KR20020068627A

KR20020068627A - The Flat Type Color Cathode Ray Tube

Info

Publication number: KR20020068627A
Application number: KR1020010008726A
Authority: KR
Inventors: 선동규
Original assignee: 엘지전자주식회사
Priority date: 2001-02-21
Filing date: 2001-02-21
Publication date: 2002-08-28

Abstract

PURPOSE: A flat color cathode ray tube is provided to mitigate or distribute concentration of stress on a corner when a rail of a tension mask is fixed. CONSTITUTION: A flat color cathode ray tube comprises a panel, a tension type mask and a mask support. The tension type mask structure includes a tension mask effective part(10) having electron beam transmission holes, a non-effective part(11) formed at inner area from a rail fixing unit(13) as an outer mask support for surrounding the effective part(10), and half etching lines(15) at the boundary between the effective part(10) and the non-effective part(11). The half etching lines(15) introduce one or more lines formed at one side or both sides of the non-effective part(11) to partially surround the effective part(10). The length of one of the half lines(15) is larger than 10xT, where T is thickness of the tension mask.

Description

평면 컬러 음극선관{The Flat Type Color Cathode Ray Tube}Flat Color Cathode Ray Tube

본 발명은 평면 컬러 음극선관에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 브라운관의 동작시 전자의 운동에너지를 열에너지로 변환시켜 흡수하여 평면패널에 맞게 성형된 평면마스크의 열팽창으로 전자빔의 미스랜딩을 해결하고자 하는 평면브라운관의 새도우마스크 구조체에 관한 것이다.The present invention relates to a flat color cathode ray tube, and more particularly, to solve the mis-landing of an electron beam by thermal expansion of a flat mask shaped to fit a flat panel by converting and absorbing kinetic energy of electrons during thermal operation. It relates to a shadow mask structure of a CRT.

종래 평면브라운관의 구성을 살펴보면 제1도 및 제2도에 도시된 바와 같이 방폭특성을 유지하도록 평면 패널(2), 전면에 레진수지로 고정되는 세이프티 패널(1)과 상기 패널92)의 후방에 프릿 글라스를 이용하여 융착되는 펀넬(3)과, 상기 펀넬(3)의 넥크부(3a)내에 봉입되어 R, G, B 3개의 전자빔(4)을 발사시키는 전자총(5)과, 상기 패널(2)의 내측에 결합되어 전자빔의 색선별 기능을 하도록 슬릿형상의 작은 구멍이 무수히 뚫린 새도우마스크(7)와, 상기 새도우마스크(7)가 패널(2)과 일정간격을 유지하도록 지지하는 레일(6)로 구성되었다.Looking at the configuration of a conventional flat brown tube, as shown in FIGS. 1 and 2, the flat panel 2, the safety panel 1 fixed to a resin paper on the front side and the rear of the panel 92 as shown in FIG. A funnel 3 fused using frit glass, an electron gun 5 encapsulated in a neck portion 3a of the funnel 3 to fire three electron beams R, G, and B, and the panel ( 2) a shadow mask 7 coupled to the inner side and having a small number of slit-shaped holes for slit function of the electron beam, and a rail for supporting the shadow mask 7 so as to maintain a predetermined distance from the panel 2 ( 6).

그리고 상기 새도우마스크(7)상에는 제3도와 같이 전자빔의 랜딩 영역인 유효부(10)와, 통과홀이 형성되지 않는 부분(11)과 실제로 쓰이지 않는 비유효부(12)로 이루어지며, 부호13은 레일이 부착되는 레일부착부를 나타낸다.On the shadow mask 7, as shown in FIG. 3, the effective part 10, which is a landing area of the electron beam, a part 11 in which a through hole is not formed, and an ineffective part 12, which are not actually used, are denoted by reference numeral 13. The rail mounting part to which a rail is attached is shown.

이와 같은 구성된 상태에서 전자총(5)에서 방사되어 나온 전자빔(4)은 새도우마스크(7)의 홀(8)을 통과하여 패널(2) 내면에 도포되어진 형광면(미도시)에 충돌한다. 그리고 충돌된 전자빔(4)의 운동에너지는 형광체를 발광시켜 화상을 재현하게 되는데, 이때 새도우마스크(7)의 전자빔 통과공(8)을 통과하는 전자빔(4)은 전체 전자빔의 약 20%에 불과하고 나머지는 새도우마스크(7)에 충돌하여 열로 변환되며 이 열에 의하여 새두우마스크(7)가 열팽창하게 되는 도밍현상이 야기된다.In this configuration, the electron beam 4 emitted from the electron gun 5 passes through the hole 8 of the shadow mask 7 and collides with a fluorescent surface (not shown) applied to the inner surface of the panel 2. The kinetic energy of the collimated electron beam 4 emits a phosphor to reproduce an image. At this time, the electron beam 4 passing through the electron beam through hole 8 of the shadow mask 7 is only about 20% of the total electron beam. And the rest collides with the shadow mask 7 and is converted into heat, which causes the domming phenomenon in which the shadow mask 7 is thermally expanded.

이러한 도밍현상은 형광면(9)에 랜딩하는 전자빔(4)의 위치를 변화시키게 되어 색순도를 저하시키는데, 이를 해결하기 위하여 종래에는 열팽창이 적은 인바(INVAR) 마스크를 사용한다든가 새도우마스크를 패널에 고정시키는 스프링에 바이메탈을 사용하여 도밍을 억제하는 방법을 사용하고 있지만 이는 제품의 제조단가 상승 및 작업성을 저하시키는 원인이 된다.This doming phenomenon changes the position of the electron beam 4 landing on the fluorescent surface 9, thereby reducing color purity. To solve this problem, conventionally, an INVAR mask having a low thermal expansion is used or a shadow mask is fixed to a panel. Although bimetal is used in the spring, the method of suppressing dope is used, but this causes a rise in the manufacturing cost of the product and a decrease in workability.

그래서, 최근에는 플랫 포일 텐션 마스크(flat foil tention mask; 이하 텐션마스크라 함)를 사용하여 선명도를 향상시키는데, 텐션 마스크는 강제적으로 인장시켜 마스크에 인가시켜 놓았기 때문에 전자의 마스크 충돌로 발생하는 마스크의 열팽창을 강제적으로 인가한 기구적인 장력으로 대처하므로 높은 온도에서도 마스크에 형성시킨 홀의 위치가 변화하지 않는다.Therefore, recently, a flat foil tension mask (hereinafter referred to as a tension mask) is used to improve the sharpness, which is caused by an electron mask collision because the tension mask is forcibly tensioned and applied to the mask. Because the mechanical tension applied to the thermal expansion is coped with force, the position of the hole formed in the mask does not change even at high temperature.

상기 텐션 마스크는 평면 패널과 이웃해서 음극선관 앞쪽 내부에 조립되며 패널 내면에 형성된 형광체에 전자가 제 위치에 도달할 수 있게 기하학적으로 배치되도록 마스크를 고정시키는 지지 구조물에 붙어있다. 이 텐션 마스크는 패널의 내면과 일정거리를 두고 조립되어 전자를 선별하여 적, 청, 녹으로 도포된 형광 스크린을 신호에 맞게 발광하게 해주는 색선별 장치이다.The tension mask is attached to the inside of the front of the cathode ray tube adjacent to the flat panel and attached to the support structure which fixes the mask to geometrically arrange the electrons in position in the phosphor formed on the inner surface of the panel. This tension mask is a color screening device that is assembled at a certain distance from the inner surface of the panel to select electrons and emit a fluorescent screen coated with red, blue, and green according to the signal.

이러한 텐션 마스크는 전자빔 통과홀의 형태가 도트였으므로 수평방향과 수직방향의 영률(YOUN'S NODULUS; 탄성률)이 비슷하여 유효부를 균일하게 그리고 장력을 많이 인가할 수 있었으나 선명도와 화면상의 물결무늬 그리고 퓨리티 여유도 등의 스크린 특성을 우수하게 하기 위하여 요즘 추세인 슬롯마스크 형태로 바뀌게 되는데, 이는 수평방향과 수직방향이 영률이 심하게 차이가 나면서 유효부를 균일하게 그리고 장력을 많이 인가할 수 없게 되었다. 또한 변형력을 적게 인가하면 마스크의 늘어남으로 인한 전자의 미스랜딩이 발생하게 되고 변형력을 많이 인가하게 되면 마스크의 특정 부위에 응력이 집중되어 마스크가 소성변형을 일으키거나 파단에 이르게 되는 문제점이 발생하였다.Since the tension mask was a dot in the form of electron beam through-holes, the Young's modulus in the horizontal and vertical directions was similar, so that the effective portion could be applied uniformly and a lot of tension. In order to improve the screen characteristics of the current trend is changed to the slot mask form, which is a significant difference in the Young's modulus in the horizontal direction and the vertical direction is not able to apply the effective portion uniformly and a lot of tension. In addition, if a small amount of deformation force is applied, mis-landing of electrons occurs due to the increase of the mask, and if a large amount of deformation force is applied, stress is concentrated on a specific portion of the mask, thereby causing plastic deformation or breakage.

이러한 문제를 해결하기 위하여 마스크 유효면 외주부(12, 레일 부착 바깥쪽 )에 홀을 형성시키는 방법을 채택하게 되었는데 제4도에 나타나 있듯이 비유효부인 A부위에 홀을 형성시켜 양 방향으로 텐션이 작용하게 하였으나, 코너부인 B부위에 응력이 집중되는 현상이 발생하였다.In order to solve this problem, a method of forming holes in the outer circumference of the mask effective surface 12 (outside of the rail attachment) was adopted. As shown in FIG. However, the stress concentration at the corner portion B occurred.

이를 완화하고자 제5도와 같이 텐션 마스크의 통과홀을 유효면과 레일 고정부 사이까지 연장하고, 연장된 부위의 코너부 통과홀은 방사방향으로 타이바 그레이딩(Tie-Bar Grading)처리 하였다.In order to alleviate this, the through hole of the tension mask extends between the effective surface and the rail fixing portion as shown in FIG. 5, and the through hole of the corner portion of the extended portion is subjected to tie-bar grading in the radial direction.

또한, 평면 칼라 브라운관의 작동 시에 외부 진동 및 음압 등의 충격으로 인하여 새도우 마스크 유효부가 진동하는 하울링(Howling)현상을 줄이기 위하여 텐션 마스크의 레일에 고정 후에 수직 방향으로 소정의 위치에 와이어(14)를 용접하여 부착한다.In addition, in order to reduce the howling phenomenon in which the shadow mask effective portion vibrates due to external vibration and sound pressure impact during operation of the flat color CRT, the wire 14 is fixed at a predetermined position in the vertical direction after being fixed to the rail of the tension mask. Weld by attaching.

그러나, 위와 같은 종래 기술을 도입하여 다소 완화는 되었지만 텐션 마스크의 레일 고정 시 수직 및 수평 방향으로 텐션이 작용하면 여전히 코너부인 제4도의 B부위에 응력이 집중되는 문제가 여전히 발생한다.However, although somewhat relaxed by the introduction of the prior art as described above, when tension is applied in the vertical and horizontal directions when fixing the rail of the tension mask, there is still a problem that stress is concentrated on the B portion of FIG.

또한, 평면 칼라 브라운관 작동 시 새도우 마스크 유효부가 진동하는 하울링 현상을 줄이기 위하여 종래의 기술에서 소정의 위치에 와이어를 용접방식으로 부착하더라도 여전히 하울링에 취약하다.In addition, in order to reduce the howling phenomenon in which the shadow mask effective portion vibrates during the operation of the flat color CRT, the wire is still vulnerable to the howling even though the wire is attached by welding to a predetermined position.

따라서, 본 발명의 목적은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 텐션 마스크의 레일 고정 시 응력이 코너에 집중되는 것을 완화 및 분산시킬 수 있는 평면 컬러 브라운관의 새도우마스크 구조체를 제공하는 것이다.Accordingly, an object of the present invention is to solve the above problems, and to provide a shadow mask structure of a flat color CRT which can mitigate and disperse the concentration of stress at the corners when fixing the rail of the tension mask.

본 발명의 다른 목적은 작동 시에 외부 진동 및 음압 등의 충격으로 인하여 새도우 마스크 유효부가 진동하는 하울링(Howling)현상을 감소시킬 수 있는 평면 컬라 브라운관의 새도우마스크 구조체를 제공하는 것이다.It is another object of the present invention to provide a shadow mask structure of a flat color CRAFT tube which can reduce howling phenomenon in which the shadow mask effective part vibrates due to an impact such as external vibration and sound pressure during operation.

도 1은 일반적인 평면 음극선관의 구성을 개략적으로 나타낸 도,1 is a view schematically showing the configuration of a general planar cathode ray tube;

도 2는 도 1의 패널부 분해사시도,2 is an exploded perspective view of the panel of FIG. 1;

도 3은 종래 플랫 포일 텐션 마스크를 나타내는 도,3 is a view showing a conventional flat foil tension mask,

도 4는 비유효면에 홀을 형성시킨 종래 텐션 마스크를 나타내는 도,4 is a view showing a conventional tension mask in which holes are formed in an invalid surface;

도 5는 유효면 연장 및 타이바 그레이딩(Tie Bar Grading) 처리된 종래 텐션 마스크를 도,Figure 5 shows a conventional tension mask with effective surface extension and tie bar grading (Tie Bar Grading),

도 6은 본 발명에 따른 하프 에칭 라인을 형성한 텐션 마스크를 나타낸 도,6 illustrates a tension mask in which a half etching line according to the present invention is formed;

도 7은 본 발명에 따라 하프 에칭 라인을 형성한 비유효부의 부분단면도,7 is a partial cross-sectional view of an invalid portion forming a half etching line according to the present invention;

도 8은 본 발명에 따라 다양한 형태로 하프 에칭 라인들을 형성한 것을 나타낸 도, 및8 illustrates the formation of half etch lines in various forms in accordance with the present invention, and

도 9는 본 발명의 다른 실시예를 나타낸 도이다.9 is a view showing another embodiment of the present invention.

< 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Major Parts of Drawings>

1 : 세이프티 패널2 : 패널1: Safety Panel 2: Panel

3 : 펀넬4 : 전자빔3: funnel 4: electron beam

5 : 전자총 6 : 레일5: electron gun 6: rail

7 : 텐션 마스크10: 유효부7: tension mask 10: effective portion

13: 레일 부착부15: 하프 에칭 라인13: rail attachment part 15: half etching line

상기 목적을 달성하기 위한, 본 발명의 기술적 해결수단은, 내면에 형광면이 형성된 패널과, 상기 패널의 내면에 일정간격을 두고 배치되는 텐션 타입 마스크, 및 상기 텐션 타입 마스크를 텐션 인가 상태에서 고정지지하기 위한 상기 패널 내면의 형광면 주위에 부착되는 마스크 지지체 레일을 포함하는 평면 컬러 음극선관에 있어서, 상기 텐션 타입 마스크는 전자빔 투과공이 형성된 장방형 유효부와 상기 유효부를 둘러싸는 비유효부로 구성되고; 적어도 하나의 가늘고 긴하프에칭(Half Etching) 라인이 상기 마스크의 유효부와 비유효부 경계부와 상기 레일 고정부 사이의 비유효부 한쪽 면 또는 양쪽 면에 상기 유효부를 적어도 부분적으로 둘러싸도록 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the technical solution of the present invention, a panel having a fluorescent surface formed on the inner surface, a tension type mask disposed at a predetermined interval on the inner surface of the panel, and the tension type mask is fixedly supported in a tension applied state A flat color cathode ray tube comprising a mask support rail attached around a fluorescent surface of an inner surface of the panel, wherein the tension type mask comprises a rectangular effective portion having an electron beam transmission hole formed therein and an invalid portion surrounding the effective portion; At least one thin, long half etching line is formed to at least partially surround the effective portion on one or both surfaces of the non-effective portion between the effective portion and the invalid portion boundary of the mask and the rail fixing portion. It is done.

또한, 상기 하프 에칭 라인이 2개 이상이고, 2개 이상의 하프 에칭 라인들이 마스크 비유효부의 양면 모두에 형성되거나, n개의 하프 에칭 라인들이 각각 일정 간격을 두고 마스크 비유효부의 한쪽 면에 형성되고, 상기 일정 간격에 상응하는 위치에 마스크 비유효부의 다른 쪽 면에 하프 에칭 라인이 형성되는 것이 바람직하다.In addition, at least two half etching lines are formed, and at least two half etching lines are formed on both sides of the mask invalid portion, or n half etching lines are formed on one side of the mask invalid portion at regular intervals, It is preferable that a half etching line is formed on the other side of the mask invalid portion at a position corresponding to the predetermined interval.

또한, 상기 한쪽 면에 형성된 2n번째 하프 에칭 라인과 2n+1번째 하프 에칭 라인 사이의 일정 간격에 상응하는 다른 쪽 면에 1개 또는 2개의 하프 에칭 라인이 형성되거나, 상기 한쪽 면에 형성된 3n번째 하프 에칭 라인과 3n+1번째 하프 에칭 라인 사이의 일정 간격에 상응하는 다른 쪽 면에 3개의 하프 에칭 라인이 형성되어도 좋다.In addition, one or two half etching lines are formed on the other side corresponding to a predetermined interval between the 2nth half etching line and the 2n + 1th half etching line formed on the one side, or the 3nth formed on the one side. Three half etching lines may be formed on the other side corresponding to a predetermined interval between the half etching line and the 3n + 1th half etching line.

또한, 상기 적어도 하나의 하프 에칭 라인은 유효부를 완전히 둘러싸도록 장방형으로 형성하거나, 상기 유효부를 둘러싸는 하프 에칭 라인이 불연속적으로 형성되고, 상기 불연속 부분에 마스크의 목인점(sign slot)이 위치하도록 구성하여도 좋다.In addition, the at least one half etching line is formed in a rectangle to completely surround the effective portion, or the half etching line surrounding the effective portion is formed discontinuously, so that the sign slot of the mask is located in the discontinuous portion You may comprise.

또한, 상기 텐션 타입 마스크의 두께를 T라 할 때, 상기 하프 에칭 라인의 길이가 10 x T 이상이고, 상기 장방형 하프에칭 라인의 코너 곡률 반경은 0.5 x T 이상이고, 상기 하프 에칭 라인의 깊이는 0.05 x T ∼ 0.5 x T를 만족하고, 상기하프 에칭 라인의 폭은 0.1 x T 이상이고, 상기 유효부와 비유효부 경계부에서 가장 가까운 하프 에칭 라인 사이의 거리는 0.5 x T 이상으로 구성하면 바람직하다.In addition, when the thickness of the tension type mask is T, the length of the half etching line is 10 x T or more, the corner radius of curvature of the rectangular half etching line is 0.5 x T or more, and the depth of the half etching line is 0.05 x T to 0.5 x T is satisfied, and the width of the half etching line is 0.1 x T or more, and the distance between the half etching line closest to the effective portion and the ineffective portion boundary is preferably configured to be 0.5 x T or more.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부도면을 참조하여 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

본 발명에서는 평면 칼라 음극선관 제조 공정에서 가공하기 전인 텐션 마스크를 다음과 같이 설계 하고자 한다.In the present invention, the tension mask before processing in the planar color cathode ray tube manufacturing process will be designed as follows.

도 6은 본 발명에 따른 새도우마스크 구조체를 나타낸 것으로, 텐션 마스크 유효부(10)와 외곽 마스크 지지체인 레일 고정부(13) 안쪽 비유효부(11)에 하프 에칭라인(15, Half Etching Line)을 도입한다.FIG. 6 shows a shadow mask structure according to the present invention, and a half etching line 15 is formed on the tension mask effective part 10 and the ineffective part 11 inside the rail fixing part 13 that is the outer mask support. Introduce.

하프 에칭 라인은 텐션 마스크의 한쪽 면 또는 양쪽 면에 임의로 1개 라인 이상을 도입하며, 하프 에칭 라인의 구조 및 기하학적인 정의는 제 7 도를 참고로 하여 텐션 마스크의 두께 T를 기준으로 기술하면 다음과 같다.The half etch line arbitrarily introduces one or more lines on one side or both sides of the tension mask. The structure and geometric definition of the half etch line is described based on the thickness T of the tension mask with reference to FIG. Same as

1개의 하프 에칭 라인은 길이가 10 x T 이상,One half etch line is at least 10 x T long,

n(1, 2, 3, 4…n)은 유효부와 비유효부 경계선부터 하프 에칭 라인의 번호, A는 유효부와 비유효부 경계선에서 가장 가까운 하프 에칭 라인의 거리로서 0.5 x T 이상,n (1, 2, 3, 4… n) is the number of half etching lines from the boundary between the effective and ineffective portions, A is the distance of the half etching line closest to the boundary between the effective and ineffective portions, and is 0.5 x T or more,

Bn은 n번 라인과 n+1번 라인 중심간의 거리,Bn is the distance between the center of line n and line n + 1,

Cn은 n번 하프 에칭 라인의 깊이로서 0.05 x T ∼ 0.5 x T 이고,Cn is 0.05 x T to 0.5 x T as the depth of the n times half etching line,

Dn은 n번 하프 에칭 라인의 폭으로 0.1 x T 이상으로 한다.Dn is 0.1 x T or more in the width of n-half etching lines.

상기 소정의 하프 에칭 라인은 실선이나 점선 또는 일점, 이점쇄선 등과 같이 연결(반드시 직선이거나 폐곡선일 필요는 없음)되며, 유효부를 완전히 감싸는 장방형일 경우 코너부는 제 6 도의 C에서와 같이 라운드처리를 하는데 n번째 하프 에칭 라인의 라운드 반경(Rn)은 0.5 x T 이상이 되도록 한다.The predetermined half etching line is connected (not necessarily a straight line or a closed curve) such as a solid line, a dotted line or a point, a double-dot line, etc., and in the case of a rectangle that completely encloses the effective part, the corner part is rounded as shown in C of FIG. The round radius Rn of the nth half etching line is set to be 0.5 × T or more.

이상과 같이, 텐션 마스크의 유효부 코너에 응력 집중을 최소화하고, 외부의 충격이 유효부에 전달되는 것을 흡수하도록 하는 구조와 수치면에서 안정화 및 최적화된 하프 에칭 라인을 갖는 텐션 마스크의 구체적인 예를 들면 다음과 같다.As described above, a specific example of a tension mask having a half etching line stabilized and optimized in terms of structure and numerical value to minimize stress concentration at the effective part corner of the tension mask and to absorb external shock from being transmitted to the effective part is described. For example:

도 7과 같이, 하프 에칭 라인이 유효부 전체를 둘러싸고 있고, 도 8a와 같이 비유효부의 양면에 1개의 하프 에칭 라인이 교대로 형성되며, 한면에 3라인씩 전체 6개의 하프 에칭 라인을 갖는 구조에 대해, 두께(T) 70㎛인 텐션 마스크를 기준으로 비유효부의 폭을 약 3㎜, 유효부와 비유효부(A)의 경계선과 레일 부착부의 사이 즉 비유효부의 가운데 부분에 하프 에칭 라인이 형성되도록 아래와 같이 최적화 설계하였다.As shown in FIG. 7, the half etching line surrounds the entire effective portion, and as shown in FIG. 8A, one half etching line is alternately formed on both sides of the invalid portion, and the structure has six half etching lines in total on three sides. On the basis of the tension mask having a thickness T of 70 μm, the width of the ineffective portion is about 3 mm, and a half etching line is formed between the boundary between the effective portion and the ineffective portion A and the rail attaching portion, that is, in the middle of the ineffective portion. Optimized design to form as follows.

하프 에칭 라인 번호 : n = 1, 2, 3, 4, 5, 6Half etching line number: n = 1, 2, 3, 4, 5, 6

유효부와 비유효부의 경계선 가장 가까운 1번 하프 에칭 라인까지의 거리: A = 1㎜Distance from the first half etching line closest to the boundary between the effective part and the invalid part: A = 1 mm

하프 에칭 라인 간의 거리 : B1 = B2 = B3 = B4 = B5 = 200.0㎛Distance between half etch lines: B1 = B2 = B3 = B4 = B5 = 200.0 μm

하프 에칭 라인의 깊이 : C1 = C2 = 0.20 x T = 0.20 x 70 = 14.0㎛Depth of the half etching line: C1 = C2 = 0.20 x T = 0.20 x 70 = 14.0 μm

C3 = C4 = 0.25 x T = 0.25 x 70 = 17.5㎛C3 = C4 = 0.25 x T = 0.25 x 70 = 17.5 μm

C5 = C6 = 0.30 x T = 0.30 x 70 = 21.0㎛C5 = C6 = 0.30 x T = 0.30 x 70 = 21.0 μm

하프 에칭 라인의 폭 : D1 = D2 = 0.40 x T = 0.40 x 70 = 28.0㎛Width of Half Etching Line: D1 = D2 = 0.40 x T = 0.40 x 70 = 28.0㎛

D3 = D4 = 0.50 x T = 0.50 x 70 = 35.0㎛D3 = D4 = 0.50 x T = 0.50 x 70 = 35.0 μm

D5 = D6 = 0.60 x T = 0.60 x 70 = 42.0㎛D5 = D6 = 0.60 x T = 0.60 x 70 = 42.0 μm

하프 에칭 라인의 라운드 반경 : R1 = 1014.0㎛Round radius of the half etching line: R1 = 1014.0 μm

R2 = 1214.0㎛R2 = 1214.0 μm

R3 = 1414.0㎛R3 = 1414.0 μm

R4 = 1614.0㎛R4 = 1614.0 μm

R5 = 1814.0㎛R5 = 1814.0 μm

R6 = 2014.0㎛R6 = 2014.0 µm

도 8a 내지 8d는 여러 가지 하프 에칭 라인을 도입하는 실제적인 실시예를 나타내는 것으로, 각각 양면에 1개 하프 에칭 라인이 교대로 형성된 것, 양면에 2개씩 하프 에칭 라인이 교대로 형성된 것, 한면에 2개 하프 에칭 라인과 그 반대면에 하나의 하프 에칭 라인이 교대로 형성된 것, 양면에 3개씩 하프 에칭 라인이 교대로 형성된 것을 보여주고 있다. 본 발명의 실시예는 지금까지 설명한 것외에도 다양하게 변형할 수 있다.8A to 8D show practical embodiments in which various half etching lines are introduced, one half etching lines alternately formed on both sides, two half etching lines alternately formed on each side, and one side Two half etch lines and one half etch line are alternately formed on the opposite side, and three half etch lines are alternately formed on each side. Embodiments of the present invention can be variously modified in addition to those described above.

본 발명에서 제안한 유효면 외곽 레일 고정부 안쪽 비유효부에 1개 라인 이상 임의의 하프 에칭 라인을 도입한 텐션 마스크를 가공하여 평면 칼라 음극선관에 장착하게 되면, 제조 공정 시 수직 및 수평 방향으로 텐션이 작용할 때 발생했던 코너부 응력 집중 현상을 하프 에칭 라인(특히, 코너의 라운드된 하프 에칭 라인부)가 기존 보다 한 차원 더 완화 및 전면으로 분산시켜 주는 역할을 하게 된다.When the tension mask including at least one line and an optional half etching line is applied to the non-effective portion inside the effective surface outer rail fixing portion proposed in the present invention and mounted on a flat color cathode ray tube, the tension in the vertical and horizontal directions during the manufacturing process is increased. The half etch line (especially the rounded half etch line portion of the corner), which occurs when the corner portion is concentrated, acts to relax and disperse to the front side.

또한, 평면 칼라 음극선관 외부의 충격이나 진동 및 스피커의 음압 등이 새도우 마스크의 비유효면부에서 유효부로 전달될 때 하프 에칭 라인 부분이 완충 및 흡수 역할을 하게 된다. 따라서 칼라 음극선관의 작동 시에 하울링 현상을 기존 보다 더 최소화 할 수 있다.In addition, when the impact or vibration outside the flat color cathode ray tube and the sound pressure of the speaker are transferred from the non-effective surface portion of the shadow mask to the effective portion, the half etching line portion acts as a buffer and absorption. Therefore, howling phenomenon can be minimized when the color cathode ray tube is operated.

도 9는 본 발명의 다른 실시예를 나타내는 것으로, 상술한 텐션 마스크에 하프 에칭 라인을 도입할 때 텐션 마스크의 목인점(16: Sign Slot)등에 의하여 불연속적인 하프 에칭 라인을 갖는 텐션 마스크을 형성하는 것이다.FIG. 9 illustrates another embodiment of the present invention, in which a tension mask having discontinuous half etching lines is formed by a sign slot (16) of a tension mask when a half etching line is introduced into the above-described tension mask. .

또한, 텐션 마스크에 하프 에칭 라인을 도입할 때 특별히 취약하다고 간주되는 특정 부분을 국부적으로 감싸도록 하프 에칭 라인을 제공할 수도 있다.It is also possible to provide a half etch line to locally wrap a particular portion that is considered to be particularly vulnerable when introducing a half etch line into the tension mask.

따라서, 본 발명에 의하면, 하프 에칭 라인을 텐션 마스크 지지체인 레일에 지지되는 부분과 유효부 사이에 적어도 하나의 하프 에칭 라인을 설치한 텐션 마스크를 가공하여 평면 칼라 음극선관에 장착함으로써, 제조 공정시 수직 및 수평 방향으로 텐션이 작용하여 발생했던 코너부 응력 집중 현상을 하프 에칭 라인부가 기존 보다 한 차원 더 완화 및 전면으로 분산시켜 주는 역할을 하게 된다.Therefore, according to the present invention, the half-etch line is processed by a tension mask having at least one half-etch line provided between a portion supported by a rail serving as a tension mask supporter and an effective portion, and attached to a flat-color cathode ray tube during the manufacturing process. The half-etch line part relaxes the stress concentration phenomenon caused by tension in the vertical and horizontal directions and distributes it to the front side more than before.

또한 평면 칼라 음극선관 외부의 충격이나 진동 및 스피커의 음압 등을 하프에칭 라인 부분이 완충 및 흡수 역할을 하게 된다. 따라서 칼라 음극선관의 작동 시에 하울링 현상을 기존 보다 더 최소화 할 수 있다.In addition, the half-etching line portion acts as a buffer and absorber for shock or vibration outside the flat color cathode ray tube and sound pressure of the speaker. Therefore, howling phenomenon can be minimized when the color cathode ray tube is operated.

Claims

내면에 형광면이 형성된 패널과, 상기 패널의 내면에 일정간격을 두고 배치되는 텐션 타입 마스크, 및 상기 텐션 타입 마스크를 텐션 인가 상태에서 고정지지하기 위한 상기 패널 내면의 형광면 주위에 부착되는 마스크 지지체를 포함하는 평면 컬러 음극선관에 있어서,A panel having a fluorescent surface formed on an inner surface thereof, a tension type mask disposed at a predetermined interval on an inner surface of the panel, and a mask supporter attached around the fluorescent surface of the inner surface of the panel for holding and holding the tension type mask in a tension applied state; In the flat color cathode ray tube,

상기 텐션 타입 마스크는 전자빔 투과공이 형성된 장방형 유효부와 상기 유효부를 둘러싸는 비유효부로 구성되고;The tension type mask includes a rectangular effective portion in which an electron beam transmission hole is formed and an invalid portion surrounding the effective portion;

적어도 하나의 하프에칭(Half Etching) 라인이 상기 마스크의 유효부와 비유효부 경계부와 상기 마스크 지지체 고정부 사이의 비유효부 한쪽 면 또는 양쪽 면에 상기 유효부를 적어도 부분적으로 둘러싸도록 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 평면 컬러 음극선관.At least one half etching line is formed to at least partially surround the effective portion on one or both surfaces of the non-effective portion between the effective portion and the invalid portion boundary of the mask and the mask supporter fixing portion. Flat color cathode ray tube.

제1항에 있어서,The method of claim 1,

상기 텐션 타입 마스크의 두께를 T라 할 때, 상기 하프 에칭 라인의 길이가 10 x T 이상인 것을 특징으로 하는 평면 컬러 음극선관.And a thickness of the tension type mask, wherein the length of the half etching line is 10 x T or more.

제1항에 있어서,The method of claim 1,

상기 하프 에칭 라인이 2개 이상이고, 2개 이상의 하프 에칭 라인들이 마스크 비유효부의 양면 모두에 형성되는 것을 특징으로 하는 평면 컬러 음극선관.And at least two half etching lines, and at least two half etching lines are formed on both sides of the mask invalid portion.

제3항에 있어서,The method of claim 3,

n개의 하프 에칭 라인들이 각각 일정 간격을 두고 마스크 비유효부의 한쪽 면에 형성되고, 상기 일정 간격에 상응하는 위치에 마스크 비유효부의 다른 쪽 면에 하프 에칭 라인이 형성되는 것을 특징으로 하는 평면 컬러 음극선관.Each of the n half etching lines is formed on one side of the mask invalid portion at regular intervals, and a half etching line is formed on the other side of the mask invalid portion at a position corresponding to the predetermined interval. tube.

제4항에 있어서,The method of claim 4, wherein

상기 한쪽 면에 형성된 2n번째 하프 에칭 라인과 2n+1번째 하프 에칭 라인 사이의 일정 간격에 상응하는 다른 쪽 면에 1개 또는 2개의 하프 에칭 라인이 형성되는 것을 특징으로 하는 평면 컬러 음극선관.And one or two half etching lines are formed on the other side corresponding to a predetermined distance between the 2nth half etching line and the 2n + 1th half etching line formed on the one side.

제4항에 있어서,The method of claim 4, wherein

상기 한쪽 면에 형성된 3n번째 하프 에칭 라인과 3n+1번째 하프 에칭 라인 사이의 일정 간격에 상응하는 다른 쪽 면에 3개의 하프 에칭 라인이 형성되는 것을 특징으로 하는 평면 컬러 음극선관.And three half etching lines formed on the other side corresponding to a predetermined interval between the 3nth half etching line and the 3n + 1th half etching line formed on the one side.

제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 6,

상기 적어도 하나의 하프 에칭 라인은 유효부를 완전히 둘러싸도록 장방형으로 형성하는 것을 특징으로 하는 평면 컬러 음극선관.And the at least one half etching line is formed in a rectangle to completely surround the effective portion.

제 7항에 있어서,The method of claim 7, wherein

상기 텐션 타입 마스크의 두께를 T라 할 때, 상기 장방형 하프에칭 라인의 코너 곡률 반경은 0.5 x T 이상인 것을 특징으로 하는 평면 컬러 음극선관.And the thickness of the tension type mask is T, wherein the corner radius of curvature of the rectangular half-etching line is 0.5 x T or more.

제1항에 있어서,The method of claim 1,

상기 텐션 타입 마스크의 두께를 T라 할 때, 상기 하프 에칭 라인의 깊이는 0.05 x T ∼ 0.5 x T를 만족하는 것을 특징으로 하는 평면 컬러 음극선관.And a thickness of the tension type mask is T, wherein a depth of the half etching line satisfies 0.05 x T to 0.5 x T.

제1항에 있어서,The method of claim 1,

상기 텐션 타입 마스크의 두께를 T라 할 때, 상기 하프 에칭 라인의 폭은 0.1 x T 이상인 것을 특징으로 하는 평면 컬러 음극선관.A thickness of the tension type mask is T, wherein the width of the half etching line is a flat color cathode ray tube, characterized in that more than 0.1 x T.

제1항에 있어서,The method of claim 1,

상기 텐션 타입 마스크의 두께를 T라 할 때, 상기 유효부와 비유효부 경계부에서 가장 가까운 하프 에칭 라인 사이의 거리는 0.5 x T 이상인 것을 특징으로 하는 평면 컬러 음극선관.And the thickness of the tension type mask is T, wherein a distance between the half etching line closest to the effective portion and the ineffective portion boundary is 0.5 x T or more.

제1항에 있어서,The method of claim 1,

상기 유효부를 둘러싸는 하프 에칭 라인이 불연속적으로 형성되고, 상기 불연속 부분에 마스크의 목인점(sign slot)이 위치하는 것을 특징으로 하는 평면 컬러 음극선관.And a half etching line discontinuously formed around the effective portion, and a sign slot of a mask is located at the discontinuous portion.