KR20030056246A - Color filter including a scattering layer for a liquid crystal display and a manufacturing method thereof - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A producing method of a color filter is provided to form a scattering layer on a key portion without an additional photo process. CONSTITUTION: A lower substrate(111) has a display area and a non-display area. A switching element is formed on the lower substrate. A reflecting electrode is connected with the switching element. An align key(152) of a lower plate is formed in the non-display area of the lower substrate. An upper substrate(121) is opposed to the lower substrate by separating each other. Plural block matrixes(112) are formed in the lower part of the upper substrate A color filter(123a) is located between the black matrixes. A scattering layer(140) is located under the color filter. A common electrode(124) is located under the color filter. An align key(150) of an upper plate is formed in the lower part of the upper substrate corresponding to the align key of the lower plate. A layer for preventing the layering of the scattering layer is located under the align key of the upper plate. The preventing layer is formed by the same material as the color filter. A liquid crystal layer(130) is filled between the reflecting electrode and the common electrode. Thereby, processes are simplified by removing the scattering layer without an additional photo process.

Description

액정표시장치에서 산란층을 포함하는 컬러필터 및 그의 제조 방법{Color filter including a scattering layer for a liquid crystal display and a manufacturing method thereof}Color filter including a scattering layer for a liquid crystal display and a manufacturing method

본 발명은 액정 표시 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 반사형 액정 표시 장치 및 그의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly, to a reflective liquid crystal display device and a manufacturing method thereof.

최근 정보화 사회로 시대가 급발전함에 따라 박형화, 경량화, 저 소비전력화 등의 우수한 특성을 가지는 평판표시장치(flat panel display)의 필요성이 대두되었다.Recently, with the rapid development of the information society, the necessity of a flat panel display having excellent characteristics such as thinning, light weight, and low power consumption has emerged.

이러한 평판표시장치는 스스로 빛을 발하느냐 그렇지 못하냐에 따라 나눌 수 있는데, 스스로 빛을 발하여 화상을 표시하는 것을 발광형 표시장치라 하고, 그렇지 못하고 외부의 광원을 이용하여 화상을 표시하는 것을 수광형 표시장치라고 한다. 발광형 표시장치로는 플라즈마 표시장치(plasma display panel)와 전계 방출 표시 장치(field emission display), 전계 발광 표시 장치(electroluminescence display) 등이 있으며, 수광형 표시장치로는 액정 표시장치(liquid crystal display)가 있다.Such a flat panel display can be divided according to whether it emits light by itself or not. A light emitting display device displays light by itself and displays an image by using an external light source. It is called a display device. The light emitting display includes a plasma display panel, a field emission display, an electroluminescence display, and the light receiving display includes a liquid crystal display. There is).

이 중 액정 표시장치가 해상도, 컬러표시, 화질 등이 우수하여 노트북이나 데스크탑 모니터에 활발하게 적용되고 있다.Among them, liquid crystal displays have excellent resolution, color display, and image quality, and are being actively applied to notebooks and desktop monitors.

일반적으로 액정표시장치는 전계 생성 전극이 각각 형성되어 있는 두 기판을 두 전극이 형성되어 있는 면이 마주 대하도록 배치하고 두 기판 사이에 액정 물질을 주입한 다음, 두 전극에 전압을 인가하여 생성되는 전기장에 의해 액정 분자를움직이게 함으로써, 이에 따라 달라지는 빛의 투과율을 조절하여 화상을 표현하는 장치이다.In general, a liquid crystal display device is formed by arranging two substrates on which electric field generating electrodes are formed so that the surfaces on which two electrodes are formed face each other, injecting a liquid crystal material between the two substrates, and then applying voltage to the two electrodes. By moving the liquid crystal molecules by the electric field, it is a device that represents the image by controlling the transmittance of the light is changed accordingly.

그런데, 액정 표시 장치는 앞서 언급한 바와 같이 스스로 빛을 발하지 못하므로 별도의 광원이 필요하다.However, as mentioned above, the liquid crystal display does not emit light by itself and thus requires a separate light source.

따라서, 액정 패널 뒷면에 백라이트(backlight)를 배치하고 백라이트로부터 나오는 빛을 액정 패널에 입사시켜, 액정의 배열에 따라 빛의 양을 조절함으로써 화상을 표시한다. 이때, 액정 표시 장치의 전계 생성 전극은 투명 도전 물질로 형성되고, 두 기판 또한 투명 기판으로 이루어져야 한다.Therefore, an image is displayed by arranging a backlight on the back of the liquid crystal panel and injecting light from the backlight into the liquid crystal panel to adjust the amount of light according to the arrangement of the liquid crystals. In this case, the field generating electrode of the liquid crystal display device is formed of a transparent conductive material, and both substrates should also be made of a transparent substrate.

이러한 액정표시장치를 투과형(transmission type) 액정표시장치라고 하는데, 투과형 액정 표시장치는 백라이트와 같은 인위적인 배면광원을 사용하므로 어두운 외부 환경에서도 밝은 화상을 구현할 수 있으나, 백라이트로 인한 전력소비(power consumption)가 큰 단점이 있다.Such a liquid crystal display device is called a transmission type liquid crystal display device. Since the liquid crystal display device uses an artificial back light source such as a backlight, it can realize a bright image even in a dark external environment, but it consumes power due to the backlight. There is a big disadvantage.

이와 같은 단점을 보완하기 위해 반사형(reflection type) 액정표시장치가 제안되었다. 반사형 액정표시장치는 외부의 자연광이나 인조광을 반사시킴으로써 액정의 배열에 따라 빛의 투과율을 조절하는 형태로 투과형 액정표시장치에 비해 전력소비가 적다. 반사형 액정표시장치에서 하부의 전계 생성 전극은 반사가 잘 되는 도전 물질로 형성하고, 상부의 전계 생성 전극은 외부광을 투과시키기 위해 투명 도전 물질로 형성한다.In order to compensate for the above disadvantages, a reflection type liquid crystal display device has been proposed. The reflection type liquid crystal display device has less power consumption than the transmission type liquid crystal display device in the form of controlling light transmittance according to the arrangement of liquid crystals by reflecting external natural light or artificial light. In the reflective LCD, the lower field generating electrode is formed of a conductive material that reflects well, and the upper field generating electrode is formed of a transparent conductive material to transmit external light.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 일반적인 반사형 액정 표시 장치에 대하여 설명한다.Hereinafter, a general reflective liquid crystal display will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1은 일반적인 반사형 액정 표시 장치의 단면을 일부 도시한 것으로서, 도시한 바와 같이 소정간격을 가지고 제 1 기판(11)과 제 2 기판(21)이 배치되어 있다. 하부의 제 1 기판(11) 상에는 게이트(gate) 전극(12)이 형성되어 있으며, 그 위에 게이트 절연막(13)이 형성되어 있다. 도시하지 않았지만 게이트 절연막(13) 하부에는 게이트 전극(12)과 연결된 게이트(gate) 배선이 더 형성되어 있다. 다음, 게이트 전극(12) 상부의 게이트 절연막(13) 위에는 액티브(active)층(14)과 오믹 콘택(ohmic contact)층(15a, 15b)이 차례로 형성되어 있다. 오믹 콘택층(15a, 15b) 위에는 소스(source) 및 드레인(drain) 전극(16b, 16c)이 형성되어 있는데, 소스 및 드레인 전극(16b, 16c)은 게이트 전극(12)과 함께 박막 트랜지스터(thin film transistor:T)를 이룬다.FIG. 1 is a partial cross-sectional view of a typical reflective liquid crystal display device, in which a first substrate 11 and a second substrate 21 are disposed at predetermined intervals, as shown. A gate electrode 12 is formed on the lower first substrate 11, and a gate insulating layer 13 is formed thereon. Although not shown, a gate wiring connected to the gate electrode 12 is further formed under the gate insulating layer 13. Next, the active layer 14 and the ohmic contact layers 15a and 15b are sequentially formed on the gate insulating layer 13 on the gate electrode 12. Source and drain electrodes 16b and 16c are formed on the ohmic contact layers 15a and 15b, and the source and drain electrodes 16b and 16c are formed together with the gate electrode 12. film transistor: T).

한편, 소스 및 드레인 전극(16b, 16c)과 같은 물질로 이루어진 데이터(data) 배선(16a)이 게이트 절연막(13) 위에 형성되어 있으며, 데이터 배선(16a)은 소스 전극(16b)과 연결되어 있다. 데이터 배선(16a)은 게이트 배선과 교차하여 화소 영역을 정의한다. 이어서 데이터 배선(16a)과 소스 및 드레인 전극(16b, 16c) 상부에는 유기 물질로 이루어진 보호층(17)이 형성되어 박막 트랜지스터(T)를 덮고 있으며, 보호층(17)은 드레인 전극(16c)을 드러내는 콘택홀(contact hole:17a)을 가진다.On the other hand, a data line 16a made of the same material as the source and drain electrodes 16b and 16c is formed on the gate insulating layer 13, and the data line 16a is connected to the source electrode 16b. . The data line 16a crosses the gate line to define a pixel area. Subsequently, a passivation layer 17 made of an organic material is formed on the data line 16a and the source and drain electrodes 16b and 16c to cover the thin film transistor T. The passivation layer 17 is a drain electrode 16c. It has a contact hole (17a) that exposes.

이러한, 보호층(17) 상부의 화소 영역에는 화소 전극(18)이 형성되어 있어, 콘택홀(17a)을 통해 드레인 전극(16c)과 연결되어 있다. 여기서, 화소 전극(18)은 금속과 같은 도전 물질로 이루어지고, 박막 트랜지스터(T)를 덮고 있으며 데이터배선(16a)과 중첩되어 있어 개구율을 향상시킬 수 있는데, 보호층(17)을 저유전 상수를 가지는 유기물질로 형성하여 화소 전극(18)과 데이터 배선(16a) 사이에 신호 간섭이 발생하지 않도록 한다.The pixel electrode 18 is formed in the pixel area above the passivation layer 17 and is connected to the drain electrode 16c through the contact hole 17a. Here, the pixel electrode 18 is made of a conductive material such as a metal, and covers the thin film transistor T and overlaps the data wiring 16a to improve the aperture ratio. The protective layer 17 may have a low dielectric constant. It is formed of an organic material having a structure such that signal interference does not occur between the pixel electrode 18 and the data line 16a.

한편, 제 2 기판(21)의 안쪽면에는 블랙 매트릭스(black matrix:22)가 형성되어 있고, 그 하부에 적(R), 녹(G), 청(B)의 색이 순차적으로 반복되어 있는 컬러필터(color filter:23a, 23b, 23c)가 형성되어 있으며, 컬러필터(23a, 23b, 23c) 하부에는 투명 도전물질로 이루어진 공통전극(24)이 형성되어 있다. 여기서, 컬러필터(23a, 23b, 23c)는 하나의 색이 하나의 화소전극(18)과 대응하며, 블랙 매트릭스(22)는 화소전극(18)의 가장자리를 덮고 있다. 앞서 언급한 것처럼, 금속과 같이 불투명한 도전 물질로 이루어진 화소전극(18)이 박막 트랜지스터(T)를 덮고 있으므로, 블랙 매트릭스(22)는 화소전극(18)의 가장자리만을 덮도록 이루어질 수 있다.On the other hand, a black matrix 22 is formed on the inner surface of the second substrate 21, and the red, green, and blue colors are sequentially repeated under the black matrix. Color filters 23a, 23b, and 23c are formed, and a common electrode 24 made of a transparent conductive material is formed under the color filters 23a, 23b, and 23c. Here, one color of the color filters 23a, 23b, and 23c corresponds to one pixel electrode 18, and the black matrix 22 covers the edge of the pixel electrode 18. As mentioned above, since the pixel electrode 18 made of an opaque conductive material such as metal covers the thin film transistor T, the black matrix 22 may cover only the edge of the pixel electrode 18.

다음, 화소 전극(18)과 공통 전극(24) 사이에는 액정층(30)이 위치한다. 이때, 도시하지 않았지만 화소 전극(18) 상부와 공통 전극(24) 하부에는 액정 분자의 초기 배열 상태를 결정하는 배향막이 각각 형성되어 있다.Next, the liquid crystal layer 30 is positioned between the pixel electrode 18 and the common electrode 24. At this time, although not shown, an alignment layer for determining an initial arrangement state of the liquid crystal molecules is formed on the pixel electrode 18 and the common electrode 24, respectively.

이와 같이, 반사형 액정 표시 장치에서는 화소전극을 반사가 잘 되는 물질로 형성하여 외부에서 입사된 빛을 반사시켜 화상을 표현한다. 따라서, 소비 전력을 감소시켜 장시간 사용할 수 있다.As described above, in the reflective liquid crystal display device, the pixel electrode is formed of a material with good reflection to reflect light incident from the outside to represent an image. Therefore, power consumption can be reduced and used for a long time.

그런데, 이러한 액정 표시 장치에서 반사 전극은 평탄한 면을 가지고 있어, 빛이 거울에서 반사되는 것과 같은 반사, 즉 거울반사(또는 정반사(正反射))를 하기 때문에, 광원의 위치에 따라 입사광의 정반사 방향에서만 빛의 휘도가 높고 정면의 휘도는 낮은 문제가 있다.In the liquid crystal display device, however, the reflective electrode has a flat surface and reflects light, that is, mirror reflection (or specular reflection) as if light is reflected from a mirror, so that the reflection direction of incident light depends on the position of the light source. Only there is a problem that the brightness of light is high and the brightness of the front is low.

따라서, 시야각을 넓히기 위해 정반사 방향 이외의 영역까지 빛을 확산시키는 산란필름을 사용한 예가 제시되었다.Therefore, an example of using a scattering film that diffuses light to a region other than the specular reflection direction in order to widen the viewing angle has been presented.

이러한 종래의 반사형 액정 표시 장치를 도 2에 도시하였는데, 도시한 바와 같이 종래의 반사형 액정 표시 장치에서는 제 2 기판(21) 상부에 전방산란필름(front scattering film)(40)이 배치되어 있다.The conventional reflective liquid crystal display device is illustrated in FIG. 2, and as shown, a front scattering film 40 is disposed on the second substrate 21 in the conventional reflective liquid crystal display device. .

그러나, 전방산란필름(40)을 사용하는 경우 전방산란필름(40)에서의 백스캐터링(back scattering)에 의해 이미지 흐림(image blurring)이 발생하여 액정 표시 장치의 표시 효율을 떨어뜨린다.However, when the front scattering film 40 is used, image blurring occurs due to back scattering in the front scattering film 40, thereby reducing display efficiency of the liquid crystal display.

왜냐하면 전방산란필름 부착방식의 경우 10㎛이하의 셀 내부에서 반사된 빛이 6㎜(셀 내부층의 약 100배)정도의 유리 기판을 지나 산란 필름에서 산란되기 때문에 인접화소간의 색번짐으로 인한 색특성이 나빠지기 때문이다.In the case of the forward scattering film attaching method, since the light reflected from the inside of the cell less than 10㎛ is scattered from the scattering film through the glass substrate of about 6mm (about 100 times of the inner layer of the cell), color characteristics due to color bleeding between adjacent pixels Because it gets worse.

한편, 도 3은 종래의 또 다른 예를 도시하고 있는 바, 화소 전극이 요철을 가지도록 하여 반사되는 빛을 산란시킬 수도 있다.3 illustrates another conventional example, the pixel electrode may have irregularities to scatter the reflected light.

도 3에 도시한 바와 같이, 보호층(17)의 상부면에 굴곡을 형성하여 반사 전극(18)의 표면이 요철 형태를 가지도록 한다. 따라서, 반사되는 빛의 각도를 변화시켜 정면 휘도를 향상시킬 수 있다.As shown in FIG. 3, the surface of the reflective electrode 18 has a concave-convex shape by forming a bend on the upper surface of the protective layer 17. Therefore, the front brightness can be improved by changing the angle of the reflected light.

그런데, 정면 방향으로 빛이 반사되도록 하기 위해서는 요철의 경사각이 10도 내외를 이루도록 형성해야 한다. 이와 같이, 경사각이 10도 내외를 이루도록 요철을 형성하기 위해서는 공정 조건이 까다롭고 재현성이 떨어지는 단점이 있다.However, in order to reflect the light in the front direction, the inclination angle of the unevenness should be formed to be about 10 degrees. As such, in order to form irregularities such that the inclination angle is about 10 degrees, process conditions are difficult and reproducibility is poor.

또한, 이러한 반사형 액정 표시 장치에서 하판의 전극은 금속 물질로 형성하고 상판의 전극은 투명 도전 물질로 형성하는데, 이때 상하판 전극의 일함수 차이로 인해 플리커(flicker)가 많이 발생하는 문제가 있다.In addition, in such a reflective liquid crystal display device, the lower electrode is formed of a metal material and the upper electrode is formed of a transparent conductive material. In this case, there is a problem in that a large amount of flicker occurs due to the difference in the work function of the upper and lower electrodes. .

따라서, 산란 필름을 부착하는 방식이나 요철 반사판을 사용하는 경우 보다는 산란층을 포함하는 컬러필터를 이용하여 셀 내부에서 산란시키는 방식이 색특성에 유리하다.Therefore, the method of scattering the inside of the cell using a color filter including a scattering layer is advantageous to color characteristics rather than the method of attaching the scattering film or the uneven reflecting plate.

한편, 참조 부호 50, 51은 각각 얼라인 키(align key)를 나타내는 것으로 이들은 서로 대향하는 상부기판(21)과 하부기판(11)상에 각각 형성되어서, 두 기판을 합착하기 위하여 두 기판을 얼라인하는 기준점으로 사용되고 있다. 즉, 얼라인 공정의 작업자는 두 기판상의 얼라인 패턴(pattern)이 일치하는지 아닌지를 보고서 두 기판의 얼라인 정도를 판단한다. 그리고, 상기 얼라인 패턴은 구성요소가 형성되지 않는 기판상의 비 액티브영역에 형성되기 때문에 얼라인공정이 완료되면, 커팅되어 폐기된다.Reference numerals 50 and 51 denote alignment keys, respectively, which are formed on the upper substrate 21 and the lower substrate 11 facing each other to freeze the two substrates in order to bond the two substrates together. The cut is used as a reference point. That is, the operator of the alignment process determines whether the alignment patterns of the two substrates are determined by seeing whether the alignment patterns on the two substrates match. In addition, since the alignment pattern is formed in an inactive region on the substrate where no component is formed, when the alignment process is completed, the alignment pattern is cut and discarded.

그러나, 도 4에서 보는 바와 같이 산란층(42)을 포함하는 컬러필터(23)는 일반 컬러필터에 산란층(42)을 코팅하는 방식으로 비교적 손쉽게 제작이 가능한 반면, 산란층(42)을 코팅함에 있어 평탄화가 이루어지기 때문에 셀 공정시 하판에 형성된 키(key)(51)들이 컬러필터에 형성된 산란층으로 인하여 상판 키(key)(50)에 의하여 자동 인식되지 못하는 문제점이 있다.However, as shown in FIG. 4, the color filter 23 including the scattering layer 42 may be manufactured relatively easily by coating the scattering layer 42 on a general color filter, while coating the scattering layer 42. Since the flattening is performed, the keys 51 formed on the lower plate during the cell process may not be automatically recognized by the upper key 50 due to the scattering layer formed on the color filter.

최근, 자연색에 가까운 풀컬러(full color)를 구현하기 위하여 액정 표시소자는 과거보다 더욱 더 고집적화되는 추세에 있기 때문에, 소자간 간격은 매우 협소해지고 있다. 따라서, 조금만 틀려도 초기설계 위치가 아닌곳에 해당 소자가 형성되어 색재현성을 저하시키고, 이와 함께 수율을 떨어뜨리는 요인으로 작용할 수 있기 때문에 얼라인의 중요성이 새삼 강조되고 있다.In recent years, in order to realize full color close to a natural color, liquid crystal display devices tend to be more highly integrated than in the past, and thus the spacing between devices becomes very narrow. Therefore, the importance of alignment is emphasized because the device may be formed at a position other than the initial design position to reduce color reproducibility and to decrease the yield even if it is slightly misaligned.

본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 추가의 포토(photo) 공정 없이 키 부의 산란층이 형성되지 않게 하여 셀(cell) 공정시 자동화에 문제점이 없게 하는 컬러필터(color filter) 제작방법을 제공하는 것이다.The present invention has been made to solve the conventional problems as described above, the object of the present invention is that the scattering layer of the key portion is not formed without an additional photo process so that there is no problem in automation during cell processing It is to provide a method for manufacturing a color filter.

본 발명의 기타 다른 목적이나 효과는 이후 설명되는 본 발명에 따른 바람직한 실시예와 첨부한 도면을 통해 이해할 수 있을 것이다.Other objects and effects of the present invention will be understood from the preferred embodiments and the accompanying drawings.

도 1은 일반적인 반사형 액정 표시 장치의 단면도.1 is a cross-sectional view of a typical reflective liquid crystal display device.

도 2 , 도 3 그리고 도4는 각각 종래의 서로 다른 반사형 액정 표시 장치에 대한 단면도.2, 3, and 4 are cross-sectional views of a conventional reflective liquid crystal display device, respectively.

도 5는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 반사형 액정 표시 장치의 단면도.5 is a cross-sectional view of a reflective liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention.

도 6은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 반사형 액정 표시 장치의 단면도.6 is a cross-sectional view of a reflective liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention.

< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 간단한 설명 ><Brief description of symbols for the main parts of the drawings>

111 : 제 1 기판 112 : 게이트 전극111: first substrate 112: gate electrode

118 : 화소 전극 121 : 제 2 기판118: pixel electrode 121: second substrate

122 : 블랙 매트리스 123 : 컬러필터122: black mattress 123: color filter

124 : 공통 전극 130 : 액정층124: common electrode 130: liquid crystal layer

140 : 산란층 150 : 상판 키140: scattering layer 150: top plate height

152 : 하판 키152: bottom key

본 발명은 반사형 내지는 반사투과형 액정 표시장치 모두에 적용되는 것으로 컬러필터(color filter)에 산란층이 코팅될 때 추가의 포토 공정 없이도 얼라인 키 부에 산란층이 코팅되지 못하게 하여 셀 공정시 자동 키(key) 인식을 가능케 하는 기술에 관한 것이다.The present invention is applied to both reflective and transflective liquid crystal display devices. When the scattering layer is coated on the color filter, the scattering layer is not coated on the alignment key without an additional photo process. It relates to a technology that enables key recognition.

상기와 같은 목적을 달성하기 위해 본 발명의 일측면에 따르면, 표시영역과 비표시영역을 가진 하부 기판과; 상기 하부기판상의 스위칭소자와; 상기 스위칭소자와 연결된 반사전극과; 상기 하부기판의 비표시영역에 형성된 하판 얼라인키와;상기 하부기판과 이격되어 대향하는 투명한 상부기판과; 상기 상부기판의 하부에 형성된 복수개의 블랙매트릭스와; 상기 복수개의 블랙매트릭스 사이에 위치한 컬러필터와; 상기 컬러필터의 하부에 위치한 산란층과; 상기 산란층 하부에 위치하고 상기 하부기판의 반사전극과 대향하는 공통전극과; 상기 하판얼라인키와 대응하는 위치에서 상기 상부기판의 하부에 형성된 상판 얼라인키와; 상기 상판 얼라인키의 하부에 위치하고, 상기 컬러필터와 동일물질인 산란층증착방지층과; 상기 반사전극과 상기 공통전극 사이에 충진된 액정층을 포함하는 액정표시장치를 제공한다.According to an aspect of the present invention to achieve the above object, a lower substrate having a display area and a non-display area; A switching element on the lower substrate; A reflection electrode connected to the switching element; A lower plate alignment key formed in the non-display area of the lower substrate; a transparent upper substrate spaced apart from the lower substrate to face the lower substrate; A plurality of black matrices formed under the upper substrate; A color filter positioned between the plurality of black matrices; A scattering layer under the color filter; A common electrode disposed below the scattering layer and facing the reflective electrode of the lower substrate; An upper plate alignment key formed below the upper substrate at a position corresponding to the lower plate alignment key; A scattering layer deposition preventing layer disposed under the upper plate alignment key and made of the same material as the color filter; A liquid crystal display device including a liquid crystal layer filled between the reflective electrode and the common electrode is provided.

본 발명의 다른 측면에 따르면,투명기판과; 상기 투명기판상에 형성된 복수개의 블랙매트릭스와; 상기 블랙매트릭스와 동일층에 형성되고 상기 기판의 외곽에 위치한 얼라인키와; 상기 각 블랙매트릭스 사이에 위치한 컬러필터와; 상기 컬러필터상에 형성된 산란층과; 상기 얼라인키상에 형성된 산란층증착방지층과; 상기 산란층 상에 형성된 공통전극을 포함하는 액정표시장치용 컬러필터기판을 제공한다.According to another aspect of the invention, the transparent substrate; A plurality of black matrices formed on the transparent substrate; An alignment key formed on the same layer as the black matrix and positioned outside the substrate; A color filter positioned between each of the black matrices; A scattering layer formed on the color filter; A scattering layer deposition preventing layer formed on the alignment key; Provided is a color filter substrate for a liquid crystal display device including a common electrode formed on the scattering layer.

본 발명의 또 다른 측면에 따르면, 표시영역과 비표시영역이 정의된 투명기판상에 금속을 증착하여 표시영역에 다수개의 블랙매트릭스를 비표시영역에 얼라인키를 형성하는 단계와; 상기 다수개의 블랙매트릭스 사이와 상기 얼라인키상에 컬러필터를 형성하는 단계와; 상기 블랙매트릭스 사이의 컬러필터의 상부에 산란층을 형성하는 단계와; 상기 산란층의 상부에 투명공통전극을 형성하는 단계를 포함하는 액정표시장치용 컬러필터기판의 제조방법을 제공한다.According to another aspect of the present invention, the method comprises: forming a plurality of black matrices in the display area and aligning the non-display area by depositing a metal on a transparent substrate having a display area and a non-display area defined therein; Forming a color filter between the plurality of black matrices and on the alignment key; Forming a scattering layer on top of the color filter between the black matrices; It provides a method for manufacturing a color filter substrate for a liquid crystal display device comprising the step of forming a transparent common electrode on the scattering layer.

상기 산란층증착방지층의 두께는 상기 하나의 컬러필터의 두께와 실질적으로 동일하며, 상기 산란층증착방지층은 적(R), 녹(G), 청(B) 세 번의 형성 공정 중선택이 가능하다.The thickness of the scattering layer deposition preventing layer is substantially the same as the thickness of the one color filter, the scattering layer deposition preventing layer can be selected from three (R), green (G), blue (B) forming process. .

상기 산란층증착방지층의 두께는 상기 산란층의 두께 보다도 큰 것을 특징으로 하며, 다만 그 두께가 키 인식이 가능한 수준까지는 산란층의 높이 보다 낮아도 무방하다.The thickness of the scattering layer deposition preventing layer is characterized in that larger than the thickness of the scattering layer, but the thickness may be lower than the height of the scattering layer up to a level capable of key recognition.

상기 산란층증착방지층은 상기 표시영역으로 정의되는 컬러필터의 어레이부의 외곽에 있는 비표시영역에 존재하며, 상기 컬러필터와 같은 물질로 이루어져 있다.The scattering layer deposition preventing layer is present in a non-display area outside the array portion of the color filter defined as the display area, and is made of the same material as the color filter.

상기 산란층증착방지층의 두께는 상기 두 개 이상의 컬러필터의 두께와 실질적으로 동일한 것을 특징으로 한다. 다시 말해서, 상기 컬러필터(color filter)의 어레이부의 외곽 키(key) 부분에 있는 컬러필터(color filter)층은 적(R), 녹(G), 청(B) 세 번의 형성 공정 중 두 번 내지는 세 번을 연속하여 형성하는 것이 가능하다.The thickness of the scattering layer deposition preventing layer is characterized in that substantially the same as the thickness of the two or more color filters. In other words, the color filter layer in the outer key portion of the array of the color filter is twice in three forming processes of red (R), green (G), and blue (B). It is possible to form three times in succession.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 액정표시장치의 제조방법을 설명하겠다.Hereinafter, a method of manufacturing a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention will be described.

--제 1 실시예--First Embodiment

도 5는 본 발명에 따른 반사형 액정 표시 장치의 단면을 도시한 것으로서, 도시한 바와 같이 소정간격을 가지고 제 1 기판(111)과 제 2 기판(121)이 배치되어 있다.FIG. 5 is a cross-sectional view of the reflective liquid crystal display device according to the present invention, in which a first substrate 111 and a second substrate 121 are disposed at predetermined intervals.

하부의 제 1 기판(111) 상에는 게이트(gate) 전극(112)이 형성되어 있으며, 그 위에 게이트 절연막(113)이 형성되어 있다. 다음, 게이트 전극(112) 상부의 게이트 절연막(113) 위에는 액티브층(114)과 오믹 콘택층(115a, 115b)이 차례로 형성되어 있다. 오믹 콘택층(115a, 115b) 위에는 소스 및 드레인 전극(116b, 116c)이 형성되어 있는데, 소스 및 드레인 전극(116b, 116c)은 게이트 전극(112)과 함께 박막 트랜지스터(T)를 이룬다.A gate electrode 112 is formed on the lower first substrate 111, and a gate insulating layer 113 is formed thereon. Next, the active layer 114 and the ohmic contact layers 115a and 115b are sequentially formed on the gate insulating layer 113 on the gate electrode 112. Source and drain electrodes 116b and 116c are formed on the ohmic contact layers 115a and 115b, and the source and drain electrodes 116b and 116c form the thin film transistor T together with the gate electrode 112.

한편, 소스 및 드레인 전극(116b, 116c)과 같은 물질로 이루어진 데이터 배선(116a)이 게이트 절연막(113) 위에 형성되어 있으며, 데이터 배선(116a)은 소스 전극(116b)과 연결되어 있다. 데이터 배선(116a)은 게이트 배선과 교차하여 화소 영역을 정의한다.Meanwhile, a data line 116a made of the same material as the source and drain electrodes 116b and 116c is formed on the gate insulating layer 113, and the data line 116a is connected to the source electrode 116b. The data line 116a crosses the gate line to define a pixel area.

다음, 데이터 배선(116a)과 소스 및 드레인 전극(116b, 116c) 상부에는 유기 물질로 이루어진 보호층(117)이 형성되어 박막 트랜지스터(T)를 덮고 있으며, 보호층(117)은 드레인 전극(116c)을 드러내는 콘택홀(117a)을 가진다.Next, a passivation layer 117 made of an organic material is formed on the data line 116a and the source and drain electrodes 116b and 116c to cover the thin film transistor T, and the passivation layer 117 is the drain electrode 116c. Has a contact hole 117a exposing

이어서, 보호층(117) 상부의 화소 영역에는 화소 전극(118)이 형성되어 있어, 콘택홀(117a)을 통해 드레인 전극(116c)과 연결되어 있다. 여기서, 화소 전극(118)은 금속과 같은 도전 물질로 이루어져 있다.Subsequently, the pixel electrode 118 is formed in the pixel area above the passivation layer 117, and is connected to the drain electrode 116c through the contact hole 117a. Here, the pixel electrode 118 is made of a conductive material such as metal.

제 1 기판 상부에는 제 1 기판과 일정 간격 이격되어 제 2 기판이 배치되어 있고, 제 2 기판의 하부에는 블랙 매트리스(112)가 형성되어 있다. 상기 블랙 매트릭스(112)는 화소 영역 이외의 부분에서 빛이 새는 것을 방지하는 것으로, 투명 전극의 가장자리를 덮고 있다.The second substrate is disposed above the first substrate at a predetermined interval from the first substrate, and a black mattress 112 is formed below the second substrate. The black matrix 112 prevents light leakage from portions other than the pixel region, and covers the edge of the transparent electrode.

다음, 블랙 매트리스(112)의 하부에는 (R), 녹(G), 청(B)의 색이 순차적으로 반복되어 있는 컬러필터(color filter)(123a)가 형성되어 있는데,컬러필터(color filter)(123)는 하나의 색이 하나의 화소 영역에 대응한다.Next, a color filter 123a is formed at the bottom of the black mattress 112 in which the colors of (R), green (G), and blue (B) are sequentially repeated, and a color filter (color filter) 123 corresponds to one pixel area in one color.

이어, 상기 컬러필터(color filter)하부에는 반사된 빛을 산란시키며 고분자 매트릭스로 이루어진 산란층(140)이 형성되어 있다.Subsequently, a scattering layer 140 formed of a polymer matrix is formed under the color filter to scatter the reflected light.

계속하여, 상기 산란층(140) 하부에는 투명 도전 물질로 이루어진 공통전극(124)이 형성되어 있다. 여기서, 공통전극(124)은 인듐-틴-옥사이드(indium thin oxide:ITO)와 같은 물질로 이루어질 수 있다.Subsequently, a common electrode 124 made of a transparent conductive material is formed under the scattering layer 140. The common electrode 124 may be formed of a material such as indium thin oxide (ITO).

다음으로, 화소전극(118)과 공통전극(124) 사이에는 액정층(130)이 위치하며, 액정층(130)의 액정 분자는 화소전극(118)과 공통전극(124)에 전압이 인가되었을 때, 두 전극 사이에 생성된 전기장에 의해 배열 상태가 변화된다. 이때, 화소전극(118) 상부와 공통전극(124) 하부에는 각각 배향막(미도시)이 형성되어 있어, 액정 분자의 초기 배열 상태를 결정한다.Next, the liquid crystal layer 130 is positioned between the pixel electrode 118 and the common electrode 124, and the voltage of the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer 130 may be applied to the pixel electrode 118 and the common electrode 124. At this time, the arrangement state is changed by the electric field generated between the two electrodes. In this case, an alignment layer (not shown) is formed on the pixel electrode 118 and the common electrode 124, respectively, to determine the initial arrangement state of the liquid crystal molecules.

한편, 액정 표시소자는 소정의 간격 만큼 격리된 상부 기판과 하부 기판으로 구성된 두개의 기판과 두 기판 사이에 삽입된 액정과, 두 개의 기판과 액정 사이에 형성된 복수개의 레이어(layer)들로 이루어져 있는 바. 두 기판을 합착하기 위해 두 기판을 얼라인하는 기준점으로 사용하기 위하여 얼라인 키(key)가 사용되고 있다.On the other hand, the liquid crystal display device is composed of two substrates composed of an upper substrate and a lower substrate separated by a predetermined interval and a liquid crystal inserted between the two substrates, and a plurality of layers formed between the two substrates and the liquid crystals. bar. An alignment key is used to use the two substrates as a reference point for aligning the two substrates.

이와 같이, 상기 적(R), 녹(G), 청(B)의 컬러필터(color filter) 제작시 키(key)부분에도 칼라 레진층을 형성시키면 키(key)부분에 산란층이 코팅되지 못하여 하판에 있는 키(key)들의 자동인식이 가능하다.As such, when the color resin layer is formed on the key portion when the red (R), green (G) and blue (B) color filter is manufactured, the scattering layer is not coated on the key portion. It is possible to automatically recognize the keys on the bottom panel.

도 5를 참조하여, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 액정 표시소자의 제조방법을 설명한다.5, a method of manufacturing a liquid crystal display device according to a preferred embodiment of the present invention will be described.

제 1 기판의 제작 방법은 기존의 어레이 기판의 제작 방법과 동일하므로 본 발명에 있어서는 제 2 기판을 중심으로 제작 방법을 설명하겠다.Since the manufacturing method of a 1st board | substrate is the same as the manufacturing method of a conventional array board | substrate, the manufacturing method centering on a 2nd board | substrate is demonstrated in this invention.

유리와 같이 투명한 제 2 기판(121) 상부에는 화소전극(118)의 가장자리를 덮고있는 블랙 매트리스(122)를 형성한다. 블랙 매트리스(122)는 크롬과 같은 금속을 증착하고 패턴닝하여 형성할 수 있으며, 또는 흑색 수지를 사용할 수도 있다. 본 발명의 경우에는 상기 블랙 매트리스(122)와 상판 키(key)(150)부분을 동시에 형성하므로 흑색 수지보다는 크롬과 같은 금속을 증착하여 블랙 매트리스(150)와 상판 키(key)(150)부분을 동시에 패턴닝하여 형성함이 바람직하다.The black mattress 122 covering the edge of the pixel electrode 118 is formed on the transparent second substrate 121 such as glass. The black mattress 122 may be formed by depositing and patterning a metal such as chromium, or black resin may be used. In the case of the present invention, since the black mattress 122 and the upper plate key (150) portion is formed at the same time, the black mattress 150 and the upper plate key (150) portion by depositing a metal such as chromium rather than a black resin. It is preferable to form by simultaneously patterning.

이어, 블랙 매트리스(150) 상부에 적(R), 녹(G), 청(B)의 컬러필터(color filter)(123)를 각각 형성한다. 이때, 상기 컬러필터(color filter)(123)는 안료 분산법이나 염색법, 인쇄법 등의 방법을 이용하여 형성할 수 있다. 상기 컬러필터(123) 제작시 키(key)(150) 부분에도 칼라 레진을 증착하고, 패턴하여 컬러필터(123a)를 형성한다.Subsequently, red (R), green (G), and blue (B) color filters 123 are formed on the black mattress 150, respectively. In this case, the color filter 123 may be formed using a method such as a pigment dispersion method, a dyeing method, or a printing method. When the color filter 123 is manufactured, color resin is deposited on a key 150 to form a color filter 123a.

계속하여, 상기 컬러필터(123) 상부에는 산란층(140)을 형성한다. 상기 산란층(140)은 코팅시 평탄화가 이루어지기 때문에 컬러필터 어레이(array)부의 외곽에 있는 상판 키(key)(150) 부에 형성된 컬러필터(123a)층은 산란층이 코팅 되지 못하게 하는 댐 역할을 한다.Subsequently, a scattering layer 140 is formed on the color filter 123. Since the scattering layer 140 is planarized during coating, the dam of the color filter 123a formed on the upper portion of the key 150 at the outer side of the color filter array is prevented from coating the scattering layer. Play a role.

이때, 산란층(140)은 고분자 매트릭스에 원형 입자를 분산시켜 스핀 코팅한 후 고분자를 경화시켜 형성할 수 있으며, 또는 고분자 매트릭스를 코팅하고 스프레이로 원형 입자를 산포한 후, 고분자를 경화시켜 형성할 수도 있다. 여기서, 고분자 매트릭스로는 폴리아미드(polyamide)나 폴리이미드(polyimide) 또는 포토아크릴 수지(photoacrylic resin)와 같은 물질을 이용할 수 있다.In this case, the scattering layer 140 may be formed by dispersing the circular particles in the polymer matrix and spin coating the cured polymer, or after coating the polymer matrix and scattering the circular particles with a spray, the polymer may be cured. It may be. In this case, a material such as polyamide, polyimide, or photoacrylic resin may be used as the polymer matrix.

한편, 고분자 매트릭스에 포함되는 원형 입자는 그 크기가 커질수록 산란 정도도 커지는데, 원형 입자가 커질수록 막두께도 두꺼워지므로, 막두께 및 입사광의 파장을 고려하여 원형 입자의 지름은 1 ㎛ 내지 20 ㎛ 정도가 되도록 하는 것이 바람직하다. 이때, 산란층(140) 내에 다양한 크기를 가지는 원형 입자를 포함시킬 수 있으며, 또는 동일한 크기의 원형 입자를 포함시킬 수도 있다.Meanwhile, the larger the size of the circular particles, the larger the scattering degree becomes, but the larger the circular particles become, the thicker the film thickness becomes. It is preferable to make it into about micrometer. At this time, the scattering layer 140 may include circular particles having various sizes, or may include circular particles of the same size.

이어, 산란층(140)상부에는 ITO와 같은 투명한 도전 물질을 증착하고 패턴닝하여 투명 전극(124)을 형성한다.Subsequently, a transparent conductive material such as ITO is deposited and patterned on the scattering layer 140 to form the transparent electrode 124.

본 발명의 제 1 실시예에서는 안료 분산법 또는 인쇄법으로 적(R), 녹(G), 청(B)의 컬러필터(color filter) 제작시(123) 상기 컬러필터 어레이(array) 부의 외곽에 있는 상판 키(key)(150) 부분에도 컬러필터를 형성함으로써, 산란층(140)이 키(key) 부분에 코팅되지 못하는 점에 그 특징이 있다.In the first embodiment of the present invention in the manufacturing of color filters of red (R), green (G), blue (B) by the pigment dispersion method or the printing method (123) the outer edge of the color filter array (array) The color filter is also formed on the upper portion of the key 150 in the scattering layer 140, so that the scattering layer 140 is not coated on the key portion.

이때, 적(R), 녹(G), 청(B) 세 번의 형성 공정 중 선택이 가능하며 상판 키(key)(150) 부분에 형성되는 컬러필터(color filter)(123a)층의 높이는 코팅되는 산란층(140)의 높이보다 같거나 큰 것이 유리하지만 상판 키(key)(150) 부분이 인식 가능한 수준까지는 산란층의 높이보다 낮아도 무방하다.At this time, the red (R), green (G), blue (B) can be selected from three forming processes, the height of the color filter (123a) layer formed on the top key (150) portion is coated It is advantageous to be equal to or larger than the height of the scattering layer 140, but may be lower than the height of the scattering layer to a level at which the key 150 is recognizable.

일반적으로는 컬러필터층은 1??2㎛정도로 형성되며 코팅되는 산란층은 1??3㎛정도 이므로 사용되는 컬러필터(color filter) 두께에 따라 산란층의 두께를 조절하거나 코팅 될 산란층을 고려하여 컬러필터층을 형성시킬 수 있다.In general, the color filter layer is formed to about 1 ?? 2㎛ and the scattering layer to be coated is about 1 ?? 3㎛, so that the scattering layer to be adjusted or the coating is considered depending on the color filter thickness used. To form a color filter layer.

이러한 방법으로 포토(photo) 공정의 추가 없이 자동 키(key) 인식이 가능한 산란층을 포함한 컬러필터를 제작할 수 있다.In this way, a color filter including a scattering layer capable of automatic key recognition without the addition of a photo process can be manufactured.

--실시예 2 --Example 2

도 6은 실시예 2에 따른 액정 표시장치의 단면을 도시한 것으로, 산란층(240)의 두께가 컬러필터의 두께보다 클 경우에는 상기 산란층(240)은 코팅시 평탄화가 이루어지기 때문에 컬러필터 어레이(array)부의 외곽에 있는 상판 키(key)(250) 부에 형성된 컬러필터(color filter)층은 산란층(240)이 코팅 되지 못하게 하는 댐 역할을 하지 못한다..6 is a cross-sectional view of the liquid crystal display according to the second embodiment. When the thickness of the scattering layer 240 is larger than that of the color filter, the scattering layer 240 is planarized during coating. The color filter layer formed on the upper plate key 250 outside the array portion does not act as a dam preventing the scattering layer 240 from being coated.

이와 같이 댐 역할을 하지 못하는 경우에 그림 6에서 보는 바와 같이 컬러필터 어레이(array)부의 외곽에 있는 상판 키(key)(250) 부에 형성된 컬러필터(223a, b, c)층의 높이를 크게할 수 있다. 다시 말해서, 상판 키(key)(250) 부에 있는 컬러필터(223a, b, c)를 1회 내지 3회 까지 형성하는 것이 가능하다.As shown in Fig. 6, when the dam does not function as a dam, the height of the color filter layers 223a, b, and c formed on the upper key 250 part outside the color filter array part is greatly increased. can do. In other words, it is possible to form the color filters 223a, b, and c in the upper plate key portion 250 one to three times.

예컨대, 컬러필터 레진(resin)은 적색(Red)(223a) 패턴 공정 후에 녹색(Green)(223b)을 코팅할 경우, 기형성된 적색(Red)(223a) 패턴 위에 녹색(Green)(223b)층이 올라가게 하는 것이 가능하다. 다시, 기형성된 녹색(Green)(223b) 패턴 위에 청색(Blue)(223c)층이 올라가는 것도 가능하다.For example, when the color filter resin is coated with the green 223b after the red 223a pattern process, the green 223b layer is formed on the pre-formed red 223a pattern. It is possible to let this go up. Again, it is also possible for the blue layer 223c to rise above the pre-formed green pattern 223b.

따라서, 코팅되는 산란층(240)의 높이가 컬러필터(color filter)(223)층의높이보다 크더라도 상판 키(key)(250) 부에 형성된 컬러필터(color filter)층의 두께를 설계된 어레이(array)부에 있는 컬러필터의 3 배까지 높일 수 있어 상판 키(Key) 부분에 산란층이 코팅되는 것을 막을 수 있다.Therefore, even if the height of the scattering layer 240 to be coated is greater than the height of the color filter (223) layer, the array designed the thickness of the color filter (color filter) layer formed on the top key (250) portion Up to three times the color filter in the array can be raised to prevent the scattering layer from being coated on the top key.

--실시예 3 --Example 3

실시예 1 과 2 에서는 컬러필터 어레이(array)부의 외곽에 있는 상판 키(key) 부분에 컬러필터(color filter)를 1회 내지 3회 형성함으로서 산란층이 코팅되지 못하게 하는 방법을 제시하고 있다.In Examples 1 and 2, a scattering layer is prevented from being coated by forming a color filter once or three times in a key portion of an upper plate which is outside the color filter array.

실시예 3에서는 이와 달리 산란층을 증착하고 패턴한 후, 마스크를 사용하여 1 회의 포토 공정을 추가함으로서 키(key) 부분의 산란층을 제거하여 키(key) 부분에 산란층이 코팅되는 것을 막는 컬러필터(color filter) 제조 방법을 제공하고 있다.In Example 3, a scattering layer is deposited and patterned, and then a single photo process is added using a mask to remove the scattering layer of the key portion, thereby preventing the scattering layer from being coated on the key portion. A method of manufacturing a color filter is provided.

그러나, 제 1, 2 실시예에서와 같이, 어레이(array) 부의 컬러필터 제작시 외곽에 있는 키(key) 부분에 컬러필터에 댐을 형성함으로서 산란층이 코팅되는 것을 막는 방법 보다는 제 3 실시예에서와 같이, 산란층을 제거함으로서 산란층이 코팅되는 것을 막는 방법은 포토(photo) 공정이 늘어나므로 바람직하지 않다.However, as in the first and second embodiments, the third embodiment rather than the method of preventing the coating of the scattering layer by forming a dam in the color filter in the key portion in the outer portion when manufacturing the array color filter. As in, a method of preventing the scattering layer from being coated by removing the scattering layer is not preferable because the photo process is increased.

이상에서 살펴본 바와 같이, 산란층을 포함하는 컬러필터(color filter)를 이용하게 되면, 셀(cell) 외부에 산란 필름을 부착하는 것 보다는 백스캐터링에 의한 이미지 흐림이 발생하는 단점을 예방하는 점에서, 그리고 반사 전극의 표면을 요철 형태로 하는 것 보다는 공정 조건이 용이하며 재현성이 높아지는 점에서 유리하다.As described above, when using a color filter including a scattering layer, rather than attaching the scattering film to the outside of the cell (cell) to prevent the disadvantages of the image blur caused by backscattering In addition, it is advantageous in that process conditions are easier and reproducibility is higher than that of the surface of the reflective electrode in the form of irregularities.

다만, 산란층을 포함하는 컬러필터는 일반 컬러필터(color filter)에 산란층을 코팅하는 방식으로 비교적 손쉽게 제작이 가능한 반면 셀 공정시 하판에 형성된 키들이 상판의 산란층으로 인해 자동 인식되지 못하는 문제점이 있어 왔는 바, 컬러필터 제작(color filter)시 어레이부의 외곽에 있는 키부에 컬러필터를 1회 내지는 3회 형성함으로서 산란층이 상판 키부에 코팅되지 못하여 하판 키들의 자동 인식이 가능하게 되었다.However, the color filter including the scattering layer can be manufactured relatively easily by coating the scattering layer on a general color filter, but the keys formed on the lower plate during the cell process are not automatically recognized due to the scattering layer of the upper plate. Since the color filter is formed once or three times in the key portion outside the array unit during the manufacturing of the color filter, the scattering layer is not coated on the upper portion of the upper portion of the key, thereby enabling automatic recognition of the lower keys.

특히 산란층을 포함하는 컬러필터(color filter)의 제작의 경우 추가의 포토(photo) 공정 없이 산란층을 제거할 수 있어 공정의 단순화를 도모할 수 있다.Particularly, in the case of manufacturing a color filter including a scattering layer, the scattering layer can be removed without an additional photo process, thereby simplifying the process.

Claims (9)

표시영역과 비표시영역을 가진 하부 기판과;A lower substrate having a display area and a non-display area; 상기 하부기판상의 스위칭소자와;A switching element on the lower substrate; 상기 스위칭소자와 연결된 반사전극과;A reflection electrode connected to the switching element; 상기 하부기판의 비표시영역에 형성된 하판 얼라인키와;A lower plate alignment key formed in the non-display area of the lower substrate; 상기 하부기판과 이격되어 대향하는 투명한 상부기판과;A transparent upper substrate spaced apart from the lower substrate to face the lower substrate; 상기 상부기판의 하부에 형성된 복수개의 블랙매트릭스와;A plurality of black matrices formed under the upper substrate; 상기 복수개의 블랙매트릭스 사이에 위치한 컬러필터와;A color filter positioned between the plurality of black matrices; 상기 컬러필터의 하부에 위치한 산란층과;A scattering layer under the color filter; 상기 산란층 하부에 위치하고 상기 하부기판의 반사전극과 대향하는 공통전극과;A common electrode disposed below the scattering layer and facing the reflective electrode of the lower substrate; 상기 하판얼라인키와 대응하는 위치에서 상기 상부기판의 하부에 형성된 상판 얼라인키와;An upper plate alignment key formed below the upper substrate at a position corresponding to the lower plate alignment key; 상기 상판 얼라인키의 하부에 위치하고, 상기 컬러필터와 동일물질인 산란층증착방지층과;A scattering layer deposition preventing layer disposed under the upper plate alignment key and made of the same material as the color filter; 상기 반사전극과 상기 공통전극 사이에 충진된 액정층Liquid crystal layer filled between the reflective electrode and the common electrode 을 포함하는 액정표시장치Liquid crystal display comprising a 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 산란층증착방지층의 두께는 상기 하나의 컬러필터의 두께와 실질적으로 동일한 액정표시장치A thickness of the scattering layer deposition preventing layer is substantially the same as that of the one color filter. 제 1 항에 있어서The method of claim 1 상기 산란층증착방지층의 두께는 상기 산란층의 두께 보다도 큰 액정표시장치The thickness of the scattering layer deposition preventing layer is larger than the thickness of the scattering layer 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 산란층증착방지층의 두께는 상기 두 개 이상의 컬러필터의 두께와 실질적으로 동일한 액정표시장치The scattering layer deposition preventing layer has a thickness substantially equal to that of the two or more color filters. 투명기판과;A transparent substrate; 상기 투명기판상에 형성된 복수개의 블랙매트릭스와;A plurality of black matrices formed on the transparent substrate; 상기 블랙매트릭스와 동일층에 형성되고 상기 기판의 외곽에 위치한 얼라인키와;An alignment key formed on the same layer as the black matrix and positioned outside the substrate; 상기 각 블랙매트릭스 사이에 위치한 컬러필터와;A color filter positioned between each of the black matrices; 상기 컬러필터상에 형성된 산란층과;A scattering layer formed on the color filter; 상기 얼라인키상에 형성된 산란층증착방지층과;A scattering layer deposition preventing layer formed on the alignment key; 상기 산란층 상에 형성된 공통전극Common electrode formed on the scattering layer 을 포함하는 액정표시장치용 컬러필터기판Color filter substrate for a liquid crystal display device comprising a 제 5항에 있어서,The method of claim 5, 상기 산란층증착방지층은 상기 컬러필터와 같은 물질로 이루어진 컬러필터기판The scattering layer deposition preventing layer is a color filter substrate made of the same material as the color filter 제 5항에 있어서,The method of claim 5, 상기 산란층증착방지층의 두께는 적어도 상기 하나의 컬러필터층 보다 큰 컬러필터기판The scattering layer deposition preventing layer has a thickness greater than that of at least one color filter layer. 표시영역과 비표시영역이 정의된 투명기판상에 금속을 증착하여 표시영역에 다수개의 블랙매트릭스를 그리고 비표시영역에 얼라인키를 형성하는 단계와;Depositing a metal on a transparent substrate having a display area and a non-display area to form a plurality of black matrices in the display area and an alignment key in the non-display area; 상기 다수개의 블랙매트릭스 사이와 상기 얼라인키상에 컬러필터를 형성하는 단계와;Forming a color filter between the plurality of black matrices and on the alignment key; 상기 블랙매트릭스 사이의 컬러필터의 상부에 산란층을 형성하는 단계와;Forming a scattering layer on top of the color filter between the black matrices; 상기 산란층의 상부에 투명공통전극을 형성하는 단계Forming a transparent common electrode on the scattering layer 를 포함하는 액정표시장치용 컬러필터기판의 제조방법Method of manufacturing a color filter substrate for a liquid crystal display device comprising a 제 8항에 있어서,The method of claim 8, 상기 얼라인키상에 형성된 컬러필터는 적어도 한 개의 층인 컬러필터기판 제조방법The color filter formed on the alignment key is at least one layer of a color filter substrate manufacturing method
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR101022284B1 (en) * 2003-08-19 2011-03-21 삼성전자주식회사 Liquid crystal display device and method for manufacturing thereof
KR101244772B1 (en) * 2005-12-30 2013-03-18 엘지디스플레이 주식회사 Transflective liquid crystal display device and fabrication method of the same
KR101321298B1 (en) * 2007-06-27 2013-10-25 엘지디스플레이 주식회사 Align Key and The Method for Fabricating of The Same and The Method for Fabicating of Thin Film Transistor Substrate Using The Same

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101022284B1 (en) * 2003-08-19 2011-03-21 삼성전자주식회사 Liquid crystal display device and method for manufacturing thereof
KR101244772B1 (en) * 2005-12-30 2013-03-18 엘지디스플레이 주식회사 Transflective liquid crystal display device and fabrication method of the same
KR101321298B1 (en) * 2007-06-27 2013-10-25 엘지디스플레이 주식회사 Align Key and The Method for Fabricating of The Same and The Method for Fabicating of Thin Film Transistor Substrate Using The Same

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