KR20020015865A - 평판조명장치용 도광판 제조 장치 및 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명에 따르면, LCD 등의 평판 표시장치에 사용되는 평판 조명장치에 사용하는 도광판의 제조 장치 및 제조 방법이 제공된다. 본 발명의 평판 조명장치용 도광판 제조 장치 및 방법은 도광판용 기판에 미세 산란 패턴 또는 홀로그램 패턴을 가지는 스탬퍼를 가압/가열용 롤러에 부착하여 가열 및 가압하는 방식으로 도광판을 제작하는 방식, 또는 도광판용 기판 상에 U.V. 경화용 수지를 도포하고 스탬퍼를 가압용 롤러에 부착하여 U.V. 경화용 수지에 패턴을 형성시키고 U.V. 조사기로 U.V. 경화용 수지를 경화시켜 도광판을 제조하는 방식, 또는 도광판용 기판 윗면에 이를 얇게 녹이는 휘발성 용융제를 도포하고 스탬퍼를 가압/가열용 롤러에 부착하여 가열 및 가압하는 방식, 또는 스탬퍼를 미리 예열된 금형에 부착하여 사출 성형하는 방법으로 도광판을 제작하는 방식을 제공한다.

Description

평판조명장치용 도광판 제조 장치 및 방법 {Apparatus and Method for Manufacturing light guide plate for plane light source unit}
본 발명은 평판 표시장치에 사용되는 평판조명장치용 도광판 제조 장치 및 방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 LCD 또는 이와 유사한 평판 표시장치에서 후면조명(back lighting) 수단으로 사용하는 평판조명장치에 사용되는 도광판을 제조하는 장치 및 방법을 개선시킨 기술에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 상기 도광판 제조 장치 및 방법에서 사용될 수 있는 홀로그램 스탬퍼를 제조하는 방법에 관한 것이다.
최근에는 두께가 두꺼운 기존의 CRT를 사용하는 모니터 대신에 두께가 얇고 가벼우며 전자파도 방출되지 않는 평판 표시기(flat panel display)의 개발이 활발히 이루어지고 있으며, 그 중에서도 특히 액정을 이용한 표시장치인 LCD가 대표적인 평판표시기로서 널리 사용되고 있다. 이러한 LCD에는 LCD의 후면에서 발광하는 평판조명장치(Plane light source unit)가 반드시 필요하며, 이러한 조명 장치의 대표적인 구성이 도 1에 도시되어 있다.
도 1은 중소형 크기의 LCD(예를 들면 노트북 컴퓨터용)에 사용되는 평판 조명 장치의 예로서, 길이가 긴 광원(11, 예를 들면 선형 램프)을 도광판(12)의 한 측면에 배치하고, 이 도광판의 밑쪽에는 빛의 산란과 반사를 동시에 수행하는 반사판(13)을 배치하고, 도광판의 위쪽에는 다수의 확산판(14, 17) 및 프리즘판(15, 16)을 적층한 후, 그 위에 LCD 패널(18)을 장착하여 구성된다.
그런데 LCD 화면에 화상이 고르고 정확하게 표시되기 위해서는 상기 LCD 패널(18)로 입사되는 빛의 세기 분포가 LCD 패널 전체에 걸쳐 균일하게 분포될 것이 요구된다. 이를 위해서 종래에 채택한 방식은 도광판에 요철 형성 등의 부가적인 처리를 하는 것이었다. 이에 대하여 이하에서 상세히 설명한다.
전술한 목적으로 종래에 사용되었던 형태의 도광판의 구성을 도 2을 참조하여 구체적으로 살펴본다. LCD 패널(18)로 입사되는 빛의 세기 분포가 LCD 패널 전체에 걸쳐 균일하게 하기 위해 부가되는 도광판 처리의 대표적인 형태로서는, 도 2의 (가)와 같이 길이가 길고 램프(11)의 길이 방향으로 평행하게 형성된 프리즘 형태의 요철을 도광판(12)의 밑부분(또는 윗부분)에 형성하는 방식, 또는 도 2의 (나)와 같이 다양한 형태의 요철(예를 들어 반구형)을 도광판(12)의 밑부분(또는 윗부분)에 형성하는 방식, 또는 도 2의 (다)와 같이 산란제가 들어있는 잉크를 점무늬 형태로 인쇄하는 방식등이 있다.
또한, 본 출원인은 현재 출원 중인 특허출원번호 제99-26429호, 제99-59940호, 제99-59941호에서 홀로그램 도광판을 사용하는 평판 조명장치를 제안한 바 있다. 이러한 홀로그램 도광판은 도광판의 적어도 한면에 홀로그램이 형성되어 LCD 패널로 향하는 빛의 균일도를 높일 수 있다.
이러한 도광판을 제작하기 위해 채택되는 방법으로서 예를 들어 도광판에 요철을 부가하는 형태의 경우(도 2의 (가),(나))에는, 요철 형성을 위해 다이아몬드 날로 가공을 하는 방법 혹은 요철 모양의 미세 패턴의 금형물을 제작하여 사출하는 방법이 사용된다. 그러나, 다이아몬드 날에 의한 가공 방법은 다이아몬드로 미세 패턴을 형성할 때 생기는 보푸라기의 제거가 어려우며 패턴을 형성하는데 오랜 시간이 소요된다. 또한 금형물에 의한 사출 방법으로는, 크기가 수십 ㎛ 정도로 작으며 또한 크기도 균일하지 않은 미세 패턴의 금형물을 제작하는 것이 손쉽지 않을 뿐 아니라 제작 비용도 매우 높다. 따라서 이러한 금형물에 의한 도광판 제작방식은 도광판의 가격을 상승시키게 되는 요인이 되며, 제작 조건도 어려워 결과적으로 제품의 불량율을 증가시킨다.
한편, 도광판에 요철 등의 미세 패턴을 형성하거나 홀로그램층을 형성하는 방식으로서 포토리소그라피 기술에 의해 스탬퍼를 제작하여 이를 이용하는 방법도 있다. 이러한 방법은 도 3에 도시되어 있는 바와 같이, 먼저 유리 기판(21)을 준비하여(단계 S11), 유기 기판(21) 위에 포토레지스트(22)를 도포하고(단계 S12), 형성하고자 하는 도광판 패턴을 가진 마스크(23)를 부착하여 자외선에 노광한 후(단계 S13), 이를 현상하여(단계 S14), 니켈 등을 금속을 사용하여 전기 도금한후(단계 S15), 도금된 부분을 분리하면 도광판 패턴을 복제한 금속 스탬퍼(24)가 만들어진다(단계 S16). 이렇게 제작된 스탬퍼를 이용하여 도 4에 도시된 바와 같이 도광판을 제작한다. 즉, 스탬퍼(24)를 상부 금형(32)에 진공 장치(36)을 사용하여 진공으로 부착하고, 하부 금형(33)을 상부 금형(32)에 A방향으로 밀착시킨다. 도광판 사출 재료(31)를 투입하여 일정시간 경과 후 하부 금형(33)을 B방향으로 분리시켜 도광판(34)을 제작한다. 그러나, 이러한 도광판 제작 방법은 스탬퍼가 작을 경우(대각선 방향 길이 또는 지름이 6" 미만의 사각형 또는 원형의 스탬퍼)에는 문제가 발생하지 않지만 스탬퍼가 클 경우(대각선 방향 길이 또는 지름이 10" 이상의 사각형 또는 원형의 스탬퍼)에는 고온의 도광판 사출 재료를 금형안에 주입할 때 금형이 고온의 사출 재료의 열을 흡수하여 사출 재료의 저온 현상으로 인해 스탬퍼에 있는 미세 패턴이 도광판에 완전하게 형성되지 않는 단점이 있다. 즉, 사출 재료의 온도가 성형에 필요한 시간 내에서 낮아지게 되면 도 4의 E부분 확대도에서 도시된 바와 같이 성형이 완전하지 못하게 되어 스탬퍼의 미세 패턴이 그대로 도광판에 형성되지 못하게 된다.
한편, 도 2의 (다)와 같이 요철을 형성하는 대신에 도트패턴을 인쇄하는 방식은, 인쇄하는 과정에 오랜 시간이 소요되므로 생산능률을 저하시킬 뿐 아니라 불량률이 높아 생산성의 저하를 초래하며, 이로 인해 결과적으로 도광판의 가격을 상승시킨다. 또한, 잉크와 잉크에 첨가된 산란제가 빛을 흡수하는 역할을 하게 되어 빛의 세기가 줄어든다는 단점도 가지고 있다.
본 발명의 목적은 상기에서 언급한 문제점들을 해소하는 개선된 평판조명장치용 도광판 제조 장치 및 방법을 제공하는 것으로서, 특히 고성능이면서도 낮은 제조비용과 높은 생산성으로 제조될 수 있도록 하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 도광판에 형성하고자 하는 미세 패턴을 완전하게 형성할 수 있는 도광판 제조 장치 및 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 홀로그램 도광판 제조에 사용할 수 있는 홀로그램 스탬퍼를 제조하는 방법을 제공하는 것이다.
도 1은 종래에 LCD용으로 사용되어온 평판 조명장치에 대한 사시도.
도 2는 종래에 사용된 도광판의 구성을 도시한 도면.
도 3은 포토리소그라피 방법에 의한 스탬퍼 제작 과정을 도시한 도면.
도 4은 도광판을 사출 성형하는 종래의 방법을 도시한 도면.
도 5은 본 발명의 제1 실시예에 따라 스탬퍼를 사용하여 도광판을 제조하는 장치 및 방법을 도시한 도면.
도 6는 본 발명의 제2 실시예에 따라 스탬퍼를 사용하여 도광판을 제조하는 장치 및 방법을 도시한 도면.
도 7은 본 발명의 제3 실시예에 따라 스탬퍼를 사용하여 도광판을 제조하는 장치 및 방법을 도시한 도면.
도 8은 본 발명의 제4 실시예에 따라 스탬퍼를 사용하여 도광판을 제조하는 장치 및 방법을 도시한 도면.
도 9a 및 도 9b는 홀로그램판 제작용 마스크를 예시한 도면.
도 10은 마스크를 사용하여 홀로그램판을 제작하는 과정을 도시한 도면.
도 11a 및 도 11b는 각각 도 9a 및 도 9b의 마스크를 사용하여 제작한 홀로그램판을 도시한 도면.
도 12는 홀로그램판을 사용하여 홀로그램 스탬퍼를 제작하는 과정을 도시한 도면.
도 13은 도 12의 과정에 따라 제작한 스탬퍼를 도시한 도면.
도 14a 및 도 14b는 마스크를 사용하지 않고 홀로그램판을 제작하는 과정을 도시한 도면.
도 15a 및 도 15b는 마스크를 사용하지 않고 홀로그램판을 제작하는 다른 과정을 도시한 도면.
전술한 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 제1 특징에 의해 제공되는 평판 조명장치용 도광판을 제조하는 장치 및 방법은 어떠한 산란 패턴도 형성되지 않은 기판에 미세 산란 패턴 또는 홀로그램 패턴을 가지는 스탬퍼를 가압/가열용 롤러에 부착하여 가열 및 가압하는 방식으로 도광판을 제조하는 것이다.
본 발명의 제2 특징에 의해 제공되는 평판 조명장치용 도광판을 제조하는 장치 및 방법은 도광판용 기판에 U.V. 경화용 수지를 도포하고 미세 산란 패턴 또는 홀로그램 패턴을 가지는 스탬퍼를 가압용 롤러에 부착하여 U.V. 경화용 수지에 패턴을 형성시키고 U.V. 조사기로 U.V. 경화용 수지를 경화시켜 도광판을 제조하는 것이다.
본 발명의 제3 특징에 의해 제공되는 평판 조명장치용 도광판을 제조하는 장치 및 방법은 도광판용 기판 윗면에 이를 얇게 녹이는 휘발성 용융제를 도포하고 스탬퍼를 가압/가열용 롤러에 부착하여 가열 및 가압하여 도광판을 제조하는 것이다.
본 발명의 제4 특징에 의해 제공되는 평판 조명장치용 도광판을 제조하는 장치 및 방법은 도광판용 기판에 스탬퍼를 미리 예열된 금형에 부착하여 사출 성형하는 방법으로 도광판을 제조하는 것이다.
본발명의 다른 면에 따라 제공되는 평판 조명장치용 홀로그램 도광판을 제작하기 위한 홀로그램 스탬퍼를 제조하는 방법은 광원 쪽의 홀로그램층의 산란, 회절 효율이 높고 광원에서 멀어질 수록 산란, 회절 효율을 낮게하는 마스크를 사용하여 제조하는 것이다.
본 발명의 또 다른 면에 따라 제공되는 평판 조명장치용 홀로그램 도광판을 제작하기 위한 홀로그램 스탬퍼를 제조하는 방법은 레이저빔을 2차원적으로 주사시키거나 감광제가 도포된 기판을 2차원적으로 이동시켜 주사 속도나 이동속도가 빠른 부분의 회절 효율을 낮게 하고 속도가 느린 부분의 회절 효율을 높게하여 상기 홀로그램 스탬퍼를 사용하여 만들어진 도광판의 홀로그램층이 가변적인 회절 효율을 가지도록 하는 것이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본원 발명에 따른 실시예에 대하여 설명한다.
<실시예 1>
본 발명의 제1 실시예를 도 5을 참조하여 설명한다.
본 발명을 구현한 형태에 대하여 설명하면, 미세한 요철 패턴 또는 홀로그램이 형성된 스탬퍼(101)를 진공으로 부착하기 위해 상기 스탬퍼(101)가 부착되는 상부 금형(104)에 진공을 만들기 위한 진공장치(106)를 설치한다. 이때, 상기 스탬퍼(101)의 주변 온도를 일정하게 유지시키기 위해 가열 장치(105)를 상부 금형(104)의 스탬퍼의 뒷면에 설치한다. 그리고 도광판의 나머지 외형을 만드는 하부 금형(103)을 A방향으로 이동시켜 상부 금형(104)과 완전히 밀착되었을 때 사출 재료가 투입될 수 있도록 투입구 부분(107)을 형성한다.
이와 같이 구성된 상, 하부 금형(103,104)이 완전히 밀착되었을 때, 투입구(107)로 도광판용 고온의 사출 재료(100)를 투입할 때 급격한 온도 저하를 방지하기 위하여, 사출재료(100)가 투입되기 전에 상기 가열 장치(105)로 스탬퍼가 부착되는 금형(104)의 온도가 사출재료의 온도와 비슷하도록 미리 가열하고 온도를 유지시켜 준다. 따라서, 스탬퍼(101)와 사출 재료(100)가 접촉하는 면의 온도 차이가 없으므로 사출 재료(100)가 금형에 투입된 후 급격히 떨어지는 온도 변화를 방지할 수 있으므로써 미세 패턴이 완전하게 성형되는 도광판(102)을 제작할 수 있다. 즉, 사출 재료의 온도가 성형하는 시간 동안 성형에 필요한 온도를 유지하게 됨으로써, 도 5의 E 부분 을 확대한 것과 같이 성형이 완전하게 되어 스탬퍼의 미세 패턴이 그대로 도광판에 형성되게 된다.
가열 장치(105)는 도 8에서와 같이 상부 스탬퍼 부착 금형(104)에서 스탬퍼(102)가 부착되는 바로 뒤에 고온의 오일이나 물 등의 유체가 순환되도록(C에서 D로)하거나, 또는 열선 등을 설치함으로써 구현될 수 있다.
도광판 양면에 패턴을 형성하는 경우에는 하부 금형(103)에도 상부 금형(104)에서와 마찬가지로 가열 장치, 진공장치 및 스탬퍼를 설치하여 도광판 양면에 원하는 패턴을 완전하게 성형할 수 있다.
이와 같이 도광판을 제조할 때, 사용하는 스탬퍼는 제조하고자 하는 도광판에 따라 제작할 수 있다. 즉, 도 3에 도시된 바와 같이 종래의 반구형, 사각형, 삼각형 및 사다리꼴 등의 단면을 가진 미세 패턴을 형성하기 위해 도 3에 도시된 공정에 따라 제작한 스탬퍼를 사용할 수 있다.
또한, 본 출원인이 이전의 출원들에서 제안했던 홀로그램 도광판을 제조하기 위해서는 홀로그램 도광판용 스탬퍼를 사용할 수도 있다. 뿐만 아니라 홀로그램 도광판용 스탬퍼는 본 출원에서 제시하는 방법으로도 제작할 수 있으며, 이하에서는 홀로그램 스탬퍼를 제작하는 방법에 대하여 보다 자세히 설명한다.
홀로그램 도광판의 홀로그램층은 광원 쪽에서의 산란, 회절을 작게하고, 광원에서 멀어질수록 산란, 회절을 크게 하여 도광판 전체에서 빛의 분포를 균일하게 하는 기능을 가진다. 홀로그램 스탬퍼를 제자하기 위해서는 마스크를 사용하는 방법과 마스크를 사용하지 않고 제작하는 방법이 모두 사용될 수 있다.
먼저 마스크를 사용하여 홀로그램 스탬퍼를 제작하는 방법을 설명하면, 도 9a 및 도 9b는 홀로그램층을 형성하는데 사용하는 마스크로서, 도 9a의 마스크 패턴은 원형(또는 다각형)의 무늬를 전체적으로 형성함에 있어서, 광원이 위치하는 쪽(A)의 무늬의 면적 밀도를 낮게 하고, 광원이 위치하는 쪽과 멀어질수록 무늬의 면적 밀도를 높게 하며, 무늬의 내부는 투명하고 그외의 부분은 빛을 차단할 수 있도록 불투명하게 하고 무늬는 투명하게 한 마스크-1이고, 도 9b는 광원이 위치하는 하는 쪽(A)의 광투과율은 낮게 하고 광원이 위치하는 쪽과 멀어질수록(B->C방향) 광투과율을 높게 한 마스크-2 이다.
이와 같은 마스크를 사용하여 홀로그램판을 제작하는 방법을 도 10을 참조하여 설명하면 먼저, 레이저(500)로부터 나오는 레이저 빔을 렌즈(501,502)를 사용하여 확대하고 이렇게 확대된 레이저 빔을 확산판(503:Ground glass diffuser)에 입사시켜 확산시킨다. 그리고 확산판(503)으로부터 일정 거리 L 만큼 떨어진 곳에 감광제(506)가 도포된 투명한 기판(505)을 놓고, 감광제가 도포된 면쪽에 마스크(504)(도 9a의 마스크-1 또는 도 9b의 마스크-2)를 붙여 확산판(503)으로부터 산란되는 레이저 빔에 감광제(506)를 노출시킨다.
상기와 같은 장치 구성으로 하면 도 9a에 도시된 마스크-1(504)을 사용한 경우 마스크의 투명한 부분을 통해 확산판(503)으로부터 확산된 레이저 빔이 감광제를 감광시키게 되고, 일정 시간이 지난 후 현상 과정을 거치면 도 9a의 무늬 형태로 레이저 빔에 조사된 부분의 감광제가 레이저 빔의 스펙클(speckle) 모양대로 식각되어 도 11a와 같은 홀로그램(800)이 만들어진다. 즉 마스크의 무늬 대로 무늬 내부에만 홀로그램들(800)이 배열된 홀로그램판(801)이 제작된다.
도 9b에 도시된 마스크-2를 사용하여 노출시키는 경우는 광투과율이 높은 부분의 홀로그램은 요철의 모듈레이션(802')이 높아 회절효율이 높게 되고, 광투과율이 낮은 부분은 요철의 모듈레이션(802'')이 낮아 회절 효율이 낮게 되어 도 11b와 같이 A에서 B 방향으로 점차적으로 회절효율이 감소하는 홀로그램판(801')이 제작된다.
이제부터 도 12을 참조하여 홀로그램 스탬퍼 제작에 관해 설명하면, 상기와 같이 제작한 홀로그램판(900; 801,801')에 무전해 도금을 하면, 홀로그램들(902)과레이저 빔에 노출되지 않아 그대로 남아있는 감광제(901) 위에 금속막(904)이 형성되고(S21-S22), 금속막(904)을 기판(903)과 분리하면, 기판(903) 상에 있는 홀로그램들(902)의 모양이 양각의 형태(905)로 그대로 복제되어 금속 마스터인 홀로그램 스탬퍼(904)가 제작된다(S23). 도 13는 스탬퍼(904)의 요철 부분을 확대한 도면이다.
이제부터 도 14a 및 도 14b를 참조하여 상기의 마스크-1과 마스크-2를 사용하여 또 다른 홀로그램판을 제작하는 방법을 설명하면 먼저, 레이저(600)로부터 나오는 레이저 빔을 확산각이 작은 렌즈(601,602)를 사용하여 직경이 5~20 mm 정도로 확대하고 이렇게 확대된 레이저 빔을 확산판(603:Ground glass diffuser)에 입사시켜 확산시킨다. 그리고 확산판(603)으로부터 일정 거리 L 만큼 떨어진 곳에 감광제(606)가 도포된 투명한 기판(605)을 놓고, 감광제가 도포된 면쪽에 마스크(604)(도 9a의 마스크-1 또는 도 9b의 마스크-2)를 부착한다. 기판(605)에는 도시되지 않은 이동 장치가 부착되어 컴퓨터 등의 제어에 의하여 기판을 좌우 및 상하 방향으로 이동시킬 수 있다. 노출 시에는, 기판(605)을 좌우 및 상하방향으로 이동시켜 확산판(603)으로부터 산란되는 레이저 빔에 감광제(606)를 노출시킨다. 이때 기판을 좌우 및 상하 방향으로 교대로 이동시키며 노출하여 기판 전체가 레이저 빔에 노출되도록 한다. 이동 방향은 예를 들어 도 14b와 같이 ①->②->③->④로 할 수 있다.
상기와 같은 장치 구성으로 도 9a의 마스크-1을 사용한 경우, 마스크-1(604)의 투명한 부분을 통해 확산판(603)으로부터 확산된 레이저 빔이 감광제를 감광시키게 되고, 일정 시간이 지난 후 현상 과정을 거치면 도 9a의 형태로 레이저 빔에 조사된 부분의 감광제가 레이저 빔의 스펙클(speckle) 모양대로 식각되어 도 11a와 같은 홀로그램(800)이 만들어진다. 즉 사용한 마스크의 무늬대로 홀로그램들(800)이 배열된 홀로그램판(801)이 제작된다.
도 9b의 마스크-2를 사용하게 되면 광투과율이 높은 부분의 홀로그램은 요철의 모듈레이션(802')이 높아 회절효율이 높게 되고, 광투과율이 낮은 부분은 요철의 모듈레이션(802'')이 낮아 회절 효율이 낮게 되어 도 11b와 같이 A->B를 향하여 점차적으로 회절효율이 감소하는 홀로그램판(801')이 제작된다.
이와 같이 마스크-1 또는 마스크-2(604)를 부착한 감광제(606)가 도포된 기판(605)을 상하 및 좌우로 이동시켜서 홀로그램판을 제작하게 되면, 레이저 빔의 확산각이 작아도 됨으로써 세기(출력)가 작은 레이저로도 대면적의 균일한 홀로그램판을 제작할 수 있는 잇점이 있다. 이와 같이 제작된 홀로그램판을 사용하여 무전해 도금하여 홀로그램 스탬퍼를 만드는 과정은 도 12를 참조하여 위에서 설명한 바와 같다.
이제부터 도 15a-15b를 참조하여 상기의 마스크-1과 마스크-2를 사용하여 또 다른 홀로그램판을 제작하는 방법을 설명하면 먼저, 레이저(700)로부터 나오는 레이저 빔을 확산각이 작은 렌즈(701,702)를 사용하여 직경이 5 ~ 20mm 정도로 확대하고, 이렇게 확대된 레이저 빔을 2차원 주사 장치(706)에 입사시키고, 2차원 주사 장치로부터 주사되는 레이저 빔을 다시 렌즈 수단(707)를 통하여 확산판(703: Ground glass diffuser)상에 주사시켜 확산시킨다. 렌즈 수단(707)은 적어도 1매의 렌즈를 포함하여 2차원 주사 장치에서 주사되는 레이저 빔의 확산 각도를 조정한다. 확산판(703)으로부터 일정 거리 L 만큼 떨어진 곳에 감광제(706)가 도포된 투명한 기판(705)을 놓고, 감광제가 도포된 면쪽에 마스크(704)(도 9a의 마스크-1 또는 도 9b의 마스크-2)를 부착한다. 그리고, 2차원 주사 장치(706)는 도시되지 않은 컴퓨터 등의 제어 장치에 연결되어 자동으로 주사 위치를 제어하며 빔을 주사할 수 있어서, 확산판(703) 전체에 걸쳐 고루 주사되게 한다. 2차원 주사 장치(706)는 래스터 스캔(raster scan) 또는 벡터 스캔(vector scan)이 모두 가능하기 때문에 필요에 따라 주사 방향을 선택할 수 있다.
도 15b에는 2차원 주사 장치의 주사 방향이 예시되어 있다. 즉, 레이저 빔을 A->B, C->D 방향으로(①->②->③->④의 방향) 교대로 주사 시켜 확산판(703)으로부터 산란되는 레이저 빔에 기판 전체가 노출되도록 한다.
또한, 렌즈 수단(707)을 사용하여 확산판(703)으로 입사하는 빔의 입사각도를 거의 수직으로 할 수 있기 때문에 빛의 효율을 높일 수 있다.
상기와 같은 장치 구성으로 하면 마스크-1(704)의 투명한 부분을 통해 확산판(703)으로부터 확산된 레이저 빔이 감광제를 감광시키게 되고, 일정 시간이 지난 후 현상 과정을 거치면 도 9a의 형태로 레이저 빔에 조사된 부분의 감광제가 레이저 빔의 스펙클(speckle) 모양대로 식각되어 도 11a와 같은 홀로그램(800)이 만들어진다. 즉 사용한 마스크의 무늬대로 홀로그램들(800)이 배열된 홀로그램판(801)이 제작된다. 마스크-2를 사용하게 되면 광투과율이 높은 부분의 홀로그램은 요철의 모듈레이션(802')이 높아 회절효율이 높게 되고, 광투과율이 낮은 부분은 요철의 모듈레이션(802'')이 낮아 회절 효율이 낮게 되어 도 11b와 같이 A->B를 향하여 점차적으로 회절효율이 감소하는 홀로그램판(801')이 제작된다. 이와 같이 제작된 홀로그램판을 사용하여 무전해 도금하여 홀로그램 스탬퍼를 만드는 과정은 도 12를 참조하여 위에서 설명한 바와 같다.
이와 같이 레이저 빔을 이차원 적으로 주사시켜 홀로그램판을 제작하게 되면, 레이저 빔의 확산각이 작아도 됨으로써 세기(출력)가 작은 레이저로도 대면적의 균일한 홀로그램판을 제작할 수 있는 잇점이 있다.
이상에서는 마스크를 사용하여 홀로그램 스탬퍼용 홀로그램판을 제작하는 방법을 설명하였으나, 마스크를 사용하지 않고도 광원쪽에서의 산란, 회절 효율을 낮게 하고 광원에서 멀어질수록 산란, 회절 효율을 높은 홀로그램 도광판이 제작될 수 있다. 이제부터는 이러한 홀로그램 도광판용 스탬퍼를 제작하는 방법에 대하여 설명한다.
도 14a-14b와 도 15a-15b를 참조하여 마스크를 사용하지 않고 홀로그램판을 제작하는 방법을 설명하면 도 14a와 같은 구성의 경우, 감광제 앞에 설치된 마스크(604)를 제거하고, 감광제(606)가 도포된 기판(605)을 좌우 및 상하의 교대 순으로(도 14b의 ①->②->③->④의 방향) 이동시킬 때 이동 속도를 가변적으로 조절하므로써 현상 후에 홀로그램의 회절 효율을 조절하는 것이다. 즉 이동 속도가 빠른 부분은 현상후 회절 효율이 낮고, 이동속도가 느린 부분은 현상 후 회절 효율이 높게 되어 도 11b와 같이 A->B를 향하여 점차적으로 회절효율이 감소하는 홀로그램판(801')의 제작이 가능하게 된다. 도 15a의 경우에도 감광제 앞에 설치된 마스크(704)를 제거하고, 2차원 주사 장치(706)로 확산판(703) 상에 레이저 빔을 주사시켜 노출할 수 있다. 2차원 주사 장치(706)는 래스터 스캔(raster scan) 또는 벡터 스캔(vector scan)이 모두 가능하기 때문에 필요에 따라 주사 방향을 선택할 수 있다.
도 15b에 예시되어 있는 바와 같이, 레이저 빔을 A->B, C->D 방향으로(도 15b의 ①->②->③->④의 방향) 교대로 주사 시킬 때, 2차원 주사 장치를 제어하여 레이저 빔의 주사 속도를 가변적으로 조절하므로써 현상 후에 홀로그램의 회절 효율을 조절하는 것이다. 즉 주사 속도가 빠른 부분은 현상후 회절 효율이 낮고, 주사 속도가 느린 부분은 현상 후 회절 효율이 높게 되어 도 11b와 같이 A->B를 향하여 점차적으로 회절효율이 감소하는 홀로그램판(801')의 제작이 가능하게 된다. 이와 같이 제작된 홀로그램판을 사용하여 무전해 도금하여 홀로그램 스탬퍼를 만드는 과정은 도 12를 참조하여 위에서 설명한 바와 같다.
<실시예 2>
이하에서는 도 6를 참조하여, 본원 발명에 대한 제2 실시예를 설명한다.
제2 실시예에서 사용할 수 있는 스탬퍼는 종래의 미세 산란 패턴을 가진 것일 수도 있고, 도 10 내지 도 15b를 참조하여 제1실시예에서 설명한 홀로그램 스탬퍼일 수도 있다. 특히, 제2 실시예와 같이 홀로그램 스탬퍼와 도광판 기판 사이에 압력을 가하여 홀로그램을 복제하는 경우에는 홀로그램을 이루는 요철의 높이가 10μm 이하로 되는 것이 바람직하다.
도 6를 참조하여 본 발명에 따른 제2 실시예를 설명하면, 먼저 어떠한 산란패턴도 형성되지 않은 투명한 도광판 재료가 소정의 도광판 크기로 절단하여 기판을 형성하여 제1 적재함(217)에 적재되어 있다. 적재장치(201)는 도광판용 기판(210)이 적재된 제1 적재함(217)으로부터 상기 기판(210)을 이송장치(209)에 옮기고, 이송장치에 옮겨진 상기 도광판용 기판(210)이 이송될 때 자외선 경화용 수지(211)를 도포하는 자외선 경화용 수지 도포장치(202)에 의해 도광판용 기판 윗면에 자외선경화용 수지(211)가 도포되며, 제1 자외선 조사기(203)에 의해 액체 상태의 자외선 경화수지가 젤 상태로 가경화 된다. 이렇게 가경화된 자외선 경화수지가 도포된 도광판용 기판은 가이드 롤러(204)들에 의해 미세 산란 패턴 또는 홀로그램을 형성시키는 스탬퍼(206)가 부착된 가압 롤러(205)로 향하게 되고, 상기 가압 롤러(205)는 가압장치(219)에 의해 상기 도광판용 기판에 일정한 압력을 가하게 되어 젤 상태의 자외선 경화 수지에 스탬퍼로 미세 산란 패턴 또는 홀로그램을 형성시킨다. 스탬퍼(206)가 가압될 때, 동시에 제2 자외선 조사기(213)로 미세 산란 패턴 또는 홀로그램이 형성되는 젤 상태의 자외선 경화 수지에 자외선을 조사하여 젤 상태의 자외선 경화 수지를 더욱 더 경화시킨다. 이와 같이 미세 산란 패턴 또는 홀로그램이 형성된 도광판이 이송장치(215)에 의해 하역장치(208)로 이송하는 중에 다시 제3 자외선 조사기(207)로 자외선을 조사하여 도광판 상에 미세 산란 패턴 또는 홀로그램이 형성된 자외선 경화수지를 완전히 경화시키고 하역장치(208)로 미세 산란 패턴 또는 홀로그램이 형성된 도광판을 제2 적재함(218)에 적재한다. 상기의 자외선 조사기들(203, 213, 207)은 자외선 램프(212)와 반사갓(214)으로 구성되어 자외선이 반사갓에 의해 도광판 윗면에 선형으로 집속되게 하므로써 조사되는 부위 이외에 자외선 경화수지는 영향을 받지 않게 한다.
<실시예 3>
이하에서는 도 7을 참조하여, 본원 발명에 대한 제3 실시예를 설명한다.
제3 실시예에서 사용할 수 있는 스탬퍼는 종래의 미세 산란 패턴을 가진 것일 수도 있고, 도 10 내지 도 15b를 참조하여 제1 실시예에서 설명한 홀로그램 스탬퍼일 수도 있다. 특히, 제3 실시예와 같이 홀로그램 스탬퍼와 도광판용 기판 사이에 압력을 가하여 홀로그램을 복제하는 경우에는 홀로그램을 이루는 요철의 높이가 10μm 이하로 되는 것이 바람직하다.
먼저 도 7을 참조하여 본 발명에 따른 제3 실시예를 설명하면, 먼저 어떠한 산란 패턴도 형성되지 않은 투명한 도광판 재료가 소정의 도광판 크기로 절단하여 기판을 형성하여 제1 적재함(311)에 적재되어 있다. 적재장치(301)는 도광판용 기판(306)이 적재된 제1 적재함(311)으로부터 상기 도광판용 기판(306)을 이송장치(305)에 옮기고, 이송장치(305)에 옮겨진 상기 도광판용 기판(305)은 이송 장치에 의해 이송되고, 가이드 롤러(307)들에 의해 미세 산란 패턴 또는 홀로그램을 형성시키는 스탬퍼(300)가 부착된 제1 가압 롤러(303)로 향하게 된다. 상기 도광판용 기판이 제1 가압 롤러로 들어가기 전에 예열 장치(302)가 가열에 의한 도광판의 휨을 방지하기 위해 도광판용 기판의 윗면과 밑면을 동시에 예열하고, 예열된 상기 도광판용 기판은 스탬퍼가 부착되고 상기 도광판용 기판에 열을 가하기 위해 가열 장치(308)가 내장된 제1 가압 롤러(303)와 제1 가압 롤러의 반대편에서 맞물려 상기 도광판용 기판을 지지하면서 도광판용 기판 밑면에 열을 가하기 위해 가열장치(308)가 내장된 제2 가압 롤러(313) 사이를 통과하게 되고, 상기 제1 가압 롤러에 설치된 제1 가압장치(314)와 상기 제2 가압 롤러에 설치된 제2 가압장치(315)에 의해 상기 도광판에 양쪽으로 일정한 압력을 가하게 되어 도광판의 휨을 방지하면서 제1 가압 롤러(303)에 부착된 스탬퍼로 상기 도광판용 기판 윗면에 미세 산란 패턴 또는 홀로그램을 형성시킨다. 이와 같이 미세 산란 패턴 또는 홀로그램이 형성된 도광판이 이송장치(309)에 의해 하역장치(304)로 이송되고, 하역장치(304)가 미세 산란 패턴 또는 홀로그램이 형성된 도광판을 제2 적재함(310)에 적재한다.
<실시예 4>
이하에서는 도 8을 참조하여, 본원 발명에 대한 제4 실시예를 설명한다.
제4 실시예에서 사용할 수 있는 스탬퍼는 종래의 미세 산란 패턴을 가진 것일 수도 있고, 도 10 내지 도 15b를 참조하여 제1 실시예에서 설명한 홀로그램 스탬퍼일 수도 있다. 특히, 제4 실시예와 같이 홀로그램 스탬퍼와 도광판용 기판 사이에 압력을 가하여 홀로그램을 복제하는 경우에는 홀로그램을 이루는 요철의 높이가 10μm 이하로 되는 것이 바람직하다.
도 8을 참조하여 본 발명에 따른 제4 실시예를 설명하면, 먼저 어떠한 산란 패턴도 형성되지 않은 투명한 도광판 재료가 소정의 도광판 크기로 절단하여 기판을 형성하여 제1 적재함(412)에 적재되어 있다. 적재장치(400)는 도광판용 기판(409)이 적재된 제1 적재함(412)으로부터 상기 도광판용 기판(409)을 이송장치(406)에 옮기고, 이송장치에 옮겨진 상기 도광판용 기판(409)은 이송 장치에 의해 이송되고, 가이드 롤러(402)들에 의해 미세 산란 패턴 또는 홀로그램을 형성시키는 스탬퍼(404)가 부착된 제1 가압 롤러(403)로 향하게 된다. 상기 도광판용 기판이 제1 가압 롤러로 들어가기 전에 미세 산란 패턴 또는 홀로그램 형성이 잘되도록 휘발성 용융제 도포장치(401)로 휘발성의 도광판 용융제(407)를 도포하여 도광판용 기판의 윗 표면을 얇게 녹이고, 상기의 휘발성 용융제(407)가 도포된 도광판용 기판을 스탬퍼(404)가 부착되고 상기 도광판용 기판에 열을 가하기 위해 가열 장치(410)가 내장된 제1 가압 롤러(403)와 제1 가압 롤러의 반대편에서 맞물려 상기 도광판용 기판을 지지하면서 도광판용 기판 밑면에 열을 가하기 위해 가열 장치(410)가 내장된 제2 가압 롤러(414) 사이를 통과하게 한다. 상기 제1 가압 롤러에 설치된 제1 가압장치(415)와 상기 제2 가압 롤러에 설치된 제2 가압장치(416)에 의해 상기 도광판용 기판에 양쪽으로 일정한 압력을 가하게 되어 도광판의 휨을 방지하면서 제1 가압 롤러(403)에 부착된 스탬퍼로 상기 도광판용 기판 윗면에 미세 산란 패턴 또는 홀로그램을 형성시킨다. 미세 산란 패턴 또는 홀로그램이 도광판용 기판에 형성될 때 상기 도광판용 기판 상에 도포된 휘발성의 도광판 용융제(407)는 가열 발생 장치(410)로 가열된 제1 가압 롤러의 열 때문에 모두 증발하게 된다. 이와 같이 미세 산란 패턴 또는 홀로그램이 형성된 도광판은 이송장치(408)에 의해 이송되고, 하역장치(405)로 미세 산란 패턴 또는 홀로그램이 형성된 도광판을 제2 적재함(411)에 적재한다.
앞에서는 본원 발명의 기술적 특징이 특정한 실시예를 중심으로 설명되었으나, 본원 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 사람이라면 본 발명에 따른 기술적 사상의 범위내에서도 여러 가지 변형 및 수정을 가할 수 있음은 명백하다. 예를 들어 도 6에서 자외선 조사기(213)의 작동시간 및 강도를 조정하여 자외선 경화 수지의 가경화 및 완전 경화를 위한 자외선 조사기(203, 207)를 제거할 수 있다. 또한, 도 10에서 예열 기능을 위한 예열 장치의 종류를 변화시키는 것도 가능하며, 예를 들어 열풍 또는 열선 또는 가열램프 등을 사용할 수 있다. 도 11에서는 휘발성 용융제 투입 장치의 종류를 변화시킬 수 있으며, 예를 들어 커튼 코팅 방식, 롤러 코팅 방식 등으로 변형할 수 있다.
또한 도 14 및 15에서 레이저 빔의 직경을 5 ~ 20 mm로 확대한다고 하였으나 사용된 레이저의 빔의 세기에 따라 빔의 직경을 상기의 직경보다 크거나 작게 하는 것도 가능하며, 레이저 빔의 주사 방향 및 방법의 변화를 줄 수 있고, 확산판과 감광제가 도포된 기판 사이의 거리를 조절하여 원하는 홀로그램 효율을 얻을 수 있다.
본 발명에 따른 도광판 제조 장치 및 방법에 의해 도광판을 제작하면 도광판의 제작 시간이 짧을 뿐만 아니라 제작도 용이하고, 불량률도 줄일 수 있어, 이러한 도광판을 포함하는 평판 조명장치의 제작비용을 절감하는 것이 가능하게 된다. 또한, 도광판에 형성하고자 하는 미세 패턴을 완전하게 형성할 수 있다.

Claims (23)

  1. 평판 표시장치에 사용되는 평판 조명장치의 도광판에 빛을 산란시키는 미세 패턴을 형성하여 도광판을 제조하는 장치에 있어서,
    상기 도광판용 기판을 이송시키는 제1 이송장치;
    상기 제1 이송 장치에 부착되어, 상기 기판이 이송될 때 기판의 일면에 자외선 경화용 수지를 도포하는 자외선 경화용 수지 도포장치;
    상기 제 1 이송 장치에 부착되어, 기판에 도포된 자외선 경화용 수지를 가경화시키는 제1 자외선 조사기;
    상기 기판에 미세 패턴을 형성시키는 스탬퍼;
    상기 스탬퍼가 부착된 가압 롤러;
    상기 가압 롤러가 상기 기판에 일정한 압력을 가하게 하는 가압장치;
    상기 기판이 상기 가압 롤러를 통과할 때 기판 윗면에 도포된 자외선 경화수지를 경화시키는 제2 자외선 조사기; 및
    상기 가압 롤러를 통과한 기판을 이송시키는 제2 이송장치
    를 포함하는 도광판 제조 장치.
  2. 평판 표시장치에 사용되는 평판 조명장치의 도광판에 빛을 산란시키는 미세 패턴을 형성하여 도광판을 제조하는 장치에 있어서,
    상기 도광판용 기판을 이송시키는 제1 이송장치;
    상기 도광판용 기판의 윗면과 밑면을 예열시키기 위한 예열 장치;
    상기 기판의 윗면에 미세 패턴을 형성시키는 스탬퍼;
    상기 스탬퍼가 부착되고 상기 기판에 열을 가하기 위해 가열 장치가 내장된 제1 가압 롤러;
    상기 제1 가압 롤러와 반대편에서 맞물려 상기 기판을 지지하면서 상기 기판의 밑면에 열을 가하기 위해 가열 장치가 내장된 제2 가압 롤러;
    상기 제1 가압 롤러가 상기 기판 윗면에 일정한 압력을 가하게 하는 제1 가압장치;
    상기 제2 가압 롤러가 상기 기판 밑면에 일정한 압력을 가하게 하는 제2 가압장치; 및
    상기 제1 및 제2 가압 롤러들을 통과하여 미세 패턴이 형성된 도광판을 이송시키는 제2 이송장치
    를 포함하는 도광판 제조 장치.
  3. 평판 표시장치에 사용되는 평판 조명장치의 도광판에 빛을 산란시키는 미세 패턴을 형성하여 도광판을 제조하는 장치에 있어서,
    상기 도광판용 기판을 이송시키는 제1 이송장치;
    상기 기판이 이송될 때 기판 윗면에 이를 얇게 녹이는 휘발성 도광판 용융제를 도포하는 휘발성 용융제 도포장치;
    상기 기판의 윗면에 미세 패턴을 형성시키는 스탬퍼;
    상기 스탬퍼가 부착되고 상기 기판에 열을 가하기 위해 가열 장치가 내장된 제1 가압 롤러;
    상기 제1 가압 롤러와 반대편에서 맞물려 상기 기판을 지지하면서 상기 기판 밑면에 열을 가하기 위해 가열 장치가 내장된 제2 가압 롤러;
    상기 제1 가압 롤러가 상기 기판 윗면에 일정한 압력을 가하게 하는 제1 가압장치;
    상기 제2 가압 롤러가 상기 기판 밑면에 일정한 압력을 가하게 하는 제2 가압장치; 및
    상기 가압 롤러들을 통과하여 미세 패턴이 형성된 도광판을 이송시키는 제2 이송장치
    를 포함하는 도광판 제조 장치.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 도광판에 형성된 미세 패턴은 홀로그램이며, 상기 스탬퍼는 홀로그램 스탬퍼인 것을 특징으로 하는 도광판 제조 장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 홀로그램 스탬퍼는 홀로그램을 이루는 요철의 높이가 10 um 이하인 것을 특징으로 하는 도광판 제조 장치.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 자외선 경화 수지 도포 장치가 커튼 코팅 방식, 롤러 코팅 방식 및 바(Bar)코팅 방식으로 이루어지는 그룹에서 선택되는 하나의 방식을 사용하여 자외선 경화 수지를 도포하는 것을 특징으로 하는 도광판 제조 장치.
  7. 제3항에 있어서,
    상기 휘발성 용융제 도포 장치가 커튼 코팅 방식, 롤러 코팅 방식 및 바(Bar)코팅 방식으로 이루어지는 그룹에서 선택되는 하나의 방식을 사용하여 자외선 경화 수지를 도포하는 것을 특징으로 하는 도광판 제조 장치.
  8. 제2항 또는 제3항에 있어서,
    상기 제1 가압롤러의 가열장치 또는 제2 가압롤러의 가열장치는 마이크로 웨이브 가열 장치, 유체 순환 가열 장치, 가열 램프 및 가열선으로 이루어지는 그룹에서 선택되는 가열 장치인 것을 특징으로 하는 도광판 제조 장치.
  9. 제2항에 있어서,
    상기 예열 장치는 열풍에 의한 가열장치, 열선 및 가열램프로 이루어지는 그룹에서 선택되는 가열장치인 것을 특징으로 하는 도광판 제조 장치.
  10. 평판 표시장치에 사용되는 평판 조명장치의 도광판에 빛을 산란시키는 미세패턴을 형성하여 도광판을 제조하는 장치에 있어서,
    상기 미세 패턴을 가진 스탬퍼;
    상기 스탬퍼를 진공으로 부착하기 위해 진공장치와, 상기 스탬퍼의 주변 온도를 일정하게 유지시키기 위한 가열 장치를 가진 스탬퍼 부착용 제1 금형;
    상기 스탬퍼 부착용 금형에 밀착되어 사출 재료의 투입구 형성 및 도광판의 외형을 만드는 제2 금형;
    을 포함하는 도광판 제조 장치.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 제1 금형의 가열장치는 가열된 유체의 순환에 의한 가열 장치, 가열 램프 및 가열선으로 이루어진 그룹에서 선택되는 가열장치인 것을 특징으로 하는 도광판 제조 장치.
  12. 제10항에 있어서,
    상기 도광판의 밑면에도 미세 패턴을 형성하기 위해서 상기 제2 금형에 미세 패턴을 가진 제2 스탬퍼가 부착되고,
    상기 제2 금형이 상기 제2 스탬퍼를 진공으로 부착하기 위해 제2 진공장치와, 상기 제2 스탬퍼의 주변 온도를 일정하게 유지시키기 위한 제2 가열 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 도광판 제조 장치.
  13. 제10항에 있어서,
    상기 도광판에 형성되는 미세 패턴은 홀로그램이며, 상기 스탬퍼는 홀로그램 스탬퍼인 것을 특징으로 하는 도광판 제조 장치.
  14. 평판 표시장치에 사용되는 평판 조명장치의 도광판에 빛을 산란시키는 미세 패턴을 형성하여 도광판을 제조하는 방법에 있어서,
    상기 도광판용 기판을 이송시키는 단계;
    상기 이송 단계 중에 상기 기판의 일면에 자외선 경화용 수지를 도포하는 단계;
    상기 기판에 도포된 자외선 경화용 수지를 가경화시키는 단계;
    상기 미세 패턴이 형성된 스탬퍼를 가압 롤러에 부착하여 상기 기판에 일정한 압력을 가하면서 상기 미세 패턴을 형성시키는 단계;
    상기 기판이 상기 가압 롤러를 통과할 때 상기 기판의 일면에 도포된 자외선 경화수지를 경화시키는 단계; 및
    상기 가압 롤러를 통과한 기판을 이송시키는 단계
    를 포함하는 도광판 제조 방법
  15. 평판 표시장치에 사용되는 평판 조명장치의 도광판에 빛을 산란시키는 미세 패턴을 형성하여 도광판을 제조하는 방법에 있어서,
    상기 도광판용 기판을 이송시키는 단계;
    상기 기판을 예열하는 단계;
    상기 미세 패턴이 형성된 스탬퍼가 부착된 제1 가압 롤러를 가열하는 단계;
    상기 제1 가압 롤러와 반대편에서 맞물려 상기 기판을 지지하는 제2 가압 롤러를 가열하는 단계;
    상기 기판을 제1 가압 롤러와 제2 가압 롤러 사이로 통과시켜 기판의 일면에 미세 패턴을 형성하는 단계; 및
    상기 미세 패턴이 형성된 도광판을 이송하는 단계
    를 포함하는 도광판 제조 방법.
  16. 평판 표시장치에 사용되는 평판 조명장치의 도광판에 빛을 산란시키는 미세 패턴을 형성하여 도광판을 제조하는 방법에 있어서,
    상기 도광판용 기판을 이송시키는 단계;
    상기 이송 단계에서 상기 기판의 윗면을 소정 깊이로 녹이는 단계;
    상기 미세 패턴이 형성된 스탬퍼가 부착된 제1 가압 롤러를 가열하는 단계;
    상기 제1 가압 롤러와 반대편에서 맞물려 상기 기판을 지지하는 제2 가압 롤러를 가열하는 단계;
    상기 기판을 제1 가압 롤러와 제2 가압 롤러 사이로 통과시켜 기판의 일면에 미세 패턴을 형성하는 단계; 및
    상기 미세 패턴이 형성된 도광판을 이송하는 단계
    를 포함하는 도광판 제조 방법.
  17. 제14항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 도광판에 형성되는 미세 패턴은 홀로그램이며, 상기 스탬퍼는 홀로그램 스탬퍼인 것을 특징으로 하는 도광판 제조 장치.
  18. 평판 표시장치에 사용되는 평판 조명장치의 홀로그램 도광판용 홀로그램 스탬퍼를 제조하는 방법에 있어서,
    레이저로부터 출사되는 레이저 빔을 확대하여 확산기에 입사시키는 단계;
    감광제가 도포된 기판에 홀로그램층에 형성될 형태를 갖고 있는 마스크를 부착시켜 상기 레이저 빔에 노출시키는 단계;
    상기 기판을 현상하여 감광제를 식각하는 단계;
    상기 기판상에 무전해 도금을 하여 금속막을 형성하는 단계; 및
    금속막을 분리하여 홀로그램 스탬퍼를 완성하는 단계
    를 포함하며,
    상기 마스크는 원형 또는 다각형의 무늬를 광원이 위치하는 쪽의 무늬의 면적 밀도는 낮게 하고, 광원이 위치하는 쪽과 멀어질수록 면적 밀도를 높게 하되 원형 또는 다각형 무늬 내부를 투명하게 하고 그 외의 부분을 불투명하게 한 마스크이거나 또는 광원이 위치하는 하는 쪽의 광투과율은 낮게 하고 광원이 위치하는 쪽과 멀어질수록 광투과율을 높게 한 마스크인 것을 특징으로 하는 홀로그램 스탬퍼 제조 방법.
  19. 평판 표시장치에 사용되는 평판 조명장치의 홀로그램 도광판용 홀로그램 스탬퍼를 제조하는 방법에 있어서,
    레이저로부터 출사되는 레이저 빔을 확대하여 확산기에 입사시키는 단계;
    감광제가 도포된 기판에 홀로그램층에 형성될 형태를 갖고 있는 마스크를 부착시켜, 마스크가 부착된 기판을 좌우 및 상하 방향으로 이동시켜 상기 레이저 빔에 감광제를 노출시키는 단계;
    상기 기판을 현상하여 감광제를 식각하는 단계;
    상기 기판상에 무전해 도금을 하여 금속막을 형성하는 단계; 및
    금속막을 분리하여 홀로그램 스탬퍼를 완성하는 단계
    를 포함하며,
    상기 마스크는 원형 또는 다각형의 무늬를 광원이 위치하는 쪽의 무늬의 면적 밀도는 낮게 하고, 광원이 위치하는 쪽과 멀어질수록 면적 밀도를 높게 하되 원형 또는 다각형 무늬 내부를 투명하게 하고 그 외의 부분을 불투명하게 한 마스크이거나 또는 광원이 위치하는 하는 쪽의 광투과율은 낮게 하고 광원이 위치하는 쪽과 멀어질수록 광투과율을 높게 한 마스크인 것을 특징으로 하는 홀로그램 스탬퍼 제조 방법.
  20. 평판 표시장치에 사용되는 평판 조명장치의 홀로그램 도광판용 홀로그램 스탬퍼를 제조하는 방법에 있어서,
    레이저로부터 출사되는 레이저 빔을 확대하는 단계;
    상기 확대된 레이저 빔을 2차원으로 주사시키는 단계;
    상기 2차원으로 주사되는 레이저 빔을 확산시키는 단계;
    감광제가 도포된 기판 상에 홀로그램층에 형성될 형태를 갖고 있는 마스크를 부착시켜, 상기 레이저 빔에 감광제를 노출시키는 단계;
    상기 기판을 현상하여 감광제를 식각하는 단계;
    상기 기판상에 무전해 도금을 하여 금속막을 형성하는 단계; 및
    금속막을 분리하여 홀로그램 스탬퍼를 완성하는 단계
    를 포함하며,
    상기 마스크는 원형 또는 다각형의 무늬를 광원이 위치하는 쪽의 무늬의 면적 밀도는 낮게 하고, 광원이 위치하는 쪽과 멀어질수록 면적 밀도를 높게 하되 원형 또는 다각형 무늬 내부를 투명하게 하고 그 외의 부분을 불투명하게 한 마스크이거나 또는 광원이 위치하는 하는 쪽의 광투과율은 낮게 하고 광원이 위치하는 쪽과 멀어질수록 광투과율을 높게 한 마스크인 것을 특징으로 하는 홀로그램 스탬퍼 제조 방법.
  21. 평판 표시장치에 사용되는 평판 조명장치의 홀로그램 도광판용 홀로그램 스탬퍼를 제조하는 방법에 있어서,
    레이저로부터 출사되는 레이저 빔을 확대하여 확산기에 입사시키는 단계;
    감광제가 도포된 기판을 좌우 및 상하 방향으로 이동시켜 상기 레이저 빔에감광제를 노출시키는 단계;
    상기 기판을 현상하여 감광제를 식각하는 단계;
    상기 기판상에 무전해 도금을 하여 금속막을 형성하는 단계; 및
    금속막을 분리하여 홀로그램 스탬퍼를 완성하는 단계
    를 포함하며,
    상기 감광제가 도포된 기판을 좌우 및 상하 방향으로 이동시키는 단계에서 기판의 이동 속도를 가변적으로 조절하므로써 이동 속도가 빠른 부분은 현상후 홀로그램의 회절 효율이 낮고, 이동속도가 느린 부분은 현상 후 홀로그램의 회절 효율이 높게 되어 상기 홀로그램 스탬퍼를 사용하여 만들어진 홀로그램 도광판의 홀로그램층이 가변적인 회절 효율을 가지는 홀로그램 스탬퍼 제조 방법.
  22. 평판 표시장치에 사용되는 평판 조명장치의 홀로그램 도광판용 홀로그램 스탬퍼를 제조하는 방법에 있어서,
    레이저로부터 출사되는 레이저 빔을 확대하는 단계;
    상기 확대된 레이저 빔을 2차원으로 주사시키는 단계;
    상기 2차원으로 주사되는 레이저 빔을 확산시키는 단계;
    감광제가 도포된 기판을 상기 레이저 빔에 노출시키는 단계;
    상기 기판을 현상하여 감광제를 식각하는 단계;
    상기 기판상에 무전해 도금을 하여 금속막을 형성하는 단계; 및
    금속막을 분리하여 금속 스탬퍼를 완성하는 단계
    를 포함하며,
    상기 2차원으로 주사시키는 단계는 레이저 빔의 주사 속도를 가변적으로 조절하므로써 주사 속도가 빠른 부분은 현상후 홀로그램의 회절 효율이 낮고, 주사 속도가 느린 부분은 현상 후 홀로그램의 회절 효율이 높게 되어 상기 홀로그램 스탬퍼를 사용하여 만들어진 홀로그램 도광판의 홀로그램층이 가변적인 회절 효율을 가지는 홀로그램 스탬퍼 제조 방법.
  23. 제22항에 있어서,
    상기 레이저 빔 확산 단계 이후에, 확산된 레이저 빔이 상기 기판에 입사하는 각도를 조정하는 단계;
    를 더 포함하는 홀로그램 스탬퍼 제조 방법.
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Cited By (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20020060325A (ko) * 2001-01-10 2002-07-18 박득일 면광원 장치의 도광판과 이의 제조방법
KR20030078094A (ko) * 2002-03-28 2003-10-08 나노엘시디(주) 공초점 광학계를 이용한 무금형 산란형 도광판 제조
KR100582454B1 (ko) * 2005-11-04 2006-05-26 (주)아이에스티 코리아 도광판 가공장치
KR100610336B1 (ko) * 2005-09-12 2006-08-09 김형준 키패드 백라이트용 도광판 및 그 제조 방법
KR100736074B1 (ko) * 2005-03-03 2007-07-06 태산엘시디 주식회사 자외선 경화방법을 이용한 도광판 제조방법
KR100760234B1 (ko) * 2006-02-13 2007-09-20 제일모직주식회사 도광판 제조용 스탬퍼 및 이를 이용한 도광판의 제조 방법
KR100763493B1 (ko) * 2006-08-18 2007-10-04 한국기계연구원 롤-투-롤 프린트 방식의 미세접촉 인쇄장치
KR100783067B1 (ko) * 2007-02-16 2007-12-07 세메스 주식회사 유체 코팅 방법 및 이를 수행하기 위한 유체 코팅 장치
KR100787913B1 (ko) * 2006-09-21 2007-12-24 주식회사 아탐스 백라이트 유닛 및 백라이트 유닛의 도광판 제조방법
KR100799667B1 (ko) * 2006-03-30 2008-01-30 한국성전(주) 도파로 시트 제조방법 및 이에 의해 제조된 도파로 시트
KR100858022B1 (ko) * 2006-07-24 2008-09-10 심현섭 도광판과 광확산판이 일체화 제작된 조명커버 및 그제작방법
WO2009142339A1 (en) * 2008-05-19 2009-11-26 Ls Tech Co., Ltd. An apparatus for forming pattern on light guide plate
KR100936923B1 (ko) 2009-09-28 2010-01-18 주식회사 아이엠글로벌 유브이 전사를 이용한 도광판 및 그 제조방법
KR100962495B1 (ko) * 2002-12-28 2010-06-14 엘지디스플레이 주식회사 액정표시모듈의 제조방법 및 장치
KR100964128B1 (ko) * 2008-07-16 2010-06-16 주식회사 이라이콤 박형 도광판의 제조 방법
KR100976808B1 (ko) * 2008-07-30 2010-08-20 주식회사 세코닉스 롤투롤 방식을 이용한 도광판 제조방법
KR101040028B1 (ko) * 2009-12-24 2011-06-09 주식회사 엘 앤 에프 평판형 표시 장치의 도광판 제조 시스템 및 제조 방법
KR101102131B1 (ko) * 2011-07-12 2012-01-02 레이젠 주식회사 인라인 압출 패턴 성형 장치
KR20150037107A (ko) * 2013-09-30 2015-04-08 삼성디스플레이 주식회사 도광판, 이를 포함하는 백라이트 어셈블리와 표시 장치 및 도광판의 제조 방법
CN105666771A (zh) * 2016-03-08 2016-06-15 深圳市帝显电子有限公司 导光板的热辊压方法
KR20160096963A (ko) * 2015-02-06 2016-08-17 (주)피엔티 패턴형성장치
KR20210021829A (ko) * 2019-08-19 2021-03-02 주식회사 아이델 압출품 패턴 형성 장치

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7070406B2 (en) 2003-04-29 2006-07-04 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Apparatus for embossing a flexible substrate with a pattern carried by an optically transparent compliant media
KR100777983B1 (ko) 2005-12-29 2007-11-21 주식회사 탑 엔지니어링 기판 절단 장치
KR101343106B1 (ko) 2006-12-04 2013-12-20 삼성디스플레이 주식회사 백라이트 어셈블리, 액정 표시 장치 및 도광판의 제조 방법
KR100937645B1 (ko) 2007-03-30 2010-01-19 주식회사 코아옵틱스 키패드 백라이트 전용 도광필름 제조 방법 및 제조 장치
KR100931405B1 (ko) * 2008-02-22 2009-12-11 주식회사 명성디엠아이 액정표시장치용 도광판 제조장치
KR101009115B1 (ko) 2008-06-24 2011-01-18 삼성전기주식회사 이형탄성밸트을 갖는 인쇄회로기판 제조장치
KR101075148B1 (ko) 2009-12-11 2011-10-19 조광호 도광판 제조방법
KR101109749B1 (ko) * 2010-03-16 2012-04-06 주식회사 코스모인 도광판 제조 장치 및 방법
KR101123999B1 (ko) 2010-06-07 2012-03-23 윤상철 도광판 제조방법 및 제조장치
TW201332745A (zh) * 2012-02-02 2013-08-16 Chenming Mold Ind Corp 熱壓成型方法
KR101412697B1 (ko) 2013-08-23 2014-06-27 레이젠 주식회사 광산란긁힘결이 형성된 도광판 제조방법
KR101637089B1 (ko) 2014-10-29 2016-07-06 한국생산기술연구원 도광판 제조방법

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2530626B2 (ja) * 1986-09-19 1996-09-04 富士通株式会社 膜厚分布膜の作製方法
JPH01316702A (ja) * 1988-06-16 1989-12-21 Mitsubishi Rayon Co Ltd レンズシートの製造方法
JPH07181328A (ja) * 1993-05-26 1995-07-21 Tama Electric Co Ltd 背面照光装置
JPH07281030A (ja) * 1994-04-06 1995-10-27 Matsushita Electric Ind Co Ltd ホログラム光学素子、光ピックアップ及びそれらの製造方法
JP2848362B2 (ja) * 1996-10-22 1999-01-20 日本電気株式会社 液晶配向膜の製造方法
KR100371393B1 (ko) * 1997-06-28 2003-11-28 주식회사 엘지화학 액정 표시 판넬용 광학 시트 및 그 제조 방법
JPH11147255A (ja) * 1997-11-19 1999-06-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd プリズム形状付き導光板の製造方法

Cited By (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20020060325A (ko) * 2001-01-10 2002-07-18 박득일 면광원 장치의 도광판과 이의 제조방법
KR20030078094A (ko) * 2002-03-28 2003-10-08 나노엘시디(주) 공초점 광학계를 이용한 무금형 산란형 도광판 제조
KR100962495B1 (ko) * 2002-12-28 2010-06-14 엘지디스플레이 주식회사 액정표시모듈의 제조방법 및 장치
KR100736074B1 (ko) * 2005-03-03 2007-07-06 태산엘시디 주식회사 자외선 경화방법을 이용한 도광판 제조방법
KR100610336B1 (ko) * 2005-09-12 2006-08-09 김형준 키패드 백라이트용 도광판 및 그 제조 방법
KR100582454B1 (ko) * 2005-11-04 2006-05-26 (주)아이에스티 코리아 도광판 가공장치
KR100760234B1 (ko) * 2006-02-13 2007-09-20 제일모직주식회사 도광판 제조용 스탬퍼 및 이를 이용한 도광판의 제조 방법
KR100799667B1 (ko) * 2006-03-30 2008-01-30 한국성전(주) 도파로 시트 제조방법 및 이에 의해 제조된 도파로 시트
KR100858022B1 (ko) * 2006-07-24 2008-09-10 심현섭 도광판과 광확산판이 일체화 제작된 조명커버 및 그제작방법
KR100763493B1 (ko) * 2006-08-18 2007-10-04 한국기계연구원 롤-투-롤 프린트 방식의 미세접촉 인쇄장치
KR100787913B1 (ko) * 2006-09-21 2007-12-24 주식회사 아탐스 백라이트 유닛 및 백라이트 유닛의 도광판 제조방법
KR100783067B1 (ko) * 2007-02-16 2007-12-07 세메스 주식회사 유체 코팅 방법 및 이를 수행하기 위한 유체 코팅 장치
WO2009142339A1 (en) * 2008-05-19 2009-11-26 Ls Tech Co., Ltd. An apparatus for forming pattern on light guide plate
KR100964128B1 (ko) * 2008-07-16 2010-06-16 주식회사 이라이콤 박형 도광판의 제조 방법
KR100976808B1 (ko) * 2008-07-30 2010-08-20 주식회사 세코닉스 롤투롤 방식을 이용한 도광판 제조방법
KR100936923B1 (ko) 2009-09-28 2010-01-18 주식회사 아이엠글로벌 유브이 전사를 이용한 도광판 및 그 제조방법
KR101040028B1 (ko) * 2009-12-24 2011-06-09 주식회사 엘 앤 에프 평판형 표시 장치의 도광판 제조 시스템 및 제조 방법
KR101102131B1 (ko) * 2011-07-12 2012-01-02 레이젠 주식회사 인라인 압출 패턴 성형 장치
KR20150037107A (ko) * 2013-09-30 2015-04-08 삼성디스플레이 주식회사 도광판, 이를 포함하는 백라이트 어셈블리와 표시 장치 및 도광판의 제조 방법
KR20160096963A (ko) * 2015-02-06 2016-08-17 (주)피엔티 패턴형성장치
CN105666771A (zh) * 2016-03-08 2016-06-15 深圳市帝显电子有限公司 导光板的热辊压方法
KR20210021829A (ko) * 2019-08-19 2021-03-02 주식회사 아이델 압출품 패턴 형성 장치

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TWI247944B (en) 2006-01-21
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