KR20030069749A - A Cleaning Material Of Color Cathode Ray Tube Panel And The Cleaning Method Using The Same - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 칼라음극선관 패널 세척물질 및 패널 세척방법에 관한 것으로,칼라음극선관 제작시 발생되는 불량 패널의 흑연막과 형광막 및 금속반사막을 제거하여 패널을 재생하기 위한 약산성계 세척물질과 스프레이 세척방법, 초음파 세척방법, 디핑 세척방법 중 적어도 하나 이상을 사용하는 칼라음극선관 패널 세척물질 및 패널 세척방법에 관한 것이다.The present invention relates to a color cathode ray tube panel cleaning material and a method for cleaning the panel, and to remove the graphite film, fluorescent film and metal reflective film of the defective panel generated during the production of color cathode ray tube, weakly acidic cleaning material and spray cleaning for regenerating the panel. The present invention relates to a color cathode ray tube panel cleaning material and a panel cleaning method using at least one of a method, an ultrasonic cleaning method and a dipping cleaning method.
칼라음극선관은 네크부의 전자총이 전자빔을 발생시키고, 상기 전자빔이 편향 요크에 의해 상하좌우로 편향되어 새도우마스크의 슬롯을 통과하면서 색선별이 이루어지고, 선별된 전자빔이 패널 내면의 형광막에 충돌하여 발광함으로써 영상신호를 재현하는 것이다.In the color cathode ray tube, the electron gun of the neck portion generates an electron beam, the electron beam is deflected up, down, left and right by the deflection yoke, passes through the slots of the shadow mask, and color separation is performed, and the selected electron beam collides with the fluorescent film inside the panel. By emitting light, a video signal is reproduced.
이러한 칼라음극선관의 제조공정에서, 일반적인 도포 공정 즉, 흑연(블랙매트릭스) 도포 공정과 녹, 청, 적의 형광체 도포 공정, 포토 레지스터 노광 공정, 현상 공정, 중간막(락카) 공정, 금속반사막(알루미늄막) 공정등을 거치면서 도포 불량이 발생한다. 이때 발생한 불량 패널은 즉시 폐기하지 않고 패널 내면에 형성된 흑연, 형광막, 중간막, 금속반사막 등을 제거한 후 재사용하게 된다. 그리고, 패널은 포함하고 있는 Si 성분끼리의 강한 공유 결합상태인 Si-Si 로 결합되어 있거나 Si-O-Si로 결합되어 있다.In the manufacturing process of such a color cathode ray tube, a general coating process, that is, a graphite (black matrix) coating process, a rust, blue, red phosphor coating process, a photoresist exposure process, a developing process, an intermediate film (lacquer) process, a metal reflective film (aluminum film) ) Poor coating occurs during the process. The defective panel generated at this time is not immediately discarded and is reused after removing the graphite, fluorescent film, intermediate film, and metal reflective film formed on the inner surface of the panel. In addition, the panels are bonded by Si-Si which is a strong covalent state of Si components contained therein or by Si-O-Si.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 종래 기술에 의한 칼라음극선관 패널 세척물질 및 패널 세척방법을 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a color cathode ray tube panel cleaning material and a panel cleaning method according to the prior art will be described with reference to the accompanying drawings.
도 1은 종래의 일반적인 용제 세척 작용도이다. 도 1과 같이, 제거될 대상(101)은 세척제인 용제(102)와 접촉하여 접촉부분(103)을 태워 상기 제거 대상(101)으로부터 분리시키고, 상기 접촉 부분(103)은 주변의 상기 용제(102)에의해 유화되어 침전물(104)이 된다. 이러한 방법을 상기 제거 대상(101)이 모두 침전물(104)이 될 때까지 반복하여 상기 제거 대상(101)을 부착물로부터 제거하여 세척하는 것이다.1 is a conventional general solvent washing action. As shown in FIG. 1, the object to be removed 101 contacts the solvent 102, which is a cleaning agent, burns the contact part 103 and separates it from the object to be removed 101, and the contact part 103 is formed around the solvent ( Emulsified by 102 to form precipitate 104. This method is to repeatedly remove the object to be removed 101 from the deposit until the object to be removed (101) is all precipitate 104 to wash.
도 2는 종래의 가성(독성)알칼리 및 강산 세척 작용도이다. 도 2와 같이, 제거될 대상(101)은 강산 또는 부식성 염기(150)와 접촉하면 상기 제거 대상(101)이 상기 강산 또는 부식성 염기(150)와 결합하게 된다. 그러면, 상기 대상(101)은 유화되어 난분해성 침전물(151)을 형성한다. 즉, 유기성분을 식각하는 방식으로 세척한다.2 is a conventional caustic (toxic) alkali and strong acid washing action. As shown in FIG. 2, when the object to be removed 101 contacts the strong acid or the corrosive base 150, the object to be removed 101 is combined with the strong acid or the corrosive base 150. Then, the object 101 is emulsified to form a hardly decomposable precipitate 151. That is, the organic component is washed by etching.
그 예로, 종래의 칼라음극선관 패널 세척물질은 형광막과 흑연 등을 제거할 목적으로 불산과 같은 강산을 사용하고 패널 세척 방법으로 고압 스프레이 방식을 사용하였다. 그러나, 유리 성분중 실리카는 약산들과는 반응하지 않으나 불산에서 나온 강한 루이스 염기인 불소이온(F-)과는 반응하여 6 플루오르 규소산 이온을 형성한다. 즉,For example, the conventional color cathode ray tube panel cleaning material uses a strong acid such as hydrofluoric acid for the purpose of removing the fluorescent film and graphite, and a high pressure spray method as the panel cleaning method. However, in the glass component, silica does not react with weak acids but with fluorine ion (F − ), a strong Lewis base from hydrofluoric acid, to form hexafluorosilicon ions. In other words,
SiO2(s) + 6HF ----> SiF6 2-(aq) + 2H3O+(aq)SiO 2 (s) + 6 HF ----> SiF 6 2- (aq) + 2H 3 O + (aq)
이외에 실리카는 또한 뜨거운 용융 수산화나트륨내에서 루이스 염기인 OH-및 용융탄산나트륨의 탄산 음이온의 루이스 염기인 O2-와 화학반응을 일으킨다. 그러므로, 상기 유리는 불산에 세척되는 것이 아니라 유리 성분이 제거되는 것이다. 또는In addition, silica also chemically reacts with Lewis base OH − and Lewis base O 2 − of the carbonate anion of molten sodium carbonate in hot molten sodium hydroxide. Therefore, the glass is not washed in hydrofluoric acid but the glass component is removed. or
n HF + SiO2----> SiF4+ 2H2O + n H + n Fn HF + SiO 2 ----> SiF 4 + 2H 2 O + n H + n F
2 HF + SiF4----> H2SiF6 2 HF + SiF 4 ----> H 2 SiF 6
로, 이때 반응하지 않고 남아있는 HF는 가스로 방출된다. H2SiF6는 유리표면에 묻으면 세정공정에서도 제거가 힘들며, 또한 잔류의 H2SiF6는 젤 상태로서 불산 탱크 전체의 약품 점도를 증가시켜 약품수명 단축에 많은 영향을 준다. 이런 산류와 부식성 염기류를 세척물질로 이용한 경우에는, 약품의 유화현상으로 난분해성 침전물(sludge)이 발생하게 되고, 산의 수소이온이 결합하면서 부착물을 제거하므로 시간이 경과되면 수소이온이 줄어들어 pH가 상승되어 쉽게 세척물질이 노화되므로 세척력이 급격히 감소하게 된다.In this case, HF remaining without reacting is released as a gas. H 2 SiF 6 is difficult to remove even in the cleaning process when it is on the glass surface, and the residual H 2 SiF 6 is in the form of a gel to increase the chemical viscosity of the entire hydrofluoric acid tank, which has a significant effect on reducing the chemical life. When these acids and corrosive bases are used as cleaning materials, hardly degradable sludge occurs due to emulsification of chemicals, and hydrogen ions are reduced and pH decreases as time elapses since hydrogen ions of the acid combine to remove deposits. As the cleaning material is easily aging, the cleaning power is rapidly decreased.
그러므로, 고압 스프레이 방식으로 세척물질을 계속 교체, 주입해야 하므로, 소모량이 매우 커서 비용적인 문제가 발생하고, 또한 산류와 부식성 염기류는 인체에 치명적이고 설비 및 금속 등을 부식시키며, 환경 규제에 위배됨으로 특수 정화 시설등이 필요하게 된다.Therefore, it is necessary to continuously replace and inject cleaning materials by the high pressure spray method, so the consumption is very large and costly problems occur. In addition, acids and corrosive bases are fatal to the human body and corrode equipment and metals, and they are in violation of environmental regulations. Special purification facilities are necessary.
이외에, 불화암모늄계 세척제를 사용하거나, 불화암모늄계와 무기산 중 인산등을 함께 사용하는 경우가 있다. 이 경우에도 이온 반응으로 인해 세척 가능 시간이 줄어들어 약품의 노화가 빨리 오는 경우도 있고, 제거된 세척물이 다시 유리 표면에 부착되는 경우도 있다. 그러나, 유리에 대한 식각 능력은 불산에 비하여 매우 약하다. 따라서, 유리 패널 자체의 자재 불량이나 일부 홈 또는 튀어나온 피트(PIT)를 불산만큼 제거할 수 없다. 그러므로, 피트가 남아 있으면, 세척 후 흑연 또는 형광막의 도포 공정에서 피트로 인하여 도트 불량이 발생하고, 치명적인 품질 문제로 연결되고 있다. 따라서, 불산을 사용시에는 환경, 안전, 도포성등의 문제가 발생하고, 불화암모늄계를 이용시에는 유리의 피트로 인한 품질 및 생산성 저하 문제가 발생하게 된다.In addition, an ammonium fluoride-based cleaning agent may be used, or an ammonium fluoride-based and phosphoric acid among inorganic acids may be used together. In this case, the ionic reaction may reduce the washable time, which may lead to rapid aging of the chemical, and the removed washing may be attached to the glass surface again. However, the etching ability for glass is very weak compared to hydrofluoric acid. Therefore, material defects or some grooves or protruding pits of the glass panel itself cannot be removed by hydrofluoric acid. Therefore, if the pit remains, dot defects occur due to the pit in the application process of the graphite or fluorescent film after washing, which leads to a fatal quality problem. Therefore, when using hydrofluoric acid, problems such as environment, safety and applicability occur, and when using ammonium fluoride, problems of deterioration in quality and productivity due to pit of glass occur.
불산, 불화암모늄 또는 불화암모늄과 인산등을 세척물질로 사용하고 고압 스프레이 방법으로 세척할 때 상기와 같은 칼라음극선관 패널 세척물질 및 패널 세척방법은 다음과 같은 문제점들이 있다.When using hydrofluoric acid, ammonium fluoride or ammonium fluoride and phosphoric acid as a cleaning material and washing with a high pressure spray method, the color cathode ray tube panel cleaning material and panel cleaning method as described above have the following problems.
첫째, 불산 사용시, 패널 표면 에칭에 의한 기판 표면의 식각이 발생하여 패널에 심각한 손상을 가져오므로 흑연막과 형광막등의 커팅성(cutting)등을 저해한다.First, when the hydrofluoric acid is used, the substrate surface is etched by the panel surface etching, which causes serious damage to the panel, thereby inhibiting the cutting of the graphite film and the fluorescent film.
둘째, 불산 사용시, 불균일 식각으로 인한 불균일 pH막이 형성된다.Second, when using hydrofluoric acid, a non-uniform pH film is formed due to non-uniform etching.
셋째, 불산 사용시, 침전물인 규산화물의 엉김 현상에 의한 설비 보수가 필요하다.Third, when using hydrofluoric acid, it is necessary to repair the equipment by entanglement of the precipitated silica oxide.
넷째, 불산 사용시, 설비의 부식을 촉진한다.Fourth, in the use of hydrofluoric acid, promote corrosion of the equipment.
다섯째, 불산 사용시, 작업 환경이 불안전하디.Fifth, the working environment is unstable when using Foshan.
여섯째, 불산 사용시, 불소이온 발생에 따른 폐수처리 비용이 발생한다.Sixth, when using hydrofluoric acid, waste water treatment costs are generated due to the generation of fluoride ions.
일곱째, 불화암모늄계 사용시, 유리의 피트로 인한 품질 및 생산성이 저하된다.Seventh, when using ammonium fluoride, quality and productivity due to pit of glass are degraded.
본 발명은 상기와 같은 문제점들을 해결하기 위하여 안출한 것으로, 세척물질로 약산성 혼산계 세척제를 사용하므로 유리의 피트 불량은 제거하고, 패널 식각은 적으며, 설비 부식이 적고, 인체자극 및 화상 위험이 적고, 폐수 처리가 용이하고, 그리고, 스프레이 세척방법, 초음파 세척방법, 디핑(담금, dipping) 세척방법 중 적어도 하나 이상의 방법으로 세척하기가 용이한 칼라음극선관 패널 세척물질 및 패널 세척방법을 제공하는 데 그 목적이 있다.The present invention has been made in order to solve the above problems, the use of weakly acidic mixed acid-based cleaning agent as a cleaning material to eliminate the pit defect of the glass, less panel etching, less corrosion of the equipment, risk of irritation and burns To provide a color cathode ray tube panel cleaning material and a panel cleaning method, which is easy to treat waste water, and easy to clean by at least one of spray cleaning method, ultrasonic cleaning method, dipping cleaning method. Its purpose is to.
도 1은 종래의 일반적인 용제 세척 작용도.1 is a conventional general solvent washing action.
도 2는 종래의 알칼리 및 강산 세척 작용도.Figure 2 is a conventional alkali and strong acid washing action.
도 3a와 도 3b는 본 발명의 세척제 세척 작용도.Figure 3a and Figure 3b is a detergent cleaning action of the present invention.
도 4a는 불량 패널의 확대도.4A is an enlarged view of a defective panel.
도 4b는 종래의 세척제를 사용하여 세척한 패널의 확대도.4b is an enlarged view of a panel cleaned using a conventional cleaner.
도 4c는 본 발명의 세척제를 사용하여 세척한 패널의 확대도.4C is an enlarged view of a panel washed with the cleaning agent of the present invention.
*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings
200 : 패널 201 : 블랙매트릭스200: panel 201: black matrix
202 : 불화암모늄 203 : 질산202: ammonium fluoride 203: nitric acid
204 : 불화나트륨 205 : 인산204 sodium fluoride 205 phosphoric acid
206 : 계면활성제206: surfactant
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 칼라음극선관 패널 세척물질 및 패널 세척방법은, 산성 수용액과 계면활성제를 포함하는 것으로 구성된 칼라음극선관 패널 세척물질과, 스프레이 방법, 초음파 방법, 디핑 방법중 적어도 하나이상을 세척방법으로 사용함을 특징으로 한다.The color cathode ray tube panel cleaning material and the panel cleaning method of the present invention for achieving the above object is a color cathode ray tube panel cleaning material composed of an acidic aqueous solution and a surfactant, spray method, ultrasonic method, dipping method It is characterized by using at least one or more as a washing method.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 의한 칼라음극선관 패널 세척물질 및 패널 세척방법을 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a color cathode ray tube panel cleaning material and a panel cleaning method according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
본 발명은 칼라음극선관 패널 재생을 위한 세척 공정시, 패널에 부착되어 있는 형광막, 흑연, 중간막과 금속반사막을 제거하기 위한 세척물질과 세척방법에 관한 것이다. 본 발명의 혼합된 산성 수용액 세척물질인 LG-Cleaner(제품명)는 다음과 같은 조성을 갖는다.The present invention relates to a cleaning material and a cleaning method for removing the fluorescent film, graphite, interlayer film and metal reflective film attached to the panel during the cleaning process for color cathode ray tube panel regeneration. LG-Cleaner (product name) of the mixed acidic aqueous solution cleaning material of the present invention has the following composition.
표 1. 세척제 LG-Cleaner의 조성Table 1. Composition of Cleaner LG-Cleaner
상기 세척물질의 pH는 2~5 이고, 상기 세척물질의 비중은 1.0~1.5 이다.PH of the cleaning material is 2 ~ 5, specific gravity of the cleaning material is 1.0 ~ 1.5.
여기서, 인산 대신에 질산, 염산, 황산의 무기산 중 하나를 선택하여 세척물질을 제조하여도 좋은 결과를 얻을 수 있다.Here, instead of phosphoric acid, one of inorganic acids of nitric acid, hydrochloric acid, and sulfuric acid may be selected to prepare a cleaning material.
즉, 본 발명은 유리 표면을 용해하는 불산이 아닌 불화암모늄을 사용하고, 세척력을 감소시키지 않고 불화암모늄의 산성도를 낮출 수 있는 무기산을 사용하고, 여기에 계면활성제를 사용하여 유리 표면과 형광막, 블랙 매트릭스막, 중간막 사이를 들뜨게 하여 원하지 않는 형광막, 블랙 매트릭스막, 중간막을 제거하는 것이다. 그리고, 빌더는 계면활성제가 산성 조건하에서 안정적으로 사용될 수 있도록 도와주는 역할을 한다.That is, the present invention uses ammonium fluoride, not hydrofluoric acid, which dissolves the glass surface, and uses an inorganic acid capable of lowering the acidity of ammonium fluoride without reducing the washing power, and using a surfactant, the glass surface and the fluorescent film, The unwanted fluorescent film, black matrix film and intermediate film are removed by floating the black matrix film and the intermediate film. In addition, the builder serves to help the surfactant be used stably under acidic conditions.
세척 물질은 또한 다음의 각 조성을 갖는다.The cleaning material also has each of the following compositions.
조성 1은 수용액 중 불화암모늄 3~30wt%, 무기산 1~25wt%, 불화나트륨 1~10w%, 계면활성제 1~10wt%, 빌더를 미량 함유한 것이다.Composition 1 contains 3-30 wt% of ammonium fluoride, 1-25 wt% of inorganic acid, 1-10 w% of sodium fluoride, 1-10 wt% of surfactant, and a small amount of builder in an aqueous solution.
조성 2는 수용액 중 불화암모늄 5~30wt%, 무기산 1~25wt%, 계면활성제를 1~10wt% 함유한 것이다.Composition 2 contains 5-30 wt% of ammonium fluoride, 1-25 wt% of inorganic acid, and 1-10 wt% of surfactant in aqueous solution.
조성 3은 수용액 중 불화암모늄 5~30wt%, 무기산을 1~25wt% 함유한 것이다.Composition 3 contains 5-30 wt% of ammonium fluoride and 1-25 wt% of inorganic acid in aqueous solution.
조성 4는 수용액 중 불화암모늄 5~30wt%, 계면활성제를 1~20wt% 함유한 것이다.Composition 4 contains 5-30 wt% of ammonium fluoride in water and 1-20 wt% of surfactant.
상기 각 조성에 의하면 무기산에는 질산, 인산, 황산, 염산 등이 있고, 이중 하나 이상 바람직하게는 2개 이상을 사용한다. 무기산의 양은 1~25w%이나 바람직하게는 5~20w%이다. 여러 무기산을 사용하면 불화암모늄과 불화나트륨과 무기산의 혼합산의 효과로서 유리와의 식각 작용이 활성화되어 유리 표면의 피트를 제거하는 능력이 향상된다.According to each composition described above, the inorganic acid includes nitric acid, phosphoric acid, sulfuric acid, hydrochloric acid and the like, and at least one of them is preferably used. The amount of the inorganic acid is 1-25 w%, but preferably 5-20 w%. The use of various inorganic acids improves the ability to remove pit from the glass surface by activating the etching effect with glass as an effect of the mixed acid of ammonium fluoride, sodium fluoride and inorganic acid.
여기서, 불화암모늄과 불화나트륨이 상기 범위보다 적으면 흑연제거능력이 떨어지고 상기 범위보다 많으면 금속염을 생성하여 린스가 잘안되고 불량이 발생한다. 그리고, 무기산이 상기 범위보다 적으면 불소이온의 활성화가 부족하여 세척력이 저하되고 무기산이 상기 범위보다 너무 많으면 금속염을 형성하여 린스가 잘 안돠고 불량이 발생한다. 또한, 계면활성제가 상기 범위보다 적으면 제거될 대상의 재부착이 발생하고 너무 많으면 린스가 어려워 도포공정에서 불량을 유발한다.Here, when the ammonium fluoride and sodium fluoride are less than the above range, the graphite removal ability is lowered, and when the ammonium fluoride and the sodium fluoride are less than the above range, metal salts are generated, so that rinsing is poor and defects occur. In addition, if the inorganic acid is less than the above range, the activation of fluorine ions is insufficient, and the washing power is lowered. If the inorganic acid is too much above the above range, metal salts are formed, so that rinsing is poor and defects occur. In addition, when the surfactant is less than the above range, reattachment of the object to be removed occurs, and when too much, rinsing is difficult and causes a defect in the coating process.
상기 각 조성의 물질을 5~20배 순수로 희석하여 세척물질로 사용하였을 때 표 1의 세척물질과 같은 세척력을 나타내고, 가장 좋은 세척 결과는 조성 1을 사용하여 얻어진다. 그리고, 희석한 각 조성의 세척물질의 pH도 2~5 이고, 비중도 1.0~1.5 이다.When the material of each composition is diluted to 5 to 20 times pure water and used as a washing material, it shows the same washing power as the cleaning material of Table 1, and the best washing results are obtained using the composition 1. And the pH of the washing | cleaning substance of each composition diluted was 2-5, and specific gravity is 1.0-1.5.
각 조성의 세척 물질의 목적별 특성을 나타내면 다음 표 2와 같다.The characteristics of the cleaning substances of each composition are shown in Table 2 below.
표 2. 각 조성의 세척 물질의 특성Table 2. Characteristics of cleaning substances for each composition
도 3a와 도 3b는 본 발명의 세척제 세척 작용도이다.Figure 3a and Figure 3b is a detergent cleaning action of the present invention.
도 3a와 같이, 패널(200)과 블랙매트릭스(201)의 사이로 먼저, 불화암모늄(202), 질산(203), 인산(205) 및 불화나트륨(204)이 침투한다. 상기 불화암모늄(202)은 상기 패널(200)과 상기 블랙매트릭스(201) 사이의 상기 패널 표면의 Si-Si, Si-O-Si 공유결합을 자극하여 Si를 떼어놓는 작용을 한다. 그리고, 무기산중 상기 인산(205)은 상기 불화암모늄(202)의 보조제로 작용하며 분자 구조를 흔들어서 약하게 한다. 그리고, 질산(203)은 불화암모늄(202), 인산(205) 및 불화나트륨(204)의 역할을 활성화시킨다. 상기 불화나트륨(204)은 유리 패널의 표면과 반응하여 식각 현상을 일으켜서 유리 표면을 매끄럽게 식각한다.As shown in FIG. 3A, first, the ammonium fluoride 202, the nitric acid 203, the phosphoric acid 205, and the sodium fluoride 204 penetrate between the panel 200 and the black matrix 201. The ammonium fluoride 202 stimulates Si-Si and Si-O-Si covalent bonds on the panel surface between the panel 200 and the black matrix 201 to release Si. The phosphoric acid 205 in the inorganic acid acts as an adjuvant of the ammonium fluoride 202 and weakens the molecular structure. And, nitric acid 203 activates the roles of ammonium fluoride 202, phosphoric acid 205 and sodium fluoride 204. The sodium fluoride 204 reacts with the surface of the glass panel to cause an etching phenomenon to smoothly etch the glass surface.
그리고, 도 3b와 같이, 계면활성제(206)가 상기 패널(200)과 상기 블랙매트릭스(201) 사이로 침투하여 표면장력을 제거하여 상기 패널(200)로부터 상기 블랙매트릭스(201)가 산성 용액에 의해 제거되는 것이 용이하도록 하고, 빌더(207)는계면활성제(206)의 역할을 보조한다. 또한, 계면활성제(206)는 제거된 물질들이 다시 유리 표면에 부착되지 않도록 한다.In addition, as shown in FIG. 3B, a surfactant 206 penetrates between the panel 200 and the black matrix 201 to remove surface tension, so that the black matrix 201 is removed from the panel 200 by an acidic solution. To facilitate removal, the builder 207 aids in the role of the surfactant 206. In addition, the surfactant 206 prevents the removed material from sticking back to the glass surface.
이때, 계면활성제(206)는 일반적으로 세척제에 사용되는 것으로, 알킬 벤젠 술폰산염(Alkylbenzene Sulfonate), 나트륨 크실렌 술폰산염(Sodium Xylene sulfonate), 글리콜 에테르(Glycol Ether), 또는 지방산 염, 알킬 술폰산염, 알파올레핀 술폰산염, 알파 술포 지방산 메틸에스테르 등으로 이루어진 그룹중에서 선택된 1종 이상을 사용할 수 있다. 또한, 비이온 계면활성제로서 옥소알콜폴리에틸렌글리콜 에테르, 지방산 알칸올아미드 등을 사용할 수가 있다.At this time, the surfactant 206 is generally used in the cleaning agent, alkyl benzene sulfonate (Alkylbenzene Sulfonate), sodium xylene sulfonate (Sodium Xylene sulfonate), glycol ether (Glycol Ether), or fatty acid salts, alkyl sulfonates, One or more selected from the group consisting of alpha olefin sulfonates, alpha sulfo fatty acid methyl esters and the like can be used. Moreover, oxo alcohol polyethylene glycol ether, fatty acid alkanolamide, etc. can be used as a nonionic surfactant.
그리고, 빌더로는 디에틸렌 글리콜 에테르(Diethylene Glycol Ether), 디에틸렌 부틸 글리콜 에테르(Diethylene butyle Glycol Ether), 또는 탄산나트륨, 탄산수소나트륨 등의 탄산염과 규산소다, 층상결정형 규산염, 황산염, 카르복시메틸셀룰로즈, 폴리에틸렌 글리콜, 폴리비닐알콜, 폴리비닐폴리돈, 폴리아크릴산, 말레인산, 비닐에테르 공중합체 등을 사용할 수 있다.And, builders include diethylene glycol ether (Diethylene Glycol Ether), diethylene butyl glycol ether (Diethylene butyle Glycol Ether), or carbonates such as sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate and sodium silicate, layered silicate, sulfate, carboxymethyl cellulose, Polyethylene glycol, polyvinyl alcohol, polyvinyl polydone, polyacrylic acid, maleic acid, vinyl ether copolymer, etc. can be used.
즉, 본 발명에 의한 세척제는 계면활성제, 빌더 등을 이용하여 상기 패널과 오염물(제거할 블랙매트릭스) 사이의 표면장력을 파괴하고, 불화암모늄과 무기산 및 불화나트륨이 상기 패널표면과 상기 블랙매트릭스 사이에 침투하여 상기 패널과 상기 블랙매트릭스 사이의 상기 패널 표면의 Si-Si, Si-O-Si 공유 결합을 자극하고 상기 패널로부터 오염물질을 분리시킨다.That is, the cleaning agent according to the present invention destroys the surface tension between the panel and the contaminant (black matrix to be removed) by using a surfactant, a builder, and the like, and ammonium fluoride, an inorganic acid and sodium fluoride are disposed between the panel surface and the black matrix. Penetrates into and stimulates Si—Si, Si—O—Si covalent bonds on the panel surface between the panel and the black matrix and separates contaminants from the panel.
도 4a는 불량 패널의 확대도이고, 도 4b는 종래의 세척제를 사용하여 세척한 패널의 확대도이고, 도 4c는 본 발명의 세척제를 사용하여 세척한 패널의 확대도이다.4A is an enlarged view of a defective panel, FIG. 4B is an enlarged view of a panel cleaned using a conventional cleaning agent, and FIG. 4C is an enlarged view of a panel cleaned using the cleaning agent of the present invention.
도 4a와 같이, 유리 표면에 돌출되어 있는 피트 또는 자재 불량이 있다. 이 돌출부를 제거하여 표면을 매끄럽게 하지 않으면 도포 공정에서 불량이 발생한다.As shown in Fig. 4A, there are pits or material defects protruding from the glass surface. If this protrusion is not removed to smooth the surface, defects occur in the application process.
도 4b는 종래의 세척제인 불화암모늄과 무기산 또는 불화암모늄만을 사용한 경우의 유리 패널의 상태를 확대한 사진으로 돌출된 유리의 불량이 제거되지 않았다.4B is an enlarged photograph of a state of the glass panel in the case of using only a conventional cleaning agent ammonium fluoride and an inorganic acid or ammonium fluoride. The defect of the protruding glass was not removed.
도 4c는 본 발명의 세척제를 사용한 경우의 유리 패널의 상태를 확대한 사진으로 혼합된 산성 용액과 무기산의 역할로서 돌출부가 제거되었음을 보여준다. 따라서, 도포시 유리 자재로 인한 품질 불량이 줄어들게 된다.Figure 4c is an enlarged photograph of the state of the glass panel when using the cleaning agent of the present invention shows that the protrusions were removed as a role of the mixed acid solution and inorganic acid. Therefore, poor quality due to the glass material during application is reduced.
그리고, 단시간에 세척효과를 얻기 위하여 물리적인 힘을 가한다. 여기서, 물리적인 힘을 가하는 이유는 계면활성제, 불화암모늄 등의 산성 용액과 질산, 인산 등의 무기산의 침투를 용이하게 하기 위하여 이용되며, 방법으로는 스프레이 방식, 초음파 방식, 디핑 방식등이 있다.Then, physical force is applied to obtain a cleaning effect in a short time. Here, the reason for applying the physical force is used to facilitate the penetration of acidic solutions such as surfactants, ammonium fluoride and the like, and inorganic acids such as nitric acid and phosphoric acid, and methods include spray, ultrasonic, and dipping methods.
또한, 본 발명의 세척 후 표면 조도 변화는 다음 표와 같다.In addition, the surface roughness change of the present invention is shown in the following table.
표 3. 세척 후 표면 조도 변화Table 3. Surface Roughness Changes After Cleaning
Ra: 식각에 의한 패널 내면의 산과 골의 (적분)면적Ra: The (integrated) area of the peaks and valleys inside the panel by etching
Rz: 식각에 의한 패널 내면의 산과 골의 거리Rz: Distance between peaks and valleys inside the panel by etching
표 3에서 보는 바와 같이, 본 발명의 세척력은 불산을 사용했을 때와 동일하며, 불산에 의한 유리 기판의 식각이 일어나지 않으므로 패널 내면의 유리의 깍임 현상에 의한 조도의 변화 또한 작으며, 패널 내면의 산과 골을 측정한 결과 약 20% 가량 식각 현상이 적은 것으로 나타난다.As shown in Table 3, the cleaning power of the present invention is the same as when using hydrofluoric acid, and since the etching of the glass substrate by the hydrofluoric acid does not occur, the change in the roughness due to the shaping of the glass on the inner surface of the panel is also small, Obstetrics and bones were measured to show approximately 20% less etching.
그리고, 본 발명의 세척 후 스크린 특성 결과는 다음 표와 같다.In addition, the results of the screen characteristics after washing of the present invention are shown in the following table.
표 4. 스크린 특성 평가 결과 : 휘도, 콘트라스트Table 4. Evaluation results of screen characteristics: luminance, contrast
표 4에서 보듯이 본 발명의 세척물질 및 세척방법을 사용한 스크린 특성 결과는 불산을 사용한 것과 동등하다.As shown in Table 4, the screen properties using the cleaning material and the cleaning method of the present invention are equivalent to those using hydrofluoric acid.
그리고, 본 발명의 세척물질은 불산과 비교하여 불소 이온의 농도가 월등히 감소하여, 불산 폐수처리시 사용하는 약품이 절감된다. 또한, 인체 유해성이 매우 감소하게 된다.In addition, compared to hydrofluoric acid, the cleaning material of the present invention significantly reduces the concentration of fluorine ions, thereby reducing chemicals used in hydrofluoric acid wastewater treatment. In addition, human hazards are greatly reduced.
표 5는 세척 약품에 대한 인체 유해 지수(P.I.I) 측정치이다.Table 5 is a human hazard index (P.I.I) measurement for cleaning chemicals.
P.I.I(Primary Irritation Index)는 약품의 인체에 대한 유해성을 판단하는 기준으로서 이용된다. 본 발명의 세척 물질은 약한 자극을 나타낸다.Primary Irritation Index (P.I.I) is used as a criterion for judging the harmfulness of a drug to the human body. The cleaning material of the present invention exhibits mild irritation.
다음은 본 발명의 세척물질을 사용한 세척방법들의 실시예이다.The following are examples of cleaning methods using the cleaning material of the present invention.
실시예 1은 스프레이 세척방법이다.Example 1 is a spray cleaning method.
패널 재생 세척 공정에서 패널에 부착되어 있는 형광막과 흑연 및 중간막과 금속반사막을 제거하기 위한 본 발명의 세척물질과 스프레이 장치를 이용하여 세척을 실시하였다. 세척물질은 LG-Cleaner이고 농도는 10%이고, 세척물질은 상온에서 사용한다. 이때, 세척약품을 이용한 노즐은 세척대상을 충분히 적셔줄 수 잇도록 설계되어 있어야 하고, 노즐압은 1Kgf/㎠ 이상으로서 세척대상에 균열을 주거나 약품성분이 충분히 유리 패널에 접촉할 수 있어야 한다. 또한 적정한 압력과 노즐의 각도는 혼합된 산성약품의 유리의 돌출된 피트를 제거할 수 있는 물리적인 힘을 제공한다.In the panel regeneration cleaning process, washing was performed using the cleaning material and spray apparatus of the present invention for removing the fluorescent film, graphite, interlayer film, and metal reflective film attached to the panel. The cleaning material is LG-Cleaner, the concentration is 10%, and the cleaning material is used at room temperature. At this time, the nozzle using the cleaning chemicals should be designed to sufficiently wet the object to be cleaned, the nozzle pressure is 1Kgf / ㎠ or more to crack the cleaning object or the chemical component should be able to contact the glass panel sufficiently. The proper pressure and nozzle angle also provide the physical force to remove the protruding pit of the glass of mixed acidic chemicals.
그리고, 세척대상 패널은 회전하여 균일한 세척력을 갖도록 하며, 이대 회전 속도는 공정 인덱스와 노즐압의 세기, 노즐과 세척대상과의 거리등을 고려하여 설계한다. 그리고, 각 공정의 숫자와 공정에서 약품 적용 시간은 약품과 세척 대상 또는 유리와의 반응을 고려하여 적정 수준으로 유지한다. 적용 시간이 적은 경우에는 제대로 세척대상과 반응을 하지 않아서 제거되지 않는 경우도 있다. 특히, 금속 반사막의 경우에는 일정한 시간이 요구된다. 그리고, 산성계 용액이므로 적용 시간이 적정 이상일 경우 유리에 부식이 커져서 브라운관 상태에서 내, 외면에서 품질 불량을 유발할 수 있고 적정시간 이하이면 피트 제거가 되지 않을 수 있다.In addition, the panel to be cleaned is rotated to have a uniform cleaning force, and this rotational speed is designed in consideration of the process index, the strength of the nozzle pressure, and the distance between the nozzle and the object to be cleaned. In addition, the number of each process and the chemical application time in the process is maintained at an appropriate level in consideration of the reaction between the chemical and the object to be cleaned or glass. If the application time is small, it may not be removed because it does not react properly with the cleaning object. In particular, in the case of the metal reflective film, a certain time is required. In addition, if the application time is more than the proper time because the acid-based solution, the corrosion on the glass may increase, which may cause quality defects on the inside and the outside of the CRT and may not be removed if the time is less than the proper time.
그리고, 약품 적용 중이나 적용 후에 적정한 노즐 숫자, 형태와 압력을 가진 공수와 순수로서 린스를 실시한다. 공정의 배치에 따라서 세척대상을 약품 탱크가 아닌 공수부에서 제거하여 약품의 수명을 향상시킬 수 있다. 그리고, 약품 탱크에는 적정한 필터링 시스템을 설치하여 흑점등의 불량을 감소시키고, 약품의 적용시 패널과의 접촉면적을 향상시켜 세척력 저하를 막을 수 있다.Then, rinse with air and pure water with appropriate nozzle numbers, shapes and pressures during or after chemical application. Depending on the arrangement of the process, the object of cleaning can be removed from the airborne part instead of the chemical tank to improve the life of the chemical. In addition, by installing an appropriate filtering system in the chemical tank, it is possible to reduce defects such as black spots, and improve the contact area with the panel when the chemical is applied, thereby preventing deterioration in washing power.
실시예 2는 초음파세척이다.Example 2 is ultrasonic cleaning.
패널 재생 세척 공정에서 패널에 부착되어 있는 형광막과 흑연 및 중간막과 금속반사막을 제거하기 위한 본 발명의 세척물질과 초음파를 가하는 세척을 실시하였다. 세척물질은 LG-Cleaner이고, 농도는 10%이고, 온도는 40℃이상이고, 진동부 구조는 공진부 제거구조이고, 패널의 회전과 각도는 공기제어 시스템에 의해 조절되고, 진동부와 패널간의 거리는 초음파의 초기 피크치 이용거리를 사용한다.In the panel regeneration cleaning process, the cleaning material of the present invention and ultrasonic waves were applied to remove the fluorescent film, graphite, intermediate film, and metal reflective film attached to the panel. The cleaning material is LG-Cleaner, the concentration is 10%, the temperature is over 40 ℃, the vibrator structure is the resonator elimination structure, the rotation and angle of the panel are controlled by the air control system, and between the vibrator and the panel The distance uses the initial peak value of the ultrasonic wave.
실시예 3은 디핑(dipping) 방법이다.Example 3 is a dipping method.
패널 재생 세척 공정에서 패널에 부착되어 있는 형광막과 흑연 및 중간막과 금속반사막을 제거하기 위한 본 발명의 세척물질을 기존의 큰 탱크 내부에 넣고 여기에 패널을 담그고 파이프를 연결하여 에어 버블 혹은 거품 등을 발생시켜 오염물질을 제거한다.In the panel regeneration cleaning process, the cleaning material of the present invention for removing the fluorescent film, graphite, interlayer film, and metal reflective film attached to the panel is placed in an existing large tank, and the panel is immersed therein and pipes are connected to air bubbles or bubbles. To remove contaminants.
그리고, 본 발명은 강산인 불산(불화수소산)을 약산인 불화암모늄 등으로 대체하는 것 뿐만 아니라 강산인 불산의 사용량을 대폭 줄여 환경 오염 및 패널의 손상을 줄일 수 있다.In addition, the present invention not only replaces the strong acid hydrofluoric acid (hydrofluoric acid) with a weak acid ammonium fluoride, etc., but also significantly reduces the amount of strong acid hydrofluoric acid, thereby reducing environmental pollution and damage to the panel.
본 발명의 세척제를 이용한 세척공정은 다음과 같다.The washing process using the cleaning agent of the present invention is as follows.
일반적으로 재생품 이외의 신품 패널도 세척공정을 통과시 약품을 적용하며, 신품의 약품 적용 목적은 이물을 제거하고, 유리 패널 내면의 피트 등을 제거하여 도포 품질을 유지하기 위함이다.In general, new panels other than regenerated products are also applied to chemicals when they pass through the washing process, and the purpose of applying new chemicals is to maintain the coating quality by removing foreign substances and removing pits on the inner surface of the glass panel.
공정은 재생품 중 세척대상이 금속반사막 까지 모두 도포된 경우로서 예를들어서 제시한다.The process is shown by way of example, where all of the reclaimed material has been applied to the metal reflecting film.
1. 본발명 세척제를 먼저 순수와 혼합하여 적정농도로 조합한다.1. The cleaning agent of the present invention is first mixed with pure water and combined at an appropriate concentration.
2. 공수 세척을 하여, 패널의 온도를 보상하고 금속반사막과 중간막의 구조 를 완화시킨다.2. Perform air cleaning to compensate the panel temperature and relax the structure of the metal and interlayer films.
3. 본 발명 세척용액을 적용하고, 적정시간을 유지하여 금속반사막을 제거 한다. 특히 비유효면의 금속반사막을 제거한다.3. Apply the washing solution of the present invention and remove the metal reflective film by maintaining the proper time. In particular, the metal reflective film of the ineffective surface is removed.
4. 중간막 제거용 세척제를 이용하여 비유효면의 중간막을 제거한다.4. Remove the interlayer on the non-effective surface by using the interlayer remover.
5. 공수 세척을 통해 잔류 약품제거 및 유효면의 세척대상을 제거한다.5. Air wash removes residual chemicals and removes the surface of effective surfaces.
6. 본 발명 세척약품을 적용하여, 유효면과 비유효면의 흑연막과 형광막을 제거한다.6. The cleaning chemicals of the present invention are applied to remove the graphite film and the fluorescent film on the effective and ineffective surfaces.
7. 공수와 순수를 이용하여 린스를 실시한다.7. Rinse using airborne and pure water.
이상의 공정과 같이 재생품 패널에 대한 세척을 실시한다. 공정의 순서와 세부내용은 적용 대상 및 상황에 따라 변경될 수 있고, 약품 분사시 압력, 노즐의 각도, 형태, 거리, 숫자, 위치등은 적정하게 조정되어져야 한다As described above, the recycled panel is washed. The order and details of the process can be changed according to the application and situation, and the pressure, nozzle angle, shape, distance, number, position, etc. during chemical injection should be adjusted accordingly.
상기와 같은 본 발명의 칼라음극선관 패널 세척물질 및 패널 세척방법은 다음과 같은 효과가 있다.The color cathode ray tube panel cleaning material and panel cleaning method of the present invention as described above has the following effects.
첫째, 계면활성제, 빌더를 사용하여 패널과 오염물질 사이의 표면장력을 파괴하므로, 세척물질의 노화가 적고, 슬러지의 발생이 적기에 세척물질의 청정도를 유지하여 장시간 사용할 수 있어서 비용을 감소시키며 친환경적이다.First, since it destroys the surface tension between the panel and the pollutants using surfactants and builders, there is less aging of the cleaning material and less sludge is generated, so it can be used for a long time by maintaining the cleanliness of the cleaning material. to be.
둘째, 혼합산을 이용하여 유리의 표면에 대한 균일한 에칭 능력을 향상시켜서 피트를 제거하면서 불산을 사용하지 않으므로 패널의 부식이 적어 커팅성등의 도포성이 향상된다.Second, by using a mixed acid to improve the uniform etching ability to the surface of the glass to remove the pit and does not use hydrofluoric acid, the corrosion of the panel is less and the coating properties such as cutting properties is improved.
셋째, 세착력이 향상되어 공정 시간, 공정 적용 패널 크기 및 생산성이 향상되고 미세척 불량 및 불산이나 고압세척기로 인한 패널의 손상 불량이 없어진다.Third, the washing force is improved, so that the process time, process panel size and productivity are improved, and the fine chuck defect and the damage of the panel due to the hydrofluoric acid or the high pressure cleaner are eliminated.
넷째, 기존의 방식에 비해 소음, 공간, 장비의 수리등에서 유리하다.Fourth, it is advantageous in terms of noise, space, and equipment repair compared to conventional methods.
이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술 사상을 이탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다.Those skilled in the art will appreciate that various changes and modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.
따라서, 본 발명의 기술적 범위는 실시예에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의하여 정해져야 한다.Therefore, the technical scope of the present invention should not be limited to the contents described in the embodiments, but should be defined by the claims.
Claims (16)
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2002
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