KR200370586Y1

KR200370586Y1 - 생산설비의 배기가스 제어장치

Info

Publication number: KR200370586Y1
Application number: KR20-2004-0022138U
Authority: KR
Inventors: 전봉재
Original assignee: 전봉재
Priority date: 2004-08-03
Filing date: 2004-08-03
Publication date: 2004-12-17

Abstract

본 고안은 스트립 공정, 에칭 공정 등을 필수적으로 실행하는 반도체, LCD 생산 공정 등의 제조 산업에서 다량으로 발생되는 화학적 성분과 수분을 효율적으로 제어하여 배기 시키기 위한 생산설비에서의 배기가스 제어장치에 관한 것이다.

본 고안에 따른 생산설비의 배기가스 제어장치는, 생산설비의 운전중 임의의 공정에서 조성되는 수분 및 화학물질이 함유된 배기가스를 목적지로 이송하는 메인덕트와, 상기 메인덕트를 통해 이송되는 배기가스를 농축기를 통해 흡착 농축하여 여과 정화된 공기를 방출하는 재처리 시스템으로 이루어지는 생산설비의 제어장치에 있어서, 상기 제어장치는, 상기 메인덕트의 유로 상에 설치되어 배기가스를 유입하는 입구를 구비하고, 상기 재처리 시스템으로 유동되는 배기가스를 사이클론 유동으로 유도하기 위해 상부가 넓고 하부로 갈수록 좁게 형성되어 배기가스 중 수분을 액상 입자로 조성하는 사이클론트랩과. 상기 사이클론트랩의 외부를 형성하고 배기가스의 유동공간을 형성하여 배기가스를 상기 재처리 시스템으로 보내는 출구를 구비하는 사이클론트랩 하우징과, 상기 사이클론트랩 하우징과 결합되어 액상의 수분 입자를 열교환 시키는 냉수코일을 구비하는 열교환부와, 상기 열교환부와 결합되어 열교환된 액상의 수분을 배출하는 배출부로 이루어지는 것을 특징으로 한다.

Description

생산설비의 배기가스 제어장치{Exhaust control system of installation production}

반도체 제조 설비 및 액정디스플레이 제조 설비는 가공물의 연마를 위한 스트립 공정(Strip), 가공물의 도금을 포함한 산 세척, 부식, 전해 연마 등의 에칭 공정 (Etching) 등을 필요로 한다.

도 1은 화학적 처리를 갖는 반도체 및 LCD 생산 공정에서 중요한 스트립 공정(10)과 에칭 공정(20) 그리고 여기서 발생되는 배기가스 처리를 도식적으로 나타낸 것이다.

즉, 스트립 공정(10)과 에칭 공정(20)을 통해 가공물을 원하는 상태로 가공하고 이는 다시 린스공정(30)을 통해 재처리 과정을 거친다.

이때, 상당량의 화학적 물질과 반응 물질은 가공물의 가공과 세척에 사용되고, 그 과정에서 화학 반응으로 나타나는 배기가스는 이송관(41)을 통해 메인덕트(40)로 보내 강제로 재처리하여 배기 시킨다. 여기서, 메인덕트(40)로 보내는 배기가스는 스트립, 에칭 공정(10)(20), 또는 린스 공정(30) 등에서 택일적으로 보내거나 동시에 보낼 수 있다.

메인덕트(40)로 이송되거나 반송되어 배기 되는 배기가스에는 입자성 수분과 화학 성분 등을 다량으로 함유하고 있으며, 이러한 가공물 생산 과정에서 발생되는 배기가스를 그대로 대기중으로 방출시키면 대기오염원이 되어 재처리 시스템(50)을 별도로 운영하여 여과 및 정화 처리하게 되는데, 재처리 시스템(50)으로는 보통 지오라이트(Zeolite) 농축기를 사용하고, 이 농축기는 농도가 낮은 물질을 흡착 농축시켜 제거하는데 효율적이어서 반도체 및 LCD 생산 설비의 배기가스 처리용으로 운용상 적당하지만, 지오라이트가 수분에 대한 처리 효율이 현저히 떨어져 수분이 접촉되면 효율이 급격히 저하되는 특성이 있다.

한편, 발생된 배기가스의 처리효율은 정해진 메인덕트(40)를 통해 재처리 시스템(50)측으로 원만히 이송시켜 재처리 시스템(50)에서 만족할만한 배기가스 처리 결과를 얻는 것이지만, 재처리 시스템(50)에 도달하기 전후 과정에서 다량의 수분과 화학성분이 메인덕트(40) 이송도중 응축되어 메인덕트(40)에 고이는 현상이 발생한다.

특히, 솔벤트류를 사용하는 스트립 공정(10)의 배기로부터 유입되는 수분은 재처리 시스템(50)의 농축기로 직접 유입되어 배기가스의 흡착 농축 처리 효율을 현저히 떨어뜨리는 문제점이 있었다.

도 2는 반도체 및 LCD 생산 설비(60)에서 발생되는 배기가스 처리를 위해, 지오라이트 농축조를 갖는 재처리 시스템(50)에 의한 배기가스 처리 효율 저하를 방지하기 위한 종래의 배기 제어장치 구성 예로서, 재처리시스템(50)을 향하는 배기 메인덕트(40)의 일단에 터미널박스(61)를 설치하여 수분을 제거하여 배기가스만 재처리 시스템(50)으로 보내기 위한 것이다. 이 구조는 터미널박스(61)를 통해 수분을 중력 낙하시켜 회수하여 가스만 재처리 시스템(50)으로 보내기 위한 구조이지만, 메인덕트(40)를 따라 흐르거나 재처리 시스템(50)을 통해 작용하는 유동 기류에 의해 수분 입자가 충분히 수거되지 못하고 그대로 재처리 시스템(50)으로 이동하는 현상이 발생되어 재처리 시스템(50) 농축기에 의한 충분한 흡착 농축 효과를 얻지 못하는 단점이 있었다.

도 3은 도 2의 경우와 마찬가지로 메인덕트를 따라 유동하는 배기가스에 포함된 수분을 제거하여 재처리 시스템(50)으로 보내주기 위한 구조로서, 재처리 시스템(50)으로 연결되는 지점의 전방 부근 메인덕트(40)에 냉수코일하우징(43)을 설치하고, 이 냉수코일하우징(43)에 냉수코일(42)을 장착하여 냉각수공급(44)을 통해 냉수코일(42)과 메인덕트(40)를 유동하는 배기가스를 열교환 시켜 재처리 시스템(50)으로 향하는 배기공기를 건공기로 변화시켜 수분이 제거되도록 한 구조이며, 냉수코일(42)을 따라 흐르는 냉각수는 냉수배출(45)이 되도록 한 구조이다.

그러나, 이 구조는 메인덕트(40)를 향하는 배기가스 공기의 풍력을 강하게 유지시키기 위하여 대풍량이 필요하여 인위적으로 조성된 고압대의 송풍량이 필요하여 에너지 소모가 많고, 또한 지속적으로 냉각수를 공급하여 열교환 시켜야 하며, 열교환 과정에서 냉수코일(42) 표면상에 지속적으로 수분이 발생되어 그대로 재처리시스템(50)으로 이동되어 수분의 충분한 제거 목적을 달성할 수 없는 문제점이 있었다.

이렇게 종래에는 반도체, LCD 등의 생산 및 제조 설비 운전 및 그 공정에서 다량으로 발생되는 화학성분과 오염물을 재처리 시스템을 통해 효과적으로 처리하기 위하여 수분입자의 중력낙하에 의한 회수, 열교환을 통한 건조공기의 조성 등 재처리 시스템을 통해 적합한 배기공기를 만들어 주기 위하여 다양한 시도가 있었으나, 배기가스에 포함된 수분 제거를 위해 대풍량 조성 등의 인위적인 운전 조성이 지나치게 커서 효율이 떨어졌고, 그 결과 또한 유동공기를 따라 수분의 유동을 충분히 제어할 수 없는 문제점이 있었다. 또한 수분이 지속적으로 재처리 시스템으로 유입되어 수명을 단축시키는 문제점도 있었다.

따라서, 본 고안의 목적은, 반도체 및 LCD 등의 생산을 위해 화학적 처리 운전 및 공정을 갖고 배기가스의 재처리가 필요한 산업 제조 설비에 비교적 간단한 구조로 적용하여 배기가스의 처리효율을 높힐 수 있는 배기가스 제어장치를 제공하는 것이다.

본 고안의 다른 목적은, 화학적 처리 운전 및 공정을 갖고 배기가스의 재처리가 필요한 산업 제조 설비의 배기가스 처리에 있어서, 수분에 포함된 화학물질을 회수하여 재활용할 수 있는 제어장치를 제공하는 것이다.

본 고안의 또 다른 목적은, 화학적 처리 운전 및 공정을 갖고 배기가스의 재처리가 필요한 산업 제조 설비의 배기가스 처리에 있어서, 유동 배기가스의 인위적인 조성 없이 수분의 고 회수율을 갖는 배기가스 제어장치를 제공하는 것이다.

이러한 목적을 달성하기 위한 본 고안에 따른 생산설비의 배기가스 제어장치는,

생산설비의 운전중 임의의 공정에서 조성되는 수분 및 화학물질이 함유된 배기가스를 목적지로 이송하는 메인덕트와,

상기 메인덕트를 통해 이송되는 배기가스를 농축기를 통해 흡착 농축하여 여과 정화된 공기를 방출하는 재처리 시스템으로 이루어지는 생산설비의 제어장치에 있어서,

상기 제어장치는,

상기 메인덕트의 유로 상에 설치되어 배기가스를 유입하는 입구를 구비하고, 상기 재처리 시스템으로 유동되는 배기가스를 사이클론 유동으로 유도하기 위해 상부가 넓고 하부로 갈수록 좁게 형성되어 배기가스 중 수분을 액상 입자로 조성하는 사이클론트랩과.

상기 사이클론트랩의 외부를 형성하고 배기가스의 유동공간을 형성하여 배기가스를 상기 재처리 시스템으로 보내는 출구를 구비하는 사이클론트랩 하우징과,

상기 사이클론트랩 하우징과 결합되어 액상의 수분 입자를 열교환 시키는 냉수코일을 구비하는 열교환부와,

상기 열교환부와 결합되어 열교환된 액상의 수분을 배출하는 배출부로 이루어지는 것을 특징으로 한다.

본 고안의 다른 특징은, 생산설비의 운전중 임의의 공정에서 조성되는 수분 및 화학물질이 함유된 배기가스를 목적지로 이송하는 메인덕트와,

상기 제어장치는,

상기 사이클론트랩을 통해 조성된 액상의 수분입자를 집수하여 배출하기 위해 상기 사이클론트랩 하우징과 결합된 배출부로 이루어지는 것을 특징으로 한다.

도 1은 생산설비에서의 배기가스 발생과 그 처리를 설명하기 위한 도식도

도 2는 종래의 배기가스 제어장치의 구성 예를 설명하기 위한 참고도

도 3은 종래의 또 다른 배기가스 제어장치의 구성 예를 설명하기 위한 참고도

도 4는 본 고안의 실시 예에 따른 생산설비의 배기가스 제어장치의 구성을 설명하기 위한 참고 사시도

도 5는 본 고안의 실시 예에 따른 배기가스 제어장치의 동작을 설명하기 위한 참고도

도 6은 본 고안의 실시 예에 따른 열교환부의 다른 구성 예를 설명하기 위한 도면

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>

40 : 메인덕트 50 : 재처리시스템

70 : 제어장치 71 : 입구

72 : 출구 73 : 하우징 캡

74 : 사이클론트랩 하우징 75 : 열교환부

76 : 집수조 77 : 드레인파이프

78 : 플로트 79.79a : 냉수코일

80 : 플랜지 81 : 사이클론트랩

82 : 유출홈 83 : 경사면

85 : 배출부

이하, 본 고안의 실시 예를 도면을 참고하여 상세히 설명하면 다음과 같다.

도 4는 본 고안의 실시 예에 따른 생산설비의 배기가스 제어장치의 구성을 설명하기 위한 참고 사시도 이다. 도 5는 본 고안의 실시 예에 따른 배기가스 제어장치의 동작을 설명하기 위한 참고도 이다.

도 6은 본 고안의 실시 예에 따른 열교환부의 다른 구성 예이다.

본 고안에 따른 생산설비의 배기가스 제어장치(70)는, 도 2 내지 도 5와 같이, 생산설비 운전중 임의의 공정에서 조성되는 수분 및 화학물질이 함유된 배기가스를 목적지로 이송하는 메인덕트(40)와, 상기 메인덕트(40)를 통해 이송되는 배기가스를 농축기를 통해 흡착 농축하여 여과 정화된 공기를 방출하는 재처리 시스템(50)으로 이루어진다.

주요부분은, 도 4 및 도 5와 같이, 메인덕트(40)의 유로 상에 설치되어 배기가스를 유입하는 입구(71)를 구비하고, 상기 재처리 시스템(50)으로 유동되는 배기가스를 사이클론 유동으로 유도하기 위해 상부가 넓고 하부로 갈수록 좁게 경사면(83)으로 형성되어 배기가스 중 수분을 액상 입자로 조성하는 사이클론트랩(81)과, 상기 사이클론트랩(81)의 외부를 형성하고 배기가스의 유동공간을 형성하여 배기가스를 상기 재처리 시스템(50)으로 보내는 출구(72)를 구비하는 사이클론트랩 하우징(74)과, 상기 사이클론트랩 하우징(74)과 결합되어 액상의 수분 입자를 열교환 시키는 냉수코일(79)을 구비하는 열교환부(75)와, 상기 열교환부(75)와 결합되어 열교환된 액상의 수분을 배출하는 배출부(85)로 이루어진다.

또한 본 고안은, 메인덕트(40)의 유로 상에 설치되어 배기가스를 유입하는 입구(71)를 구비하고, 상기 재처리 시스템(50)으로 유동되는 배기가스를 사이클론 유동으로 유도하기 위해 상부가 넓고 하부로 갈수록 좁아지는 경사면(83)으로 형성되어 배기가스 중 수분을 액상 입자로 조성하는 사이클론트랩(81)과, 상기 사이클론트랩(81)의 외부를 형성하고 배기가스의 유동공간을 형성하여 배기가스를 상기 재처리 시스템(50)으로 보내는 출구(72)를 구비하는 사이클론트랩 하우징(74)과, 상기 사이클론트랩(81)을 통해 조성된 액상의 수분입자를 집수하여 배출하기 위해 상기 사이클론트랩 하우징(74)과 결합된 배출부(85)로 이루어질 수 있다.

또한, 상기 사이클론트랩(81)은 원추형으로 형성되며, 그 말단은 수분 유출홈(82)을 구비하여 구성된다.

또한, 상기 사이클론트랩(81)에 형성되는 배기가스 입구(71)는 사이클론트랩(81)의 상단부 일측에 일체형으로 형성될 수 있다. 여기서, 배기가스 입구(71)는 사이클론트랩(81)과 일체형이 아닌 분리형으로 형성될 수 있으나, 배기가스의 사이클론 유동이 사이클론트랩(81)의 전체 체적에서 나타나 효율적인 공간을 이용할 수 있도록 배기가스 입구(71)의 위치는 상단부에 두는 것이 바람직하다.

또한, 상기 사이클론트랩 하우징(74)은, 상기 사이클론트랩(71)과 분리형으로 형성되며, 상부는 하우징 캡(73)을 구비하여 사이클론트랩(81)을 분해할 수 있도록 구성되며, 단부상으로는 상대 구조물과 플랜지 결합으로 분해 결합 가능한 플랜지(80)를 구비할 수 있다.

또한, 상기 열교환부(75)는, 상기 사이클론트랩(81)과 결합 가능한 플랜지(80)를 단부상에 구비하여 사이클론트랩 하우징(74)과 결합되도록 구성할 수 있다.

또한, 상기 열교환부(75)는 도 6과 같이 구성할 수 있다. 즉, 사이클론트랩(81)의 형상에 따라 형성되는 사이클론트랩(81)의 두께 상에 냉수코일(79a)을 냉수공급과 냉수배출이 가능하도록 설치하여 구성할 수 있다. 냉수코일(79a)을 사이클론트랩(81)을 따라 이와 같이 설치하면, 사이클론트랩(81) 내에서 유동되는 배기가스를 직접 열교환시켜 회수할 수 있게 된다.또한, 상기 배출부(85)는, 액상의 수분이 집수되는 하부측으로 갈수록 폭이 좁아지는 집수조 본체(76)와, 상기 집수조 본체(76) 내부에 안착되어 집수된 수분의 수면을 따라 부상하는 플로트(78)와, 상기 플로트(78)의 부상에 따라 집수된 상기 집수조 본체(76)내의 드레인수를 배출하는 드레인파이프(77)로 구성할 수 있다.

이와 같이 구성된 본 고안에 따른 생산설비의 배기가스 제어장치의 작용 및 효과를 도 4 및 도 6을 참고로 설명하면 다음과 같다.

본 고안에 따른 생산설비의 배기가스 제어장치는, 반도체, LCD생산 공장 등과 같은 산업 현장 생산설비 운용중 발생되는 화학물질 등의 배기가스를 지오라이트 농축조 등을 운용하여 흡착 농축 등의 방법으로 배기가스를 정화 처리하는 재처리 시스템(50)의 처리 효율 및 성능을 안정적으로 유지하기 위하여 배기가스를 재처리 효율에 맞게 사전에 조성하기 위한 제어장치이다.

즉, 배기가스에 함유된 수분은 흡착 농축조에 의한 재처리에서 치명적인 문제를 야기 시켜 종전에는 배기가스에 함유된 수분을 사전 제거하여 재처리 시스템(50)으로 보내기 위하여 건조 및 열교환 등의 방법으로 배기가스를 조성하는 방법이 알려져 있으나, 만족할만한 배기가스 조성은 앞서 설명한 바와 같이 미흡했다.

본 고안은 배기가스를 사이클론 유동으로 활성화시킨 뒤 수분은 낙하시켜 집수하고 가스만을 분리하여 재처리 시스템(50)으로 보내주도록 되어 있다.

도 5와 같이, 메인덕트(40)를 따라 유동되는 배기가스는 초기에 사이클론트랩(81)의 상단부에 마련된 입구(71)를 따라 유입되어 사이클론트랩(81)의 내부를 유동한다. 이 과정에서 배기가스는 사이클론 회전작용을 나타내면서 하부로 갈수록 좁아지는 체적으로 밀도가 높아지면서 배기가스에 포함된 수분 알갱이 입자를 유출홈(82)을 중심으로 모으고 가스는 유출홈(82)을 통해 사이클론트랩(81)의 외부를 두르고 있는 사이클론트랩 하우징(74)의 빈 공간을 통해 출구(72)를 따라 유동시켜 재처리 시스템(50)으로 내보내서 최종척으로 수분이 없는 건조된 가스만을 재처리 시스템(50)으로 보내 배기가스의 처리 효율을 높혀 주는 작용을 한다.

한편, 사이클론트랩(81)의 유출홈(82)을 따라 낙하되는 수분 입자는 그 하부에 마련된 배출부(85)의 집수조(76)에 고이게 되어 그 고이는 수분은 수위를 변동시켜 플로트(78)를 수면위로 부상시키며 플로트(78)의 부상으로 드레인파이프(77)쪽으로 통하는 통로가 열려 드레인수로 배출시킨다. 집수조(76)를 통해 고가의 화학물질과 물 등으로 분류시켜 고가의 화학물질은 회수하여 재 사용할 수 있도록 할 수 있고, 물은 그대로 방출시킬 수 있다.

여기서, 사이클론트랩(81)의 유출홈(82)을 따라 집수되는 수분을 열교환시켜 배출하면 수분입자의 회수율을 더 높일 수 있다. 즉, 사이클론트랩 하우징(74)과 플랜지(80) 등의 결합으로 냉수코일(79)을 구비하는 열교환부(75)에 의해 사이클론트랩(81)을 통해 분류된 수분 입자를 단 시간에 냉수코일(79)을 통해 열교환시켜 드레인수로 배출시킬 수 있으며, 도 6과 같이 사이클론트랩(81)의 두께 상에 냉수코일(79a)을 직접 설치하여 유동되는 배기가스를 열교환시켜 수분으로 배출시킬 수 있다.

이와 같이 본 고안에 따른 배기가스 제어장치를 반도체 및 LCD 제조 설비 등에 적용하는 경우 재처리 시스템에 의한 배기가스의 처리 효율을 항상 시킬 수 있고, 또한 배기가스에 포함된 수분을 효과적으로 회수하여 이중 고가의 화학 성분은 회수하여 재활용이 가능하면서도 배기가스의 인위적 조성에서 별도의 보조장비 없이 연속적인 운용이 가능하다.

이상에서 살펴본 바와 같이 본 고안에 따른 생산설비의 배기가스 제어장치는, 반도체 및 LCD 등의 생산을 위해 화학적 처리 운전 및 공정을 갖고 배기가스의 재처리가 필요한 산업 제조 설비에 비교적 간단한 구조로 적용하여 배기가스의 처리효율을 높힐 수 있는 효과가 있다.

또한, 고안에 따른 배기가스 제어장치를 반도체 및 LCD 제조 설비 등에 적용하는 경우 재처리 시스템에 의한 배기가스의 처리 효율을 항상 시킬 수 있고, 배기가스에 포함된 수분을 효과적으로 회수하여 이중 고가의 화학 성분은 회수하여 재활용이 가능하면서도 배기가스의 인위적 조성에서 별도의 보조장비나 재정비 없이 연속적인 운용이 가능한 효과가 있다.

Claims

생산설비의 운전중 임의의 공정에서 조성되는 수분 및 화학물질이 함유된 배기가스를 목적지로 이송하는 메인덕트와,

상기 메인덕트를 통해 이송되는 배기가스를 농축기를 통해 흡착 농축하여 여과 정화된 공기를 방출하는 재처리 시스템으로 이루어지는 생산설비의 제어장치에 있어서,

상기 제어장치는,

상기 메인덕트의 유로 상에 설치되어 배기가스를 유입하는 입구를 구비하고, 상기 재처리 시스템으로 유동되는 배기가스를 사이클론 유동으로 유도하기 위해 상부가 넓고 하부로 갈수록 좁게 형성되어 배기가스 중 수분을 액상 입자로 조성하는 사이클론트랩과.

상기 사이클론트랩의 외부를 형성하고 배기가스의 유동공간을 형성하여 배기가스를 상기 재처리 시스템으로 보내는 출구를 구비하는 사이클론트랩 하우징과,

상기 사이클론트랩 하우징과 결합되어 액상의 수분 입자를 열교환 시키는 냉수코일을 구비하는 열교환부와,

상기 열교환부와 결합되어 열교환된 액상의 수분을 배출하는 배출부로 이루어지는 것을 특징으로 하는 생산설비의 배기가스 제어장치.
생산설비의 운전중 임의의 공정에서 조성되는 수분 및 화학물질이 함유된 배기가스를 목적지로 이송하는 메인덕트와,

상기 메인덕트를 통해 이송되는 배기가스를 농축기를 통해 흡착 농축하여 여과 정화된 공기를 방출하는 재처리 시스템으로 이루어지는 생산설비의 제어장치에 있어서,

상기 제어장치는,

상기 메인덕트의 유로 상에 설치되어 배기가스를 유입하는 입구를 구비하고, 상기 재처리 시스템으로 유동되는 배기가스를 사이클론 유동으로 유도하기 위해 상부가 넓고 하부로 갈수록 좁게 형성되어 배기가스 중 수분을 액상 입자로 조성하는 사이클론트랩과.

상기 사이클론트랩의 외부를 형성하고 배기가스의 유동공간을 형성하여 배기가스를 상기 재처리 시스템으로 보내는 출구를 구비하는 사이클론트랩 하우징과,

상기 사이클론트랩을 통해 조성된 액상의 수분입자를 집수하여 배출하기 위해 상기 사이클론트랩 하우징과 결합된 배출부로 이루어지는 것을 특징으로 하는 생산설비의 배기가스 제어장치.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,

상기 사이클론트랩은 원추형으로 형성되며, 그 말단은 수분 유출홈을 구비하는 것을 특징으로 하는 생산설비의 배기가스 제어장치.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,

상기 사이클론트랩에 형성되는 배기가스 입구는 사이클론트랩의 상단부 일측에 일체형으로 형성되고, 그 위치는 상단부에 구성하는 것을 특징으로 하는 생산설비의 배기가스 제어장치.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,

상기 사이클론트랩 하우징은, 상기 사이클론트랩과 분리형으로 형성되며, 상부는 하우징 캡을 구비하여 사이클론트랩을 분해할 수 있도록 구성되며, 단부상으로는 상대 구조물과 플랜지 결합으로 분해 결합 가능한 플랜지를 구비하는 것을 특징으로 하는 생산설비의 배기가스 제어장치.
제 1 항에 있어서,

상기 열교환부는, 상기 사이클론트랩과 결합 가능한 플랜지를 단부상에 구비하여 사이클론트랩과 결합되는 것을 특징으로 하는 생산설비의 배기가스 제어장치.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,

상기 배출부는, 액상의 수분이 집수되는 하부로 갈수록 폭이 좁아지는 집수조 본체와,

상기 집수조 본체 내부에 안착되어 집수된 수분의 수면을 따라 부상하는 플로트와,

상기 플로트의 부상에 따라 집수된 수분을 상기 집수조 본체로부터 배출하는드레인파이프로 이루어지는 것을 특징으로 하는 생산설비의 배기가스 제어장치.
제 1 항에 있어서,

상기 열교환부는, 사이클론트랩의 형상에 따라 형성되는 사이클론트랩의 두께 상에 냉수코일을 냉수공급과 냉수배출이 가능하도록 설치하여 구성한 것을 특징으로 하는 생산설비의 배기가스 제어장치.