KR20030067662A - 평판인쇄판용 예비처리된 시트재 - Google Patents

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KR20030067662A
KR20030067662A KR10-2003-7002879A KR20037002879A KR20030067662A KR 20030067662 A KR20030067662 A KR 20030067662A KR 20037002879 A KR20037002879 A KR 20037002879A KR 20030067662 A KR20030067662 A KR 20030067662A
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KR10-2003-7002879A
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데이빗 베네트
샐리 엘. 블레이크
로버트 이. 봄밸스키
조셉 디. 거스리
다니엘 엘. 세라핀
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알코아 인코포레이티드
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Abstract

본 발명은 예비처리층에 의해 피복된 롤 텍스처링된 표면을 가지는 기재를 포함하는 평판인쇄용 시트재에 관한 것이다. 예비처리층은 인쇄 조성물의 시트재로의 부착을 향상시키고, 아크릴산의 중합체, 메타크릴산의 중합체, 유기인계 중합체 및 유기인계 화합물과 아크릴산 또는 메타크릴산의 공중합체로 구성되는 군에서 선택된 중합체로 구성된다. 알루미나, 실리카, 이산화 티탄 또는 흑색 염료나 안료의 도판트 분체는 인쇄공정에서 예비처리층의 광택 및 반사율을 감소시키도록 예비처리층에 첨가될 수 있다. 기재의 식각 또한 광택 및 반사율을 감소시킨다.

Description

평판인쇄판용 예비처리된 시트재{Pretreated sheet product for lithographic plates}
압연된 금속 합금 시트 및 평판은 확인가능한 바이어스(bias)를 가진다. 압연 작업은 압연된 제품에 길게 형성된 줄흔(striation)으로서 나타나는 롤 그라인드(roll grind)를 일으킨다. 줄흔은 평판인쇄와 같은 특정 하류 작업을 방해할 수 있다. 평판인쇄에 있어서, 예를 들면, 시트 표면은 감광성 또는 레이저-이미지화 가능한 코팅재로 코팅된다. 수명과 인쇄된 이미지 선명도는 결과물의 코팅과 방향성에 대한 알루미늄의 결합강도에 의해 제어된다. 제품에서 롤 그라인드의 존재는불충분한 결합강도와 방향성으로 인하여 완제품의 낮은 수명과 선명도를 초래한다. 이러한 영향을 극복하기 위하여 통상의 평판인쇄판 제조업자는 인쇄 조성물에 대한 평판인쇄판의 결합강도를 향상시키고 제품에서의 방향성을 감소시키기 위하여 더 확장된 표면적을 만들도록 알루미늄의 표면을 화학적으로 또는 기계적으로 연마한다.
감광성 코팅재와 같은 인쇄 조성물의 부착을 위한 알루미늄 기재의 통상적인 처리는 감광성 코팅재가 적용될 기재의 표면을 연마 및 양극산화처리하는 것을 포함한다. 양극산화는 일반적으로 기재의 표면에 알루미나를 생성한다. 게다가, 알루미늄 표면은 혐유성(oleophobic; 친수성) 표면을 생성하는 알루미늄 기재에 대한 감광성 코팅재의 부착을 개선하도록 후처리될 수 있다. 알루미늄 기재의 연마 및 양극산화 및/또는 후처리(즉 규산염 처리(silicating))는 전문화된 가공단계를 요구한다. 연마는 전기화학적으로 또는 기계적으로(즉 브러쉬 연마) 수행될 수 있다. 이러한 공정들은 감광성 재료로 코팅하기 위한 알루미늄 기재를 제조하는데 상당한 시간과 비용을 부가시킨다.
따라서, 연마 및 양극산화 및/또는 후처리 가공을 최소화하거나 피하고, 평판인쇄용 시트 또는 평판의 제조를 위하여 코팅을 즉시 유지하는 시트가 요구되고 있다.
본 발명은 평판인쇄판(lithographic plate)으로의 사용을 위하여 적어도 하나의 처리된 표면을 가지는 양극산화되지 않은(non-anodized) 시트재에 관한 것이다.
본 발명은 금속 및 그 합금, 특히 알루미늄 및 알루미늄 합금의 표면을 개선하는 것에 관한 것으로, 다양한 재료가 포일, 시트, 평판, 복합재 또는 라미네이트일 수 있는 완성된 제품의 표면에 영구적으로 또는 일시적으로 접합, 부착, 접착, 결합, 지지될 수 있다. 상기 완성된 제품은 플렉소인쇄판 및 평판인쇄판을 포함한다. 이들 제품은 일반적으로 압연된 알루미늄 시트의 사용을 요구한다.
본 발명은 첨부도면을 참조하여 상세한 설명으로부터 명백하게 이해될 것이다.
도 1은 본 발명에 따른 평판인쇄용 시트재의 단면도이다.
도 2는 도 1에 도시된 평판인쇄용 시트재의 다른 실시예의 단면도이다.
본 발명의 평판인쇄용 시트재는 상기한 요구를 충족시킨다. 상기 시트재는 중합체 예비처리층으로 피복된 적어도 하나의 표면을 가지는 바람직하게는 알루미늄 합금으로 만들어진 기재를 포함한다. 상기 예비처리층은 기재에 대한 인쇄 조성물의 부착을 향상시키는데 특히 적합하다. 인쇄 조성물은 감광성 코팅재나 잉크 또는 다른 재료일 수 있다. 예비처리층에 대한 적절한 중합체는 아크릴산 또는 메타크릴산의 중합체, 유기인계 중합체 및 이들의 공중합체를 포함한다. 기재의 표면은 밀-마감(mill-finished) 또는 더욱 바람직하게는 롤 텍스처링(roll textured: 롤에 의한 표면 조직화)될 수 있다.
예비처리층은 알루미나, 실리카, 이산화 티탄, 흑색 염료 또는 흑색 안료의 도판트 분체 약 4 내지 약 50 wt%를 더 포함할 수 있으며, 또는 기재가 식각되거나 또는 둘 다일 수 있다. 평판인쇄용 시트재가 감광성 코팅재로 피복될 때, 도판트 분체 및 식각된 표면은 표면적을 증가시키고 감광성 코팅재가 빛에 노출되는 동안 예비처리층으로부터 빛의 광택 및 반사율을 최소화한다.
도 1에 따르면, 본 발명의 평판인쇄용 시트재(2)는 예비처리층(8)으로 피복된 표면(6)을 가지는 금속 또는 중합체 기재(4)에 관한 것이다. 금속 기재(4)의 표면(6)은 텍스처링될 수 있다. "예비처리층"이라는 말은 최종 인쇄공정에 수반되거나 수반되지 않을 수 있으며, 아래에 위치하는 금속성분과 그에 적용되는 인쇄 조성물 사이에 수용가능한 부착을 제공하는 층을 의미한다. 금속 기재(4)는 바람직하게는 양극산화되지 않고 연마되지 않으며, 그리하여 통상의 평판인쇄용 기재와 비교하여 평판인쇄용 시트재의 제조비용을 최소화한다. 기재는 바람직하게는 알루미늄 합금, 철강 또는 중합체 재료로부터 제조된다. 적절한 알루미늄 합금은 AA 1000, 3000 및 5000 시리즈의 합금을 포함한다. 적절한 철강 기재는 연강 및 스테인레스 스틸을 포함한다. 기재로서의 중합체 재료는 폴리에스테르 필름일 수 있다.
알루미늄 합금 시트는 약 1 내지 30 mil, 바람직하게는 약 5 내지 20 mil, 더욱 바람직하게는 약 8 내지 20 mil의 두께를 가진다. 약 8 내지 9 mil의 두께를 가지는 양극산화되지 않은 알루미늄 합금 기재가 특히 바람직하다.
기재
기재(4)의 금속 텍스처링된 표면(6)은 금속의 표면적을 균일하게 증가시키도록 롤 텍스처링, 전기화학적 연마, 기계적 연마 또는 다른 방법에 의해 제작될 수 있다. 롤 텍스처링이 바람직하며, 전자 방전 텍스처링(EDT), 레이저 텍스처링, 전자빔 텍스처링, 기계적 텍스처링, 화학적 텍스처링, 전기화학적 텍스처링 또는 이들의 조합을 통하여 거칠어진 외표면을 가진 롤을 이용하여 수행될 수 있다. 바람직한 기계적 텍스처링 기술은 쇼트피닝(shot peening) 및 브러쉬 연마를 포함한다. 롤 텍스처링의 바람직한 기술은 EDT이다. EDT에서, 다수의 아크 발생 전극은 롤의 외표면으로부터 이격되고 전자 아크의 펄스는 롤 외표면에 대하여 방전된다. 아크는 원하는 치수의 산(peak)과 골(valley)로 이루어진 전반적으로 균일한 롤 표면을 제공한다. 전극은 회전하고 롤 외표면을 가로질러 이송된다. 치수는 아크의 전압 레벨과 전류 레벨, 아크 펄스의 길이, 아크 펄스간 시간 길이 및 전극 회전속도와 이송속도(traverse rate)에 의해 적어도 부분적으로 제어될 수 있다. 전자 방전 텍스처링은 미국특허 3,619,881 및 4,789,447에 개시되어 있다. 조도(roughness) 값(Ra로 표시되는 거칠어진 표면의 골에서 산까지의 평균거리)은 롤에 조판된 텍스처의 종류를 결정하는데 중요한 변수이다. 예를 들면, 평판인쇄판의 제조에 있어서, 원하는 평균 Ra 값은 6 마이크로인치일 수 있다. 상기 평균 값을 얻기 위하여, 롤 자체는 상기 평균 값이 충족되지 않는다면 평판과 비교하여 적당한 충돌(impingement) 깊이를 가져야 한다. 충돌 깊이를 조절하기 위하여, 텍스처링 중에 롤에 적용되는 전류량(amperage)도 가변된다. 적용되는 전류량의 범위는 약 0.1 내지 5 amp, 바람직하게는 1 내지 4 amp, 가장 바람직하게는 1 내지 3 amp이다.
텍스처링된 롤, 예를 들면 EDT로 처리된 롤이 기재를 압연하는데 사용될 때, 기재의 표면적은 비방향적(non-directional) 방식으로 증가(확대)된다. 본 발명에 따라 롤 텍스처링된 (밀-마감된) 공칭상으로 평탄한 알루미늄 시트의 표면적은 약 0.5 내지 약 10%까지 확대된다. EDT 처리된 롤로 압연된 알루미늄 시트의 표면 조도(Ra)는 일반적으로 약 40 마이크로인치 미만, 바람직하게는 약 25 마이크로인치 미만, 더욱 바람직하게는 약 5 내지 15 마이크로인치, 가장 바람직하게는 약 6 내지 9 마이크로인치이다. 조도의 범위를 인용할 때, 범위는 전체 및 그 끝을 포함하여 6, 7 또는 8 마이크로인치와 같은 모든 중간 조도 레벨을 포함한다. 기재 텍스처는 Perthen(R)instrument model M4P를 이용하여 평가될 수 있다. 텍스처링된 표면은 밀-마감된 표면보다 표면에서의 동시발생적인(concomitant) 높은 균일성을 가지는 더 확산된 표면을 제공한다. 평판인쇄용 시트의 이미지화 중에, 비균일한 표면 결함은 블랙 반사와 관련되어 왔다. 본 발명 제품의 텍스처링된 표면은 블랙 반사를 최소화하고 기재로서 본 발명의 제품과 결합하는 평판인쇄용 시트에 대한 이미지화 공정의 균일성 및 효율을 개선한다.
처리된 롤의 텍스처는 바람직하게는 실질적으로 균일한 형태(topography)를 가져 시트의 압연 및 교차압연(cross-rolling) 방향에서 실질적으로 균일한 형태를 전달하여, 미국특허출원 09/208,944(1998년 12월 10일 출원, "시트재 처리용 초미세 무광택 연마 롤(matte finish roll) 및 그 제조방법", 본 발명의 양수인에게 양도됨)에 기재된 바와 같이, 시트에서 교차압연 방향에서의 Ra에 대한 압연방향에서의 Ra의 비율이 약 0.8 내지 1.2이다.
롤 및/또는 기재는 텍스처링 전 또는 그 후에 예비처리 및 후처리의 대상이 될 수 있다. 예비처리 또는 후처리에 대하여, 롤 또는 기재는 적절한 세척수단으로 세척된 후 거칠어진다. 러프닝(roughening)은 기재 표면에 실질적으로 수직인 힘에 적용되는 회전 브러쉬 및 연마재 슬러리(abrasive slurry)의 시스템을 이용하여 기재 및/또는 롤의 기계적 러프닝에 의해 수행될 수 있다. 다른 실시예에 있어서, 기재 및/또는 롤의 화학적 러프닝은 단일 또는 다수의 무기산, 또는 알칼리성 화합물, 및/또는 유기산, 에스테르, 또는 제한되지 않지만 이미드, 아미드, 및 무기 전해질, 말단기(moiety), 혼합착물 및 이들의 몇가지 조합을 포함하는 다른 활성 말단기를 포함하는 용액으로 수행될 수 있다. 기재 또는 롤 표면을 처리하는 바람직한 방법에 있어서, 기재의 전기화학적 러프닝은 무기산, 유기산, 에스테르, 및/또는 제한되지 않지만 이미드, 아미드, 전해질, 혼합착물 및 이들의 조합을 포함하는 다른 활성 말단기로 구성되는 용액으로 실행된다. 전기화학적 러프닝에서, 단일 또는 다수의 교류를 인가, 또는 직류를 인가하여 표면의 전기화학적 러프닝을 일으키는 것이 특히 유리한 것으로 밝혀졌다. 교류가 바람직하다.
일반적으로, 롤은 철 유도 합금, 통상 강철 및 그 합금 중 어느 하나로 구성된다. 처리된 롤의 표면을 확대하는 것은 처리되지 않은 롤과 비교할 때 롤의 표면적을 약 0.05 내지 50%, 바람직하게는 1 내지 약 50%, 가장 바람직하게는 10 내지 약 50%까지 증가시킨다. 표면의 증가는 롤의 길이와 실질적으로 직교한다. 처리되지 않은 롤은 통상 가늘고 긴 홈통(trough)을 가진다. 롤을 텍스처링함으로써, 초미세한 크레이터(crater) 및 압흔(indentation)이 생성되고 그의 음화(negative) 이미지가 기재의 표면에 적어도 부분적으로 전달되어 기재의 총괄 표면적 및 작업 표면적을 증가시킨다. 처리된 롤은 일반적으로 처음에 도금된 후 텍스처링된다. 롤 도금은 전기화학적, 화학적, 열기계적, 또는 기계적 도금, 즉 스퍼터(sputter) 증착, 기상 증착 및 이들의 조합에 의한 도금에 의해 수행된다. 도금은 단일 또는 다수의 층으로 될 수 있다. 바람직한 도금은 하나 또는 그 이상의 층으로의 전기화학적 도금이다. 도금 금속은 니켈, 크롬, 코발트, 및 텅스텐 또는 이들의 몇가지 조합이다. 크롬을 사용하는 것이다 바람직하다. 도금층은 0.01 내지 약 20,000 마이크론, 바람직하게는 약 0.01 내지 100 마이크론(0.39 내지 3,939 마이크로인치), 더욱 바람직하게는 0.1 내지 50 마이크론(3.9 내지 1,968 마이크로인치), 가장 바람직하게는 1 내지 20 마이크론(39 내지 787 마이크로인치)의 범위에 걸친다.
롤이 처리된 후, 롤은 롤 세트에 배치된다. 일반적으로 2개의 롤이 롤 세트에서 서로 마주보고 배치된다. 롤 세트는 하나의 처리된 롤 및 마주보는 처리되지 않은 롤, 또는 선택적으로 서로 마주보는 2개의 처리된 롤을 가질 수 있다. 롤 세트는 독립형 운전일 수 있거나 또는 연속하여 배치된 다수의 롤 세트를 가질 수 있다.
처리된 롤은 압하(壓下, reduction) 및/또는 단순히 텍스처링 및 표면개질을 통하여 금속 및 금속 합금과 연통한다. 압하는 선택적이지만 매우 유용한 공정이다. 압하율은 약 0.1 내지 약 10%, 바람직하게는 약 1 내지 약 4%의 범위에 걸친다.
텍스처링된 롤을 구비한 밀을 통한 단일 패스(single pass)는 기재로부터 롤 그라인드의 상당 부분을 제거가능하다. 이러한 패스는 또한 표면적을 증가시켜 코팅부하강도 및 인쇄 선명도를 개선한다. 그러나, 때때로 단일 패스는 바이어스가 전혀 없는 표면에 영향을 줄 수 있으며, 제1패스 자체는 텍스처를 결여시키는 광학적 스트리핑(striping), 압연 결함(blemish) 및 불연속 면적에 의해 입증되는 비균일성을 일으킬 수 있다. 그러므로, 특정 상황에서는 원하는 텍스처를 얻기 위하여 롤 세트를 통한 적어도 2패스를 만드는 것이 바람직하다. 2패스 이상도 가능하나 각 평판의 비용을 증가시킨다.
예비처리층
금속 기재(4)의 롤 텍스처링 다음으로, 기재(4)는 예비처리 조성물로 처리되어 기재(4)의 적어도 한 면 위에 예비처리층(8)이 형성된다. 택일적으로는, 예비처리층(8)은 밀 마감된 금속 기재(6) 또는 중합체 기재(6)에 직접 적용될 수 있다. 예비처리층(8)은 아크릴산, 메타크릴산, 유기인계 화합물 또는 이들의 공중합체와 같은 중합체 조성물을 포함할 수 있다.
특히 적절한 중합체 조성물은 "전기코팅된 층을 가진 인쇄 평판 재료"이라는명칭으로 2000년 8월 22일에 출원된 미국특허출원(본 발명의 양수인에게 양도됨)에 기재된 바와 같이, 유기인산, 유기포스폰산(organophosphonic acid), 유기포스핀산(organophosphinic acid) 뿐만 아니라, 이들의 다양한 염, 에스테르, 부분 염 및 부분 에스테르를 포함한다. 유기인계 화합물은 아크릴산 또는 메타크릴산과 공중합될 수 있다. 비닐 포스폰산의 공중합체가 바람직하며, 특히 약 5 내지 50 몰% 비닐 포스폰산 및 약 50 내지 95 몰% 아크릴산을 함유하고 20,000 내지 100,000의 분자량을 가지는 공중합체가 바람직하다. 특히 약 70 몰% 아크릴산기 및 약 30 몰% 비닐 포스폰산기를 함유하는 공중합체가 바람직하다. 중합체는 롤 코팅, 분말코팅, 분사코팅, 진공코팅, 침적코팅 또는 양극산화 전기증착을 포함하는 통상의 코팅공정에 의한 시트의 회분식 가공 또는 코일 가공에 적용될 수 있다. 바람직하게는, 중합체는 롤 코팅에 의해 일반적으로 약 0.01 내지 1.0 mil, 바람직하게는 약 0.05 내지 0.3 mil의 두께로 적용된다. 중합체 조성물의 하나 또는 그 이상의 층은 압연된 기재에 적용될 수 있다.
택일적으로는, 기재(6)가 금속일 경우, 중합체 조성물은 2000년 8월 22일에 출원된 상기 미국특허출원에 기재된 바와 같은 전기코팅된 중합체를 포함할 수 있다. 전기코팅된 중합체는 바람직하게는 아크릴산 또는 메타크릴산의 중합체, 또는 이들의 유사체 및 에스테르, 단독 또는 혼합물 및 에폭시수지와의 공중합체를 포함한다.
예비처리 조성물의 텍스처링된 기재로의 부착은 말 마감된 소재로의 부착에 비하여 향상됨이 밝혀졌다. 텍스처링된 기재의 증가된 표면적은 예비처리 조성물의기재로의 물리적 부착을 위한 부가적인 표면적을 제공하고 또한 예비처리 조성물 및 기재 사이의 화학적 상호작용을 위한 부가적인 위치를 제공한다.
본 발명의 제품은 평판인쇄판용 기재로서 특히 적합하다. 인쇄 조성물의 층은 텍스처링 및 예비처리된 기재에 적용될 수 있으며, 아래에 있는 금속 시트 또는 평판에 대한 우수한 부착을 나타낸다. 이러한 인쇄 조성물은 American Litho Inc(Grand Rapid, MI)의 현상액 No. CD-03과 함께 사용되는 Wipe on Coating No. SO-1 또는 No. 4010P와 같은 감광성 코팅재 및 레이저-이미지화 가능한 코팅재를 포함한다. 따라서, 본 발명의 텍스처링 및 예비처리된 기재는 다양한 인쇄 시트 및 평판용 보편적인 기재로서 유용하다.
본 발명은 "잉크 제트" 이미징 또는 다른 불연속(discrete) 코팅기술용 인쇄 평판으로서 사용될 수 있다. 이들 공정은 인쇄 평판 위에 이미지를 생성하도록 잉크 제트 기술 또는 그 유사기술을 통하여 처리된 알루미늄 기재 위 불연속한 위치에 중합체를 적용하는 것을 수반한다. 이들 공정에서, 일단 코팅이 적용되어 경화되면, 제품은 적당한 프레스 상에 인쇄할 준비가 된다.
본 발명의 평판인쇄용 시트재는 또한 감광성 코팅재를 구비한 인쇄 평판으로서 사용될 수 있고 다음에 기술되는 것처럼 더욱 취급될 수 있다. 감광성 코팅재를 가지는 인쇄 평판은 일반적으로 마스크를 통하여 자외선에 노출된다. 자외선은 마스크에서의 개방부를 통하여 노출된 감광성 코팅재의 부위를 변경하여, 노출 및 노출되지 않은 면적 사이의 감광성 코팅재의 용해도 차이를 유발한다. 감광성 코팅재가 기재에 단단히 부착하고 감광성 코팅재가 노출되는 동안 감광성 코팅재와 빛의상호작용이 최대화되는 것이 중요하다. 그러므로, 예비처리층(8)은 감광성 코팅재의 노출에 최소한으로 영향을 주어야 한다.
도 1에 도시된 본 발명의 일 실시예에서, 중합체 예비처리층(8), 특히 비닐 포스폰산과 아크릴산의 공중합체층은 표면적을 증가시키고 및/또는 예비처리층의 광택과 반사율을 최소화하도록 알루미나, 실리카, 이산화 티탄, 또는 흑색 염료 또는 안료의 분체(10)로 도핑된다. 알루미나 분체는 크기가 약 1.0 내지 약 2.0 마이크론(39 내지 79 마이크로인치)일 수 있다. 실리카 분체는 크기가 약 0.02 내지 약 5 마이크론(0.87 내지 198 마이크로인치)일 수 있다. 이산화 티탄 분체는 크기가 약 0.25 내지 약 0.5 마이크론(9.8 내지 19.8 마이크로인치)일 수 있다. 중합체 예비처리층(8)에서 분체(10)의 바람직한 농도는 약 4 내지 50 wt%이다. 이러한 농도 범위는 범위 전체 및 그 끝을 포함하여 5, 6 또는 7 wt%와 같은 모든 중간 농도를 포함한다.
광택과 반사율을 최소화하기 위한 본 발명의 평판인쇄용 시트재의 대체 처리는 기재의 표면을 식각하는 것을 포함한다. 기재가 알루미늄일 경우, 식각은 수산화 나트륨의 수용액과 같은 알칼리 조성물에서 알루미늄 기재를 침적함으로써 수행된다. 침적공정은 승온조건에서(즉 약 50℃ 내지 약 90℃) 약 15 내지 약 120초 동안 수행된다. 조성물을 알루미늄 기재 상에 브러싱하는 것과 같이 식각 조성물을 알루미늄 기재에 적용하는 다른 기작이 사용될 수 있다. 식각을 통한 바람직한 조도 레벨은 Ra 값으로 약 15 내지 50 마이크로인치, 더욱 바람직하게는 약 25 마이크로인치이다. 이 실시예에서 기술된 식각에 의하여 조판된 조도는 상술한 기재로롤 텍스처링될 수 있는 조도와는 다르다. 이 실시예를 위해(감광성 코팅된 알루미늄 시트재에서의 사용을 위한 처리), 식각은 일반재(as-rolled) 또는 롤-텍스처링된 재료 상에 수행된다.
본 발명의 이러한 기술(예비처리층의 도핑 및 알루미늄 기재의 식각)은 감광성 코팅재의 부착을 증가시키고 본 발명의 제품에 적용되는 감광성 코팅을 통한 빛의 흡수를 향상시키도록 단독 또는 서로 조합하여 사용될 수 있다.
도 2에 도시된 본 발명의 다른 실시예는 평판인쇄용 시트재(22)에서 다른 예비처리층(12)을 포함한다. 예비처리층(12)은 어떠한 도판트 분체(10)도 함유하지 않은 것으로 보여진다. 특별히 도시되어 있지 않지만, 상기 층(12)은 층(8) 아래에 위치할 수 있고 및/또는 하나 또는 그 이상의 층(8 및 12)이 본 발명의 평판인쇄용 시트재에 포함될 수 있다.
본 발명은 상기에서 일반적으로 설명되었지만, 다음의 특정 실시예를 통하여 본 발명의 특징적인 제품과 제조방법을 부연적으로 설명한다.
실시예 1-29
롤 텍스처링된 알루미늄 기재(평균 Ra 약 11-12 마이크로인치)가 에탄올에 5 wt% 고체로(비교실시예 21 제외) 희석된 비닐 포스폰산과 아크릴산의 공중합체의 20 wt% 수용액으로 1, 30 또는 60 mg/ft2(msf)의 코팅중량으로 코팅되었다. 실시예 3, 4, 7, 8, 11, 12, 15, 16, 19 및 20의 기재 표면은 수산화 나트륨의 5 wt% 수용액에 기재를 180℉에서 75초 동안 침적함으로써 25 마이크로인치(μin)의 Ra 값으로 식각되었다. 중합체 코팅재는 비교실시예 1-4 및 21에서는 도핑되지 않았고, 실시예 5-20에서는 흑색 염료로, 실시예 24 및 25에서는 TiO2로, 실시예 22, 28 및 29에서는 알루미나로, 실시예 23, 26 및 27에서는 실리카로 표 1에 표시된 농도로 도핑되었다.
실시예 1-29에서 제조된 샘플에 대하여 전반사율을 측정하였고 그 결과는 표 1에 기재되었다. 약 55 이하의 전반사율을 가지는 샘플이 감광성 코팅재로 코팅될 때 빛 흡수를 향상시키는데 특히 적합하다. 실시예 22-29에서 제조된 샘플에 대하여 20°, 60° 및 80°에서 광택을 측정하였고, 그 결과는 표 1에 기재되었다.
실시예 첨가제 중합체코팅두께 표면조도 전반사율 광택
타입 농도(wt%) 20° 60° 85°
비교예1 없음 - 1 msf 일반재 85.0
비교예2 없음 - 30 msf 일반재 80.0
비교예3 없음 - 1 msf Ra 25 μin 80.5
비교예4 없음 - 30 msf Ra 25 μin 68.0
5 흑색염료1 4.6 1 msf 일반재 84.0
6 흑색염료1 4.6 30msf 일반재 59.0
7 흑색염료1 4.6 1 msf Ra 25 μin 79.3
8 흑색염료1 4.6 30 msf Ra 25 μin 49.6
9 흑색염료1 10 1 msf 일반재 82.5
10 흑색염료1 10 30 msf 일반재 45.1
11 흑색염료1 10 1 msf Ra 25 μin 77.4
12 흑색염료 10 30 msf Ra 25 μin 38.3
13 흑색염료2 4.6 1 msf 일반재 84.6
14 흑색염료2 4.6 30 msf 일반재 72.4
15 흑색염료2 4.6 1 msf Ra 25 μin 79.9
16 흑색염료2 4.6 30 msf Ra 25 μin 60.5
17 흑색염료2 10 1 msf 일반재 84.2
18 흑색염료2 10 30 msf 일반재 62.2
19 흑색염료2 10 1 msf Ra 25 μin 79.4
20 흑색염료2 10 30 msf Ra 25 μin 50.6
비교예21 용매3 - 30 msf 일반재 80.2 5.5 34.4 49.3
22 알루미나 10 30 msf 일반재 79.6 5.0 29.4 45.3
23 SiO2 10 30 msf 일반재 80.7 5.4 25.2 43.7
24 TiO2 10 60 msf 일반재 73.7 3.9 19.9 49.9
25 TiO2 20 60 msf 일반재 72.2 3.3 14.4 44.4
26 SiO2 10 60 msf 일반재 79.8 4.8 18.9 43.3
27 SiO2 20 60 msf 일반재 79.2 3.2 13.2 38.4
28 알루미나 10 60 msf 일반재 79.4 5.0 23.8 44.6
29 알루미나 20 60 msf 일반재 78.9 4.2 17.0 37.2
1: Nigrosine Base BA, Code 73704, Bayer Corporation(Pittsburgh, PA)2: Nigrosine WLF Uncut, Code 73704, Bayer Corporation(Pittsburgh, PA)3: 희석용매는 프로필렌 글리콜, 디아세톤 알콜 및 에틸 알콜 각각의 약 3분의 1을 포함
실시예 30-31
약 9 마이크로인치의 조도를 가지는 롤 텍스처링된 알루미늄 기재가 에탄올에 5 wt% 고체로 희석된 비닐 포스폰산과 아크릴산의 공중합체 및 실시예 30에서는 약 4-5 마이크론 크기의 50 wt% 실리카 분체(Syloid(R) 308, W.R. Grace & Company, Columbia, MD)를 함유하는 20 wt% 수용액으로 코팅되었다. 제조된 시트의조도(Ra) 및 피크(산) 총수는 표 2에 기록되어 있다. 조도 및 피크 총수 측정은 압연방향 및 교차압연방향에 대하여 이격된 위치(A와 B)로 시트의 스트립 위 2개의 위치에서 이루어졌다. 본 발명의 시트재의 조도 및 피크 총수가 통상적인 평판인쇄용 시트재의 조도 및 피크 총수와 유사함을 증명하기 위하여, 통상적인 연마 및 양극산화된 알루미늄 기재는 비교실시예 31에서 대조군으로 사용되었다.
실시예 압연방향Ra(μin) 교차압연방향Ra(μin) 압연방향피크 총수 교차압연방향피크 총수
30A 15.5 17.0 693 685
17.5 17.5 718 609
16.5 16.5 650 650
16.0 17.0 713 693
18.5 17.0 617 655
평균 16.8 17.0 678 658
30B 14.0 14.5 622 749
14.5 15.5 655 647
14.5 14.5 647 662
14.5 15.0 586 665
15.5 14.5 604 650
평균 14.6 14.8 623 675
비교예31 17.0 19.5 706 NA
20.0 20.0 699 NA
21.5 19.5 637 NA
16.5 19.0 777 NA
16.5 18.5 815 NA
평균 18.3 19.3 727 NA
본 발명에 따라 처리된 알루미늄 시트재를 제조하는 방법은 연마 및 양극산화를 포함하는 종래 방법보다 4 내지 10배 빠르다. 더구나, 연마 및 양극산화에서 사용되는 유독 화합물과 관련된 취급 및 처분 곤란을 피하게 된다.
본 발명에 대한 변형이 상술한 설명에 개시된 개념을 벗어남이 없이 이루어질 수 있음은 본 기술분야의 통상의 지식을 가진 자라면 쉽게 이해할 것이다. 이러한 변형은 청구범위가 그 용어의 의해 특별히 달리 지정하지 않는 한 다음의 청구범위 내에 포함되는 것으로 고려되어야 한다. 따라서, 여기서 상세히 설명된 특정의 실시예는 단지 예시적인 것일뿐 본 발명의 범위를 제한하지 않으며, 첨부되는 청구범위 및 그의 일부와 모든 균등물에 대한 전체 범위가 주워져야 한다.
본 발명의 평판인쇄용 시트재에서 예비처리층은 기재에 대한 인쇄 조성물의 부착을 향상시키며, 도판트 분체 및 식각된 표면은 표면적을 증가시키고 감광성 코팅재가 빛에 노출되는 동안 예비처리층으로부터 빛의 광택 및 반사율을 최소화한다. 또한, 본 발명 제품의 텍스처링된 표면은 블랙 반사를 최소화하고 이미지화 공정의 균일성 및 효율을 개선한다.
본 발명에 따라 처리된 알루미늄 시트재를 제조하는 방법은 연마 및 양극산화를 포함하는 종래 방법보다 4 내지 10배 빠르며, 연마 및 양극산화에서 사용되는 유독 화합물과 관련된 취급 및 처분 곤란을 피하게 된다.

Claims (26)

  1. 약 40 마이크로인치 미만의 Ra 조도(roughness)를 갖는 롤 텍스처링된(roll textured) 표면을 가지는 금속 기재; 및
    상기 롤 텍스처링된 표면 위에 위치하고, 아크릴산의 중합체, 메타크릴산의 중합체, 유기인계 중합체 및 유기인계 화합물과 아크릴산 또는 메타크릴산의 공중합체로 구성되는 군에서 선택된 중합체를 포함하며, 인쇄 조성물을 시트재에 부착하는데 적용되는 적어도 하나의 예비처리층을 필수 구성성분으로 하는 평판인쇄용 시트재.
  2. 제 1항에 있어서, 상기 금속이 철강을 포함하는 평판인쇄용 시트재.
  3. 제 1항에 있어서, 상기 금속이 알루미늄 합금을 포함하는 평판인쇄용 시트재.
  4. 제 3항에 있어서, 상기 롤 텍스처링된 표면이 약 25 마이크로인치 미만의 Ra 조도를 가지는 평판인쇄용 시트재.
  5. 제 3항에 있어서, 상기 롤 텍스처링된 표면이 약 5 내지 약 15 마이크로인치의 Ra 조도를 가지는 평판인쇄용 시트재.
  6. 제 3항에 있어서, 상기 표면이 양극산화되지 않거나(nonanodized) 규산염 처리되지 않거나(nonsilicated) 또는 둘 다인 평판인쇄용 시트재.
  7. 제 1항에 있어서, 상기 중합체가 아크릴산과 비닐 포스폰산(phosphonic acid)의 공중합체를 포함하는 평판인쇄용 시트재.
  8. 제 1항에 있어서, 상기 예비처리층 중 적어도 한층이 알루미나, 실리카, 이산화 티탄, 흑색 염료 및 흑색 안료로 구성되는 군에서 선택된 조성의 도판트(dopant) 분체를 더욱 포함하는 평판인쇄용 시트재.
  9. 제 8항에 있어서, 상기 분체가 상기 예비처리층의 약 4 내지 약 50 wt%를 포함하는 평판인쇄용 시트재.
  10. 제 8항에 있어서, 상기 분체가 약 1.0 내지 약 3.0 마이크론 크기의 알루미나 분체를 포함하는 평판인쇄용 시트재.
  11. 제 8항에 있어서, 상기 분체가 약 0.02 내지 약 5 마이크론 크기의 실리카 분체를 포함하는 평판인쇄용 시트재.
  12. 제 8항에 있어서, 상기 분체가 약 0.25 내지 약 0.5 마이크론 크기의 이산화 티탄 분체를 포함하는 평판인쇄용 시트재.
  13. 제 8항에 있어서, 상기 예비처리층 중 다른 층이 상기 분체를 함유하지 않는 평판인쇄용 시트재.
  14. 제 3항에 있어서, 상기 롤 텍스처링된 표면이 식각되어 있는 평판인쇄용 시트재.
  15. 제 14항에 있어서, 상기 식각된 표면이 약 15 내지 약 50 마이크로인치의 Ra 조도를 가지는 평판인쇄용 시트재.
  16. 제 14항에 있어서, 상기 식각된 표면이 약 25 마이크로인치의 Ra 조도를 가지는 평판인쇄용 시트재.
  17. 철강 또는 중합체 재료를 포함하는 기재; 및
    상기 롤 텍스처링된 표면 위에 위치하고, 아크릴산의 중합체, 메타크릴산의 중합체, 유기인계 중합체 및 유기인계 화합물과 아크릴산 또는 메타크릴산의 공중합체로 구성되는 군에서 선택된 중합체를 포함하며, 인쇄 조성물을 시트재에 부착하는데 적용되는 적어도 하나의 예비처리층을 필수 구성성분으로 하는 평판인쇄용시트재.
  18. 제 17항에 있어서, 상기 중합체가 아크릴산과 비닐 포스폰산의 공중합체를 포함하는 평판인쇄용 시트재.
  19. 제 17항에 있어서, 상기 예비처리층이 알루미나, 실리카, 이산화 티탄, 흑색 염료 및 흑색 안료로 구성되는 군에서 선택된 조성의 도판트 분체를 더욱 포함하는 평판인쇄용 시트재.
  20. 제 19항에 있어서, 상기 분체가 상기 예비처리층의 약 4 내지 약 50 wt%를 포함하는 평판인쇄용 시트재.
  21. 기재; 및
    상기 기재의 표면 위에 위치하고, (i) 아크릴산의 중합체, 메타크릴산의 중합체, 유기인계 중합체 및 유기인계 화합물과 아크릴산 또는 메타크릴산의 공중합체로 구성되는 군에서 선택된 중합체 및 (ii) 알루미나, 실리카, 이산화 티탄, 흑색 염료 및 흑색 안료로 구성되는 군에서 선택된 조성의 도판트 분체를 포함하며, 인쇄 조성물을 시트재에 부착하는데 적용되는 적어도 하나의 예비처리층을 필수 구성성분으로 하는 평판인쇄용 시트재.
  22. 제 21항에 있어서, 상기 분체가 상기 예비처리층의 약 4 내지 약 50 wt%를 포함하는 평판인쇄용 시트재.
  23. 제 21항에 있어서, 상기 기재가 알루미늄 합금, 철강 또는 중합체 재료를 포함하는 평판인쇄용 시트재.
  24. 제 21항에 있어서, 상기 기재가 알루미늄 합금을 포함하고 상기 표면이 식각되어 있는 평판인쇄용 시트재.
  25. 제 24항에 있어서, 상기 식각된 표면이 약 15 내지 약 50 마이크로인치의 Ra 조도를 가지는 평판인쇄용 시트재.
  26. 제 24항에 있어서, 상기 식각된 표면이 약 25 마이크로인치의 Ra 조도를 가지는 평판인쇄용 시트재.
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Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004507389A (ja) * 2000-08-30 2004-03-11 アルコア　インコーポレーテツド リソグラフプレート用の前処理シート製品
US6521391B1 (en) * 2000-09-14 2003-02-18 Alcoa Inc. Printing plate
US7820300B2 (en) * 2001-10-02 2010-10-26 Henkel Ag & Co. Kgaa Article of manufacture and process for anodically coating an aluminum substrate with ceramic oxides prior to organic or inorganic coating
US7296517B2 (en) * 2003-11-11 2007-11-20 Fujifilm Corporation Roll for metal rolling, and support for lithographic printing plate
DE102005009321A1 (de) * 2005-03-01 2006-09-07 Degussa Ag Suspension
DE102005037336A1 (de) * 2005-08-04 2007-02-08 Degussa Ag Kohlenstoffmaterial
DE102006037079A1 (de) * 2006-08-07 2008-02-14 Evonik Degussa Gmbh Ruß, Verfahren zur Herstellung von Ruß und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
DE102007060307A1 (de) * 2007-12-12 2009-06-18 Evonik Degussa Gmbh Verfahren zur Nachbehandlung von Ruß
DE102008026894A1 (de) * 2008-06-05 2009-12-10 Evonik Degussa Gmbh Ink Jet Tinte
DE102008044116A1 (de) * 2008-11-27 2010-06-02 Evonik Degussa Gmbh Pigmentgranulat, Verfahren zu dessen Herstellung und Verwendung
PL2196507T3 (pl) * 2008-12-12 2011-12-30 Evonik Carbon Black Gmbh Atrament do drukarek atramentowych
US8349462B2 (en) 2009-01-16 2013-01-08 Alcoa Inc. Aluminum alloys, aluminum alloy products and methods for making the same
US9421751B2 (en) * 2009-11-23 2016-08-23 Vim-Technologies Ltd Direct inkjet imaging lithographic plates, methods for imaging and pre-press treatment
US20110120333A1 (en) * 2009-11-23 2011-05-26 Michael Karp Direct inkjet imaging lithographic plates and methods for imaging the plates
DE102010002244A1 (de) * 2010-02-23 2011-08-25 Evonik Carbon Black GmbH, 63457 Ruß, Verfahren zu seiner Herstellung und seine Verwendung
CN102876179B (zh) * 2011-07-13 2015-03-11 中国科学院化学研究所 用于喷墨打印直接制版用铝版基的涂料及其制法和应用
CN104149513B (zh) * 2014-09-02 2016-07-13 江苏格美高科技发展有限公司 一种涂层类印刷介质及其制备方法
PL425202A1 (pl) * 2018-04-12 2019-10-21 Addventure Spółka Z Ograniczoną Odpowiedzialnością Podobrazie dla dzieła plastycznego w formie płaszczyznowej, zwłaszcza malarskiego lub fotografii, sposób jego wytwarzania i zastosowanie
CN112226041A (zh) * 2020-10-12 2021-01-15 江苏华海诚科新材料股份有限公司 一种高导热型环氧树脂组合物及其制备方法

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL267931A (ko) 1960-08-05 1900-01-01
US3922441A (en) * 1974-08-01 1975-11-25 Scm Corp Lithographic printing plate and method of making the same
US4272604A (en) * 1975-06-09 1981-06-09 Western Litho Plate & Supply Co. Base plate and lithographic plate prepared by sensitization thereof
US5368974A (en) * 1993-05-25 1994-11-29 Eastman Kodak Company Lithographic printing plates having a hydrophilic barrier layer comprised of a copolymer of vinylphosphonic acid and acrylamide overlying an aluminum support
US5711991A (en) 1995-11-20 1998-01-27 Aluminum Company Of America Process for making lithographic sheet material having a thermoplastic adhesive layer
WO1997031783A1 (en) * 1996-02-27 1997-09-04 Aluminum Company Of America Texture rolled lithosheet
US5795647A (en) 1996-09-11 1998-08-18 Aluminum Company Of America Printing plate having improved wear resistance
US5759742A (en) * 1996-09-25 1998-06-02 Eastman Kodak Company Photosensitive element having integral thermally bleachable mask and method of use
GB9624224D0 (en) * 1996-11-21 1997-01-08 Horsell Graphic Ind Ltd Planographic printing
US5829353A (en) 1997-06-18 1998-11-03 Presstek, Inc. Method of modulating lithographic affinity and printing members made thereby
US6165689A (en) * 1997-10-08 2000-12-26 Agfa-Gevaert, N.V. Method for making positive working printing plates from a light sensitive imaging element
EP0908307B1 (en) * 1997-10-08 2003-11-26 Agfa-Gevaert A method for making positive printing plates from a heat mode sensitive imaging element
EP0908784A1 (en) * 1997-10-08 1999-04-14 Agfa-Gevaert N.V. A method of making positive working printing plates from a light sensitive imaging element
US6014929A (en) * 1998-03-09 2000-01-18 Teng; Gary Ganghui Lithographic printing plates having a thin releasable interlayer overlying a rough substrate
GB2345009B (en) * 1998-12-17 2003-03-05 Fuji Photo Film Co Ltd Direct drawing type lithographic printing plate precursor
JP2004507389A (ja) * 2000-08-30 2004-03-11 アルコア　インコーポレーテツド リソグラフプレート用の前処理シート製品

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