KR20020012794A - a method for fabricating transflective liquid crystal display device and the same - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 액정표시장치(liquid crystal display device)에 관한 것으로 특히, 반사모드와 투과모드를 선택적으로 사용할 수 있는 반사투과형액정표시장치(Transflective liquid crystal display device)에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly, to a reflective liquid crystal display device capable of selectively using a reflection mode and a transmission mode.
일반적으로 반사투과형 액정표시장치는 투과형 액정표시장치와 반사형 액정표시장치의 기능을 동시에 지닌 것으로, 백라이트(backlight)의 빛과 외부의 자연광원 또는 인조광원을 모두 이용할 수 있음으로 주변환경에 제약을 받지 않고, 전력소비(power consumption)를 줄일 수 있는 장점이 있다.Generally, the transflective liquid crystal display device has the functions of a transmissive liquid crystal display device and a reflective liquid crystal display device, and it is possible to use both a backlight light and an external natural light or artificial light source to limit the surrounding environment. It does not receive, there is an advantage that can reduce the power consumption (power consumption).
도 1 은 일반적인 반사투과형 컬러액정표시장치를 도시한 분해사시도이다.FIG. 1 is an exploded perspective view showing a general reflective transmissive color liquid crystal display device.
도시한 바와 같이, 일반적인 반사투과형 액정표시장치(11)는 블랙매트릭스(16)를 포함하는 컬러필터(17)와 컬러필터 상에 투명한 공통전극(13)이 형성된 상부기판(15)과, 화소영역(P)과 화소영역에 투과부(A)와 반사부(C)가 동시에 형성된 화소전극(19)과 스위칭소자(T)와 어레이배선이 형성된 하부기판(21)으로 구성되며, 상기 상부기판(15)과 하부기판(21) 사이에는 액정(23)이 충진되어 있다.As shown in the drawing, a general reflection-transmissive liquid crystal display 11 includes a color filter 17 including a black matrix 16, an upper substrate 15 having a transparent common electrode 13 formed on the color filter, and a pixel region. A pixel electrode 19 having a transmissive portion A and a reflecting portion C formed at the same time as the pixel region 19 and a lower substrate 21 having a switching element T and an array wiring formed thereon. ) And the lower substrate 21 are filled with the liquid crystal 23.
상기 하부기판(21)은 어레이기판이라고도 하며, 스위칭 소자인 박막트랜지스터(T)가 매트릭스 형태(matrix type)로 위치하고, 이러한 다수의 박막트랜지스터를 교차하여 지나가는 게이트배선(25)과 데이터배선(27)이 형성된다.The lower substrate 21 is also referred to as an array substrate, and the thin film transistor T, which is a switching element, is positioned in a matrix type, and the gate wiring 25 and the data wiring 27 passing through the plurality of thin film transistors cross each other. Is formed.
이때, 상기 화소영역(P)은 상기 게이트배선(25)과 데이터배선(27)이 교차하여 정의되는 영역이다.In this case, the pixel area P is an area where the gate line 25 and the data line 27 cross each other.
이와 같은 구성을 갖는 반사투과형 액정표시장치의 동작특성을 이하 도 2와 도 3을 참조하여 설명한다.Operation characteristics of the reflective liquid crystal display device having such a configuration will be described below with reference to FIGS. 2 and 3.
도 2는 종래의 제 1 예에 따른 반사투과형 액정표시장치를 도시한 단면도이다.2 is a cross-sectional view of a reflective transmissive liquid crystal display device according to a first example of the related art.
도시한 바와 같이, 반사투과형 액정표시장치는 상부기판(15)과 하부기판(21)이 합착된 액정패널과, 상기 액정패널의 상/하부에 위치한 다수의 셀을 포함한다.As illustrated, the reflective liquid crystal display device includes a liquid crystal panel in which the upper substrate 15 and the lower substrate 21 are bonded to each other, and a plurality of cells located at the upper and lower portions of the liquid crystal panel.
자세히 설명하면, 상기 하부기판(21)과 마주보는 면의 상부기판(15)에는 컬러필터(17)와 공통전극(13)이 형성되고, 상기 공통전극(13)이 형성된 상부기판의 반대 면에는 λ/4 플레이트(plate)특성을 가지는 위상차필름(45)(quater wave plate : QWP)과 상부 편광판(55)이 차례로 적층되고, 상기 상부기판(15)과 마주보는 하부기판(21)의 일면에는 투과부와 반사부로 구성된 화소전극(19)(이하 "반투과 화소전극"이라 칭함)이 형성된다.In detail, the color filter 17 and the common electrode 13 are formed on the upper substrate 15 facing the lower substrate 21, and on the opposite side of the upper substrate on which the common electrode 13 is formed. A retardation film 45 having a λ / 4 plate characteristic (quater wave plate: QWP) and an upper polarizing plate 55 are sequentially stacked on one surface of the lower substrate 21 facing the upper substrate 15. A pixel electrode 19 (hereinafter referred to as "transflective pixel electrode") formed of a transmissive portion and a reflective portion is formed.
상기 반투과 화소전극의 구성방법은 다양하지만, 도 2의 구조는 투명전극(19a)과 반사전극(19b)사이에 보호층(18)을 개재한 구조이다.Although the method of constructing the transflective pixel electrode varies, the structure of FIG. 2 is a structure in which a protective layer 18 is interposed between the transparent electrode 19a and the reflective electrode 19b.
이때, 상기 투과홀의 하부에 위치한 보호층(18)을 식각하여 투과부와 반사부의 셀갭을 다르게 구성할 수 있다.In this case, the protective layer 18 positioned below the transmission hole may be etched to configure a cell gap different from that of the transmission part and the reflection part.
상기 반투과 화소전극(19b,19b)이 형성된 하부기판(21)의 반대면에는 하부 위상차필름(QWP)(54)과 하부 편광판(52)이 차례로 구성되고, 상기 하부 편광판(52)의 하부에는 배광장치(41)가 위치한다.On the opposite side of the lower substrate 21 on which the transflective pixel electrodes 19b and 19b are formed, the lower retardation film (QWP) 54 and the lower polarizer 52 are sequentially formed, and below the lower polarizer 52 The light distribution device 41 is located.
상기 하부기판(21)과 상부기판(15) 사이에는 광학적 이방성을 가지는 액정(23)을 충진한다.The liquid crystal 23 having optical anisotropy is filled between the lower substrate 21 and the upper substrate 15.
전압을 인가하였을 경우(Von=off), 상기 액정은 트위스트 네마틱액정(TN :twisted nematic)또는 평행배향 액정을 사용할 수 있으며, 반사부에 위치하는 액정층의 △nd1이 λ/4(λ=550nm)가 되도록 설계된 경우, 식 (1)과 같이 투과부의 셀갭(d2)은 상기 반사부의 셀갭의 약 두배로 형성한다.When a voltage is applied (V on = off), the liquid crystal may be a twisted nematic liquid crystal (TN) or a parallel alignment liquid crystal, and Δnd1 of the liquid crystal layer positioned at the reflecting portion is λ / 4 (λ). = 550 nm), the cell gap d 2 of the transmission portion is formed about twice the cell gap of the reflection portion, as shown in equation (1).
즉, d1Δn=λ/4 --- (1)That is, d 1 Δn = λ / 4 --- (1)
d2=2d1--- (2) 이므로, d2Δn=λ/2특성을 갖는다.Since d 2 = 2d 1 --- (2), it has the characteristic of d 2 ( DELTA) n = (lambda) / 2.
상기 식(1)에서 d1은 반사전극 상부에 위치한 액정층의 셀갭이고, d2는 상기 투과홀에 충진되어 구성된 액정층의 셀갭이고, λ/4는 상기 반사모드시 상기 반사전극(19b)상부의 액정층(23)을 한번 통과하는 빛의 위상변화 값이다.In Equation (1), d 1 is a cell gap of the liquid crystal layer positioned on the reflective electrode, d 2 is a cell gap of the liquid crystal layer formed by filling the transmission hole, and λ / 4 is the reflective electrode 19b in the reflection mode. The phase change value of light passing through the upper liquid crystal layer 23 once.
전술한 바와 같은 식에 따라 상기 투과부와 반사부에 따른 셀 두께를 다르게 형성하게 되면, 상기 반사부를 진행하는 빛의 진행상태와 상기 투과부를 진행하는 빛의 진행상태의 차이를 최소화 할 수 있으므로 높은 휘도특성을 얻을 수 있다.When the cell thicknesses of the transmissive part and the reflecting part are formed differently according to the above-described equation, the difference between the progress of the light traveling through the reflecting part and the progress of the light traveling through the transmissive part can be minimized. Characteristics can be obtained.
그러나, 위와 같은 구조는 상기 투과부와 반사부를 지나는 빛의 위상값이 동일한 값으로 제어되어 투과효율은 어느 정도 맞출 수 있으나, 컬러 액정표시장치의 경우 상기 반사부와 투과부에서의 색차를 현저히 느낄 수 있다.However, the above structure is controlled by the phase values of the light passing through the transmissive part and the reflecting part to be the same value, but the transmission efficiency can be adjusted to some extent, in the case of a color liquid crystal display device, the color difference between the reflecting part and the transmissive part can be remarkably felt. .
왜냐하면, 반사모드에서는 외부광이 반사전극(19b)으로 입사하고, 다시 외부로 방출되기까지 두 번에 걸쳐 컬러필터(17)를 통과하게 된다. 즉, 외부광이 입사할 때 한 번과, 반사전극(52)에 반사되고, 다시 외부로 방출될 때 한번이 그것이다.In the reflective mode, the external light passes through the color filter 17 twice before being incident on the reflective electrode 19b and emitted to the outside. That is, once when external light is incident, and once when it is reflected by the reflecting electrode 52 and emitted to the outside again.
그러나, 투과부(A)에서는 상기 컬러필터를 한번 통과하여 방출되므로, 상기통과하는 빛의 착색정도가 다르기 때문에 상기 반사부와 투과부에서 현저한 색차가 나타나게 되는 것이다.However, in the transmissive portion A, since the light is emitted through the color filter once, the color difference of the light passing through is different, so that a significant color difference appears in the reflective portion and the transmissive portion.
따라서, 이를 해결하기 위한 구조를 이하 도 3을 참조하여 설명한다.Therefore, a structure for solving this will be described below with reference to FIG. 3.
도 3은 종래의 제 2 예에 따른 반사투과형 액정표시장치용 어레이기판의 일부를 도시한 단면도이다.(도 3의 구성은 편의상 상기 도 2의 구성에서 편광판과 위상차판을 생략하고 설명한다.)3 is a cross-sectional view showing a part of an array substrate for a reflective transmissive liquid crystal display device according to a second example of the related art. (The configuration of FIG. 3 will be described by omitting the polarizing plate and the phase difference plate in the configuration of FIG. 2 for convenience.)
도시한 바와 같이, 투과부(A)의 셀갭을 반사부(B)의 셀갭에 대해 2배로 크게 형성하는 동시에, 상기 투과부(A)상부의 컬러필터층(17)의 두께(d3)를 상기 반사부(C) 상부에 위치한 컬러필터층(17)의 두께(d4)보다 두텁게 구성함으로서, 상기 투과부(A)와 반사부(C)를 통과한 빛의 착색정도를 어느 정도 동일하게 하려는 시도가 있었다.As shown, the cell gap of the transmissive portion A is formed to be twice as large as the cell gap of the reflective portion B, and the thickness d 3 of the color filter layer 17 on the upper portion of the transmissive portion A is reflected. (C) By constructing thicker than the thickness d 4 of the color filter layer 17 located above, there have been attempts to make the degree of coloration of light passing through the transmissive portion A and the reflecting portion C somewhat equal.
위의 구성을 좀더 상세히 설명하면, 컬러필터(17)를 형성하기 전에 소정의 투명한 절연물질을 증착 또는 도포하여 패턴하여 상기 반사부(C)와 대응되는 위치에 버퍼층(51)을 형성한다,When the above configuration is described in more detail, before the color filter 17 is formed, a predetermined transparent insulating material is deposited or coated to form a buffer layer 51 at a position corresponding to the reflecting portion C.
이때, 버퍼층(51)은 상기 반사부에 대응하는 위치에 형성한다. 따라서, 상기 버퍼층(51)이 형성된 기판(15)상에 컬러필터(17)를 구성하게 되면, 상기 투과부(A)에 대응되는 컬러필터의 두께(d3)를 상기 반사부(C)에 대응되는 컬러필터의 두께(d4)보다 두껍게 형성할 수 있다.In this case, the buffer layer 51 is formed at a position corresponding to the reflector. Therefore, when the color filter 17 is formed on the substrate 15 on which the buffer layer 51 is formed, the thickness d 3 of the color filter corresponding to the transmission part A corresponds to the reflection part C. It may be formed thicker than the thickness (d 4 ) of the color filter.
이와 같은 구성은 투과모드와 반사모드 시 색차를 줄일 수 있는 하나의 방법이다.Such a configuration is one method of reducing color difference in transmission mode and reflection mode.
그러나 종래의 제 1 예와 제 2 예의 경우, 상기 투과부와 반사부의 경계에 해당하는 부분에서 상기 보호층(18)의 식각단면은 거의 수직하게 식각되므로, 상기 하부기판(21) 상부에 배향막(미도시)을 도포한 후, 상기 하부기판(21)을 러빙하는 과정에서, 상기 수직한 보호층(18)의 단차(F)부분에서는 러빙불량(러빙이 되지않는 문제)이 발생할 확률이 매우 크다.However, in the first and second examples of the related art, since the etched end surface of the protective layer 18 is etched almost vertically at the portion corresponding to the boundary between the transmissive part and the reflecting part, an alignment layer (not shown) is formed on the lower substrate 21. In the process of rubbing the lower substrate 21 after the coating, the probability of rubbing (problem not rubbing) may occur in the step F portion of the vertical protective layer 18.
따라서, 상기 러빙불량이 발생한 부분의 상부에 위치한 액정은 이상배향 특성을 나타내고 이에 따른 빛의 누설에 의해 컨트라스트비(contrast ratio)가 저하되는 화질불량이 발생한다.Therefore, the liquid crystal positioned on the upper part of the rubbing defective part exhibits an abnormal alignment characteristic, and thus, an image quality defect occurs in which the contrast ratio is lowered due to the leakage of light.
또한, 상기 보호층(18)에 단차를 형성하기 위해, 상기 하부 보호층의 두께를 더욱 두텁게 해야 하므로, 그 만큼의 재료비 소모가 커서 액정표시장치의 제작 수율을 떨어뜨리는 문제가 발생한다.In addition, in order to form a step in the protective layer 18, since the thickness of the lower protective layer must be further thickened, a large material cost is consumed, which causes a problem of lowering the manufacturing yield of the liquid crystal display.
따라서, 전술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명에 따른 반사투과형 액정표시장치는 상기 투과부 하부에 구성된 보호층과 반사전극이 이루는 단차를 낮추어 상기 투과모드 시 빛 누설을 최소화하는 동시에 상기 투과모드와 반사모드 시 색차를 줄일 수 있는 구조와 방법을 제안하는 것을 목적으로 한다.Accordingly, the reflective transmissive liquid crystal display according to the present invention for solving the above-mentioned problems is to minimize the light leakage in the transmissive mode by reducing the step formed between the protective layer and the reflective electrode formed under the transmissive portion and at the same time the transmissive mode The purpose of this paper is to propose a structure and method for reducing the color difference in reflection mode.
도 1은 일반적인 반사투과형 액정표시장치를 도시한 분해사시도이고,1 is an exploded perspective view showing a general reflective transmissive liquid crystal display device,
도 2는 종래의 제 1 예에 따른 반사투과형 액정표시장치의 일부를 도시한 확대 단면도이고,FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view showing a part of a reflective liquid crystal display device according to a first example of the related art;
도 3은 종래의 제 2 예에 따른 반사투과형 액정표시장치의 일부를 도시한 확대 단면도이고,3 is an enlarged cross-sectional view showing a portion of a reflective transmissive liquid crystal display device according to a second conventional example;
도 4는 본 발명에 따른 반사투과형 액정표시장치의 일부를 도시한 확대 단면도이고,4 is an enlarged cross-sectional view showing a part of a reflective liquid crystal display device according to the present invention;
도 5는 본 발명의 제 1 예에 따를 컬러필터 기판의 일부를 도시한 확대 단면도이고,5 is an enlarged cross-sectional view showing a part of a color filter substrate according to a first example of the present invention;
도 6은 본 발명의 제 2 예에 따른 컬러필터 기판의 일부를 도시한 확대 단면도이고,6 is an enlarged cross-sectional view showing a part of a color filter substrate according to a second example of the present invention;
도 7a는 반사투과형 액정표시장치용 어레이기판의 제 1 예에 따른 일부 화소를 도시한 평면도이고,7A is a plan view showing some pixels according to the first example of the array substrate for a reflective transmissive liquid crystal display device;
도 7b는 반사투과형 액정표시장치용 어레이기판의 일부 화소를 도시한 평면도이고,7B is a plan view showing some pixels of an array substrate for a reflective transmissive liquid crystal display device;
도 8은 도 7a의 제 1 예로서, 도7a의 Ⅶ-Ⅶ을 따라 절단하여 도시한 본 발명에 따른 반사투과형 액정표시장치용 어레이기판의 단면도이고,FIG. 8 is a cross-sectional view of an array substrate for a transflective liquid crystal display device according to the present invention, which is cut along the line VII-VII of FIG. 7A as a first example of FIG.
도 9는 도 7a의 제 2 예로서, 도 7a의 Ⅶ-Ⅶ을 따라 절단하여 도시한 본 발명에 따른 반사투과형 액정표시장치용 어레이기판의 단면도이고,FIG. 9 is a cross-sectional view of an array substrate for a transflective liquid crystal display device according to the present invention, which is cut along the line VII-VII of FIG. 7A, and as a second example of FIG.
도 10은 도 7a의 제 3 예로서, 도 7a의 Ⅶ-Ⅶ을 따라 절단하여 도시한 본 발명에 따른 반사투과형 액정표시장치용 어레이기판의 단면도이고,FIG. 10 is a cross-sectional view of an array substrate for a transflective liquid crystal display device according to the present invention, which is cut along the line VII-VII of FIG. 7A, and as a third example of FIG.
도 11a 내지 도 11c는 본 발명에 따라 제작된 액정표시장치용 어레이기판의 반사부와 투과부의 경계에서 따른 액정의 배향특성을 시뮬레이션한 결과를 도시한 그래프이다.11A to 11C are graphs showing simulation results of alignment characteristics of liquid crystals at the boundary between the reflecting portion and the transmitting portion of the array substrate for a liquid crystal display device manufactured according to the present invention.
〈도면의 주요부분에 대한 부호의 설명〉<Explanation of symbols for main parts of drawing>
119a : 투명전극 119b : 반사전극119a: transparent electrode 119b: reflective electrode
118 : 제 1 보호층 141 : 배광장치118: first protective layer 141: light distribution device
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 반사투과형 액정표시장치는 투명한 제 1, 제 2 기판과; 상기 제 1 기판 상에 구성되고, 반사영역과 투과영역으로 구성된 화소전극과; 상기 제 1 기판과 화소전극 사이에 위치하고, 상기 투과영역에 대응되는 부분이 소정깊이 식각된 보호층과; 상기 제 2 기판상에 구성되고, 상기 투과영역의 경계에 대응되는 위치에서 단차를 가지는 컬러필터층과; 상기 제 1 기판과 제 2 기판 사이에 위치한 액정을 포함한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a reflective transmissive liquid crystal display device comprising: a transparent first and second substrate; A pixel electrode formed on the first substrate, the pixel electrode comprising a reflection area and a transmission area; A protective layer disposed between the first substrate and the pixel electrode and having a predetermined depth etched in a portion corresponding to the transmission region; A color filter layer formed on the second substrate and having a step at a position corresponding to a boundary of the transmission region; And liquid crystal positioned between the first substrate and the second substrate.
상기 반사영역에 대응되는 위치의 상기 제 2 기판 상에 구성된 버퍼층을 더욱 포함하는 것을 특징으로 한다.And a buffer layer formed on the second substrate at a position corresponding to the reflection area.
상기 버퍼층은 질화실리콘(SiNx)과 산화실리콘(SiO2)이 포함된 무기절연물질 그룹과, 벤조사이클로부텐(benzocyclobutene)과 아크릴(acryl)계 수지(resin)등이 포함된 유기절연물질 그룹 중 선택된 하나인 것을 특징으로 한다.The buffer layer includes an inorganic insulating material group including silicon nitride (SiN x ) and silicon oxide (SiO 2 ), and an organic insulating material group including benzocyclobutene and acryl-based resin. It is characterized in that the selected one.
상기 화소전극은 투과홀을 가진 반사전극과, 투명전극이 동일위치에 구성되는 것을 특징으로 한다.The pixel electrode is characterized in that the reflective electrode having a transmission hole and the transparent electrode are configured at the same position.
상기 반사전극과 투명전극 사이에 절연층을 더욱 포함하는 것을 특징으로 한다.It characterized in that it further comprises an insulating layer between the reflective electrode and the transparent electrode.
상기 반사전극은 반사율과 도전율이 뛰어난 알루미늄과 알루미늄계 합금 등이 포함된 금속그룹 중 선택된 하나인 것을 특징으로 한다.The reflective electrode is selected from a group of metals including aluminum and an aluminum-based alloy having excellent reflectivity and conductivity.
상기 투명전극은 ITO와 IZO 등이 포함된 투명도전성 금속그룹 중 선택된 하나인 것을 특징으로 한다.The transparent electrode is one selected from the group of transparent conductive metals including ITO and IZO.
상기 투과영역의 보호층과 이에 대응하는 위치의 컬러필터층이 이루는 셀갭은 상기 반사영역의 반사전극과 이에 대응하는 위치의 컬러필터층이 이루는 셀갭에 대해 실질적으로 두배인 것을 특징으로 한다.The cell gap formed by the passivation layer and the color filter layer at the corresponding position is substantially twice that of the cell gap formed by the reflective electrode at the reflective region and the color filter layer at the corresponding position.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
도 4는 본 발명에 따른 반사투과형 액정 표시장치의 한 화소부에 해당하는 단면을 도시한 단면도이다.4 is a cross-sectional view showing a cross-section corresponding to one pixel portion of the reflective liquid crystal display according to the present invention.
도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 반사투과형 액정표시장치는 투과부와 반사부로 구성된다.As shown, the reflective liquid crystal display device according to the present invention comprises a transmissive portion and a reflective portion.
상기 투과부(G)와 반사부(H)를 정의하는 화소전극(119)은 투과홀(120)을 포함하는 반사전극(119b)과 상기 반사전극(119b)과 절연층인 제 2 보호층(175)을 사이에 두고 위치한 투명전극(119a)으로 구성된다.The pixel electrode 119 defining the transmissive part G and the reflective part H includes a reflective electrode 119b including a transmission hole 120 and a second protective layer 175 which is an insulating layer with the reflective electrode 119b. It is composed of a transparent electrode (119a) positioned between.
이때, 상기 투과부(G)의 셀갭(d5)은 상기 반사부(H)의 셀갭(d6)에 대략 2배 정도로 형성되며, 이와 같은 구성을 위해 본 발명에서는 상기 투과부에 위치한 보호층(118)을 소정깊이만큼 식각하고, 상기 투과부에 대응하는 부분의 컬러필터(117)에 단차를 부여하는 방법으로 상기 투과부(G)와 반사부(H)의 셀갭의 차이를 정의할 수 있다.In this case, the cell gap d 5 of the transmissive part G is formed about twice as large as the cell gap d 6 of the reflecting part H. In the present invention, the protective layer 118 disposed in the transmissive part is formed in this manner. ) May be etched by a predetermined depth, and a difference between the cell gaps of the transmission part G and the reflection part H may be defined by providing a step to the color filter 117 of the portion corresponding to the transmission part.
이때, 상기 투과부와 반사부에 대응되는 컬러필터의 두께는 다르게 형성된다.In this case, the thicknesses of the color filters corresponding to the transmissive part and the reflecting part are formed differently.
종래의 설명에서, 투과모드와 반사모드시 색차를 줄이기 위해 반사부와 투과부의 색차가 없으려면 바람직하게는 투과부의 컬러필터(117)두께가 반사부의 대략 두배가 되어야 함을 언급했지만 실제 상황에선 백라이트(141)와 외부광의 스펙트럼과 색도가 다르기 때문에 반사부와 투과부의 색차는 언제나 있다.In the conventional description, it has been mentioned that the thickness of the color filter 117 of the transmissive portion should preferably be approximately twice the reflecting portion in order to avoid the color difference between the reflecting portion and the transmissive portion in order to reduce the color difference in the transmissive mode and the reflective mode. Since the spectrum and chromaticity of 141 and the external light are different, there is always a color difference between the reflecting portion and the transmitting portion.
또한, 투과부의 백라이트는 어두운 경우에만 켜기 때문에 반사부 만큼이나 색도가 좋을 필요는 없다.In addition, since the backlight of the transmissive part is turned on only when it is dark, the color of the transmissive part need not be as good as that of the reflective part.
따라서, 컬러필터(117)의 두께는 반드시 투과부가 반사부의 두배일 필요는 없다.Therefore, the thickness of the color filter 117 does not necessarily need to be twice that of the reflecting portion.
그러나, 전술한 바와 같이 상기 투과부가 반사부에 비해 두꺼운 것이 색특성이 유리하다.However, as described above, it is advantageous that the transmissive portion is thicker than the reflecting portion.
이하 도 5와 도 6을 참조하여 컬러필터 기판에 단차부를 형성하는 방법을 설명한다.Hereinafter, a method of forming a stepped part on a color filter substrate will be described with reference to FIGS. 5 and 6.
도 5는 도 4의 구성 중 본 발명의 제 1 예에 따른 컬러필터 기판을 도시한 확대 단면도이다.FIG. 5 is an enlarged cross-sectional view illustrating the color filter substrate according to the first example of the present invention.
도시한 바와 같이, 기판(115)에 형성되는 컬러필터(117)는 먼저, 상기 화소영역(도 4의 P)에 대응되는 부분이 오픈(open)되도록 패터닝된 블랙매트릭스(116)를 형성한다.As illustrated, the color filter 117 formed on the substrate 115 first forms a black matrix 116 patterned such that a portion corresponding to the pixel area P of FIG. 4 is opened.
일반적으로, 상기 블랙매트릭스의 재질은 광밀도(optical density)가 3.5이상인 크롬(Cr)등의 금속박막이나 카본(Crbon)계통의 유기재료가 주로 쓰이며, 특히 크롬/크롬산화막(Cr/CrOx)의 이층막구조의 블랙매트릭스는 액정표시패널의 저반사화의 목적으로 사용되기도 한다.In general, the material of the black matrix is a metal thin film such as chromium (Cr) having an optical density of 3.5 or more, or an organic material of carbon (Crbon) system, and the chromium / chromium oxide film (Cr / CrO x ). The black matrix of the two-layer film structure is also used for the purpose of low reflection of the liquid crystal display panel.
다음으로, 상기 오픈된 부분 중 추후에 하부기판(미도시)의 반사부에 대응되는 부분에 버퍼층(151)을 형성한다.Next, a buffer layer 151 is formed on a portion of the open portion that corresponds to a reflecting portion of a lower substrate (not shown).
상기 버퍼층(buffer layer)(151)은 컬러필터(117)에 단차를 형성하기 위한 것으로 즉, 투과부에 해당하는 컬러필터와 반사부에 해당하는 컬러필터의 두께차이를 형성하기 위한 것으로, 일반적으로 질화실리콘(SiNx)과 산화실리콘(SiO2) 또는 벤조사이클로부텐(benzocyclobutene)과 같은 투명한 유기연물질을 증착 또는 도포하여 형성한다.The buffer layer 151 is used to form a step in the color filter 117, that is, to form a thickness difference between the color filter corresponding to the transmissive portion and the color filter corresponding to the reflective portion, and is generally nitrided. It is formed by depositing or applying a transparent organic soft material such as silicon (SiN x ) and silicon oxide (SiO 2 ) or benzocyclobutene.
이때, 버퍼층의 높이는 수천 Å에서 수 ㎛의 높이로 형성한다.At this time, the height of the buffer layer is formed to a height of several μm to a few μm.
다음으로, 상기 컬러필터(117)는 염료가 혼합된 수지를 스핀코터(spin coater)를 이용해 코팅하는 방법으로 형성한다.Next, the color filter 117 is formed by coating a resin mixed with a dye using a spin coater.
스핀코팅법은 상기 스핀코터의 회전력이나 코팅회수 또는 상기 컬러물질의 점도에 따라 상기 컬러필터의 두께를 제어 할 수 있는 장점이 있다.The spin coating method has an advantage of controlling the thickness of the color filter according to the rotational force of the spin coater, the number of coatings, or the viscosity of the color material.
특히, 상기 컬러수지를 스핀코팅방법을 사용하여 도포하게되면, 스핀코팅 장치에 구성되고 기판을 회전시키는 척의 회전수와, 상기 컬러수지의 점도에 따라 컬러필터의 두께를 제어할 수 있다.In particular, when the color resin is coated using a spin coating method, the thickness of the color filter may be controlled according to the number of rotations of the chuck configured to rotate the substrate and the viscosity of the color resin.
도 6은 4의 구성 중 본 발명의 제 2 예에 따른 컬러필터 기판을 도시한 확대 단면도이다.6 is an enlarged cross-sectional view illustrating a color filter substrate according to a second example of the present invention in the configuration of 4;
도시한 바와 같이, 상기 투과부에 대응하는 위치의 컬러필터(117)에 단차를부여하기 위해, 상기 투과부에 대응하는 투명한 유리기판(115)을 부분적으로 식각하는 방법으로 진행한다.As shown in the figure, in order to give a step to the color filter 117 at a position corresponding to the transmissive portion, the method proceeds in part by etching the transparent glass substrate 115 corresponding to the transmissive portion.
먼저, 유리기판(115)은 불산(HF)과 같은 식각용액을 사용하여 원하는 위치(상기 하부기판의 투과부에 대응하는 위치)를 부분적으로 식각한다.First, the glass substrate 115 partially etches a desired position (a position corresponding to the permeation part of the lower substrate) using an etching solution such as hydrofluoric acid (HF).
다음으로, 블랙매트릭스(black matrix)를 형성하기 위해 전술한 크롬(Cr)/크롬옥사이드(CrOx) 또는 카본수지 등의 저 반사화물질을 증착 또는 도포하여, 상기 화소영역에 대응되는 부분이 오픈 되도록한 블랙매트릭스(116)를 형성한다.Next, a low reflecting material such as chromium (Cr) / chromium oxide (CrO x ) or carbon resin is deposited or coated to form a black matrix, and a portion corresponding to the pixel area is opened. The black matrix 116 is formed as much as possible.
다음으로, 상기 블랙매트릭스(116)가 패턴된 기판(115)상에 코팅방법을 사용하여 각 서브(sub)컬러필터인 레드(red), 그린(green), 옐로우(yellow)에 해당하는 컬러수지(color resin)를 도포하고, 패턴하는 공정을 순차적으로 행하여 컬러필터(117)를 형성한다.Next, a color resin corresponding to each of the sub color filters red, green, and yellow using a coating method on the substrate 115 on which the black matrix 116 is patterned. (color resin) is applied, and the process of patterning is performed sequentially, and the color filter 117 is formed.
이와 같은 방법으로 본 발명의 제 2 예에 따른 컬러필터를 제작할 수 있으며, 상기 스핀코팅방법을 행함으로써, 상기 투과부와 반사부에 대응하는 컬러필터의 두께를 다르게 구성할 수 있는 결과를 얻었다.In this way, the color filter according to the second example of the present invention can be manufactured, and the spin coating method is performed, whereby the thicknesses of the color filters corresponding to the transmission part and the reflection part can be configured differently.
이하 에서는 전술한 바와 같이 구성된 상부기판과 합착되는 하부기판의 제조방법을 알아 본다.Hereinafter, the manufacturing method of the lower substrate bonded to the upper substrate configured as described above.
도 7a와 도 7b는 각각 액정표시장치용 어레이기판의 일부를 도시한 확대 평면도이다.7A and 7B are enlarged plan views showing a part of an array substrate for a liquid crystal display device, respectively.
도시한 바와 같이, 게이트배선(125)과 데이터배선(127)이 교차하여 형성되며, 상기 두 배선(125, 127)의 교차지점에는 게이트전극(132)과 소스전극(133) 및 드레인전극(165)을 포함하는 박막트랜지스터(T)가 구성된다.As shown, the gate wiring 125 and the data wiring 127 are formed to cross each other, and the gate electrode 132, the source electrode 133, and the drain electrode 165 are formed at the intersections of the two wirings 125 and 127. A thin film transistor (T) comprising a) is configured.
이때, 상기 화소영역(P)에 위치한 반투과 화소전극(119)은 투명전극(119a)과 투과홀이 형성된 반사전극(119b)으로 구성되어 크게 투과부(D)와 반사부(E)로 구분된다.In this case, the transflective pixel electrode 119 disposed in the pixel region P is composed of a transparent electrode 119a and a reflective electrode 119b having a transmission hole, and thus are largely divided into a transmission part D and a reflection part E. .
여기서, 상기 투과부(D)와 반사부(E)에 동일한 신호를 주기 위해, 상기 투명전극(119a)과 반사전극(119b)은 드레인 콘택홀(167)을 통해 상기 드레인전극(165)과 접촉하도록 형성한다.The transparent electrode 119a and the reflective electrode 119b may be in contact with the drain electrode 165 through the drain contact hole 167 to give the same signal to the transmission part D and the reflection part E. Form.
상기 드레인 콘택홀(167)은 서로 다른 공정에서 제 1 보호층과 제 2 보호층을 식각하여 구성하므로, 이하 편의상 동일위치에 구성된 제 1 제 2 드레인 콘택홀에 의해 구성된다고 표현한다.Since the drain contact hole 167 is formed by etching the first protective layer and the second protective layer in different processes, the drain contact hole 167 is represented by the first second drain contact hole formed at the same position for convenience.
이러한 구성에서, 도 7b에 도시한 바와 같이, 평면적으로 상기 투명전극(119a)을 상기 반사전극(119b)의 안쪽으로 구성할 수도 있다.In this configuration, as shown in FIG. 7B, the transparent electrode 119a may be formed inside the reflective electrode 119b in plan view.
비록, 도시하지는 않았지만, 상기 반사부와 투과부의 구성은 다양하게 변형가능하며, 이러한 다양한 변형 예에 대응하여 본 발명의 방법대로 상기 컬러필터를 구성하는 것이 가능하다.Although not shown, the configuration of the reflection portion and the transmission portion can be variously modified, and it is possible to configure the color filter according to the method of the present invention in response to these various modifications.
또한, 상기 다양한 화소의 구성과 더불어, 상기 투명전극(119a)과 반사전극(119b)이 상기 드레인전극(165)과 접촉하는 방법 또한 다양하게 변형 가능하다.In addition to the configuration of the various pixels, the method of contacting the transparent electrode 119a and the reflective electrode 119b with the drain electrode 165 may be variously modified.
이하, 도 8내지 도 10을 참조하여 본 발명에 따른 반사투과형 액정표시장치용 어레이기판의 제조방법을 설명한다.(대표적인 예로 상기 도 7a의 평면도를 참조하여 설명하도록 한다.)Hereinafter, a method of manufacturing an array substrate for a reflective transmissive liquid crystal display device according to the present invention will be described with reference to FIGS. 8 to 10. (A representative example will be described with reference to the plan view of FIG. 7A.)
도 8과 도 10은 도 7a의 Ⅶ-Ⅶ을 따라 절단한 본 발명에 따른 액정표시장치용 어레이기판을 도시한 단면도이다.8 and 10 are cross-sectional views illustrating an array substrate for a liquid crystal display device according to the present invention, taken along line VIII-VIII of FIG. 7A.
도시한 바와 같이, 기판(121)에 도전성금속을 증착하고 패턴하여, 게이트전극(161)을 포함하는 게이트배선(도 7a의 125)을 형성한다.As illustrated, a conductive metal is deposited and patterned on the substrate 121 to form a gate wiring (125 in FIG. 7A) including the gate electrode 161.
다음으로, 상기 게이트배선(도 7a의 125)상에 질화실리콘(SiNX)과 산화실리콘(SiO2)등이 포함된 무기절연물질과, 경우에 따라서는 벤조사이클로부텐(benzocyclobutene)과 아크릴(acryl)계 수지 등의 유기절연물질을 증착하여 제 1 절연층인 게이트 절연막(162)을 형성한다.Next, an inorganic insulating material including silicon nitride (SiN X ), silicon oxide (SiO 2 ), and the like on the gate wiring (125 in FIG. 7A), and in some cases, benzocyclobutene and acryl An organic insulating material such as a C-based resin is deposited to form a gate insulating film 162 as a first insulating layer.
다음으로, 상기 게이트 절연막(162)상에 아몰퍼스실리콘(a-Si:H)과 불순물이 함유된 아몰퍼스 실리콘(n+a-Si:H )을 적층하고 이를 패턴하여, 상기 게이트전극(161)상부에 아일랜드 형태의 액티브층(active layer)(171)과 오믹콘택층(ohmic contact layer)(173)을 형성한다.Next, amorphous silicon (a-Si: H) and amorphous silicon (n + a-Si: H) containing impurities are stacked on the gate insulating layer 162 and patterned to form an upper portion of the gate electrode 161. An island type active layer 171 and an ohmic contact layer 173 are formed on the island.
다음으로, 상기 액티브층(173)이 형성된 기판(121)의 전면에 도전성금속을 증착하고 패턴하여, 상기 액티브층의 상부 일측과 소정면적 겹치는 소스전극(163)과 이와는 소정간격 이격된 드레인전극(165)과, 상기 소스전극(163)에서 수직하게 일 방향으로 연장되고 상기 게이트배선(도 7a의 125)과 교차하여 화소영역(도 7a의 P)을 정의하는 데이터배선(도 7a의 127)을 형성한다.Next, a conductive metal is deposited and patterned on the entire surface of the substrate 121 on which the active layer 173 is formed, and the source electrode 163 overlapping a predetermined area with an upper side of the active layer and the drain electrode spaced apart from the predetermined interval ( 165 and a data line (127 in FIG. 7A) extending vertically from the source electrode 163 and crossing the gate line (125 in FIG. 7A) to define a pixel region (P in FIG. 7A). Form.
다음으로, 상기 소스 및 드레인전극(163, 165) 등이 포함된 기판(121)상에 전술한 벤조사이클로부텐(benzocyclobutene)등의 투명한 유기절연물질을 도포하여, 제 1 보호층(118)을 형성한 후 패턴하여, 상기 드레인전극(165)상부에 제 1 드레인 콘택홀(167)과 상기 화소영역(P)의 중앙에 식각홈(169)을 형성한다.Next, the first protective layer 118 is formed by coating a transparent organic insulating material such as benzocyclobutene as described above on the substrate 121 including the source and drain electrodes 163 and 165. After patterning, an etch groove 169 is formed in the center of the first drain contact hole 167 and the pixel region P on the drain electrode 165.
이때, 상기 식각홈(169)은 상기 제 1 보호층(118)과 경우에 따라서는 그 하부의 게이트 절연막(162)을 식각하여 형성한다.In this case, the etching groove 169 is formed by etching the first protective layer 118 and, in some cases, the gate insulating layer 162 thereunder.
다음으로, 상기 제 1 보호층(118)이 식각된 기판(121)의 상부에 인듐-틴-옥사이드(Indium-tin-oxide : ITO)와 인듐-징크-옥사이드(Indium-zinc-oxide : IZO)등의 투명 도전성금속을 증착하고 패턴하여, 상기 제 1 드레인 콘택홀(167)을 통해 드레인전극(165)과 접촉하고, 상기 식각홈(169)이 형성된 화소영역(P) 상에 연장된 투명전극(119a)을 형성한다.Next, indium-tin-oxide (ITO) and indium-zinc-oxide (IZO) are formed on the substrate 121 on which the first protective layer 118 is etched. A transparent conductive metal, such as a transparent conductive metal, is deposited and patterned to contact the drain electrode 165 through the first drain contact hole 167 and extend on the pixel region P where the etch groove 169 is formed. 119a is formed.
다음으로, 상기 투명전극(119a)이 형성된 기판(121)상에 전술한 절연물질을 증착 또는 도포하여 제 2 보호층(175)을 형성한 후 패턴하여, 상기 제 1 드레인 콘택홀(167) 상부의 제 2 보호층(175)의 일부를 식각하여 제 2 드레인 콘택홀(167')을 형성한다.Next, a second protective layer 175 is formed by depositing or applying the above-described insulating material on the substrate 121 on which the transparent electrode 119a is formed, and then patterning the upper portion of the first drain contact hole 167. A portion of the second protective layer 175 may be etched to form a second drain contact hole 167 ′.
다음으로, 상기 제 2 드레인 콘택홀(167')이 형성된 기판(121)상부에 반사율과 도전율이 뛰어난 알루미늄계 금속을 증착하고 패턴하여, 상기 식각홈(169)이 노출되도록 투과홀(123)을 포함하는 반사전극(119b)을 형성한다.Next, an aluminum metal having excellent reflectivity and conductivity is deposited and patterned on the substrate 121 on which the second drain contact hole 167 ′ is formed, and the transmission hole 123 is exposed to expose the etching groove 169. The reflective electrode 119b is formed.
이와 같은 방법으로 본 발명에 따른 반사투과형 액정표시장치용 어레이기판을 제작할 수 있다.In this manner, an array substrate for a reflective transmissive liquid crystal display device according to the present invention can be manufactured.
전술한 바와 같은 공정에서, 상기 투명전극과 반사전극이 상기 드레인전극과 접촉하는 방식은 이하, 도 9에 도시한 바와 같이 변형 할 수 있다.In the process as described above, the manner in which the transparent electrode and the reflective electrode contact the drain electrode can be modified as shown in FIG.
즉, 상기 투명전극(119a)과 반사전극(119b)이 별도로 상기 드레인전극(165)과 접촉하도록 구성할 수 있다.That is, the transparent electrode 119a and the reflective electrode 119b may be configured to separately contact the drain electrode 165.
상세히 설명하면, 상기 제 1 보호층(118)을 식각하는 공정 중, 상기 드레인전극(165) 상부에 제 1 드레인 콘택홀(181)을 형성하여, 상기 제 1 드레인 콘택홀(181)을 통해 상기 반사전극(119b)이 먼저 상기 드레인전극(165)과 전기적으로 접촉하도록 구성한다.In detail, during the process of etching the first protective layer 118, a first drain contact hole 181 is formed on the drain electrode 165 to pass through the first drain contact hole 181. The reflective electrode 119b is first configured to be in electrical contact with the drain electrode 165.
다음으로, 제 2 보호층(175)을 패턴하는 과정에서, 상기 제 1 드레인 콘택홀(181)과 소정간격 이격하여 상기 드레인전극(165) 상부에 제 2 드레인 콘택홀(183)을 형성한다.Next, in the process of patterning the second protective layer 175, the second drain contact hole 183 is formed on the drain electrode 165 by being spaced apart from the first drain contact hole 181 by a predetermined distance.
다음으로, 상기 투명전극(119a)을 패턴하는 공정에서, 상기 투명전극(119a)이 상기 제 2 드레인 콘택홀(183)을 통해 상기 드레인전극(165)과 전기적으로 접촉하도록 구성한다.Next, in the process of patterning the transparent electrode 119a, the transparent electrode 119a is configured to be in electrical contact with the drain electrode 165 through the second drain contact hole 183.
또한, 이하 도 10에 도시한 바와 같이, 상기 반사전극과 투명전극을 적층하여 형성할 수 있다.In addition, as shown in FIG. 10, the reflective electrode and the transparent electrode may be stacked.
이러한 구성에서, 드레인 콘택홀(185)을 통해 상기 드레인전극(165)과 접촉하는 반사전극(119b)과 투명전극(119a) 부분도 마찬가지로 적층되는 구성으로 상기 드레인전극(165)과 접촉한다.In this configuration, the reflective electrode 119b and the transparent electrode 119a which are in contact with the drain electrode 165 through the drain contact hole 185 are similarly stacked to contact the drain electrode 165.
전술한 바와 같은 구성에서, 상기 제 1 보호층(118)은 투과부(G)의 셀갭을유지하기 위한 식각홈(169)을 형성하기 위해 유기절연물질을 도포하여 형성한다.In the configuration as described above, the first protective layer 118 is formed by applying an organic insulating material to form an etching groove 169 for maintaining the cell gap of the transmission portion (G).
또한, 상기 투명전극(119a)과 반사전극(119b)이 동시에 같은 신호를 받는 구조이므로, 상기 제 1 보호층(118)과 제 2 보호층(175)의 구성 순서는 바뀌어도 무관하고, 상기 반사전극(119b)과 상기 투명전극(119a)의 구성순서를 바꾸어 형성하여도 동작특성엔 영향을 주지 않는다.In addition, since the transparent electrode 119a and the reflective electrode 119b simultaneously receive the same signal, the configuration order of the first protective layer 118 and the second protective layer 175 may be changed. Even if the configuration order of 119b and the transparent electrode 119a is changed, the operation characteristics are not affected.
이와 같은 방법으로, 본 발명에 따른 액정표시장치용 어레이 기판을 제작할 수 있다.In this manner, an array substrate for a liquid crystal display device according to the present invention can be manufactured.
이와 같이, 상기 도 5와 도 6에 도시한 상부기판과 전술한 하부기판을 합착하고 액정을 주입하여 도 4의 구성과 같이 본 발명에 따른 반사투과형 액정표시장치를 제작할 수 있다.As described above, the upper substrate illustrated in FIGS. 5 and 6 and the lower substrate described above may be bonded together and the liquid crystal may be injected to manufacture the reflective liquid crystal display device according to the present invention as shown in FIG. 4.
이하, 도 11a 내지 도 11c는 전술한 도 5또는 도 6의 구조를 가지는 반사투과형 액정표시장치에서의 빛 누설특성을 시험한 결과이다.Hereinafter, FIGS. 11A to 11C illustrate the light leakage characteristics of the reflective transmissive liquid crystal display device having the structure of FIG. 5 or 6.
도 11a는 종래의 제 1 예에 따른 구성으로서, 투과부에 위치한 하부 보호층에는 단차를 형성하고 상부에 단차가 없이 셀갭을 정의한 경우이고, 도 11b는 본 발명에 따른 구성으로서, 투과부에 구성된 보호층의 단차부위와 컬러필터층의 단차부위의 위치를 동일하게 하여 투과부의 위치를 정의한 경우이고, 도 11c는 본 발명에 따른 구성으로서, 상기 투과부에 구성된 보호층의 단차부위와 컬러필터층의 단차부위의 위치를 두영역의 교집합으로 투과부의 위치를 정의한 경우를 시뮬레이션한 그래프이다.FIG. 11A illustrates a structure according to a first example of the related art, in which a step gap is formed in a lower passivation layer positioned in a transmission part and a cell gap is defined without a step in the upper part. FIG. In this case, the position of the transmissive portion is defined by the same position of the stepped portion of the color filter layer and the position of the stepped portion of the protective layer and the color filter layer constituted according to the present invention. Is a graph simulating the case where the position of permeation part is defined by the intersection of two regions.
본 그래프는 전압을 인가하였을 경우 액정의 배향특성을 나타내었고, 상기액정의 배향에 따른 빛의 투과율을 파형(181a, 181b,181c)으로 나타내었다.This graph shows the alignment characteristics of the liquid crystal when voltage is applied, and the transmittance of light according to the alignment of the liquid crystal is represented by waveforms 181a, 181b, and 181c.
도시한 바와 같이, 도 11b와 도 11c의 경우처럼 상부기판에 단차가 있을 경우, 하부기판에만 단차가 있는 도 11a의 경우보다 상기 단차 부근에 나타나는 파형의 피크(peak)치가 더 작게 나타나는 것으로 보아 하부기판에만 단차를 정의한 구성의 단차부에서 발생하는 빛의 투과율이 훨씬 더 크다는 것을 알 수 있다.As shown in FIG. 11B and FIG. 11C, when there is a step in the upper substrate, the peak value of the waveform appearing near the step appears smaller than in the case of FIG. 11A where there is a step only in the lower substrate. It can be seen that the transmittance of light generated in the stepped portion of the configuration in which the step is defined only on the substrate is much larger.
따라서, 반사투과형 액정표시장치를 제작 할 때는 상기 투과부의 셀갭은 상부기판과 하부기판에 모두 단차를 형성하여 줌으로서 정의하는 것이 바람직하다는 결론을 얻었다.Therefore, it was concluded that when manufacturing the reflective transmissive liquid crystal display device, the cell gap of the transmissive part is preferably defined as zoom by forming a step on both the upper substrate and the lower substrate.
따라서, 전술한 본 발명에 따라 투과부와 반사부가 구성되는 액정표시장치를 제작하게 되면, 상기 투과모드 시 단차에 의한 빛샘현상을 방지하여, 투과모드와 반사모드 시 색차를 최소화 할 수 있다.Therefore, when the liquid crystal display device including the transmissive part and the reflecting part is manufactured according to the present invention described above, light leakage due to a step in the transmissive mode can be prevented, thereby minimizing the color difference in the transmissive mode and the reflective mode.
따라서, 본 발명에 따른 반사투과형 액정표시장치는 상기 투과홀 상부의 컬러필터층에 단차를 부여하고 이에 대응하는 위치의 보호층의 단차를 줄이는 방법으로 상기 투과부의 셀갭을 상기 반사부의 셀갭에 대하여 두배로 구성함으로써, 상기 하부 보호층의 높은 단차에 의해 반사부와 투과부의 경계에서 발생하는 빛누설을 방지할 수 있는 효과가 있다.Accordingly, the reflective transmissive liquid crystal display according to the present invention doubles the cell gap of the transmissive part with respect to the cell gap of the reflecting part by applying a step to the color filter layer above the transmission hole and reducing the step of the protective layer at a corresponding position. As a result, light leakage occurring at the boundary between the reflecting portion and the transmitting portion due to the high level of the lower protective layer can be prevented.
또한, 상기 컬러필터를 스핀코팅방법을 사용하여 도포함으로써, 상기 투과부와 반사부의 위치에 대응하는 컬러필터의 두께를 다르게 구성할 수 있으므로, 상기투과부와 반사부의 색차를 최소화 할 수 있으므로, 고품질의 반사투과형 액정표시장치를 제작할 수 있는 효과가 있다.In addition, by applying the color filter using a spin coating method, since the thickness of the color filter corresponding to the position of the transmissive part and the reflecting part can be configured differently, the color difference of the transmissive part and the reflecting part can be minimized. There is an effect to manufacture a transmissive liquid crystal display device.
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Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020000045989A KR20020012794A (en) | 2000-08-08 | 2000-08-08 | a method for fabricating transflective liquid crystal display device and the same |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020000045989A KR20020012794A (en) | 2000-08-08 | 2000-08-08 | a method for fabricating transflective liquid crystal display device and the same |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20020012794A true KR20020012794A (en) | 2002-02-20 |
Family
ID=19682349
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020000045989A KR20020012794A (en) | 2000-08-08 | 2000-08-08 | a method for fabricating transflective liquid crystal display device and the same |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR20020012794A (en) |
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