KR20010040594A

KR20010040594A - 스타일링 샴푸 조성물

Info

Publication number: KR20010040594A
Application number: KR1020007008463A
Authority: KR
Inventors: 구스키수잔마리에
Original assignee: 데이비드 엠 모이어; 더 프록터 앤드 갬블 캄파니
Priority date: 1998-02-03
Filing date: 1999-02-03
Publication date: 2001-05-15
Also published as: MXPA00007404A; US5977036A; PE20000274A1; BR9910826A; JP2002501876A; ATE238025T1; HUP0102364A2; CN1289244A; CN1172653C; EP1054656A1; AU735207B2; CO4810223A1; DE69907145T2; EP1054656B1; ID26926A; AR019808A1; AU2572199A; DE69907145D1; HUP0102364A3; CA2317699A1

Abstract

약 5 내지 약 50 중량%의, 음이온성 계면활성제, 조성물의 pH에서 음이온성인 기를 갖는 쯔비터이온성 또는 양쪽성 계면활성제, 및 이들의 조합물로 구성되는 군으로부터 선택된 계면활성제; 약 0.025 내지 약 3 중량%의, 양이온성 전하 밀도는 약 0.2 내지 약 7 meq/gm이고 분자량은 약 5,000 내지 약 10,000,000인 유기성의 양이온성 중합체; 약 0.1 내지 약 10 중량%의 수불용성 헤어 스타일링 중합체; 약 0.1 내지 약 10 중량% 수불용성 휘발성 용매; 약 0.005 내지 약 2.0 중량%의 결정질의 히드록실-함유 안정화제; 및 약 26.5 내지 94.9 중량%의 물로 이루어진 헤어 스타일링 샴푸 조성물이 기재된다. 조성물은 스타일링 중합체가 헤어에 도포되는 것의 효율을 개선시켜, 샴푸 조성물로부터 스타일링 기능을 개선시킨다.

Description

스타일링 샴푸 조성물{STYLING SHAMPOO COMPOSITIONS}

많은 샴푸 조성물이 허용가능한 세정을 제공하지만 스타일링 이익, 예를 들어 보디 (body), 지탱, 빳빳함은 거의 제공하지 않는다. 이같은 이익을 실현시키기 위해, 별도의 세정 제품과 스타일링 제품을 종종 사용한다.

최근, 단일 제품으로부터 세정 및 스타일링 기능을 제공할 수 있는 헤어 샴푸 조성물이 개발되어 왔다. 이러한 제품 다수는 상용성 샴푸 베이스 내에 스타일링 중합체를 함유한다. 이같은 제품을 제조하기 위해, 스타일링 중합체를 유기 용매에 용해시킨 후 샴푸 베이스 내로 혼입시킬 수 있다. 그후 유기 용매는 스타일링 중합체가 샴푸 조성물 내에 분산되는 것을 돕고, 또한 스타일링 중합체가 헤어에 도포되는 것을 강화시켜 중합체가 고정되어 헤어 섬유 사이에 밀착을 형성하도록 한다. 스타일링 중합체가 헤어에 도포되는 것이 강화된 결과 샴푸 조성물로부터의 스타일링 기능이 개선된다.

샴푸로부터 중합체 침전을 더 개선시키기 위한 또다른 방법에는 양이온성 침전 중합체를 사용하는 것이 수반된다. 이러한 양이온성 침전 중합체는 스타일링 중합체의 침전 효율을 개선시키고, 또한 차례로 스타일링 기능을 개선시킨다. 또한 양이온성 중합체로부터 침전이 개선되어, 샴푸 조성물 내에 제형화되는 스타일링 중합체의 양이 감소되고 따라서 원료 비용이 감소될 수 있다. 그러나, 양이온성 침전 중합체는, 특히 더 높은 농도 또는 상대적으로 높은 양이온성 전하 밀도로 사용될 때, 제형 내의 다른 재료들과 상용성 문제를 일으킬 수 있다. 또한, 과량의 이같은 침전 중합체는 바람직하지 않게 코팅된 또는 오일성 습윤 헤어 촉감으로 귀착될 수 있고, 건조시 헤어가 더럽게 느껴지고 더 적은 보디, 더 적은 충만함을 갖게 할 수 있다.

이러한 성분들이 선택적 안정화제와 함께 조합될 때, 휘발성 담체 내의 이러한 수불용성 스타일링 중합체가 더욱 효과적이게 될 수 있고, 양이온성 침전 중합체와 관련된 침착(build-up) 논점이 해결될 수 있다는 것이 현재 발견되었다. 선택적 안정화제는 통상적인 안정화제에 비해 헤어 스타일링 중합체의 침전 효율을 강화시켜, 더 많은 제형이 더 낮은 수준으로 양이온성 침전 중합체를 사용하거나 개선된 침착 프로필을 갖는 새로운 양이온성 침전 중합체를 혼입할 수 있게 한다. 또한, 이러한 선택적 안정화제의 혼입 결과, 스타일링 샴푸로부터 최적의 스타일 성취 기능을 위해 원하는 스타일링 중합체 침전 형태 또는 특징을 헤어에 전달하면서 헤어 촉감이 상당히 개선된다.

따라서, 전술한 것의 관점에서, 개선된 스타일링 기능을 갖는 스타일링 샴푸 조성물을 제공하는 것이 본 발명의 목표이다. 본 발명의 추가적인 목표는 수불용성 스타일링 중합체, 스타일링 중합체용 휘발성 담체, 및 양이온성 침전 중합체와 조합된 선택적 안정화제를 사용함으로써 스타일링 샴푸의 반복 사용 후 헤어의 촉감 및 스타일링 샴푸의 보관 안정성을 개선하는 것이다.

발명의 개요

본 발명은, 약 5 내지 약 50 중량%의, 음이온성 계면활성제, 쯔비터이온성 또는 양쪽성 계면활성제, 및 이들의 조합물로 구성되는 군으로부터 선택된 계면활성제; 약 0.025 내지 약 3 중량%의, 양이온성 전하 밀도는 약 0.2 내지 약 7 meq/gm이고 분자량은 5,000 내지 약 10,000,000인 유기성의 양이온성 중합체; 약 0.1 내지 약 10 중량%의 수불용성 헤어 스타일링 중합체; 약 0.1 내지 약 10 중량%의, 본래는 비점은 약 300 ℃ 미만이고 수용성은 25 ℃에서 바람직하게는 약 0.2 중량% 미만인 스타일링 중합체용 담체인 수불용성 휘발성 용매; 및 약 0.005 내지 약 2.0 중량%의 결정질의 히드록실-함유 안정화제; 및 약 25.0 내지 94.8 중량%의 물로 이루어진 헤어 스타일링 샴푸 조성물에 관한 것이다.

본 발명의 샴푸 조성물이 이전의 스타일링 샴푸 조성물에 비해 스타일링 후 헤어의 개선된 촉감과 함께 개선된 스타일링 기능을 제공한다는 것이 발견되었다. 또한 선택적 안정화제가 양이온성 침전 중합체, 수불용성 스타일링 중합체, 스타일링 중합체용 수불용성 휘발성 담체, 계면활성제, 및 물과 조합되어 사용될 때, 이론에 제한되지 않으면서 통상적인 스타일링 중합체보다 강화된 스타일링 중합체 침전 효율을 제공한다는 것이 발견되었고, 보관 안정성에 도달하기 위해서 이러한 선택적 안정화제가 통상적인 안정화제보다 상당히 낮은 수준으로 사용될 수 있는 것으로 여겨진다. 또한, 소수의 안정화제는 계면활성제 미셀 내로 용해되어, 그 결과 양이온성 침전 중합체와 계면활성제 간의 코아세르베이트 형성을 덜 방해한다. 그 결과, 원하는 스타일링 중합체 침전 수준에 도달하기 위해 더 적은 양이온성 침전 중합체가 요구되고, 생성된 코아세르베이트는 받아들이기 어려운 코팅 특성 및 스타일링 샴푸의 반복 사용 후의 침착 없이 헤어에 컨디셔닝된 촉감을 전달한다.

본 발명은 개선된 스타일링 기능을 제공하는 헤어 스타일링 샴푸 조성물에 관한 것이다. 더욱 특별하게는, 본 발명은 수불용성 헤어 스타일링 중합체, 헤어 스타일링 중합체용 수불용성 담체, 양이온성 침전 중합체, 및 선택적 안정화제를 함유하여 스타일링 기능 및 헤어의 촉감을 개선시키는 헤어 스타일링 조성물에 관한 것이다.

본 발명의 샴푸 조성물은 본 명세서에 기재된 발명의 필수원소 및 한정물뿐만 아니라 본 명세서에 기재된 임의의 추가 또는 임의 재료, 성분 또는 한정물을 함유하거나, 이들로 구성되거나 또는 본질적으로 이들로 구성될 수 있다.

본 명세서에서 사용되는 용어 "수불용성"은 25 ℃의 물에서의 용해도가 약 0.5 중량% 미만, 바람직하게는 약 0.3 중량% 미만, 더더욱 바람직하게는 약 0.2 중량% 미만인 임의의 물질을 나타낸다.

모든 백분율, 부 및 비율은 다르게 구체화되지 않는 한 본 발명의 샴푸 조성물의 총 중량을 기준으로 한다. 모든 이같은 중량은 리스트된 성분에 속하므로 이들은 활성물 수준을 기준으로 하고, 따라서 다르게 구체화되지 않는 한 시판되는 물질에 포함될 수 있는 담체 또는 부산물은 포함하지 않는다.

이들의 필수 및 일부 임의 성분을 포함하여 본 발명의 스타일링 샴푸 조성물을 하기에 자세하게 설명한다.

세정성 계면활성제 성분

본 발명의 스타일링 샴푸 조성물은 조성물의 세정 기능을 제공하기 위한 세정성 계면활성제 성분을 함유한다. 이어서 세정성 계면활성제 성분은 음이온성 세정성 계면활성제, 쯔비터이온성 또는 양쪽성 세정성 계면활성제, 또는 이들의 조합물을 함유한다. 이같은 계면활성제는 물리화학적으로 본 명세서에 기술되는 필수성분과 상용성이거나, 제품 안정성, 미학 또는 기능을 과도하게 손상시키지 않아야 한다.

본 발명의 샴푸 조성물에서 사용하기에 적합한 음이온성 세정성 계면활성제 성분으로는 헤어 케어 또는 기타 신체 케어 세정 조성물에서 사용하기 위해 공지된 것들이 포함된다. 샴푸 조성물 내 음이온성 계면활성제 성분의 농도는 원하는 세정 및 거품 기능을 제공하기에 충분하여야 하고, 일반적으로 조성물 중량의 약 5 내지 약 50 %, 바람직하게는 약 8 내지 약 30 %, 더욱 바람직하게는 약 10 내지 약 25 %, 더더욱 바람직하게는 약 12 내지 약 22 %이다.

샴푸 조성물에서 사용하기에 바람직한 음이온성 계면활성제는 알킬 및 알킬 에테르 술페이트이다. 이러한 물질의 화학식은 각각 ROSO₃M 및 RO(C₂H₄O)_xSO₃M이고, 식 중 R은 탄소 원자 약 8 내지 약 18 개의 알킬 또는 알케닐이고, x는 1 내지 10의 값을 갖는 정수이고, M은 양이온 예컨대 암모늄, 알칸올아민, 예컨대 트리에탄올아민, 일가 금속, 예컨대 나트륨 및 칼륨, 및 다가 금속 양이온, 예컨대 마그네슘, 및 칼슘이다. 계면활성제의 용해도는 특정한 음이온성 세정성 계면활성제 및 선택되는 양이온에 따라 좌우될 것이다.

알킬 및 알킬 에테르 술페이트 모두에서, R은 바람직하게는 약 8 내지 약 18 개, 더욱 바람직하게는 약 10 내지 약 16 개, 더더욱 바람직하게는 약 12 내지 약 14 개의 탄소 원자를 갖는다. 알킬 에테르 술페이트는 전형적으로 에틸렌 옥시드와 약 8 내지 약 24 개의 탄소 원자를 갖는 일가 알코올의 축합 생성물로서 만들어진다. 알코올은 합성이거나 코코넛 오일 또는 야자핵 오일, 수지로부터 유도될 수 있다. 코코넛 오일 또는 야자핵 오일로부터 유도된 라우릴 알코올 및 직쇄 알코올이 바람직하다. 이같은 알코올을 약 0 내지 약 10, 바람직하게는 약 2 내지 약 5, 더욱 바람직하게는 약 3의 몰비의 에틸렌 옥시드와 반응시키고, 예를 들어 알코올 1 몰 당 평균 3 몰의 에틸렌 옥시드를 갖는 분자종의 생성된 혼합물을 황산화시키고 중화시킨다.

본 발명의 샴푸 조성물에 사용될 수 있는 알킬 에테르 술페이트의 구체적인 비제한적 예로는 코코넛 알킬 트리에틸렌 글리콜 에테르 술페이트, 탈로우 (tallow) 알킬 트리에틸렌 글리콜 에테르 술페이트, 및 탈로우 알킬 헥사옥시에틸렌 술페이트의 나트륨 및 암모늄 염이 포함된다. 더욱 바람직한 알킬 에테르 술페이트는 개별적 화합물의 혼합물로 이루어진 것으로, 혼합물 내의 화합물의 평균 알킬 사슬 길이는 탄소 원자 약 10 내지 약 16 개이고 평균 에톡실화도는 약 1 내지 약 4 몰의 에틸렌 옥시드이다.

기타 적합한 음이온성 세정성 계면활성제는 화학식 [R¹-SO₃-M] (식 중 R¹은 약 8 내지 약 24 개, 바람직하게는 약 10 내지 약 18 개의 탄소 원자를 갖는 직쇄 또는 측쇄의 포화 지방족 탄화수소 라디칼이고; M은 상기 기술된 양이온이다)에 따르는 유기성의 황산 반응 생성물의 가용성 염이다. 이같은 세정성 계면활성제의 비제한적 예는 블리치 및 가수분해를 포함하여 공지된 술폰화 방법에 따라 수득되는 술폰화제, 예를 들어, SO₃, H₂SO₄와 이소-, 네오- 및 n-파라핀을 포함하여 약 8 내지 약 24 개, 바람직하게는 약 12 내지 약 18 개의 탄소 원자를 갖는 메탄 계열 탄화수소와의 유기성의 황산 반응 생성물의 염이다. 알칼리금속 및 암모늄 술폰화 C₁₀내지 C₁₈n-파라핀이 바람직하다.

기타 적합한 음이온성 세정성 계면활성제는, 이세티온산으로 에스테르화되고 수산화나트륨으로 중화된 지방산 (식 중 지방산은 예를 들어 코코넛 오일 또는 야자핵 오일로부터 유도됨)의 반응 산물; 메틸 카우리드의 지방산 아미드(식 중 지방산은 예를 들어 코코넛 오일 또는 야자핵 오일로부터 유도되는 것이다)의 나트륨 또는 칼륨 염이다. 기타 유사한 음이온성 계면화성제는 본 발명에 참조로 반영된 US 특허 2,486,921; US 특허 2,486,922; 및 US 특허 2,396,278에 기술되어 있다.

샴푸 조성물에 사용하기에 적합한 기타 음이온성 세정성 계면활성제는 숙시네이트, 예를 들어 이나트륨 N-옥타데실술포숙시네이트; 디나트륨 라우릴 술포숙시네이트; 디암모늄 라우릴 술포숙시네이트; 테트라나트륨 N-(1,2-디카르복시에틸)-N-옥타데실술포숙시네이트; 나트륨 술포숙신산의 디아밀 에스테르; 나트륨 술포숙신산의 디헥실 에스테르; 및 나트륨 술포숙신산의 디옥틸 에스테르이다.

기타 적합한 음이온성 세정성 계면활서제에는 약 10 내지 약 24 개의 탄소 원자를 갖는 올레핀 술포네이트가 포함된다. 이러한 상황에서, 용어 "올레핀 술포네이트"는 비착물화된 삼산화황화합물에 의해 알파-올레핀을 술폰화시킨 후 반응에서 생성된 임의의 술폰이 가수분해되어 상응하는 히드록시-알칸술포네이트가 될 수 있는 조건 하에서 산 반응 혼합물을 중화시킴으로써 제조될 수 있는 화합물을 나타낸다. 삼산화황은 액체 또는 기체일 수 있고, 반드시는 아니지만 일반적으로 불활성 희석물, 예를 들어 액체 형태로 사용될 때는 SO₂액체, 염소화 탄화수소 등으로, 기체 형태로 사용될 때는 공기, 질소, SO₂기체 등으로 희석된다. 올레핀 술포네이트가 유도되는 알파-올레핀은 약 10 내지 약 24 개, 바람직하게는 약 12 내지 약 16 개의 탄소 원자를 갖는 모노-올레핀이다. 바람직하게는 이들은 직쇄 올레핀이다. 순수한 알켄 술포네이트 및 일부 히드록시-알칸술포네이트에 더하여, 올레핀 술포네이트는 반응 조건, 반응물의 비율, 올레핀 스탁(stock) 내의 출발 올레핀 및 불순물의 성질 및 술폰화 과정 동안의 부반응에 따라 미량의 기타 물질, 예컨대 알켄 디술포네이트를 함유할 수 있다. 이같은 알파-올레핀 술포네이트 혼합물의 비제한적 예는 본 발명에 참고로 반영된 US 특허 3,332,880에 기술되어 있다.

샴푸 조성물에 사용하기에 적합한 음이온성 세정성 계면활성제의 또다른 군은 베타-알킬옥시 알칸 술포네이트이다. 이러한 계면활성제는 하기 화학식에 따른다:

[식 중, R¹은 약 6 내지 약 20 개의 탄소 원자를 갖는 직쇄 알킬 기이고, R²은 약 1 내지 약 3 개, 바람직하게는 1 개의 탄소 원자를 갖는 저급 알킬 기이며, M은 상기 기술된 수용성 양이온이다].

샴푸 조성물에 사용하기에 적합한 바람직한 음이온성 세정성 계면활성제에는 암모늄 라우릴 술페이트, 암모늄 라우레트 술페이트, 트리에틸아민 라우릴 술페이트, 트리에틸아민 라우레트 술페이트, 트리에탄올아민 라우릴 술페이트, 트리에탄올아민 라우레트 술페이트, 모노에탄올아민 라우릴 술페이트, 모노에탄올아민 라우레트 술페이트, 디에탄올아민 라우릴 술페이트, 디에탄올아민 라우레트 술페이트, 라우릭 모노글리세리드 나트륨 술페이트, 나트륨 라우릴 술페이트, 나트륨 라우레트 술페이트, 칼륨 라우릴 술페이트, 칼륨 라우레트 술페이트, 나트륨 라우릴 사르코시네이트, 나트륨 라우로일 사르코시네이트, 라우릴 사르코신, 코코일 사르코신, 암모늄 코코일 술페이트, 암모늄 라우로일 술페이트, 나트륨 코코일 술페이트, 나트륨 라우로일 술페이트, 칼륨 코코일 술페이트, 칼륨 라우릴 술페이트, 트리에탄올아민 라우릴 술페이트, 트리에탄올아민 라우릴 술페이트, 모노에탄올아민 코코일 술페이트, 모노에탄올아민 라우릴 술페이트, 나트륨 트리데실 벤젠 술포네이트, 나트륨 도데실 벤젠 술포네이트, 및 이들의 조합물이 포함된다.

본 발명의 샴푸 조성물에 사용하기에 적합한 양쪽성 또는 쯔비터이온성 세정성 계면활성제에는 헤어 케어 또는 기타 신체 케어 세정물에서의 사용을 위해 공지된 것들이 포함된다. 바람직하게는 이같은 양쪽성 세정성 계면활성제의 농도는 조성물 중량의 약 0.5 내지 약 20%, 바람직하게는 약 1 내지 약 10 % 범위이다. 적합한 쯔비터이온성 또는 양쪽성 계면활성제의 비제한적 예는 명세서가 본 발명에 참고로 반영된 US 특허 5,104,646 (Bolich Jr. et al.), US 특허 5,106,609 (Bolich Jr. et al.)에 기술되어 있다.

샴푸 조성물에 사용하기에 적합한 양쪽성 세정성 계면활성제는 당업계에 잘 알려져 있고, 지방족 라디칼이 직쇄 또는 측쇄일 수 있고 지방족 치환체 중 하나는 약 8 내지 약 18 개의 탄소 원자를 갖고 하나는 음이온성 가용화기 예컨대 카르복시, 술포네이트, 포스페이트, 또는 포스포네이트를 함유하는 지방족 2차 및 3차 아민의 유도체로서 광범위하게 기술된 계면활성제들이 포함된다. 본 발명에 사용하기에 바람직한 양쪽성 세정성 계면활성제에는 코코암포아세테이트, 코코암포디아세테이트, 라우로암포아세테이트, 라우로암포디아세테이트, 및 이들의 혼합물이 포함된다.

샴푸 조성물에 사용하기에 적합한 쯔비터이온성 세정성 계면활성제는 당업계에 잘 알려져 있고, 지방족 라디칼이 직쇄 또는 측쇄일 수 있고 지방족 치환체 중 하나는 약 8 내지 약 18 개의 탄소 원자를 갖고 하나는 음이온성 기 예컨대 카르복시, 술포네이트, 술페이트, 포스페이트 또는 포스포네이트를 함유하는 지방족 4차 암모늄, 포스포늄, 및 술포늄 화합물의 유도체로서 광범위하게 기술된 계면활성제가 포함된다.

본 발명의 샴푸 조성물은 상기 기술된 음이온성 세정성 계면활성제 성분과 조합하여 사용하기 위한 부가적인 계면활성제를 더 함유할 수 있다. 적합한 임의의 계면활성제에는 비이온성 계면활성제가 포함된다. 임의의 부가적인 계면활성제 또한 샴푸 조성물의 필수성분과 물리화학적으로 상용성이거나 그렇지 않으면 제품의 기능, 미학 또는 안정성을 과도하게 손상시키지 않는 한, 헤어 또는 신체 케어 제품에서 사용하기 위해 당업계에 공지된 임의의 이같은 계면활성제를 사용할 수 있다. 샴푸 조성물 내 임의의 부가적인 계면활성제의 농도는 원하는 세정 또는 거품 기능, 선택된 임의의 계면활성제, 원하는 제품 농도, 조성물 내 기타 성분의 존재, 및 기타 당업계에 잘 알려진 요소들에 따라 변할 수 있다.

샴푸 조성물에 사용하기에 적합한 기타 음이온성, 쯔비터이온성, 양쪽성 또는 임의의 부가적인 계면활성제의 비제한적 예는 [McCutcheon's, Emulsifiers and Detergents, 1989 Annual, published by M.C. Publishing Co] 및 US 특허 3,929,678, US 특허 2,658,072; US 특허 2,438,091; US 특허 2,528,278에 기술되어 있고, 이들의 명세서는 본 발명에 참고로 반영되어 있다.

양이온성 침전 중합체

본 발명의 샴푸 조성물은 상기 기술된 스타일링 중합체 성분용 침전 보조물로서 유기성의 양이온성 중합체를 함유한다. 샴푸 조성물 내 양이온성 중합체의 농도는 샴푸 조성물 중량의 약 0.025 내지 약 3 %, 바람직하게는 약 0.05 내지 약 0.5 %, 더욱 바람직하게는 약 0.1 내지 약 0.25 % 범위이다.

본 발명의 샴푸 조성물에서 사용하기 위한 양이온성 중합체는 양이온성 질소-함유 부분 예컨대 4차 암모늄 또는 양이온성의 양성자가 첨가된 아미노 부분을 함유한다. 양이온성의 양성자가 첨가된 아민은 스타일링 샴푸 조성물의 특정한 종 및 선택된 pH에 따라 일차, 이차 또는 삼차 아민 (바람직하게는 2차 또는 3차)일 수 있다. 양이온성 중합체의 평균 분자량은 약 10,000,000 내지 약 5,000, 바람직하게는 약 100,000 이상, 더욱 바람직하게는 약 200,000 이상, 바람직하게는 약 2,000,000 이하, 더욱 바람직하게는 약 1,500,000 이하이다. 또한 중합체의 양이온성 전하 밀도는, 일반적으로 약 pH 3 내지 pH 9, 바람직하게는 약 pH 4 내지 pH 7인 샴푸 조성물을 사용하려는 pH에서 약 0.2 내지 약 7 meq/gm, 바람직하게는 약 0.4 meq/gm 이상, 더욱 바람직하게는 약 0.6 meq/gm 이상, 또한 바람직하게는 약 5 meq/gm 미만, 더욱 바람직하게는 약 2 meq/gm 미만이다.

중합체가 물, 샴푸 조성물, 또는 샴푸 조성물의 코아세르베이트 상에 계속 수용성인 한, 그리고 상대이온이 물리화학적으로 샴푸 조성물의 필수 성분과 상용성이거나 제품의 기능, 안정성 및 미학을 과도하게 손상시키지 않는 한 임의의 음이온성 상대이온을 양이온성 중합체와 공동으로 사용할 수 있다. 이같은 상대이온의 비제한적 예에는 할로겐화물 (예를 들어, 염소, 불소, 브롬, 요오드), 술페이트 및 메틸술페이트가 포함된다.

양이온성 중합체의 양이온성 질소-함유 부분은 일반적으로 이들의 단량체 단위 모두, 또는 더욱 전형적으로 일부에 치환체로서 존재한다. 따라서, 샴푸 조성물에서 사용하기 위한 양이온성 중합체에는 이하 간격 단량체로 나타내는 비양이온성 단량체와 임의조합된 4차 암모늄 또는 양이온성 아민-치환 단량체 단위의 단독중합체, 공중합체, 삼원혼성중합체 등이 포함된다. 이같은 중합체의 비제한적 예는 그 명세서가 본 발명에 참고로 반영된 [CTFA Cosmetic Ingredient Dictionary, 3rd edition, edited by Estrin, Crosley, and Haynes (The Cosmetic, Toiletry, and Fragrance Associaion, Inc., Washinton, D.C. (1982))]에 기술되어 있다.

적합한 양이온성 중합체의 비제한적 예에는 수용성 간격 단량체 예컨대 아크릴아미드, 메타크릴아미드, 알킬 및 디알킬 아크릴아미드, 알킬 및 디알킬 메타크릴아미드, 알킬 아크릴레이트, 알킬 메타크릴레이트, 비닐 카프로락톤 또는 비닐 피롤리돈과, 양이온성의 양성자가 첨가된 아민 또는 4차 암모늄 관능기를 갖는 비닐 단량체의 공중합체가 포함된다. 알킬 및 디알킬 치환된 단량체는 바람직하게는 C₁내지 C₇알킬 기, 더욱 바람직하게는 C₁내지 C₃알킬 기를 갖는다. 기타 적합한 간격 단량체에는 비닐 에스테르, 비닐 알코올 (폴리비닐 아세테이트의 가수분해에 의해 만들어짐), 무수말레산, 프로필렌 글리콜, 및 에틸렌 글리콜이 포함된다.

본 발명의 샴푸 조성물의 양이온성 중합체 내로의 내포에 적합한 양이온성의 양성자가 첨가된 아미노 또는 4차 암모늄 단량체에는 디알킬-아미노알킬 아크릴레이트, 디알킬아미노알킬 메타크릴레이트, 모노알킬아미노알킬 아크릴레이트, 모노알킬아미노알킬 메타크릴레이트, 트리알킬 메타크릴옥시알킬 암모늄 염, 트리알킬 아크릴옥시알킬 암모늄 염, 디알릴 4차 암모늄 염으로 치환된 비닐 화합물, 및 고리형 양이온성 질소-함유 고리 예컨대 피리디늄, 이미다졸륨, 및 4차 피롤리돈을 갖는 비닐 4차 암모늄 단량체, 예를 들어 알킬 비닐 이미다졸륨, 알킬 비닐 피리디늄, 알킬 비닐 피롤리돈 염이 포함된다. 단량체의 알킬 부분은 바람직하게는 저급 알킬 예컨대 C, C₂또는 C₃알킬이다.

본 발명에서 사용하기에 적합한 아민-치환된 비닐 단량체에는 디알킬아미노알킬 아크릴레이트, 디알킬아미노알킬 메타크릴레이트, 디알킬아미노알킬 아크릴아미드, 및 디알킬아미노알킬 메타크릴아미드가 포함되고, 여기서 알킬은 바람직하게는 C₁-C₇히드록시카르빌, 더욱 바람직하게는 C₁-C₃알킬이다.

샴푸 조성물에서 사용하기에 적합한 기타 양이온성 중합체에는 1-비닐-2-피롤리돈과 1-비닐-3-메틸이미다졸륨 염 (예를 들어 염소 염)의 공중합체 (Cosmetic, Toiletry, and Fragrance Association "CTFA"에 의해 공업계에 Polyquaternium-16으로 알려짐), 예컨대 BASF Wyandotte Corp., (Parsippany, New Jersey, USA) 사가 상표명 LUVIQUAT으로 판매하는 것 (예를 들어, LUVIQUAT FC 370); 1- 비닐-2-피롤리돈과 디메틸아미노에틸 메타크릴레이트의 공중합체 (CTFA에 의해 공업계에 Polyquaternium-11으로 알려짐) 예컨대 ISP Corporation (Wayne, New Jersey, USA) 사가 상표명 GAFQUAT으로 판매하는 것 (예를 들어, GAFQUAT 755N); 양이온성 디알릴 4차 암모늄-함유 중합체, 예를 들어, 디메틸디알릴암모늄 클로라이드 단독중합체 및 아크릴아미드와 디메틸디알릴암모늄 클로라이드의 공중합체 (각각 공업계 (CTFA)에 Polyquaternium 6 및 7로 알려짐); 및 본 발명에 명세서가 참고로 반영된 US 특허 4,009,256에 기술된 대로 3 내지 5 개의 탄소 원자를 갖는 불포화 카르복실산의 단독중합체 또는 공중합체의 아미노-알킬 에스테르의 무기산 염이 포함된다.

샴푸 조성물에서 사용하기에 적합한 기타 양이온성 중합체에는 다당류 중합체, 예컨대 양이온성 셀룰로스 유도체 및 양이온성 전분 유도체가 포함된다. 적합한 양이온성 다당류 중합체에는 하기 화학식에 따른 것들이 포함된다:

[식 중, A는 무수글루코스 잔기, 예컨대 전분 또는 셀룰로스 무수글루코스 잔기이고; R은 알킬렌 옥시알킬렌, 폴리옥시알킬렌, 또는 히드록시알킬렌 기, 또는 이들의 조합물이고; R¹, R²및 R³은 독립적으로 알킬, 아릴, 알킬아릴, 아릴알킬, 알콕시알킬, 또는 알콕시아릴 기이고, 각 기는 약 18 개 이하의 탄소 원자를 함유하며 각 양이온성 부분에 대한 탄소 원자의 총 수 (즉, R¹, R²및 R³내 탄소 원자의 합) 는 바람직하게는 약 20 미만이며; X는 상기 기술된 음이온성 상대이온이다].

바람직한 양이온성 셀룰로스 중합체는 Amerchol Corp. (Edison, NJ, USA) 사가 Polymer JR 및 LR 시리즈의 중합체 내에서 트리메틸 암모늄 치환된 에폭시드와 반응된 히드록시에틸 셀룰로스의 염으로서 판매하는 중합체이다 (공업계 (CTFA)에 Polyquaternium 10으로 알려짐). 바람직한 양이온성 셀룰로스의 또다른 유형에는, 공업계 (CTFA)에 Polyquaternium 10으로 알려진 라우릴 디메틸 암모늄-치환된 에폭시드와 반응된 히드록시에틸 셀룰로스의 중합성 4차 암모늄 염이 포함된다. 이러한 물질은 Amerchol Corp. (Edison, NJ, USA) 사가 상표명 Polymer LM-200 으로 판매한다.

기타 적합한 양이온성 중합체에는 양이온성 구아 검 유도체, 예컨대 구아 히드록시프로필트리모늄 클로라이드가 포함되고, 이것의 구체적인 예로는 Rhone-Poulenc Incorporated 사가 판매하는 재규어 시리즈가 포함된다. 기타 적합한 양이온성 중합체로는 4차 질소-함유 셀룰로스 에테르가 포함되고, 이것의 일부 예는 본 발명에 명세서가 참고로 반영된 US 특허 3,962,418에 기술되어 있다. 기타 적합한 양이온성 중합체에는 에테르화 셀룰로스, 구아 또는 전분의 공중합체가 포함되고, 이들의 일부 예는 본 발명에 그 명세서가 참고로 반영된 US 특허 3,958,581에 기술되어 있다.

본 발명의 양이온성 중합체는 샴푸 조성물에 용해될 수 있거나, 바람직하게는 상기 기술된 양이온성 중합체 및 음이온성 세정성 계면활성제 성분으로 형성된 샴푸 조성물 내의 착물화된 코아세르베이트 상에 용해될 수 있다. 양이온성 중합체의 착물화된 코아세르베이트는 샴푸 조성물 내의 다른 충전된 물질로 형성될 수도 있다.

코아세르베이트 형성은 각종 기준 예컨대 분자량, 성분 농도, 및 상호반응 이온성 성분의 비, 이온 강도 (예를 들어 염의 첨가에 의한 이온 강도의 변형 포함), 양이온성 및 음이온성 성분의 전하 밀도, pH 및 온도에 의존한다. 코아세르베이트 시스템 및 이러한 파라메터들의 효과는, 예를 들어, [J. Caelles, et al., "Anionic and Cationic Compounds in Mixed Systems", Cosmetic ＆ Toiletries, Vol. 106, April 1991, pp 49-54], [C. J. van Oss, "Coacervation, Complex-Coacervation and Flocculation", J. Dispersion Science and Technology, Vol. 9 (5,6), 1988-89, pp 561-573], 및 [D. J. Burgess, "Practical Analysis of Complex Coacervate Systems", J. of Colloid and Interface Science, Vol. 140, No. 1, November 1990, pp 227-238]에 기술되어 있고, 이들의 명세서는 본 발명에 참고로 반영된다.

양이온성 중합체가 샴푸 조성물 내에서 코아세르베이트 상 내에 존재하거나 샴푸의 도포 또는 헹굼 시 또는 헤어로부터 코아세르베이트 상을 형성하는 것이 특히 유리한 것으로 여겨진다. 착물화된 코아세르베이트는 더욱 쉽게 헤어 상에 침전되는 것으로 여겨진다. 따라서, 일반적으로, 양이온성 중합체가 샴푸 조성물 내에서 코아세르베이트 상으로 존재하거나 희석 시 코아세르베이트 상을 형성하는 것이 바람직하다. 샴푸 조성물 내에서 아직 코아세르베이트가 아니면, 바람직하게는 양이온성 중합체는 물로 희석될 때 샴푸 조성물 내에서 착물화된 코아세르베이트 형태로 존재할 것이다.

착물화된 코아세르베이트 형성을 분석하기 위한 기술은 당업계에 공지되어 있다. 예를 들어, 임의의 희석 단계에서 샴푸 조성물의 현미경 분석을 사용하여 코아세르베이트 상이 형성되었는지를 확인할 수 있다. 염료의 사용은 코아세르베이트 상을 샴푸 조성물 내에 분산된 기타 불용성 상으로부터 구별하는 것을 도울 수 있다.

스타일링 중합체

본 발명의 샴푸 조성물은 수불용성 헤어 스타일링 중합체를 조성물 중량의 약 0.1 내지 약 10 %, 바람직하게는약 0.3 내지 약 7 %, 더욱 바람직하게는 약 0.5 내지 약 5 % 범위의 농도로 함유한다. 이러한 스타일링 중합체는 샴푸 조성물의 도포 후 헤어 상에 중합성 침전을 제공함으로써 본 발명의 샴푸 조성물에 헤어 스타일링 기능을 제공한다. 헤어에 침전된 중합체는 부착 강도 및 점착 강도를 갖고 당업계의 숙련가에게 알려진 대로 주로 건조 시 헤어 섬유 사이에 밀착을 형성함으로써 스타일링을 부여한다.

많은 이같은 중합체가 당업계에 공지되어 있고, 수불용성 유기중합체 및 수불용성 실리콘-그래프트된 중합체가 포함되며, 상기 기술된 필수 특징 및 특성을 갖는한 이들 모두는 본 발명의 샴푸 조성물에 사용하기에 적합하다. 이같은 중합체는 당업계에 잘 알려진 통상적이거나 그렇지 않으면 공지된 중합 기술, 예를 들어 자유 라디칼 중합반응에 의해 제조될 수 있다.

본 발명의 샴푸 조성물에서 사용하기에 적합한 유기 및 실리콘 그래프트된 중합체의 예를 하기에 더욱 자세하게 설명한다.

I. 유기성의 스타일링 중합체

본 발명의 샴푸 조성물에서 사용하기에 적합한 헤어 스타일링 중합체에는 당업계에 잘 알려진 유기성의 헤어 스타일링 중합체가 포함된다. 유기성의 스타일링 중합체는 단독중합체, 공중합체, 삼원혼성중합체 또는 기타 고급 중합체일 수 있지만, 하나 이상의 중합가능한 소수성 단량체를 함유하여 생성된 스타일링 중합체가 상기 정의된대로 수불용성이고 소수성이도록 해야한다. 따라서, 생성된 스타일링 중합체가 필수적인 소수성 및 수불용성을 갖는한 스타일링 중합체는 기타 수용성, 친수성 단량체를 더 함유할 수 있다.

본 명세서에서 사용되는 용어 "소수성 단량체"는 유사한 단량체와 함께 수불용성 단독중합체를 형성할 수 있는 중합가능한 유기 단량체를 나타내고, 용어 "친수성 단량체"는 유사한 단량체와 수용성 단독중합체를 형성할 수 있는 중합가능한 유기 단량체를 나타낸다.

바람직하게는 유기성의 스타일링 중합체의 중량 평균 분자량은 약 20,000 이상, 바람직하게는 약 25,000 이상, 더욱 바람직하게는 약 30,000 이상, 가장 바람직하게는 약 35,000 이상이다. 실제적인 이유, 예컨대 처리과정, 미학적 특성, 제형화가능성 등을 위해 발명의 적용성을 제한하는 것 이외에는 분자량에 대한 상한은 없다. 일반적으로 중량 평균 분자량은 약 10,000,000 미만, 더욱 일반적으로는 약 5,000,000 미만, 전형적으로는 약 2,000,000 미만이다. 바람직하게는 , 중량 평균 분자량은 약 20,000 내지 약 2,000,000, 더욱 바람직하게는 약 30,000 내지 약 1,000,000, 가장 바람직하게는 약 40,000 내지 약 500,000일 것이다.

또한 바람직하게는 유기성의 스타일링 중합체의 유리 전이 온도 (Tg) 또는 결정질 융점 (Tm)은 약 -20 ℃ 이상, 바람직하게는 약 20 ℃ 내지 약 80 ℃, 더욱 바람직하게는 약 20 ℃ 내지 약 60 ℃이다. 이러한 Tg 또는 Tm을 갖는 스타일링 중합체는 접촉에 대해 과도하게 끈적거리거나 진득거리지 않는 스타일링 필름을 형성한다. 주어진 중합체에 대해 이같은 전이가 존재한다면 본 명세서에서 사용되는 약자 "Tg"는 중합체 골격의 유리 전이 온도를 나타내고, 약자 "Tm"은 골격의 결정질 융점을 나타낸다. 바람직하게는, Tg 및 Tm 모두, 존재한다면, 상기 기술된 범위 내이다.

유기성의 스타일링 중합체는 소수성 단량체 예컨대 에틸렌계 불포화 단량체의 중합반응으로부터 유도된 탄소 사슬, 셀룰로스 사슬 또는 기타 탄수화물-유도 중합성 사슬이다. 골격은 에테르 기, 에스테르 기, 아미드 기, 우레탄, 이들의 조합물 등을 함유할 수 있다.

유기성의 스타일링 중합체는, 생성된 스타일링 중합체가 필수적인 소수성 특성 및 수불용성을 갖는 한, 본 명세서에 기술된 소수성 단량체와 조합된 하나 이상의 친수성 단량체를 추가로 함유할 수 있다. 적합한 친수성 단량체에는 아크릴산, 메타크릴산, N,N-디메틸아크릴아미드, 디메틸 아미노에틸 메타크릴레이트, 4차 디메틸아미노에틸 메타크릴레이트, 메타크릴아미드, N-t-부틸 아크릴아미드, 말레산, 무수말레산 및 이의 반-에스테르, 크로톤산, 이타콘산, 아크릴아미드, 아크릴레이트 알코올, 히드록시에틸 메타크릴레이트, 디알릴디메틸 암모늄 클로라이드, 비닐 피롤리돈, 비닐 에테르 (예컨대 메틸 비닐 에테르), 말레이미드, 비닐 피리딘, 비닐 이미다졸, 기타 극성 비닐 헤테로고리, 스티렌 술포네이트, 알릴 알코올, 비닐 알코올 (예컨대 중합 후 비닐 아세테이트의 가수분해에 의해 제조되는 것), 상기 나열된 임의의 산 및 아민의 염, 및 이들의 혼합물이 포함되지만, 여기에 한정되는 것은 아니다. 바람직한 친수성 단량체에는 아크릴산, N,N-디메틸 아크릴아미드, 디메틸아미노에틸 메타크릴레이트, 4차 디메틸 아미노에틸 메타크릴레이트, 비닐 피롤리돈, 상기 나열된 산 및 아민의 염, 및 이들의 조합물이 포함된다.

유기성의 스타일링 중합체에서 사용하기에 적합한 소수성 단량체에는 C₁-C₁₈알코올, 예컨대 메탄올, 에탄올, 메톡시 에탄올, 1-프로판올, 2-프로판올, 1-부탄올, 2-메틸-1-프로판올, 1-펜탄올, 2-펜탄올, 3-펜탄올, 2-메틸-1--부탄올, 1-메틸-1-부탄올, 3-메틸-1-부탄올, 1-메틸-1-펜탄올, 2-메틸-1-펜탄올, 3-메틸-1-펜탄올, t-부탄올(2-메틸-2-프로판올), 시클로헥산올, 네오데칸올, 2-에틸-1-부탄올, 3-헵탄올, 벤질 알코올, 2-옥탄올, 6-메틸-1-헵탄올, 2-에틸-1-헥산올, 3,5-디메틸-1-헥산올, 3,5,5-트리메틸-1-헥산올, 1-데칸올, 1-도데칸올, 1-헥사데칸올, 1-옥타 데칸올 등의 아크릴산 또는 메타크릴산 에스테르 (알콜은 약 1 내지 약 18 개의 탄소 원자, 바람직하게는 약 1 내지 약 12 개의 탄소 원자를 갖는다); 스티렌; 폴리스티렌 마크로머; 비닐 아세테이트; 비닐 클로라이드; 비닐리덴 클로라이드; 비닐 프로피오네이트; 알파-메틸스티렌; t-부틸스티렌; 부타디엔; 시클로헥사디엔; 에틸렌; 프로필렌; 비닐 톨루엔; 및 이들의 혼합물이 포함되지만, 여기에 한정되는 것은 아니다. 바람직한 소수성 단량체에는 n-부틸 메타크릴레이트, 이소부틸 메타크릴레이트, t-부틸 아크릴레이트, t-부틸 메타크릴레이트, 2-에틸헥실 메타크릴레이트, 메틸 메타크릴레이트, 비닐 아세테이트, 및 이들의 혼합물, 더욱 바람직하게는 t-부틸 아크릴레이트, t-부틸 메타크릴레이트 또는 이들의 조합물이 포함된다.

샴푸 조성물에서 사용하기 위한 스타일링 중합체는 바람직하게는 약 20 내지 100 중량%, 더욱 바람직하게는 약 50 내지 약 100 중량%, 더더욱 바람직하게는 약 60 내지 약 100 중량%의 소수성 단량체를 함유하고, 0 내지 약 80 중량%의 친수성 단량체를 추가로 함유할 수 있다. 스타일링 중합체 내로의 혼입하기 위한 단량체의 특정한 선택 및 조합은 중합체의 관능성을 결정하는데 도움을 줄 것이다. 예를 들어 친수성 및 소수성 단량체의 적절한 선택 및 조합에 의해, 스타일링 조성물이 샴푸 조성물의 상기 기술된 선택된 스타일링 중합체 용매 및 다른 성분들과의 물리화학적 상용성에 대해 최적화될 수 있다. 그러나, 유기성의 스타일링 중합체의 선택된 단량체 조성은 스타일링 중합체가 물에는 불용성이지만 상기 기술된 선택된 스타일링 중합체 용매에는 용해될 수 있도록 해야한다. 이러한 상황에서, 유기 중합체가 선택된 샴푸 제형의 중합체 및 용매 농도에서 25 ℃의 용매에 용해될 수 있다면 유기성의 스타일링 중합체는 스타일링 중합체 용매에 용해될 수 있다. 그러나, 유기성의 스타일링 중합체 및 스타일링 중합체 용매의 용액은 스타일링 중합체 용매에 스타일링 중합체가 용해되는 것을 가속화하기 위해 가열될 수 있다. 원하는 용해도를 얻기 위해, 스타일링 중합체에서 사용하기 위한 단량체의 선택을 포함하여, 이같은 스타일링 중합체 및 용매 제형화는 당업계의 숙련자의 기술 내이다.

바람직한 유기성의 스타일링 중합체의 예에는 단량체의 중량/중량비가 약 95/5, 약 90/10, 약 80/20, 약 70/30, 약 60/40, 및 약 50/50인 t-부틸 아크릴레이트/2-에틸헥실 아크릴레이트 공중합체; 단량체의 중량/중량비가 약 95/5, 약 90/10, 약 80/20, 약 70/30, 약 60/40, 및 약 50/50인 t-부틸 아크릴레이트/2-에틸헥실 메타크릴레이트 공중합체; 단량체의 중량/중량비가 약 95/5, 약 90/10, 약 80/20, 약 70/30, 약 60/40, 및 약 50/50인 t-부틸 메타크릴레이트/2-에틸헥실 아크릴레이트 공중합체; 단량체의 중량/중량비가 약 95/5, 약 90/10, 약 80/20, 약 70/30, 약 60/40, 및 약 50/50인 t-부틸 메타크릴레이트/2-에틸헥실 메타크릴레이트 공중합체; 단량체의 중량/중량비가 약 95/5, 약 90/10, 약 80/20, 약 70/30, 약 60/40, 및 약 50/50인 t-부틸 에타크릴레이트/2-에틸헥실 메타크릴레이트 공중합체; 단량체의 중량/중량비가 약 10/90 및 약 5/95인 비닐 피롤리돈/비닐 아세테이트 공중합체; 및 이들의 혼합물이 포함된다.

특히 바람직한 중합체는 단량체의 중량/중량비가 약 95/5, 약 90/10, 약 80/20, 약 70/30, 약 60/40, 및 약 50/50인 t-부틸 아크릴레이트/2-에틸헥실 메타크릴레이트 공중합체; 단량체의 중량/중량비가 약 95/5, 약 90/10, 약 80/20, 약 70/30, 약 60/40, 및 약 50/50인 t-부틸 메타크릴레이트/2-에틸헥실 메타크릴레이트 공중합체; 및 이들의 혼합물이 포함된다.

기타 적합한 스타일링 중합체의 예는 US 특허 5,120,531 (Wells et al., 1992년 6월 9일); US 특허 5,120,532 (Wells et al., 1992년 6월 9일); US 특허 5,104,642 (Wells et al., 1992년 4월 14일); US 특허 4,272,511 (Papantoniou et al., 1981년 6월 9일); US 특허 5,672,576 (Behrens et al., 1997년 9월 30일); 및 US 특허 4,196,190 (Gehman et al., 1980년 4월 1일)에 기술되어 있고, 이들의 명세서는 본 발명에 참고로 반영된다.

II. 실리콘-그래프트된 스타일링 중합체

본 발명의 샴푸 조성물에서 사용하기에 적합한 기타 스타일링 중합체는 실리콘-그래프트된 헤어 스타일링 수지이다. 이러한 중합체는 단독으로 또는 상기 기술된 유기성의 스타일링 중합체와 조합되어 사용될 수 있다. 본 발명의 샴푸 조성물에서 사용하기에 적합한 많은 이러한 중합체들은 당업계에 공지되어 있다. 이러한 중합체들은 중합성 탄소-기재 골격에 공유결합되어 매달려 있는 폴리실록산 부분을 특징으로 한다.

실리콘-그래프트된 중합체의 골격은 바람직하게는 에틸렌계 불포화 단량체의 중합반응에서 유도되는 탄소 사슬이지만, 또한 폴리실록산 부분이 매달려있는 셀룰로스성 사슬 또는 기타 탄수화물-유도 중합성 사슬일 수도 있다. 또한 골격에는 에티르 기, 에스테르 기, 아미드 기, 우레탄 기 등도 포함될 수 있다. 폴리실록산 부분은 중합체 상에 치환되거나, 폴리실록산-함유 중합가능 단량체 (예를 들어 에틸렌계 불포화 단량체, 에테르 및/또는 에폭시드)와 폴리실록산을 함유하지 않는 중합가능 단량체와의 공중합반응에 의해 만들어질 수 있다.

샴푸 조성물에서 사용하기 위한 실리콘-그래프트된 스타일링 중합체는 골격으로부터 매달려있는 실리콘 마크로머를 형성하는 "실리콘-함유" (또는 "폴리실록산-함유") 단량체, 및 중합체의 유기 골격을 형성하는 실리콘을 함유하지 않는 단량체를 함유한다.

바람직한 실리콘-그래프트된 중합체는 유기 골격, 바람직하게는 에틸렌계 불포화 단량체로부터 유도된 탄소 골격, 예컨대 비닐 중합체성 골격, 및 골격에 그래프트된 폴리실록산 마크로머 (특히 폴리디알킬실록산이 바람직하고, 폴리디메틸실록산이 가장 바람직하다)를 함유한다. 폴리실록산 마크로머의 중량 평균 분자량은 약 500 이상, 바람직하게는 약 1,000 내지 약 100,000, 더욱 바람직하게는 약 2,000 내지 약 50,000, 가장 바람직하게는 약 5,000 내지 약 20,000이어야한다. 예상되는 유기 골격에는 비닐 단량체를 포함하여, 중합가능한, 에틸렌계 불포화 단량체, 및 기타 축합 단량체(예를 들어, 중합되어 폴리아미드 및 폴리에스테르를 형성하는 것들), 고리-열림 단량체 (예를 들어, 에틸렌 옥사졸린 및 카프로락톤 등) 등으로부터 유도되는 것들이 포함된다. 또한, 셀룰로스성 사슬 기재의 골격, 에테르-함유 골격 등이 예상된다.

샴푸 조성물에서 사용하기에 바람직한 실리콘 그래프트된 중합체는 하나 이상의 자유 라디칼적으로 중합가능한 에틸렌계 불포화 단량체(들) 및 하나 이상의 자유 라디칼적으로 중합가능한 폴리실록산-함유 에틸렌계 블포화 단량체(들)로부터 유도되는 단량체 단위를 함유한다.

샴푸 조성물에서 사용하기에 적합한 실리콘 그래프트된 중합체는 일반적으로 약 1 내지 약 50 중량%의 폴리실록산-함유 단량체 단위 및 약 50 내지 약 99 중량%의 폴리실록산을 함유하지 않는 단량체로 이루어진다. 폴리실록산을 함유하지 않는 단량체 단위는 상기 기술된 친수성 및/또는 소수성 단량체 단위로부터 유도될 수 있다.

따라서 샴푸 조성물에서 사용하기 위한 스타일링 중합체는, 생성된 스타일링 중합체가 상기 기술된 필수적인 특정을 갖는 한, 본 명세서에 기술된 친수성 성분과 함께 또는 이 성분 없이, 본 명세서에서 기술된 소수성 및/또는 폴리실록산-함유 단량체 단위의 조합물을 함유할 수 있다.

적합한 중합가능한 폴리실록산-함유 단량체에는 하기 화학식에 따르는 단량체들이 포함되지만 여기에 한정되는 것은 아니다:

X(Y)_nSi(R)_3-mZ_m

[식 중 X는 본 명세서에 기재된 소수성 단량체와 공중합될 수 있는 에틸렌계 불포화 기, 예컨대 비닐 기이고; Y는 2가 결합기이고; R은 수소, 히드록실, 저급 알킬 (예를 들어 C₁-C₄), 아릴, 알카릴, 알콕시 또는 알킬아미노이고; Z는 수평균 분자량이 약 500 이상이고, 공중합반응 조건 하에서 본질적으로 비반응성이고 상기 기술된 비닐 골격으로부터 매달려 있는 1가 실록산 중합체성 부분이고; n은 0 또는 1이며; m은 1 내지 3의 정수이다]. 이러한 중합가능한 폴리실록산-함유 단량체의 중량 평균 분자량은 상기 기술된 대로이다.

바람직한 폴리실록산-함유 단량체는 하기 화학식에 따른 것이다:

[식 중 m은 1,2 또는 3이고 (바람직하게는 m=1); p는 0 또는 1이고; q는 2 내지 6의 정수이고; R¹은 수소, 히드록실, 저급 알킬, 알콕시, 알킬아미노, 아릴 또는 알카릴이고 (바람직하게는 R¹은 알킬이다); X는 하기 화학식에 따른 것이고:

{식 중 R²은 수소 또는 -COOH이고 (바람직하게는 R²은 수소이다); R³는 수소, 메틸 또는 -CH₂COOH이다 (바람직하게는 R³은 메틸이다)}; Z는 하기 화학식에 따른 것이다:

{식 중 R⁴, R⁵및 R⁶은 독립적으로 저급 알킬, 알콕시, 알킬아미노, 아릴, 아릴알킬, 수소 또는 히드록실이고 (바람직하게는 R⁴, R⁵및 R⁶은 알킬이다); r은 약 5 이상, 바람직하게는 약 10 내지 약 1500의 정수이다 (가장 바람직하게는 r은 약 100 내지 약 250이다)}]. 가장 바람직하게는, R⁴, R⁵및 R⁶은 메틸이고, p=0이며, q=3이다.

또다른 바람직한 폴리실록산 단량체는 하기 화학식 중 하나에 따른 것이다:

[식 중, s는 0 내지 약 6의 정수, 바람직하게는 0, 1 또는 2, 더욱 바람직하게는 0 또는 1이고; m은 1 내지 3의 정수, 바람직하게는 1이고; R²는 C1-C10 알킬 또는 C7-C10 알킬아릴, 바람직하게는 C1-C6 알킬 또는 C7-C10 알킬아릴, 더욱 바람직하게는 C1-C2 알킬이고; n은 0 내지 4의 정수, 바람직하게는 0 또는 1, 더욱 바람직하게는 0이다].

샴푸 조성물에서 사용하기에 적합한 실리콘 그래프트된 중합체는 바람직하게는 중합체 중량의 약 50 내지 약 99 %, 더욱 바람직하게는 약 60 내지 약 98 %, 가장 바람직하게는 약 75 내지 약 95 %의 실리콘 마크로머를 함유하지 않는 단량체 단위, 예를 들어 본 명세서에 기술된 전체 소수성 및 친수성 단량체 단위, 및 약 1 내지 약 50 %, 바람직하게는 약 2 내지 약 40 %, 더욱 바람직하게는 약 5 내지 약 25 %의 실리콘 마크로머-함유 단량체 단위, 예를 들어 본 명세서에 기재된 폴리실록산-함유 단량체 단위로 이루어진다. 친수성 단량체 단위의 수준은 약 0 내지 약 70 %, 바람직하게는 약 0 내지 약 50 %, 더욱 바람직하게는 약 0 내지 약 30 %, 가장 바람직하게는 약 0 내지 약 15 %일 수 있고, 소수성 단량체 단위의 수준은 30 내지 약 99 %, 바람직하게는 약 50 내지 약 98 %, 더욱 바람직하게는 약 70 내지 약 95 %, 가장 바람직하게는 약 85 내지 약 95 %일 수 있다.

본 발명의 샴푸 조성물에서 사용하기에 적합한 몇몇 실리콘 그래프트된 중합체의 예를 하기에 나열한다. 나열된 각각 중합체 뒤에 합성에서 사용된 단량체의 중량부로 단량체 조성을 나타낸다:

(i) t-부틸아크릴레이트/t-부틸-메타크릴레이트/2-에틸헥실-메타크릴레이트/PDMS 마크로머-20,000 분자량 마크로머 31/27/32/10;

(ii) t-부틸메타크릴레이트/2-에틸헥실-메타크릴레이트/PDMS 마크로머-15,000 분자량 마크로머 75/10/15;

(iii) t-부틸메타크릴레이트/2-에틸헥실-아크릴레이트/PDMS 마크로머-10,000 분자량 마크로머 65/15/20;

(iv) t-부틸아크릴레이트/2-에틸헥실-아크릴레이트/PDMS 마크로머-14,000 분자량 마크로머 77/11/12;

(v) t-부틸아크릴레이트/2-에틸헥실-메타크릴레이트/PDMS 마크로머-13,000 분자량 마크로머 81/9/10.

본 발명의 샴푸 조성물에서 사용하기에 적합한 기타 실리콘 그래프트된 중합체의 예는 EPO 출원 90307528 (EPO 출원 0 408 311 A2로 1991년 1월 11일에 공개됨, Hayama et al.); US 특허 5,061,481 (1991년 10월 29일에 허여됨, Suzuki et al.); US 특허 5,106,609 (Bolich et al., 1992년 4월 21일에 허여됨); US 특허 5,100,658 (Bolich et al., 1992년 3월 31일에 허여됨); US 특허 5,100,657 (Ansher-Jackson, et al., 1992년 3월 31일에 허여됨); US 특허 5,104,646 (Bolich et al., 1992년 4월 14일에 허여됨); US 일련번호 07/758,319 (Bolich et al., 1991년 8월 27일 출원), US 일련번호 07/758,320 (Torgerson et al., 1991년 8월 27일 출원)에 기술되어 있고, 이들의 명세서는 본 발명에 참고로 반영된다.

스타일링 중합체용 휘발성 담체

본 발명의 샴푸 조성물은 상기 기술된 헤어 스타일링 중합체를 용해시키기 위한 휘발성 담체를 함유한다. 담체는 헤어 스타일링 중합체가 수불용성 유체 입자로서샴푸 조성물에 분산되는 것을 돕고, 분산된 입자들은 스타일링 중합체 및 휘발성 담체를 함유한다. 이러한 목적에 적합한 담체에는 탄화수소, 에테르, 에스테르, 아민, 알킬 알코올, 휘발성 실리콘 유도체 및 이들의 조합물이 포함되고, 많은 예가 당업계에 공지되어 있다.

휘발성 담체는 수불용성이거나 수용성이 낮아야 한다. 그러나, 선택된 스타일링 중합체는 선택된 담체에 충분히 용해되어 헤어 스타일링 중합체와 용매 조합물의 분산액이 샴푸 조성물 내에서 별도의 분산된 유체 상이도록 해야 한다.

또한 샴푸 조성물에서 사용하기 위한 담체는 휘발성 물질이어야 한다. 이러한 상황에서, 용어 휘발성은 담체의 비점이 약 300 ℃ 미만, 바람직하게는 약 90 ℃ 내지 약 260 ℃, 더욱 바람직하게는 약 100 ℃ 내지 약 200 ℃ (약 1 대기압에서)이라는 것을 의미한다.

샴푸 조성물 내의 휘발성 담체의 농도는 헤어 스타일링 중합체를 용해시키고 샴푸 조성물 내에 이를 별도의 상으로 분산시키기에 충분하여야 한다. 이같은 농도는 일반적으로 샴푸 조성물 중량의 약 0.10 내지 약 10 %, 바람직하게는 약 0.5 내지 약 8 %, 더욱 가장 바람직하게는 약 1 내지 약 6%이고, 스타일링 중합체 대 담체의 중량비는 바람직하게는 약 10:90 내지 약 70:30, 더욱 바람직하게는 약 20:80 내지 약 65:35, 더더욱 바람직하게는 약 30:70 내지 약 60:40이다. 스타일링 중합체 대 담체의 중량비가 너무 낮으면, 샴푸 조성물의 거품화 기능에 나쁜 영향을 미친다. 중합체 대 용매의 비가 너무 높으면, 조성물이 너무 끈적거려져서 스타일링 중합체가 분산되기 어려워진다. 최종 샴푸 제품에서 헤어 스타일링제의 평균 입자 직경은 약 0.05 내지 약 100 미크론, 바람직하게는 약 1 내지 약 25 미크론, 더욱 바람직하게는 약 0.5 내지 약 10 미크론이어야 한다. 입자 크기는 예를 들어 광학 현미경을 포함하여, 당업계에 공지된 방법에 따라 측정할 수 있다.

샴푸 조성물에서 사용하기에 바람직한 휘발성 담체는 탄화수소 용매, 구체적으로 분지쇄 탄화수소 용매이다. 탄화수소 용매는 약 8 내지 약 18 개, 바람직하게는 약 10 내지 약 16 개의 탄소 원자를 갖는, 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화 탄화수소일 수 있다. 포화 탄화수소가 바람직하고, 분지 탄화수소도 바람직하다. 몇몇 적합한 선형 탄화수소의 비제한적 예에는 데칸, 도데칸, 데켄, 트리데켄, 및 이들의 조합물이 포함된다. 적합한 분지형 탄화수소에는 이소파라핀이 포함되고, 이의 예에는 Exxon Chemical Company가 시판하는 이소파라핀 예컨대 Isopar H 및 K (C₁₁-C₁₂이소파라핀), 및 Isopar L (C₁₁-C₁₃이소파라핀)이 포함된다. 바람직한 분지형 탄화수소는 이소헥사데칸, 이소도데칸, 2,5-디메틸 데칸, 이소테트라데칸, 및 이들의 조합물이다. 시판되는 분지형 탄화수소에는 Permethyl 99A 및 101A (Preperse, Inc., South Plainfield, NJ, USA 판매)가 포함된다.

기타 적합한 담체에는 이소프로판올, 부틸 알코올, 아밀 알코올, 페닐 에탄올, 벤질 알코올, 페닐 프로판올, 에틸 부티레이트, 이소프로필 부티레이트, 디에틸 프탈레이트, 디에틸 말로네이트, 디에틸 숙시네이트, 디메틸 말로네이트,디메틸 숙시네이트, 페닐 에틸 카르비놀, 에틸-6-아세톡시헥사노에이트, 및 메틸 (2-펜타닐-3-옥시)시클로펜틸아세테이트, 및 이들의 혼합물이 포함된다. 이같은 기타 적합한 용매 중에서 디에틸 프탈레이트, 디에틸 말로네이트, 디에틸 숙시네이트, 디메틸 말로네이트, 디메틸 숙시네이트, 페닐에틸 디메틸 카르비놀, 에틸-6-아세톡시헥사노에이트, 및 이들의 혼합물이 바람직하다.

적합한 에테르 담체는 디(C₅-C₇) 알킬 에테르 및 디에테르, 구체적으로 디(C₅-C₆) 알킬 에테 예컨대 이소아밀 에테르, 디펜틸 에테르 및 디헥실 에테르이다.

샴푸 조성물에서 사용하기에 적합한 기타 담체는 휘발성 실리콘 유도체 예컨대 고리형 또는 선형 폴리디알킬실록산, 선형 실록시 화합물 또는 실란이다. 고리형 실리콘 내 규소 원자의 수는 바람직하게는 약 3 내지 약 7, 더욱 바람직하게는 약 3 내지 약 5이다.

이같은 실리콘의 화학식은 하기와 같다:

[식 중, R₁및 R₂는 독립적으로 C₁내지 C₈알킬, 아릴 또는 알킬 아릴로부터 선택되고, n=3-7이다].

선형 폴리오르가노 실록산은 약 2 내지 약 7 개의 규소 원자를 갖고 이의 화학식은 하기와 같다:

[식 중 R₁, R₂, R₃, R₄, R₅, R₆, R₇및 R₈은 독립적으로 포화 또는 불포화 C₁-C₈알킬, 아릴, 알킬아릴, 히드록시알킬, 아미노 알킬 또는 알킬 실록시일 수 있다].

선형 실록시 화합물의 화학식은 하기와 같다:

[식 중, R₁, R₂, R₃, R₄, R₅및 R₆은 독립적으로 포화 또는 불포화 C₁내지 C₇알킬, 아릴 및 알킬 아릴로부터 선택되고, R₇은 C₁내지 C₄알킬렌이다].

실란 화합물의 화학식은 하기와 같다:

[식 중 R₁, R₂및 R₃은 독립적으로 C₁-C₈알킬, 아릴, 알킬아릴, 히드록시알킬 및 알킬실록시로부터 선택될 수 있다].

고리형 및 선형 모두의 상기 유형의 실리콘은 Dow Corning Corporation 사의 Dow Corning 344, 345 및 200 유체, Union Carbide 사의 Silicone 7202 및 Silocone 7158, 및 Stauffer Chemical 사의 SWS-03314에 의해 제공된다.

선형 휘발성 실리콘의 점도는 일반적으로 25 ℃에서 약 5 센티토크 미만인 반면, 고리형 물질의 점도는 약 10 센티토크 미만이다. 휘발성 실리콘의 예는 [Todd and Byers, "Volatile Silicone Fluids for Cosmetics", Cosmetics and Toiletries, Vol. 91, January, 1976, pp. 27-32] 및 [Silicone Compounds, pages 253-295, Petrach Chemical]에 기술되어 있고, 이들의 명세서는 본 발명에 참조로 반영된다.

선택적 안정성 활성물

본 발명의 샴푸 조성물은 선택적 결정질의 히드록실-함유 안정화제를 함유한다. 안정화제는 에멀션 내에 스타일링 중합체/휘발성 담체 방울이 합착하는 것을 방지하고 샴푸가 상 분리되는 것을 방지하는 결정질의 안정화 네트워크를 형성시키기 위해 사용된다. 또한, 전통적인 안정성 활성물에 비해 상당히 낮은 수준의 결정질의 히드록실-함유 안정화제가 사용될 필요가 있다. 그 결과, 헤어 스타일링 중합체의 헤어에의 침전 효율이 강화될 뿐만 아니라 다른 샴푸 성분과의 상호작용이 감소된다.

본 발명에서 사용되는 안정화제는 계면활성제가 아니다. 안정화제는 강화된 보존성 및 충격 안정성을 제공하지만, 스타일링 중합체/휘발성 담체 에멀션이 거품시 분리되도록 하여 스타일링 중합체가 헤어에 침전되는 것을 증가시킨다.

샴푸 조성물에서 사용하기에 적합한 안정화제는 하기 화학식을 특징으로 한다:

[식 중 (x+a)는 11 내지 17이고,

(y+b)는 11 내지 17이고,

(z+c)는 11 내지 17이고,

바람직하게는 x=y=z=10이며

a=b=c=5이다].

결정질의 히드록실 함유 안정화제는 조성물 중량의 약 0.005 내지 약 2.0 %, 바람직하게는 약 0.05 내지 약 0.25 %를 이룬다. 본 발명의 조성물에서 사용하기에 바람직한 현탁제는 Rheox, Inc. (New Jersey, USA)가 상표명 Thixcin R로 판매하는 트리히드록스스테아린이다.

임의 성분

본 발명의 샴푸 조성물은, 임의 성분들이 상기 기술된 필수 성분들과 물리화학적으로 상용성이거나 제품의 안정성, 미학 또는 기능을 과도하게 손상시키지 않는 한, 헤어 케어 또는 신체 케어 제품에서 사용하기 위해 공지된 하나 이상의 임의 성분을 추가로 함유할 수 있다. 이같은 임의 성분의 개별적 농도는 샴푸 조성물의 약 0.001 내지 약 10 중량% 범위일 수 있다.

샴푸 조성물에서 사용하기 위한 임의 성분의 비제한적 예에는 항비듬제, 컨디셔닝제 (탄화수소 오일, 지방산에스테르, 실리콘) 염료, 비휘발성 용매 또는 희석물 (수용성 또는 수불용성), 진주광택제, 거품증진제, 추가적인 계면활성제 또는 비이온성 공계면활성제, 살슬제, pH 조절제, 향료, 방부제, 단백질, 피부보호제, 일광차단제, 비타민, 및 점도 조절제가 포함된다.

바람직하게는 본 발명의 샴푸 조성물은 스타일링 중합체/휘발성 담체 방울용 도포제로서 작용하는 선택적 양이온성 물질을 더 함유한다. 이러한 임의의 양이온성 도포제는 하기에 더욱 자세하게 설명된다.

또한 바람직하게는 본 발명의 샴푸 조성물은 헤어 촉감을 강화시키고 스타일링 기능을 강화시키기 위한 선택 폴리알킬렌 글리콜을 함유한다.

또한 바람직하게는 본 발명의 샴푸 조성물은 헤어 촉감, 특히 건조 헤어의 부드럽고 실크같은 촉감을 강화시키기 위한 실리콘 헤어 컨디셔닝제를 함유한다. 이러한 임의의 실리콘 헤어 컨디셔닝제는 하기에 더욱 자세하게 설명된다.

또한 바람직하게는 본 발명의 샴푸 조성물은 조성물의 기능 및/또는 미학을 개선시키는 추가적인 임의 약제를 함유한다. 이러한 물질은 코아세르베이트 형성 및 조성에 영향을 미치면서 어떤 샴푸 성분이 계면활성제 성분에 의해 용해되는지 및 얼마나 많은 각 성분이 용해되는지에 영향을 미친다. 이러한 추가적인 약제들 또한 코아세르베이 내에 갇혀서, 스타일링 기능 및 헤어 촉감 모두에 직접 또는 간접적으로 영향을 미친다. 이러한 추가적인 임의의 약제들은 하기에 더욱 자세하게 설명된다.

양이온성 도포제

본 발명의 샴푸 조성물은 도포제로서 작용하는 선택적 양이온성 물질을 추가로 함유할 수 있다. 조성물에서 사용하기 위한 도포제는 하기에 더욱 자세히 정의될 선택적 4차 암모늄 또는 양성자가 첨가된 아미노 화합물이다. 이러한 선택적 도포제는 헤어에의 스타일링 중합체 침전의 형태를 강화시켜 헤어 섬유 사이에 더욱 효과적으로 부착되고 그 결과 스타일링 기능이 개선되게 하는데 유용하다. 조성물 내 선택적 도포제의 농도는 샴푸 조성물 중량의 약 0.05 내지 약 5 %, 바람직하게는 약 0.1 내지 약 2 %, 더욱 바람직하게는 약 0.5 내지 약 1.5 % 범위이다.

선택적 도포제는 약 12 내지 약 30 개의 탄소 원자를 갖는 치환 또는 비치환 탄화수소인 2,3 또는 4 개의 N-라디칼을 갖는 4차 암모늄 또는 아미노 화합물이고, 여기서 치환체에는 알콕시, 폴리옥살킬렌, 알킬아미도, 히드록시알킬, 알킬에스테르 부분, 및 이들의 혼합물로부터 선택된 비이온성 친수성 부분이 포함된다. 적합한 친수성-함유 라디칼에는, 예를 들어, 에톡시, 프로폭시, 폴리옥시에틸렌, 폴리옥시프로필렌, 에틸아미노, 프로필아미도, 히드록시메틸, 히드록시에틸, 히드록시프로필, 메틸에스테르, 에틸에스테르, 프로필에스테르, 또는 이들의 혼합물로 구성되는 군으로부터 선택된 비이온성 친수성 부분을 갖는 화합물이 포함된다. 선택적 도포제는 양이온성이고, 샴푸 조성물의 pH에서 양성 전하를 띠어야 한다. 일반적으로, 샴푸 조성물의 pH는 약 10 미만, 전형적으로는 약 3 내지 약 9, 바람직하게는 약 4 내지 약 8이다.

조성물에서 사용하기 위한 선택적 양이온성 도포제에는 하기 화학식에 상응하는 것들이 포함된다:

[식 중 R₁및 R₂는 독립적으로 약 12 내지 약 30 개, 바람직하게는 약 18 개 내지 약 22 개의 탄소 원자를 갖는 포화 또는 불포화, 치환 또는 비치환, 선형 또는 분지형 탄화수소 사슬이고, 여기서 탄화수소 사슬은 알콕시, 폴리옥시알킬렌, 알킬아미도, 히드록시알킬, 알킬에스테르, 및 이들의 혼합물로부터 선택된 하나 이상의 친수성 부분을 함유할 수 있고; R₃및 R₄는 독립적으로 수소, 또는 약 1 내지 약 30 개의 탄소 원자를 갖는 포화 또는 불포화, 치환 또는 비치환, 선형 또는 분지형 탄화수소 사슬, 또는 사슬 내에 치환체 또는 결합으로서 존재하는 하나 이상의 방향족, 에스테르, 에테르, 아미도, 아미노 부분을 함유하는 약 1 내지 약 30 개의 탄소 원자를 갖는 탄화수소이고, 여기서 탄화수소 사슬은 알콕시, 폴리옥시알킬렌, 알킬아미도, 히드록시알킬, 알킬에스테르, 및 이들의 혼합물로부터 선택되는 하나 이상의 친수성 부분을 함유할 수 있으며; X는 바람직하게는 할로겐 (특히 염소), 아세테이트, 포스페이트, 니트레이트, 술포네이트, 및 알킬술페이트 라디칼로부터 선택되는 가용성 염 형성 음이온이다].

조성물에서 사용하기 위한 선택적 도포제의 예에는 하기 화학식에 상응하는 것들이 포함된다:

[식 중 n은 10-28, 바람직하게는 16이고, X는 가용성 염 형성 음이온 (예를 들어, Cl, 술페이트 등)이다].

조성물에서 사용하기 위한 선택적 양이온성 도포제의 다른 예에는 하기 화학식에 상응하는 것들이 포함된다:

[식 중, Z₁및 Z₂는 독립적으로 포화 또는 불포화, 치환 또는 비치환, 선형 또는 분지형 탄화수소이고, 바람직하게는 Z₁은 알킬, 더욱 바람직하게는 메틸이고, Z₂는 단쇄 히드록시알킬, 바람직하게는 히드록시메틸 또는 히드록시에틸이고; n 및 m은 독립적으로 1 내지 4, 바람직하게는 2 내지 3, 더욱 바람직하게는 2이고; R' 및 R"은 독립적으로 치환 또는 비치환된 탄화수소, 바람직하게는 C₁₂-C₂₀알킬 또는 알케닐이며; X는 가용성 염 형성 음이온 (예를 들어, Cl, 술페이트 등)이다].

적합한 양이온성 도포제의 비제한적 예에는 디탈로우디메틸 암모늄 클로라이드, 디탈로우디메틸 암모늄 메틸 술페이트, 디헥사데실 디메틸 암모늄 클로라이드, 디-(수소화 탈로우) 디메틸 암모늄 클로라이드, 디옥타데실 디메틸 암모늄 클로라이드, 디에이코실 디메틸 암모늄 클로라이드, 디도코실 디메틸 암모늄 클로라이드, 디-(수소화 탈로우) 디메틸 암모늄 아세테이트, 디헥사데실 디메틸 암모늄 아세테이트, 디탈로우 디프로필 암모늄 포스페이트, 디탈로우 디메틸 암모늄 니트레이트, 디-(코코넛알킬) 디메틸 암모늄 클로라이드, 디탈로우아미도에틸 히드록시프로필모늄 메토술페이트 (Varisoft 238로 시판됨), 디히드로겐화 탈로우아미노에틸 히드록시에틸모늄 메토술페이트 (Varisoft 110으로 시판됨), 디탈로우아미도에틸 히드록시에틸모늄 메토술페이트 (Varisoft 222로 시판됨), 및 디(부분적으로 경화된 소이일에틸)(soyoylethyl) 히드록시에틸모늄 메토술페이트 (Armocare EQ-S로 시판됨)이 포함된다. 디탈로우디메틸 암모늄 클로라이드, 디탈로우아미도에틸 히드록시프로필모늄 메토술페이트, 디히드로겐화 탈로우아미도에틸 히드록시에틸모늄 메토술페이트, 디탈로우아미도에틸 히드록시에틸모늄 메토술페이트, 및 디(부분적으로 경화된 소이오일에틸) 히드록시에틸모늄 메토술페이트가 특히 바람직한 본 발명에서 유용한 4차 암모늄 양이온성 계면활성제이다.

기타 적합한 4차 암모늄 양이온성 계면활성제는 [M.C. Publishing Co., McCutcheion's Detergents ＆ Emulsifiers, (North American edition 1979)]; [Schwartz, et al., Surface Active Agents. Their Chemistry and Technology, New York: Interscince Publisher, 1949]; U.S. 특허 3,155,591 (1964년 11월 3일 Hilfer에게 허여됨); U.S. 특허 3,929,678 (1975년 12월 30일 Laughlin 등에게 허여됨); U.S 특허 3,959,461 (1976년 5월 25일 Bailey 등에게 허여됨); 및 U.S. 특허 4,387,090 (1983년 6월 7일 Bolich Jr.에게 허여됨)에 기술되어 있고, 이들의 명세서는 본 발명에 참고로 반영되어 있다.

폴리알킬렌 글리콜

본 발명의 샴푸 조성물은 헤어의 켠디셔닝된 촉감을 강화하기에, 양이온성 침전 중합체로 인한 코팅된 헤어 촉감을 완화시키기에, 그리고 샴푸의 스타일링 기능을 강화하기에 효과적인 양의 선택된 폴리알킬렌 글리콜을 추가로 함유할 수 있다. 선택된 폴리알킬렌 글리콜의 유효농도는 샴푸 조성물 중량의 약 0.025 내지 약 1.5 %, 바람직하게는 약 0.05 내지 약 1.0 %, 더욱 바람직하게는 약 0.1 내지 약 0.5 % 범위이다.

샴푸 조성물에서 사용하기에 적합한 폴리알킬렌 글리콜은 하기 화학식을 특징으로 한다:

[식 중 R은 수소, 메틸 또는 이들의 혼합물, 바람직하게는 수소이고, n은 평균값이 약 1,500 내지 약 25,000, 바람직하게는 약 2,500 내지 약 20,000, 더욱 바람직하게는 약 3,500 내지 약 15,000인 정수이다]. R이 수소일 때. 이러한 물질들은 에틸렌 옥시드의 중합체이고, 이것은 폴리에틸렌 옥시드, 폴리옥시에틸렌, 및 폴리에틸렌 글리콜로도 공지되어 있다. R이 메틸일 때, 이러한 물질들은 프로필렌 옥시드의 중합체이고, 이것은 폴리프로필렌 옥시드, 폴리옥시프로필렌, 및 폴리프로필렌 글리콜로도 공지되어 있다. R이 메틸일 때, 생성된 중합체의 각종 위치 이성질체가 존재할 수 있다는 것 또한 이해된다.

적합한 폴리에틸렌 글리콜 중합체의 특정예로는 PEG-14 M (식 중 R은 수소이고 n의 평균값은 약 14,000이다) (PEG-14 M은 Union Carbide 사가 판매하는 Polyox WSRN-3000으로도 공지되어 있다) 및 PEG-23 M (식 중 R은 수소이고 n의 평균값은 약 23,000이다) (PEG-23 M은 Union Carbide 사가 판매하는 Polyox WSRN-12K로도 공지되어 있다)가 포함된다.

적합한 폴리알킬렌 중합체에는 폴리프로필렌 글리콜 및 혼합된 폴리에틸렌/폴리프로필렌 글리콜이 포함된다.

이러한 폴리알킬렌 글리콜이 본 명세서에 설명된 샴푸 조성물에 첨가되었을 때, 양이온성 침전 중합체의 침전으로 인한 코팅된 헤어 느낌을 완화시킴으로써 컨디셔닝된 헤어의 촉감을 강화시킨다는 것이 발견되었다. 또한 이러한 폴리알킬렌 글리콜들은 폴리에틸렌 글리콜 없이 제형화된 조성물에 비해 스타일링 기능을 상당히 강화시킨다. 이러한 기능은 폴리알킬렌 글리콜이 헤어에 어떤 스타일링 기능을 전달하는 것으로 공지되지 않았고 기타 스타일링 샴푸 성분과의 상승적인 관계가 예상될 수 없었기 때문에 특히 놀랍다.

실리콘 헤어 컨디셔닝제

본 발명의 샴푸 조성물은 헤어 컨디셔닝 이익을 제공하기에 효과적인 농도의 임의의 실리콘 헤어 컨디셔닝제를 추가로 함유할 수 있다. 이같은 농도는 샴푸 조성물 중량의 약 0.01 내지 약 10 %, 바람직하게는 약 0.1 내지 약 8 %, 더욱 바람직하게는 약 0.1 내지 약 5 %, 가장 바람직하게는 약 0.2 내지 약 3 % 범위이다.

임의의 실리콘 헤어 컨디셔닝제는 샴푸 조성물에 불용성이고, 바람직하게는 비휘발성이다. 전형적으로 이것은 분산된 불용성 입자의 격리된 불연속 상 형태이도록 샴푸 조성물에 혼합되고, 방울로도 나타내어진다. 임의의 실리콘 헤어 컨디셔닝제 상은 실리콘 유체 헤어 컨디셔닝제 예컨대 실리콘 유체를 함유할 것이고, 또한 기타 성분, 예컨대 실리콘 유체를 함유하여 높은 굴절율 (예를 들어 약 1.46 초과)의 실리콘 컨디셔닝제가 사용될 때 (예를 들어 많이 페닐화된 실리콘) 실리콘 유체 침전 효율을 개선하거나 헤어가 광택나는 것을 강화할 수 있다.

임의의 실리콘 헤어 컨디셔닝제 상은 휘발성 실리콘, 비휘발성 실리콘 또는 이들의 조합물을 함유할 수 있다. 전형적으로, 휘발성 실리콘이 존재하면, 이것은 시판되는 형태의 비휘발성 실리콘 물질 성분 예컨대 실리콘 검 및 수지에 대한 용매 또는 담체로서 사용되는 것에 흔히 있는 것이다.

샴푸 조성물에서 사용하기 위한 임의의 실리콘 헤어 컨디셔닝제의 점도는 25 ℃에서 측정될 때, 바람직하게는 약 20 내지 약 2,000,000 센티스토크, 더욱 바람직하게는 약 1,000 내지 약 1,800,000 센티스토크, 더더욱 바람직하게는 약 50,000 내지 약 1,500,000 센티스토크이다.

임의의 실리콘 유체에는 점도가 25 ℃에서 측정될 때 1,000,000 센티스토크 미만, 바람직하게는 약 5 내지 약 1,000,000 센티스토크, 더욱 바람직하게는 약 10 내지 약 100,000 센티스토크인 유동성 실리콘 물질인 실리콘 오일이 포함된다. 적합한 실리콘 오일에는 폴리알킬 실록산, 폴리아릴 실록산, 폴리알킬아릴 실록산, 폴리에테르 실록산 공중합체, 및 이들의 조합물이 포함된다. 기타 헤어 컨디셔닝 성질을 갖는 불용성, 비휘발성 실리콘 유체 또한 사용될 수 있다.

임의의 실리콘 오일에는 하기 화학식 I에 따르는 폴리알킬 또는 폴리아릴 실록산이 포함된다:

[식 중, R은 지방족, 바람직하게는 알킬 또는 알케닐, 또는 아릴이고, R은 치환되거나 치환되지 않을 수 있으며, x는 1 내지 약 8,000의 정수이다]. 적합한 비치환된 R 기에는 알콕시, 아릴옥시, 알카릴, 아릴알킬, 아릴알케닐, 알킬아민, 및 에테르-치환, 히드록시-치환, 및 할로겐-치환 지방족 및 아릴 기가 포함된다. 또한 적합한 R 기에는 양이온성 아민 및 4차 암모늄 기도 포함된다.

실록산 사슬 상에 치환된 지방족 또는 아릴 기는 생성된 실리콘이 실온에서 유체이고, 소수성이고, 헤어에 도포되었을 때 자극적이거나 독성이거나 해롭지 않고, 샴푸 조성물의 다른 성분들과 상용성이고, 일반적인 사용 및 보관 조건에서 화학적으로 안정하고, 본 발명의 샴푸 조성물에 불용성이며, 헤어에 침전되어 이를 컨디셔닝할 수 있는 한 임의의 구조일 수 있다.

각 단량체적 실리콘 단위의 규소 원자 상의 두 R 기는 동일하거나 상이한 기를 나타낼 수 있다. 바람직하게는, 두 R 기는 동일한 기를 나타낸다.

바람직한 알킬 및 알케닐 치환체는 C₁-C₅알킬 및 알케닐, 더욱 바람직하게는 C₁-C₄, 가장 바람직하게는 C₁-C₂이다. 기타 알킬-, 알케닐-, 또는 알키닐-함유 기 (예컨대 알콕시, 알카닐, 및 알카미노)의 지방족 부분은 직쇄 또는 측쇄일 수 있고, 바람직하게는 1 내지 5 개, 더욱 바람직하게는 1 내지 4 개, 더더욱 바람직하게는 1 내지 3 개, 가장 바람직하게는 1 내지 2 개의 탄소 원자를 갖는다. 상기 설명된 대로, 이것의 R 치환체는 1차, 2차 또는 3차 아민 또는 4차 암모늄일 수 있는 아미노 관능기, 예를 들어, 알카미노 기도 함유할 수 있다. 이들에는 지방족 부분 사슬의 길이가 바람직하게는 상기 설명된 대로인 모노-, 디- 및 트리- 알킬아미노 및 알콕시아미노 기가 포함된다. 또한 R 치환체는 다른 기, 예컨대 할로겐 (예를 들어, 염소, 불소, 및 브롬), 할로겐화 지방족 또는 아릴 기, 및 히드록시 (예를 들어 히드록시 치환된 지방족 기)로 치환될 수 있다. 적합한 할로겐화 R 기에는 예를 들어 트리-할로겐화 (바람직하게는 플루오로) 알킬 기 예컨대 -R¹-C(F)₃(식 중 R¹은 C₁-C₃알킬이다)가 포함될 수 있다. 이같은 폴리실록산의 예에는 폴리메틸-3,3,3-트리플루오로프로필실록산이 포함된다.

적합한 R 기에는 메틸, 에틸, 프로필, 페닐, 메틸페닐 및 페닐메틸이 포함된다. 바람직한 실리콘은 폴리디메틸 실록산, 폴리디에틸실록산 및 폴리메틸페닐실록산이다. 폴리디메틸 실록산이 특히 바람직하다. 기타 적합한 R 기에는 메틸, 메톡시, 에톡시, 프로폭시, 및 아릴옥시가 포함된다. 실리콘의 말단 캡의 세 R 기 또한 동일하거나 상이한 기를 나타낼 수 있다.

사용될 수 있는 비휘발성 폴리알킬실록산 유체에는, 예를 들어, 폴리디메틸실록산이 포함된다. 이러한 실록산은, 예를 들어, General Electric Company 사의 Viscasil R 및 SF 96 시리즈, 및 Dow Corning 사의 Dow Corning 200 시리즈로 판매된다.

또한, 사용될 수 있는 폴리알킬아릴 실록산 유체에는, 예를 들어, 폴리메틸페닐실록산이 포함된다. 이러한 실록산은, 예를 들어, General Electric Company의 SF 1075 메틸 페닐 유체 및 Dow Corning 사의 556 Cosmetic Grade Fluid로 판매된다.

사용될 수 있는 폴리에테르 실록산 공중합체에는, 예를 들어, 폴리프로필렌 옥시드 변형된 폴리디메틸실록산 (예를 들어, Dow Corning DC-1248)이 포함되고, 에틸렌 옥시드 또는 에틸렌 옥시드와 프로필렌 옥시드의 혼합물 또한 사용될 수 있다. 에틸렌 옥시드 및 폴리프로필렌 옥시드의 농도는 물 및 본 발명의 조성물에 용해되는 것을 방지하기에 충분히 낮아야 한다.

적합한 알킬아미노 치환된 실리콘에는 하기 화학식 II에 따르는 것들이 포함된다:

[식 중, x 및 y는 정수이다] 이 중합체는 "아모디메티콘"으로도 공지되어 있다.

적합한 양이온성 실리콘 유체에는 하기 화학식 III에 따르는 것들이 포함된다:

(R₁)_aG_3-a-Si-(-OSiG₂)_n-(-OSiG_b(R₁)_2-b)_m-O-SiG_3-a(R₁)_a

[식 중 G는 수소, 페닐, 히드록시, C₁-C₈알킬로 구성되는 군으로부터 선택되고, 바람직하게는 메틸이고; a는 0, 또는 1 내지 3의 값을 갖는 정수이고, 바람직하게는 0이고; b는 0 또는 1이고, 바람직하게는 1이고; 합계 n+m은 1 내지 2,000, 바람직하게는 50 내지 150의 수이고, n은 0 내지 1,999, 바람직하게는 49-149의 수를 나타낼 수 있고 m은 1 내지 2,000, 바람직하게는 1 내지 10의 수를 나타낼 수 있고; R₁은 화학식 C_qH_2qL {식 중 q는 2 내지 8의 값을 갖는 정수이고, L은 하기의 기로부터 선택된다;

-N(R₂)CH₂-CH₂-N(R₂)₂

-N(R₂)₂

-N(R₂)₃A^-

-N(R₂)CH₂-CH₂-NR₂H₂A^-

(식 중 R₂는 수소, 페닐, 벤질, 포화 탄화수소 라디칼로 구성되는 군으로부터 선택되고 바람직하게는 1 내지 20 개의 탄소 원자를 갖는 알킬 라디칼이며, A^-는 할로겐화물 이온이다)}에 따르는 일가 라디칼이다].

특히 바람직한 화학식 III에 상응하는 양이온성 실리콘은 "트리메틸실릴아모디메티콘"으로 공지된 하기 화학식 IV의 중합체이다:

샴푸 조성물에서 사용될 수 있는 기타 실리콘 양이온성 중합체는 하기 화학식 V로 나타내어진다:

[식 중 R³은 1 내지 18 개의 탄소 원자를 갖는 일가 탄화수소 라디칼, 바람직하게는 알킬 또는 알케닐 라디칼 예컨대 메틸을 나타내고; R⁴는 탄화수소 라디칼, 바람직하게는 C₁-C₁₈알킬렌 라디칼 또는 C₁-C₁₈, 더욱 바람직하게는 C₁-C₈알킬렌옥시 라디칼을 나타내고; Q는 할로겐화물 이온, 바람직하게는 염화물 이온이고; r은 2 내지 20, 바람직하게는 2 내지 8의 평균 통계값을 나타내고; s는 20 내지 200, 바람직하게는 20 내지 50의 평균 통계값을 나타낸다] 이러한 군의 바람직한 중합체는 Union Carbide 사가 "UCAR SILOCONE ALE 56"으로 판매한다.

기타 임의의 실리콘 유체는 불용성 실리콘 검이다. 이러한 검들은 25 ℃에서 점도가 1,000,000 센티스토크 이상인 폴리오르가노실록산 물질이다. 실리콘 검은 U.S. 특허 4,152,416; [Noll and Walter, Chemistry and Technology of Silicones, New York: Academic Press 1968]; 및 [General Electric Silicone Rubber Product Data Sheets SE 30, SE 33, SE 54 및 SE 76]에 기술되어 있고, 이들 모두는 본 발명에 참조로 반영되어 있다. 실리콘 검의 매스 분자량은 전형적으로 약 200,000 초과, 일반적으로 약 200,000 내지 약 약 1,000,000이고, 이것의 특정예에는 폴리디메틸실록산, (폴리디메틸실록산)(메틸비닐실록산) 공중합체, 폴리(디메틸실록산) (디페닐 실록산)(메틸비닐실록산) 공중합체 및 이들의 혼합물이 포함된다.

비휘발성, 불용성 실리콘 유체 컨디셔닝제의 또다른 범주는 굴절율이 약 1.46 이상, 바람직하게는 약 1.48 이상, 더욱 바람직하게는 약 1.52 이상, 가장 바람직하게는 약 1.55 이상인 고굴절율의 실리콘이다. 폴리실록산 유체의 굴절율은 일반적으로 약 1.70 미만, 전형적으로는 약 1.60 미만이다. 이 때, 폴리실록산 "유체"에는 오일뿐만 아니라 검 또한 포함된다.

굴절율이 높은 폴리실록산 유체에는 화학식 I로 나타내어지는 것뿐만 아니라, 고리형 폴리실록산 예컨대 하기 화학식 VI로 나타내어지는 것들도 포함된다:

[식 중 R은 상기 정의된 대로이고, n은 약 3 내지 약 7, 바람직하게는 3 내지 5이다].

굴절율이 높은 폴리실록산 유체는 굴절율을 상기 설명된 원하는 수준으로 증가시키기에 충분한 양의 아릴-함유 R 치환체를 함유한다. 또한, R 및 n은 물질이 상기 정의된 대로 비휘발성이도록 선택되어야 한다.

아릴-함유 치환체는 지환족의 헤테로고리형 5 및 6 원의 아릴 고리, 및 융합된 5 또는 6 원의 고리를 함유하는 치환체를 함유한다. 아릴 고리 자체는 치환되거나 치환되지 않을 수 있다. 치환체에는 지방족 치환체가 포함되고, 또한 알콕시 치환체, 아실 치환체, 케톤, 할로겐 (예를 들어 Cl 및 Br), 아민 등도 포함될 수 있다. 아릴-함유 기의 예에는 치환 및 비치환 아렌, 예컨대 페닐, 및 페닐 유도체 예컨대 C₁-C₅알킬 또는 알케닐 치환체를 갖는 페닐, 예를 들어 알릴페닐, 메틸 페닐 및 에틸 페닐, 비닐 페닐 예컨대 스티레닐, 및 페닐 알킨 (예를 들어 페닐 C₂-C₄알킨)이 포함된다. 헤테로고리형 아릴 기에는 푸란, 이미다졸, 피롤, 피리딘 등으로부터 유도되는 치환체가 포함된다. 융합된 아릴 고리 치환체에는, 예를 들어, 나프탈렌, 쿠마린, 및 퓨린이 포함된다.

일반적으로 굴절율이 높은 폴리실록산 유체의 아릴-함유 치환체의 수준은 약 15 % 이상, 바람직하게는 약 20 % 이상, 더욱 바람직하게는 약 25 % 이상, 더더욱 바람직하게는 약 35 % 이상, 가장 바람직하게는 약 50 % 이상이다. 전형적으로, 본 발명을 반드시 제한하려는 것을 아니지만, 아릴 치환도는 약 90 % 미만, 더욱 일반적으로는 약 85 % 미만, 바람직하게는 약 55 내지 약 80 %일 것이다.

또한 폴리실록산 유체는 폴리실록산 아릴 치환으로 인한 상대적으로 높은 표면 장력을 특징으로 한다. 일반적으로, 본 발명의 폴리실록산 치환체의 표면장력은 약 24 다인/㎠ 이상, 전형적으로는 약 27 다인/㎠ 이상이다. 이를 위해, Dow Corning Corporate Test Method CTM 0461 (1971년 11월 23일)에 따라 Nouy 고리 장력계로 표면장력을 측정한다. 상기 테스트 방법 또는 ASTM 방법 D 1331에 따라 표면장력의 변화를 측정할 수 있다.

바람직한 고굴절율의 폴리실록산 유체는 페닐 또는 페닐 유도체 치환체 (바람직하게는 페닐)와 알킬 치환체, 바람직하게는 C₁-C₄알킬 (가장 바람직하게는 메틸), 히드록시, C₁-C₄알킬아미노 [특히 -R¹NHR²NH₂(식 중 R¹및 R²는 각각 독립적으로 C₁-C₃알킬, 알케닐, 및/또는 알콕시이다)]와의 조합물을 갖는다. 굴절율이 높은 폴리실록산은 Dow Corning Corporation (Midland, Mishigan, U.S.A) 사, Huls America (Piscataway, New Jersey, USA) 사, 및 General Electric Silicones (Waterford, New York, USA) 사가 판매한다.

샴푸 조성물에서 사용하기 위한 몇몇 적합한 실리콘 유체의 예가 기재된 참조문헌에는 US 특허 2,826,551, US 특허 3,974,500, US 특허 4,364,837, 영국 특허 849,433, 및 [Silicone Compounds, Petrarch System, Inc. (1984)]가 포함되고, 이들 모두는 본 발명에 참조로 반영된다.

실리콘 수지가 실리콘 켠디셔닝제에 포함될 수 있다. 이러한 수지는 가교가 많이된 중합성 실록산 시스템이다. 가교는 실란 수지 제조 시 삼가 및 4가 실란의 일가 또는 2가, 또는 모두의 실란과의 혼입을 통해 도입된다. 당업계에서 잘 이해되듯이, 실리콘 수지가 생성되기 위해 요구되는 가교도는 실리콘 수지 내로 혼입되는 특정한 실란 단위에 따라 다를 것이다. 일반적으로, 딱딱하거나 경질의 필름으로 건조되기에 충분한 수준의 3가 또는 4가 실록산 단량체 단위를 갖는 실리콘 물질이 실리콘 수지로 간주된다. 산소 원자 대 규소 원자의 비는 특정한 실리콘 물질의 가교 수준을 가리킨다. 규소 원자 당 약 1.1 개 이상의 산소원자를 갖는 실리콘 물질은 본 명세서에서 일반적으로 실리콘 수지이다. 바람직하게는, 산소:규소 원자의 비는 약 1.2:1.0 이상이다. 실리콘 수지의 제조에 사용되는 실린에는 모노메틸-, 디메틸-, 트리메틸-, 모노페닐-, 디페닐-, 메틸페닐-, 모노비닐-, 및 메틸비닐-클로로실란, 및 테트라클로로실란이 포함되고 메틸-치환된 실란이 가장 흔히 사용된다. 바람직한 수지는 General Elecrtric 사가 GE SS4230 및 SS4267로 제공한다. 시판되는 실리콘 수지는 일반적으로 점도가 낮은 휘발성 또는 비휘발성 실리콘 유체 내에 용해된 형태로 공급될 것이다. 본 발명에서 사용하기 위한 실리콘 수지는 당업계의 숙련가에게 기꺼이 명백하듯이, 이같은 용해된 형태로 본 발명의 조성물 내에서 공급되고 혼입되어야 한다.

실리콘 유체, 검, 및 수지를 논의한 부분을 포함하여 실리콘에 대한 배경 물질뿐만 아니라 실리콘의 제조는 본 발명에 참조로 반영된 [Encyclopedia of Polymer Science and Engineering, Volume 15, Second Edition, pp 204-308, John Wiley ＆ Sons, Inc., 1989]에서 찾을 수 있다.

실리콘 물질, 특히 실리콘 수지는 "MDTQ" 명명법으로 당업계의 숙련자에게 잘 알려진 속기 명명접에 의해 편리하게 확인될 수 있다. 이러한 시스템에서, 실리콘은 실리콘을 구성하는 각종 실록산 단량체 단위의 존재에 따라 설명된다. 간단히, 기호 M은 단일관능성 단위 (CH₃)₃SiO_1.5를 나타내고; D는 2관능성 단위 (CH₃)₂SiO를 나타내고; T는 3관능성 단위 (CH₃)SiO_1.5를 나타내며; Q는 4관능성 단위 SiO₂를 나타낸다. 기호, 예를 들어 M', D', T' 및 Q'의 프라임은 메틸 이외의 치환체를 나타내고, 각 경우에 대해 특정하게 정의되어야 한다. 전형적인 대안적 치환체에는 비닐, 페닐, 아민, 히드록실 등과 같은 기가 포함된다. 각종 단위의 몰비는 실리콘 내 각 유형의 단위의 총 수 (또는 이들의 평균)를 가리키는 기호에 대해 아래 쪽에 쓴 기호의 관점에서, 또는 분자량과 조합된 구체적으로 지시된 비율로서, 각종 단위의 몰비는 MDTQ 시스템 하에서 실리콘 물질의 설명을 완성한다. 실리콘 수지 내 T, Q, T' 및/또는 Q'의 D, D', M 및/또는 M'에 대한 상대적 몰량이 더 높을수록 가교 수준이 더 높음을 가리킨다. 그러나, 상기 기술되었듯이, 가교의 총 수준은 산소 대 규소 비에 의해서도 지시될 수 있다.

본 발명에서 사용하기 위한 바람직한 실리콘 수지는 MQ, MT, MTQ, MDT 및 MDTQ 수지이다. 따라서, 바람직한 실리콘 치환체는 메틸이다. 특히 바람직한 것은 M:Q 비가 약 0.5:1.0 내지 약 1.5:1.0이고 수지의 평균 분자량이 약 1000 내지 약 10,000인 MQ 수지이다.

굴절율이 1.46 미만인 비휘발성 실리콘 유체의 실리콘 수지 성분 (사용될 때)에 대한 중량비는 바람직하게는 약 4:1 내지 약 400:1이고, 특히 실리콘 유체 성분이 상기 설명된 대로인 폴리디메틸실록산 유체 또는 폴리디메틸실록산 유체와 폴리디메틸실록산 검의 혼합물일 때 이 비는 비람직하게는 약 9:1 내지 약 200:1, 더욱 바람직하게는 약 19:1 내지 약 100:1이다. 실리콘 수지가 본 발명의 조성물 내에서 실리콘 유체, 즉 컨디셔닝 활성물과 동일한 상의 일부를 형성하는 한, 유체 및 수지의 합은 조성물 내 실리콘 컨디셔닝제의 수준을 결정하는데 포함되어야 한다.

임의의 약제

본 발명의 샴푸 조성물은 본 발명의 샴푸 조성물의 기능 및/또는 미학을 개선시키는 부가적인 물질을 추가로 함유할 수 있다. 이러한 물질은 계면활성제 성분에 의한 용해에 대해 기타 샴푸 조성물 물질들과 경쟁한다. 그 결과, 희석시 형성되는 코아세르베이트의 양 및 이 코아세르베이트의 조성 모두에 나쁜 영향을 준다. 또한, 부가적인 임의의 약제들도 코아세르베이트 내에 갖힌다. 스타일링 중합체/휘발성 담체 방울은 코아세르베이트에 의해 헤어에 침전되므로, 이러한 임의의 약제들은 형성되는 코아세르베이트의 양에 나쁜 영향을 줌으로써 스타일링 기능에 직접 영향을 미치거나 코아세르베이트의 조성에 나쁜 영향을 주어 헤어 느낌에 직접 영향을 미칠 수 있다.

매우 바람직한 임의의 약제에는 아실 유도체, 장쇄 아민 옥시드, 또는 이들의 조합물로서 카테로리화될 수 있는 결정질 물질이 포함되고, 이들의 농도는 샴푸 조성물 중량의 약 0.1 내지 약 5.0 %, 바람직하게는 약 0.5 내지 약 3.0 % 범위이다. 이러한 약제들은 현탁제로서 US 특허 4,741,855 및 US 재허여 특허 34,584 (Grote et al.)에 기술되어 있고, 이들의 명세서는 본 발명에 참조로 반영되어 있다. 바람직한 이러한 물질에는 바람직하게는 약 16 내지 약 22 개의 탄소 원자를 갖는 지방산의 에틸렌 글리콜 에스테르가 포함된다. 모노 및 디스테아레이트 모두를 포함하여 에틸렌 글리콜 스테아레이트가 더욱 바람직하지만, 약 7 % 미만의 모노 스테아레이트를 함유하는 디스테아레이트가 특히 바람직하다. 기타 적합한 임의의 약제에는 바람직하게는 약 16 내지 약 22 개, 더욱 바람직하게는 약 16 내지 약 18 개의 탄소 원자를 갖는 지방산의 알칸올 아미드가 포함되고, 이의 바람직한 예에는 스테아릭 모노에탄올아미드, 스테아릭 디에탄올아미드, 스타아릭 모노이소프로판올아미드 및 스테아릭 모노에탄올아미드 스테아레이트가 포함된다. 기타 장쇄 아실 유도체에는 장쇄 지방산의 장쇄 에스테르 (예를 들어, 스테아릴 스테아레이트, 세틸 팔미테이드 등); 글리세릴 에스테르 (예를 들어, 글리세릴 디스테아레이트) 및 장쇄 알칸올 아미드의 장쇄 에스테르 (예를 들어 스테아르아미드 디에탄올아미드 디스테아레이트, 스테아르아미드 모노에탄올아미드 스테아레이트)가 포함된다. 상기 나열된 바람직한 물질에 더해, 장쇄 아실 유도체, 장쇄 카르복실산의 에틸렌 글리콜 에스테르, 장쇄 아민 옥시드, 및 장쇄 카르복실산의 알칸올 아미드를 현탁제로서 사용할 수 있다.

부가적인 임의의 약제로서 사용하기에 적합한 기타 장쇄 아실 유도체에는 N,N-디히드로카르빌 아미도 벤조산 및 이의 수용성 염 (예를 들어, Na, K), 특히 N,N-디(히드로겐화)C₁₆, C₁₈및 이러한 군의 탈로우 아미도 벤조산 종류가 포함되고, 이것은 Stepan Company (Northfield, Illinois, USA) 사가 판매하고 있다.

적합한 장쇄 아미드 옥시드의 예로는 알킬 (C₁₆-C₂₂) 디메틸 아민 옥시드, 예를 들어, 스테아릴 디메틸 아민 옥시드가 포함된다.

사용 방법

본 발명의 샴푸 조성물은 헤어의 세정 및 스타일링을 위한 통상적인 방법으로 사용된다. 헤어의 세정 및 스타일링을 위한 조성물의 유효량을 헤어, 바람직하게는 물에 적신 헤어에 도포한 후, 헹궈낸다. 이같은 유효량은 일반적으로 약 1 gm 내지 약 50 gm, 바람직하게는 약 1 gm 내지 약 20 gm 범위이다. 헤어에 도포하는 것에는 전형적으로 조성물을 헤어 도처에 사용하여 대부분 또는 전체 헤어가 조성물에 접촉되는 것이 포함된다.

헤어의 세정 및 스타일링을 위한 이러한 방법은 a) 헤어를 물로 적시기, b) 유효량의 샴푸 조성물을 헤어에 도포하기, c) 조성물로 헤어를 샴푸하기, 및 d) 조성물을 헤어로부터 물로 헹구어 내기의 단계로 구성된다. 이러한 단계는 원하는 세정 및 스타일링 이익을 달성하기 위해 원하는 만큼 여러번 반복될 수 있다. 이 방법은 바람직하게는 매일, 이틀에 한 번, 또는 사흘에 한 번 사용되어 본 명세서에 기술된 헤어 세정 및 스타일링 기능을 제공하고 유지시킬 수 있다.

실시예 I-X에 설명된 스타일링 샴푸 조성물은 본 발명의 샴푸 조성물의 특정한 구현예를 설명하지만, 본 발명을 제한하려는 것은 아니다. 본 발명의 취지 및 범주를 벗어나지 않으면서 숙련된 기술자는 다른 변형을 할 수 있을 것이다. 본 발명의 샴푸 조성물의 이렇게 예시된 구현예는 헤어의 세정 및 개선된 헤어 스타일링 기능을 제공한다.

실시예 I-X에 설명된 샴푸 조성물은 통상적인 제형화 및 혼합 방법에 의해 제조되고, 이의 예는 하기에 제시된다. 예시된 모든 양은 중량 백분율로 기입되고, 특별히 언급되지 않는한 미량 물질 예컨대 희석물, 충전물 등은 배제된다.

제조

본 발명의 샴푸 조성물은 통상적인 제형화 및 혼합 기술을 사용하여 제조될 수 있다. 먼저 헤어 스타일링 중합체를 휘발성 담체에 용해시킨다. 이어서 이 스타일링 중합체/휘발성 담체 예비혼합물을 계면활성제 또는 계면활성제의 일부와 고체 성분이 용융되도록, 예를 들어 약 87 ℃로 가열된 고체 성분과의 예비혼합물에 첨가한다. 이어서 이 혼합물을 높은 전단 분쇄기를 통해 펌프하고 냉각시킨 후, 남아있는 성분을 섞어 넣는다. 대안적으로, 스타일링 중합체/휘발성 담체 예비혼합물을 냉각 후에 이 최종 혼합물에 첨가할 수 있다. 조성물의 최종 점도는 약 2000 내지 약 12,000 cps이어야 한다. 조성물의 점도는 필요한 만큼 염화나트륨 또는 암모늄 자일렌술포네이트를 사용하여 조절할 수 있다.

하기 실시예에서 예시되는 대로, 스타일링 중합체/휘발성 용매 예비혼합물은 하기 기술되는 스타일링 중합체/용매의 조합물일 수 있다.

혼합물 A. w/w 비

스타일링 중합체: t-부틸 아크릴레이트/2-에틸헥실 메타크릴레이트 40

(90/10 w/w)

휘발성 용매: 이소도데칸 60

혼합물 B. w/w 비

스타일링 중합체: t-부틸 아크릴레이트/2-에틸헥실 메타크릴레이트 50

(90/10 w/w)

휘발성 용매: 이소도데칸 50

혼합물 C. w/w 비

스타일링 중합체: t-부틸 아크릴레이트/2-에틸헥실 메타크릴레이트/ 40

PDMS 마크로머 (81/9/10 w/w)

휘발성 용매: 이소도데칸 60

(1) Sherex Chemical Co. (Dublin, Ohio, USA) 사가 상표명 Varisoft 110으로 판매

(2) Sherex Chemical Co. (Dublin, Ohio, USA) 사가 상표명 Varisoft 238로 판매

(3) Rhone-Poulenc (Cranbury, New Jersey, USA) 사가 상표명 Jaguar C-17로 판매

Claims

하기의 것들로 이루어지는 것을 특징으로 하는 스타일링 샴푸 조성물:

(a) 5 내지 50 중량%의, 음이온성 계면활성제, 쯔비터이온성 또는 양쪽성 계면활성제, 및 이들의 조합물로 구성되는 군으로부터 선택된 계면활성제;

(b) 0.025 내지 3 중량%의, 양이온성 전하 밀도는 0.2 내지 7 meq/gm이고 평균 분자량은 5,000 내지 10,000,000인 유기성의 양이온성 침전중합체;

(c) 0.1 내지 10 중량%의 수불용성 헤어 스타일링 중합체;

(d) 0.1 내지 10 중량%의 헤어 스타일링 중합체용 수불용성 휘발성 담체;

(e) 0.005 내지 2.0 중량%의 결정질의 히드록실-함유 안정화제; 및

(f) 약 25.0 내지 94.8 중량%의 물.
제 1 항에 있어서, 음이온성 계면활성제는 암모늄 라우릴 술페이트, 암모늄 라우레트 술페이트, 알킬 글리세릴 에테르 술포네이트, 및 이들의 혼합물로 구성되는 군으로부터 선택되고; 양쪽성 계면활성제는 라우로암포아세테이트, 라우로암포디아세테이트, 코코암포아세테이트, 코코암포디아세테이트, 및 이들의 혼합물로 구성되는 군으로부터 선택되며; 쯔비터이온성 계면활성제는 베타인 계면활성제인 조성물.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 유기성의 양이온성 침전 중합체를 양이온성 셀룰로스 유도체, 양이온성 전분 유도체, 양이온성 구아 검 유도체, 및 이들의 조합물로 구성되는 군으로부터 선택하는 조성물.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 수불용성 헤어 스타일링 중합체가 단량체의 중량/중량 비가 95/5, 약 90/10, 80/20, 70/30, 60/40, 및 50/50인 t-부틸 아크릴레이트/2-에틸헥실 아크릴레이트 공중합체; 단량체의 중량/중량 비가 95/5, 90/10, 80/20, 70/30, 60/40, 및 50/50인 t-부틸 아크릴레이트/2-에틸헥실 메타크릴레이트 공중합체 ; 단량체의 중량/중량 비가 95/5, 90/10, 80/20, 70/30, 60/40, 및 50/50인 t-부틸 메타크릴레이트/2-에틸헥실 아크릴레이트 공중합체; 단량체의 중량/중량 비가 95/5, 90/10, 80/20, 70/30, 60/40, 및 50/50인 t-부틸 메타크릴레이트/2-에틸헥실 메타크릴레이트 공중합체; 단량체의 중량/중량 비가 95/5, 90/10, 80/20, 70/30, 60/40, 및 50/50인 t-부틸 에타크릴레이트/2-에틸헥실 메타크릴레이트 공중합체; 단량체의 중량/중량 비가 약 10/90, 및 5/95인 비닐 피롤리돈/비닐 아세테이트 공중합체; 및 이들의 혼합물로 이루어지는 군으부터 선택되는 유기성의 스타일링 중합체인 조성물.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 0.05 내지 5 중량%의, 12 내지 30 개의 탄소 원자를 갖는 치환 또는 비치환된 탄소 사슬인 N-라디칼을 2 내지 4 개 함유하는 비중합성 양이온성 도포제를 추가로 함유하는 조성물.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 결정질의 히드록실-함유 안정화제가 트리히드록시스테아린인 조성물.
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, 수불용성 헤어 스타일링 중합체가 하기로 구성되는 군으로부터 선택되는 실리콘 그래프트된 중합체인 조성물:

(i) t-부틸아크릴레이트/t-부틸-메타크릴레이트/2-에틸헥실-메타크릴레이트/PDMS 마크로머-20,000 분자량 마크로머 31/27/32/10;

(ii) t-부틸메타크릴레이트/2-에틸헥실-메타크릴레이트/PDMS 마크로머-15,000 분자량 마크로머 75/10/15;

(iii) t-부틸메타크릴레이트/2-에틸헥실-아크릴레이트/PDMS 마크로머-10,000 분자량 마크로머 65/15/20;

(iv) t-부틸아크릴레이트/2-에틸헥실-아크릴레이트/PDMS 마크로머-14,000 분자량 마크로머 77/11/12;

(v) t-부틸아크릴레이트/2-에틸헥실-메타크릴레이트/PDMS 마크로머-13,000 분자량 마크로머 81/9/10; 및

(vi) 이들의 혼합물.
제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 수불용성 헤어 스타일링 중합체 대 수불용성 용매의 중량비가 30:70 내지 60:40인 조성물.
제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서, 양이온성 도포제가 비이온성 친수성 치환체를 함유하는 조성물.
제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서, 폴리아릴실록산, 폴리알킬 실록산, 폴리알킬아릴실록산, 이들의 유도체, 및 이들의 혼합물로 구성되는 군으로부터 선택되는 비휘발성 실리콘 컨디셔닝제를 추가로 함유하는 조성물.