KR200172925Y1 - Multi-magnification vision system - Google Patents

Multi-magnification vision system Download PDF

Info

Publication number
KR200172925Y1
KR200172925Y1 KR2019970023395U KR19970023395U KR200172925Y1 KR 200172925 Y1 KR200172925 Y1 KR 200172925Y1 KR 2019970023395 U KR2019970023395 U KR 2019970023395U KR 19970023395 U KR19970023395 U KR 19970023395U KR 200172925 Y1 KR200172925 Y1 KR 200172925Y1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
subject
reflection mirror
photographing
partial reflection
magnification
Prior art date
Application number
KR2019970023395U
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR19990010086U (en
Inventor
허종욱
Original Assignee
윤종용
삼성전자주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 윤종용, 삼성전자주식회사 filed Critical 윤종용
Priority to KR2019970023395U priority Critical patent/KR200172925Y1/en
Publication of KR19990010086U publication Critical patent/KR19990010086U/en
Application granted granted Critical
Publication of KR200172925Y1 publication Critical patent/KR200172925Y1/en

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B21/00Microscopes
    • G02B21/36Microscopes arranged for photographic purposes or projection purposes or digital imaging or video purposes including associated control and data processing arrangements
    • G02B21/361Optical details, e.g. image relay to the camera or image sensor
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B21/00Microscopes
    • G02B21/0004Microscopes specially adapted for specific applications
    • G02B21/0016Technical microscopes, e.g. for inspection or measuring in industrial production processes
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B21/00Microscopes
    • G02B21/02Objectives
    • G02B21/025Objectives with variable magnification
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B21/00Microscopes
    • G02B21/02Objectives
    • G02B21/04Objectives involving mirrors
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B21/00Microscopes
    • G02B21/06Means for illuminating specimens
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/60Specific applications or type of materials
    • G01N2223/611Specific applications or type of materials patterned objects; electronic devices
    • G01N2223/6113Specific applications or type of materials patterned objects; electronic devices printed circuit board [PCB]

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Multimedia (AREA)
  • Studio Devices (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)

Abstract

피사체의 종류에 따라 서로 배율이 다른 복수의 촬영장치를 사용하여 피사체를 촬영하는 다중 배율 촬영 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a multi-magnification photographing system for photographing a subject using a plurality of photographing apparatuses having different magnifications depending on the type of subject.

본 다중 배율 촬영 시스템은, 서로 다른 배율을 가진 적어도 두 개의 촬영장치; 상기 하나의 촬영장치와 피사체 사이의 광경로 상에 설치되어 상기 피사체로부터 반사된 광의 일부를 상기 다른 촬영장치로 각각 반사하는 적어도 하나의 제1부분반사거울; 및 상기 제1부분반사거울로부터 반사된 광을 상기 다른 촬영장치로 각각 반사하는 적어도 하나의 전반사거울을 구비한다. 또한 상기 제1부분반사거울로부터 반사된 광의 일부를 상기 다른 촬영장치로 각각 반사하는 적어도 하나의 제2부분반사거울을 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The multi-magnification photographing system includes: at least two photographing apparatuses having different magnifications; At least one first partial reflection mirror installed on an optical path between the one photographing apparatus and the subject and reflecting a part of light reflected from the subject to the another photographing apparatus; And at least one total reflection mirror that reflects light reflected from the first partial reflection mirror to the other imaging device, respectively. The apparatus may further include at least one second partial reflection mirror which reflects a part of the light reflected from the first partial reflection mirror to the other photographing apparatus.

따라서 동일 피사체에 대하여 각기 다른 배율의 영상을 필요에 따라 용이하게 얻을 수 있게 하는 효과가 있다.Therefore, it is possible to easily obtain images of different magnifications for the same subject as needed.

Description

다중 배율 촬영 시스템Multi Magnification Shooting System

본 고안은 다중 배율 촬영 시스템에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 피사체의 종류에 따라 서로 배율이 다른 복수의 촬영장치를 사용하여 피사체를 촬영하는 다중 배율 촬영 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a multi-magnification photographing system, and more particularly, to a multi-magnification photographing system for photographing a subject using a plurality of photographing apparatuses having different magnifications depending on the type of subject.

일반적으로 제조공정에서 검사와 조립 등의 작업을 위하여 비젼 시스템이 사용되고 있다. 이러한 비젼 시스템은 피사체를 촬영하는 촬영시스템과 촬영된 화상을 처리, 분석하는 처리장치로 이루어진다. 이러한 촬영시스템에 있어서, 특히 인쇄회로기판과 같이 선명한 화상을 얻을 필요가 있는 피사체를 촬영하기 위하여는 피사체를 효과적으로 조명하는 것이 중요하다. 따라서 효과적인 조명을 하기 위하여 조명장치를 촬영장치에 결합한 구조의 촬영시스템이 사용되고 있다.In general, vision systems are used for inspection and assembly in manufacturing processes. Such a vision system includes a photographing system for photographing a subject and a processing device for processing and analyzing photographed images. In such a photographing system, it is particularly important to effectively illuminate a subject in order to photograph a subject which needs to obtain a clear image such as a printed circuit board. Therefore, in order to provide effective lighting, a photographing system having a structure combining a lighting device with a photographing device is used.

이와 같은 종래의 촬영시스템은 도 1에 도시되어 있다. 이러한 종래의 비젼시스템은 피사체(10)를 촬영하기 위하여 촬영장치(11)와, 피사체(10)를 조명하기 위한 수직조명장치(13)와, 촬영장치(11) 아래에 위치한 부분반사거울(14)로 이루어진다. 부분반사거울(14)은 수직조명장치(13)에서 방출되는 광을 피사체(10)에 반사시키며 피사체(10)에서 반사된 광을 촬영장치(11)로 전달하는 역할을 한다.Such a conventional imaging system is shown in FIG. The conventional vision system includes a photographing apparatus 11 for photographing a subject 10, a vertical illumination apparatus 13 for illuminating the subject 10, and a partial reflection mirror 14 positioned below the photographing apparatus 11. ) The partial reflection mirror 14 reflects the light emitted from the vertical illumination device 13 to the subject 10 and transmits the light reflected from the subject 10 to the photographing apparatus 11.

그러나, 이와 같은 종래의 촬영시스템은 단일의 촬영장치만을 사용하기 때문에 그 촬영장치에 내재된 배율 조정의 범위를 벗어난 배율로 촬영할 필요가 있을 때에는 단일의 촬영장치로서는 적정한 촬영에 한계가 있게 된다.However, since such a conventional imaging system uses only a single imaging apparatus, when it is necessary to shoot at a magnification outside the range of magnification adjustment inherent in the imaging apparatus, there is a limit to proper imaging as a single imaging apparatus.

특히 근래와 같은 다품종 소량 생산 방식의 생산 공정에 있어서는 다양한 피사체가 촬영 및 검사의 대상이 되므로 다양한 배율을 가진 촬영장치에 의한 촬영 및 검사의 필요성이 더욱 증대되고 있다. 따라서 검사 대상인 다양한 피사체에 따라 검사 중이던 촬영장치를 교체하여 피사체의 촬영을 위한 상응하는 배율의 촬영장치를 다시 설치해야 하는 불편함과 시간 지연이 있었다.In particular, in recent years, in the production process of a multi-product small quantity production method, since various subjects are subject to shooting and inspection, the need for shooting and inspection by a photographing apparatus having various magnifications is further increased. Therefore, there was an inconvenience and time delay in replacing the photographing apparatus under inspection according to various subjects to be inspected and reinstalling the photographing apparatus having a corresponding magnification for photographing the subject.

또한 정밀 검사 조립 등의 분야나 인쇄회로기판에서의 검사 조립 등과 같은 여러 분야에서 촬영 대상인 피사체가 미세화, 정밀화되고 고밀도화, 고집적화가 됨에 따라 기존의 단일 배율의 촬영장치만으로는 피사체를 촬영하는데 한계가 있게 되었다. 즉 통상의 배율로 촬영을 하는 도중에 피사체의 특정 부위만을 특별히 고배율로 촬영하여야 하는 경우에는, 작동중인 촬영장치를 고배율의 다른 촬영장치로 교체하여 촬영한 후에 다시 저배율로 촬영해야 하는 불편함과 시간 지연을 감수하지 않으려면 전체 피사체를 고배율의 촬영장치로 촬영해야 하므로 촬영 및 검사 시간이 많이 걸리는 문제점이 있었다. 또한 다양한 피사체의 검사 특성에 따른 적정 배율의 촬영장치로 촬영을 하지 못하고, 평균적인 피사체에 대하여 평균적인 배율로 촬영할 수밖에 없었기 때문에 그 검사의 정밀도가 떨어지는 문제점도 있었다.In addition, as the subjects to be photographed become finer, more precise, higher density, and more integrated in various fields such as inspection assembly and inspection assembly on a printed circuit board, the existing single-magnification photographing device has a limitation in photographing a subject. . In other words, if you need to shoot only a certain part of the subject at a special high magnification while shooting at a normal magnification, it is inconvenient and time lag to take a low magnification again after taking a picture by replacing an active photographing device with another high magnification device. In order not to take the photograph, the entire subject must be photographed with a high magnification photographing device, which takes a lot of shooting and inspection time. In addition, it was not possible to shoot with a photographing apparatus having an appropriate magnification according to the inspection characteristics of various subjects, and because there was no choice but to photograph at an average magnification for an average subject, there was a problem in that the accuracy of the inspection fell.

따라서 다품종 소량 생산 방식의 생산 공정에 있어서 다양한 피사체에 대하여 검사 공정 상에서 유연하게 대처할 수 있는 비젼시스템을 제공해야 할 필요성이 증대되어 왔다.Therefore, the necessity to provide a vision system that can flexibly cope with various subjects in the inspection process has been increased in the production process of the multi-product small quantity production method.

따라서, 본 고안은 전술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위하여 창안된 것으로서, 피사체의 종류에 따라 서로 배율이 다른 복수의 촬영장치를 사용하여 피사체를 촬영하는 다중 배율 촬영 시스템을 제공하는데 그 목적이 있다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a multi-magnification photographing system for photographing a subject by using a plurality of photographing apparatuses having different magnifications depending on the type of subject.

이와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 고안에 따른 다중 배율 촬영 시스템은, 서로 다른 배율을 가진 적어도 두 개의 촬영장치; 상기 하나의 촬영장치와 피사체 사이의 광경로 상에 설치되어 상기 피사체로부터 반사된 광의 일부를 상기 다른 촬영장치로 각각 반사하는 적어도 하나의 제1부분반사거울; 및 상기 제1부분반사거울로부터 반사된 광을 상기 다른 촬영장치로 각각 반사하는 적어도 하나의 전반사거울을 구비한다.In order to achieve the above object, the multi-magnification photographing system according to the present invention includes: at least two photographing apparatuses having different magnifications; At least one first partial reflection mirror installed on an optical path between the one photographing apparatus and the subject and reflecting a part of light reflected from the subject to the another photographing apparatus; And at least one total reflection mirror that reflects light reflected from the first partial reflection mirror to the other imaging device, respectively.

또한 상기 제1부분반사거울로부터 반사된 광의 일부를 상기 다른 촬영장치로 각각 반사하는 적어도 하나의 제2부분반사거울을 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The apparatus may further include at least one second partial reflection mirror which reflects a part of the light reflected from the first partial reflection mirror to the other photographing apparatus.

도 1은 종래 촬영 시스템의 개략 구성도이다.1 is a schematic configuration diagram of a conventional photographing system.

도 2는 본 고안의 일 실시예에 따른 다중 배율 촬영 시스템의 개략 구성도이다.2 is a schematic configuration diagram of a multi-magnification imaging system according to an embodiment of the present invention.

도 3은 본 고안의 다른 실시예에 따른 다중 배율 촬영 시스템의 개략 구성도이다.3 is a schematic configuration diagram of a multi-magnification imaging system according to another embodiment of the present invention.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

10...피사체 11...촬영장치10 ... Subject 11 ... Shooting device

13...수직조명장치 14...부분반사거울13 Vertical illumination unit 14 Partial reflection mirror

19...영상처리장치 20...수평조명장치19.Image processing unit 20 ... Horizontal lighting unit

100,200,300...촬영장치 111,112,113,312...부분반사거울100,200,300 ... photography 111,112,113,312 ... reflective mirror

211,311...전반사거울211,311 ...

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 고안에 따른 바람직한 실시예를 상세하게 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2와 도 3은 본 고안의 바람직한 실시예에 따른 다중 배율 촬영시스템을 나타낸다. 여기서 도 1 에서와 동일한 참조부호는 동일한 구성요소를 가리킨다.2 and 3 show a multi-magnification photographing system according to a preferred embodiment of the present invention. Here, the same reference numerals as in FIG. 1 denote the same components.

본 고안의 일 실시예에 따른 다중 배율 촬영 시스템은 도 2에 도시된 바와 같다.Multi-magnification imaging system according to an embodiment of the present invention is as shown in FIG.

여기에서 피사체(10)를 촬영하는 촬영장치(100)는 피사체(10)의 상부에 위치하며, 부분반사거울(112)은 피사체(10)와 촬영장치(100) 사이의 광경로 상에 설치된다. 이 부분반사거울(112)은 피사체(10)에서 반사된 광의 일부는 그대로 통과시켜 촬영장치에 입사시키고, 광의 다른 일부는 원하는 방향으로 반사시키는 역할을 한다. 이러한 부분반사거울(112)로서는 반사율이 대략 50%인 부분반사거울을 사용하는 것이 바람직하다. 그리고 촬영장치(100)와 배율이 다른 촬영장치(200)가 촬영장치에 인접하여 설치되어서, 부분반사거울(111) 중의 어느 하나에서 반사된 광이 전반사거울(211)로 향하도록 함으로써 전반사거울(211)에 의해 반사되어 촬영장치(200)로 입사된다. 이러한 전반사거울은 반사율이 거의 100%인 완전 반사 거울을 사용하는 것이 바람직하다. 결과적으로 동일 피사체(10)에 대하여 배율이 다른 두 개의 촬영장치로 그 영상이 입력되므로 필요에 따라 다른 배율의 영상 중의 하나를 선택할 수도 있고 두 가지 영상을 모두 다 사용할 수도 있다.Here, the photographing apparatus 100 for photographing the subject 10 is positioned above the subject 10, and the partial reflection mirror 112 is installed on an optical path between the subject 10 and the photographing apparatus 100. . The partial reflection mirror 112 passes a part of the light reflected from the subject 10 as it is and enters the photographing apparatus, and serves to reflect the other part of the light in a desired direction. As the partial reflection mirror 112, it is preferable to use a partial reflection mirror having a reflectance of approximately 50%. In addition, the photographing apparatus 200 having a different magnification from the photographing apparatus 100 is installed adjacent to the photographing apparatus so that the light reflected from any one of the partial reflection mirrors 111 is directed to the total reflection mirror 211. Reflected by 211, the light is incident on the photographing apparatus 200. It is preferable to use a totally reflective mirror having a reflectance of almost 100% for such a total reflection mirror. As a result, since the image is input to two photographing apparatuses having different magnifications for the same subject 10, one of the images having different magnifications may be selected, or both images may be used.

상기 촬영 시스템에는 부분반사거울(111)에 광을 출사하여 피사체(10)를 밝히기 위한 수직조명장치(13)를 더 포함하는 것이 바람직하다. 이러한 경우에는 부분반사거울이 적어도 2개가 필요할 것이며, 예컨대 피사체(10)에 인접한 하부측 부분반사거울(111)과, 촬영장치(100)에 인접한 상부측 부분반사거울(112)로 2개의 부분반사거울이 촬영장치(100)의 하부에 각각 설치될 수 있다. 수직조명장치(13)는 피사체(10)에 가장 가까운 부분반사거울(111)에 인접하도록 설치되어서 피사체(10)에 가장 가까운 하부측 부분반사거울(111)에 광을 출사한다. 하부측 부분반사거울(111)에 입사된 광의 일부는 피사체(10)로 반사되며, 피사체(10)에서 반사된 광은 다시 이 부분반사거울(111)을 통과하여 상부측 부분반사거울(112)로 입사된다. 상부측 부분반사거울(112)은 입사된 광의 일부를 촬영장치(100)로 통과시키고 광의 다른 일부는 전반사거울(211)로 반사한다. 전반사거울(211)에 입사된 광은 전반사거울(211)에 의하여 촬영장치(200)로 완전 반사된다. 상기의 수직조명장치(13)로는 적색의 LED 조명을 사용할 수도 있다.The photographing system may further include a vertical illumination device 13 for illuminating the subject 10 by emitting light to the partial reflection mirror 111. In this case, at least two partial reflection mirrors will be required. For example, two partial reflection mirrors may be formed by the lower partial reflection mirror 111 adjacent to the subject 10 and the upper partial reflection mirror 112 adjacent to the photographing apparatus 100. Mirrors may be installed in the lower portion of the photographing apparatus 100, respectively. The vertical illumination device 13 is installed to be adjacent to the partial reflection mirror 111 closest to the subject 10 to emit light to the lower side partial reflection mirror 111 closest to the subject 10. A part of the light incident on the lower partial reflection mirror 111 is reflected to the subject 10, and the light reflected from the subject 10 passes again through the partial reflection mirror 111 and the upper partial reflection mirror 112. Incident. The upper partial reflection mirror 112 passes a part of the incident light to the photographing apparatus 100 and reflects another part of the light to the total reflection mirror 211. The light incident on the total reflection mirror 211 is completely reflected by the total reflection mirror 211 to the photographing apparatus 200. As the vertical lighting device 13, a red LED light may be used.

그리고 피사체(10)의 보다 효과적인 조명을 위하여 피사체(10)의 상방 측부에서 광을 출사하여 상기 피사체를 밝히기 위한 측부조명장치(20)를 더 구비할 수도 있다.In addition, the side lighting device 20 may be further provided to illuminate the subject by emitting light from the upper side of the subject 10 for more effective illumination of the subject 10.

이와 같은 다중 배율 촬영 시스템은 특히 피사체(10)가 인쇄회로기판인 경우에 그 활용성이 크며, 기타의 일반적인 검사, 조립, 제조 공정 상의 비젼 시스템에 유용하게 활용될 수 있을 것이다. 전술한 바와 같은 다중 배율 촬영 시스템을 이용한 다중 배율 촬영 시스템을 구성하기 위하여 촬영장치(100,200)에서 촬영된 화상을 처리하는 처리장치(19)를 더 포함해야 한다. 이러한 처리장치(19)는 일반적으로 입력받은 정보를 처리하여 처리된 결과를 출력하는 컴퓨터 시스템으로 구성된다.Such a multi-magnification photographing system is particularly useful when the subject 10 is a printed circuit board, and may be useful for vision systems in other general inspection, assembly and manufacturing processes. In order to configure the multi-magnification photographing system using the multi-magnification photographing system as described above, a processing apparatus 19 for processing an image photographed by the photographing apparatus 100 or 200 should be further included. Such a processing device 19 is generally composed of a computer system that processes the received information and outputs the processed result.

본 고안의 다른 실시예에 따른 다중 배율 촬영 시스템을 도 3에 도시하였다. 여기에서는 도 2에 도시된 실시예에 촬영장치(300)를 더 추가하는 구조이다. 즉 촬영장치(100)와 촬영장치(200)사이에 각각 배율이 다른 촬영장치(300)를 더 포함한 구조이다. 또한 전반사거울(311)을 구비하여서 부분반사거울(113)에서 반사된 광을 촬영장치(300)로 반사하게 한다. 그리고 부분반사거울(312)이 전반사거울(311)과 촬영장치(300) 사이의 광경로 상에 위치되도록 하여 부분반사거울(312)을 통과한 광이 전반사거울(211)에 반사되게 함으로써 촬영장치(200)로 입력되게 한다. 따라서 촬영장치(100)는 피사체(10)로부터 직접 광이 입사되고, 촬영장치(200)는 전반사거울(211)에 의해 반사된 광이 입사되며, 촬영장치(300)는 전반사거울(311)에 의해 반사된 광이 입사됨으로써 동일 피사체에 대해 각기 다른 3중 배율의 촬영이 가능하게 된다.3 shows a multi-magnification imaging system according to another embodiment of the present invention. Here, the structure further adds the photographing apparatus 300 to the embodiment shown in FIG. That is, the structure further includes a photographing apparatus 300 having a different magnification between the photographing apparatus 100 and the photographing apparatus 200. In addition, a total reflection mirror 311 is provided to reflect the light reflected from the partial reflection mirror 113 to the photographing apparatus 300. Then, the partial reflection mirror 312 is positioned on the optical path between the total reflection mirror 311 and the photographing apparatus 300 so that the light passing through the partial reflection mirror 312 is reflected by the total reflection mirror 211 To be entered (200). Accordingly, light is directly incident on the photographing apparatus 100, the light reflected by the total reflection mirror 211 is incident on the photographing apparatus 200, and the photographing apparatus 300 enters the total reflection mirror 311. By reflecting the reflected light, different triple magnifications can be taken for the same subject.

이러한 촬영장치(300)를 도 3에 도시한 바와 달리 2개 이상을 설치함으로써 도 3에 도시된 3중 배율 촬영 시스템을 일반화시킨 다중화 촬영 시스템으로 만들 수 있다. 이 때에는 촬영장치(300) 하부측에 설치되는 부분반사거울(312)이 2개 이상이 되어서, 하나의 부분반사거울은 광이 다른 촬영장치의 하부측에 설치되는 부분반사거울(312)을 경유하여 전반사거울(211)로 향하게 하도록 하고, 다른 부분반사거울은 광이 다른 촬영장치의 하부측에 설치되는 전반사거울(311)에 반사되어 다른 촬영장치로 입력되게 하는 구조를 가진다.Unlike the one illustrated in FIG. 3, two or more such photographing apparatuses 300 may be provided to form a multiplexed photographing system in which the triple magnification photographing system illustrated in FIG. 3 is generalized. In this case, two or more partial reflection mirrors 312 are provided on the lower side of the photographing apparatus 300, and one partial reflection mirror passes through the partial reflection mirrors 312 in which light is installed on the lower side of the other imaging apparatus. To the total reflection mirror 211, and the other partial reflection mirror has a structure in which light is reflected by the total reflection mirror 311 installed at the lower side of the other photographing apparatus and inputted to another photographing apparatus.

이러한 다중화 촬영 시스템은 전술한 바와 같은 2중 배율 촬영 시스템의 일반화이므로 그 구성에 관한 설명은 전술한 바와 유사하다. 그리고 이러한 다중화 촬영 시스템에서도 전술한 바와 같은 조명장치들(13,20)을 구비할 수 있으며, 피사체(10)로서 인쇄회로기판을 대상으로 할 수 있다. 또한 촬영된 화상을 처리하는 처리장치(19)를 더 구비함으로써 다중 배율 촬영 시스템을 구성할 수 있다. 그리고 이러한 처리장치(19)에 대상 피사체의 특성에 따라 특정 배율의 촬영장치를 선택하여 여기에서 입력된 영상을 처리할 수 있도록 함으로써 전체 검사 등의 공정을 전 자동화할 수도 있다.Since the multiplexing imaging system is a generalization of the dual magnification imaging system as described above, the description of the configuration is similar to that described above. In the multiplexing imaging system, the lighting apparatuses 13 and 20 may be provided as described above, and the printed circuit board may be used as the subject 10. Furthermore, by further providing the processing apparatus 19 which processes a picked-up image, a multi-magnification imaging system can be comprised. In addition, the processing apparatus 19 may select a photographing apparatus having a specific magnification according to the characteristics of the target subject to process the image inputted therein, thereby fully automating a process such as an entire inspection.

이와 같이 구성된 본 고안에 따른 다중 배율 촬영 시스템의 작용을 도 2를 참조하여 설명하면 다음과 같다.The operation of the multi-magnification photographing system according to the present invention configured as described above will be described with reference to FIG. 2.

촬영 대상인 피사체(10)로부터 반사된 광은 부분반사거울(111)을 통과하여 촬영장치(100)에 입사되며, 그 중의 일부의 광은 부분반사거울(111)에 의해 반사되어 전반사거울(211)로 향한다. 전반사거울(211)에 의해 반사된 광은 촬영장치(200)로 완전 반사가 되어 촬영장치(200)로 입사가 된다. 따라서 동일 피사체(10)에 대하여 배율이 다른 2개의 영상을 동시에 촬영하는 것이 가능하다. 그러므로 피사체(10)촬영하는 필요성에 따라 선택적으로 다른 배율의 영상을 선택 촬영하는 것이 가능하며, 이처럼 선택된 적정 배율의 영상을 영상 처리장치에 입력하여 검사하는 등의 비젼 시스템에 활용할 수 있다.Light reflected from the subject 10 to be photographed passes through the partial reflection mirror 111 and is incident on the photographing apparatus 100, and part of the light is reflected by the partial reflection mirror 111 to reflect the total reflection mirror 211. Headed to. The light reflected by the total reflection mirror 211 is completely reflected by the photographing apparatus 200 and is incident on the photographing apparatus 200. Therefore, it is possible to simultaneously photograph two images having different magnifications for the same subject 10. Therefore, it is possible to selectively photograph images of different magnifications according to the necessity of capturing the subject 10, and can be utilized in vision systems such as inputting and inspecting images of the appropriate magnifications selected to the image processing apparatus.

도 3에 도시된 3중 배율 촬영 시스템이나 이를 일반화한 다중 배율 촬영 시스템도, 그 작용에 있어서는 기본적으로 전술한 바와 같은 2중 배율 촬영 시스템과 동일하므로 설명을 생략한다.The triple magnification photographing system shown in FIG. 3 or the multi-magnification photographing system generalizing the same is basically the same as the above-mentioned double magnification photographing system, and thus description thereof is omitted.

이상 실시예를 들어 본 고안에 대해 설명하였으나, 본 고안은 상술한 실시예에 한정되는 것은 아니며, 본 고안의 기술사상 및 범위 내에서의 각종 변경 및 개량이 가능하다.Although the present invention has been described with reference to the above embodiments, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications and improvements within the spirit and scope of the present invention are possible.

이상에서 살펴본 바와 같이 본 고안에 따른 다중 배율 촬영 시스템은 동일 피사체에 대하여 각기 다른 배율의 영상을 필요에 따라 용이하게 얻을 수 있게 하는 효과가 있다. 즉 다양한 정밀도와 크기를 가진 피사체를 적합한 배율을 가진 촬영장치에 의해 촬영함으로써 필요한 만큼의 정밀도로 촬영하여 효율적으로 검사 처리를 진행하여 검사 시간을 단축하는 효과가 크다.As described above, the multi-magnification photographing system according to the present invention has an effect of easily obtaining images of different magnifications for the same subject as needed. In other words, by photographing a subject having various precisions and sizes with a photographing apparatus having a suitable magnification, the inspection process is efficiently performed by capturing the object with as much precision as necessary and reducing the inspection time.

또한 종래의 단일 배율 촬영장치 등의 교체에 소요되는 공수와 시간 지연을 절감하는 효과가 있을 뿐만 아니라, 다품종 소량 생산 방식의 생산 공정에 있어서 다양한 피사체에 대하여 검사 공정 상에서 유연하게 대처할 수 있는 전 자동 비젼 시스템을 용이하게 실현할 수 있는 장점이 있다.In addition, it reduces the labor and time delay required for replacement of the conventional single magnification photographing apparatus, etc., and is a fully automatic vision that can flexibly cope with various subjects in the inspection process in the production process of the multi-variate small quantity production method. The advantage is that the system can be easily realized.

Claims (6)

서로 다른 배율을 가진 적어도 두 개의 촬영장치;At least two imaging devices having different magnifications; 상기 하나의 촬영장치와 피사체 사이의 광경로 상에 설치되어 상기 피사체로부터 반사된 광의 일부를 상기 다른 촬영장치로 각각 반사하는 적어도 하나의 제1부분반사거울; 및At least one first partial reflection mirror installed on an optical path between the one photographing apparatus and the subject and reflecting a part of light reflected from the subject to the another photographing apparatus; And 상기 제1부분반사거울로부터 반사된 광을 상기 다른 촬영장치로 각각 반사하는 적어도 하나의 전반사거울;을 구비하는 다중 배율 촬영 시스템.And at least one total reflection mirror for reflecting light reflected from the first partial reflection mirror to the other imaging device, respectively. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 촬영장치 중의 적어도 하나에서 촬영된 화상을 처리하는 처리장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 다중 배율 촬영 시스템.And a processing apparatus for processing an image captured by at least one of the photographing apparatuses. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 광을 조사하는 적어도 하나의 조명장치; 및At least one lighting device for irradiating light; And 상기 하나의 촬영장치와 피사체 사이의 광경로 상에 설치되어 상기 조명장치로부터 조사된 광을 상기 피사체로 반사시키고, 상기 피사체로부터 반사된 광은 통과시키는 적어도 하나의 부분반사거울을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 다중 배율 촬영 시스템.And at least one partial reflection mirror installed on an optical path between the one photographing apparatus and the subject to reflect light emitted from the illumination apparatus to the subject, and to pass the light reflected from the subject. Multi-magnification shooting system. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 피사체의 상방측부에 설치되어 상기 피사체로 광을 조사하는 조명장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 다중 배율 촬영 시스템.And a lighting device installed at an upper side of the subject to irradiate light to the subject. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 피사체는 인쇄회로기판인 것을 특징으로 하는 다중 배율 촬영 시스템.And the subject is a printed circuit board. 제1항 내지 제5항 중의 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 5, 상기 제1부분반사거울로부터 반사된 광의 일부를 상기 다른 촬영장치로 각각 반사하는 적어도 하나의 제2부분반사거울을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 다중 배율 촬영 시스템.And at least one second partial reflection mirror for reflecting a part of the light reflected from the first partial reflection mirror to the other photographing apparatus, respectively.
KR2019970023395U 1997-08-27 1997-08-27 Multi-magnification vision system KR200172925Y1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR2019970023395U KR200172925Y1 (en) 1997-08-27 1997-08-27 Multi-magnification vision system

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR2019970023395U KR200172925Y1 (en) 1997-08-27 1997-08-27 Multi-magnification vision system

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR19990010086U KR19990010086U (en) 1999-03-15
KR200172925Y1 true KR200172925Y1 (en) 2000-03-02

Family

ID=19508795

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR2019970023395U KR200172925Y1 (en) 1997-08-27 1997-08-27 Multi-magnification vision system

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR200172925Y1 (en)

Also Published As

Publication number Publication date
KR19990010086U (en) 1999-03-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5153668A (en) Optical inspection apparatus and illumination system particularly useful therein
US6667762B1 (en) Miniature inspection system
TWI298097B (en) Method and apparatus for simultaneous 2-d and topographical inspection
US6437312B1 (en) Illumination for inspecting surfaces of articles
KR101376632B1 (en) Image measuring device
KR200172925Y1 (en) Multi-magnification vision system
KR20020024308A (en) Inspection device for components
JP2005188929A (en) Workpiece inspection apparatus
KR101897043B1 (en) Optical inspection apparatus for performing automatic illumination processing and optical inspection method using the apparatus
US6177954B1 (en) Miniature inspection system
US4123777A (en) Color television camera having an auxiliary illumination source
JPS59129810A (en) Focusing detecting device
AU1574595A (en) Device for imaging a three-dimensional object
US6757007B1 (en) Modular electronic image-capturing system with dual functional modes
GB2222266A (en) Light emission for focus detection
KR100200213B1 (en) Test unit for component of pcb
KR0139970Y1 (en) Image gain device
KR100576392B1 (en) Apparatus for vision inspection
JP2011160133A (en) Wide dynamic range imaging apparatus
KR0176538B1 (en) Inspection method &amp; apparatus of printed circuit board
JP2942278B2 (en) Reflecting illumination type projecting device
JPH11272854A (en) Method and device for visual recognition
US5229822A (en) Photometric unit for photographic projector-printer assembly
JPH08327326A (en) Illumination device
JP2000131781A (en) Transmissive illumination device

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
REGI Registration of establishment
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20071129

Year of fee payment: 9

LAPS Lapse due to unpaid annual fee