black processing layer 34 is formed to cover the edges of the panel, and the conductive mesh 33 is formed on the black processing layer 34. The silver paste layer 35 is formed in order to increase grounding efficiency between the chassis, the cover of the plasma display, and the case.
플라즈마 디스플레이 패널에 있어서 구동회로 및 교류 전류(AC) 전극에 전류 그리고 플라즈마 방전을 위한 고전압은 전자파 발생의 주원인이 되는 데, 이들 주된 전자파의 주파수 영역은 30 내지 200MHz이며, 이러한 전자파를 상기 전자파 차폐 필터(3)의 도전 메쉬(33)가 차단한다.In the plasma display panel, the current in the driving circuit and the alternating current (AC) electrode and the high voltage for the plasma discharge are the main causes of the generation of electromagnetic waves. The frequency range of these main electromagnetic waves is 30 to 200 MHz, and the electromagnetic wave shielding filter The conductive mesh 33 of (3) cuts off.
그런데, 이러한 종래의 전자파 차폐 필터(3)에 있어서, 상기 도전 메쉬(33)는 전자파 차폐 효과를 얻음과 동시에 색감향상 및 콘트라스트 향상을 위하여 블랙 메쉬로 형성된다. 이렇게 블랙 처리된 도전 메쉬(33)의 총면적은 통상 상기 블랙 매트릭스의 총면적에 20%에 달하며, 이러한 도전 메쉬(33)로 인해 패널 조립체(2)로부터 발산되는 빛의 투과율은 더욱 떨어지게 되는 것이다.By the way, in the conventional electromagnetic wave shielding filter 3, the conductive mesh 33 is formed of a black mesh in order to obtain an electromagnetic shielding effect and to improve color and contrast. The total area of the black treated conductive mesh 33 is typically 20% of the total area of the black matrix, and the conductive mesh 33 causes the transmittance of light emitted from the panel assembly 2 to be further reduced.
본 발명은 상기와 같은 문제를 해결하기 위해 안출된 것으로서, 플라즈마 디스플레이 패널의 휘도와 콘트라스트를 동시에 만족시킬 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널을 제공하는 데 그 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and an object thereof is to provide a plasma display panel capable of simultaneously satisfying the brightness and contrast of the plasma display panel.
본 발명의 다른 목적은 블랙 매트릭스의 기능과 전자파 차폐 필터의 기능 및 기타 적외선 차단 등 특수파장의 빛을 차단하는 기능을 수행할 수 있는 다용도 필터를 구비한 플라즈마 디스플레이 패널을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a plasma display panel having a multipurpose filter capable of blocking a light of a special wavelength such as a function of a black matrix, an electromagnetic shielding filter, and other infrared blocking.
도 1은 일반적인 플라즈마 디스플레이 장치의 구조에 대한 개략적인 분해 사시도.1 is a schematic exploded perspective view of a structure of a general plasma display device.
도 2는 도 1의 패널 조립체의 구성을 나타내는 부분 분해 사시도.FIG. 2 is a partially exploded perspective view showing the configuration of the panel assembly of FIG. 1. FIG.
도 3은 도 1의 전자파 차폐 필터의 단면을 도시한 부분 단면도.3 is a partial cross-sectional view showing a cross section of the electromagnetic shielding filter of FIG.
도 4는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널을 구비한 플라즈마 디스플레이 장치의 분해 사시도.4 is an exploded perspective view of a plasma display device having a plasma display panel according to the present invention;
도 5는 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 부분 분해 사시도.5 is a partially exploded perspective view of a plasma display panel according to an exemplary embodiment of the present invention.
도 6 및 도 7은 각각 도 5의 플라즈마 디스플레이 패널에 있어서 그 외광 흡수층의 패턴 구조를 서로 다른 실시예들을 나타내는 부분 분해 사시도.6 and 7 are partially exploded perspective views showing different embodiments of the pattern structure of the external light absorbing layer in the plasma display panel of FIG. 5, respectively.
도 8은 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 외광 흡수층의 두께에 따른 농도 구배를 개략적으로 나타낸 그래프.8 is a graph schematically showing a concentration gradient according to the thickness of an external light absorbing layer according to an exemplary embodiment of the present invention.
도 9는 도 8에 따른 외광 흡수층을 나타낸 도면.9 is a view showing an external light absorbing layer according to FIG. 8.
도 10 내지 도 13은 각각 도 5에 따른 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널에 있어, 그 필터의 또 다른 실시예들을 나타내는 부분단면도.10 to 13 are partial cross-sectional views illustrating still another embodiment of a filter in the plasma display panel according to the preferred embodiment of the present invention according to FIG. 5, respectively.
도 14는 본 발명의 바람직한 또 다른 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 부분 분해 사시도.14 is a partially exploded perspective view of a plasma display panel according to another preferred embodiment of the present invention.
도 15 내지 도 18은 각각 도 14에 따른 본 발명의 바람직한 또 다른 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널에 있어, 그 필터의 또 다른 실시예들을 나타내는 부분 단면도.15 to 18 are partial cross-sectional views showing still another embodiment of the filter in the plasma display panel according to another preferred embodiment of the present invention according to FIG.
<도면의 주요 부호에 대한 간단한 설명><Brief description of the major symbols in the drawings>
50: 플라즈마 디스플레이 패널51: 제 1 기판50: plasma display panel 51: first substrate
52: 제 2 기판53a,53b.53c: 제 1,2,3전극52: second substrate 53a, 53b. 53c: first, second and third electrodes
54: 버스 전극55a,55b: 제 1,2 유전층54: bus electrodes 55a and 55b: first and second dielectric layers
56: MgO층57: 격벽56: MgO layer 57: partition wall
58: 형광체층60: 필터58: phosphor layer 60: filter
61: 외광 흡수층62: 보호막61: external light absorbing layer 62: protective film
63: 색소층64: 반사 방지층63: dye layer 64: antireflection layer
65: 도전층66: 기재 박막65 conductive layer 66 substrate thin film
67: 접착층67: adhesive layer
상기와 같은 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명은 한 쌍의 제 1 전극과 제 2 전극이 복수 개 배치되어 있는 제 1 기판과, 상기 제 1 기판과 대향되도록 배치되고, 상기 제 1 및 제 2 전극들과 교차하도록 배치된 복수개의 제 3 전극을 가져 상기 제 1 기판과의 사이에 방전 가스가 채워진 복수개의 방전 셀을 구비한 제 2 기판과, 상기 제 1 기판의 상기 제 2 기판과 결합되는 반대면에 부착되는 것으로, 소정 패턴의 외광 흡수층을 갖는 필터를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널을 제공한다.In order to achieve the above technical problem, the present invention is disposed so as to face the first substrate, a plurality of pairs of the first electrode and the second electrode, the first substrate, the first and second A second substrate having a plurality of third electrodes disposed to intersect with the electrodes, the second substrate having a plurality of discharge cells filled with a discharge gas therebetween, and the second substrate of the first substrate; A plasma display panel, which is attached to an opposite surface, includes a filter having an external light absorbing layer having a predetermined pattern.
본 발명의 다른 특징에 의하면, 상기 외광 흡수층은 상기 제 1 기판의 상기 제 2 기판과 결합되는 반대면에 직접 접합되도록 형성될 수 있으며, 이 때, 상기 필터는 소정 파장의 빛을 흡수할 수 있는 색소를 적어도 하나 이상 첨가한 색소층을 더 구비할 수 있다.According to another feature of the invention, the external light absorbing layer may be formed to be directly bonded to the opposite surface coupled to the second substrate of the first substrate, wherein the filter is capable of absorbing light of a predetermined wavelength It may further include a dye layer to which at least one dye is added.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 필터는 투명 소재의 기재 박막과, 상기 기재 박막의 일면에 형성된 외광 흡수층과, 상기 기재 박막의 타면에 형성되어 상기 필터가 상기 제 1 기판에 접합될 수 있도록 하는 접착층을 포함할 수 있다.According to another feature of the invention, the filter is a substrate thin film of a transparent material, an external light absorbing layer formed on one surface of the substrate thin film, and formed on the other surface of the substrate thin film so that the filter can be bonded to the first substrate It may include an adhesive layer.
이 때, 상기 필터는 소정 파장의 빛을 흡수할 수 있는 색소를 적어도 하나 이상 첨가한 색소층을 더 구비하도록 하거나, 상기 소정 파장의 빛을 흡수할 수 있는 색소가 상기 접착층에 첨가될 수 있다.In this case, the filter may further include a dye layer to which at least one dye that absorbs light of a predetermined wavelength may be added, or a dye that absorbs light of the predetermined wavelength may be added to the adhesive layer.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 외광 흡수층은 상기 플라즈마 디스플레이 패널의 화소 패턴으로 형성될 수 있다.According to another feature of the invention, the external light absorbing layer may be formed of a pixel pattern of the plasma display panel.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 외광 흡수층은 상기 제 1 및 제 2 전극 라인의 어느 한 쌍과 인접한 제 1 및 제 2 전극 라인의 쌍과의 사이의 위치에 형성될 수 있다.According to another feature of the present invention, the external light absorbing layer may be formed at a position between any pair of the first and second electrode lines and a pair of adjacent first and second electrode lines.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 제 2 기판의 상기 제 1 기판을 향한 면에는 적어도 상기 제 3 전극 라인들의 사이로 격벽이 구비되고, 상기 외광 흡수층은 상기 격벽의 위치를 따라 형성될 수 있다.According to another feature of the present invention, a partition wall is provided on at least a surface of the second substrate facing the first substrate between the third electrode lines, and the external light absorbing layer may be formed along the position of the partition wall.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 외광 흡수층은 유전성 물질로 구비될 수 있으며, 이 때, 상기 필터는 투명한 도전층을 더 구비하고, 상기 도전층은 상기 플라즈마 디스플레이 패널 외측의 샤시부에 접지될 수 있다.According to another feature of the invention, the external light absorbing layer may be provided with a dielectric material, wherein the filter further comprises a transparent conductive layer, the conductive layer is to be grounded to the chassis outside the plasma display panel Can be.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 외광 흡수층은 도전 물질로 구비될 수 있다.According to another feature of the invention, the external light absorbing layer may be provided with a conductive material.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 외광 흡수층은 흑색 첨가물을 포함한 금속재나, 표면이 산화처리된 구리박막으로 구비될 수 있다.According to another feature of the present invention, the external light absorbing layer may be provided with a metal material including a black additive or a copper thin film whose surface is oxidized.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 외광 흡수층은 상기 제 1 기판으로부터 외측을 향한 방향으로 투명한 물질인 제 1 성분과, 금속 물질인 제 2 성분이 순차로 구비된 기능성 박막이되, 상기 제 1 성분과 제 2 성분은 농도구배를 갖도록 존재하는 전이층을 포함하며, 상기 제 1 성분은 상기 제 1 기판을 향하여 가까워질수록 그 함량이 증가하고, 상기 제 2 성분은 상기 제 1 기판으로부터 멀어질수록 그 함량이 증가하도록 형성되도록 하고, 이 때, 상기 제 1 성분은 SiOx(x≥1), SiNx(x≥1), MgF2, CaF2, Al2O3, SnO2 등과 같은 투명한 절연물질로 이루어진 군 및 ITO(Indium tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), ZnO, In2O3 등과 같은 투명한 도전물질로 이루어진 군 중 적어도 어느 하나의 군에서 선택되는 적어도 하나 이상의 투명한 물질이고, 상기 제 2 성분은 Fe, Co, V, Ti, Al, Ag, Si, Ge, Y, Zn, Zr, W, Ta, Cu, Pt로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나 이상의 금속 물질로 구비되도록 할 수 있다.According to another feature of the present invention, the external light absorbing layer is a functional thin film in which a first component of a transparent material and a second component of a metal material are sequentially provided in an outward direction from the first substrate. The component and the second component include a transition layer present to have a concentration gradient, wherein the first component increases in content as it approaches the first substrate, and the second component moves away from the first substrate. The first component is formed of a transparent insulating material such as SiOx (x≥1), SiNx (x≥1), MgF2, CaF2, Al2O3, SnO2, and ITO At least one transparent material selected from the group consisting of transparent conductive materials such as indium tin oxide (IZO), indium zinc oxide (IZO), ZnO, In2O3, and the like, wherein the second component is Fe, Co, V, Ti, Al, Ag, Si, Ge, Y , Zn, Zr, W, Ta, Cu, Pt may be provided with at least one metal material selected from the group consisting of.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 외광 흡수층은 CrOx(x≥1) 및 Cr으로 구비된 박막일 수 있다.According to another feature of the invention, the external light absorbing layer may be a thin film provided with CrOx (x≥1) and Cr.
이러한 외광 흡수층은 상기 플라즈마 디스플레이 패널 외측의 샤시부에 접지될 수 있다.The external light absorbing layer may be grounded to the chassis outside the plasma display panel.
이하 첨부된 도면을 참고로 본 발명의 바람직한 실시예를 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 4는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널을 구비한 플라즈마 디스플레이 장치의 분해 사시도이다.4 is an exploded perspective view of a plasma display device having a plasma display panel according to the present invention.
도 4를 참조하여 볼 때 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 장치는 도 1에서 볼 수 있는 바와 같이 케이스(1)와, 상기 케이스(1)의 상부를 덮는 커버(5)와, 상기 케이스(1) 내에 수용되는 구동 회로 기판(4)을 구비하고, 상기 구동 회로 기판(4)에 결합되어 케이스(1) 내에 수용되는 플라즈마 디스플레이 패널 조립체(50)와 이에 결합되는 필터(60)로 이루어져 있다. 이러한 플라즈마 디스플레이 장치는 이하 설명될 본 발명의 모든 실시예에서 동일하게 적용된다.Referring to FIG. 4, the plasma display device according to the present invention has a case 1, a cover 5 covering the upper part of the case 1, and a case 1 as shown in FIG. 1. And a plasma display panel assembly 50 coupled to the driving circuit board 4 and accommodated in the case 1 and a filter 60 coupled thereto. This plasma display device is equally applicable to all embodiments of the present invention to be described below.
본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널(50)은 도 5에서 볼 수 있듯이, 제 1기판(51)과, 제 2 기판(52)이 서로 대향되어 배치되며, 이들 제 1 및 제 2 기판(51)(52)의 사이에는 네온(Ne)이나 제논(Xe) 등의 방전가스가 채워져 방전공간을 구성하고, 기판들의 가장자리가 플릿 글라스(flit glass)와 같은 밀봉재에 의해 봉합되어 결합된다.In the plasma display panel 50 according to an exemplary embodiment of the present invention, as shown in FIG. 5, the first substrate 51 and the second substrate 52 are disposed to face each other, and the first and second substrates 50 and 50 are disposed. Discharge gas such as neon or xenon is filled between the substrates 51 and 52 to form a discharge space, and the edges of the substrates are sealed and bonded by a sealing material such as flit glass. .
상기 제 1 기판(51)의 상기 제 2 기판(52)을 향한 면에는 제 1 전극(53a)과 제 2 전극(53b)이 서로 쌍을 이루도록 복수개 배설되어 있는 데, 예컨대 스트라이프와 같은 소정의 패턴을 이루도록 배설된다. 이들 제 1 및 제 2 전극들(53a)(53b)은 각각 공통 전극 및 주사 전극이 되는 것으로, 모두 인듐주석산화물인 ITO(Indium Tin Oxide)로 투명하게 형성될 수 있고, 각 전극들에는 라인저항을 보완해주기 위해 은(Ag)이나 금(Au) 등으로 버스 전극들(54)이 설치된다. 상기와 같은 제 1 및 제 2 전극들(53a)(53b)과 버스 전극들(54)은 포토리소그래피법이나, 스크린인쇄법 등에 의해 형성될 수 있다. 이 때, 상기 버스 전극들(54)에는 흑색 첨가재를 부가시켜 콘트라스트를 향상시키도록 할 수도 있다.On the surface of the first substrate 51 facing the second substrate 52, a plurality of first electrodes 53a and second electrodes 53b are disposed to be paired with each other, for example, a predetermined pattern such as a stripe. Excreted to achieve Each of the first and second electrodes 53a and 53b becomes a common electrode and a scan electrode, and each of the first and second electrodes 53a and 53b may be transparently formed of indium tin oxide (ITO), which is indium tin oxide. To compensate for this, the bus electrodes 54 are formed of silver (Ag), gold (Au), or the like. The first and second electrodes 53a and 53b and the bus electrodes 54 may be formed by photolithography, screen printing, or the like. In this case, a black additive may be added to the bus electrodes 54 to improve contrast.
상기 제 1 기판(51)에는 제 1 및 제 2 전극들(53a)(53b)과 버스 전극들(54)을 덮도록 제 1 유전체층(55a)이 형성되고, 이 제 1 유전체층(55a)을 덮도록 MgO층(56)이 MgO 등으로 스퍼터링이나 증착에 의해 형성된다. 상기 MgO층(56)은 방전 시 음극으로의 기능도 겸비한다.A first dielectric layer 55a is formed on the first substrate 51 to cover the first and second electrodes 53a and 53b and the bus electrodes 54, and covers the first dielectric layer 55a. The MgO layer 56 is formed by sputtering or vapor deposition with MgO or the like. The MgO layer 56 also serves as a cathode during discharge.
한편, 제 2 기판(52)의 상기 제 1 기판(51)을 향한 면에는 제 3 전극(53c)이 상기 제 1 및 제 2 전극(53a)(53b)에 직교하도록 배설되는 데, 이 제 3 전극(53c)은 어드레스 전극이 된다. 상기 제 2 기판(52)에는 이 제 3 전극(53c)을 덮도록 제 2 유전체층(55b)이 형성되어 있는 데, 이 제 2 유전체층(55b)은 패널 전체의 휘도를 향상시킬 수 있도록 백색을 띠도록 하는 것이 바람직하다.On the other hand, the third electrode 53c is disposed on the surface of the second substrate 52 facing the first substrate 51 so as to be orthogonal to the first and second electrodes 53a and 53b. The electrode 53c becomes an address electrode. The second dielectric layer 55b is formed on the second substrate 52 so as to cover the third electrode 53c. The second dielectric layer 55b has a white color to improve the luminance of the entire panel. It is desirable to.
상기 제 2 유전체층(55b)의 위로는 상기 각 제 3 전극(53c)의 사이로 격벽(57)이 형성되어 상기 방전 공간을 복수개의 방전 셀로 구획한다. 이 격벽(57)은 인접한 방전 셀과의 빛의 크로스 토크를 방지한다.On the second dielectric layer 55b, partition walls 57 are formed between the third electrodes 53c to partition the discharge space into a plurality of discharge cells. This partition wall 57 prevents crosstalk of light with adjacent discharge cells.
상기 격벽(57)의 내측면과 격벽(57)으로 둘러싸인 제 2 유전체층(55b)의 상면에는 형광체(58)가 도포된다. 상기 형광체(58)는 칼라 화면을 구현하기 위하여 상기 격벽(57)에 의해 구획된 공간 내에 적(R), 녹(G), 청(B)색으로 형성된다.Phosphor 58 is coated on the inner surface of the partition wall 57 and the upper surface of the second dielectric layer 55b surrounded by the partition wall 57. The phosphor 58 is formed in red (R), green (G), and blue (B) colors in a space partitioned by the partition wall 57 to implement a color screen.
상기와 같은 플라즈마 디스플레이 패널에 있어서, 각 방전 셀은 제 1 및 제 2 전극(53a)(53b)의 쌍과 제 3 전극(53c)이 교차한 부분에 위치하게 되고, 이 방전 셀이 디스플레이의 화소를 형성하게 된다. 즉, 어드레스 전극인 상기 제 3 전극(53c)과 주사 전극인 상기 제 2 전극(53b)에 전압이 인가됨에 따라 이들 사이에서 예비방전이 일어나 제 1 유전체층(55a) 하면으로 하전입자가 형성되고, 이 상태에서 공통 전극인 제 1 전극(53a)과 주사 전극인 제 2 전극(53b) 사이에 소정의전압이 인가됨으로써 유지 방전이 이루어진다. 이때에 가스층에서 플라즈마가 형성됨으로써 형성되는 자외선에 의해 형광체가 여기되어 발광하게 되는 것이다.In the plasma display panel as described above, each discharge cell is positioned at a portion where the pair of the first and second electrodes 53a and 53b intersect with the third electrode 53c, and the discharge cell is a pixel of the display. Will form. That is, as voltage is applied to the third electrode 53c, which is an address electrode, and the second electrode 53b, which is a scan electrode, preliminary discharge occurs therebetween, whereby charged particles are formed on the lower surface of the first dielectric layer 55a. In this state, a predetermined voltage is applied between the first electrode 53a serving as the common electrode and the second electrode 53b serving as the scan electrode, thereby causing sustain discharge. At this time, the phosphor is excited by ultraviolet rays formed by plasma formation in the gas layer to emit light.
상술한 바와 같은 플라즈마 디스플레이 패널의 기본 구성은 이하 설명될 본 발명에 따른 모든 실시예에 동일하게 적용될 수 있다.The basic configuration of the plasma display panel as described above may be equally applied to all the embodiments according to the present invention to be described below.
상기와 같은 플라즈마 디스플레이 패널의 제 1 기판(51)의 상부로는 도 4에서 볼 수 있듯이, 필터(60)가 결합되는 데, 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따르면, 상기 필터(60)는 도 5에서 볼 수 있듯이, 상기 제 1 기판(51)의 외측면에 직접 접합되도록 형성된 외광 흡수층(61)을 구비한다. 상기 외광 흡수층(61)은 종래의 블랙 매트릭스와 동일한 기능을 하기 위한 것으로, 외광을 흡수할 수 있도록 흑색으로 처리되는 것이 바람직하며, 소정의 패턴으로 형성되어 화상의 콘트라스트를 높일 수 있도록 한다.As shown in FIG. 4, the filter 60 is coupled to the upper portion of the first substrate 51 of the plasma display panel. According to a preferred embodiment of the present invention, the filter 60 is illustrated in FIG. As shown in FIG. 5, the external light absorbing layer 61 is formed to be directly bonded to the outer surface of the first substrate 51. The external light absorbing layer 61 has the same function as a conventional black matrix, and is preferably treated with black to absorb external light, and is formed in a predetermined pattern to increase the contrast of an image.
상기 외광 흡수층(61)은 다양한 패턴으로 형성 가능한 데, 도 5에서 볼 수 있듯이, 각 방전 셀, 즉, 화소를 두르도록 격자상의 패턴으로 형성될 수도 있고, 도 6에서 볼 수 있듯이, 상기 격벽(57)의 위치에 이 격벽(57)이 연장된 방향을 따라 연장된 스트라이프상으로 형성될 수도 있으며, 도 7에서 볼 수 있듯이, 상기 제 1 전극(53a)과 제 2 전극(53b)의 쌍과 인접한 쌍과의 사이에 스트라이프상으로 형성될 수도 있다. 이 밖에도, 비록 도면으로 도시하지는 않았지만, 화소의 배열에 따라 다양한 패턴으로 형성될 수 있다. 이러한 외광 흡수층(61)의 패턴은 이하 설명될 본 발명의 모든 실시예에 동일하게 적용될 수 있다.The external light absorbing layer 61 may be formed in various patterns. As shown in FIG. 5, each of the discharge cells, that is, the pixels may be formed in a lattice pattern to surround the pixels, and as shown in FIG. 6, the partition wall ( 57 may be formed in a stripe shape extending along the direction in which the partition wall 57 extends, and as shown in FIG. 7, the pair of the first electrode 53a and the second electrode 53b may be formed. It may be formed in the form of stripes between adjacent pairs. In addition, although not shown in the drawings, it may be formed in various patterns according to the arrangement of the pixels. The pattern of the external light absorbing layer 61 may be equally applied to all embodiments of the present invention to be described below.
한편, 도 5 내지 도 7에서 볼 수 있는 상기 외광 흡수층(61)은 도전성 물질로 형성되어 그 단부가 상기 플라즈마 디스플레이의 샤시부, 즉, 도 4에서 볼 수 있는 케이스(1)와 커버(5)에 접지될 수 있다. 이렇게 상기 외광 흡수층(61)이 도전성을 띠도록 형성하므로 말미암아 상기 외광 흡수층(61)은 전자파 차폐의 기능을 겸비할 수 있다. 따라서, 상기 외광 흡수층(61)에 의해 패널 내의 고전압 및 고속 펄스에 의한 전자간섭(EMI: Electro-Magnetic Interference)현상을 방지할 수 있게 된다.Meanwhile, the external light absorbing layer 61 as shown in FIGS. 5 to 7 is formed of a conductive material, and ends thereof are the chassis of the plasma display, that is, the case 1 and the cover 5 as shown in FIG. 4. Can be grounded. Thus, since the external light absorbing layer 61 is formed to be conductive, the external light absorbing layer 61 may have a function of electromagnetic shielding. Accordingly, the external light absorbing layer 61 may prevent the phenomenon of Electro-Magnetic Interference (EMI) caused by high voltage and high speed pulse in the panel.
이렇게 도전성 물질로 형성되는 외광 흡수층(61)은 흑색 첨가물을 포함한 금속재로 구비될 수 있는 데, RuO2나 카본과 같은 흑색 첨가물을 은(Ag)에 첨가시켜 스크린 인쇄하거나 포토리소그래피법으로 형성할 수 있다.The external light absorbing layer 61 formed of the conductive material may be formed of a metal material including a black additive. A black additive such as RuO 2 or carbon may be added to silver (Ag) to form screen printing or photolithography. have.
이러한 외광 흡수층(61)은 이 밖에도 표면이 산화처리된 구리박막으로 구비될 수 있으며, 크롬(Cr)과 크롬 산화물(CrOx(x≥1))에 카본 등의 흑색 안료를 첨가하여 형성할 수도 있다.In addition, the external light absorbing layer 61 may be formed of a copper thin film whose surface is oxidized, and may be formed by adding a black pigment such as carbon to chromium (Cr) and chromium oxide (CrOx (x≥1)). .
또한, 도 8에서 볼 수 있듯이, 상기 외광 흡수층(61)은 상기 제 1 기판(51)으로부터 외측을 향한 방향으로 투명한 물질인 제 1 성분과, 금속 물질인 제 2 성분이 순차로 구비되도록 할 수 있다. 이 때, 상기 제 1 성분과 제 2 성분은 농도구배를 갖도록 존재하는 전이층을 포함하며, 상기 제 1 성분은 상기 제 1 기판을 향하여 가까워질수록 그 함량이 증가하고, 상기 제 2 성분은 상기 제 1 기판으로부터 멀어질수록 그 함량이 증가하도록 형성된다.In addition, as shown in FIG. 8, the external light absorbing layer 61 may include a first component, which is a transparent material, and a second component, which is a metal material, in order from the first substrate 51 toward the outside. have. At this time, the first component and the second component includes a transition layer present to have a concentration gradient, the first component is increased in content toward the first substrate, the second component is the It is formed such that its content increases with distance from the first substrate.
상기 제 1 성분은 SiOx(x≥1), SiNx(x≥1), MgF2, CaF2, Al2O3, SnO2 등과 같은 투명한 절연물질로 이루어진 군 및 ITO(Indium tin Oxide), IZO(Indium ZincOxide), ZnO, In2O3 등과 같은 투명한 도전물질로 이루어진 군 중 적어도 어느 하나의 군에서 선택되는 적어도 하나 이상의 투명한 물질이 될 수 있고, 상기 제 2 성분은 Fe, Co, V, Ti, Al, Ag, Si, Ge, Y, Zn, Zr, W, Ta, Cu, Pt로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나 이상의 금속 물질이 될 수 있다.The first component is composed of a transparent insulating material such as SiOx (x≥1), SiNx (x≥1), MgF2, CaF2, Al2O3, SnO2, Indium tin Oxide (ITO), Indium Zinc Oxide (IZO), ZnO, At least one transparent material selected from the group consisting of a transparent conductive material, such as In 2 O 3 It may be at least one transparent material, the second component is Fe, Co, V, Ti, Al, Ag, Si, Ge, Y It may be at least one metal material selected from the group consisting of, Zn, Zr, W, Ta, Cu, Pt.
본 발명의 바람직한 일 실시예에 의하면, 상기 제 1 성분으로는 통상 글라스 성분으로 이루어진 제 1 기판(51)과의 계면에서의 반사를 억제할 수 있도록 SiOx(x≥1)로 하고, 상기 제 2 성분은 은(Ag)과 같이 도전성이 높은 금속으로 할 수 있다. 이 때, 상기 금속인 제 2 성분에는 카본이나 RuO2와 같은 흑색 첨가물을 첨가할 수 있다.According to a preferred embodiment of the present invention, the first component is SiOx (x ≧ 1) so as to suppress reflection at the interface with the first substrate 51 which is usually made of glass. A component can be made into metal with high electroconductivity like silver (Ag). At this time, a black additive such as carbon or RuO 2 may be added to the second component which is the metal.
이렇게 제 1성분과 제 2성분으로 이루어진 외광 흡수층(61)은 도 8에서 볼 수 있듯이, 제 1 기판(51)으로부터 멀어질수록 SiOx(x≥1)의 농도는 점진적으로 감소되는 분포로 존재하고, 금속 성분의 농도는 점진적으로 증가하는 분포로 존재하며, 그 두께의 약 1/2 영역에는 SiOx(x≥1)와 금속 성분이 거의 동량으로 존재하도록 한다.As shown in FIG. 8, the external light absorbing layer 61 including the first component and the second component is present in a distribution in which the concentration of SiOx (x ≧ 1) is gradually decreased as it moves away from the first substrate 51. , The concentration of the metal component is present in a gradually increasing distribution, so that approximately half of the thickness of SiO x (x ≧ 1) and the metal component are present in about the same amount.
이러한 조성 분포를 갖고 있는 외광 흡수층(61)은 상기 SiOx(x≥1)와 금속 성분의 반비례적인 농도 구배를 이용하여 서서히 증착시키므로 층상 구조가 생기지 않고 SiOx(x≥1)와 금속 성분의 굴절율 구배를 이용하여 계면에서 광반사보다 흡수가 일어나 반사율이 현저히 감소하게 된다.The external light absorbing layer 61 having such a composition distribution is gradually deposited using the inverse concentration gradient of SiOx (x≥1) and the metal component, so that no layered structure is formed and the refractive index gradient of SiOx (x≥1) and the metal component By using the absorption at the interface than the light reflection is significantly reduced the reflectance.
도 9는 이러한 원리를 설명하기 위한 것인데, 제 1 기판(51)의 상면에 외광 흡수층(61)을 형성한 것이다. 이러한 외광 흡수층(61)은 상술한 바와 같이, 제 1기판(51)과 접촉되는 부근(611)에는 SiOx(x≥1)가 주성분을 이루며, 그 두께의 약 1/2 부근(612)에는 SiOx(x≥1)와 금속 성분이 거의 동량으로 존재하고, 제 1 기판(51)에서 가장 먼 부근(613)에는 금속 성분이 주성분이 되도록 한다. 이러한 외광 흡수층(61)의 외측, 즉, 도 9에서 외광 흡수층(61)의 상부로부터 빛이 입사될 경우, 제 1 기판(51)과 외광 흡수층(61)과의 계면을 이루는 매질 간의 굴절율 차가 적으므로, 계면에서의 반사가 적게 일어나 외광이 반사되지 않고 거의 흡수될 수 있는 구조가 된다.FIG. 9 illustrates this principle, in which the external light absorbing layer 61 is formed on the upper surface of the first substrate 51. As described above, the external light absorbing layer 61 has SiOx (x ≧ 1) as a main component in the vicinity 611 that is in contact with the first substrate 51, and in the vicinity 612 of its thickness, SiOx (x≥1) and the metal component exist in about the same amount, and the metal component becomes a main component in the vicinity 613 farthest from the 1st board | substrate 51. FIG. When light is incident from the outside of the external light absorbing layer 61, that is, from the top of the external light absorbing layer 61 in FIG. 9, the difference in refractive index between the medium forming the interface between the first substrate 51 and the external light absorbing layer 61 is small. Therefore, there is little reflection at the interface, and thus the structure can be absorbed almost without external light being reflected.
또한 이러한 외광 흡수층(61)은 상부의 금속층으로 인해 별도의 도전층 없이 바로 접지하여 전자파를 차폐할 수 있다.In addition, the external light absorbing layer 61 may be directly grounded without a separate conductive layer to shield the electromagnetic wave due to the upper metal layer.
이렇게 농도구배를 갖는 외광 흡수층은 진공 증착이나, 스퍼터링, 전자이온 증착법 등에 의해 형성할 수 있는 데, 진공증착기 내에서 마스크를 개재하여 증착시킬 수 있다. 이 때, 증착보트에는 서로 다른 융점을 갖는 금속-SiOx(x≥1)의 혼합물을 투입하는 데, 여기서, 금속-SiOx(x≥1)의 혼합물은 금속이 50 내지 97 중량 %, SiOx(x>1)가 3 내지 50 중랑% 로 이루어질 수 있다.The external light absorbing layer having a concentration gradient can be formed by vacuum deposition, sputtering, electron ion deposition, or the like, and can be deposited through a mask in a vacuum evaporator. In this case, a mixture of metal-SiOx (x≥1) having different melting points is introduced into the deposition boat, wherein the mixture of metal-SiOx (x≥1) contains 50 to 97% by weight of metal and SiOx (x > 1) may be 3 to 50 weight percent.
이러한 혼합물이 들어 있는 증착보트의 가열 온도를 시간이 경과됨에 따라 서서히 증가시키면 융점이 낮은 SiOx(x≥1)가 먼저 증착되기 시작하고, 이보다 높은 온도에서는 SiOx(x≥1)와 금속 성분이 동시에 증착되며. 최종적으로 가장 높은 온도에서는 더 이상의 SiOx(x≥1) 성분이 남아 있지 않게 되어 순수하게 금속 성분만이 증착된다. 그 결과, 도 8에 도시된 바와 같이 SiOx(x≥1)는 제 1 기판(51)으로부터 멀어질수록 점진적으로 감소하는 분포로 존재하며 금속 성분은 제 1기판(51)에 가까워질수록 점진적으로 증가하는 분포로 존재한다.Slowly increasing the heating temperature of the deposition boat containing this mixture over time begins to deposit SiOx (x≥1), which has a low melting point, and at higher temperatures, SiOx (x≥1) and the metal component simultaneously Is deposited. Finally, at the highest temperature, no more SiOx (x ≧ 1) component remains, so that only pure metal components are deposited. As a result, as shown in FIG. 8, SiOx (x ≧ 1) exists in a distribution that gradually decreases away from the first substrate 51, and the metal component gradually approaches the first substrate 51. There is an increasing distribution.
이와 같은 SiOx(x≥1)와 금속의 증착 공정은 금속 성분의 증발이 승화가 아닌 용융에 의하여 이루어진다. 즉, 상기 금속 성분들에 열을 가하면 이들은 용융되어 액체 상태로 변화되고, 이 액체 상태의 금속 성분과 혼합되어 있는 SiOx(x≥1)는 승화되어 제 1 기판 상에 증착되게 된다. 이와 같이 SiOx(x≥1)가 액체 상태의 금속 성분과 혼합된 상태로 승화되면, SiOx(x≥1)파우더가 포핑 아웃(popping out)되는 문제로 인하여 대량 생산하기가 제한되는 문제점을 미연에 예방할 수 있다.The deposition process of SiOx (x ≧ 1) and the metal is performed by melting, not sublimation, of the metal component. That is, when heat is applied to the metal components, they are melted into a liquid state, and SiOx (x ≧ 1) mixed with the metal component in the liquid state is sublimed and deposited on the first substrate. As such, when SiOx (x≥1) is sublimed in a mixed state with a liquid metal component, the problem of mass production is limited due to the problem that the SiOx (x≥1) powder is popped out. It can be prevented.
한편, 이러한 외광 흡수층(61)의 두께에 따른 성분 분포는 SiOx(x≥1)의 초기 입자 크기에 크게 의존하여 변화된다. 이를 구체적으로 설명하자면, 만약 SiOx(x≥1)의 입자 크기가 0.5mm 정도로 작은 경우에는 전체 SiOx(x≥1) 표면적에 비하여 증착보트와 접촉되는 면적비가 커서 SiOx(x≥1)와 증착보트간의 열적 접촉이 많아지게 되고, 입자 무게가 작기 때문에 열전도에 의하여 순간적으로 발생하는 큰 증기압으로 인하여 제트 플로우(jet flow)가 생성되며, 이로 인하여 SiOx(x≥1)입자는 증착보트에서 튀어나가게 된다. 그 결과, SiOx(x≥1)의 승화현상이 강하게 나타난다. 반면, SiOx(x≥1)의 입자 크기가 2mm 정도로 큰 경우에는 제트 플로우에는 영향을 받지 않으나 전체 로딩된 양에 비하여 증착량이 모자라게 된다. 따라서, SiOx(x≥1)와 금속의 혼합물에서 SiOx(x≥1)의 입자 크기를 1 내지 1.5mm로 조절하면 최적의 광학적, 전기적 특성을 나타내는 외광 흡수층을 얻을 수 있다.On the other hand, the component distribution according to the thickness of the external light absorbing layer 61 is greatly changed depending on the initial particle size of SiO x (x ≧ 1). Specifically, if the particle size of SiOx (x≥1) is as small as 0.5mm, the area ratio of the SiOx (x≥1) contacting the deposition boat is larger than the total SiOx (x≥1) surface area, so that SiOx (x≥1) and the deposition boat Due to the high thermal contact between the particles and the small particle weight, jet flow is generated due to the large vapor pressure generated by thermal conduction, which causes SiOx (x≥1) particles to bounce off the deposition boat. . As a result, the sublimation phenomenon of SiOx (x≥1) appears strong. On the other hand, when the particle size of SiO x (x ≧ 1) is as large as 2 mm, it is not affected by the jet flow, but the deposition amount is short compared to the total loaded amount. Therefore, when the particle size of SiOx (x≥1) is adjusted to 1 to 1.5 mm in the mixture of SiOx (x≥1) and the metal, an external light absorbing layer exhibiting optimal optical and electrical properties can be obtained.
이렇게 소정 패턴의 도전성 외광 흡수층(61)을 얻은 후에는 그 상부에 도 5에서 볼 수 있는 바와 같이, 보호막(62)을 부착한다. 상기 보호막(62)은 투명한 수지재로 구비될 수 있는 데, 투명한 소재의 PET 필름이나 폴리 카보네이트 필름 또는 폴리 프로필렌 필름 등을 부착할 수 있으며, 이들을 반용융상태에서 도포하여 코팅하여 형성할 수도 있다.After the conductive external light absorbing layer 61 of the predetermined pattern is obtained as described above, a protective film 62 is attached to the upper portion thereof, as shown in FIG. 5. The protective layer 62 may be provided with a transparent resin material, and may be a PET film, a polycarbonate film, a polypropylene film, or the like of a transparent material, and may be formed by coating them in a semi-fused state.
이들 투명한 수지재를 상기 외광 흡수층(61)이 형성된 제 1 기판(51)에 코팅하여 보호막(62)을 형성할 때에 이 보호막(62)을 형성하는 수지재 필름에 소정 파장의 빛을 흡수할 수 있는 색소를 혼합시켜 상기 보호막(62)을 색소층으로 구비시킬 수 있다.When the transparent resin material is coated on the first substrate 51 on which the external light absorbing layer 61 is formed to form the protective film 62, light having a predetermined wavelength can be absorbed by the resin film forming the protective film 62. The pigment | dye which exists can be mixed and the said protective film 62 can be provided as a pigment | dye layer.
플라즈마 디스플레이 패널에 있어서 방전에 의해 적외선이 패널 밖으로 나오는 데, 이 적외선은 주변의 전자 기기에 방해를 줄 수 있어 이를 차단하는 것이 필요하다. 따라서, 상기 보호막(62)에 혼합시키는 색소에는 적외선을 차단하는 NIR 흡수색소를 혼입시킬 수 있다. 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따르면 상기 NIR 흡수색소로서 일본화약사의 IRG-022를 사용할 수 있다.In a plasma display panel, infrared rays are emitted out of the panel by discharge, and the infrared rays may interfere with surrounding electronic devices, and it is necessary to block them. Therefore, the NIR absorbing pigment which blocks infrared rays can be mixed in the dye mixed in the protective layer 62. According to a preferred embodiment of the present invention, IRG-022 available from Nippon Chemical Co., Ltd. may be used as the NIR absorbing dye.
한편, 풀칼라 디스플레이에 있어서는 590nm 부근의 네온파장을 흡수하여야 색의 선명도를 더욱 높여줄 수 있는 데, 이 590nm 부근의 파장을 흡수하기 위한 색소로서 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따르면 Aldrich사의 Sulforhodamine 101을 사용할 수 있다.On the other hand, in a full color display, it is necessary to absorb neon wavelengths near 590 nm to further increase the clarity of color. According to an exemplary embodiment of the present invention, Sulforhodamine 101 is a dye for absorbing wavelengths near 590 nm. Can be used.
상기와 같이 소정 파장을 흡수하는 색소가 혼합된 색소층(63)은 도 5 내지 도 7에서 볼 수 있듯이, 상기 보호막(62)에 구비시킬 수도 있으며, 도 10에서 볼 수 있듯이, 보호막(62)의 상부에 별도의 필름으로 색소층(63)을 형성할 수도 있다. 이 때, 상기 색소층(63)은 상기와 같은 색소가 혼합된 필름을 덧붙여서 형성할 수도 있고, 이들을 코팅하여 형성할 수도 있다.As described above, the dye layer 63 in which the dye absorbing the predetermined wavelength is mixed may be provided in the passivation layer 62, as shown in FIGS. 5 to 7, and as shown in FIG. 10, the passivation layer 62. The pigment layer 63 may be formed as a separate film on the top of the. At this time, the dye layer 63 may be formed by adding a film mixed with the above pigment, or may be formed by coating them.
한편, 플라즈마 디스플레이 패널에 있어서는 패널 표면에서 실내광의 반사에 의해 표시 콘트라스트가 저하될 수 있으며, 실내 조명등 등의 상이 비쳐질 수 있기 때문에 반사방지(AR: Anti-Reflection)층을 형성시킬 필요가 있다.On the other hand, in a plasma display panel, the display contrast may be reduced by reflection of room light on the surface of the panel, and an anti-reflection (AR) layer needs to be formed because an image such as an indoor lamp may be reflected.
이러한 반사방지층은 다양하게 형성될 수 있는 데, 도 11에서 볼 수 있듯이, 저굴절율층(641)과 고굴절율층(642)을 번갈아가면서 증착시켜 외광의 전반사를 차단하고 빛을 상기 반사방지층(64) 내로 가둬둘 수 있도록 할 수 있다. 상기 저굴절율층(641)은 SiO2를 스퍼터링시켜 형성할 수 있고, 상기 고굴절율층(642)은 은(Ag)이나 ITO를 스퍼터링시켜 형성할 수 있다. 도 11에서는 도 5 내지 도 7의 플라즈마 디스플레이 패널에 상기 반사방지층을 형성한 구조를 나타낸 것이나, 이는 도 10의 구조에도 그대로 적용시킬 수 있음은 물론이다.The anti-reflection layer may be formed in various ways. As shown in FIG. 11, the low refractive index layer 641 and the high refractive index layer 642 are alternately deposited to block total reflection of external light, and to transmit light to the anti-reflection layer 64. ) Can be trapped inside. The low refractive index layer 641 may be formed by sputtering SiO 2, and the high refractive index layer 642 may be formed by sputtering silver (Ag) or ITO. 11 illustrates a structure in which the anti-reflection layer is formed on the plasma display panel of FIGS. 5 to 7, but it may be applied to the structure of FIG. 10 as it is.
이상은 상기 외광 흡수층(61)이 도전 물질로 구비되어 샤시부에 접지된 경우를 설명하였으나, 상기 외광 흡수층(61)은 이 밖에도 유전성 물질로 구비되어 도전성을 띠지 않도록 할 수 있다. 다만, 이 때에는 전자파 차폐를 위하여 투명한 도전성 물질로 구비된 도전층을 별도로 더 구비시켜 이 도전층이 패널 외측의 샤시부에 접지되도록 할 수 있다. 상기 투명한 도전층(65)은 ITO 등을 스퍼터링하여 형성할 수 있는 것으로, 도 12에서 볼 수 있듯이, 제 1 기판(51)과 외광 흡수층(61)의 사이에 형성할 수도 있고, 도 13에서 볼 수 있듯이, 보호막 대신 상기 외광 흡수층(61)을 덮도록 증착시킬 수도 있다. 물론 이 밖에도 상술한 다양한 층상 구조들이 복합적으로 혼합된 구조로 형성할 수 있음은 물론이다.As described above, the external light absorbing layer 61 is provided as a conductive material and grounded to the chassis. However, the external light absorbing layer 61 may be provided as a dielectric material so that the external light absorbing layer 61 is not electrically conductive. In this case, however, a conductive layer made of a transparent conductive material may be additionally provided to shield the electromagnetic waves so that the conductive layer is grounded to the chassis outside the panel. The transparent conductive layer 65 may be formed by sputtering ITO or the like. As shown in FIG. 12, the transparent conductive layer 65 may be formed between the first substrate 51 and the external light absorbing layer 61. As it may be, instead of the protective film may be deposited to cover the external light absorbing layer 61. Of course, in addition to the above-described various layered structure may be formed of a complex mixed structure.
도 14는 본 발명의 바람직한 또 다른 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널을 도시한 부분 분해 사시도이다.14 is a partially exploded perspective view illustrating a plasma display panel according to another exemplary embodiment of the present invention.
도 14를 참조하면, 본 발명의 바람직한 또 다른 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널(50)은 제 1 기판(51)의 외측면으로 외광흡수층(61)을 구비한 필터(60)가 별도로 제작되어 접합되는 구조를 갖는다. 상기 플라즈마 디스플레이 패널(50)의 기본적인 구성은 전술한 실시예들의 경우와 동일하므로 그 설명은 생략하고, 이하에서는 상기 필터(60)의 구조에 대해서만 설명한다.Referring to FIG. 14, in the plasma display panel 50 according to another exemplary embodiment of the present invention, a filter 60 having an external light absorbing layer 61 is formed separately on the outer surface of the first substrate 51. It has a structure to be bonded. Since the basic configuration of the plasma display panel 50 is the same as in the above-described embodiments, the description thereof will be omitted and only the structure of the filter 60 will be described below.
도 14에서 볼 수 있듯이, 상기 필터(60)는 투명 소재의 기재 박막(66)과, 상기 기재 박막(66)의 일면에 형성된 외광 흡수층(61)과, 상기 기재 박막(66)의 타면에 형성되어 상기 필터(60)가 상기 제 1 기판(51)에 접합될 수 있도록 하는 접착층(67)을 포함한다. 상기 외광 흡수층(61)은 전술한 도 5 내지 도 7에서 볼 수 있는 실시예와 같이 보호막(62)에 의해 덮여질 수 있다.As shown in FIG. 14, the filter 60 is formed on a substrate thin film 66 made of a transparent material, an external light absorbing layer 61 formed on one surface of the substrate thin film 66, and the other surface of the substrate thin film 66. And an adhesive layer 67 to allow the filter 60 to be bonded to the first substrate 51. The external light absorbing layer 61 may be covered by the passivation layer 62 as in the embodiment of FIG. 5 to FIG. 7.
상기 기재 박막(66)은 투명한 소재의 기판으로 형성할 수 있는 데, 글라스 기판이나, 투명한 플라스틱 소재의 기판으로 형성할 수 있다. 이러한 기재 박막(66)의 외측면에 전술한 실시예에서 볼 수 있는 바와 같이, 도전성 재료로서 외광 흡수층(61)을 형성한다.The substrate thin film 66 may be formed of a transparent material substrate, and may be formed of a glass substrate or a transparent plastic substrate. As can be seen in the above-described embodiment on the outer surface of the substrate thin film 66, the external light absorbing layer 61 is formed as a conductive material.
즉, 상기 외광 흡수층(61)은 RuO2나 카본과 같은 흑색 첨가물을 포함한 은과 같은 금속에 첨가시켜 스크린 인쇄하거나 포토리소그래피법으로 형성할 수 있으며, 표면이 산화처리된 구리박막으로 형성하거나, 크롬(Cr)과 크롬 산화물(CrOx(x≥1))에 카본 등의 흑색 안료를 첨가하여 형성할 수도 있다. 또한, 상기 제 1 기판(51)으로부터 외측을 향한 방향으로 투명한 물질인 제 1 성분과, 금속 물질인 제 2 성분이 순차로 구비되도록 할 수 있다. 이 때, 상기 제 1 성분과 제 2 성분은 농도구배를 갖도록 존재하는 전이층을 포함하며, 상기 제 1 성분은 상기 제 1 기판을 향하여 가까워질수록 그 함량이 증가하고, 상기 제 2 성분은 상기 제 1 기판으로부터 멀어질수록 그 함량이 증가하도록 형성된다. 상기 제 1 성분은 전술한 바와 같이, SiOx(x≥1), SiNx(x≥1), MgF2, CaF2, Al2O3, SnO2 등과 같은 투명한 절연물질로 이루어진 군 및 ITO(Indium tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), ZnO, In2O3 등과 같은 투명한 도전물질로 이루어진 군 중 적어도 어느 하나의 군에서 선택되는 적어도 하나 이상의 투명한 물질이 될 수 있고, 상기 제 2 성분은 Fe, Co, V, Ti, Al, Ag, Si, Ge, Y, Zn, Zr, W, Ta, Cu, Pt로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나 이상의 금속 물질이 될 수 있다. 이렇듯, 상기 외광 흡수층을 형성하는 모든 방법은 전술한 실시예의 경우와 동일하므로 그 상세한 설명은 생략한다.That is, the external light absorbing layer 61 may be added to a metal such as silver including a black additive such as RuO 2 or carbon, and screen printed or photolithographically formed. The surface may be formed of an oxidized copper thin film, or chromium It may be formed by adding black pigments such as carbon to (Cr) and chromium oxide (CrOx (x≥1)). In addition, the first component, which is a transparent material, and the second component, which is a metal material, may be sequentially provided in a direction from the first substrate 51 to the outside. At this time, the first component and the second component includes a transition layer present to have a concentration gradient, the first component is increased in content toward the first substrate, the second component is the It is formed such that its content increases with distance from the first substrate. As described above, the first component is composed of a transparent insulating material such as SiOx (x≥1), SiNx (x≥1), MgF2, CaF2, Al2O3, SnO2, and ITO (Indium tin Oxide), IZO (Indium). Zinc Oxide), ZnO, In2O3 and the like may be at least one or more transparent materials selected from at least one of the group consisting of a transparent conductive material, the second component is Fe, Co, V, Ti, Al, Ag At least one metal material selected from the group consisting of, Si, Ge, Y, Zn, Zr, W, Ta, Cu, Pt. As such, all the methods of forming the external light absorbing layer are the same as those of the above-described embodiment, and thus a detailed description thereof will be omitted.
이렇게 도전성 재료로서 외광 흡수층(61)을 형성한 후에는 그 외측면으로 보호막(62)을 형성한다. 이 보호막(62)은 투명 소재의 수지재 필름으로 구비될 수 있으며, 코팅으로 형성할 수도 있음은 전술한 바와 같다.After the external light absorbing layer 61 is formed as the conductive material in this manner, the protective film 62 is formed on the outer surface thereof. The protective film 62 may be provided with a resin film of a transparent material, and may be formed of a coating as described above.
한편, 상기 외광 흡수층(61)이 형성된 기재 박막(66)의 상기 제 1 기판(51)을 향한 면에는 접착성 수지재로 접착층(67)을 형성한다. 이 때, 상기 접착층(67)에는 상술한 바와 같은 NIR색소나 590nm 파장 차단 색소 등을 첨가시켜 이 접착층(67)이 색소층(63)으로서의 기능을 하도록 할 수 있다. 물론 이 색소층(63)은 도 15에서 볼 수 있듯이, 별도의 층으로 구비되도록 할 수도 있으며, 도면으로도시하지는 않았지만 보호막(62)에 상기 색소들을 혼합시켜 형성시킬 수도 있다.On the other hand, the adhesive layer 67 is formed on the surface of the base film 66 on which the external light absorbing layer 61 is formed facing the first substrate 51 with an adhesive resin material. At this time, the above-described NIR pigment, 590 nm wavelength blocking dye, or the like can be added to the adhesive layer 67 so that the adhesive layer 67 functions as the dye layer 63. Of course, as shown in FIG. 15, the dye layer 63 may be provided as a separate layer. Although not shown in the drawing, the dye layer 63 may be formed by mixing the dyes in the protective layer 62.
그리고, 상기와 같은 필터(60)에는 도 16에서 볼 수 있듯이, 반사 방지층(64)을 형성할 수 있다. 상기 반사 방지층(64)은 저굴절율층과 고굴절율층을 번갈아 가며 형성하는 것으로 이는 전술한 바와 동일하다.In addition, as shown in FIG. 16, the anti-reflection layer 64 may be formed in the filter 60 as described above. The anti-reflection layer 64 is formed by alternating the low refractive index layer and the high refractive index layer, which is the same as described above.
이상 설명한 바와 같이 기재박막(66)을 포함하는 필터(60)의 구조는 이 외에도 다양하게 형성 가능한 데, 상기 외광 흡수층(61)이 기재박막(66)의 하면에 형성될 수도 있음은 물론이다.As described above, the structure of the filter 60 including the substrate thin film 66 may be variously formed, but the external light absorbing layer 61 may be formed on the bottom surface of the substrate thin film 66.
이렇게 기재박막(66)에 외광 흡수층(61)을 형성한 필터(60)를 접착층(67)을 개재하여 제 1 기판(51)의 상면에 부착한 후에는 상기 외광 흡수층(61)을 패널의 샤시부에 접지시켜 전자파 차폐의 기능을 수행하도록 할 수 있다.After attaching the filter 60 having the external light absorbing layer 61 to the substrate thin film 66 to the upper surface of the first substrate 51 via the adhesive layer 67, the external light absorbing layer 61 is attached to the chassis of the panel. It can be grounded to the part to perform the function of electromagnetic shielding.
그리고, 상기 외광 흡수층(61)은 전술한 바와 같이, 유전성 물질로 구비되어 도전성을 띠지 않도록 할 수도 있다. 다만, 이 때에도 역시 전자파 차폐를 위하여 투명한 도전성 물질로 구비된 도전층을 별도로 더 구비시켜 이 도전층이 패널 외측의 샤시부에 접지되도록 할 수 있다. 상기 투명한 도전층(65)은 ITO 등을 스퍼터링하여 형성할 수 있는 것으로, 도 17에서 볼 수 있듯이, 기재 박막(66)과 외광 흡수층(61)의 사이에 형성할 수도 있고, 도 18에서 볼 수 있듯이, 보호막 대신 상기 외광 흡수층(61)을 덮도록 증착시킬 수도 있다. 물론 이 밖에도 상술한 다양한 층상 구조들이 복합적으로 혼합된 구조로 형성할 수 있음은 물론이다.As described above, the external light absorbing layer 61 may be made of a dielectric material so as not to be conductive. In this case, however, a conductive layer made of a transparent conductive material may be further provided to shield the electromagnetic waves so that the conductive layer may be grounded to the chassis outside the panel. The transparent conductive layer 65 may be formed by sputtering ITO or the like. As shown in FIG. 17, the transparent conductive layer 65 may be formed between the substrate thin film 66 and the external light absorbing layer 61. As described above, the external light absorbing layer 61 may be deposited instead of the protective film. Of course, in addition to the above-described various layered structure may be formed of a complex mixed structure.
이처럼, 본 발명에 따른 필터(60)는 플라즈마 디스플레이 패널의 전면에 장착되어 외광 흡수층(61)을 구비해 블랙 매트릭스의 기능을 수행해 콘트라스트를 향상시킬 수 있으며, 도전성을 띠도록 하거나 별도의 도전층을 형성시켜 전자파 차폐 필터로서의 기능을 겸하도록 할 수 있다. 따라서, 블랙 매트릭스와 전자파 차폐 필터를 기판의 내측과 외측에 구비한 종래의 플라즈마 디스플레이 패널에 비해 휘도를 향상시키면서 동시에 콘트라스트를 높이는 효과를 얻을 수 있는 것이다.As such, the filter 60 according to the present invention may be mounted on the front surface of the plasma display panel to include an external light absorbing layer 61 to perform a function of a black matrix to improve contrast, and to provide a conductive or separate conductive layer. It can be formed so as to function as an electromagnetic shielding filter. Therefore, compared with the conventional plasma display panel provided with the black matrix and the electromagnetic wave shielding filter in the inside and the outside of the board | substrate, the effect which raises contrast and at the same time can acquire the effect.
이러한 본 발명의 효과를 하기 표 1에 나타내었다.These effects of the present invention are shown in Table 1 below.
표 1에는 비교예 1,2,3과 본 발명의 바람직한 일 실시예의 휘도와 콘트라스트를 비교한 데이터를 나타내었는 데, 비교예 1은 패널 내부에 블랙 매트릭스가 없고, 패널 외부에도 본 발명과 같은 외광 흡수층이 없이 ITO로 제 1,2 전극을 형성하고, 제 1,2 전극에 은(Ag)으로 버스 전극을 형성한 플라즈마 디스플레이 패널을 나타낸 것이고, 비교예 2는 제 1 기판에 별도의 블랙 매트릭스를 형성하지 않고, 다만 격벽의 상면에 흑색 유리 페이스트를 스크린인쇄에 의해 형성한 플라즈마 디스플레이 패널을 나타낸 것이며, 비교예 3은 제 1 기판의 내측면에 개구율 72% 블랙 매트릭스가 형성되어 있고, 제 1 기판의 외측면에 역시 개구율 72%의 메쉬상의 전자파 차폐 필터가 형성된 플라즈마 디스플레이 패널을 나타낸 것이다. 그리고, 실시예는 본 발명에 따라 제 1,2 전극을 ITO로 형성하고, 이들 제 1,2 전극에 은(Ag)으로 버스 전극을 형성하며, 제 1 기판의 외측면으로 개구율 72%의 필터를 부착한 것이다.Table 1 shows data comparing the brightness and contrast of Comparative Examples 1, 2 and 3 with one preferred embodiment of the present invention. Comparative Example 1 does not have a black matrix inside the panel, and the same external light as the present invention outside the panel. The first and second electrodes are formed of ITO without an absorbing layer, and the plasma display panel is formed by forming a bus electrode with silver (Ag) on the first and second electrodes. The present invention relates to a plasma display panel in which black glass paste is formed by screen printing on the upper surface of the partition wall without forming. In Comparative Example 3, a black matrix having a 72% opening ratio is formed on the inner surface of the first substrate. A plasma display panel in which an electromagnetic shielding filter on a mesh having an opening ratio of 72% is also formed on the outer surface of the substrate. In the embodiment, the first and second electrodes are formed of ITO according to the present invention, the bus electrodes are formed of silver (Ag) on the first and second electrodes, and a filter having an opening ratio of 72% to the outer side of the first substrate Is attached.
상기 표 1에서 볼 수 있듯이, 블랙 매트릭스의 구조가 전혀 없는 경우인 비교예 1에서는 휘도는 매우 높게 나왔으나, 콘트라스트가 떨어짐을 알 수 있고, 격벽 상면에 블랙처리를 한 비교예 2에서도 그 콘트라스트는 그다지 높지 않음을 알 수 있다. 또한, 블랙 매트릭스와 전자파 차폐 필터를 구비한 비교예 3에서는 콘트라스트는 높게 나왔으나, 휘도가 떨어짐을 알 수 있고, 본 발명에 따른 실시예의 경우에는 적정한 콘트라스트와 역시 높은 휘도를 얻을 수 있음을 알 수 있다.As can be seen from Table 1, in Comparative Example 1, which has no structure of the black matrix, the brightness is very high, but the contrast is deteriorated, and the contrast is also obtained in Comparative Example 2 in which the black surface is treated on the partition wall. It can be seen that it is not so high. In addition, in Comparative Example 3 having a black matrix and an electromagnetic shielding filter, the contrast was high, but the luminance was lowered. In the case of the embodiment according to the present invention, it can be seen that an appropriate contrast and also a high luminance were obtained. have.
아울러 상기와 같은 본 발명의 필터(60)에는 적외선을 차단하는 색소나 590nm 부근의 파장을 흡수하는 색소 등 소정 파장의 빛을 흡수하는 색소들을 적어도 하나 이상 첨가시켜 화상의 품위와 패널의 기능을 더욱 향상시킬 수 있고, 반사방지층을 구비하여 외광의 반사를 차단하는 효과를 더욱 증대시킬 수 있다.In addition, the filter 60 of the present invention as described above further adds at least one dye that absorbs light of a predetermined wavelength, such as a pigment that blocks infrared rays or a pigment that absorbs wavelengths around 590 nm to further improve the image quality and function of the panel. The antireflection layer can be improved, and the effect of blocking the reflection of external light can be further increased.
본 발명에 따른 필터를 구비한 플라즈마 디스플레이 패널에 의하면 다음과 같은 효과를 얻을 수 있다.According to the plasma display panel provided with the filter according to the present invention, the following effects can be obtained.
첫째, 플라즈마 디스플레이 패널 내부의 블랙 매트릭스와 패널 외부의 전자파 차폐 필터의 구조를 단일의 외광 흡수층으로 형성함으로써 개구율을 더욱 향상시켜 휘도를 증대시킬 수 있으며, 동시에 콘트라스트를 높일 수 있다.First, by forming the structure of the black matrix inside the plasma display panel and the electromagnetic shielding filter outside the panel as a single external light absorbing layer, the aperture ratio can be further improved to increase the luminance and at the same time increase the contrast.
둘째, 블랙 매트릭스의 기능을 하는 필터 자체가 전자파 차폐기능을 겸할 수 있다.Second, the filter itself, which functions as a black matrix, can serve as an electromagnetic shielding function.
셋째, 필터에 소정 파장의 빛을 흡수할 수 있는 색소층을 구비하여 적외선 또는 590nm 부근 파장의 빛을 차단하여 주변 전자기기에 영향을 미치지 않도록 할 수 있으며, 화상 품위가 더욱 향상되도록 할 수 있다.Third, the filter may be provided with a dye layer capable of absorbing light having a predetermined wavelength to block infrared light or light at a wavelength near 590 nm so as not to affect surrounding electronic devices, and to improve image quality.
넷째, 블랙 매트릭스의 구조를 외부에서 부착 가능한 필터로서 형성함으로써 공정의 단순화를 기할 수 있고, 생산성을 향상시킬 수 있다.Fourth, by forming the structure of the black matrix as an externally attachable filter, the process can be simplified and productivity can be improved.
본 명세서에서는 본 발명을 한정된 실시예를 중심으로 설명하였으나, 본 발명의 사상적 범위내에서 다양한 실시예가 가능하다. 또한 설명되지는 않았으나, 균등한 수단도 또한 본 발명에 그대로 결합되는 것이라 할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 보호범위는 아래의 특허청구범위에 의하여 정해져야 할 것이다.In the present specification, the present invention has been described with reference to limited embodiments, but various embodiments are possible within the spirit of the present invention. In addition, although not described, equivalent means will also be referred to as incorporated in the present invention. Therefore, the true scope of the present invention will be defined by the claims below.
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