KR20030037234A - 복제가 방지된 광 미디어 및, 그것의 제조 방법 - Google Patents

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KR20030037234A
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리차드 에이치. 세린프런드
제프리 엠. 드로우
도날드 알. 고예트
라케쉬 비그
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베리피케이션 테크놀로지스, 인코포레이티드
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Abstract

광 매체를 복사하는 동안에 데이타 독출을 변경시킬 수 있지만 광 매체의 독출에서는 아래에 있는 데이타의 독출이 가능한 위치에 감광성 물질을 구비하는 리이드-온리 복사 방지 광 매체를 제조하는 방법이 개시된다.

Description

복제가 방지된 광 미디어 및, 그것의 제조 방법{COPY PROTECTED OPTICAL MEDIA AND METHOD OF MANUFACTURE THEREOF}
광 데이타 저장 매체("광 매체")는 테이타가 광학적으로 독출 가능한 방식으로 저장되는 매체이다. 광 매체상의 데이타는 하나 또는 그 이상의 매체의 층에서광 변환에 의해 엔코딩된다. 광 데이타 매체는 다량의 데이타를 분배하고, 저장하며 접근하는데 사용된다. 광 매체의 포맷은 CD-DA(디지탈 오디오 콤팩트 디스크), CD-ROM (CD 리이드 온리 메모리), DVD(디지탈 다기능 디스크 또는 디지탈 비디오 디스크) 매체와 같은 리이드-온리 포맷, CD-R(CD-레코더블) 및, DVD-R(DVD-레코더블)과 같이 한번 기록하고 여러번 독출 가능한 포맷, 자기-광학(MO) 디스크, CD-RW (CD 재기록가능), DVD-RAM (DVD 랜돔 액세트 미디어), DVD-RW 또는 DVD-RW(DVD-재기록가능), PD(파나소닉에 의한 위상 변화 이중 디스크) 및, 다른 위상 변화 광 디스크와 같은 재기록 가능 포뱃을 포함한다. 소거 가능하거나 또는 재기록 가능한 광학 디스크는 자기 광(MO) 디스크와 같은 방식으로 기능하며 몇번이고 재기록 될 수 있다. MO 디스크는 매우 튼튼하며 통상적으로 고 용량 디스크 라이브러리(library)에서 업무용으로 설치된다.
광 매체는 그것의 처음 도입 이후에 인기가 급증하였는데, 이는 그것의 개방된 표준뿐만 아니라 데이타를 저장하는데 있어서의 대용량에 크게 기인한다. 예를 들면, 상업적으로 이용 가능한 자기 플로피 디스켓은 단지 1.44 Mb 의 데이타만을 저장할 수 있는데 반해서, 대략 동일한 크기의 광학 CD ROM 은 600 MB 를 초과하는 용량을 가질 수 있다. DVD 는 CD 보다 현저하게 큰 기록 밀도를 가진다. 예를 들면, 통상적인 DVD 리이드 온리 디스크는 현재 4.7 GB(DVD-5, 1 면/1 층) 내지 17.0 GB (DVD-18, 2 면/1층)의 용량을, 일회 기록용 DVD 는 3.95 GB(DVD-R, 1면/1층) 내지 7.90 GB(DVD-R, 2면/1층)(새로운 DVD-R 은 면당 4.7 GB 를 저장할 수 있다)의 용량을, 그리고 통상적인 재기록 가능 DVD 는 2.6 GB(DVD-RAM, 1 면/1층) 내지10.4 GB (MMVF, 2 면/1 층)의 용량을 가진다. 광 디스크는 음악 및, 소프트웨어 산업에서 카세트 테이프 및, 플로피 디스크를 대체하는데 커다란 기여를 하였으며, 가정용 비디오 산업에서 비디오 카세트 테이프를 현저하게 대체하고 있는 중이다.
데이타는 매체의 하나 또는 그 이상의 층안의 분리된 위치에 광 변형 또는 마크를 형성함으로써 광 매체상에 저장된다. 그러한 변형 또는 마크는 광 반사성에서의 변화를 이루어지게 한다. 광 매체상에서 데이타를 독출하려면, 광 매체 플레이어 또는 리이더가 사용된다. 광 매체 플레이어 또는 리이더는 매체 또는 레이저 헤드가 회전하는 동안에 통상적으로 작은 레이저 광의 지점인 "판독" 지점을 디스크 기판을 통해서 그러한 광 변형 또는 마크를 구비하는 데이타 층으로 비춘다.
통상적인 "리이드-온리" 유형의 광 미디어(예를 들면, "CD-ROM")에 있어서, 데이타는 전체적으로 "랜드"의 평면과 함께 엠보싱된 일련의 "피트(pit)"로서 저장된다. 플라스틱 매체의 표면에 형성된 미세한 피트가 트랙내에 배치되는데, 이들은매체의 중앙 허브에서 발생하여 매체의 외측 림에서 끝나는 나선형의 트랙에서 중앙의 허브로부터 반경상으로 이격된다. 매체의 피트화된 면은 알루미늄 또는 골드의 박막과 같은 반사층으로 코팅된다. 그 위에는 랙커층이 통상적으로 보호층으로서 코팅된다.
광 매체 플레이어 또는 리이더에 의해서 리이드-온리 매체의 표면으로부터 반사된 광의 강도는 정보 트랙을 따라서 피트의 존재 또는 부존재에 따라서 변화된다. 판독 지점이 트랙의 평탄한 부분의 위에 있을때는 판독 지점이 피트의 위에 있을때보다 많은 광이 디스크로부터 직접적으로 반사된다. 광 매체 플레이어 내측의광 검출기 및, 다른 전자부는 이러한 변환에 의해서 야기되는 피트와 랜드 사이의 천이 지점으로부터의 신호를, 저장된 정보를 표시하는 디지탈 코드의 0 및, 1 로 변형시킨다.
최종의 사용자가 데이타를 매체상에 기록할 수 있게 하는 다수 유형의 광 매체가 이용 가능한데 그러한 광 매체는 "서입 가능" 또는 "기록 가능" 또는 "재서입 가능"으로서 분류된다.
"서입 가능" 또는 "기록 가능" 광학 매체(예를 들면 "CD-R" 디스크)는 최종 사용자가 데이타를 매체상에 영구적으로 서입할 수 있게 한다. 서입 장치의 레이저 광은 매체 데이타 층의 분리된 부위에 광학적인 반사성에서 영구적인 변형 또는 변화를 야기한다. 다수의 서입 가능한 광학 매체가 알려져 있는데, 통상적인 리이드-온리 광 매체에서 알려진 피트와 랜드에 유사한 광학적으로 독출 가능한 부위가 그 위에 형성되는 구성으로 레이저 변형 가능층을 채용하는 것들(예를 들면 EP-A2-0353391 참조), 데이타 층에서 액정 물질을 채용함으로써 레이저 비임에 의한 조사가 데이타 층에서 영구적인 광 변형을 야기하는 것들(예를 들면, 패브리-페롯 간섭계를 이루도록 두개의 반사층 사이에 상기와 같은 층을 채용하는 미국 특허 제 6,139,933 호 참조), 그리고 높은 출력의 서입 레이저 다이오드에 노출되었을때 상태를 가역적으로 변화시키고 낮은 출력의 독출 레이저로 독출하였을때 그러한 상태를 유지하는 염료를 이용하는 것들 (소위, WORM, 일회 서입 및, 다회 독출의 광 매체)이 포함된다.
재서입 가능 광 매체(예를 들면 CD-RW, DVD-RAM, DVD-RW, DVD+RW 및, PD 매체)는 레이저 비임을 사용하여 가역적인 광 변형 또는 마크를 데이타 층내에서 야기시킴으로써, 레이타 층이 다수회에 걸쳐서 서입되고, 독출되고, 소거되고 재서입될 수 있다.
하나의 시스템에서, 광학적으로 변형 가능한 데이타 층은 서입용 레이저에 의해서 분리된 부위에서 변형되어 예를 들면 피트와 랜드에 의해서 표시되는 광 변화를 형성하고 그리고 동일한 광 변형 가능 데이타 층, 또는 삭제되기를 원하는 데이타가 발견되는 그것의일부를 균일하게 변형시킴으로써 소거된다. 다른 시스템에서는 광색성 물질층이 데이타를 저장하도록 사용된다. 이러한 시스템에 있어서, 광이 보유하는 특정의 파장에 의해서 물질이 조사될때 광색성 물질은 가역적으로 변화된다. 예를 들면, 무색 화합물은 자외선광에 의해서 조사될때 그것의 분자 상태를 반(半) 안정화된 컬러 상태로 변화시킬 수 있지만, 가시 광선에 노출시에는 무색 상태로 복귀된다. 광색성 물질층을 광학 변화를 야기하는 하나의 파장으로 선택적으로 조사하고, 그리고 다른 파장으로 그러한 광학적 변화를 반전시키도록 조사함으로써, 데이타를 서입, 소거 및, 재서입할 수 있다.
결정 상태에서의 변화에 기인하여 컬러를 변화시키는 물질이 재서입 가능 매체에서 특히 유용한 것으로 밝혀졌다. 일 시스템에 있어서, 비결정 상태에서는 어두운 물질이지만, 결정 상태에서는 밝은 물질이 데이타를 기록하도록 사용된다. 그러한 시스템에 있어서, 어두운 비결정 마크는 기록 물질을 용융시키는 짧은 고출력 레이저 펄스를 사용하여 형성되고 이후에 결정 온도 이하의 온도로 ??칭된다. 그에 의해서 형성된 데이타는 결정화 온도와 결정 상태를 다시 얻는 용융 온도 사이에서충분히 긴 시간에 걸쳐 비결정 상태를 가열함으로써 소거될 수 있다. Ge, Sb 및, Te (예를 들면, Ge1Sb2Te4Ge2Sb2Te5)를 함유하는 3 원 화학양론의 화합물은 특히 비결정상과 결정상 사이에서 커다란 광학적 콘트라스트를 나타내고 수용 가능한 용융 온도 (tcryst=약 150 - 200℃, tmelt=약 600℃)를 가지는 것으로 알려져 있다. 안티몬(Sb), 카드뮴(Cd) 및, 주석(Sn) 을 가진 그러한 화합물의 합금은 재서입 가능 매체에도 채용되었다.
재서입 가능 광 매체에 있어서, 어드레스 데이타, 회전 제어 신호, 사용자 정보등과 같은 제어 정보는 일반적으로 헤더 필드상에 프리-피트(pre-pit)의 형태로 기록된다.
데이타는 형광 다중층 디스크로서 지칭되는 것에 저장될 수도 있다. 형광 메모리 저장에 있어서, 데이타는 형광 물질 특성의 국부적인 변화로서 나타난다. 통상적으로 물질은 여기 파장에서의 조사에 의해서 조명되며, 형광 신호는 상이한 파장으로 레지스터된다. 스펙트럼 필터가 사용되어 리시버(receiver)에서의 형광 신호를 여기 조사의 노이즈로부터 분리시킨다. 데이타는 형광 원리를 이용하여 3-D 방식으로 저장될 수 있다. 형광 매체가 재서입될 수 있어야 할 때, 2 개의 광자 접근이 종종 사용된다. 이러한 접근에 있어서, 두개의 이성체의 형태로 존재할 수 있는 광색성의 분자를 포함하는 형광 매체가 사용된다. 제 1 의 이성체 형태는 형광성이 아니며 자외선 조사의 흡수 대역을 가지고, 형광성을 나타낼 수 있는 두개의 장파장 광자들의 동시적인 흡수시에 제 2 의 이성체 형태로 전환될 수 있다.
혼성의 광 매체도 알려져 있다. 예를 들면, "하프-앤드-하프" (half-and-half) 디스크가 알려져 있는데, 여기에서는 디스크의 일부가 통상적인 CD-ROM 피트들을 가지고, 디스크의 다른 부분들은 디스크 안으로 가압된 홈을 가지며, 가압된 홈의 위에는 염료층이 있어서 CD-R 부분을 형성한다. 상대적으로 새로운 혼성의 광학 매체는 CD-PROM (즉, CD 프로그래머블 ROM)이다. CD-PROM 매체는 일 매체에서 리이드 온리 CD-ROM 포맷을 기록 가능한 CD-R 포맷과 결합한 것이지만, 전체 매체가 염료층으로 코팅되어 있으면서 단지 단일의 연속적인 홈이 있는 것을 특징으로 한다. CD-PROM 매체의 연속적인 홈의 기하는 광 리이더에 대하여 ROM 피트와 같이 보이도록 조정된다. 이것은 또한 제조에 있어서 극복하여야 하는 염료 변화 문제를 제공하지도 않는다.
광 디스크 매체는 광 매체에 대하여 특정한 궤적으로 조사 비임을 발생시키는 독출 헤드를 움직임으로써 독출된다. 조사 비임은 상이한 광학 특성을 가지는 영역을 구별짖도록 사용되는데, 그러한 상이한 광학적 특성은 데이타를 표시하도록 사용되며, 예를 들면 "on" 논리 상태는 특정의 영역에 의해서 표시된다. 검출될 수 있는 차이는 전기 신호로 변환되는데, 이것은 다음에 신호 처리 시스템에 의해서 편리하게 조작될 수 있는 포맷으로 변환된다. 예를 들면, 반사율의 쓰레숄드 레벨을 설정함으로써, 피트와 랜드 사이의 변환은 반사율로부터 반사된 신호가 쓰레숄드 레벨과 교차하는 지점에서 검출될 수 있다. 피트는 1 을 표시하고 랜드는 0 을 표시한다. 이러한 방식으로 이진수 정보가 매체로부터 독출될 수 있다.
대부분의 상업적으로 이용 가능한 소프트웨어, 비디오, 오디오 및, 오늘날이용 가능한 오락물은 리이드 온리 광학 포맷으로 기록된다. 그 이유는 리이드-온리 광 포맷으로의 복제가 서입 가능 및, 재서입 가능 광 포맷으로 데이타를 복제하는 것보다 현저하게 저렴하기 때문이다. 다른 이유는 리이드 온리 포맷이 독출 신뢰성의 관점에서 덜 의문스럽기 대문이다. 예를 들면, 일부 CD 리이더/플레이어는 문제 독출 CD-R 매체를 가지는데, 이것은 낮은 반사성을 가지며 따라서 고출력의 독출 레이저, 또는 특정의 파장에 보다 잘 "튜닝된" 것을 필요로 한다.
데이타는 미리 제조된 서입 가능 및, 재서입 가능 매체상에 개별적으로 용이하게 서입되는데, 예를 들면 레이저를 사용하여 한번에 하나의 디스크에 서입된다. 데이타는 리이드 온리 매체의 제조 과정중에 염료 몰딩(사출 몰딩) 공정에 의해서 리이드-온리 매체상에 용이하게 스탬핑(stamping)된다. 오늘날에는 설정된 단위 시간동안에 레이저 서입 과정에 의해서보다 스탬핑 과정에 의해서 보다 많은 데이타를 포함하는 광 매체가 제조될 수 있어서, 광 매체의 대용량에 대해서 그러한 스탬핑된 리이드-온리 광 매체의 비용을 현저하게 감소시킨다. 스탬핑된 매체의 제조는 형광체 다층 매체를 제조하는 것보다 상당히 저렴하기도 하다.
리이드 온리 포맷을 포함하는 간섭/반사율 유형의 광 미디어는 다수의 한정된 단계를 따라서 통상적으로 제조된다.
데이타가 글래스 마스터 플래터(platter)상으로 배향될 레이저에 의해서 일련의 레이저 파열로 변환되도록, 매체상에 엔코딩되어야 하는 데이타는 처음에 프리 마스터(pre-master)(포맷)된다. LBR(레이저 비임 레코더)로부터의 레이저 비임이 글래스 마스터를 가격하였을때 포토레지스트 코팅의 일부가 "연소"되거나 또는노출되도록 글래스 마스터 플래터는 포토레지스트로 용이하게 코팅된다. 레이저 비임에 노출된 이후에, 이것은 경화되며 노출되지 않은 부위의 포토레지스트는 세정된다. 결과적인 글래스 마스터는 통상적으로 Ag 또는 Ni 로 전기 도금된다. 그렇게 형성된 전자 형성 스탬퍼 매체는 데이타를 나타내는 물리적인 특성을 가진다. 디스크 유형인 다수의 광 매체가 제조될때, 전기형성 스탬퍼 매체는 통상적으로 "파더 디스크(father disc)"로 불리운다. 파더 디스크는 미러 이메이지의 "머더 디스크(mother disc)"를 만드는데 통상적으로 사용되는데, 이것은 당해 기술 분야에서 "스탬퍼"로서 종종 지칭되는 복수의 "자녀 디스크"를 만드는데 사용된다. 스탬퍼는 복제 디스크를 양산하는데 사용되며, 그 각각은 글래스 마스터상에 기록되었던 데이타와 트랙 정보를 포함한다. 단지 적은 수의 디스크들(10,000 미만)만이 복제되고 그리고 시간과 비용이 저감되어야 한다면, 파더, 머더 및, 자녀 스탬퍼로 이루어지는 "스탬퍼 패밀리"를 만드는 것보다는 오리지날의 "파더" 디스크가 몰드내에서 스탬퍼로서 사용될 수 있다.
스탬퍼는 복제 매체를 제조하도록 통상적으로 사출 몰딩기와 연관되어 사용된다. 상업적으로 이용 가능한 사출 몰딩 장치는 20,000 파운드를 초과하는 피스톤 구동 프레스로써 몰드가 커다란 압력을 받게 한다.
광 매체 몰딩 공정에 있어서, 수지는 매체 기판을 형성하도록 탕구 채널을 통해서 광 공구(몰드)내의 공동으로 강제된다. 오늘날 대부분의 광학 디스크들은 광 등급의 폴리카보네이트로 제작되는데, 이것은 습기 또는 다른 오염물과의 작용에 대하여 보호되도록 건조하고 청결하게 유지된다. 상기 습기 또는 다른 오염물들은 디스크에 복굴절과 다른 문제들을 도입시킬 수 있으며 상기 폴리카보네이트는 용융된 상태에서 조절된 온도로 몰드 안으로 사출된다. 공동이 충전되고 스탬퍼에 대해서 압축되었을때 홈 또는 피트의 포맷은 기판에서 스탬퍼에 의해 복제된다. 부분이 충분히 냉각된 이후에는, 광학적 공구 몰드가 개방되고 탕구와 제품의 출구가 전방으로 전진하여 형성된 광 매체가 스탬퍼를 벗어나서 배출된다. 배출된 기판은 로보트 아암 또는 중력의 이송에 의해서 복제 라인의 다음 스테이션으로 분배되는데, 이송 시간과 스테이션 사이의 거리는 기판을 냉각시키고 경화시키는 기회를 제공한다.
리이드 온리 포맷의 제조에서 몰딩 이후에 다음 단계는 반사 금속층을 기판의 데이타 유지층(피트와 랜드를 가진 면)에 적용하는 것이다. 이것은 일반적으로 스퍼터링 공정에 의해서 달성되는데, 여기에서는 플라스틱 매체가 금속의 타겟과 함께 진공 챔버내에 배치되며 전자가 타겟을 가격하여, 개별의 금속 분자가 매체로 튀겨져서, 매체들은 분자들을 정전기에 의해 유인하여 유지한다. 스퍼터링된 매체는 다음에 스퍼터링 챔버로부터 제거되어 통상적으로 자외선 경화 랙커인 중합체로 금속위에 스핀 코팅되어 금속층을 마모 및, 부식으로부터 보호한다. 스핀 코팅은 디스펜서(dispenser)가 스핀 코팅 챔버내에서 중합체의 양을 매체상으로 측정하여 분배하고 매체가 급속하게 회전하여 중합체를 그것의 전체 표면에 균일하게 분산시킬때 발생한다.
스핀 코팅 이후에, (랙커가 코팅으로서 사용될때) 랙커는 매체를 램프로부터의 자외선 조사에 노출시킴으로써 경화되며, 데이타의 모든 비트들이 정확하게 독출될 수 있기 위하여 충분한 금속이 기판상에 충분히 두꺼운 층으로 증착되는 것을 보장하도록 포토다이오드를 사용하여 매체의 반사성이 시각적으로 점검된다. 시각적 검사를 통과하지 못한 광 매체는 거절 스핀들상에 로딩되어 이후에 폐기된다. 통과된 것들은 전체적으로 라벨을 붙이거나 포장을 위한 다른 스테이션으로 가져간다. "통과된" 매체들중 일부는 품질 보증 목적으로 다른 검사 장비로써 지점이 점검될 수 있다.
광 매체는 그들의 작은 크기와 제조에 관련된 상대적으로 저렴한 자원량에 기인하여 소프트웨어, 비디오 및, 오디오 작업물, 그리고 게임과 같은 내용물을 판매하는데 관련된 제조 비용을 현저하게 감소시킨다. 이들은 또한 불행하게도 해적판의 경제 상태를 향상시켰으며, 비디오와 오디오와 같은 일부 매체에서는 다른 데이타 저장 매체로 허용되었던 것보다도 현저하게 낳은 해적 복사판을 일반 대중에게 판매하도록 허용하였다. 매체 분배자들은 고품질의 복사판에 기인하여 수조 달러의 잠재적인 판매 손실을 보고한다.
통상적으로, 해적판 업자들은 광 매체로부터 논리 데이타를 추출하고, 그러한 데이타를 자기 테이프상으로 복사하고, 그리고 테이프를 마스터 장치상에 설정함으로써 광 마스터를 만든다. 해적판 업자들은 때때로 CD 또는 DVD 기록 가능 매체 복제 장비를 사용하여 공급된 매체의 복사판을 만드는데, 이렇게 복제된 복사판은 직접적으로 판매되거나 또는 복제를 위한 새로운 글래스 마스터를 만드기 위한 프리-마스터(pre-master)로서 사용될 수 있다. 수많은 해적판 광 매체들은 광 매체상에 저장된 정보 품질에서의 하락 없이 단일의 마스터로부터 복제될 수 있다. 광매체에 대한 소비자의 수요가 높게 유지되므로, 그리고 그러한 매체가 낮은 가격으로 용이하게 재생산되므로, 복제가 유행하게 되었다.
인가되지 않은 광 매체의 복사를 제한하기 위하여 다양한 복사 방지 기술 및, 장치들이 당해 기술 분야에 제안되었다. 이러한 기술중에는 아날로그 콜로스트라이프(Colostripe) 보호 시스템(CPS), CGMS, 콘텐트 스크램블링 시스템(CSS) 및, 디지탈 카피 보호 시스템(DCPS)등이 있다. 아날로그 CPS(또한 마크로비젼으로 알려짐)는 DVD 뿐만 아니라 비디오테이프를 보호하는 방법을 제공한다. 그러나 아날로그 CPS 의 실행은 매체를 독출하는데 사용되는 모든 플레이어에 회로를 설치할 것을 필요로 할 수 있다. 통상적으로, 광 매체 또는 테이프가 "매크로비젼 보호된" 것일때, 전자 회로는 칼라버스트(colorburst) 신호를 플레이어의 복합 비디오 및, S- 비디오 출력으로 보내서 불완전한 복사를 초래한다. 불행하게도, 매크로비젼의 사용은 정상적인 플레이백(playback) 품질에도 부정적으로 영향을 미칠 수 있다.
CGMS 와 함께 매체는 매체의 내용물이 복사될 수 있는지의 여부를 규정하는 정보를 포함할 수 있다. 매체를 복사하는데 사용되고 있는 장치가 CGMS 신호를 인식하도록 구비되어야만 하며 또한 복사를 방지하기 위하여 신호를 존중하여야 한다. 콘텐트 스크램블링 시스템(CSS)은 암호화 기술을 제공하는데 이것은 직접적인 비트-투-비트(bit-to-bit) 복사를 방지하도록 디자인된 것이다. CSS 를 포함하는 각 플레이어에는 플레이어가 매체상의 데이타를 독출할 수 있는 4 백개의 키이들중 하나가 제공되지만, 데이타를 해독하는데 필요한 키이의 복사를 방지한다. 그러나, CSS 알고리듬은 파괴되었으며 인터넷에 걸쳐서 퍼트려져서, 비양심적인 복제자들이암호화된 광 매체의 복사판을 만들수 있게 한다.
디지탈 카피 보호 시스템(DCPS)은 디지탈 매체를 복사할 수 있는 장치가 복사될 수 있는 것으로 마킹된 매체만을 복사할 수 있는 방법을 제공한다. 따라서, 광 매체 자체는 복사될 수 없는 것으로서 지정될 수 있다. 그러나, 시스템이 유용한 것이려면, 복사 장치가 "복사 불가" 지정을 존중하는 소프트웨어를 구비하여야 한다. 현재 유용한 복사 방지 기술이 데이타를 광 매체로부터 복사하는 것을 보다 곤란하게 하는 반면에, 그러한 기술들은 대량의 위조 복사의 제조를 방지하는데 있어서 매우 효과적인 것으로 나타나지 않았다. 많은 복사 방지 계획을 이루는데 필요한 하드웨어 변화는 간단하게 널리 수용되지 않았다. 데이타 암호화 기술은 일상적으로 크랙킹되므로, 암호화 코드 보호 계획은 광 매체로부터 데이타를 복사하는 것을 감소시키는데 있어서 완벽하게 방지되지 않는 것으로 밝혀졌다.
따라서 광 매체의 복사를 방지하는데 암호화 코드 또는 특수한 하드웨어에 전적으로 의존하지 않는 복사 방지 광 매체에 대한 필요성이 있다. 그러한 광 매체는 현재의 광 매체 제조의 현재 구속이 주어진다면 용이하고 경제적으로 제조되어야 한다. 복사 방지 매체는 그러한 장치에 대한 수정을 필요로 하지 않으면서 다수의 현존하는 광 매체 리이더 또는 판독기에 의해서 독출될 수 있어야 한다.
정의
"인증 물질"은 광 매체를 인증하고, 식별하고, 보호하는데 사용되는 물질을 지칭한다. 광 매체, 예를 들면 소프트웨어, 비디오 또는 오디오 파일상에 기록된 데이타는 인증 물질이 아니다.
"통신 시스템"은 디지탈 데이타를 소스로부터 타켓으로 전달하기 위한 그 어떤 시스템 또는 네트웍을 지칭한다.
"광 변환 가능 물질":물질에 배향된 전자기 방사를 흡수하고, 반사시키고, 방사하거나 또는 그렇지 않으면 변경시키는 물질. "광 변환 가능 화합물"로써, 제한이 없이, 아래에 정의된 바와 같이 "감광성", "광 방출성" 및, "광 흡수성" 화합물을 의미한다.
"광 방출성 물질": 광으로 여기되는 것에 응답하여 광을 방출하는 물질. 광 방출은 인광, 화학 발광 또는 보다 바람직스럽게는 형광의 결과일 수 있다. "광 방출성 화합물"이라는 용어에 의해서, 다음의 특성들중 하나 또는 그 이상을 가지는 화합물을 포함하는 것을 의미한다. : 1) 이들은 형광, 인광 또는 발광성이거나; 2) 적어도 하나의 형광, 인광 또는 발광 화합물을 산출하는 샘플 또는 표준 또는 그들 모두의 성분들과 작용하거나 또는 상호 작용하거나; 또는 3) 방출 파장에서 방출을 변경시키는 적어도 하나의 형광, 인광 또는 발광 화합물과 작용하고 또는 상호 작용한다.
"광 흡수성 화합물": 광 조사에 응답하여 광을 흡수하는 화합물. 광 흡수는 당업자에게 공지된 그 어떤 화학적 작용의 결과일 수 있다.
"감광성 물질": 하나 또는 그 이상의 광 파장에 노출되었을때, 물리적으로 측정될 수 있는 방식으로 변화하기 위하여 활성화될 수 있는 물질.
"비파괴 보안 염료": 매체를 영구적으로 독출 불가능하게 하지 않는 보안용 염료를 지칭함.
"불투명 저항 감광성 물질": 하나 또는 그 이상의 광 파장에 노출되었을때 불투명이 아닌 것으로서 물리적으로 측정될 수 있는 방식으로 변화하기 위하여 활성화될 수 있는 물질. 불투명 저항 감광성 물질은 시간의 경과 또는 주위 조건의 변화에 기인하여 활성화된 변화가 최초의 상태로 복귀될때 역전될 수 있다.
"광 매체" 광 리이더로 독출될 수 있는 디지탈 데이타를 저장할 수 있는 그 어떤 기하학적 형상(꼭 원형일 필요는 없다)의 매체.
"기록 염료" 는 디지탈 데이타를 기록층상에 기록하는 광 기록 매체와 함께 사용될 수 있는 화학적 화합물을 지칭한다.
"리이더": 광 매체상에 기록되었던 데이타를 검출할 수 있는 그 어떤 장치. "리이더"라는 용어로, 제한 없이, 플레이어를 포함하도록 의미된다. 그 예는 CD 및, DVD 리이더이다.
"리이드-온리 광 매체" 일련의 피트와 랜드로 저장된 디지탈 데이타를 가진 광 매체.
"기록 층": 데이타가 독출, 플레이 또는 컴퓨터에 대한 업로드(upload)를 위해서 기록되는 광 매체의 부분. 그러한 데이타는 소프트웨어 프로그램, 소프트웨어 데이타, 오디오 파일 및, 비디오 파일을 포함할 수 있다.
"등록 마크":등록 마크가 정렬되었을때, 대응하는 각 기판상의 위치들이 알려지도록 하나의 기판과 다른 기판 사이에 정확한 정렬을 가능하게 하는데 사용되는 물리적 및/또는 광학적 마크. 예를 들면, 두개의 매체의 마크들이 정렬되도록 두개의 매체가 서로에 대하여 병치되었을때, 다른 기판상의 물리적 및/또는 광학적변형에 대응하는 한 기판상의 지점이 알려진다.
"재 독출" : 데이타의 일부가 처음에 독출되었던 이후에 매체상에 기록된 데이타의 일부를 독출함.
"가역적인 감광성 물질": 시간의 경과 또는 주위 조건에서의 변화에 기인하여 활성화된 변화가 처음의 상태로 복귀될때 감광성 물질은 가역적인 것으로 지칭된다.
"보안 염료"는 저장 매체상의 데이타를 보호하도록 신호를 제공하거나 또는 변경시킬 수 있는 화합물을 지칭한다.
"일시적인 물질"은 제한된 시간 또는 제한된 독출 횟수로 검출될 수 있는 물질을 지칭한다.
본 발명은 2001. 6. 21.자로 출원된 미국 특허 출원의 부본인데, 이것은 2001. 3. 29. 자로 출원된 미국 특허 출원 제 09/821,577 호의 일부 계속 출원이고, 이는 2000.12.15.자로 출원된 미국 특허 출원 제 09/739,090 호의 일부 계속 출원이고, 이는 2000.8.3. 자로 출원된 미국 특허 출원 제 09/631,585 호 및, 2000.6.30. 자의 미국 특허 출원 제 09/608,886 호의 일부 계속 출원이며, 이들로부터 우선권이 주장되고, 이들 모든 출원은 여기에 참조로써 포함된다.
본 발명은 전체적으로 복제가 방지된 광 정보 기록 매체 및, 그것을 제조하는 방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 본 발명은 광학적으로 독출 가능한 디지탈 저장 매체의 제조에 관한 것인데, 이러한 매체는 CD 또는 DVD 리이더(reader)와 같은 통상적인 광 매체 리이더를 사용하여 그에 저장된 정보를 복제하는 것이 방지되지만, 디지탈 저장 매체로부터의 정보의 독출이 그러한 리이더에 의해서 가능하게 하는 것이다.
상세한 설명에 포함되고 그리고 상세한 설명의 일부를 구성하는 첨부된 도면은 본 발명의 현재 바람직한 구현예를 도시하며, 상기의 주어진 일반적인 설명과 함게 아래에 주어지는 바람직한 구현예에 대한 상세한 설명은 본 발명의 원리를 설명하는 역할을 한다.
도 1 은 일반적으로 리이드 온리 광 저장 디스크로 지칭되는 통상적인 선행 기술의 광 저장 매체에 대한 단면도이다.
도 2 는 본 발명의 예시적인 광 저장 매체의 단면도이다.
도 3 은 본 발명의 다른 예시적인 광 저장 매체의 단면도이다.
도 4 는 광 저장 매체의 단면도이며, 여기에서 감광성 물질이 내용 데이타와 분리된 층내에 위치하는 것을 나타낸다.
도 5 는 리이드 온리 매체를 제조하는 사출 성형 기술을 도시하는 플로우 차트이다.
도 6 은 도 2 에서 도시된 유형의 리이드 온리 광 매체를 제조하는 종래의 사출에 대한 작은 수정과 함께 리이드 온리 광 미디어를 제조하는, 본 발명의 바람직한 방법에 대한 개략적인 플로우 차트이다.
도 7 은 도 3 에 도시된 유형의 리이드-온리 광 매체에 대한 작은 수정과 함께 리이드 온리 매체를 제조하는 본 발명의 바람직한 방법에 대한 개략적인 플로우 차트이다.
본 발명은 광 매체 및, 그것의 제조 방법을 제공하는데, 이것은 기록층 일부로부터의 디지탈 데이타 출력을 예측 가능한 방식으로 변화시키는 것을 제공하도록 광 변화 가능 화합물을 분리된 위치에서 광 매체 안에 또는 그 위에 포함시킴으로써 복사 방지를 제공하는 것이다. 그러한 매체는 매체의 재생산을 방지하면서 광학 매체 리이더에서 사용되는 하드웨어, 펌웨어(firmware) 또는 소프트웨어에 변경을 요구함이 없이 데이타가 독출될 수 있게 한다. 본 발명의 광학 매체는 디지탈 데이타의 제작자 및, 분배자들에게 예를 들면 소프트웨어 오디오 및, 비디오와 같은 디지탈 데이타의 재생산을 방지하는 데이타 분배 매체를 제공한다. 본 발명은 특히 CD, CD-ROM, DVD, DVD-5, DVD-9, DVD-10, DVD-18 및, DVD-ROM 을 포함하지만 그에제한되지 않는 리이드 온리 디지탈 데이타에 관한 것이며, 여기에서 데이타를 나타내는 광학적 변형은 최종 사용자에게 분배되기 이전에 광 매체의 적어도 일부에 영구적으로 도입된다. 그러나, 당업자에게 이해되는 바로서, 본 발명은 CD-R 및, DVD-R 과 같은 서입 가능 및, 재서입 가능 광 매체와 함께 사용될 수 있다.
본 발명은, 아래에 놓인 데이타가 통상적인 광 매체 리이더로 독출되는 것을 방지하지 않지만, 그러한 통상적인 광 매체 리이더를 사용하여 가용의 광 매체 복사의 생산을 방지하는 방식으로, 광 매체상에 저장된 광 독출 데이타를 변경시키고 그리고/또는 증가시키는 방법을 발견하였다. 본 발명은, 특정의 가역 광 변화 가능 물질 및, 특히 광 방출 물질을 광 매체상의 분리된 위치에 선택적으로 배치함으로써, 통상적인 광 리이더가 그러한 위치들의 첫번째 통과에서 광 변형에 의해 표시되는 데이타를 정확하게 독출할 수 있지만, 두번째의 통과에서는 가역 광 변화가능 물질의 활성화에 기인하여 데이타를 상이하게 독출하는 것을 발견하였다. 즉, 리이더의 통과되는 광이 화화물에 영향을 미치고 그리고 그것의 특성을 변화시키도록 사용될 수 있어서, 재 독출시에 검출기에 의해서 수신된 데이타 신호는 최초의 샘플링시에 수신되었던 것과 상이하다. 예를 들면, 광 변화가능 화합물은 다시 샘플링될때 광 비임의 반사율을 제공하는 시간 프레임 내에서 반사성이 있도록 될 수 있다. 이와는 달리, 광 변화 가능 물질은 지연된 광 방출 또는 흡수를 제공함으로써, 신호를 양으로 또는 음으로 변화시킨다.
대부분의 광 매체 리이더 및, 플레이어들은 정확한 복사를 보장하도록 기록층의 데이타 부위를 다시 샘플링하게끔 미리 프로그램되어 있으므로, 기록층으로부터 독출된 데이타 스트링(data string)이 광 변화 가능 물질이 샘플링시에 활성화되는지의 여부에 따라서 변화되는 것과 같이, 본 발명의 구현예의 광 매체는 복제가 실패할 것이다. 즉, 광 변화 가능 물질에 근접한 데이타 부위를 다시 샘플링 하는 것은 데이타가 처음에 독출되었을때와는 상이한 데이타 독출을 초래할 수 있다. 복사가 이루어질 수 있을지라도, 만약 광 매체상의 프로그램이 광 매체상의 데이타에 접근하는데 2 가지의 상이한 독출을 필요로 한다면 복사는 무효가 될 것이다. 즉, 복사는 그러한 데이타 위치에서 두개의 가능한 상태들중 단지 하나만을 나타내기 때문에 무효가 될 것이다.
본 발명은 특정의 광 매체 디자인 및, 그러한 디자인을 제조하는 방법을 제공하는데, 이것은 광 변화 가능 물질의 초점에 근접한 기록층의 데이타 독출을 선택적으로 변화시키는 방식으로 광 변화 가능 물질을 포함한다. 특히, (위에서 설명된 바와 같은) 리이드-온리 광 매체의 사출 몰딩 제조 과정을 현저하게 변경시키지 않으면서 용이하고 경제적으로 제조될 수 있는 광 매체 디자인을 제공한다.
본 발명의 제 1 구현예에 있어서, 광 매체 기록층의 임프레스(impress)되지 않은 (즉, 스탬핑(stamping) 되지 않은) 면상에 선택적으로 눌려지거나(imprint) 또는 배치된 광 변화 가능 물질을 가진 광 매체가 제공된다. 그러한 매체는 두개의 주 표면을 가진 제 1 기판을 구비하는데, 데이타 트랙은 제 1 기판의 일 주표면에 배치되고, 광 변화 가능 화합물은 제 1 기판의 다른 주 표면에 배치되어, 적절한 광 자극(예를 들면, 특정의 파장)과의 여기시에 데이타를 변경시키는 데이타 트랙과 협동한다. 그러한 광 매체는 바람직스럽게는 제 2 기판을 더 구비하는데, 바람직스럽게는 유사한 광 특성(바람직스럽게는 동일한 물질)을 가지고, 이것은 광 변화 가능 화합물이 배치된 기판의 표면에 고정적으로 부착된다.
본 발명의 제 1 구현예 광 매체는, 기판이 스탬핑되고 충분히 냉각된 후에, 그리고 광 매체 공구 몰드가 개방된 이후에, (그렇지만 성형된 광 매체를 스탬퍼로부터 이탈시키도록 탕구와 제품 출구가 전방으로 이동되기 전에) 광 변화 가능 물질을 임프레스되지 않은 기판의 면에 배치함으로써 생산될 수 있다. 당업자들에 의해서 이해되는 바로서, 그러한 제조 기술은 광 변화 가능 물질이 기판의 다른 면상의 데이타 임프레션(impression)과 정확하게 정합(registration)될 수 있게 한다. 바람직스럽게는, 광 변화 가능 물질은 광 변화 가능 물질을 그것의 주위 환경으로부터 보호하도록 유사한 (또는 동일한) 광 특성의 제 2 기판에 의해서 덮힌다. 그러한 제 2 기판은 제 1 기판의 스탬핑된 표면을 덮도록 사용된 스퍼터링 단계의 이전 또는 이후에 제 1 기판에 고정될 수 있다. 제 1 과 제 2 기판들중 어느 하나 또는 그들 양쪽 모두 그러한 광 매체의 형성 이전에 접착제로써 스핀 코팅됨으로써 층들이 고정적으로 부착될 수 있다. 이와는 달리, 광 변화 가능 물질이 스핀 코팅에 의한 것과 같이 중합체로 코팅될 수 있다. 예를 들면, 광학적으로 순수한 랙커가 광 변화 물질을 코팅하도록 사용될 수 있다.
본 발명의 제 2 구현예에 있어서, 제 1 주 표면과 제 2 표면을 가지는 제 1 기판층으로서, 상기 제 1 기판층의 상기 제 1 주 표면은 광 변화 가능 물질을 그 위에 가지고, 상기 제 1 기판층의 제 1 또는 제 2 주 표면들중 하나 또는 양쪽 모두는 그 위에 정합 마크(registration mark)를 가지는 제 1 기판층; 제 1 주 표면과 제 2 주 표면을 가지는 제 2 기판층으로서, 상기 제 2 기판층의 제 1 주 표면은 그 위에 정보 피트를 가지고, 상기 제 2 기판의 상기 제 1 또는 제 2 주 표면은 그 위에 정합 마크를 가지고, 상기 제 2 기판의 상기 제 2 주 표면은 상기 제 1 및, 제 2 기판의 정합 마크가 정렬되도록 상기 제 1 기판층의 상기 제 1 주 표면을 따라서 배치되는 제 2 기판층; 상기 제 2 기판층의 상기 제 1 주 표면을 따라서 배치된 금속 반사층; 상기 금속 반사층을 따라서 배치된 제 1 의 오버코트(overcoat) 층 및, 선택적으로는 상기 제 1 기판층의 상기 제 2 주 표면을 따라서 배치된 제 2 오버코트층;을 구비하는 광 매체가 제공된다.
제 2 구현예의 광 매체는, 제 1 의 주 표면 및, 제 2 의 주 표면과, 상기 제 1 또는 제 2 의 주 표면의 어느 하나 또는 양쪽의 위에 정합 마크를 가지는 제 1 기판을 획득하는 단계; 상기 제 1 기판층의 상기 제 1 주 표면상의 분리된 위치들에 광 변화 가능 물질을 찍는(imprinting) 단계; 제 1 주표면 및, 제 2 주표면과, 상기 제 1 주표면 또는 제 2 주표면의 어느 하나, 또는 양쪽의 위에서 정합 마크를 가지는 제 2 기판을 획득하는 단계로서, 상기 제 2 기판층의 상기 제 1 주표면은 그 위에 정보 피트를 가지는, 제 2 기판을 획득하는 단계; 상기 제 1 및, 제 2 기판상의 정합 마크가 정렬되도록 상기 제 1 기판의 상기 제 1 주표면을 따라서 상기 제 2 기판의 상기 제 2 주표면을 배치하고 상기 제 2 기판의 상기 제 2 주표면을 상기 제 1 기판의 상기 제 1 주표면에 고정시키는 단계; 상기 정보 피트를 가지는 상기 제 2 기판층의 상기 제 1 주표면을 금속화시키는 단계; 제 1 의 오버코트층을 상기 금속화 표면을 따라서 배치하는 단계; 및, 상기 제 1 기판층의 상기 제 2 주표면을 따라서 상기 오버코트를 선택적으로 배치시키는 단계;에 의해서 제조된다. 당업자들이 이해하는 바로서, 정합 마크는 기판의 실제 표면상에 있을 필요는 없지만, 검출될 필요는 있다. "검출 가능한 정합 마크를 가진 표면"으로써, 정합 마크가 그것을 통해 또는 그위에서 검출될 수 있다는 것을 의미한다.
본 발명의 제 3 구현예에 있어서, 서로 작용할 수 있거나 또는 활성화될 수 있는 물질(들)을 가진 기판을 구비하는 광 매체가 제공되는데, 한정된 에너지의 특정 광원에 노출되었을때 그 물질은 광 변화 가능 물질(들)을 형성하고, 그러한 물질이 광 매체의 기록층의 임프레스되지 않은 (즉, 스탬핑 되지 않은) 면상에 코팅된다. 그러한 광 매체는 제 1 기판, 제 1 기판의 일 표면을 따라서 배치된 데이타 트랙 및, 제 1 기판의 엠보싱되지 않은 표면상에 코팅된 (한정된 에너지의) 특정 광원에 노출되었을때 광 변화 가능 물질을 형성하도록 활성화될 수 있는 물질을 구비한다. 예를 들면, 레이저는 특정의 비활성 물질(들)의 가교 결합에 촉매 작용을 하여서 광 방출 물질과 같은 광 변화 가능 화합물을 형성한다. 이러한 구현예에서, 적절한 광 자극(예를 들면 특정의 파장)으로 여기되었을때 데이타를 변경시키도록 데이타 트랙과 관련하여 위치 잡기(positioning)로써 협동하게될 분리된 위치에서의 광 변화 가능 물질을 형성하기 위하여, 코팅된 물질은 분리된 부위에서 적절한 광원 (그리고 에너지)을 이용하여 활성화된다. 광 변화 가능 화합물을 형성하는 제 1 기판의 다양한 부분에서의 이러한 선택적인 활성화는 CD-R 디스크에 데이타를 서입하는데 사용된 것과 유사한 방식으로 수행될 수 있다. 그러한 광 매체는 바람직스럽게는 제 2 기판을 더 구비할 수 있으며, 바람직스럽게는 유사한 광 특성이고 (바람직스럽게는 같은 물질이며), 성형된 광 변화 가능 화합물이 배치되는 기판의 표면에 고정되게 부착된다. 그러한 구현예에 대한 대안에 있어서, 광 매체의 기록층의 엠보싱되지 않은 면(즉, 스탬핑되지 않은 면)상에 코팅된 물질은 특정 파장 및, 강도의 레이저를 사용하여 선택적으로 비활성화될 수 있는 광 변화 가능 물질일 수 있다. 그러한 경우에 있어서 적절한 데이타 장소에서의 선택적인 활성화는 광 변화 가능 특성을 가지기를 원하지 않는 코팅의 제 부분들을 비활성화시킴으로써 야기될 수 있다.
본 발명의 제 4 구현예에 있어서, 두개의 주표면을 가지며 그것의 일 주표면이 그 위에 배치된 데이타 트랙을 가지는 기판 및, 그러한 데이타 트랙의 위에 배치되어, 적절한 광 자극(즉, 광 변화 가능 물질의 활성화)으로 여기되었을때 그 안에 저장된 데이타의 독출을 변경시키기 위하여 데이타 트랙과 협동하는 광 변화 가능 물질을 포함하는 응집층(cohesive layer)을 구비하는 광 매체가 제공된다. 그러한 구현예의 바람직한 광 매체는 그 위에 배치된 데이타 트랙을 가진 제 1 의 몰드화된 층, 데이타 트랙을 덮는 제 1 의 중합체 층, 광 변화 가능 물질을 구비하는 제 2 의 중합체 층 및, 제 2 중합체 층을 덮는 제 3 의 중합체 층을 구비한다. 제 1 중합체 층은 유전층을 구비할 수 있다. 제 1 및, 제 2 중합체 층은 바람직스럽게는 3 mm 이하의 두께이다.
제 5 의 구현예에서, 광 변화 가능 물질이 발견되는 곳에서 (또는 광 변화 가능 물질이 독출에 영향을 미치는 곳에서) 데이타 부위를 다시 샘플링하고, 그리고 데이타 부위를 다시 독출하였을때 그렇게 유도된 데이타가 최초 샘플링시의 데이타와 같다면 데이타에 대한 접근을 허용하지 않도록 광 리이더에게 명령하는 코드를 광 매체 자체가 가지고 있는 복사 방지가 제공된다. 다른 구현예에서, 광 변화 가능 화합물은 작동에 있어서 광 매체에 대한 특정 위치에 위치되어야만 한다. 예를 들면, 광 데이타와 상이한 평면에 있는 광 변화 가능 물질이 검출되도록 그리고 광 데이타에 대한 접근은 그러한 광 변화 가능 물질이 검출되는 경우에만 허용되도록 소프트웨어가 광 매체상에 구비되어 광 리이더에게 명령하여 초점 길이를 변경시킬 수 있다.
본 발명의 제 6 구현예에 있어서, 광 변화 가능 물질을 가진 광 매체는 금속화 단계 이전에 당해 기술 분야에서 잘 알려진 마이크로사출 기술을 이용하여 표준 광 매체의 랜드 또는 피트 안으로 광 변화 가능 물질을 선택적으로 배치함으로써 형성된다.
본 발명의 제 7 구현예에 있어서, 광 매체는 광 변화 가능 물질을 구비하는 접착 물질을 가지고, 상기 접착 물질은 매체의 하나 또는 그 이상의 층 또는 표면들에 부착되는 것이 개시된다. 예를 들면, 광 변화 가능 물질이 소기의 방식으로 위치되도록 광 변화 가능 물질은 매체의 층 또는 표면상의 광학적으로 투명한 물질내에 또는 라벨내에 배치될 수 있다.
본 발명의 제 8 구현예에 있어서, 2 개의 주표면을 가지면서 제 1 주표면은 그 위에 배치된 데이타 트랙을 가지는 기판, 데이타 트랙을 따라서 배치된 반사층 및, 반사층 위에 배치된 광 변화 가능 물질을 포함하는 층을 구비하는 광 매체가 제공된다. 데이타 트랙은 광학 매체상에 복수개의 임프레션(impression)을 구비할수 있다. 반사층은 반사 물질을 데이타 트랙으로 스퍼터링함으로써 형성될 수 있다. 그러한 구현예에 있어서, 반사층은 하나 도는 그 이상의 구멍 또는 관통 불연속부를 그안에 가지고 있어서 제 1 주표면을 통과하는 광이 그것을 통과할 수 있게 하여 광 변화 가능 물질층의 일부에 충격될 수 있게 한다. 관통 불연속부는 당해 기술 분야에서 공지된 그 어떤 방법에 의해서 형성될 수 있는데, 예를 들면 고출력 레이저에 의해서 형성될 수 있다. 광 변화 가능 물질은 광 매체를 시일하는데 현재 사용되는 랙커 안에 함입될 수 있다. 이와는 달리, 현재 사용되는 자외선 경화 랙커가 광 변화 가능 물질을 덮을 수 있다. 반사층의 일부를 제거하는 것은 통상적인 광 리이더의 독출용 레이저가 반사층이 제거되었던 장소에 충격될 수 있게 한다.
당업자들이 이해하는 바로서, 그러한 구현예의 관통 불연속은, 처음의 독출 통과시에는 (관통 불연속과 상호 관련되거나 또는 관련되지 않은) 피트와 랜드가 통상적인 방식으로 독출되지만, 다음의 독출에서는 반사층내의 불연속과 관련된 피트 및/또는 랜드가 통상적으로 독출되지 않는 계획된 방식으로 반사층내에 형성된다. 예를 들면, 반사층내의 불연속과 연관된 피트는 제 1 독출시의 피트로서 독출될 수 있지만, (광 변화 가능 물질이 충분한 광을 조사하여 다음의 독출시에 독출용 레이저에 의해 수신된 광을 쓰레숄드 이상으로 증가시키는 경우에서와 같이) 다음의 독출시에는 독출용 레이저에 의하여 데이타 트랙의 물리적인 구조 변화로서 (반사층에서의 불연속성에 기인하여) 검출되는 광 변화 물질층의 변화에 기인하여 랜드로서 독출될 수 있다.
그 어떤 특정의 제조 방법에도 제한되지 않으면서, 그러한 구현예의 광 매체는 종래의 광 디스크 제조 기술의 수정에 의해서 제조될 수 있다. 매체는 종래의 리이드 온리 광 디스크의 제조와 관련하여 설명된 바와 같이 사출 성형되어 금속화될 수 있다. 다음에 디스크는 글래스 마스터 장치(glass mastering device) 또는 개량된 CD 라이터 안에 배치되어서, 금속화된 층의 선택된 부위가 제거되어 층내에 관통 불연속부를 형성한다. 다음에 광 변화 가능 물질층이 예를 들면 스핀 코팅에 의해서 매체의 비독출면상에 배치될 수 있어서, 그러한 것에 있는 광 변화 물질층은 금속화 층내의 관통 불연속부를 통해서만 독출용 레이저에 접근할 수 있다. 당업자가 이해하는 바로서, 관통 불연속부의 형성은, 제 1 의 독출이나 광 변화 가능 물질의 활성화 이후의 차후 독출도, CIRC 및/또는 EFM 과 같은 매체와 관련하여 채용된 그 어떤 표준 에러 프로토콜에 기인하여 데이타 독출이 거부되는 결과를 초래하지 않는 방식으로 수행되는 것이 바람직스럽다.
본 발명은 선행 기술의 광 매체 복사 방지 시스템과 관련된 많은 문제점을 극복한다. 본 발명은 광 매체의 유효한 복사를 방지하도록 광 매체 조성물의 특정한 본질적인 물리적 특성을 사용하는 광 매체를 제공한다. 본 발명은 매체의 재생산을 방지하면서 데이타가 독출될 수 있는 방식으로 그러한 광 매체의 독출 동안에 디지탈 데이타 출력을 변경시키는 것을 제공한다. 그러한 발명은 종래의 광 리이더에서 사용된 하드웨어, 펌웨어 또는 소프트웨어에 대한 변경을 요구하지 않는다. 데이타 독출의 변경은 광 변화 가능 화합물을 매체에 선택적으로 배치함으로써 달성되는데, 그러한 광 변화 가능 화합물은 통상적인 광 리이더에 의해서 사용된 광으로부터의 여기시에 작용하는 것이 바람직스럽다. 그러한 광 변화 가능 물질의 선택적인 배치에 의해서, 통상적인 광 리이더는 광 변화 가능 물질의 활성화 이전에는 광학적으로 엔코딩된 데이타를 일 방식으로 독출할 수 있으며, 활성화 이후에는 다른 방식으로 독출할 수 있으며, 그리고 광 변화 가능 물질이 더 이상 활성화되지 않을때는 제 1 의 방식으로 독출할 수 있다.
당업자들이 이해하는 바로서, 랜드(land) 로부터 피트(pit)로, 또는 피트로부터 랜드로 천이하는 것은 통상적으로 표준의 광 리이더에 의해서 "1"로서 해석된다. 그러나, 피트가 다른 피트들중에 있다면, 또는 랜드가 다른 랜드들중에 있다면, "O"이 레지스터(reginster)될 것이다. 피트와 랜드와 관련하여 감광성 물질을 선택적으로 배치함으로써 데이타의 독출에 영향을 미칠 수 있다. 예를 들면, 길이 6T 의 피트를 바로 앞선 길이 3T 의 랜드의 다음에 3T 의 랜드가 있다면, 종래의 광 디스크 리이더는 00100000100 의 데이타 스트림(stream)을 독출하게 되며, 여기에서 피트로부터 랜드로의 각 천이는 "1"로서 독출된다. 만약 광 변화 가능 물질이 차후의 독출시에 6T 의 3T 길이에 걸쳐서 리이더에 의해 독출될 수 있다면, 데이타 스트림은 대신에 00000100100 으로서 독출될 수 있다. 즉, 천이는 리이더가 피트로부터 랜드로, 또는 그와 반대로 천이되는 것을 검출하게 함으로써 움직일 수 있으며, 여기에서 물리적인 천이는 실질적으로 존재하지 않는다.
광 변화 가능 물질은 데이타 피트 및, 랜드와 정합되어 선택적으로 배치될 수 있으며 광 매체상에 설정된 대조합(checksum)은 크로스 인터리브 리이드 솔로몬 코드(Cross-Interleave Reed-Solomon Code:CIRC) 디코더(모든 CD 플레이어/리이더상의 표준)가 독출 에러를 검출하지 않아서 아래에 위치한 데이타가 독출되는 것을방지하도록 변화 가능 데이타 스트링을 고려한다. 독출용 레이저로부터의 복조된 유입 프레임의 최대 3 퍼센트는 향상된 CIRC 디코더에 의해서 수정될 수 있다. 피트와 랜드에 의해서 표시된 데이타 및, 광 변화 가능 물질에 의해서 표시된 데이타는 CIRC 디코더에 의해서 데이타 스트링을 수정하도록 디코딩될 필요가 있을 수 있다. 이와는 달리, 광 변화 가능 물질은 레지스트리(registry)에 상관 없이 사출 성형된 데이타에 평탄한 분리층내에 배치될 수 있다.
위치로부터 독출 가능한 두개의 상이한 데이타 세트들이 광 매체의 적절한 독출을 야기하도록 사용될때 (예를 들면 광 매체 또는 다른 곳에서 설정된 소프트웨어 명령이 적절한 기능을 위한 위치에서 두개의 상이한 데이타를 필요로 할때), 채용된 광 변화 가능 물질은 전형적인 광 매체 저장 조건에서 장시간의 안정성을 나타내며 그리고 광 변화 가능 물질이 가볍고 비활성이어서 광 매체가 장기간에 걸쳐서 사용될 수 있게 하는 것이 바람직스럽다. 다른 한편으로, 일부 적용예에 있어서는 광 매체가 단지 제한된 시간 동안에만 독출될 수 있도록, 예를 들면 데모용 디스크이도록, 선택된 광 변화 가능 물질이 시간의 흐름에 따라서 저하되는 것이 바람직스러울 수 있다.
데모용 디스크는 종종 소비자들이 제품의 완전한 발매품을 구입하도록 유인하게끔 소비자들에게 제공된다. 데모용 디스크는 종종 제한된 기능만을 제공하도록 포장되며 (즉, 완전하게 기능하는 소프트웨어의 모든 면들을 수행할 수 없다) 그리고/또는 사용자가 디스크를 채용할 수 있는 횟수를 제한하는 명령 세트를 포함한다. 본 발명은 본 출원의 원리를 채용하는 데모용 디스크가 완전하게 기능적이도록만들어질 수 있지만, 그러나 시간이 흐른 후에 또는 몇번 사용한 후에는 순전하게(가능하게는 핵킹될 수 있는) 소프트웨어 수단에 그러한 것을 이루도록 의존하지 않으면서 기능성이 결여되도록 디자인될 수 있다.
광 변화 가능 화합물은 재 독출시에 매체로부터의 출력 신호를 변화시키는 역할을 하는 그 어떤 화합물 또는 그 화합물의 조합으로부터도 선택될 수 있다. 이러한 화합물은, 제한 없이, 지연 방출 화합물(delayed emission compound), 지연 흡광 화합물(delayed absorbance compound) 및, 다른 광 변화 가능 화합물을 구비한다. 재 독출시에 반사성이 있게 되는 매체내 층은 예측 가능하게 매체의 출력을 변경시키는데 있어서 유용할 수도 있다.
본 발명의 광 변화 가능 화합물은 본질적으로 유기물이거나 또는 무기물이거나, 그것들의 조합이거나 또는 혼합물일 수 있다. 데이타가 최초의 독출시에 적어도 제 1 의 의도된 형태로 리이더에 의해서 독출될 수 있도록, 그리고 다시 샘플링될때는 적어도 제 2 의 의도된 형태로 독출될 수 있도록 화합물은 그것에 대하여 감광성이 있는 광의 파장에 대하여 지연된 응답을 나타내는 것이 바람직스럽다.
바람직한 구현예에 있어서, 광 변화 가능 화합물은 하나 또는 그 이상의 광 파장에 의한 자극시에 광을 방출할 수 있는 화합물이다. 바람직한 구현예에 있어서, 광 방출성의 광 변화 가능 화합물은 리이더에 의해서 검출될 수 있는 파장과 같거나 또는 거의 같은 파장으로 방출한다. 예를 들면, CD 로는 광 변화 가능 화합물이 약 780 nm 의 파장으로 방출하고 DVD 로는 광 변화 가능 화합물이 약 650 nm 으로 방출하는 것이 바람직스럽다.
위에서 설명한 바와 같이, 광 변화 가능 화합물은 본질적으로 유기물일 수 있으며, 예를 들면 염료이다. 본 발명의 유기 염료들중 특히 유용한 종류는 시아닌 염료이다. 이러한 시아닌(cyanine) 염료는 다른 것들 중에서, 인도디카본시아닌(INCY), 벤진도디카보시아닌(BINCY) 및, INCY 와 BINCY 모두를 포함하는 혼성물을 포함한다. 혼성물은 예를 들면 두가지의 상이한 염료의 혼합물이거나, 또는 다른 구현예에서는 INCY 및, BINCY 양쪽의 일부분들을 포함하는 화합물을 포함한다. 일 구현예에 있어서, 광 변화 가능 화합물은 약 530 과 780 nm 의 CD 와 DVD 범위에서 여기 범위(excitation range)와 링크된 구조를 가진 래이쇼메트릭(ratiometric) 화합물이다. 다른 구현예에 있어서, 염료는 약 10 밀리초의 시간 지연을 가진 인광이다.
표 1 은 본 발명과 사용될 수 있는 일부 유기 염료이다.
염료 명칭/번호 CD/DVD 여기 방출
알시안 블루(Alcian Blue)(염료 73) DVD 630nm 흡수
메틸 그린(염료 79) DVD 630nm 흡수
메틸렌 블루(염료 78) DVD 661nm 흡수
인도시아닌(Indocyanine) 그린(염료 77) CD 775nm 818nm
구리 프탈로시아닌(Copper Phthalocyanine)(염료 75) CD 795nm 흡수
IR 140(염료 53) CD 823nm(66ps) 838nm
IR 768 퍼클로레이트(Perchlorate)(염료54) CD 760nm 786nm
IR 780 이오다이드(Iodide)(염료 55) CD 780nm 804nm
IR 780 퍼클로레이트(염료56) CD 780nm 804nm
IR786 이오다이드(염료 57) CD 775nm 797nm
IR768 퍼클로레이트(염료58) CD 770nm 796nm
IR792 퍼클로레이트(염료59) CD 792nm 822nm
1,1'-디옥타데실(DIOCTADECYL)-3,3,3',3'-테트라메틸린도디카보시아닌 이오다이드(TETRAMETHYLINDODICARBOCYANINE IODIDE)(염료 231) DVD 645nm 665nm
1,1'-디옥타데실(DIOCTADECYL)-3,3,3',3'-테트라메틸린도디카보시아닌 이오다이드(TETRAMETHYLINDODICARBOCYANINE IODIDE)(염료 232) DVD 748nm 780nm
1,1',3,3,3',3'-헥사메틸(HEXAMETHYL-인도디카보시아닌(INDODICARBOCYANINE) 이오다이드(IODIDE) (염료 233) DVD 638nm 658nm
DTP (염료 239) CD 800nm(33ps) 848nm
HITC 이오다이드(염료240) CD 742nm(1.2ns) 774nm
IR P302 (염료 242) CD 740nm 781nm
DTTC 이오다이드(염료 245) CD 755nm 788nm
DOTC 이오다이드 (염료 246) DVD 690nm 718nm
IR-125 (염료 247) CD 790nm 813nm
IR-144 (염료 248) CD 750nm 834nm
또한 위에서 설명된 바와 같이, 광 변화 가능 화합물은 본질적으로 무기물일 수도 있다. 광 변화 가능 물질이 광 매체상에서 오랜 기간동안에 기능적이도록 요구된다면 무기 화합물이 본 발명에서 특정의 용도를 가진다. 무기 화합물은 반복적인 레이저의 도전에 노출되었을때 품질 저하가 덜한 경향을 가진다.
광 방출이 가능한 무기 화합물이 본 발명에서 사용될 수 있는 것으로 알려졌다. 다양한 농도에서의 아연 황화물(ZnS)과 같은 화합물 (세토, 디.(Seto, D.) 아날, 바이오켐 189,51053 (1990)) 및, 희토류 황화물 및, ZnS-SiO2, Zn2SiO4및,La2O2S 와 같은, 그러나 그에 제한되지 않는 산황화물들이 특정 파장에서 인광을 방출할 수 있는 것으로 알려져 있다. 그러한 무기 광 방출 화합물은 망간(Mn), 구리(Cu), 유로피움(Eu), 사마륨(Sm), SmF3, 테브륨(Tb), TbF3, 투륨(Tm), 알루미늄(Al), 실버(Ag) 및, 마그네슘(Mg)와 같은 금속 이온으로써 유익하게 사용될 수 있다. 화합물의 인광성 및, 발광 특성은 ZnS 결정 격자에서 변경될 수 있으며, 예를 들면 지연 시간 및, 방출의 파장이 결합을 위해 사용된 금속 이온을 변화시킴으로써 제어될 수 있다. (미국 특허 제 5,194,290 호 참조).
무기의 상 변화 물질도 본 발명의 복사 방지를 이루도록 사용될 수 있다. 특히 유용한 무기의 상 변화 물질은 GeSbTe, InSbTe, InSe, AsTeGe, TeOx-GeSn, TeSeSn, SbSeBi, BiSeGe 및, AgInSbTe-유형의 물질과 같은 칼코제나이드(chalcogenide) 물질을 포함하는데, 이들은 비결정질 상태로부터 결정질 상태로 특정 광원으로부터의 에너지 흡수에 의해 변화될 수 있다. 상 변화 물질의 아래에 놓인 데이타가 변화 발생 이전에 독출될 수 있도록 상 변화는 시간 조절이 되어야 한다. 또한 상 변화는 다시 샘플링할때 상이한 데이타 독출이 획득되기에 충분할 정도로 불변하여야 하며, 아래에 놓인 데이타가 상당한 시간 동안 흐려지도록 너무 영속적이어서는 아니된다. 광 매체상의 소프트웨어는 상의 변화와 원래 상으로의 복귀에 관련된 시간에 열쇠를 맞추어야 한다. 바람직한 구현예에 있어서 비결정질로부터 결정 상태로의 천이는 약 300 msec 이상으로 더 포함하여서 지속되어서는 아니된다. 레이저 펌핑을 할 수 있는 것과 같이, 동일한 장소에서의 여러번의 독출이 온도 변화를 유도하도록 사용될 수 있어서, 특정의 지점 또는 위치에서 상 변화 활성화를 야기한다.
무기 화합물은 당업자들에게 이해되는 바로서 여러가지 형태로서 사용될 수 있는데, 결정 격자내에 분산되거나 또는 패킹된 것과 같이 매우 미세한 입자 크기를 포함하지만, 그에 제한되지는 않는다 (예를 들면, 드래퍼(Drapher) D.E. 바이오피식시. 켐. 21:91-101(1985) 참조).
통상적인 CD ROM 상의 피트 크기가 0.8 마이크로미터이고, 통상적인 DVD 상의 피트가 0.4 마이크로미터라면, 본 발명에서 사용되는 무기 또는 유기 광 변화 가능 물질은 각각의 피트 사이즈보다 작은 것이 바람직스럽다.
종래의 "리이드 온리" 유형의 광 매체에 있어서, 광 변화 가능 물질은 피트 및/또는 랜드 레벨에서, 또는 그와 정합되어 배치될 수 있어서, 예를 들면 지연된 광 방출 물질에 대해서, 데이타를 다시 샘플링 하는 것이 발생하여 광 변화 가능 물질이 광을 방출할때는 피트가 랜드로서 독출될 수 있다. 서입 가능하거나 또는 기록 가능한 광 매체에 있어서 광 변화 가능 물질은, 기판 변화가 없으면 독출이 의도되는 방식으로써, 기판 변화의 독출과 간섭되는 방식으로 상 변화 층에 배치되는 것이 바람직스럽다.
다양한 방법들이 데이타 구조(즉, 데이타로서 독출되는 피트, 랜드, 변형등)와 관련하여 광 변화 가능한 물질의 정확한 배치를 가능하도록 사용될 수 있는데, 이것은 광 변화 가능 물질의 활성화시에 불명료해지도록 요구된다. 예를 들면, 광 변화 가능 물질은 uv 경화 수지 또는 광개시제(photoinitiator)와 조성되어서 리이더와 관련된 파장(400-800 nm) 또는 UVA, UVB 및, UVC 범위(254nm-365nm)에서 경화를 이룰 수 있으며 광 매체 위의 층으로서 배치된다. 적절한 파장의 레이저 비임이 사용되어 광 매체상의 정확한 지점에 있는 수지를 경화시키고 남아있는 uv 경화 수지를 씻어낸다. 포토마스크가 사용되어 광 매체상의 경화를 정확하게 집어낼 수 있다. 그러한 기술에 있어서, 광 변화 가능 물질은 광 매체상에 놓인 감광성 필름내에 배치된다. 포토마스크는 경화용 광이 특정의 위치에서 포토마스크를 통과할 수 있도록 함으로써 필름의 규제된 경화를 가능하게 하는데 사용되어, 광 변화 가능 물질을 광 매체상의 희망 위치에 배치시킨다. 이와는 달리, 양자 도트 또는 나노크리스탈 (펭(Peng). Am. Chem. Soc. 119:7019 7029 (1997)) 또는 (플루오스페어(Fluosphere) 이용 가능 형태의 분자 탐침(오레곤 USA)과 같은 형광 마이크로스페어가 광 매체상의 정확한 배치를 위해서 사용될 수 있다. 그러한 마이크로 재료는 예를 들면 포토마스크와 같은 리소그래픽 공정을 이용하여 분리된 위치들에 배치될 수 있다. 풀루오스페어 비이드는 크기가 0.2 마이크로미터-4.0 마이크로미터로 제작될 수 있으므로, 그러한 플루오스페어는 피트 레벨로 배치될 수 있다.
광 변화 가능 물질을 내용물의 데이타인 피트, 랜드 도는 데이타 구조와 직접적으로 정합시키는 대신에, 광 변화 가능 물질이 레지스트리를 고려함이 없이 사출 성형된 데이타에 평탄한 분리층내에 배치될 수 있다.
광 변화 가능 물질은 특정의 지점 또는 위치에 특정적으로 위치하기 보다는 경계 스핀 코팅으로 광 매체상에 배치될 수도 있다. 바람직스럽게는, 그러한 경우에, 스핀 코팅이 두께에 있어서 균일하다. 그러한 구현예의 광 변화 가능 물질의 두께는 다른 인자들중에서 스핀 코팅 과정 동안에 매체의 회전 속도를 변화시킴으로써 조절될 수 있다. 층의 두께는 적용에 따라서 변화될 것이지만, 일반적으로 약 160 nm 내지 1nm 미만의 두께이다. 광 변화 가능 물질을 구비하는 층의 요구되는 두께는, 매체에서 데이타를 독출하는데 사용되는 리이더의 특성 뿐만 아니라, 물질의 흡수성, 물질의 방출성, 물질의 밀도 및, 매체의 구조에 따라서 변화될 수 있다. 통상적으로 바람직스럽기로는, 최초 샘플링시에 광의 투과에 의해서 아래에 놓인 데이타가 적절하게 독출될 수 있을 정도도 얇은 두께인 반면에, 같은 리이더로 다시 샘플링할때는 광 방출과 같은 적절한 변화를 제공할 정도로 밀도있는 두께로 광 변화 가능 물질층이 적용된다. 많은 적용예에서 필름 두께는 50 내지 160 nm 인 것이 유용한 것으로 밝혀졌다. 대부분의 CD 에 대해서는 필름 두께가 약 70 내지 약 130 nm 의 범위이지만, 대부분의 DVD 에서는 필름 두께가 약 50 nm 내지 약 150 nm 인 것이 바람직스럽다.
당업자들에게 이해되는 바로서, 감광성 물질과 같은 광 변화 가능 물질의 활성화 상태의 지속(즉, 물질이 처음 상태에 대하여 활성화 상태에 있는 시간의 길이) 및, 처음 상태가 활성화된 상태로 전환하는데 있어서의 지연 (즉, 물질이 처음 상태로부터 활성화된 상태로 가는데 걸리는 시간의 길이)는 아래에 놓인 데이타의 적절한 독출을 가능하도록 하는데 중요하고, 그리고 다시 샘플링할때 데이타 독출에서의 변화를 야기하는데 중요하다. CD ROM 에서의 피트 크기가 8 마이크로미터이고, 통상적인 회전 속도가 1.2 m/sec 라면, CD 에서의 바람직한 지연은 최소 약6.85 X 10-7초이다. DVD 에서의 피트 크기가 0.4 마이크로미터이고, 회전 속도가 약 3.5 m/sec 라면, DVD 에서의 바람직한 지연은 최소 약 1.14 X 10-7이다. 지연이 너무 급속하다면, 광 변화 가능 물질 아래에 있는 데이타는 독출에 앞서서 불명료해질 것이다.
회전 속도, 즉, 리이더가 광 매체의 동일한 부위로 되돌아가는데 걸리는 시간은 통상적인 CD 및, DVD 에 대해서 상이하다. 활성화된 상태의 지속은 적어도 적어도 다음의 길이로 지속되어야 한다. 120 mm 직경이고 약 1.2 m/sec 의 회전 속도라면, CD 상에 배치된 광 변화 가능 물질은 적어도 약 300 msec 의 지속성을 나타내야만 한다. 지속이 너무 짧으면, 활성화된 상태는 다시 샘플링되었을때 아래에 있는 데이타를 불명료하게 하지 않을 것이다. 물론, 지속이 너무 길면, 광 변화 가능 물질의 활성화 이후에 광 매체상의 데이타가 수용 가능한 시간내에 독출될 수 없을 것이다. 아연 황화물과 같은 특정의 무기 광 변화 가능 물질의 지속은 입자 크기를 변경시킴으로써, 또는 특정의 금속 또는 이온을 아연 황화물(ZnS) 또는 ZnS-SiO2의 결정 격자 안에 삽입함으로써 조절될 수 있으며, 예를 들면 ZnS 의 형광성의 지속은 그것을 Eu, Sm, Tb, Cu, Mn, Al 및, Mg 와 같은 상이한 이온 또는 금속으로 다양한 농도에서 도핑함으로써 변경될 수 있다.
입자 크기는 100 nm 미만인 것이 바람직스러우며, 보다 바람직스럽게는 10 nm 미만인 것이 바람직스럽고, 독출되고 있는 광 매체의 피트 크기보다 크지 않아야 한다. (통상적인 CD 에 대해서는 약 0.8 마이크로미터, 통상적인 DVD 에 대해서는 약 0.4 마이크로미터이다.) 코팅이 분산과 비응집을 야기할 정도로 너무 두텁지 않은 방식으로 광 변화 가능 물질은 광 매체상에 배치되어야 한다. 바람직스럽게는, 광 변화 가능 물질의 그 어떤 코팅도 100 nm 미만이어야 한다. 광 변화 가능 물질이 활성화시 반사성을 변화시킬때, 광 매체에 기초한 피트/랜드상의 굴절율은 피트와 랜드 사이의 굴절율을 변화에 대응하도록 적어도 약 0.3 내지 0.4 이어야만 한다.
본 발명은 CD 및, DVD 와 같은 통상적인 광 매체와 함께 사용될 수 있다. 본 발명은 또한 제조 장비 및, 라인에서 최소한의 변화와 함께, "리이드-온리" CD 및, DVD, 그리고 혼성의 리이드 온리/기록 가능 또는 서입 가능 데이타 형태 및, 다른 물리적인 광 매체 포맷을 사용하도록 현재 사용되는 대량 생산 기술에 포함될 수도 있다. 당업자들에게 이해되는 바로서, 본 발명은 비록 제조 장비에서의 보다 많은 변화가 필요할 수 있음에도 불구하고, 기록 가능 또는 서입 가능 데이타 형태와 함께 사용될 수도 있다.
이제 도면으로 가서, 도 1 은 매체와 상호 작용하는 방사 비임으로 독출될 수 있는 방식으로 미리 기록된 데이타를 저장하는 선행 기술의 리이드-온리 광 저장 매체(10)의 단면도이다. 투명한 폴리카보네이트 기판층(12), 또는 광 투과 특성을 가지는 유사한 물질이 기록층과 상호 작용하는 방사가 그것을 통과할 수 있게 한다. 알루미늄 반사층(14)은 폴리카보네이트 기판층(12)에 근접하여 발견된다. 폴리카보네이트 층(12)은 랜드(16) 및, 피트(18)로 도시된 바와 같은 표면 구조로서저장된 데이타로 제작된다. 알루미늄 반사층(14)은 폴리카보네이트 표면의 구조를 전체적으로 유지하는 표면을 제공하도록 하는 방식으로 배치된다. 보호 오버코트(overcoat) 층(2)은 경화되지 않은 상태로 알루미늄 반사층(14)에 적용되며 자외선 방사에 의해서 경화된다. 도 1 에 도시된 것은 피트(51)상의 위치와 상호 작용하는 레이저 비임과, 랜드(53)와 상호 작용하는 레이저 비임이다.
도 5 는 리이드-온리 광 매체를 제조하는 통상적인 종래의 사출 성형 기술에 대한 순서도이다. 광 매체의 제조는 데이타의 프리마스터링(premastering, 22)(포맷팅)으로써 시작된다. 프리마스터된 데이타는 포토레지스트 물질을 포토레지스트로 코팅된 글래스 플레이트로부터 제거하도록 글래스 마스터링 단계(24)에서 사용되는 레이저를 조절하도록 사용된다. 포토레지스트 물질은 레이저에 의해서 연소되며, 포토레지스트는 경화되고 노출되지 않은 포토레지스트는 세정되며, 결과적인 데이타 유지 글래스 마스트는 다음에 Ag 또는 Ni 와 같은 금속으로 전기주조되어 디스크의 경우에는 "파더 디스크"라고 알려진 파더를 형성한다. 파더 디스크는 미러 이메이지 디스크(mirror image disc)를 만들도록 형판으로서 사용될수 있으며, 상기 미러 이메이지 디스크는 당해 기술 분야에서 머더 디스크로 알려져 있다 (단계 28). 머더 디스크는 파더 디스크의 광 복제품을 만드는데 사용되며 (단계 30), 그러한 디스크는 자녀 디스크로서 지칭된다. 자녀 디스크들은 사출 성형기에서 여러 디스크를 제조하는데 사용될때 스탬퍼(stamper)로서 지칭된다. 전체적인 디스크 "패밀리"가 만들어지지 않는다면, 파더 디스크가 직접적으로 스탬퍼로서 사용될 수 있다.
사출 성형 몰딩 단계(32)는 프리마스터링 단계(22)의 프리마스터된 데이타를 표시하는 제조 디스크에서 변형을 형성하도록 스탬퍼를 사용한다. 제조된 광 매체는 다음에 몰드로부터 제거되어 당해 분야에서 버퍼링 단계(34)로서 알려진 냉각 기간을 가질 수 있다. 변형을 유지하는 폴리카보네이트 기판의 표면은 금속 스퍼터링 단계(36)에서 금속으로 코팅된다. 금속 스퍼터링 단계(36)에서, 금속은 변형의 위와 아래에 코팅되어 폴리카보네이트 기판 위에 금속층을 형성한다. 금속층과 비금속 폴리카보네이트 기판 표면은 스핀 코팅 단계(38)에서 통상적으로 라커인 보호 중합체로 코팅된다. 스핀 코팅된 층들은 UV 경화 단계(40)에서 경화된다. 광 매체는 다음에 시각 검사 단계(42)에서 검사되며 광 매체는 허용되거나 또는 거부된다.
도 6 은 도 2 에 도시된 유형의 리이드 온리 광 디스크를 제조하는 통상적인 사출 성형에 작은 수정을 하여 리이드 온리 광 매체를 제조하는 본 발명의 바람직한 방법에 대한 개략적인 순서도이다. 순서도에 도시된 바와 같이, 부가적인 단계(46,48)가 도 5 에 도시된 통상적인 방법에 부가된다. 광 변화 가능 물질은 단계 46 에서 자녀 디스크(즉, 스탬퍼)로 임프레스(impress)되지 않은 몰드의 표면상에 임프린트(imprint)되는 반면에, 몰딩 물질이 물질의 광 변화 가능 특성에 손상을 주지 않도록 충분하게 냉각된 이후에, 그리고 몰딩된 기판이 몰딩 장치로부터 제거된 이후에, 스탬퍼는 여전히 몰딩 물질과 접촉하고 있다. 임프린팅(imprinting)은 예를 들면 그라비어(gravure), 레이저 인쇄, 마일라(mylar) 스크린 인쇄, 드롭-온-디맨드(drop-on-demand) 인쇄, CIJ 또는 당해 기술 분야에서 물질을 임프린팅하기 위한 다른 방법을 사용하여 이루어질 수 있다.결과적인 광 매체는, 제 2 의 폴리카보네이트 기판 또는 보호층을 광 변화 가능 물질로 인쇄된 표면 위로 부가하여 그러한 물질을 외부 환경에 대하여 보호하는 부가적인 단계(48)와 함께, 위의 도 5 에 도시된 바와 같이 처리된다. 도 2 는 그러한 기술에 의해서 스핀 코팅 층(50), 금속화 층(52), 임프레싱된 폴리카보네이트 층(54), 광 변화 가능 재료(56), 접합용 물질층(58), 제 2 의 폴리카보네이트 층(60)을 구비하여 제조된 예시적인 광 저장 매체의 단면도이다.
이제 도 7 을 참조하면, 도 3 에 도시된 유형의 리이드-온리 광 매체를 제조하는 통상적인 사출 성형에 작은 수정을 가하여 리이드-온리 광 매체를 제조하는 본 발명의 바람직한 방법에 대한 개략적인 순서도가 도시되어 있다. 도 7 의 순서도는 도 5 의 리이드-온리 광 매체를 제조하는 통상의 기술의 순서도와 상이한데, 광 변화 가능 물질이 제 2 의 폴리카보네이트 물질상으로 인쇄되는 단계(62)를 포함한다는 점에서 그러하다. 당업자들에게 이해되는 바로서, 단계 62 는 제 1 기판의 사출 성형과 동시적이거나, 그 이전이거나 또는 그 이후일 수 있다. 제 2 의 폴라카보네이트 기판은 단계 64 에서 정보 피트를 가지는 금속화된 폴리카보네이트 매체에 고정되는데, 이것은 또는 당업자들이 이해하는 바와 같은 기술에서 다른 단계에서 수행될 수도 있다. 예를 들면, 제 1 의 기판은 광 변화 가능 물질이 제 2 기판상에 임프린트되는 것과 동시에 금속 스퍼터링될 수 있다. 제 2 폴리카보네이트 기판의 부착은 고온 용융에 의해서 또는 접합 물질에 의해서일 수 있다. 도 3 은 그러한 기술에 의해서 스핀 코팅층(50), 금속화층(52), 임프레스된 폴리카보네이트층(54), 광 변화 가능 물질(56), 접합 물질층(58), 제 2 폴리카보네이트층(60)을 구비하여 제조된 예시적인 광 저장 매체에 대한 단면도이다.
도 4 는 본 발명의 또 다른 광 저장 매체에 대한 단면도이며, 여기에서 감광성 물질은 내용 데이타로부터 분리된 층(66)내에 위치된다. 감광성 물질은 예를 들면 잉크 제트 인쇄기에 의해서 층(66)상에 인쇄될 수 있다. 도 4 의 광 매체는 도 5 의 UV 경화 단계(40)에 의해서 층(66)상에 인쇄될 수 있는데, 감광성 물질층(66)은 스핀 코팅된 락커층(68)의 위에 배치될 수 있고 사출 성형 층(70)을 유지하는 데이타의 꼭대기에 위치된다. 다른 스핀-코팅된 랙커층(72)은 도면에서 층(66)의 위에 놓인 것으로 도시되어 그것을 손상에 대하여 보호한다.
본 발명이 바람직한 구현예들을 참조하여 설명되었을 지라도, 당업자들은 다양한 변형 및/또는 수정예들이 첨부된 청구 범위에 한정된 바와 같은 본 발명의 사상 또는 범위를 이탈함이 없이 본 발명에 대하여 이루어질 수 있다는 점을 용이하게 이해할 것이다. 여기에 인용된 모든 문헌들은 여기에 온전하게 편입된다.

Claims (105)

  1. 정보 피트를 가진 제 1 의 주표면과 상대적으로 평탄한 제 2 주표면을 가지기 위하여 기판을 성형하는 단계;
    상기 제 2 의 주표면 위나 또는 그 안에 광 변화 가능 물질을 배치하는 단계;
    상기 감광성 물질을 주위 환경으로부터 보호하기 위하여 상기 광 변화 가능 물질을 가진 상기 제 2 주표면을 보호 물질로 시일링 하는 단계;를 구비하는 광 매체 제조 방법.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 기판은 폴리카보네이트를 구비하는 것을 특징으로 하는 방법.
  3. 제 1 항에 있어서, 광 변화 물질은 유기 물질인 것을 특징으로 하는 방법.
  4. 제 1 항에 있어서, 광 변화 물질은 무기 물질인 것을 특징으로 하는 방법.
  5. 제 3 항에 있어서, 유기 광 변화 물질은 광을 방출할 수 있는 것을 특징으로 하는 방법.
  6. 제 5 항에 있어서, 유기 광 변화 물질은 시아닌(cyanine) 화합물을 구비하는 것을 특징으로 하는 방법.
  7. 제 5 항에 있어서, 유기 광 변화 물질은 약 770 내지 약 830 nm 사이의 파장에서 광을 방출하는 광원에 의해서 여기될 수 있는 것을 특징으로 하는 방법.
  8. 제 5 항에 있어서, 유기 광 변화 물질은 약 630 nm 내지 650 nm 사이의 파장에서 방출하는 광원에 의해서 여기될 수 있는 것을 특징으로 하는 방법.
  9. 제 4 항에 있어서, 무기 광 변화 물질은 광을 방출할 수 있는 것을 특징으로 하는 방법.
  10. 제 9 항에 있어서, 무기 광 방출의 광 변화 가능 물질은 약 770 nm 내지 830 nm 사이의 파장에서 광을 방출하는 광원에 의해서 여기될 수 있는 것을 특징으로 하는 방법.
  11. 제 9 항에 있어서, 무기 광 방출의 광 변화 가능 물질은 약 630 nm 내지 650 nm 사이의 파장에서 광을 방출하는 광원에 의해서 여기될 수 있는 것을 특징으로 하는 방법.
  12. 제 4 항에 있어서, 무기 광 변화 가능 물질은 광의 하나 또는 그 이상의 파장들로부터의 에너지 흡수에 의해서 비결정질 상태로부터 결정질 상태로 상 변화를 경험할 수 있는 물질인 것을 특징으로 하는 방법.
  13. 제 12 항에 있어서, 무기 상 변화의 광 변화 가능 물질은 GeSbTe, InSbTe, InSe, AsTeGe, TeOx-GeSn, TeSeSn, SbSeBi, BiSeGe 및, AgInSbTe 를 포함하는 그룹으로부터 선택된 것을 특징으로 하는 방법.
  14. 제 1 항에 있어서, 광 변화 가능 물질은 약 530 nm 의 파장 길이를 방출하도록 적합화되는 것을 특징으로 하는 방법.
  15. 제 1 항에 있어서, 광 변화 가능 물질은 약 400 nm 내지 약 900 nm 사이 범위의 파장을 방출하도록 적합화되는 것을 특징으로 하는 방법.
  16. 제 1 항에 있어서, 광 변화 물질은 약 780 nm 에서 방출하는 광원 및, 약 530 nm 파장에서 광을 방출하는 광원에 의해서 여기될 수 있는 것을 특징으로 하는 방법.
  17. 제 1 항에 있어서, 광 변화 물질은 상기 기판의 상기 제 2 의 주표면상에서분리된 위치에 있는 것을 특징으로 하는 방법.
  18. 제 1 항에 있어서, 광 변화 가능 물질은 상기 기판의 상기 제 2 의 주표면상에 스핀 코팅에 의해서 확산되어 배치된 것을 특징으로 하는 방법.
  19. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 주표면을 금속화하는 단계;
    상기 금속을 주위 환경으로부터 보호하기 위하여 상기 금속화된 제 1 의 주표면을 시일링 하는 것을 특징으로 하는 방법.
  20. 제 1 주표면과 제 2 주표면을 가진 제 1 기판을 획득하는 단계;
    상기 제 1 기판의 하나의 주표면 또는 양쪽의 주표면상에 광 변화 가능 물질을 배치하는 단계;
    제 1 및, 제 2 주표면을 가지며, 상기 제 1 주표면은 그 위에 정보 피트를 가지는 제 2 기판을 획득하는 단계;
    상기 감광성 물질을 가지는 상기 제 1 기판을 상기 제 2 기판의 상기 제 1 또는 제 2 주표면에 고정하는 단계;를 구비하는 광 매체의 제조 방법.
  21. 제 20 항에 있어서, 상기 제 1 기판은 폴리카보네이트를 구비하는 것을 특징으로 하는 방법.
  22. 제 20 항에 있어서, 상기 제 2 기판은 폴리카보네이트를 구비하는 것을 특징으로 하는 방법.
  23. 제 20 항에 있어서, 상기 제 1 기판은 중합체 필름을 구비하는 것을 특징으로 하는 방법.
  24. 제 20 항에 있어서, 광 변화 가능 물질은 광 방출 화합물인 것을 특징으로 하는 방법.
  25. 제 20 항에 있어서, 광 변화 가능 물질은 무기 또는 유기 화합물을 구비하는 것을 특징으로 하는 방법.
  26. 제 25 항에 있어서, 광 변화 가능 물질은 약 770 nm 내지 약 830 nm 사이의 파장으로 광을 방출하는 광원에 의해서 여기될 수 있는 것을 특징으로 하는 방법.
  27. 제 25 항에 있어서, 광 변화 가능 물질은 약 630 nm 내지 약 650 nm 사이의 파장에서 방출하는 광원에 의해서 여기되는 것을 특징으로 하는 방법.
  28. 제 25 항에 있어서, 무기 광 변화 가능 물질은 광의 하나 또는 그 이상의 파장들로부터의 에너지 흡수에 의해서 비결정질 상태로부터 결정질 상태로 상 변화를 경험할 수 있는 물질인 것을 특징으로 하는 방법.
  29. 제 28 항에 있어서, 무기 상 변화의 광 변화 가능 물질은 GeSbTe, InSbTe, InSe, AsTeGe, TeOx-GeSn, TeSeSn, SbSeBi, BiSeGe 및, AgInSbTe 를 포함하는 그룹으로부터 선택된 것을 특징으로 하는 방법.
  30. 제 25 항에 있어서, 광 변화 가능 물질은 780 nm 에서 방출하도록 적합화되는 것을 특징으로 하는 방법.
  31. 제 25 항에 있어서, 광 변화 가능 물질은 530 nm 에서 방출하도록 적합화되는 것을 특징으로 하는 방법.
  32. 제 25 항에 있어서, 광 변화 가능 물질은 약 400 nm 내지 약 900 nm 의 범위에서 파장을 방출하도록 적합화되는 것을 특징으로 하는 방법.
  33. 제 25 항에 있어서, 광 변화 가능 물질은 약 780 nm 의 파장에서 광을 방출하는 광원 및, 약 530 nm 의 파장에서 방출하는 광원에 의해서 여기될 수 있는 특징으로 하는 방법.
  34. 제 20 항에 있어서, 광 변화 가능 물질은 분리된 위치에 배치된 것을 특징으로 하는 방법.
  35. 제 20 항에 있어서, 광 변화 가능 물질은 스핀 코팅에 의해서 확산되어 적용되는 것을 특징으로 하는 방법.
  36. 제 1 주표면 및, 제 2 주표면을 가지고, 상기 제 1 주표면은 그 위에 피트와 랜드를 가지는 기판을 획득하는 단계;
    광 변화 가능 물질을 상기 정보 피트 또는 랜드에 배치하는 단계;
    정보 피트를 그 위에 가지는 상기 기판의 상기 제 1 주표면을 금속화하는 단계;
    오버코트 층을 상기 금속화된 표면을 따라서 배치하는 단계;를 구비하는 광 매체의 제조 방법.
  37. 제 36 항에 있어서, 광 변화 가능 물질은 유기 물질인 것을 특징으로 하는 방법.
  38. 제 36 항에 있어서, 광 변화 가능 물질은 무기 물질인 것을 특징으로 하는 방법.
  39. 제 37 항에 있어서, 유기 광 변화 가능 물질은 광을 방출할 수 있는 것을 특징으로 하는 방법.
  40. 제 39 항에 있어서, 유기 광 변화 가능 물질은 시아닌 화합물을 구비하는 것을 특징으로 하는 방법.
  41. 제 39 항에 있어서, 유기 광 변화 가능 물질은 약 770 nm 내지 약 830 nm 사이의 파장에서 광을 방출하는 광원에 의해서 여기될 수 있는 것을 특징으로 하는 방법.
  42. 제 39 항에 있어서, 유기 광 변화 가능 물질은 약 630 nm 내지 약 650 nm 사이의 파장에서 방출하는 광원에 의해서 여기될 수 있는 것을 특징으로 하는 방법.
  43. 제 38 항에 있어서, 무기 광 변화 가능 물질은 광 방출이 가능한 것을 특징으로 하는 방법.
  44. 제 43 항에 있어서, 무기 광 방출의 광 변화 가능 물질은 약 770 nm 내지 약 830 nm 사이의 파장에서 광을 방출하는 광원에 의해서 여기될 수 있는 것을 특징으로 하는 방법.
  45. 제 43 항에 있어서, 무기 광 방출의 광 변화 가능 물질은 약 630 nm 내지 약 650 nm 사이의 파장에서 광을 방출하는 광원에 의해서 여기될 수 있는 것을 특징으로 하는 방법.
  46. 제 70 항에 있어서, 무기 광 변화 가능 물질은 광의 하나 또는 그 이상의 광 파장들로부터의 에너지 흡수에 의해서 비결정질 상태로부터 결정질 상태로 상 변화를 경험할 수 있는 물질인 것을 특징으로 하는 방법.
  47. 제 45 항에 있어서, 무기 상 변화의 광 변화 가능 물질은 GeSbTe, InSbTe, InSe, AsTeGe, TeOx-GeSn, TeSeSn, SbSeBi, BiSeGe 및, AgInSbTe 를 포함하는 그룹으로부터 선택된 것을 특징으로 하는 방법.
  48. 제 36 항에 있어서, 광 변화 가능 물질은 약 530 nm 의 파장 길이를 방출하도록 적합화되는 것을 특징으로 하는 방법.
  49. 제 36 항에 있어서, 광 변화 가능 물질은 약 400 nm 내지 약 900 nm 의 범위에서 파장을 방출하도록 적합화되는 것을 특징으로 하는 방법.
  50. 제 36 항에 있어서, 광 변화 가능 물질은 약 780 nm 의 파장에서 방출하는 광원과 약 530 nm 에서 광을 방출하는 광원에 의해서 여기될 수 있는 것을 특징으로 하는 방법.
  51. 제 36 항에 있어서, 광 변화 가능 물질은 상기 기판의 제 2 주표면상에서 분리된 위치에 배치된 것을 특징으로 하는 방법.
  52. 제 20 항에 있어서, 광 변화 가능 물질은 스핀 코팅에 의해서 상기 기판의 상기 제 2 주표면상에 확산되어 적용되는 것을 특징으로 하는 방법.
  53. 제 1 주표면 및, 제 2 주표면을 가지고, 상기 제 1 주표면 또는 상기 제 2 주표면, 또는 상기 양측의 주표면은 검출 가능한 정합 마크(registration mark)를 가지는 제 1 기판을 획득하는 단계;
    상기 제 1 기판층의 상기 제 1 주표면상의 선택 부위에 광 변화 가능 물질로 임프린팅하는 단계;
    제 1 주표면 및, 제 2 주표면을 가지고, 상기 제 2 기판층의 상기 제 1 주표면은 그 위에 정보 피트를 가지고, 상기 제 1 또는 제 2 주표면의 어느 하나, 또는 그들 양쪽 모두가 검출 가능한 정합 마크를 가지는 제 2 기판을 획득하는 단계;
    상기 검출 가능한 정합 마크가 서로 중첩되도록 상기 제 2 기판의 상기 제 2 주표면을 상기 제 1 기판의 상기 제 1 주표면을 따라서 고정하는 단계;
    상기 정보 피트를 가지는 상기 제 2 기판층의 상기 제 1 주표면을 금속화하는 단계;
    제 1 오버코트 층을 상기 금속화된 표면을 따라서 배치하는 단계; 및,
    제 2 오버코트 층을 상기 제 1 의 기판층의 상기 제 2 주표면을 따라서 선택적으로 배치하는 단계;를 구비하는 광 매체의 제조 방법.
  54. 제 53 항에 있어서, 상기 제 1 기판은 폴리카보네이트를 구비하는 것을 특징으로 하는 방법.
  55. 제 53 항에 있어서, 상기 제 2 기판은 폴리카보네이트를 구비하는 것을 특징으로 하는 방법.
  56. 제 53 항에 있어서, 광 변화 가능 물질은 광 방출 화합물인 것을 특징으로 하는 방법.
  57. 제 56 항에 있어서, 광 변화 가능 물질은 시아닌 화합물을 구비하는 것을 특징으로 하는 방법.
  58. 제 56 항에 있어서, 광 변화 가능 물질은 약 770 nm 내지 약 830 nm 사이의 파장에서 광을 방출하는 광원에 의해서 여기될 수 있는 것을 특징으로 하는 방법.
  59. 제 56 항에 있어서, 광 변화 가능 물질은 약 630 nm 내지 약 650 nm 사이의 파장에서 방출하는 광원에 의해서 여기될 수 있는 것을 특징으로 하는 방법.
  60. 제 56 항에 있어서, 광 변화 가능 물질은 780 nm 에서 방출하도록 적합화되는 것을 특징으로 하는 방법.
  61. 제 56 항에 있어서, 광 변화 가능 물질은 530 nm 에서 방출하도록 적합화되는 것을 특징으로 하는 방법.
  62. 제 56 항에 있어서, 광 변화 가능 물질은 약 400 nm 내지 약 900 nm 의 범위에서 파장을 방출하도록 적합화되는 것을 특징으로 하는 방법.
  63. 제 73 항에 있어서, 광 변화 가능 물질은 약 780 nm 의 파장에서 광을 방출하는 광원과 약 530 nm 에서 방출하는 광원에 의해서 여기될 수 있는 것을 특징으로 하는 방법.
  64. 제 56 항에 있어서, 광 변화 가능 물질은 분리된 위치에 배치되는 것을 특징으로 하는 방법.
  65. 제 56 항에 있어서, 광 변화 가능 물질은 스핀 코팅에 의해서 확산되어 적용되는 것을 특징으로 하는 방법.
  66. 제 1 주표면 및, 제 2 주표면을 가지고, 상기 제 1 기판층의 상기 제 1 주표면은 광 변화 가능 물질을 그 위에 가지는 제 1 기판층;
    제 1 주표면과 제 2 주표면을 가지는 제 2 기판층으로서, 상기 제 2 기판층의 상기 제 1 주표면은 정보 피트를 그 위에 가지고, 상기 제 2 주표면은 상기 제 1 기판층의 상기 제 1 주표면을 따라서 배치되는 제 2 기판층;
    상기 제 2 기판층의 상기 제 1 주표면을 따라서 배치되는 금속 반사층;
    상기 금속 반사층을 따라서 배치된 제 1 오버코트 층; 및,
    상기 제 1 기판층의 상기 제 2 주표면을 따라서 선택적으로 배치되는 제 2 오버코트층;을 구비하는 광 매체.
  67. 제 1 주표면 및, 제 2 주표면을 가지고, 상기 제 1 주표면은 그 위에 정보 피트와 랜드를 가지는 기판;
    상기 제 1 의 주표면 위에 배치된 중합체 필름으로서, 상기 중합체 필름은 상기 정보 피트와 랜드의 하나 또는 그 이상의 것의 위에 배치된 광 변화 가능 물질을 구비하는 중합체 필름;을 구비하는 다중층 광 매체.
  68. 제 67 항에 있어서, 광 변화 가능 물질은 광 방출성 물질인 것을 특징으로하는 방법.
  69. 제 68 항에 있어서, 광 변화 가능 물질은 광 흡수성 물질인 것을 특징으로 하는 방법.
  70. 제 68 항에 있어서, 광 변화 가능 물질은 감광성 물질인 것을 특징으로 하는 방법.
  71. 제 68 항에 있어서, 광 변화 가능 물질은 광 방출이 가능한 것을 특징으로 하는 방법.
  72. 제 68 항에 있어서, 광 변화 가능 물질은 발광성 물질인 것을 특징으로 하는 방법.
  73. 제 68 항에 있어서, 광 변화 가능 물질은 인광성 물질인 것을 특징으로 하는 방법.
  74. 제 1 주표면 및, 제 2 주표면을 가지는 기판으로서, 상기 제 1 주표면은 그 위에 정보 피트와 정보 랜드를 가지는 기판;
    정보 피트와 정보 랜드를 따라서 배치된 금속 반사층;
    상기 금속 반사층 위에 위치되고, 광 변화 가능 물질을 구비하는 중합체 필름;을 구비하며,
    상기 금속 반사층은, 상기 제 2 주표면을 통해서 배향된 레이저 광이 광 변화가능 물질의 중합체 필름상에 가격될 수 있게 하는 복수개의 관통 불연속부를 그 안에 가지는 것을 특징으로 하는 다중층 광 매체.
  75. 제 74 항에 있어서, 기판은 폴리카보네이트를 구비하는 것을 특징으로 하는 다중층 광 매체.
  76. 제 74 항에 있어서, 광 변화 가능 물질은 유기 물질인 것을 특징으로 하는 다중층 광 매체.
  77. 제 74 항에 있어서, 광 변화 가능 물질은 무기 물질인 것을 특징으로 하는 다중층 광 매체.
  78. 제 76 항에 있어서, 유기 광 변화 가능 물질은 광 방출이 가능한 것을 특징으로 하는 다중층 광 매체.
  79. 제 77 항에 있어서, 무기 광 변화 가능 물질은 광 방출이 가능한 것을 특징으로 하는 다중층 광 매체.
  80. 제 76 항에 있어서, 유기 광 변화 가능 물질은 시아닌 화합물을 구비하는 것을 특징으로 하는 다중층 광 매체.
  81. 제 76 항에 있어서, 유기 광 변화 가능 물질은 약 770 nm 내지 약 830 nm 사이의 파장에서 광을 방출하는 광원에 의해서 여기될 수 있는 것을 특징으로 하는 다중층 광 매체.
  82. 제 76 항에 있어서, 유기 광 변화 가능 물질은 약 630 nm 내지 약 650 nm 사이의 파장에서 방출하는 광원에 의해서 여기될 수 있는 것을 특징으로 하는 다중층 광 매체.
  83. 제 79 항에 있어서, 무기 광 방출성의 광 변화 가능 물질은 약 770 nm 내지 약 830 nm 사이의 파장에서 광을 방출하는 광원에 의해서 여기될 수 있는 것을 특징으로 하는 다중층 광 매체.
  84. 제 79 항에 있어서, 무기 광 방출성의 광 변화 가능 물질은 약 630 nm 내지 약 650 nm 사이의 파장에서 광을 방출하는 광원에 의해서 여기될 수 있는 것을 특징으로 하는 다중층 광 매체.
  85. 제 79 항에 있어서, 무기 광 변화 가능 물질은 광의 하나 또는 그 이상의 파장들로부터의 에너지 흡수에 의해서 비결정질 상태로부터 결정질 상태로 상 변화를 경험할 수 있는 물질인 것을 특징으로 하는 방법.
  86. 제 79 항에 있어서, 무기 광 변화 가능 물질은 GeSbTe, InSbTe, InSe, AsTeGe, TeOx-GeSn, TeSeSn, SbSeBi, BiSeGe 및, AgInSbTe 를 포함하는 그룹으로부터 선택된 것을 특징으로 하는 방법.
  87. 제 74 항에 있어서, 광 변화 가능 물질은 약 530 nm 의 파장 길이를 방출하도록 적합화되는 것을 특징으로 하는 방법.
  88. 제 74 항에 있어서, 광 변화 가능 물질은 약 400 nm 내지 약 900 nm 의 범위에서 파장을 방출하도록 적합화되는 것을 특징으로 하는 방법.
  89. 제 74 항에 있어서, 광 변화 가능 물질은 약 780 nm 의 파장에서 방출하는 광원과 약 530 nm 에서 광을 방출하는 광원에 의해서 여기될 수 있는 것을 특징으로 하는 방법.
  90. 제 1 주표면 및, 제 2 주표면을 가지는 기판을 획득하는 단계로서, 상기 제1 주표면은 정보 피트와 랜드를 그 위에 가지는 기판을 획득하는 단계;
    금속화된 층을 상기 정보 피트와 랜드를 따라서 형성하기 위하여 상기 제 1 주표면을 금속화하는 단계;
    상기 금속화된 층의 위에 광 변화 가능 물질을 구비하는 중합체 층을 배치하는 단계;
    상기 금속층내에 복수개의 구멍을 형성하는 단계;를 구비하는 광 매체의 제조 방법.
  91. 제 90 항에 있어서, 상기 기판은 폴리카보네이트를 구비하는 것을 특징으로 하는 방법.
  92. 제 90 항에 있어서, 광 변화 가능 물질은 유기 물질인 것을 특징으로 하는 방법.
  93. 제 90 항에 있어서, 광 변화 가능 물질은 무기 물질인 것을 특징으로 하는 방법.
  94. 제 92 항에 있어서, 유기 광 변화 가능 물질은 광 방출이 가능한 것을 특징으로 하는 방법.
  95. 제 92 항에 있어서, 유기 광 변화 가능 물질은 시아닌 화합물을 구비하는 것을 특징으로 하는 방법.
  96. 제 94 항에 있어서, 유기 광 변화 가능 물질은 약 770 nm 내지 약 830 nm 사이의 파장에서 광을 방출하는 광원에 의해서 여기될 수 있는 것을 특징으로 하는 방법.
  97. 제 94 항에 있어서, 유기 광 변화 가능 물질은 약 630 nm 내지 약 650 nm 사이의 파장에서 방출하는 광원에 의해서 여기될 수 있는 것을 특징으로 하는 방법.
  98. 제 93 항에 있어서, 무기 광 변화 가능 물질은 광 방출이 가능한 것을 특징으로 하는 방법.
  99. 제 98 항에 있어서, 무기 광 방출의 광 변화 가능 물질은 약 770 nm 내지 약 830 nm 사이의 파장에서 광을 방출하는 광원에 의해서 여기될 수 있는 것을 특징으로 하는 방법.
  100. 제 98 항에 있어서, 무기 광 방출의 광 변화 가능 물질은 약 630 nm 내지 약 650 nm 사이의 파장에서 광을 방출하는 광원에 의해서 여기될 수 있는 것을 특징으로 하는 방법.
  101. 제 93 항에 있어서, 무기 광 변화 가능 물질은 광의 하나 또는 그 이상의 파장들로부터의 에너지 흡수에 의해서 비결정질 상태로부터 결정질 상태로 상 변화를 경험할 수 있는 물질인 것을 특징으로 하는 방법.
  102. 제 93 항에 있어서, 무기 상 변화의 광 변화 가능 물질은 GeSbTe, InSbTe, InSe, AsTeGe, TeOx-GeSn, TeSeSn, SbSeBi, BiSeGe 및, AgInSbTe 를 포함하는 그룹으로부터 선택된 것을 특징으로 하는 방법.
  103. 제 90 항에 있어서, 광 변화 가능 물질은 약 530 nm 의 파장 길이를 방출하도록 적합화되는 것을 특징으로 하는 방법.
  104. 제 90 항에 있어서, 광 변화 가능 물질은 약 400 nm 내지 약 900 nm 의 범위에 있는 파장을 방출하도록 적합화되는 것을 특징으로 하는 방법.
  105. 제 90 항에 있어서, 광 변화 가능 물질은 약 780 nm 의 파장에서 방출되는 광원 및, 약 530 nm 의 파장에서 광을 방출하는 광원에 의해 여기될 수 있는 것을 특징으로 하는 방법.
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