KR20010047842A - Base coating composition for forming lcd reflector having diffusing properties - Google Patents

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KR20010047842A
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Abstract

PURPOSE: An LCD reflective layer base coating compound having a diffusing function is to enhance an optical efficiency and the luminance of an entire screen. CONSTITUTION: The LCD reflective layer base coating compound comprises a silica dispersoid liquid, a silica matrix solution and a thermoplastic acrylates-based polymer solution. The silica dispersoid liquid is about 50 to 70 weight percent. The silica matrix solution is about 15 to 30 weight percent. The thermoplastic acrylates-based polymer solution is about 15 to 30 weight percent. The silica dispersant includes a fine silica, a silica disperant and a solvent. The fine silica is about 1 to 10 weight percent. The silica dispersant is about 0.01 to 1 weight percent. The solvent is about 89 to 98.99 weight percent. The silica matrix solution includes a siloxane-based polymer binder solution and a solvent.

Description

디퓨징 기능을 갖는 엘씨디 반사층 베이스 코팅 조성물{BASE COATING COMPOSITION FOR FORMING LCD REFLECTOR HAVING DIFFUSING PROPERTIES}LCD reflective layer base coating composition having a diffusing function {BASE COATING COMPOSITION FOR FORMING LCD REFLECTOR HAVING DIFFUSING PROPERTIES}

[산업상 이용분야][Industrial use]

본 발명은 반사형 액정표시소자(Reflective Liquid Crystal Display; 이하 LCD)의 제조에 사용되는 광 디퓨징(diffusing) 기능을 갖는 LCD 반사층 베이스 코팅 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to an LCD reflective layer base coating composition having a light diffusing function used in the manufacture of a reflective liquid crystal display (LCD).

[종래 기술][Prior art]

최근 워드프로세서, 랩탑형 퍼스날 컴퓨터, 포켓형 테레비젼 등에 액정표시소자의 응용이 급속히 진행되고 있다. 이와 같은 액정표시소자에 있어서 컬러 필터(color filter)층, 편광판, 도전층의 흡수에 의해 광손실이 있거나 액정표시소자 광투과부의 개구율(화상소자-pixel size 대비 빛이 투과하는 비율)이 적은 경우 콘트라스트가 높은 화상을 얻기 위해서 하부 기판에서 백 라이트(back light)에 의한 광의 공급이 필요하고 이 때문에 소비전력이 클 수 밖에 없었다.Recently, the application of liquid crystal display devices to word processors, laptop personal computers, pocket TVs, and the like is rapidly progressing. In such a liquid crystal display device, when there is light loss due to absorption of a color filter layer, a polarizing plate, or a conductive layer, or the aperture ratio (the ratio of light transmission to the image element pixel size) is small in the liquid crystal display device. In order to obtain a high contrast image, supply of light by a back light from the lower substrate is required, and power consumption is inevitably high.

이렇게 큰 소비전력을 줄이기 위한 방안으로 하부기판의 층간절연막 위에 금속을 증착시키므로써 외광을 반사시켜 백 라이트 대신 이용되는 반사형 액정표시소자가 제안된 바 있다. 특히 액정표시소자 중에서 외부로부터 입사된 광을 반사시켜 표시하는 반사형 액정표시소자는 외부에서 입사한 광을 반사시켜 화상을 표시하는 것으로, 백 라이트를 사용하지 않아 소비 전력이 작고, 박형이며 경량화가 가능하므로 주목받고 있다.In order to reduce such a large power consumption, a reflective liquid crystal display device, which is used in place of a backlight by reflecting external light by depositing a metal on an interlayer insulating film of a lower substrate, has been proposed. In particular, a reflective liquid crystal display device which reflects and displays light incident from the outside of the liquid crystal display device displays an image by reflecting light incident from the outside. The power consumption is small, thin, and lightweight due to no backlight. It is attracting attention because it is possible.

이러한 반사형 액정표시소자의 일반적인 구성은 도 6에 나타낸 것과 같이 상호 대향되어서 일정한 간격으로 1 쌍이 배치된 상,하부 기판(2)(3)을 포함하고, 상부기판(2)의 하면에는 컬러필터층(6)이 형성되며, 하부기판(3)의 상면에는 반사층(4)이 적층된다. 또한 컬러필터층(6)이 형성된 상부기판(2)과 반사층(4)이 형성된 하부기판(3)의 내측면에는 투명전극(7)(7')과 절연층(5)(5') 및 배향층(8)(8')이 순차적으로 적층된다. 이렇게 형성된 양 기판(2)(3)은 도시하지 않은 실링 수단에 의해 어셈블리되고, 그 사이 공간에 액정(1)을 주입한 후 밀봉되어진다.A general configuration of such a reflective liquid crystal display device includes upper and lower substrates 2 and 3 arranged in pairs at regular intervals to face each other as shown in FIG. 6, and a color filter layer on the lower surface of the upper substrate 2. 6 is formed, and the reflective layer 4 is laminated on the upper surface of the lower substrate 3. In addition, the inner surface of the upper substrate 2 on which the color filter layer 6 is formed and the lower substrate 3 on which the reflective layer 4 is formed is provided with transparent electrodes 7, 7 ′, insulating layers 5, 5 ′, and alignment. Layers 8 and 8 'are stacked sequentially. Both the substrates 2 and 3 thus formed are assembled by sealing means (not shown), and the liquid crystal 1 is injected into the space therebetween and then sealed.

상부기판(2)의 외부에는 편광판(10)이 부착되며, 특히 STN-LCD의 경우에는 상부기판(2)의 하면에 리타데이션 필름(9)이 추가로 설치될 수 있다. 또한 상기 컬러필터층(6)은 하부기판(3)의 반사층(4) 상면에 형성될 수도 있다.The polarizing plate 10 is attached to the outside of the upper substrate 2, and in particular, in the case of STN-LCD, a retardation film 9 may be additionally installed on the lower surface of the upper substrate 2. In addition, the color filter layer 6 may be formed on the upper surface of the reflective layer 4 of the lower substrate 3.

이렇게 형성된 반사형 액정표시소자는 인가 전압이 온(ON) 상태일 때 액정물질이 상전이됨에 따라 입사된 외부 광을 축방향으로 통과시키고, 반사층(4)을 통하여 되반사시켜 전면으로 출사하게 하므로 화상을 표시한다.The reflective liquid crystal display device formed as described above passes the incident external light in the axial direction as the liquid crystal material is phase shifted when the applied voltage is turned on, and reflects it back through the reflective layer 4 so that the image is emitted to the front surface. Is displayed.

그러나 종래의 반사형 액정표시소자는 TN, STN 방식에서 모두 편광판(10)에 의한 직선 편광으로 외부에서 입사된 자연광의 대략 50 % 만을 화상 표시에 활용하게 되므로 광 이용 효율이 저조한 문제점이 있다.However, in the conventional reflective liquid crystal display device, since only about 50% of the natural light incident from the outside by linearly polarized light by the polarizing plate 10 is used in both TN and STN methods, there is a problem of low light utilization efficiency.

이러한 문제점을 개선하기 위한 종래 예로서, 일본공개 특허공보 평4-243226호에는 반사층(4) 자체가 광 확산 및 산란효과를 갖도록 하여 광 이용 효율을 향상시킨 반사형 액정표시소자가 소개되어 있다. 여기에 소개된 반사형 액정표시소자는 기재의 한쪽 면에 광 감광성수지를 도포하고, 포토마스크를 이용하여 패터닝(patterning)함으로써 동일 형상을 갖는 다수의 미세한 철(凸)부를 형성하며, 상기 철부를 열처리하고 그 상부 전면에 반사막을 적층한 반사층(4)을 형성한다.As a conventional example for improving such a problem, Japanese Laid-Open Patent Publication No. Hei 4-243226 introduces a reflection type liquid crystal display device in which the reflection layer 4 itself has light diffusion and scattering effects, thereby improving light utilization efficiency. The reflective liquid crystal display device introduced here forms a plurality of fine iron portions having the same shape by coating a photosensitive resin on one surface of a substrate and patterning the photomask using a photomask. The heat treatment is performed to form a reflective layer 4 in which a reflective film is laminated on the entire upper surface.

또한 일본공개 특허공보 평9-258219호에는 광을 반사하는 면에 요철을 형성하고, 상기 요철에 대한 접선의 경사각이 2°미만으로 된 영역의 면적과 기판 면적의 비율을 20 % 이상에서 60 % 이하로 되게 한 반사층(4) 구조를 갖는 반사형 액정표시소자가 소개되었다.In addition, Japanese Patent Application Laid-open No. Hei 9-258219 discloses an unevenness on the surface that reflects light, and the ratio of the area of the area where the inclination angle of the tangent to the unevenness is less than 2 ° and the area of the substrate is 20% to 60%. A reflection type liquid crystal display device having a reflection layer 4 structure made to be described below has been introduced.

이외에도 편광판(10)을 이용하지 않고 자연광 전체를 유효하게 이용하는 방법들도 제안되었다. 이러한 예로는 상전이형 게스트-호스트 방식이 저널(D.L.White and G.N.Taylor, J.Appl.Phys. 45, 4718, 1974)에 기재되어 있으며 이 방법은 전계에 의해 콜레스트릭 네마틱 상 천이 현상을 이용하고 있다. 이렇게 편광판(10)을 사용하지 않고 밝게 표시하기 위해서는 여러 각도의 입사광에 대해 표시화면의 수직방향으로 산란된 광의 강도가 증가될 필요가 생겼으며 이를 위해 반사층(4)을 사용하게 되었다.In addition, methods for effectively using the entire natural light without using the polarizing plate 10 have also been proposed. An example of this phase transition guest-host approach is described in a journal (DLWhite and GNTaylor, J. Appl. Phys. 45, 4718, 1974), which utilizes a Cholesteric nematic phase transition by electric field. have. In order to display brightly without using the polarizing plate 10, it is necessary to increase the intensity of light scattered in the vertical direction of the display screen with respect to incident light of various angles. For this purpose, the reflective layer 4 is used.

그러나 이러한 반사층(4)은 연마제에 의해 표면 부식이 일어나 요철(凹凸)부를 형성하게 된다. 이 경우 이 요철부위가 균일하지 못하고 재현성이 없기 때문에 이를 보완하여 균일한 요철 형태를 지닌 반사층(4)을 제공하기 위한 방법이 제시되었는데, 일본공개 특허공보 평10-319422호에는 포토리소그래피로 요철부를 형성시킨 유기절연막 위에 반사전극을 대응시키는 방법을 제시하고 있다.However, the surface of the reflective layer 4 is caused by the abrasive to form the uneven portion. In this case, since the uneven part is not uniform and not reproducible, a method for providing a reflective layer 4 having a uniform uneven shape has been proposed. Japanese Unexamined Patent Publication No. 10-319422 discloses the uneven part by photolithography. A method of associating a reflective electrode on the formed organic insulating film is proposed.

또한 일본공개 특허공보 평10-319391호에는 먼저 반사층(4) 위에 투명하고 감광성을 지닌 제1수지막을 형성시킨 후 포토리소그래피에 의해 패터닝 처리된 랜덤하게 분산된 원주형의 융기를 형성한다. 이 후 연화점 또는 융점 이상으로 열처리를 실시하면 원주형에서 반구형으로 리플로우(reflow) 되면서 변형하게 된다. 이렇게 형성된 제1수지막은 고굴절률을 지니고 있으며, 이 위에 저굴절률의 제2수지막으로 오버코트제를 사용 평탄화시켜 두 계면간의 굴절률 차를 이용하여 광 산란율을 높이는 광 확산 반사층을 사용하는 방법이 제시되어 있다. 여기서는 제1수지막이 저굴절률을 가지고 제2수지막이 고굴절률을 지녀도 동등한 효과를 얻을 수 있다고 기재되어 있다.Also, Japanese Patent Application Laid-open No. Hei 10-319391 first forms a transparent and photosensitive first resin film on the reflective layer 4, and then forms randomly distributed columnar bumps patterned by photolithography. After the heat treatment above the softening point or melting point is deformed while reflow (circular to hemispherical). The first resin film thus formed has a high refractive index, and a method of using a light diffusing reflection layer to increase the light scattering rate by using a refractive index difference between two interfaces by planarizing an overcoat agent as a second refractive film having a low refractive index is proposed. have. It is described here that the same effect can be obtained even if the first resin film has a low refractive index and the second resin film has a high refractive index.

그러나 상기한 반사형 액정표시소자들은 광 이용 효율을 개선하고 있기는 하지만, 요철부의 제조 공정이 복잡하고 그에 따른 제품 불량 발생률이 높으며, 별도의 층을 추가하게 되므로 제품의 박형화를 이루지 못하는 문제점이 있다. 또한 종래 반사형 액정표시소자에서는 편광판(10)의 상부 혹은 하부에 디퓨저를 설치하여 광 이용 효율을 높이기도 하지만 그 효과가 미약한 실정이며, 상기에서 설명한 바와 같이 그 디퓨저를 제조하는 공정도 복잡하고 별도의 층을 형성하게 되므로 역시 제품의 박형화가 어렵다.However, although the above-described reflective liquid crystal display devices improve the light utilization efficiency, the manufacturing process of the uneven portion is complicated, the product defect rate is high, and additional layers are added, thereby preventing thinning of the product. . In addition, in the conventional reflective liquid crystal display device, a diffuser is installed on the upper or lower portion of the polarizing plate 10 to increase light utilization efficiency, but the effect is weak. As described above, the process of manufacturing the diffuser is complicated. Forming a separate layer is also difficult to thin the product.

따라서 광 이용 효율을 개선하면서도 제조공정의 단순화 및 제조비용의 저감화와 같은 바람직한 이점 중 어느 하나의 이점을 희생시키지 않으면서도, 반사형 액정표시소자를 제조할 수 있는 방법에 대한 요구는 계속되고 있다.Accordingly, there is a continuing need for a method of manufacturing a reflective liquid crystal display device without sacrificing any one of the advantages of improving the light utilization efficiency and simplifying the manufacturing process and reducing the manufacturing cost.

따라서 본 발명은 상기 종래 기술의 문제점을 고려하여,Therefore, the present invention in consideration of the problems of the prior art,

반사형 액정표시소자의 반사층(4)이 자체적으로 광 디퓨징 기능을 갖도록 요철면을 형성할 수 있는 LCD 반사층 베이스 코팅 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide an LCD reflective layer base coating composition capable of forming a concave-convex surface such that the reflective layer 4 of the reflective liquid crystal display device itself has a light diffusing function.

본 발명의 다른 목적은 액정표시소자에서 제품의 박형화를 실현하고 광 이용 효율을 향상시킬 수 있는 LCD 반사층 베이스 코팅 조성물을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide an LCD reflective layer base coating composition capable of realizing a thinner product and improving light utilization efficiency in a liquid crystal display device.

본 발명의 다른 목적은 코팅 조성물에 실리카 비이드를 균일하게 분산 분포시켜 광 디퓨징 효과가 우수하면서도, 막 형성성이 우수하고, 보관 안정성이 우수한 반사형 액정표시소자의 LCD 반사층 베이스 코팅 조성물을 제공하는 것이다.It is another object of the present invention to provide an LCD reflective layer base coating composition of a reflective liquid crystal display device having excellent light diffusing effect, excellent film formation, and excellent storage stability by uniformly dispersing and dispersing silica beads in a coating composition. It is.

도 1은 LCD 하부기판에 본 발명의 베이스 코팅 조성물이 코팅 경화되어 요철을 갖는 층을 형성한 예를 모식적으로 나타낸 단면도이다.1 is a cross-sectional view schematically showing an example in which the base coating composition of the present invention is coated and cured on an LCD lower substrate to form a layer having irregularities.

도 2는 도 1의 LCD 하부기판에 본 발명의 베이스 코팅 조성물이 코팅 경화되어 요철을 갖는 층 위에 금속이 증착된 반사층을 형성한 예를 모식적으로 나타낸 단면도이다.FIG. 2 is a cross-sectional view schematically illustrating an example in which the base coating composition of the present invention is coated and cured on the LCD lower substrate of FIG. 1 to form a reflective layer on which a metal is deposited on a layer having irregularities.

도 3은 본 발명의 실리카 입자(2차 입자)를 모식적으로 나타낸 것이다.Fig. 3 schematically shows silica particles (secondary particles) of the present invention.

도 4는 LCD 하부기판에 본 발명의 베이스 코팅 조성물이 코팅 경화되었을 때 나타나는 요철면을 모식적으로 나타낸 단면도이다.4 is a cross-sectional view schematically showing an uneven surface appearing when the base coating composition of the present invention is coated and cured on a lower LCD substrate.

도 5는 본 발명의 조성물에 따르는 반사층 베이스 조성물층을 포함하는 반사형 LCD의 일례를 모식적으로 나타낸 단면도이다.5 is a cross-sectional view schematically showing an example of a reflective LCD including a reflective layer base composition layer according to the composition of the present invention.

도 6은 종래의 반사형 LCD의 일례를 모식적으로 나타낸 단면도이다.6 is a cross-sectional view schematically showing an example of a conventional reflective LCD.

[과제를 해결하기 위한 수단][Means for solving the problem]

본 발명은 상기 목적을 달성하기 위하여,The present invention to achieve the above object,

a) 실리카 분산액;a) silica dispersions;

b) 실리카질 매트릭스 용액; 및b) a siliceous matrix solution; And

c) 열경화 가교형 아크릴레이트계 폴리머 용액c) thermosetting crosslinking acrylate polymer solution

을 포함하는 디퓨징 기능을 갖는 LCD 반사층 베이스 코팅 조성물을 제공한다.It provides an LCD reflective layer base coating composition having a diffusing function comprising a.

[작 용][Action]

이하에서는 도면을 중심으로 본 발명을 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described with reference to the drawings.

본 발명자들은 반사형 액정표시소자에서 광 이용 효율을 향상시키기 위해 광 디퓨징 기능을 갖도록 베이스 코팅 조성물층(11)을 하부기판(3)과 반사층(4) 사이에 형성시키는 것이 바람직하다는 것에 주목하였다.The present inventors noted that it is preferable to form the base coating composition layer 11 between the lower substrate 3 and the reflective layer 4 to have a light diffusing function in order to improve the light utilization efficiency in the reflective liquid crystal display device. .

도 5는 본 발명의 LCD 반사층 베이스 코팅 조성물을 반사형 액정표시소자에 적용한 일례이다. 도 6에 나타낸 종래의 반사형 액정표시소자의 하부기판(3)과 반사층(4) 사이에 요철면을 갖는 코팅 조성물층(11)을 형성하여 이 조성물층(11) 위에 증착 적층되는 반사층(4)이 요철면을 갖게되어 디퓨징 기능을 갖도록 한 것이다.5 is an example in which the LCD reflective layer base coating composition of the present invention is applied to a reflective liquid crystal display device. 6 is formed between the lower substrate 3 and the reflective layer 4 of the conventional reflective liquid crystal display device shown in FIG. 6 by forming a coating composition layer 11 having an uneven surface and being deposited and deposited on the composition layer 11. ) Has an uneven surface to have a diffusing function.

더욱 상세하게는 도 1에 나타낸 바와 같이 LCD 하부기판(3)에 본 발명의 베이스 코팅 조성물이 코팅되어 요철이 있는 베이스 코팅 조성물층(11)을 형성하게 된다. 그리고 도 2에 나타낸 바와 같이 이 베이스 코팅 조성물층(11) 위에 반사층(4)이 형성된다.More specifically, as shown in FIG. 1, the base coating composition of the present invention is coated on the LCD lower substrate 3 to form a base coating composition layer 11 having irregularities. As shown in FIG. 2, the reflective layer 4 is formed on the base coating composition layer 11.

다시 말하면 본 발명은 반사형 LCD의 반사층(4)을 제조함에 있어서, 먼저 본 발명의 코팅 조성물이 LCD의 하부기판(3)에 피착되어 경화된 후에 울퉁불퉁한 요철면을 형성하게 된다. 이러한 코팅 조성물의 요철면 위에 금속 등을 증착시켜 반사층(4)이 형성되는데, 이 반사층(4)은 코팅 조성물의 요철면과 같은 형태로 요철면을 형성하게 되고, 이러한 요철면을 갖는 반사층(4)은 광 디퓨징 기능을 갖게 되는 것이다.In other words, in the present invention, in manufacturing the reflective layer 4 of the reflective LCD, first, the coating composition of the present invention is deposited on the lower substrate 3 of the LCD and cured to form an uneven surface. The reflective layer 4 is formed by depositing a metal or the like on the uneven surface of the coating composition, and the reflective layer 4 forms the uneven surface in the same shape as the uneven surface of the coating composition, and the reflective layer 4 having such uneven surface ) Has an optical diffusing function.

그러므로 반사층(4)의 요철면의 베이스를 형성하는 본 발명의 코팅 조성물은 조성물이 포함하고 있는 실리카 비드의 입자 크기와 조성물 내 함량이 반사층(4)의 광 디퓨징 기능을 좌우하는 요소가 된다.Therefore, the coating composition of the present invention, which forms the base of the uneven surface of the reflective layer 4, is a factor in which the particle size and content in the composition of the silica beads contained in the composition influence the light diffusing function of the reflective layer 4.

특히 하부기판(3)의 표면에 실리카질 매트릭스와 열경화 가교형 아크릴레이트 폴리머로 구성된 막 형성성분에 광 디퓨징용 비이드, 즉 실리카 미립자가 균일하게 분산된 코팅층(11)이 제공된다. 이 코팅층(11)은 그 표면에 비이드로 인해 요철부가 형성된다.In particular, a coating layer 11 in which beads for light diffusing, that is, silica fine particles are uniformly dispersed in a film forming component composed of a siliceous matrix and a thermosetting crosslinking acrylate polymer is provided on the surface of the lower substrate 3. The coating layer 11 is formed with irregularities due to the beads on the surface.

상기 철부는 표면 불규칙물에서 돌출부의 최상단을 뜻하며 요부는 표면 불규칙물에서 기부의 바닥을 뜻한다. 도 4에 나타낸 바와 같이 철부의 막 두께(12)는 평균으로 500 nm 내지 1500 nm 범위이고, 요부의 막 두께(13)는 평균으로 철부 막 두께 평균의 25 % 내지 50 % 범위이다. 요부의 평균 막 두께가 철부 평균 막 두께의 50 % 이상이 되면 완만해진 요철부 때문에 광 산란률(Haze 수치)이 감소되어 광 디퓨징 효과가 감소하게 된다. 철부는 평균 피치(즉, 거리)가 300 nm 내지 800 nm 범위일 수 있다. 이러한 요철부를 갖는 코팅 조성물층(11) 위에 반사층(4)이 적층되게 된다. 따라서 이것은 입사한 광을 산란시켜 광 산란률(Haze 수치)을 높여주게 되고 이로 인해 강한 광 디퓨징 효과를 얻을 수 있다.The convex part means the top of the protrusion in the surface irregularities, and the recess part means the bottom of the base part in the surface irregularities. As shown in Fig. 4, the film thickness 12 of the convex portion is in the range of 500 nm to 1500 nm on average, and the film thickness 13 of the concave portion is in the range of 25% to 50% of the average of the thickness of the convex portion on average. When the average film thickness of the recess is 50% or more of the average film thickness of the concave portion, the light scattering rate (Haze value) is reduced due to the smooth concave-convex portion, thereby reducing the light diffusing effect. The convex portion may have an average pitch (ie, distance) in the range of 300 nm to 800 nm. The reflective layer 4 is laminated on the coating composition layer 11 having such an uneven portion. Therefore, this scatters the incident light to increase the light scattering rate (Haze value), thereby obtaining a strong light diffusing effect.

이하에서는 본 발명의 코팅 조성물을 각 성분 별로 설명한다.Hereinafter, the coating composition of the present invention will be described for each component.

본 발명의 구성 성분들은 크게 3 단계로 분리하여 제조하고, 제조된 성분들을 혼합 믹싱하여 사용하게 된다.The components of the present invention are largely separated into three steps, and the prepared components are mixed and used.

1 단계는 실리카를 용액 중에서 크게 응집이 일어나지 않도록 안정하게 분산시킨 실리카 분산액을 제조하는 단계이며, 2 단계는 실리카 분산액의 분산 안정성을 제공하며, 조성물 경화시 실리카 비이드를 고정하고, 조성물과 유리기판 및 증착되는 금속 증착막 등 과의 부착성을 증대시키는 실리카질 매트릭스를 제조하는 단계이고, 3 단계는 조성물 막의 강도를 부여 및 유지하고, 내화학성 및 내열성을 제공하는 열경화 가교형 아크릴레이트계 폴리머 용액을 제조하는 단계이다.The first step is to prepare a silica dispersion in which the silica is stably dispersed in solution so that agglomeration does not occur greatly. The second step is to provide dispersion stability of the silica dispersion, to fix the silica beads when curing the composition, and to prepare the composition and the glass substrate. And preparing a siliceous matrix to increase adhesion to the deposited metal deposition film and the like, and the third step is to provide and maintain the strength of the composition film and to provide chemical resistance and heat resistance. To prepare a step.

A. 실리카 분산액의 제조.A. Preparation of Silica Dispersion.

(1) 실리카(1) silica

본 발명의 반사형 액정회로소자용 코팅 조성물은 광 디퓨징 성능을 나타나게 하는 성분으로 실리카의 미분말이 사용되었다.In the coating composition for a reflective liquid crystal circuit device of the present invention, a fine powder of silica is used as a component to exhibit optical diffusing performance.

본 발명의 실리카는 도 3에 나타낸 바와 같이 실리카의 1 차 입자(112)가 응집되어 2 차 입자(111)를 형성한 것이다. 실리카가 2 차 입자(111)로 응집되는 것은 실리카 1 차 입자(112)가 매우 작은 크기의 입경을 갖기 때문에 각각의 낱개의 입자로 존재하기 어려우며, 그 결과 2 차 입자(111)로 응집되며, 또한 용매에 분산될 때는 이러한 응집현상이 두드러진다. 이러한 실리카의 대표적인 것은 흄드실리카(fumed silica)이다.In the silica of the present invention, as shown in FIG. 3, primary particles 112 of silica are aggregated to form secondary particles 111. The agglomeration of the silica into the secondary particles 111 is difficult to exist as individual particles because the silica primary particles 112 have a very small particle size, and as a result, the agglomerates into the secondary particles 111, In addition, the aggregation phenomenon is prominent when dispersed in a solvent. Representative of such silica is fumed silica.

다시 말하면 1 차 입자(112)는 실리카가 제조되어 갖는 기본 입자이며, 2 차 입자(111)는 1 차 입자(112)가 뭉쳐져서 형성된 입자이며, 본 발명의 코팅 조성물에 2 차 입자(111)로 분산되어 존재한다. 이러한 2 차 입자(111)는 실리카 분산액 제조시 밀링 등의 분산 방법으로 그 입도를 제어할 수 있다.In other words, the primary particles 112 are basic particles having silica manufactured therein, and the secondary particles 111 are particles formed by the aggregation of the primary particles 112 and the secondary particles 111 in the coating composition of the present invention. It is distributed to The secondary particles 111 may control the particle size of the silica particles by a dispersion method such as milling during the manufacture of the silica dispersion.

실제로 본 발명의 실리카 분산액에 있어서, 실리카 미분말의 1 차 입자(112)의 평균 크기는 10 nm 내지 50 nm 범위내이고, 바람직하게는 20 nm 내지 40 nm 범위내이어야 한다. 1 차 입자(112)의 평균 크기가 이 범위를 벗어나면 2 차 입자(111)의 크기를 300 nm 내지 800 nm의 범위로 조절하기가 어려워진다.In fact, in the silica dispersion of the present invention, the average size of the primary particles 112 of the fine silica powder is in the range of 10 nm to 50 nm, preferably in the range of 20 nm to 40 nm. If the average size of the primary particles 112 is out of this range, it becomes difficult to control the size of the secondary particles 111 in the range of 300 nm to 800 nm.

상기 1 차 입자 크기라는 용어는 1 차 입자(112)의 크기 분포에서 최상위 5 %와 최하위 5 %의 크기를 제외함으로써 얻어진 1 차 입자(112)의 평균크기를 뜻한다. 즉, 분산액 중의 실리카 미립자의 1 차 입자(112) 크기는 예컨대 TEM (투과식 전자 현미경)으로 찍은 미립자의 사진으로부터 측정할 수 있다. 이 방법에서는 무작위적으로 선택한 100 개의 미립자의 1 차 입자(112) 크기를 측정한다. 가장 큰 미립자 5 개와 가장 작은 5 개를 제외한 후 남아있는 미립자들의 1 차 입자(112) 크기를 측정치로 택한다. 이 정도의 평균 입자 크기를 가지는 실리카 미분말은 콜로이드 제조용 기술을 적용함으로써 제조할 수 있다.The term primary particle size refers to the average size of the primary particles 112 obtained by excluding the size of the highest 5% and the lowest 5% from the size distribution of the primary particles 112. That is, the primary particle 112 size of the silica fine particles in the dispersion can be measured from, for example, a picture of the fine particles taken with a TEM (transmission electron microscope). This method measures the primary particle 112 size of 100 randomly selected particulates. The primary particle 112 size of the remaining particles after excluding the five largest and five smallest particles is taken as a measurement. A fine silica powder having an average particle size of this degree can be produced by applying a colloid manufacturing technique.

한편, 도 1에 모식적으로 나타낸 바와 같이 유리 기판에 피착된 코팅 조성물막은 실리카 미분말 2 차 입자(111)와 바인더인 실리카질 매트릭스 및 열경화 가교형 아크릴레이트계 폴리머와의 이차원적인 연결을 통해 형성된 이차원적인 그물 구조를 가지며, 이 그물 구조 중에는 세공이 존재한다. 이러한 그물 구조는 후술한 분산방법에 의해 형성시킬 수 있다.Meanwhile, as schematically shown in FIG. 1, the coating composition film deposited on the glass substrate is formed through two-dimensional connection between the fine silica secondary particles 111 and the silica-like matrix and the thermosetting crosslinking acrylate polymer. It has a two-dimensional network structure, and pores exist in this network structure. Such a net structure can be formed by the dispersion method mentioned later.

따라서 상기 조성물 내에 분산된 실리카 미립자는 2 차 입자(111) 직경은 300 nm 내지 800 nm 사이의 크기를 가지며, 바람직하게는 2 차 입자(111)의 평균 직경이 400 nm 이상 700 nm 이하이고, 최소한 전체 입자의 60 % 이상이 300 nm 내지 800 nm 이하의 입자 직경을 갖는 분포를 이루게 한다.Therefore, the silica fine particles dispersed in the composition has a diameter of the secondary particles 111 is between 300 nm and 800 nm, preferably the average diameter of the secondary particles 111 is 400 nm or more and 700 nm or less, and at least At least 60% of the total particles make up a distribution having a particle diameter of 300 nm to 800 nm or less.

이렇게 2 차 입자(111)의 입경의 크기를 일정의 분포로 조절하는 이유는 너무 작은 크기의 입자의 경우 요부와 철부의 단차가 작아서 이에 따르는 반사층(4)이 빛의 산란을 충분히 유발하지 않아 광 디퓨징 성능 구현이 곤란하기 때문이고, 800 nm 이상의 입자들이 많을 경우 코팅 조성물 내에서 응집에 의한 보관 안정성이 떨어지는 문제가 발생하기 때문이다.The reason why the size of the particle size of the secondary particles 111 is adjusted to a constant distribution is that in the case of the particles having a small size, the step difference between the recessed portion and the convex portion is small so that the reflective layer 4 does not sufficiently cause scattering of light. This is because it is difficult to implement the diffusing performance, and when there are many particles of 800 nm or more, there is a problem that the storage stability due to aggregation in the coating composition is lowered.

이러한 실리카 미분말은 실리카 분산액의 총중량에 대해서 1 내지 10 중량%, 특히 3 내지 8 중량% 범위내인 것이 적합하다. 이 범위를 벗어날 경우는 코팅 조성물막의 요철 단차가 작아지거나 너무 크거나 하여 헤이즈값을 낮추기 때문이다.Such fine silica powder is suitably in the range of 1 to 10% by weight, in particular 3 to 8% by weight, relative to the total weight of the silica dispersion. This is because the haze value is lowered because the uneven step of the coating composition film becomes small or too large when out of this range.

(2) 실리카 분산제(2) silica dispersant

본 발명의 반사형 액정회로소자용 코팅 조성물은 실리카 미립자들을 안정시켜 제조 과정 중에 상호간의 응집을 막기 위하여 폴리우레탄 폴리머 베이스의 분산제를 사용하였다.The coating composition for a reflective liquid crystal circuit device of the present invention used a polyurethane polymer-based dispersant to stabilize silica fine particles to prevent agglomeration between them.

폴리우레탄 폴리머는 코팅의 매트릭스의 일부로 사용될 뿐 아니라 보다 중요하게는, 용액 내의 실리카와 반응하여 미립자 표면을 개질함으로서 실리카 미립자를 용액내에서 안정화시키며 제조 과정 중에 상호 간의 응집을 막아주어 용액의 저장 안정성을 개선시켜 주는 목적으로 사용된다.Polyurethane polymers are not only used as part of the matrix of the coating, but more importantly, they react with the silica in the solution to modify the surface of the particles to stabilize the silica particles in the solution and to prevent agglomeration between each other during the manufacturing process, thereby improving the storage stability of the solution. Used for the purpose of improvement.

이러한 실리카 분산제로는 에프카(EFKA)사 제품명 LP-4010, 4050, 4055 등이 사용 가능하다. 실리카 분산액의 총중량에 대해서 0.01 내지 1 중량 %까지 필요에 따라서 사용된다.As such a silica dispersant, product names LP-4010, 4050, 4055, etc., may be used. It is used as needed up to 0.01-1 weight% with respect to the total weight of a silica dispersion.

(3) 용매(3) solvent

실리카 분산액의 적당한 용매로는 예를 들면 메탄올, 에탄올, 이소부탄올, 3-메틸-3-메톡시부탄올 등의 알코올류, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 싸이클로헥사논 등의 케톤류, 디에틸에테르, 이소프로필에테르, 테트라히드로퓨란, 다이옥산, 에틸렌글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌글리콜 디에틸에테르 등의 에테르류, 에틸 아세테이트, n-부틸 아세테이트, 에틸렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르 아세테이트, 에틸렌글리콜 모노부틸에테르 아세테이트, 디에틸렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르 아세테이트, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르 아세테이트, 감마 부티롤락톤 등의 에스테르류, N,N-디메틸포름아마이드, N,N-디메틸아세트아마이드 등의 아마이드류, 2-피롤리돈, N-메틸 피롤리돈 등의 피롤리돈류가 가능하다. 실리카 분산액에서 용매의 구성 범위는 실리카, 실리카 분산제를 제외한 나머지 부분을 차지한다.As a suitable solvent of a silica dispersion liquid, For example, alcohols, such as methanol, ethanol, isobutanol, and 3-methyl-3- methoxybutanol, ketones, such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone, diethyl ether Ethers such as isopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, ethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, ethyl acetate, n-butyl acetate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene Esters such as glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, gamma butyrolactone, and N, N-dimethyl Formamide, N, N-dimethylacetamide Amides, such as an amide, pyrrolidones, such as 2-pyrrolidone and N-methyl pyrrolidone, are possible. The composition range of the solvent in the silica dispersion occupies the remainder except for silica and silica dispersant.

실리카 분산액을 제조하기 위해서는 상기 실리카, 실리카 분산제를 용매에 분산시킨 후 밀링을 통해 실리카 입자의 2 차 입경을 조절한다. 밀링은 전체 실리카 입자의 2 차 입경이 300 nm 이상 될 때까지 진행한다.In order to prepare a silica dispersion, the silica and the silica dispersant are dispersed in a solvent, and then the secondary particle diameter of the silica particles is adjusted through milling. Milling proceeds until the secondary particle diameter of the total silica particles is at least 300 nm.

이와 같이 제조된 실리카 분산액에서 실리카의 함량은 실리카 분산액의 총중량에 대해서 1 내지 10 중량%까지 필요에 따라서 사용된다.The silica content in the silica dispersion thus prepared is used as necessary up to 1 to 10% by weight based on the total weight of the silica dispersion.

B. 실리카질 매트릭스의 제조B. Preparation of Siliceous Matrix

(1) 실록산계 폴리머 바인더(1) siloxane-based polymer binder

본 발명의 반사형 액정회로소자용 코팅 조성물에는 피막과 기재와의 부착성을 증대시키고, 실리카 미립자가 용액 내에서 응집을 일으키지 않고 안정하게 존재하도록 실록산계 폴리머 바인더가 포함되어 있다.The coating composition for a reflective liquid crystal circuit device of the present invention includes a siloxane polymer binder so as to increase the adhesion between the film and the substrate and to stably exist the silica fine particles without causing agglomeration in the solution.

본 발명에서 실록산계 폴리머 바인더는 하기 화학식 1로 나타내는 구조를 갖는 것이다.In the present invention, the siloxane-based polymer binder has a structure represented by the following formula (1).

[화학식 1][Formula 1]

상기 식에서,Where

R1은 수소, 탄소수 1∼4의 알킬기 또는 페닐기이고,R 1 is hydrogen, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a phenyl group,

R2는 탄소수 1∼4의 알킬기이고, n은 2 이상의 정수이며 중합도를 나타낸다.R <2> is a C1-C4 alkyl group, n is an integer of 2 or more, and shows a degree of polymerization.

실록산계 폴리머 바인더는 가수분해를 통해 실리카로 전환된 알콕시실란(또는 더 광범위하게는 가수분해 가능한 실란화합물)으로 형성할 수 있다. 알콕시 실란으로는 한 개 이상, 바람직하게는 두 개 이상, 더 바람직하게는 세 개 이상의 알콕시기를 가진 실란 화합물 1 종 이상을 사용할 수 있다. 더욱 구체적으로 사용할 수 있는 알콕시실란에는 테트라메톡시실란, 테트라프로폭시실란, 메톡시트리메톡시실란, 디메틸트리메톡시실란, 페닐트리메톡시실란, 디페닐디메톡시실란, 테트라에톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 디메틸디메톡시실란, 페닐트리에톡시실란, 디페닐디에톡시실란, 헥실트리메톡시실란 등의 알콕시실란에서 선택된 어느 하나 이거나 2 이상의 것으로 된 공중합체이다. 실록산계 폴리머 바인더 용액의 총중량에 대해서 0.1에서 10 중량%까지 필요에 따라서 사용된다.The siloxane-based polymer binder may be formed of an alkoxysilane (or more broadly hydrolyzable silane compound) converted to silica via hydrolysis. As the alkoxy silane, one or more, preferably two or more, more preferably three or more silane compounds having three or more alkoxy groups can be used. More specifically, alkoxysilanes that can be used include tetramethoxysilane, tetrapropoxysilane, methoxytrimethoxysilane, dimethyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, tetraethoxysilane, methyl Or a copolymer of any one or two or more selected from alkoxysilanes such as triethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, diphenyldiethoxysilane and hexyltrimethoxysilane. It is used as needed from 0.1 to 10% by weight relative to the total weight of the siloxane-based polymer binder solution.

(2) 용매(2) solvent

실록산계 폴리머 바인더의 제조시 알콕시실란을 함유하므로 빠르게 겔로 전환되지 않으면서 모노머들을 용해시킬 수 있는 용매를 선택하는 것이 바람직하다. 실록산계 폴리머 바인더 용액의 바람직한 용매로는 예를 들면 메탄올, 에탄올, 이소부탄올, 3-메틸-3-메톡시부탄올 등의 알코올류, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 싸이클로헥사논 등의 케톤류, 디에틸에테르, 이소프로필에테르, 테트라히드로퓨란, 다이옥산, 에틸렌글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌글리콜 디에틸에테르 등의 에테르류, 에틸 아세테이트, n-부틸 아세테이트, 에틸렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르 아세테이트, 에틸렌글리콜 모노부틸에테르 아세테이트, 디에틸렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르 아세테이트, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르 아세테이트, 감마 부티롤락톤 등의 에스테르류, N,N-디메틸포름아마이드, N,N-디메틸아세트아마이드 등의 아마이드류, 2-피롤리돈, N-메틸 피롤리돈 등의 피롤리돈류가 가능하다. 실리카질 매트릭스 용액에서 용매의 구성 범위는 실록산계 폴리머 바인더 함량을 제외한 나머지 부분을 차지한다.It is preferable to select a solvent capable of dissolving monomers without rapidly converting to a gel because it contains alkoxysilanes in the preparation of the siloxane-based polymer binder. Preferred solvents for the siloxane polymer binder solution include alcohols such as methanol, ethanol, isobutanol, 3-methyl-3-methoxybutanol, ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; Ethers such as diethyl ether, isopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, ethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, ethyl acetate, n-butyl acetate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether Esters such as acetate, ethylene glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, gamma butyrolactone, N, N-dimethylformamide, N, N- The pyrrolidine donryu such as methyl acetamide, such as amides, 2-pyrrolidone, N- methylpyrrolidone, is possible. The constituent range of the solvent in the siliceous matrix solution accounts for the remainder except for the siloxane-based polymer binder content.

알콕시실란으로 이루어진 막에서 알코올은 가수분해에 의해 분리되며 생성된 OH기는 실리카 졸 내로 농축된다. 이 졸을 가열함으로써 소성시키면 농축의 진전이 일어나고 마침내는 경질 실리카(SiO2) 막이 형성된다. 따라서 알콕시실란은 실리카 전구체(무기질 막을 형성하는 성분)로서 실리카질 막을 형성하는 데 활용할 수 있다. 알콕시실란을 실리카 미립자와 함께 막으로 형성하면 알콕시실란은 실리카 미립자를 연결하는 무기 결합제로 작용하며 막의 매트릭스를 구성한다.In the membrane consisting of alkoxysilanes, the alcohols are separated by hydrolysis and the resulting OH groups are concentrated into a silica sol. When the sol is calcined by heating, progress of concentration occurs and finally a hard silica (SiO 2 ) film is formed. Therefore, the alkoxysilane can be utilized to form a siliceous film as a silica precursor (component which forms an inorganic film). When the alkoxysilane is formed into a film together with the silica fine particles, the alkoxysilane functions as an inorganic binder connecting the silica fine particles and constitutes a matrix of the film.

C. 열경화 가교형 아크릴레이트계 폴리머 용액의 제조.C. Preparation of thermosetting crosslinked acrylate polymer solution.

(1) 아크릴레이트계 폴리머(1) acrylate polymer

본 발명의 반사형 액정회로소자용 코팅 조성물에는 막의 일정 강도를 유지하고 막의 내화학성과 내열성을 유지하기 위해서 아크릴레이트계 폴리머가 포함되어 있다. 아크릴레이트계 폴리머는 1 개의 에폭시기를 지닌 (메타)아크릴레이트와 1 개의 에틸렌성 불포화기를 지닌 단량체 1 종 또는 2 종 이상으로 이루어진 공중합체이다.The coating composition for a reflective liquid crystal circuit device of the present invention includes an acrylate polymer in order to maintain a certain strength of the film and to maintain chemical resistance and heat resistance of the film. The acrylate polymer is a copolymer consisting of (meth) acrylate having one epoxy group and one or two or more monomers having one ethylenically unsaturated group.

1 개의 에폭시기를 지닌 (메타)아크릴레이트는 여러 종류가 사용 가능하며 예를 들면 글리시딜 메타아크릴레이트, 하기 화학식 2의 화합물(다이세루화학 제품 CYCLOMER A-200, M-100 )을 들 수 있다.A number of (meth) acrylates having one epoxy group can be used, and examples thereof include glycidyl methacrylate and compounds represented by the following Chemical Formula 2 (Diceru Chemicals CYCLOMER A-200, M-100). .

[화학식 2][Formula 2]

상기 식에서, R은 수소 또는 메틸기이다.Wherein R is hydrogen or a methyl group.

1 개의 에칠렌성 불포화기를 지닌 단량체는 상기 1 개의 에폭시기를 지닌 (메타)아크릴레이트 외에 것으로 여러 종류가 사용 가능하며, 예를 들면 스타이렌, 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, 비닐아세테이트 및 상기 1 개의 에폭시기를 지닌 (메타)아크릴레이트 외의 (메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. (메타)아크릴레이트의 구체예로는 탄소수가 1∼12의 알킬기 (메타)아크릴레이트로서, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 이소부틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 싸이클로헥실(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 2-메톡시에틸(메타)아크릴레이트 및 2-에톡시에틸(메타)아크릴레이트를 들 수 있다. 1 개의 에폭시기를 지닌 (메타)아크릴레이트와 1 개의 에칠렌성 불포화기를 지닌 단량체 1 종 또는 2 종 이상으로 이루어진 아크릴레이트계 공중합체는 열경화 가교형 아크릴레이트계 폴리머 용액의 총중량에 대해서 30 % 내지 50 % 범위에서 사용된다.The monomer having one ethylene unsaturated group may be used in addition to the (meth) acrylate having one epoxy group. For example, styrene, acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl acetate and one of the monomers may be used. (Meth) acrylates other than the (meth) acrylate which has an epoxy group, etc. are mentioned. As a specific example of (meth) acrylate, it is a C1-C12 alkyl group (meth) acrylate, and it is methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, and isobutyl (meth) Acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate and 2-ethoxyethyl (meth) acrylate Can be mentioned. An acrylate copolymer comprising (meth) acrylate having one epoxy group and one or two or more monomers having one ethylenically unsaturated group is 30% to 50% based on the total weight of the thermosetting crosslinking acrylate polymer solution. Used in the% range.

(2) 열경화제(2) thermosetting agent

본 발명의 코팅은 소성을 통한 열경화 메카니즘을 사용하므로 열경화제는 필수성분이다. 열경화제로서는 산 및 염기 촉매가 가능하며, 특히 열에 의해 산 및 염기를 발생시키는 화합물이 적합하다. 구체적으로 예를 들면, 열에 의해 산을 발생시키는 화합물로서 트리(니트로벤질)포스페이트, 트리페닐포스핀 등이 있다. 열에 의해 염기를 발생시키는 화합물로서 니트로벤질 싸이클로헥실 카바메이트, 디(메톡시벤질)헥사멕실렌 디카바메이트 등이 가능하다. 열경화제의 양은 통상 아크릴레이트 폴리머 용액 총 중량에 대해서 0.1 % 내지 5 % 범위에서 사용한다.Since the coating of the present invention uses a thermosetting mechanism through firing, the thermosetting agent is an essential ingredient. As the thermosetting agent, acid and base catalysts are possible, and particularly compounds which generate acid and base by heat are suitable. Specifically, for example, tri (nitrobenzyl) phosphate, triphenyl phosphine, and the like are compounds that generate an acid by heat. Nitrobenzyl cyclohexyl carbamate, di (methoxybenzyl) hexamexylene dicarbamate, etc. are possible as a compound which generate | occur | produces a base by heat. The amount of thermosetting agent is usually used in the range of 0.1% to 5% by weight of the total weight of the acrylate polymer solution.

(3) 가교제(3) crosslinking agent

본 발명의 코팅은 막의 경화를 위해 열경화제와 함께 가교제를 채용하고 있다. 가교제로서는 예를 들면 헥사메틸렌디아민 등의 알킬아민, 아미노페놀 등의 방향족아민, 비스페놀 A 등의 페놀류 및 상기 페놀류의 다이머 등이 가능하다. 가교제의 양은 통상 아크릴레이트 폴리머 용액 총중량에 대해서 1 % 내지 10 % 범위에서 사용한다.The coating of the present invention employs a crosslinking agent together with a thermosetting agent for curing the film. As a crosslinking agent, alkylamines, such as hexamethylenediamine, aromatic amines, such as an aminophenol, phenols, such as bisphenol A, dimers of the said phenols, etc. are possible, for example. The amount of crosslinking agent is usually used in the range of 1% to 10% based on the total weight of the acrylate polymer solution.

(4) 용매(4) solvent

열경화 가교형 아크릴레이트계 폴리머 용액의 적당한 용매로는 예를 들면 메탄올, 에탄올, 이소부탄올, 3-메틸-3-메톡시부탄올 등의 알코올류, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 싸이클로헥사논 등의 케톤류, 디에틸에테르, 이소프로필에테르, 테트라히드로퓨란, 다이옥산, 에틸렌글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌글리콜 디에틸에테르 등의 에테르류, 에틸 아세테이트, n-부틸 아세테이트, 에틸렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르 아세테이트, 에틸렌글리콜 모노부틸에테르 아세테이트, 디에틸렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르 아세테이트, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르 아세테이트, 감마 부티롤락톤 등의 에스테르류, N,N-디메틸포름아마이드, N,N-디메틸아세트아마이드 등의 아마이드류, 2-피롤리돈, N-메틸 피롤리돈 등의 피롤리돈류가 가능하다. 열경화 가교형 아크릴레이트계 폴리머 용액에서 용매의 구성 범위는 아크릴레이트계 폴리머, 열경화제, 가교제를 제외한 나머지 부분을 차지한다.Suitable solvents for thermosetting crosslinked acrylate polymer solutions include, for example, alcohols such as methanol, ethanol, isobutanol and 3-methyl-3-methoxybutanol, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone. Ketones such as diethyl ether, isopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, ethers such as ethylene glycol dimethyl ether and diethylene glycol diethyl ether, ethyl acetate, n-butyl acetate, ethylene glycol monomethyl ether acetate and ethylene Esters such as glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, gamma butyrolactone , N, N-dimethylforma Id, amides such as N, N- dimethylacetamide amides, 2-pyrrolidone, it is possible to pyrrolidine donryu such as N- methylpyrrolidone. In the thermosetting cross-linked acrylate polymer solution, the constituent range of the solvent occupies the remainder except for the acrylate polymer, the thermosetting agent, and the crosslinking agent.

본 발명에 있어서, 전체 코팅 조성물중 실리카 분산액의 함량은 50 중량% 내지 70 중량%, 실록산계 폴리머 바인더 용액의 함량은 15 중량% 내지 30 중량%인 것이 바람직하며, 열경화 가교형 아크릴레이트계 폴리머 용액의 함량은 15 중량% 내지 30 중량%인 것이 바람직하다.In the present invention, the content of the silica dispersion in the total coating composition is 50% to 70% by weight, the content of the siloxane-based polymer binder solution is preferably 15% to 30% by weight, thermosetting crosslinking acrylate-based polymer The content of the solution is preferably 15% to 30% by weight.

여기서 상기 실리카 분산액의 함량이 50 중량% 미만이면 광 디퓨징 효과가 충분하지 못한 문제점이 있고, 70 중량%를 초과하면 일정한 강도의 막을 형성하지 못하는 문제점이 있다.If the content of the silica dispersion is less than 50% by weight, there is a problem that the light diffusing effect is not sufficient, and if the content of the silica dispersion exceeds 70% by weight, there is a problem in that a film of a certain strength cannot be formed.

실리카질 매트릭스의 양은 실리카 입자들 사이를 결합시키기에 충분하면 된다. 실리카질 매트릭스의 함량은 15 중량% 내지 30 중량% 범위가 바람직하다. 이 경우 15 중량% 미만이면 코팅 조성물막의 경화성능이 떨어지고 또한 실리카의 분산 안정성이 떨어져 응집이 발생하는 문제점이 있다.The amount of silicate matrix should be sufficient to bond between the silica particles. The content of the siliceous matrix is preferably in the range of 15% to 30% by weight. In this case, if the content is less than 15% by weight, there is a problem in that the curing performance of the coating composition film is lowered and the dispersion stability of the silica is lowered to cause aggregation.

열경화 가교형 아크릴레이트계 폴리머 용액의 함량은 15 중량% 내지 30 중량% 범위가 바람직하다. 열경화 가교형 아크릴레이트계 폴리머의 함량이 15 중량% 미만이면 코팅 막의 열경화 정도가 불충분해지고 코팅 조성물 막의 내화학성과 내열성이 약화되는 문제점이 있다.The content of the thermosetting crosslinkable acrylate polymer solution is preferably in the range of 15% by weight to 30% by weight. If the content of the thermosetting crosslinking acrylate polymer is less than 15% by weight, there is a problem that the degree of thermosetting of the coating film is insufficient and the chemical resistance and heat resistance of the coating composition film are weakened.

이와 같은 코팅 조성물에 계면활성제, 소포제, 가소제 등의 각종 첨가제를 첨가하여 기판에 피복함으로써 개별공정의 특성에 따른 성능향상을 도모할 수도 있다. 특히 계면활성제의 경우 플루오르계 계면활성제의 사용이 바람직하며 퍼플루오로알킬기의 아크릴레이트계 폴리머를 함유한 것이 우수하다. 소포제로서는 실리콘계, 불소계의 각종 소포제 등이 필요에 따라 사용될 수 있다. 또한 가소제로서는 디옥틸프탈레이트, 디도데실프탈레이트, 트리아세틸글리세린 등이 필요에 따라 사용될 수 있다.Various additives such as surfactants, antifoaming agents, plasticizers, etc. may be added to the coating composition to coat the substrate, thereby improving performance according to the characteristics of individual processes. Particularly in the case of surfactants, the use of fluorine-based surfactants is preferable, and it is excellent that it contains an acrylate-based polymer of perfluoroalkyl group. As the antifoaming agent, various antifoaming agents such as silicone and fluorine may be used as necessary. As the plasticizer, dioctylphthalate, dodecyl phthalate, triacetylglycerine and the like can be used as necessary.

이와 같이 제조된 코팅 조성물은 침지, 분무, 회전 및 스핀 코팅을 포함하여 통상적인 방법으로 기판에 도포할 수 있으며 스핀 코팅법이 막형성 정확도면에서 가장 바람직하다. 예를 들면 스핀 코팅하는 경우 코팅 조성물 용액의 고체 함량을 스핀 코팅 장치의 종류와 방법에 따라 적절히 변화시킴으로서 목적하는 두께의 피복물을 형성할 수 있다. 상기 기판으로는 특별한 제한은 없다. 유리가 액정표시소자 기판의 대표적인 재료이기는 하지만 본 발명의 조성물은 투명 플라스틱 기판과 같은 기판에도 형성될 수 있다.The coating composition thus prepared can be applied to the substrate in a conventional manner, including dipping, spraying, spinning and spin coating, and spin coating is most preferred in terms of film formation accuracy. For example, in the case of spin coating, a coating having a desired thickness can be formed by appropriately changing the solid content of the coating composition solution according to the type and method of the spin coating apparatus. There is no particular limitation on the substrate. Although glass is a representative material of the liquid crystal display device substrate, the composition of the present invention may be formed on a substrate such as a transparent plastic substrate.

상기 방법에 의하여 기판에 코팅된 코팅 조성물막을 80 ℃ 내지 120 ℃의 온도로 1 내지 5 분간 가열한다(이하 Pre Bake 공정). 이어서 온도를 높여 200 ℃ 내지 250 ℃의 온도로 오븐에서 30 분 내지 1 시간 가열하여 막을 소성시킨다(이하 Hard Bake 공정). 소성 온도는 재료가 허용되는 범위에서 더 높은 온도를 택할 수 있다. 이렇게 제조된 코팅 조성물막은 LCD 반사층 베이스 코팅 조성물층(11)이 된다.The coating composition film coated on the substrate by the above method is heated to a temperature of 80 ℃ to 120 ℃ for 1 to 5 minutes (hereinafter Pre Bake process). Subsequently, the temperature is raised to 30 minutes to 1 hour in an oven at a temperature of 200 ℃ to 250 ℃ to bake the film (hereinafter hard bake process). The firing temperature may take a higher temperature within the acceptable range of material. The coating composition film thus prepared becomes the LCD reflective layer base coating composition layer 11.

이하에서 실시예를 통해 본 발명을 더욱 상세히 설명한다. 단, 이들 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것이지 본 발명을 한정하는 것이 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples. However, these Examples are for illustrating the present invention and do not limit the present invention.

[실시예]EXAMPLE

실시예 1Example 1

A. 실리카 분산액의 제조A. Preparation of Silica Dispersion

실리카 25 g 과 실리카 분산제(EFKA사 제품 LP-4050) 5 g, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트 475 g을 1 ℓ플라스크에 넣고 교반한다. 투입한 실리카의 입자 크기가 300∼800 ㎚에 도달할 때까지 밀링한다.25 g of silica, 5 g of silica dispersant (LP-4050 manufactured by EFKA) and 475 g of propylene glycol monomethyl ether acetate are placed in a 1 L flask and stirred. Milling is carried out until the particle size of the injected silica reaches 300 to 800 nm.

B. 실리카질 매트릭스의 제조B. Preparation of Siliceous Matrix

테트라에톡시실란 260 g 과 메틸트리에톡시실란 178 g, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트 407 g을 메카니칼 교반기, 온도계가 장착된 1 ℓ3구 플라스크에 넣고 교반하면서 플라스크 내의 온도를 10 ℃ 로 유지한다. 다음에 플라스크에 이온교환수(Deionized water) 134 g 과 H2NO3400 ppm을 동시에 투입한다. 이후 1 시간 정도 교반한 다음 욕조 온도를 60 ℃ 로 높여 6 시간 반응을 지속한다. 다음에 미리 준비한 1 Gal 용량의 병(Bottle)으로 옮기고 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트 594 g으로 희석시키고 5 ℃ 이하에서 보관한다.260 g of tetraethoxysilane, 178 g of methyltriethoxysilane, and 407 g of propylene glycol monomethyl ether acetate are placed in a 1 L three-necked flask equipped with a mechanical stirrer and a thermometer, and the temperature in the flask is kept at 10 ° C while stirring. Next, 134 g of deionized water and 400 ppm of H 2 NO 3 were simultaneously added to the flask. Thereafter, the mixture was stirred for about 1 hour, and then the temperature of the bath was raised to 60 ° C. for 6 hours. Next, transfer to a 1 Gal bottle prepared in advance, dilute with 594 g of propylene glycol monomethyl ether acetate and store at 5 ° C or lower.

위 생성물을 겔침투 크로마토그라피(Gel Permition Chromatography: GPC)에 의한 분자량 측정 결과 중량 평균 분자량 (Mw)이 5,000 이었다.The weight average molecular weight (Mw) of the product was measured by gel permeation chromatography (Gel Permition Chromatography: GPC) was 5,000.

C. 열경화 가교형 아크릴레이트계 용액의 제조C. Preparation of thermosetting crosslinked acrylate solution

벤질 메타아크릴레이트 422 g, 글리시딜 메타아크릴레이트 153 g, 싸이클로헥실 메타아크릴레이트 65 g, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트 960 g을 메카니칼 교반기, 콘덴서, 온도계가 장착된 3 ℓ4구 플라스크에 넣고 교반하면서 플라스크 내의 온도를 90 ℃ 로 상승시킨다. 플라스크 내부를 질소분위기로 만들어 준다음 아조비스(이소부티로니트릴)(Azobis(isobutyronitrile):이하 AIBN) 3 g을 투입한다. 반응이 끝날 때까지 질소분위기 하에서 5 시간 동안 교반한 후 반응을 종결시키고 서서히 상온으로 온도를 내린다. 다음에 1 ℓ플라스크에 합성한 아크릴레이트계 폴리머 187 g을 넣은 후 트리페닐포스핀 4 g, 비스페놀 S 9 g을 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트 960 g를 완전히 용해될 때까지 교반한다.422 g of benzyl methacrylate, 153 g of glycidyl methacrylate, 65 g of cyclohexyl methacrylate, and 960 g of propylene glycol monomethyl ether acetate were placed in a 3-liter four-necked flask equipped with a mechanical stirrer, a condenser, and a thermometer while stirring. The temperature in the flask is raised to 90 ° C. The inside of the flask is made with a nitrogen atmosphere, and 3 g of azobis (isobutyronitrile) (AIBN) is added thereto. After the reaction was stirred for 5 hours under a nitrogen atmosphere until the reaction was completed, the reaction was terminated and slowly lowered to room temperature. Next, 187 g of the synthesized acrylate polymer was added to a 1 L flask, and 4 g of triphenylphosphine and 9 g of bisphenol S were stirred until 960 g of propylene glycol monomethyl ether acetate was completely dissolved.

D. 코팅 조성물의 제조D. Preparation of Coating Composition

실리카 분산액 927 g, 실리카질 매트릭스 용액 278 g, 열경화 가교형 아크릴레이트계 폴리머 용액 234 g 을 3 ℓ플라스크에 투입하고 15∼20 시간 교반시킨 후 20 ㎛ 매쉬 필터에 통과시켜 여과하여 코팅 조성물을 제조하였다.927 g of the silica dispersion solution, 278 g of the siliceous matrix solution, and 234 g of the thermosetting crosslinkable acrylate polymer solution were added to a 3 l flask, stirred for 15 to 20 hours, and filtered through a 20 μm mesh filter to prepare a coating composition. It was.

실시예 2Example 2

A. 실리카 분산액의 제조A. Preparation of Silica Dispersion

실리카 30 g 과 실리카 분산제(EFKA사 제품 LP-4050) 8 g, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트 462 g을 1 ℓ플라스크에 넣고 교반한다. 투입한 실리카의 입자 크기가 300∼800 nm 에 도달할 때까지 밀링한다.30 g of silica, 8 g of silica dispersant (LP-4050 manufactured by EFKA) and 462 g of propylene glycol monomethyl ether acetate are placed in a 1 L flask and stirred. Milling is carried out until the particle size of the injected silica reaches 300-800 nm.

B. 실리카질 매트릭스의 제조B. Preparation of Siliceous Matrix

테트라메톡시실란 170 g 과 메틸트리메톡시실란 190 g, 트리메톡시실란 120 g, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트 417 g을 메카니칼 교반기, 온도계가 장착된 1 ℓ3구 플라스크에 넣고 교반하면서 플라스크 내의 온도를 10 ℃ 로 유지한다. 다음에 플라스크에 이온교환수(Deionized water) 134 g 과 H2NO3400 ppm을 동시에 투입한다. 이후 1 시간 정도 교반한 다음 욕조 온도를 60 ℃ 로 높여 6 시간 반응을 지속한다. 다음에 미리 준비한 1 Gal 용량의 병(Bottle)으로 옮기고 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트 594 g으로 희석시키고 5 ℃ 이하에서 보관한다.170 g of tetramethoxysilane, 190 g of methyltrimethoxysilane, 120 g of trimethoxysilane, and 417 g of propylene glycol monomethyl ether acetate were placed in a 1 L three-necked flask equipped with a mechanical stirrer and a thermometer, and the temperature in the flask was stirred. Maintain at 10 ° C. Next, 134 g of deionized water and 400 ppm of H 2 NO 3 were simultaneously added to the flask. Thereafter, the mixture was stirred for about 1 hour, and then the temperature of the bath was raised to 60 ° C. for 6 hours. Next, transfer to a 1 Gal bottle prepared in advance, dilute with 594 g of propylene glycol monomethyl ether acetate and store at 5 ° C or lower.

위 생성물을 GPC로 분자량 측정 결과 중량 평균 분자량(Mw)은 6,000이었다.As a result of molecular weight measurement by GPC of the above product, the weight average molecular weight (Mw) was 6,000.

C. 열경화 가교형 아크릴레이트계 용액의 제조.C. Preparation of thermosetting crosslinked acrylate solution.

메틸 메타아크릴레이트 410 g, 글리시딜 메타아크릴레이트 153 g, 부틸 메타아크릴레이트 77 g, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트 980 g을 메카니칼 교반기, 콘덴서, 온도계가 장착된 3 ℓ4구 플라스크에 넣고 교반하면서 플라스크 내의 온도를 90 ℃ 로 상승시킨다. 플라스크 내부를 질소분위기로 만들어 준다음 AIBN 3 g을 투입한다. 반응이 끝날 때까지 질소분위기 하에서 5 시간 동안 교반한 후 반응을 종결시키고 서서히 상온으로 온도를 내린다.410 g of methyl methacrylate, 153 g of glycidyl methacrylate, 77 g of butyl methacrylate, and 980 g of propylene glycol monomethyl ether acetate were placed in a 3-liter flask equipped with a mechanical stirrer, a condenser, and a thermometer, and the flask was stirred. The temperature inside is raised to 90 ° C. Make nitrogen inside the flask and add 3 g of AIBN. After the reaction was stirred for 5 hours under a nitrogen atmosphere until the reaction was completed, the reaction was terminated and slowly lowered to room temperature.

다음에 1 ℓ플라스크에 합성한 아크릴레이트계 폴리머 195 g을 넣은 후 트리페닐포스핀 5 g, 비스페놀 S 10 g 을 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트 990 g를 완전히 용해될 때까지 교반한다.Next, 195 g of the synthesized acrylate polymer was added to a 1 L flask, and 5 g of triphenylphosphine and 10 g of bisphenol S were stirred until 990 g of propylene glycol monomethyl ether acetate was completely dissolved.

D. 코팅 조성물의 제조D. Preparation of Coating Composition

실리카 분산액 901 g, 실리카질 매트릭스 용액 238 g, 열경화 가교형 아크릴레이트계 폴리머 용액 285 g 을 3ℓ 플라스크에 투입하고 15∼20 시간 교반시킨 후 20 ㎛ 매쉬 필터에 통과시켜 여과하여 코팅 조성물을 제조하였다.901 g of a silica dispersion, 238 g of a siliceous matrix solution, and 285 g of a thermosetting crosslinkable acrylate polymer solution were added to a 3L flask, stirred for 15 to 20 hours, and then filtered through a 20 μm mesh filter to prepare a coating composition. .

이상에서 설명한 본 발명 조성물에 대하여 시편을 제조하고 막의 성능을 평가하여, 그 결과를 종래 기술과 비교하여 표 1에 나타내었다.Specimens were prepared for the composition of the present invention described above and the performance of the membrane was evaluated, and the results are shown in Table 1 in comparison with the prior art.

[막 형성방법][Film formation method]

크기가 100 mm ×100 mm ×두께 0.9 mm 인 소다 석회 유리판으로 된 기판의 한 측면 위로 스핀 코터를 통해 코팅 조성물을 적하량 10 cc, 회전수 700 내지 900 rpm 및 회전 시간 20 내지 60 초의 조건 하에서 적하하여 막을 형성하였다. 막을 80 ℃ 내지 120 ℃의 온도로 1 내지 5 분간 Pre Bake 한다. 이 후 온도를 높여 200 ℃ 내지 250 ℃의 온도로 오븐에서 30 분 내지 1 시간 Hard Bake 하여 막을 소성시킴으로써 유리 기판 상에 코팅 조성물 막을 형성하였다. 그 결과 얻어진 막의 특성을 아래와 같이 평가 하였다.The coating composition is dropped through a spin coater onto one side of a substrate of soda-lime glass sheet measuring 100 mm × 100 mm × 0.9 mm in thickness under a load of 10 cc, a speed of 700 to 900 rpm and a rotation time of 20 to 60 seconds. To form a film. The membrane is prebaked for 1 to 5 minutes at a temperature of 80 ° C to 120 ° C. Thereafter, the coating composition film was formed on a glass substrate by raising the temperature to hard bake the film for 30 minutes to 1 hour in an oven at a temperature of 200 ° C to 250 ° C. The properties of the resulting film were evaluated as follows.

[막의 성능 평가][Evaluation of Membrane Performance]

두께 : 코팅 조성물 막의 두께는 SEM(전자 투사 현미경) 단면에서 측정.Thickness: The thickness of the coating composition film was measured in SEM (electron projection microscope) cross section.

A. 광 산란률 평가A. Light scattering rate evaluation

헤이즈 : 헤이즈 미터(Denshoku사 제조 NDH2000)로 광산란률 측정Haze: Light scattering rate measurement with a haze meter (NDH2000, manufactured by Denshoku)

B. 표면 요철도 평가B. Surface Roughness Evaluation

표면 요철도 : 표면 측정 장치(TENKOR사 제조 모델명 P II)로 표면요철 측정Surface unevenness: Surface unevenness measurement by surface measuring device (model name P II manufactured by Tenkoor Corporation)

C. 내화학성 평가C. Chemical Resistance Evaluation

코팅 조성물막이 형성된 유리 기판을 스트리퍼(동진쎄미켐사 제조 모델명 DPS-1300)에 50 ℃로 유지한 상태에서 20 분간 침지한 후 막의 표면 상태를 육안으로 확인한다. 평가기준은 내화학성이 떨어져 막에 얼룩이 발생할 경우를 ×로 표시한다.The glass substrate on which the coating composition film was formed was immersed in a stripper (model name DPS-1300 manufactured by Dongjin Semichem Co., Ltd.) at 50 ° C. for 20 minutes, and then visually confirmed the surface state of the film. The evaluation criteria indicate the case where the film is stained due to poor chemical resistance.

D. 내열성 평가D. Heat Resistance Evaluation

코팅 조성물막을 상기 막 형성방법과 동일하게 수행하여 형성하고, 막의 소성온도를 210 ℃, 230 ℃, 250 ℃ 로 달리하며 30 분간 진행한 후 막의 표면 상태를 육안으로 확인한다. 평가는 내열성이 떨어져 막이 불투명하게 변하지 않는 경우의 온도를 표시한다.The coating composition film was formed in the same manner as the film forming method, and the baking temperature of the film was changed to 210 ° C., 230 ° C. and 250 ° C. for 30 minutes, and then the surface state of the film was visually confirmed. The evaluation indicates the temperature when the heat resistance is poor and the film does not change opaquely.

구 분division 실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 막 두께(㎛)Film thickness (㎛) 1.01.0 1.21.2 광 산란률(Haze 수치)Light scattering rate (Haze value) 6666 5555 표면 요철도(Å)Surface unevenness 50005000 55005500 내화학성Chemical resistance ＯO ＯO 내열성(℃)Heat resistance (℃) 250250 250250

표 1을 통하여 알 수 있는 바와 같이 본 발명의 반사용 액정표시소자용 코팅 조성물은 광 산란 비이드를 채용하여 자체적으로 광 디퓨징 작용을 함으로써 높은 광 산란률을 나타내게 됨을 알 수 있다.As can be seen from Table 1 it can be seen that the coating composition for a reflective liquid crystal display device of the present invention exhibits a high light scattering rate by light diffusing action by adopting the light scattering beads.

본 발명의 코팅 조성물을 반사형 액정표시소자에서 하부기판(3) 및 반사층(4) 사이에 사용하면 그 위에 증착되는 금속 반사층(4) 자체에 광 디퓨징 기능을 부가시킬 수 있어서 제품의 박형화가 실현 가능하고 광 이용 효율을 향상시킬 수 있다. 그 결과 화면 전체의 휘도 및 시인성을 향상시키게 된다. 또한 본 발명의 코팅 조성물은 실리카 미립자를 균일하게 분산 분포시켜 광 디퓨징 효과가 우수하면서도, 막 형성성이 우수하고, 내화학성, 내열성, 보관 안정성 등의 특성이 우수하므로 실제 산업현장에 용이하게 적용할 수 있다.When the coating composition of the present invention is used between the lower substrate 3 and the reflective layer 4 in the reflective liquid crystal display device, the light diffusing function can be added to the metal reflective layer 4 itself deposited thereon, thereby making the product thinner. It is feasible and the light utilization efficiency can be improved. As a result, the brightness and visibility of the entire screen are improved. In addition, the coating composition of the present invention has excellent light diffusing effect by uniformly dispersing and dispersing silica fine particles, excellent film formation, and excellent characteristics such as chemical resistance, heat resistance, storage stability, etc. can do.

Claims (19)

a) 실리카 분산액;a) silica dispersions; b) 실리카질 매트릭스 용액; 및b) a siliceous matrix solution; And c) 열경화 가교형 아크릴레이트계 폴리머 용액c) thermosetting crosslinking acrylate polymer solution 을 포함하는 디퓨징 기능을 갖는 LCD 반사층 베이스 코팅 조성물.LCD reflective layer base coating composition having a diffusing function comprising a. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, a) 실리카 분산액 50 내지 70 중량%;a) 50 to 70% by weight of silica dispersion; b) 실리카질 메트릭스 용액 15 내지 30 중량%; 및b) 15-30% by weight of siliceous matrix solution; And c) 열경화 가교형 아크릴레이트계 폴리머 용액 15 내지 30 중량%c) 15 to 30 wt% of the thermosetting crosslinkable acrylate polymer solution 를 포함하는 디퓨징 기능을 갖는 LCD 반사층 베이스 코팅 조성물.LCD reflective layer base coating composition having a diffusing function comprising a. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 a)의 실리카 분산액이The silica dispersion of a) ⅰ) 미세 실리카Iii) fine silica ⅱ) 실리카 분산제; 및Ii) silica dispersants; And ⅲ) 용매Iii) solvent 를 포함하는 분산액인 디퓨징 기능을 갖는 LCD 반사층 베이스 코팅 조성물.LCD reflective layer base coating composition having a diffusing function that is a dispersion comprising a. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 실리카 분산액이The silica dispersion ⅰ) 미세 실리카 1 내지 10 중량%Viii) 1 to 10% by weight of fine silica ⅱ) 실리카 분산제 0.01 내지 1 중량%; 및Ii) 0.01 to 1 weight percent silica dispersant; And ⅲ) 용매 89 내지 98.99 중량%Iii) 89 to 98.99 wt% solvent 를 포함하는 분산액인 디퓨징 기능을 갖는 LCD 반사층 베이스 코팅 조성물.LCD reflective layer base coating composition having a diffusing function that is a dispersion comprising a. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 ⅰ)의 미세 실리카의 1 차 입자의 평균 입자크기는 10 내지 50 ㎚이고, 1차 입자가 뭉쳐서 이루어진 2차 입자의 60 중량% 입자크기는 300 내지 800 ㎚인 디퓨징 기능을 갖는 LCD 반사층 베이스 코팅 조성물.The average particle size of the primary particles of the fine silica of (iii) is 10 to 50 nm, and the 60 wt% particle size of the secondary particles formed by the aggregation of the primary particles is 300 to 800 nm. Coating composition. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 ⅱ)의 실리카 분산제가 폴리우레탄 폴리머 베이스의 분산제인 디퓨징 기능을 갖는 LCD 반사층 베이스 코팅 조성물.An LCD reflective layer base coating composition having a diffusing function wherein the silica dispersant of ii) is a dispersant of a polyurethane polymer base. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 ⅲ)의 용매가The solvent of iii) 메탄올, 에탄올, 이소부탄올, 및 3-메틸-3-메톡시부탄올으로 이루어진 알코올류;Alcohols consisting of methanol, ethanol, isobutanol, and 3-methyl-3-methoxybutanol; 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 및 싸이클로헥사논으로 이루어진 케톤류;Ketones consisting of methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; 디에틸에테르, 이소프로필에테르, 테트라히드로퓨란, 다이옥산, 에틸렌글리콜 디메틸에테르, 및 디에틸렌글리콜 디에틸에테르로 이루어진 에테르류;Ethers composed of diethyl ether, isopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, ethylene glycol dimethyl ether, and diethylene glycol diethyl ether; 에틸 아세테이트, n-부틸 아세테이트, 에틸렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르 아세테이트, 에틸렌글리콜 모노부틸에테르 아세테이트, 디에틸렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르 아세테이트, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르 아세테이트, 및 감마 부티롤락톤로 이루어진 에스테르류;Ethyl acetate, n-butyl acetate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether Esters consisting of acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, and gamma butyrolactone; N,N-디메틸포름아마이드, 및 N,N-디메틸아세트아마이드으로 이루어진 아마이드류; 및Amides consisting of N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide; And 2-피롤리돈, 및 N-메틸 피롤리돈으로 이루어진 피롤리돈류Pyrrolidones consisting of 2-pyrrolidone and N-methyl pyrrolidone 로 이루어지는 용매군으로 부터 선택되는 디퓨징 기능을 갖는 LCD 반사층 베이스 코팅 조성물.LCD reflective layer base coating composition having a diffusing function selected from the group consisting of solvents. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 b)의 실리카질 매트릭스 용액이The siliceous matrix solution of b) ⅰ) 실록산계 폴리머 바인더 용액; 및Iii) a siloxane polymer binder solution; And ⅱ) 용매Ii) solvent 를 포함하는 바인더 용액인 디퓨징 기능을 갖는 LCD 반사층 베이스 코팅 조성물.LCD reflective layer base coating composition having a diffusing function of a binder solution comprising a. 제 8 항에 있어서,The method of claim 8, 상기 실리카질 매트릭스 용액이The siliceous matrix solution ⅰ) 실록산계 폴리머 바인더 용액 0.1 내지 10 중량%(범위 확인 요망); 및V) 0.1 to 10% by weight of siloxane polymer binder solution (check range); And ⅱ) 용매 90 내지 99.9 중량%Ii) 90 to 99.9% by weight of solvent 를 포함하는 용액인 디퓨징 기능을 갖는 LCD 반사층 베이스 코팅 조성물.LCD reflective layer base coating composition having a diffusion function of a solution comprising a. 제 8 항에 있어서,The method of claim 8, 상기 ⅰ)의 실록산계 폴리머 바인더가 하기 화학식 1로 나타내는 화합물로 테트라메톡시실란, 테트라프로폭시실란, 메톡시트리메톡시실란, 디메틸트리메톡시실란, 페닐트리메톡시실란, 디페닐디메톡시실란, 테트라에톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 디메틸디메톡시실란, 페닐트리에톡시실란, 디페닐디에톡시실란, 및 헥실트리메톡시실란으로 이루어진 알콕시실란군으로부터 1 종 이상 선택되는 디퓨징 기능을 갖는 LCD 반사층 베이스 코팅 조성물:Tetramethoxysilane, tetrapropoxysilane, methoxytrimethoxysilane, dimethyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, and diphenyldimethoxysilane are compounds represented by the above-mentioned siloxane-based polymer binders And a diffusing function selected from at least one alkoxysilane group consisting of tetraethoxysilane, methyltriethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, and hexyltrimethoxysilane. LCD reflective layer base coating composition having: [화학식 1][Formula 1] (상기 식에서,(Wherein R1은 수소, 탄소수 1∼4의 알킬기, 또는 페닐기이고,R 1 is hydrogen, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a phenyl group, R2는 탄소수 1∼4의 알킬기이고, n은 2 이상의 정수).R 2 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, n is an integer of 2 or more). 제 8 항에 있어서,The method of claim 8, 상기 ⅱ)의 용매가The solvent of ii) 메탄올, 에탄올, 이소부탄올, 및 3-메틸-3-메톡시부탄올으로 이루어진 알코올류;Alcohols consisting of methanol, ethanol, isobutanol, and 3-methyl-3-methoxybutanol; 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 및 싸이클로헥사논으로 이루어진 케톤류;Ketones consisting of methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; 디에틸에테르, 이소프로필에테르, 테트라히드로퓨란, 다이옥산, 에틸렌글리콜 디메틸에테르, 및 디에틸렌글리콜 디에틸에테르로 이루어진 에테르류;Ethers composed of diethyl ether, isopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, ethylene glycol dimethyl ether, and diethylene glycol diethyl ether; 에틸 아세테이트, n-부틸 아세테이트, 에틸렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르 아세테이트, 에틸렌글리콜 모노부틸에테르 아세테이트, 디에틸렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르 아세테이트, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르 아세테이트, 및 감마 부티롤락톤로 이루어진 에스테르류;Ethyl acetate, n-butyl acetate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether Esters consisting of acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, and gamma butyrolactone; N,N-디메틸포름아마이드, 및 N,N-디메틸아세트아마이드으로 이루어진 아마이드류; 및Amides consisting of N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide; And 2-피롤리돈, 및 N-메틸 피롤리돈으로 이루어진 피롤리돈류Pyrrolidones consisting of 2-pyrrolidone and N-methyl pyrrolidone 로 이루어지는 용매군으로 부터 선택되는 디퓨징 기능을 갖는 LCD 반사층 베이스 코팅 조성물.LCD reflective layer base coating composition having a diffusing function selected from the group consisting of solvents. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 c)의 열경화 가교형 아크릴레이트계 폴리머 용액이The thermosetting crosslinking acrylate polymer solution of c) ⅰ) 아크릴레이트계 폴리머;Iii) an acrylate polymer; ⅱ) 열경화제;Ii) thermosetting agents; ⅲ) 가교제; 및Iii) a crosslinking agent; And ⅳ) 용매Iii) solvent 를 포함하는 용액인 디퓨징 기능을 갖는 LCD 반사층 베이스 코팅 조성물.LCD reflective layer base coating composition having a diffusion function of a solution comprising a. 제 12 항에 있어서,The method of claim 12, 상기 열경화 가교형 아크릴레이트계 폴리머 용액이The thermosetting crosslinking acrylate polymer solution ⅰ) 아크릴레이트계 폴리머 30 내지 50 중량%;V) 30-50 wt% of the acrylate polymer; ⅱ) 열경화제 0.1 내지 5 중량;Ii) 0.1 to 5 weight of thermosetting agent; ⅲ) 가교제 1 내지 10 중량%; 및V) 1 to 10% by weight of crosslinking agent; And ⅳ) 용매 35 내지 68.9 중량%Iii) 35 to 68.9 weight percent solvent 를 포함하는 용액인 디퓨징 기능을 갖는 LCD 반사층 베이스 코팅 조성물.LCD reflective layer base coating composition having a diffusion function of a solution comprising a. 제 12 항에 있어서,The method of claim 12, 상기 ⅰ)의 아크릴레이트계 폴리머가 1 개의 에폭시기를 갖는 (메타)아크릴레이트와 1 개의 에틸렌성 불포화기를 갖는 단량체의 공중합체인 디퓨징 기능을 갖는 LCD 반사층 베이스 코팅 조성물.An LCD reflective layer base coating composition having a diffusing function, wherein the acrylate polymer of vi) is a copolymer of a (meth) acrylate having one epoxy group and a monomer having one ethylenically unsaturated group. 제 14 항에 있어서,The method of claim 14, 상기 1 개의 에폭시기를 갖는 (메타)아크릴레이트가 글리시딜 메타아크릴레이트 또는 하기 화학식 2로 나타내는 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 화합물인 디퓨징 기능을 갖는 LCD 반사층 베이스 코팅 조성물:An LCD reflective layer base coating composition having a diffusing function, wherein the (meth) acrylate having one epoxy group is a compound selected from the group consisting of glycidyl methacrylate or a compound represented by Formula 2 below: [화학식 2][Formula 2] (상기 식에서, R은 수소 또는 메틸기).Wherein R is hydrogen or a methyl group. 제 14 항에 있어서,The method of claim 14, 상기 1 개의 에틸렌성 불포화기를 갖는 단량체가 스타이렌, 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, 비닐아세테이트 및 탄소수 1∼12의 알킬기 (메타)아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 1 종 이상 선택되는 단량체인 디퓨징 기능을 갖는 LCD 반사층 베이스 코팅 조성물.Diffusing function wherein the monomer having one ethylenically unsaturated group is a monomer selected from the group consisting of styrene, acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl acetate and alkyl group (meth) acrylate having 1 to 12 carbon atoms LCD reflective layer base coating composition having a. 제 12 항에 있어서,The method of claim 12, 상기 ⅱ)의 열경화제가 열에 의해 산을 발생시키는 트리(니트로벤질)포스페이트, 또는 트리페닐포스핀의 산발생 열경화제, 및 열에 의해 염기를 발생시키는 니트로벤질 싸이클로헥실 카바메이트, 또는 디(메톡시벤질)헥사멕실렌 디카바메이트의 염기발생 열경화제로 이루어진 군으로부터 선택되는 열경화제인 디퓨징 기능을 갖는 LCD 반사층 베이스 코팅 조성물.Tri (nitrobenzyl) phosphate wherein the thermosetting agent of ii) generates acid by heat, or nitrobenzyl cyclohexyl carbamate which generates base by heat, or di (methoxy An LCD reflective layer base coating composition having a diffusing function, which is a thermosetting agent selected from the group consisting of a base generating thermosetting agent of benzyl) hexamexylene dicarbamate. 제 12 항에 있어서,The method of claim 12, 상기 ⅲ)의 가교제가 알킬아민, 방향족아민, 페놀류, 및 페놀류의 다이머로 이루어지는 군으로부터 선택되는 가교제인 디퓨징 기능을 갖는 LCD 반사층 베이스 코팅 조성물.An LCD reflective layer base coating composition having a diffusing function, wherein the crosslinking agent of (i) is a crosslinking agent selected from the group consisting of alkylamines, aromatic amines, phenols, and phenols. 제 12 항에 있어서,The method of claim 12, 상기 ⅳ)의 용매가The solvent of iii) 메탄올, 에탄올, 이소부탄올, 및 3-메틸-3-메톡시부탄올으로 이루어진 알코올류;Alcohols consisting of methanol, ethanol, isobutanol, and 3-methyl-3-methoxybutanol; 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 및 싸이클로헥사논으로 이루어진 케톤류;Ketones consisting of methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; 디에틸에테르, 이소프로필에테르, 테트라히드로퓨란, 다이옥산, 에틸렌글리콜 디메틸에테르, 및 디에틸렌글리콜 디에틸에테르로 이루어진 에테르류;Ethers composed of diethyl ether, isopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, ethylene glycol dimethyl ether, and diethylene glycol diethyl ether; 에틸 아세테이트, n-부틸 아세테이트, 에틸렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르 아세테이트, 에틸렌글리콜 모노부틸에테르 아세테이트, 디에틸렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르 아세테이트, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르 아세테이트, 및 감마 부티롤락톤로 이루어진 에스테르류;Ethyl acetate, n-butyl acetate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether Esters consisting of acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, and gamma butyrolactone; N,N-디메틸포름아마이드, 및 N,N-디메틸아세트아마이드으로 이루어진 아마이드류; 및Amides consisting of N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide; And 2-피롤리돈, 및 N-메틸 피롤리돈으로 이루어진 피롤리돈류Pyrrolidones consisting of 2-pyrrolidone and N-methyl pyrrolidone 로 이루어지는 용매군으로 부터 선택되는 디퓨징 기능을 갖는 LCD 반사층 베이스 코팅 조성물.LCD reflective layer base coating composition having a diffusing function selected from the group consisting of solvents.
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