KR20000077269A - Ultrasonic beautifying machine - Google Patents
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Abstract
본 발명의 과제는 바람직한 마사지효과를 얻는 것이다.An object of the present invention is to obtain a desirable massage effect.
상기 과제의 해결수단으로서, 한 면이 피부접촉면으로 되는 금속부 및 이 금속부의 다른 면에 접착되는 압전소자(11)를 가지는 프로브와, 초음파주파수의 신호를 생성하는 발진기(121) 및 이 출력신호를 전력증폭하는 구동회로(122)에 의해 이루어지고, 압전소자(11)에 대하여 이 압전소자(11)를 초음파 진동시키기 위한 고주파 전력을 공급하는 발진구동회로(12)와, 압전소자(11)의 출력변동, 예컨대 압전소자(11)로의 공급전력의 변동의 검출을 행하는 검출회로(13)와, 그 검출결과에 따라서 압전소자(11)에 대한 출력이 일정하게 되도록 발진구동회로(12)의 출력제어를 행하는 제어회로(14)를 구비한다.As a means for solving the above problems, a probe having a metal part whose one surface becomes a skin contact surface and a piezoelectric element 11 adhered to the other surface of the metal part, an oscillator 121 for generating a signal of an ultrasonic frequency, and the output signal And an oscillation drive circuit 12 for supplying high frequency power for ultrasonically vibrating the piezoelectric element 11 to the piezoelectric element 11 and the piezoelectric element 11. Of the oscillation drive circuit 12 so that the output to the piezoelectric element 11 is constant according to the detection result of the detection circuit 13 which detects the output variation of the piezoelectric element 11, for example, the fluctuation of the supply power to the piezoelectric element 11. The control circuit 14 which performs output control is provided.
Description
본 발명은, 초음파진동을 이용하여 피부의 마사지를 행하는 초음파미용기에 관한 것이다.The present invention relates to an ultrasonic beauty device that massages skin using ultrasonic vibrations.
종래, 초음파를 이용한 미용기나 치료기 등이 여러 가지 시판되고, 또 제안되고 있다.Background Art Conventionally, various cosmetic devices and treatment devices using ultrasonic waves are commercially available and proposed.
예컨대, 실공평 3-35316호 공보에는, 초음파 도자용(導子用) 교류원의 주파수와 다른 주파수를 가지고, 초음파도자용 교류원과 동시에 출력상태로 되는 경고표시등용 교류원과, 초음파도자용 교류원의 출력과 경고표시등용 교류원의 출력을 중첩하는 결합수단과, 초음파도자에 설치되고, 결합수단의 출력으로부터 경고표시등용 교류원의 주파수성분을 추출하여 경고표시등으로 공급하는 주파수 추출수단을 구비하고, 케이블의 경량화를 도모하는 초음파치료기가 기재되어 있다.For example, Japanese Unexamined Patent Publication No. 3-35316 discloses an AC source for a warning light having a frequency different from that of an AC source for ultrasonic ceramics and outputting simultaneously with an AC source for ultrasonic ceramics, and for ultrasonic ceramics. Coupling means for superimposing the output of the AC source and the output of the AC source for the warning light, and a frequency extraction means which is installed in the ultrasonic ceramic and extracts the frequency component of the AC source for the warning light from the output of the coupling means and supplies it to the warning light. And an ultrasonic therapy apparatus for reducing the weight of the cable.
또한, 특개평 9-248213호 공보에는, 초음파헤드의 생체면에서의 접촉이동이 정지했을 때, 그 정지를 검출하는 센서와, 이 센서에서 헤드정지신호가 출력되었을 때, 이 출력에 기초하여 초음파헤드에서 조사되는 초음파 자극(刺激)을 감약(減弱) 또는 정지시키는 제어회로를 구비하는 초음파를 응용한 미용·수신기(瘦身器)가 개시되어 있다.Further, Japanese Patent Laid-Open No. 9-248213 discloses an ultrasonic sensor based on this sensor when a movement of contact of the ultrasonic head on the living body surface is stopped and a head stop signal is output from the sensor. A cosmetic / receiver using an ultrasonic wave having a control circuit for reducing or stopping an ultrasonic stimulus irradiated from a head is disclosed.
하지만, 특히 한 면이 피부접촉면으로 되는 금속부 및 이 금속부의 다른 면에 접합되는 압전소자를 가지는 프로브(probe)를 구비한 초음파미용기의 경우, 그 압전소자에는, 피부접촉면에 대한 피부접촉상태에 따라 임피던스가 변동하는 특성이 있고, 이 특성의 변동에 의해 압전소자에서 금속부를 통해 피부에 작용하는 음향출력이 변화하므로, 상기 초음파치료기 및 미용·수신기의 회로구성에서는 기대만큼의 마사지효과를 얻을 수 없는 문제가 있다.In particular, however, in the case of an ultrasonic beauty container having a probe having a metal part on which one surface becomes a skin contact surface and a piezoelectric element bonded to the other surface of the metal part, the piezoelectric element has a skin contact state with respect to the skin contact surface. There is a characteristic that impedance varies according to this, and the acoustic output acting on the skin through the metal part in the piezoelectric element changes according to the variation of this characteristic, so that the massage effect of the ultrasonic therapy device and the beauty / receiver can achieve the expected massage effect. There is no problem.
본 발명은, 상기 사정을 감안하여 이루어진 것이고, 바람직한 마사지효과가 얻어지는 초음파 미용기를 제공하는 것을 목적으로 한다.This invention is made | formed in view of the said situation, and an object of this invention is to provide the ultrasonic beauty machine by which a preferable massage effect is obtained.
도 1은 본 발명의 제1 실시형태에 관한 초음파미용기의 개략 회로구성도,1 is a schematic circuit configuration diagram of an ultrasonic beauty device according to a first embodiment of the present invention;
도 2는 프로브 및 본체를 나타내는 단면도,2 is a cross-sectional view showing a probe and a main body;
도 3은 도 1에 나타내는 압전소자의 공진주파수 부근에서의 임피던스 특성도,3 is an impedance characteristic diagram near a resonance frequency of the piezoelectric element shown in FIG. 1;
도 4는 도 1에 나타내는 제어회로의 제어설명도,4 is a control explanatory diagram of the control circuit shown in FIG. 1;
도 5는 본 발명의 제2 실시형태에 관한 초음파미용기의 개략 회로구성도,5 is a schematic circuit configuration diagram of an ultrasonic beauty device according to a second embodiment of the present invention;
도 6은 도 5에 나타내는 제어회로의 제어설명도,6 is a control explanatory diagram of the control circuit shown in FIG. 5;
도 7은 본 발명의 제3 실시형태에 관한 초음파미용기의 개략 회로구성도,7 is a schematic circuit configuration diagram of an ultrasonic beauty device according to a third embodiment of the present invention;
도 8은 도 7에 나타내는 각 회로의 동작파형도,8 is an operation waveform diagram of each circuit shown in FIG. 7;
도 9는 본 발명의 제4 실시형태에 관한 초음파미용기의 개략 회로구성도,9 is a schematic circuit configuration diagram of an ultrasonic beauty device according to a fourth embodiment of the present invention;
도 10은 도 9에 나타내는 각 회로의 동작파형도,10 is an operation waveform diagram of each circuit shown in FIG. 9;
도 11은 본 발명의 제5 실시형태에 관한 초음파미용기의 개략 회로구성도,11 is a schematic circuit configuration diagram of an ultrasonic beauty device according to a fifth embodiment of the present invention;
도 12는 도 11에 나타내는 각 회로의 동작파형도,12 is an operation waveform diagram of each circuit shown in FIG. 11;
도 13은 본 발명의 제6 실시형태에 관한 초음파미용기의 개략 회로구성도,13 is a schematic circuit configuration diagram of an ultrasonic beauty device according to a sixth embodiment of the present invention;
도 14는 도 13에 나타내는 각 회로의 동작파형도,14 is an operation waveform diagram of each circuit shown in FIG. 13;
도 15는 본 발명의 제7 실시형태에 관한 초음파미용기의 개략 회로구성도,15 is a schematic circuit configuration diagram of an ultrasonic beauty device according to a seventh embodiment of the present invention;
도 16은 도 15에 나타내는 각 회로의 동작파형도,16 is an operation waveform diagram of each circuit shown in FIG. 15;
도 17은 본 발명의 제8 실시형태에 관한 초음파미용기의 개략 회로구성도,17 is a schematic circuit configuration diagram of an ultrasonic beauty device according to an eighth embodiment of the present invention;
도 18은 도 17에 나타내는 각 회로의 동작파형도이다.18 is an operational waveform diagram of each circuit shown in FIG. 17.
〈부호의 설명〉<Explanation of sign>
1 프로브, 2 본체,1 probe, 2 bodies,
10 금속부, 11 압전소자,10 metal parts, 11 piezoelectric elements,
12, 32, 42, 52, 62 발진구동회로, 13, 33, 43 검출회로,12, 32, 42, 52, 62 oscillation drive circuit, 13, 33, 43 detection circuit,
14, 24, 34, 44, 74, 84 제어회로.14, 24, 34, 44, 74, 84 control circuit.
상기 과제를 해결하기 위해 청구항 1 기재의 발명의 초음파 미용기는, 한 면이 피부접촉면으로 되는 금속부 및 이 금속부의 다른 면에 접합되는 압전소자를 가지는 프로브와, 상기 압전소자에 대하여 이 압전소자를 초음파진동시키기 위한 고주파전력을 공급하는 발진구동회로와, 상기 압전소자의 출력변동의 검출을 행하는 검출회로와, 상기 검출결과에 따라서 상기 압전소자에 대한 출력이 일정하게 되도록 상기 발진구동회로의 출력제어를 행하는 제어회로를 구비하는 것이다.In order to solve the above problems, the ultrasonic beauty machine according to the invention described in claim 1 includes a probe having a metal part on which one surface becomes a skin contact surface and a piezoelectric element bonded to the other surface of the metal part, and the piezoelectric element with respect to the piezoelectric element. An oscillation drive circuit for supplying high frequency power for ultrasonic oscillation, a detection circuit for detecting output variations of the piezoelectric element, and output control of the oscillation drive circuit such that the output to the piezoelectric element is made constant according to the detection result It is to provide a control circuit for performing.
청구항 2 기재의 발명의 초음파미용기는, 한 면이 피부접촉면으로 되는 금속부 및 이 금속부의 다른 면에 접합되는 압전소자를 가지는 프로브와, 상기 압전소자에 대하여 이 압전소자를 초음파진동시키기 위한 고주파전력을 공급하는 발진구동회로와, 상기 압전소자의 출력변동의 검출을 행하는 검출회로와, 상기 압전소자에 대한 출력레벨이 복수의 소정의 출력레벨로부터 상기 검출결과에 따라서 택일적으로 선택된 소정의 출력레벨로 되도록 상기 발진구동회로의 출력변경을 행하는 제어회로를 구비하는 것이다.The ultrasonic cosmetic device of the invention according to claim 2 includes a probe having a metal part on which one surface becomes a skin contact surface and a piezoelectric element bonded to the other surface of the metal part, and a high frequency power for ultrasonically vibrating the piezoelectric element with respect to the piezoelectric element. An oscillation drive circuit for supplying the?, A detection circuit for detecting output variations of the piezoelectric element, and an output level for which the output level for the piezoelectric element is selectively selected from a plurality of predetermined output levels according to the detection result And a control circuit for changing the output of the oscillation drive circuit so as to be obtained.
청구항 3 기재의 발명은, 청구항 1 또는 2 기재의 초음파미용기에 있어서, 상기 검출회로가 상기 발진구동회로의 상기 압전소자에 대한 출력측에 설치되어 있는 것이다.According to the third aspect of the present invention, in the ultrasonic beauty apparatus according to claim 1 or 2, the detection circuit is provided on the output side of the piezoelectric element of the oscillation driving circuit.
청구항 4 기재의 발명은, 청구항 1 또는 2 기재의 초음파미용기에 있어서, 상기 검출회로가 상기 발진구동회로의 입력측에 설치되어 있는 것이다.According to the invention of claim 4, in the ultrasonic beauty device according to claim 1 or 2, the detection circuit is provided on the input side of the oscillation drive circuit.
청구항 5 기재의 발명은, 청구항 1 또는 2 기재의 초음파미용기에 있어서, 상기 제어회로가 상기 발진구동회로에서 상기 압전소자로의 공급전력을 제어하는 것이다.According to a fifth aspect of the present invention, in the ultrasonic beauty apparatus according to claim 1 or 2, the control circuit controls the supply power from the oscillation driving circuit to the piezoelectric element.
청구항 6 기재의 발명은, 청구항 1 또는 2 기재의 초음파미용기에 있어서, 상기 제어회로가 상기 발진구동회로의 발진주파수를 제어하는 것이다.According to a sixth aspect of the present invention, in the ultrasonic beauty apparatus according to claim 1 or 2, the control circuit controls the oscillation frequency of the oscillation driving circuit.
청구항 7 기재의 발명은, 청구항 1 또는 2 기재의 초음파미용기에 있어서, 상기 제어회로가 상기 발진구동회로의 듀티를 제어하는 것이다.According to a seventh aspect of the present invention, in the ultrasonic beauty apparatus according to claim 1 or 2, the control circuit controls the duty of the oscillation driving circuit.
청구항 8 기재의 발명은, 청구항 5 기재의 초음파미용기에 있어서, 상기 제어회로가 상기 발진구동회로에 대하여 상기 압전소자로의 전력공급의 개시시에는 목표전력보다 작은 전력에서 공급을 개시시키는 제어를 행하는 것이다.According to an eighth aspect of the present invention, in the ultrasonic beauty apparatus of the fifth aspect, the control circuit performs control for starting the supply at a power smaller than a target power at the start of power supply to the piezoelectric element with respect to the oscillation driving circuit. will be.
청구항 9 기재의 발명은, 청구항 5 기재의 초음파미용기에 있어서, 상기 제어회로가 상기 발진구동회로에 대하여 상기 피부접촉면에 대한 피부접촉상태의 변화시에는 상기 압전소자로의 전력공급을 목표전력보다 작은 전력에서 개시시키는 제어를 행하는 것이다.According to an aspect of the present invention, in the ultrasonic beauty apparatus according to claim 5, when the control circuit changes the skin contact state with respect to the skin contact surface with respect to the oscillation driving circuit, power supply to the piezoelectric element is smaller than a target power. Control to start with electric power is performed.
도 1은 본 발명의 제1 실시형태에 관한 초음파미용기의 개략 회로구성도, 도 2는 프로브 및 본체를 나타내는 단면도, 도 3은 도 1에 나타내는 압전소자의 공진주파수 부근에서의 임피던스 특성도, 도 4는 도 1에 나타낸 제어회로의 제어설명도이고, 이들의 도면을 사용하여 이하에 제1 실시형태의 설명을 행한다.1 is a schematic circuit configuration diagram of an ultrasonic beauty device according to a first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a sectional view showing a probe and a main body, and FIG. 3 is an impedance characteristic diagram near a resonance frequency of the piezoelectric element shown in FIG. 4 is a control explanatory diagram of the control circuit shown in FIG. 1, and the first embodiment will be described below using these drawings.
본 초음파미용기는, 도 2에 나타낸 바와 같이, 한 면(도면에서는 상면)이 피부접촉면으로 되는 금속부(10) 및 이 금속부(10)의 소자접촉면인 다른 면(도면에서는 하면)에 접착되는 압전소자(11)를 가지는 프로브(1)를 구비하고 있음과 동시에, 프로브(1)의 압전소자(11)와 접속선(CW)을 통해 접속되는 본체(2)를 구비하고 있다.As shown in Fig. 2, the ultrasonic beauty machine is bonded to the metal part 10 whose one surface (the upper surface in the drawing) is the skin contact surface and the other surface (the lower surface in the drawing) which is the element contact surface of the metal portion 10. A probe 1 having a piezoelectric element 11 is provided, and a main body 2 connected to the piezoelectric element 11 of the probe 1 via a connection line CW.
이 본체(2)의 회로구성은, 도 1에 나타낸 바와 같이, 압전소자(11)에 대하여 이 압전소자(11)를 초음파 진동시키기 위한 고주파 전력을 공급하는 발진구동회로(12)와, 압전소자(11)의 출력변동의 검출을 행하는 검출회로(13)와, 그 검출결과에 따라서 압전소자(11)에 대한 출력이 일정하게 되도록 발진구동회로(12)의 출력제어를 행하는 제어회로(14)를 구비한 것으로 되어 있다.As shown in FIG. 1, the circuit configuration of the main body 2 includes an oscillation driving circuit 12 for supplying high frequency power for ultrasonically vibrating the piezoelectric element 11 to the piezoelectric element 11, and a piezoelectric element. A detection circuit 13 for detecting output fluctuation of (11), and a control circuit 14 for output control of the oscillation drive circuit 12 so that the output to the piezoelectric element 11 is constant according to the detection result. It is equipped with.
상기 회로구성에 대해서 더 상술하면, 발진구동회로(12)는, 초음파주파수의 신호를 생성하는 발진기(121)와, 이 발진기(121)에 의해 생성된 신호를 전력증폭하여 구동신호(고주파전력)(S12)로서 압전소자(11)에 공급하는 구동회로(122)에 의해 구성되어 있다.More specifically with respect to the circuit configuration, the oscillation drive circuit 12, the oscillator 121 for generating a signal of the ultrasonic frequency and the signal generated by the oscillator 121 by power amplifying the drive signal (high frequency power) It is comprised by the drive circuit 122 supplied to the piezoelectric element 11 as S12.
검출회로(13)는, 압전소자(11)에 공급되는 고주파전력을 검출하여, 검출된 전력레벨에 따른 레벨의 전압을 검출신호(S13)로서 제어회로(14)에 출력한다. 즉, 압전소자(11)로의 공급전력이 클수록 검출신호(S13)의 전압레벨이 보다 높게 되고, 공급전력이 작을수록 검출신호(S13)의 전압레벨이 보다 낮게 되는 것이다. 또한, 설계단계에서 결정되는 통상접촉상태에서의 검출신호(S13)의 전압레벨이 목표전압레벨로서 설정된다.The detection circuit 13 detects the high frequency power supplied to the piezoelectric element 11 and outputs a voltage having a level corresponding to the detected power level to the control circuit 14 as the detection signal S13. That is, the larger the power supply to the piezoelectric element 11, the higher the voltage level of the detection signal S13, and the lower the supply power, the lower the voltage level of the detection signal S13. Further, the voltage level of the detection signal S13 in the normal contact state determined at the design stage is set as the target voltage level.
여기에서, 압전소자(11)의 임피던스특성에 대하여 설명하면, 이 임피던스특성은, 도 3에 나타낸 바와 같이, 피부접촉면에 피부가 접촉하고 있는 경우와 접촉하고 있지 않은 경우에서 각각 특성 A와 특성 B로 변화한다. 도 3의 예에서는 주파수 1000KHz로 회로를 발진시켰을 때, 특성 A의 임피던스가 15Ω인 것에 대하여, 특성 B의 임피던스는 2Ω으로 작게 된다. 이 때문에, 20V의 전압에서 발진시켰을 때, 특성 A의 임피던스의 경우는 27W(=202V÷15Ω)의 출력이 특성 B의 임피던스의 경우에는 200W(=202V÷2Ω)의 출력으로 되므로, 압전소자(11)의 임피던스특성이 특성 A에서 특성 B로 변화했을 때 소비전력(=음향출력)이 증대하는 것으로 된다. 결국, 금속부(10)의 피부접촉면에 대한 피부접촉 상태의 변화가 압전소자(11)의 임피던스의 변화로 되어, 압전소자(11)의 전력변화로 되고, 그리고 음향출력변화로 되어 나타나는 것이다. 이와 같이 음향출력이 변화하면, 바람직한 마사지효과가 얻어지지 않을 뿐만 아니라, 다른 바람직하지 않은 문제가 발생할 가능성도 있다.Here, the impedance characteristics of the piezoelectric element 11 will be described. These impedance characteristics are characteristic A and characteristic B respectively when the skin is in contact with the skin contact surface as shown in FIG. To change. In the example of FIG. 3, when the circuit is oscillated at a frequency of 1000 KHz, the impedance of the characteristic B becomes small at 2 Hz while the impedance of the characteristic A is 15 Hz. For this reason, when sikyeoteul oscillation in the 20V voltage, if the output impedance of the characteristic B of the 27W (= 20 2 V ÷ 15Ω ) when the impedance of the characteristics A, because the output of 200W (= 20 2 V ÷ 2Ω ) When the impedance characteristic of the piezoelectric element 11 changes from characteristic A to characteristic B, power consumption (= sound output) increases. As a result, the change in the skin contact state of the metal part 10 with respect to the skin contact surface becomes the change in the impedance of the piezoelectric element 11, the power change of the piezoelectric element 11, and the sound output change. When the sound output changes in this way, not only the desired massage effect is obtained, but also other undesirable problems may occur.
그래서, 제1 실시형태에서는, 상기 검출회로(13)에 더하여, 이 검출회로(13)에서의 검출신호(S13)에 따라서 구동신호(S12)의 레벨조정을 행하는 제어회로(14)가 구비되는 것이다. 즉, 검출신호(S13)의 전압레벨이 목표전압레벨보다 낮으면, 검출회로(13)에서의 검출신호(S13)의 전압레벨이 목표전압레벨로 되도록 발진구동회로(12)에 대하여 압전소자(11)로의 전력공급량을 늘리는 제어가 행해진다. 한편, 검출신호(S13)의 전압레벨이 목표전압레벨보다 높으면, 검출회로(13)에서의 검출신호(S13)의 전압레벨이 목표전압레벨로 되도록, 발진구동회로(12)에 대하여 압전소자(11)로의 전력공급량을 줄이는 제어가 행해진다.Therefore, in the first embodiment, in addition to the detection circuit 13, a control circuit 14 for adjusting the level of the drive signal S12 in accordance with the detection signal S13 in the detection circuit 13 is provided. will be. That is, when the voltage level of the detection signal S13 is lower than the target voltage level, the piezoelectric element (1) is provided with respect to the oscillation driving circuit 12 so that the voltage level of the detection signal S13 in the detection circuit 13 becomes the target voltage level. Control to increase the amount of power supplied to 11) is performed. On the other hand, when the voltage level of the detection signal S13 is higher than the target voltage level, the piezoelectric element (1) is applied to the oscillation driving circuit 12 so that the voltage level of the detection signal S13 in the detection circuit 13 becomes the target voltage level. Control to reduce the power supply to 11 is performed.
도 4의 동작예에 나타낸 바와 같이, 통상접촉상태에서는, 압전소자(11)로의 공급전력이 목표공급전력으로 됨과 동시에, 검출신호(S13)의 전압레벨이 목표전압레벨로 되고, 발진구동회로(12)에서 압전소자(11)로의 전력공급상태가 그대로 유지된다.As shown in the operation example of Fig. 4, in the normal contact state, the power supply to the piezoelectric element 11 becomes the target supply power, the voltage level of the detection signal S13 becomes the target voltage level, and the oscillation drive circuit ( In 12), the power supply state to the piezoelectric element 11 is maintained.
이 후, 통상접촉상태보다도 강하게 피부접촉면이 피부에 눌려지는 과잉누름상태로 되면(시점 t11), 압전소자(11)의 임피던스치가 크게 되고, 압전소자(11)로의 공급전력이 작게 되므로, 그 공급전력이 작게 된 만큼에 따라서 강압된 전압레벨의 검출신호(S13)가 검출회로(13)에서 출력된다. 그 검출신호(S13)가 제어회로(14)에 취입되면, 검출회로(13)에서의 검출신호(S13)의 전압레벨이 목표전압레벨로 되도록 발진구동회로(12)에 대하여 압전소자(11)로의 전력공급량을 늘리는 제어가 행해진다. 이 제어가 반복하여 행해짐으로써, 검출신호(S13)의 전압레벨이 목표전압레벨로 됨과 동시에, 압전소자(11)로의 공급전력이 목표공급전력으로 된다(시점 t12).Subsequently, when the skin contact surface is in an excessively pressed state where the skin contact surface is pressed against the skin more strongly than the normal contact state (time t11), the impedance value of the piezoelectric element 11 becomes large and the power supply to the piezoelectric element 11 becomes small. As the electric power becomes smaller, the detection signal S13 of the stepped down voltage level is output from the detection circuit 13. When the detection signal S13 is introduced into the control circuit 14, the piezoelectric element 11 with respect to the oscillation drive circuit 12 so that the voltage level of the detection signal S13 in the detection circuit 13 becomes the target voltage level. Control to increase the amount of power supplied to the furnace is performed. By repeatedly performing this control, the voltage level of the detection signal S13 becomes the target voltage level and the supply power to the piezoelectric element 11 becomes the target supply power (time t12).
이 후, 피부접촉면이 피부에서 떨어진 비접촉상태로 되면(시점 t13), 압전소자(11)의 임피던스치가 작게 되어, 압전소자(11)로의 공급전력이 크게 되므로, 그 공급전력이 크게 된 만큼에 따라서 승압된 전압레벨의 검출신호(S13)가 검출회로(13)에서 출력된다. 그 검출신호(S13)가 제어회로(14)에 취입되면, 검출회로(13)에서의 검출신호(S13)의 전압레벨이 목표 전압레벨로 되도록, 발진구동회로(12)에 대하여 압전소자(11)로의 전력공급량을 감소하는 제어가 행해진다. 이 제어가 반복하여 행해짐으로써, 검출신호(S13)의 전압레벨이 목표 전압레벨로 됨과 동시에, 압전소자(11)로의 공급전력이 목표 공급전력으로 된다(시점 t14).After that, when the skin contact surface is in a non-contact state away from the skin (time point t13), the impedance value of the piezoelectric element 11 becomes small, and the power supply to the piezoelectric element 11 becomes large. The detection signal S13 of the boosted voltage level is output from the detection circuit 13. When the detection signal S13 is introduced into the control circuit 14, the piezoelectric element 11 with respect to the oscillation drive circuit 12 so that the voltage level of the detection signal S13 in the detection circuit 13 becomes the target voltage level. Control to reduce the amount of power supplied to) is performed. By repeatedly performing this control, the voltage level of the detection signal S13 becomes the target voltage level and the supply power to the piezoelectric element 11 becomes the target supply power (time t14).
이상, 제1 실시형태에 의하면, 금속부(10)의 피부접촉면에 대한 피부의 접촉상태에 따라서, 압전소자(11)의 임피던스가 변동하여 압전소자(11)로의 공급전력이 변동해도, 이 공급전력의 변동이 목표 공급전력으로 보정되므로, 금속부(10)에서의 음향출력을 거의 일정하게 할 수 있다. 이것에 의해, 바람직한 마사지 효과, 즉 일정한 음향출력에 의한 안정한 마사지 효과를 얻을 수 있음과 동시에, 음향출력의 바람직하지 않은 변화에 기인하는 여러 가지의 문제를 방지하는 것이 가능하게 된다.As mentioned above, according to 1st Embodiment, even if the impedance of the piezoelectric element 11 fluctuates and the power supply to the piezoelectric element 11 fluctuates according to the contact state of the skin with the skin contact surface of the metal part 10, this supply is provided. Since the fluctuation of the power is corrected to the target supply power, the sound output from the metal portion 10 can be made almost constant. This makes it possible to obtain a favorable massage effect, that is, a stable massage effect by a constant sound output, and to prevent various problems caused by undesired changes in the sound output.
또한, 제1 실시형태에서는, 검출회로(13)에 의해, 압전소자(11)에 대한 공급전력의 검출이 행해지고, 이 검출결과로서 공급전력의 변동에 따른 검출신호의 출력이 행해지는 구성으로 되어 있지만, 이것에 한정하지 않고, 압전소자(11)에 대한 전압 또는 전류의 검출이 행해지고, 이 검출결과로서, 그 변동에 따른 검출신호의 출력이 행해지는 구성이라도 좋다.In addition, in the first embodiment, the detection circuit 13 detects the supply power to the piezoelectric element 11, and as a result of this detection, the detection signal according to the change in the supply power is output. However, the present invention is not limited to this, but the voltage or current is detected for the piezoelectric element 11, and as the detection result, a configuration in which the output of the detection signal according to the variation may be performed.
도 5는 본 발명의 제2 실시형태에 관한 초음파미용기의 개략 회로구성도, 도 6은 도 5에 나타내는 제어회로의 제어설명도이고, 이들의 도면을 사용하여 이하에 제2 실시형태의 설명을 행한다.FIG. 5 is a schematic circuit configuration diagram of an ultrasonic beauty device according to a second embodiment of the present invention, FIG. 6 is a control explanatory diagram of the control circuit shown in FIG. 5, and the description of the second embodiment will be described below using these drawings. Do it.
본 초음파미용기는, 도 5에 나타낸 바와 같이, 압전소자(11), 발진구동회로(12) 및 검출회로(13)를 제1 실시형태와 마찬가지로 구비하고 있는 것 외에, 제1 실시형태와의 상위점으로서 제어회로(24)를 구비하고 있다.As shown in FIG. 5, this ultrasonic beauty device is provided with the piezoelectric element 11, the oscillation drive circuit 12, and the detection circuit 13 similarly to 1st Embodiment, and differs from 1st Embodiment. As a point, a control circuit 24 is provided.
이 제어회로(24)는 압전소자(11)에 대한 복수의 소정의 출력레벨을 가지고 검출회로(13)에서의 검출신호(S13)에 따라서 압전소자(11)에 대한 출력레벨이 복수의 소정의 출력레벨에서 택일적으로 선택된 소정의 출력레벨로 되도록 발진구동회로(12)의 출력변경을 행하는 것이다. 즉, 제어회로(24)는 복수, 제2 실시형태에서는 도 6의 예에 나타낸 바와 같이 2개의 기준치(Ref1, Ref2(Ref1〈Ref2))를 가지고, 검출신호(S13)의 전압레벨이 기준치(Ref1)보다 높고 기준치(Ref2)보다 낮으면, 검출신호(S13)에서의 전압레벨이 제어치(Tar1)로 되도록, 압전소자(11)로의 전력공급량을 감소하는 한편, 검출신호(S13)의 전압레벨이 기준치(Ref2)보다 높으면, 검출신호(S13)에서의 전압레벨이 제어치(Tar2(〈Tar1))로 되도록, 압전소자(11)로의 전력공급량을 줄이는 제어를 발진구동회로(12)에 대하여 행한다. 다만, 기준치(Ref1)는 통상접촉상태에서의 검출신호(S13)보다 높은 전압레벨로 설정된다.The control circuit 24 has a plurality of predetermined output levels for the piezoelectric element 11 and the output level for the piezoelectric element 11 has a plurality of predetermined output levels in accordance with the detection signal S13 in the detection circuit 13. The output of the oscillation drive circuit 12 is changed so as to be a predetermined output level that is alternatively selected from the output level. That is, the control circuit 24 has two reference values Ref1 and Ref2 (Ref1 < Ref2) as shown in the example of FIG. 6 in the plural, second embodiment, and the voltage level of the detection signal S13 is the reference value ( If it is higher than Ref1 and lower than the reference value Ref2, the amount of power supplied to the piezoelectric element 11 is reduced while the voltage level in the detection signal S13 becomes the control value Tar1, while the voltage of the detection signal S13 is reduced. When the level is higher than the reference value Ref2, the oscillation drive circuit 12 controls to reduce the amount of power supplied to the piezoelectric element 11 so that the voltage level in the detection signal S13 becomes the control value Tar2 (< Tar1). It is done. However, the reference value Ref1 is set to a voltage level higher than the detection signal S13 in the normal contact state.
다음에, 제2 실시형태의 회로동작의 설명을 행하면, 통상접촉상태에서는, 도 6의 예에 나타낸 바와 같이, 압전소자(11)로의 공급전력에서 얻어지는 검출신호(S13)의 전압레벨이 2개의 기준치(Ref1, Ref2)보다도 낮기 때문에, 발진구동회로(12)에서 압전소자(11)로의 전력공급상태가 그대로 유지된다.Next, the circuit operation of the second embodiment will be described. In the normal contact state, as shown in the example of FIG. 6, the voltage level of the detection signal S13 obtained at the power supply to the piezoelectric element 11 is two. Since it is lower than the reference values Ref1 and Ref2, the power supply state from the oscillation drive circuit 12 to the piezoelectric element 11 is maintained as it is.
이 후, 피부로의 금속부(10)의 피부접촉면의 접촉상태가 약간 약해지고, 압전소자(11)의 임피던스치가 약간 작게 되어 압전소자(11)로의 공급전력이 크게 되는 비접촉상태로 변화하면, 검출신호(S13)의 전압레벨이 기준치(Ref1)보다 높고 기준치(Ref2)보다 낮게 되어(시점 t21), 검출신호(S13)에서의 전압레벨이 제어치(Tar1)로 되도록, 압전소자(11)로의 출력공급량을 줄이는 제어가 행해진다. 이 제어가 반복하여 행해짐으로써, 검출신호(S13)의 전압레벨이 제어치(Tar1)로 됨과 동시에(시점 t22), 압전소자(11)로의 공급전력이 통상접촉상태의 공급전력의 범위내로 조정되는 것으로 된다.Thereafter, when the contact state of the skin contact surface of the metal part 10 to the skin is slightly weakened, and the impedance value of the piezoelectric element 11 is slightly reduced, and the power supply to the piezoelectric element 11 is changed, the detection is detected. The voltage level of the signal S13 is higher than the reference value Ref1 and lower than the reference value Ref2 (time t21), so that the voltage level in the detection signal S13 becomes the control value Tar1, so as to give the piezoelectric element 11 a. Control to reduce the output supply amount is performed. By repeatedly performing this control, the voltage level of the detection signal S13 becomes the control value Tar1 (time t22), and the power supply to the piezoelectric element 11 is adjusted within the range of the supply power in the normal contact state. It becomes.
이 후, 비접촉상태로 되면, 압전소자(11)로의 임피던스치가 더욱 작게 되어 압전소자(11)로의 공급전력이 더욱 크게 되므로, 검출신호(S13)의 전압레벨이 기준치(Ref2)보다 높게 되고(시점 t23), 검출신호(S13)에서의 전압레벨이 제어치(Tar2)로 되도록, 압전소자(11)로의 전력공급량을 줄이는 제어가 행해진다. 이 제어가 반복하여 행해짐으로써, 검출신호(S13)의 전압레벨이 제어치(Tar2)로 됨과 동시에(시점 t24), 압전소자(11)로의 공급전력이 통상접촉상태의 공급전력의 범위내로 조정되는 것으로 된다.After that, in the non-contact state, since the impedance value to the piezoelectric element 11 becomes smaller and the power supply to the piezoelectric element 11 becomes larger, the voltage level of the detection signal S13 becomes higher than the reference value Ref2 (time point). t23), control is performed to reduce the amount of power supplied to the piezoelectric element 11 so that the voltage level in the detection signal S13 becomes the control value Tar2. By repeating this control, the voltage level of the detection signal S13 becomes the control value Tar2 (time t24), and the supply power to the piezoelectric element 11 is adjusted within the range of the supply power in the normal contact state. It becomes.
이상, 제2 실시형태에 의하면, 반접촉상태로 되면, 압전소자(11)로의 공급전력을 통상 접촉상태의 공급전력의 범위내로 조정할 수 있음과 동시에, 비접촉상태로 되면, 압전소자(11)로의 공급전력을 통상 접촉상태의 공급전력의 범위내에서 반접촉상태의 경우보다도 작은 전력으로 조정할 수 있기 때문에, 예컨대 종래와 마찬가지로 설정되는 통상상태, 제2 실시형태에서 특징으로 되는 반접촉상태 및 비접촉상태의 각 피부접촉상태에 따라서, 음향출력이 바람직하게 변화하는 것으로 된다. 이것에 의해, 적합한 마사지효과, 즉 피부접촉상태에 따라서 적합하게(바람직하게) 변화하는 마사지효과를 얻을 수 있음과 동시에, 음향출력의 바람직하지 않은 변화에 기인하는 여러 가지의 문제를 방지할 수 있다.As described above, according to the second embodiment, the supply power to the piezoelectric element 11 can be adjusted within the range of the supply power in the normal contact state when it is in the semi-contact state, and at the same time as the piezoelectric element 11 when it is in the non-contact state. Since the power supply can be adjusted to a power smaller than that in the case of the half contact state within the range of the power supply in the normal contact state, for example, the normal state set as in the prior art, the half contact state and the non-contact state characterized in the second embodiment. According to each of the skin contact states, the sound output is preferably changed. This makes it possible to obtain a suitable massage effect, that is, a massage effect that changes suitably (preferably) in accordance with the skin contact state, and to prevent various problems due to undesirable changes in sound output. .
도 7은 본 발명의 제3 실시형태에 관한 초음파미용기의 개략 회로구성도, 도 8은 도 7에 나타내는 각 회로의 동작파형도이고, 이들의 도면을 사용하여 이하에 제3 실시형태의 설명을 행한다.FIG. 7 is a schematic circuit configuration diagram of an ultrasonic beauty device according to a third embodiment of the present invention, and FIG. 8 is an operation waveform diagram of each circuit shown in FIG. 7, and the description of the third embodiment will be described below using these drawings. Do it.
본 초음파미용기는 도 7에 나타낸 바와 같이, 압전소자(11)를 제1 실시형태와 마찬가지로 구비하고 있는 것 외에, 제1 실시형태와의 상위점으로서, 발진구동회로(32), 검출회로(33) 및 제어회로(34)를 구비하고 있다.As shown in FIG. 7, the ultrasonic beauty device includes the piezoelectric element 11 in the same manner as in the first embodiment, and differs from the first embodiment in the oscillation drive circuit 32 and the detection circuit 33. ) And a control circuit 34.
발진구동회로(32)는, 압전소자(11)에 대하여 이 압전소자(11)를 초음파진동시키기 위한 고주파전력을 공급하는 것으로서, 발진기(121)를 제1 실시형태와 마찬가지로 구비하고 있는 것 외에, 구체회로예로서, 푸쉬풀(pushpull)회로를 구성하는 저항(R321, R322) 및 FET(Q321, Q322)에 의해 이루어지고, 발진기(121)에서 생성된 신호를 전력증폭하여 구동신호(S32)로서 압전소자(11)에 공급하는 구동회로(322)를 구비하고 있다.The oscillation drive circuit 32 supplies high frequency power for ultrasonically vibrating the piezoelectric element 11 to the piezoelectric element 11, and includes the oscillator 121 as in the first embodiment. As a specific circuit example, the resistors R321 and R322 and the FETs Q321 and Q322 constituting a push-pull circuit are amplified, and the signals generated by the oscillator 121 are amplified to drive signals S32. A driving circuit 322 for supplying the piezoelectric element 11 is provided.
검출회로(33)는, 커런트트랜스(current trans)(T331) 및 저항(R331)에 의해 이루어지고, 구동신호(S32)와 상관이 있는 압전소자(11)에 흐르는 전류를 전압으로서 검출하는 전류 검출회로(331)와, 다이오드(D331), 콘덴서(C331) 및 저항(R332)에 의해 이루어지고, 전류검출회로(331)에서 검출된 전압에서 고주파성분을 제거하고, 압전소자(11)로의 전류레벨에 따른 레벨의 전압을 검출신호(S33)로서 제어회로(34)로 출력하는 포락선(包絡線) 검파회로(332)를 구비하고 있다. 또한, 전류검출회로(331)에 대신하여, 저저항(예컨대 0.1Ω)을 채용하는 구성이라도 좋다.The detection circuit 33 is constituted by a current transformer T331 and a resistor R331, and detects a current flowing in the piezoelectric element 11 correlated with the drive signal S32 as a voltage. A circuit 331, a diode D331, a capacitor C331, and a resistor R332, which remove high frequency components from the voltage detected by the current detection circuit 331, and provide a current level to the piezoelectric element 11. An envelope detection circuit 332 for outputting the voltage at the level according to the control signal to the control circuit 34 as the detection signal S33 is provided. Instead of the current detection circuit 331, a configuration in which a low resistance (for example, 0.1 k?) May be employed.
제어회로(34)는, NOT회로(341), 저항(R341), 트랜지스터(Q341), 인덕터(L341), 콘덴서(C341) 및 전해 콘덴서(C342)에 의해 이루어지고, 검출회로(33)에서의 검출신호(S33)에 따라서 구동신호(S32)의 레벨조정을 행하기 위해, 검출신호(S33)의 전압에 따라서 레벨이 변화하는 전압을 제어신호(S34)로서 구동회로(322)에 출력하는 것이다. 이것에 의해, 검출신호(S33)의 전압레벨이 높게 될수록, 제어신호(S34)의 전압레벨이 보다 한층 낮게 되어, 구동신호(S32)에 의해 압전소자(11)에 공급되는 전력이 보다 한층 작게 된다. 이것에 대하여, 검출신호(S33)의 전압레벨이 낮게 될수록, 제어신호(S34)의 전압레벨이 보다 한층 높게 되어, 구동신호(S32)에 의해 압전소자(11)에 공급되는 전력이 보다 한층 크게 된다. 다만, 제어회로(34)는, 압전소자(11)에 공급되는 전력이 목표공급전력으로 되면, 출력으로서의 제어신호(S34)의 전압레벨이 평형하도록 구성된다.The control circuit 34 is composed of a NOT circuit 341, a resistor R341, a transistor Q341, an inductor L341, a capacitor C341, and an electrolytic capacitor C342, In order to adjust the level of the drive signal S32 in accordance with the detection signal S33, a voltage whose level changes in accordance with the voltage of the detection signal S33 is output to the drive circuit 322 as a control signal S34. . As a result, the higher the voltage level of the detection signal S33 is, the lower the voltage level of the control signal S34 is, and the power supplied to the piezoelectric element 11 by the driving signal S32 is further reduced. do. On the other hand, the lower the voltage level of the detection signal S33 is, the higher the voltage level of the control signal S34 becomes, and the power supplied to the piezoelectric element 11 by the drive signal S32 becomes larger. do. However, when the power supplied to the piezoelectric element 11 becomes a target supply power, the control circuit 34 is comprised so that the voltage level of the control signal S34 as an output may be balanced.
다음에, 제3 실시형태의 회로동작의 설명을 행하면, 비접촉상태에서는, 도 8의 예에 나타낸 바와 같이, 압전소자(11)로의 공급전력이 목표공급전력보다 크고, 그 공급전력에 따른 레벨의 전류(전류검출회로의 검출전류)가 전압(전류검출회로의 출력전압)으로서 검출되고, 이 검출된 전압이, 고주파성분의 제거후에 검출신호(S33)(포락선 검파회로의 출력전압)로서, 검출회로(33)에서 제어회로(34)로 출력된다. 이 후, 검출신호(S33)에 따라서 전압레벨의 낮게 된 제어신호(S34)가 제어회로(34)에서 구동회로(322)에 이 구동회로(322)의 전원전압으로서 출력된다. 이 결과, 구동신호(S32)의 전압레벨이 낮게 되고, 압전소자(11)에 공급되는 전력이 작게 된다. 이와 같은 회로동작이 반복하여 행해짐으로써, 압전소자(11)에 공급되는 전력이 목표공급전력으로 조정되는 것으로 된다(시점 t31).Next, the circuit operation of the third embodiment will be described. In the non-contact state, as shown in the example of FIG. 8, the power supply to the piezoelectric element 11 is larger than the target supply power, and the level corresponding to the supply power is shown. The current (detection current of the current detection circuit) is detected as a voltage (output voltage of the current detection circuit), and the detected voltage is detected as the detection signal S33 (output voltage of the envelope detection circuit) after the removal of the high frequency component. It is output from the circuit 33 to the control circuit 34. Thereafter, the control signal S34 having a low voltage level is output from the control circuit 34 to the drive circuit 322 as the power supply voltage of the drive circuit 322 in accordance with the detection signal S33. As a result, the voltage level of the drive signal S32 becomes low, and the power supplied to the piezoelectric element 11 becomes small. By repeating such a circuit operation, the power supplied to the piezoelectric element 11 is adjusted to the target supply power (time t31).
이 후, 금속부(10)의 피부접촉면이 피부에 접촉되는 접촉상태로 되면, 압전소자(11)의 임피던스치가 크게 되어 압전소자(11)로의 공급전력이 작게 되어(시점 t32), 그 공급전력에 따른 레벨의 전류가 전압으로서 검출되고, 이 검출된 전압이 고주파성분의 제거후에 검출신호(S33)로서, 검출회로(33)에서 제어회로(34)에 출력된다. 이 후, 검출신호(S33)에 따라서 전압레벨이 높게 된 제어신호(S34)가 제어회로(34)에서 구동회로(322)로 출력되고, 이 결과, 구동신호(S32)의 전압레벨이 높게 되고, 압전소자(11)에 공급되는 전력이 크게 된다. 이와 같은 회로동작이 반복하여 행해짐으로써 압전소자(11)에 공급되는 전력이 목표공급전력으로 조정되는 것으로 된다(시점 t33).After that, when the skin contact surface of the metal part 10 comes into contact with the skin, the impedance value of the piezoelectric element 11 becomes large, and the power supply to the piezoelectric element 11 becomes small (time t32). The current at the level corresponding to the voltage is detected as a voltage, and the detected voltage is output from the detection circuit 33 to the control circuit 34 as the detection signal S33 after the high frequency component is removed. Thereafter, the control signal S34 whose voltage level is increased in accordance with the detection signal S33 is output from the control circuit 34 to the driving circuit 322. As a result, the voltage level of the driving signal S32 becomes high. , The power supplied to the piezoelectric element 11 becomes large. By repeating such a circuit operation, the power supplied to the piezoelectric element 11 is adjusted to the target supply power (time t33).
이상, 제3 실시형태에 의하면, 제1 실시형태와 동일한 효과를 나타내는 것이 가능하게 되는 것 외에, 압전소자(11)의 임피던스변화에 기인하는 변화(전압, 전류, 전력)를 고정밀도로 검출하는 것이 가능하게 된다. 예컨대, 발진회로구성으로서, 전원, 구동회로, 압전소자가 존재하고, 전원으로 7W, 구동회로로 5W, 압전소자로 4W의 출력을 낼 수 있을 때, 전원에서 구동회로로의 로스는 2W이고, 71%의 효율이다. 또한, 구동회로에서 압전소자로의 로스는 1W이고, 80%의 효율이다. 각각의 효율의 오차가 ±5%이었을 때, 구동회로의 압전소자측에서의 검출이면 5%의 측정오차로 검출할 수 있지만, 구동회로의 전원측이면 25%의 오차로 되는 결과, 구동회로의 로스가 중복되어, 검출정밀도는 떨어진다. 결국, 구동회로의 압전소자측에서의 검출은 고정밀도인 검출이 가능하게 된다.As described above, according to the third embodiment, it becomes possible to exhibit the same effects as in the first embodiment, and to detect the change (voltage, current, power) due to the impedance change of the piezoelectric element 11 with high accuracy. It becomes possible. For example, as the oscillation circuit configuration, when there is a power source, a driving circuit, and a piezoelectric element, the output of 7W as a power source, 5W as a driving circuit, and 4W as a piezoelectric element can be output. 71% efficiency. In addition, the loss from the driving circuit to the piezoelectric element is 1W, and the efficiency is 80%. When the error of each efficiency is ± 5%, if the detection on the piezoelectric element side of the driving circuit can be detected with a 5% measurement error, the error on the power supply side of the driving circuit results in a 25% error. The detection accuracy is lowered. As a result, detection at the piezoelectric element side of the driving circuit can be performed with high accuracy.
도 9는 본 발명의 제4 실시형태에 관한 초음파미용기의 개략 회로구성도, 도 10은 도 9에 나타내는 각 회로의 동작파형도이고, 이들의 도면을 사용하여 이하에 제4 실시형태의 설명을 행한다.FIG. 9 is a schematic circuit configuration diagram of an ultrasonic beauty device according to a fourth embodiment of the present invention, and FIG. 10 is an operation waveform diagram of each circuit shown in FIG. 9. The description of the fourth embodiment will be described below using these drawings. Do it.
본 초음파미용기는 도 9에 나타낸 바와 같이, 압전소자(11)를 제1 실시형태와 마찬가지로 구비하고 있는 것 외에, 제1 실시형태와의 상위점으로서, 발진구동회로(42), 검출회로(43) 및 제어회로(44)를 구비하고 있다. 다만, 이들 발진구동회로(42), 검출회로(43) 및 제어회로(44)는, 공진주파수∼반(反)공진주파수의 범위(임피던스특성이 선형으로 되는 범위)내에서 동작하도록 이하와 같이 구성된다(도 3 참조).As shown in FIG. 9, the ultrasonic beauty machine includes the piezoelectric element 11 in the same manner as in the first embodiment, and differs from the first embodiment in the oscillation drive circuit 42 and the detection circuit 43. As shown in FIG. ) And a control circuit 44. However, these oscillation drive circuits 42, the detection circuit 43, and the control circuit 44 operate so as to operate within the range of the resonance frequency to the anti-resonant frequency (the range where the impedance characteristic becomes linear) as follows. Configured (see FIG. 3).
발진구동회로(42)는, 압전소자(11)에 대하여 이 압전소자(11)를 초음파진동시키기 위한 고주파전력을 공급하는 것으로서, 그 고주파전력으로서의 구동신호(S32)를 압전소자(11)에 공급하는 구동회로(322)를 제3 실시형태와 마찬가지로 구비하고 있는 것 외에, 구체 회로예로서, VCO를 구성하는 저항(R421), 콘덴서(C421), 가변용량 다이오드(D421), 콘덴서(C422), 저항(R422) 및 2입력 NAND(422)에 의해 이루어지고, 초음파주파수의 신호를 생성하여 구동회로(322)의 입력으로 출력하는 발진기(421)를 구비하고 있다.The oscillation drive circuit 42 supplies high frequency power for ultrasonically vibrating the piezoelectric element 11 to the piezoelectric element 11, and supplies a drive signal S32 as the high frequency power to the piezoelectric element 11. The drive circuit 322 is provided in the same manner as in the third embodiment, and as a specific circuit example, a resistor R421, a capacitor C421, a variable capacitor diode D421, a capacitor C422, An oscillator 421 is formed by a resistor R422 and a two-input NAND 422 and generates a signal of an ultrasonic frequency and outputs it to the input of the driving circuit 322.
검출회로(43)는, 구동회로(322)의 입력측, 상세하게는 구동회로(322)에 대한 전력공급경로상에 설치되는 저항(R431)에 의해 이루어지고, 구동신호(S32)와 상관이 있는 구동회로(322)에 공급되는 전력을 검출신호(S43)(저항(R431)의 전압강하)로서 검출하는 것이다.The detection circuit 43 is formed by a resistor R431 provided on the input side of the driving circuit 322, in detail, on the power supply path to the driving circuit 322, and has a correlation with the driving signal S32. The power supplied to the drive circuit 322 is detected as the detection signal S43 (voltage drop of the resistor R431).
제어회로(44)는, 인덕터(L341), 콘덴서(C341) 및 전해 콘덴서(C342)를 제3 실시형태와 마찬가지로 구비하고 있는 것 외에, 차동증폭기(441) 및 저항(R441∼R444)을 구비하여 이루어지고, 검출회로(43)에서의 검출신호(S43)에 따라서 레벨이 변화하는 전압을 제어신호(S44)로서 발진기(421)의 입력으로 출력하는 것이다.The control circuit 44 includes an inductor L341, a capacitor C341, and an electrolytic capacitor C342 as in the third embodiment, and includes a differential amplifier 441 and resistors R441 to R444. The voltage of which the level changes in accordance with the detection signal S43 in the detection circuit 43 is outputted to the input of the oscillator 421 as the control signal S44.
다음에, 제4 실시형태의 회로동작의 설명을 행하면, 비접촉상태에서는, 도 10의 예에 나타낸 바와 같이, 압전소자(11)로의 공급전력이 목표공급전력보다 크게 되고, 그 공급전력에 따른 큰 전압강하가 저항(R431)에서 발생하고, 그 전압강하가 검출신호(S43)로서 검출회로(43)에서 제어회로(44)에 취입된다. 그러면, 제어회로(44)에서 발진기(421)로의 제어신호(S44)의 전압레벨이 높게 되고, 발진기(421)의 출력주파수가 높게 된다. 이 결과, 압전소자(11)의 임피던스가 높게 되고(도 3의 선형범위참조), 압전소자(11)로의 공급전력이 작게 된다. 이와 같은 회로동작이 반복하여 행해짐으로써, 압전소자(11)에 공급되는 전력이 목표공급전력으로 조정되는 것으로 된다(시점 t41).Next, the circuit operation of the fourth embodiment will be described. In the non-contact state, as shown in the example of FIG. 10, the power supply to the piezoelectric element 11 is larger than the target supply power, and according to the supply power is large. A voltage drop is generated in the resistor R431, and the voltage drop is taken into the control circuit 44 from the detection circuit 43 as the detection signal S43. Then, the voltage level of the control signal S44 from the control circuit 44 to the oscillator 421 becomes high, and the output frequency of the oscillator 421 becomes high. As a result, the impedance of the piezoelectric element 11 becomes high (refer to the linear range in FIG. 3), and the power supply to the piezoelectric element 11 becomes small. By repeating such a circuit operation, the power supplied to the piezoelectric element 11 is adjusted to the target supply power (time t41).
이 후, 금속부(10)의 피부접촉면이 피부에 접촉되는 접촉상태로 되면, 압전소자(11)의 임피던스치가 크게 되어 압전소자(11)로의 공급전력이 작게 되어(시점 t42), 저항(R431)에서의 전압강하가 작게 되어 검출신호(S43)로서 검출회로(43)에서 제어회로(44)에 취입된다. 그러면, 제어회로(44)에서 발진기(421)로의 제어신호(S44)의 전압레벨이 낮게 되고, 발진기(421)의 출력 주파수가 낮게 된다. 이 결과, 압전소자(11)의 임피던스가 낮게 되고, 압전소자(11)로의 공급전력이 크게 된다. 이와 같은 회로동작이 반복하여 행해짐으로써, 압전소자(11)에 공급되는 전력이 목표공급전력으로 조정되는 것으로 된다(시점 t43).After that, when the skin contact surface of the metal part 10 comes into contact with the skin, the impedance value of the piezoelectric element 11 becomes large, and the power supply to the piezoelectric element 11 becomes small (time t42), and the resistance R431 ), The voltage drop is reduced to be taken into the control circuit 44 from the detection circuit 43 as the detection signal S43. Then, the voltage level of the control signal S44 from the control circuit 44 to the oscillator 421 becomes low, and the output frequency of the oscillator 421 becomes low. As a result, the impedance of the piezoelectric element 11 becomes low, and the power supply to the piezoelectric element 11 becomes large. By repeating such a circuit operation, the power supplied to the piezoelectric element 11 is adjusted to the target supply power (time t43).
다음에, 도 3을 사용하여 보다 구체적으로 설명하면, 예컨대 접촉상태에서 1000KHz의 발진주파수에서 20V의 전압이 압전소자(11)에 인가되고 있는 경우에 비접촉상태로 되면, 압전소자(11)의 임피던스가 2Ω으로 되고, 압전소자(11)로의 공급전력이 200W로 되어 목표공급전력보다 크게 된다. 이 경우, 발진주파수를 1008KHz로 변경하면, 압전소자(11)의 임피던스가 15Ω으로 되고, 압전소자(11)로의 공급전력을 27W로 저감할 수 있다. 이 후, 접촉상태로 되어 압전소자(11)의 임피던스가 22Ω로 되고, 압전소자(11)로의 공급전력이 목표공급전력보다도 낮은 18W로 된 경우에는, 발진주파수를 1000KHz로 변경하면, 압전소자(11)의 임피던스가 15Ω으로 되고, 압전소자(11)로의 공급전력을 목표공급전력인 27W로 증대시킬 수 있다.Next, with reference to FIG. 3, the impedance of the piezoelectric element 11 is set to a non-contact state, for example, when a voltage of 20 V is applied to the piezoelectric element 11 at an oscillation frequency of 1000 KHz in the contact state. Becomes 2 kW, and the power supply to the piezoelectric element 11 is 200 W, which is larger than the target power supply. In this case, when the oscillation frequency is changed to 1008 KHz, the impedance of the piezoelectric element 11 is 15 kHz, and the power supply to the piezoelectric element 11 can be reduced to 27W. After that, when the contact state is brought to the impedance of the piezoelectric element 11 is 22 kHz, and the power supply to the piezoelectric element 11 is 18 W lower than the target supply power, the piezoelectric element ( The impedance of 11) becomes 15 kW, and the power supply to the piezoelectric element 11 can be increased to 27W, which is the target supply power.
이상, 제4 실시형태에 의하면, 제1 실시형태와 동일한 효과를 나타내는 것이 가능하게 되는 것 외에, 압전소자(11)의 임피던스변화에 기인하는 변화(전압, 전류, 전력)를 고정밀도도 검출하는 것이 가능하게 된다. 제3 실시형태와 비교하면, 발진회로효율요인이 부가되지만, 제3 실시형태와 같은 압전소자측의 고주파전압보다 저주파검출이므로, 보다 안정적인 검출이 가능하다.As described above, according to the fourth embodiment, the same effects as in the first embodiment can be obtained, and the change (voltage, current, power) resulting from the impedance change of the piezoelectric element 11 can also be detected with high accuracy. It becomes possible. Compared with the third embodiment, the oscillation circuit efficiency factor is added, but since the detection is lower than the high frequency voltage on the piezoelectric element side as in the third embodiment, more stable detection is possible.
또한, 검출회로(43)는 A/D변환기, 발진기(421)는 PLL이라도 좋고, 또는 원칩마이크로컴퓨터에 의해 제어가 행해지는 구성이라도 좋은 것은 물론이다.It should be understood that the detection circuit 43 may be an A / D converter, the oscillator 421 may be a PLL, or a configuration in which control is performed by a one-chip microcomputer.
도 11은 본 발명의 제5 실시형태에 관한 초음파미용기의 개략 회로구성도, 도 12는 도 11에 나타낸 각 회로의 동작파형도이고, 이들의 도면을 사용하여 이하에 제5 실시형태의 설명을 행한다.Fig. 11 is a schematic circuit configuration diagram of an ultrasonic beauty device according to a fifth embodiment of the present invention, and Fig. 12 is an operation waveform diagram of each circuit shown in Fig. 11, and the description of the fifth embodiment will be described below using these drawings. Do it.
본 초음파미용기는, 도 11에 나타낸 바와 같이, 압전소자(11), 검출회로(33) 및 제어회로(34)를 제3 실시형태와 마찬가지로 구비하고 있는 것 외에, 제3 실시형태와의 상위점으로서 발진구동회로(52)를 구비하고 있다.As shown in FIG. 11, the ultrasonic beauty machine includes a piezoelectric element 11, a detection circuit 33, and a control circuit 34 similarly to the third embodiment, and differs from the third embodiment. An oscillation drive circuit 52 is provided.
이 발진구동회로(52)는 구동회로(322)를 제3 실시형태와 마찬가지로 구비하고 있는 것 외에, 검출회로(33)에서의 검출신호(S33)를 입력하는 점 이외는 제4 실시형태의 발신기(421)와 마찬가지로 구성되는 발신기(521)를 구비하고 있다.This oscillation drive circuit 52 includes a drive circuit 322 as in the third embodiment, except that the detection signal S33 in the detection circuit 33 is inputted, the transmitter of the fourth embodiment. A transmitter 521 configured similarly to 421 is provided.
다음에, 제5 실시형태의 회로동작의 설명을 행하면, 비접촉상태에서는 도 12의 예에 나타낸 바와 같이, 압전소자(11)로의 공급전력이 목표공급전력보다 크고, 그 공급전력에 따른 레벨의 전류가 전압으로서 검출되고, 이 검출된 전압이 고주파성분의 제거후에 검출신호(S33)로서, 검출회로(33)에서 제어회로(34) 및 발신기(521)의 쌍방으로 출력된다. 이 결과, 압전소자(11)에 공급되는 전력이 작게 된다. 이와 같은 회로동작이 반복하여 행해짐으로써, 압전소자(11)에 공급되는 전력이 목표공급전력으로 조정되는 것으로 된다(시점 t51).Next, the circuit operation of the fifth embodiment will be described. In the non-contact state, as shown in the example of FIG. 12, the power supply to the piezoelectric element 11 is larger than the target supply power, and the current at the level corresponding to the supply power. The detected voltage is detected, and the detected voltage is output to both the control circuit 34 and the transmitter 521 from the detection circuit 33 as the detection signal S33 after the removal of the high frequency component. As a result, the power supplied to the piezoelectric element 11 becomes small. By repeating such a circuit operation, the power supplied to the piezoelectric element 11 is adjusted to the target supply power (time t51).
이 후, 접촉상태로 되면, 압전소자(11)로의 공급전력이 작게 되고(시점 t52), 그 공급전력에 따른 레벨의 전류가 전압으로서 검출되고, 이 검출된 전압이 고주파성분의 제거후에 검출신호(S33)로서, 검출회로(33)에서 제어회로(34) 및 발신기(521)의 쌍방으로 출력된다. 이 결과, 압전소자(11)에 공급되는 전력이 크게 된다. 이와 같은 회로동작이 반복하여 행해지는 것에 의해, 압전소자(11)에 공급되는 전력이 목표공급전력으로 조정되는 것으로 된다(시점 t53).After that, when it comes to a contact state, the power supply to the piezoelectric element 11 becomes small (time t52), the current of the level according to the supply power is detected as a voltage, and this detected voltage is detected after removal of a high frequency component. As S33, the detection circuit 33 outputs to both the control circuit 34 and the transmitter 521. As a result, the power supplied to the piezoelectric element 11 becomes large. By repeating such a circuit operation, the power supplied to the piezoelectric element 11 is adjusted to the target supply power (time t53).
다음에, 도 3을 사용하여 보다 구체적으로 설명하면, 예컨대 접촉상태에서, 1000KHz의 발진주파수로 20V의 전압이 압전소자(11)에 인가되고 있는 경우에 비접촉상태로 되면, 압전소자(11)의 임피던스가 2Ω으로 되고, 압전소자(11)로의 공급전력이 200W로 되어 목표공급전력보다 크게 된다. 이 경우, 발진주파수를 1005KHz로 변경하면, 압전소자(11)의 임피던스가 6Ω으로 되고, 게다가 제어신호(S34)의 전압을 약 13V로 내리면, 압전소자(11)로의 공급전력을 28W로 저감할 수 있다. 이 후, 접촉상태로 되어 압전소자(11)의 임피던스가 20Ω으로 되고, 압전소자(11)로의 공급전력이 목표공급전력보다도 낮은 8W로 된 경우에는, 발진주파수를 1000KHz로 변경하면, 압전소자(11)의 임피던스가 15Ω으로 되고, 게다가 제어신호(S34)의 전압을 약 20V로 올리면, 압전소자(11)로의 공급전력을 목표공급전력인 28W로 증대시킬 수 있다.Next, more specifically with reference to FIG. 3, in the contact state, when the voltage of 20 V is applied to the piezoelectric element 11 at the oscillation frequency of 1000 KHz, the piezoelectric element 11 is turned off. The impedance is 2 kHz, and the power supply to the piezoelectric element 11 is 200W, which is larger than the target supply power. In this case, if the oscillation frequency is changed to 1005 KHz, the impedance of the piezoelectric element 11 is 6 kW, and if the voltage of the control signal S34 is lowered to about 13 V, the power supply to the piezoelectric element 11 can be reduced to 28 W. Can be. After that, when the contact state is brought to the impedance of the piezoelectric element 11 is 20 kW, and the power supply to the piezoelectric element 11 is 8 W lower than the target supply power, when the oscillation frequency is changed to 1000 KHz, the piezoelectric element ( When the impedance of 11) is 15 kV and the voltage of the control signal S34 is raised to about 20 V, the power supply to the piezoelectric element 11 can be increased to 28 W, which is the target supply power.
이상, 제5 실시형태에 의하면, 제3 실시형태와 동일한 효과를 나타내는 것이 가능하게된다. 또한, 예컨대, 전압고정전류변동방식 또는 전류고정전압변동방식과 같은 제어방법으로 구동회로(322)를 제어함으로써, 발진주파수 고정시의 임피던스변화에 따른 전력공급을 간단한 회로구성으로 행할 수 있다.As mentioned above, according to 5th Embodiment, it becomes possible to exhibit the same effect as 3rd Embodiment. Further, for example, by controlling the driving circuit 322 by a control method such as a voltage fixed current fluctuation method or a current fixed voltage fluctuation method, the power supply according to the impedance change at the time of fixing the oscillation frequency can be performed in a simple circuit configuration.
도 13은 본 발명의 제6 실시형태에 관한 초음파미용기의 개략회로구성도, 도 14는 도 13에 나타내는 각 회로의 동작파형도이고, 이들의 도면을 사용하여 이하에 제6 실시형태의 설명을 행한다.FIG. 13 is a schematic circuit configuration diagram of an ultrasonic beauty device according to a sixth embodiment of the present invention, and FIG. 14 is an operational waveform diagram of each circuit shown in FIG. 13, and description of the sixth embodiment will be given below using these drawings. Do it.
본 초음파미용기는, 도 13에 나타낸 바와 같이, 압전소자(11), 검출회로(43) 및 제어회로(44)를 제4 실시형태와 마찬가지로 구비하고 있는 것 외에, 제4 실시형태와의 상위점으로서 발진구동회로(62)를 구비하고 있다. 다만, 제어회로(44)에는 저항(R442)과 그랜드사이에 직류전원(DC1)이 접속되어 있다.As shown in FIG. 13, this ultrasonic beauty machine is provided with the piezoelectric element 11, the detection circuit 43, and the control circuit 44 similarly to 4th Embodiment, and differs from 4th Embodiment. An oscillation drive circuit 62 is provided. In the control circuit 44, however, a DC power supply DC1 is connected between the resistor R442 and the gland.
발진구동회로(62)는, 발진기(121) 및 구동회로(322)를 제3 실시형태와 마찬가지로 구비하고 있는 것 외에, 발진기(623) 및 AND회로(624)를 구비하고 있다. 발진기(623)는, 제4 실시형태의 발진기(421)와 동일한 VCO의 회로구성에 더하여, 그 VCO의 출력측에 설치되는 저항(R621), 콘덴서(C621) 및 단안정(單安定) 멀티바이브레이터(multivibrator)(625)를 구비한 VCD회로구성으로 되어 있고, 제어회로(44)에서의 제어신호(S44)에 의해 듀티 제어되고, 그 듀티비의 구형파(희망주파수는 약 50Hz)를 출력하는 것이다. 또한, 발진기(121, 623)의 양출력신호는 2입력의 AND회로(624)를 통해 구동회로(322)에 입력되는 구성으로 되어 있다. 다만, 발진기(121)는, 약 1MHz의 초음파 발진주파수를 연속적으로 발진하도록 구성된다.The oscillation drive circuit 62 includes an oscillator 121 and a drive circuit 322 in the same manner as in the third embodiment, and includes an oscillator 623 and an AND circuit 624. In addition to the circuit configuration of the same VCO as the oscillator 421 of the fourth embodiment, the oscillator 623 has a resistor R621, a capacitor C621, and a monostable multivibrator provided on the output side of the VCO. A VCD circuit configuration having a multivibrator 625 is provided, which is duty controlled by the control signal S44 in the control circuit 44, and outputs a square wave of the duty ratio (desired frequency is about 50 Hz). In addition, both output signals of the oscillators 121 and 623 are configured to be input to the driving circuit 322 through a two-input AND circuit 624. However, the oscillator 121 is configured to continuously oscillate an ultrasonic oscillation frequency of about 1 MHz.
여기에서, 발진구동회로(62)의 개략 동작을 설명하면, 발진기(121)는 연속적으로 발진하여 약 1MHz의 초음파 발진주파수의 신호를 출력한다. 한편, 발진기(623)는, VCO가 제어신호(S44)에 따른 듀티비의 구형파를 출력하고(도 14의 발진기(623)의 VCO출력파형), 단안정 멀티바이브레이터(625)가 그 구형파의 상승타잉밍에서 설정시간 길이의 펄스를 출력한다(도 14의 발진기(623)의 출력파형). 이들 발진기(121) 및 발진기(623)의 출력신호는, AND회로(624)에서 중첩되어 구동회로(322)에 입력된다(도 14의 구동회로의 입력).Here, when the schematic operation of the oscillation drive circuit 62 is described, the oscillator 121 oscillates continuously and outputs a signal having an ultrasonic oscillation frequency of about 1 MHz. On the other hand, the oscillator 623 outputs a square wave having a duty ratio according to the control signal S44 (VCO output waveform of the oscillator 623 of FIG. 14), and the monostable multivibrator 625 raises the square wave. The timing outputs a pulse of a set time length (output waveform of the oscillator 623 of FIG. 14). The output signals of the oscillator 121 and the oscillator 623 are superimposed by the AND circuit 624 and input to the driving circuit 322 (input of the driving circuit of FIG. 14).
이와 같은 동작에 있어서, 압전소자(11)로의 공급전력이 크게 되면, 저항(R431)에서의 전압강하가 크게 되어, 제어신호(S44)의 전압이 상승하여 발진기(623)의 발진주파수가 낮게 된다. 단안정 멀티바이브레이터(625)는 일정시간만큼 펄스를 내기 때문에 듀티가 작게 된다. 이 결과, 압전소자(11)로의 발진구동회로(62)의 출력시간이 짧게 되고, 평균공급전력이 저하한다. 이와 같이 듀티제어를 행하는 것으로 압전소자(11)에 공급하는 평균전력을 일정하게 할 수 있다.In this operation, when the power supply to the piezoelectric element 11 becomes large, the voltage drop in the resistor R431 becomes large, and the voltage of the control signal S44 increases, so that the oscillation frequency of the oscillator 623 becomes low. . Since the monostable multivibrator 625 pulses for a predetermined time, the duty becomes small. As a result, the output time of the oscillation drive circuit 62 to the piezoelectric element 11 is shortened, and the average power supply falls. By performing the duty control in this manner, the average power supplied to the piezoelectric element 11 can be made constant.
다음에, 제6 실시형태의 회로동작의 설명을 행하면, 비접촉상태에서는, 압전소자(11)로의 공급전력이 목표공급전력보다 크게 되므로, 제어신호(S44)의 전압이 상승하여 발진기(623)의 발진주파수가 낮게 된다. 이 결과, 압전소자(11)로의 발진구동회로(62)의 출력시간이 짧게 되고, 평균공급전력이 저하한다. 이와 같은 회로동작이 반복하여 행해짐으로써, 압전소자(11)에 공급되는 전력이 목표공급전력으로 조정되게 된다(시점 t61).Next, the circuit operation of the sixth embodiment will be described. In the non-contact state, since the power supply to the piezoelectric element 11 becomes larger than the target supply power, the voltage of the control signal S44 increases so that the oscillator 623 The oscillation frequency is lowered. As a result, the output time of the oscillation drive circuit 62 to the piezoelectric element 11 is shortened, and the average power supply falls. By repeating such a circuit operation, the power supplied to the piezoelectric element 11 is adjusted to the target supply power (time t61).
이 후, 접촉상태로 되면, 압전소자(11)로의 공급전력이 작게 되므로(시점 t62), 제어신호(S44)의 전압이 강하하여 발진기(623)의 발진주파수가 높게 된다. 이 결과, 압전소자(11)로의 발진구동회로(62)의 출력시간이 길게 되고, 평균공급전력이 상승한다. 이와 같은 회로동작이 반복하여 행해짐으로써, 압전소자(11)에 공급되는 전력이 목표공급전력으로 조정되게 된다(시점 t63).After that, when it comes to a contact state, since the power supply to the piezoelectric element 11 becomes small (time t62), the voltage of the control signal S44 falls and the oscillation frequency of the oscillator 623 becomes high. As a result, the output time of the oscillation drive circuit 62 to the piezoelectric element 11 becomes long, and the average supply power rises. By repeating such a circuit operation, the power supplied to the piezoelectric element 11 is adjusted to the target supply power (time t63).
이상, 제6 실시형태에 의하면, 제4 실시형태와 동일한 효과를 나타내는 것이 가능하게 되는 것 외에, 예컨대 피부의 접촉상태변화에 의한 압전소자의 임피던스변화에 따른 전력공급을 거의 일정한 전압, 전류에 의해 행하는 것으로, 회로설계가 용이하게 되고, 또 사용상태에서의 회로안정성이 향상한다. 또한, 간헐발진주파수의 제어에 의해, 압전소자로의 공급전력을 가변할 수 있고, 목표공급전력으로 제어함으로써, 항상 목표공급전력을 초과하는 일이 없는 바람직한 전력공급이 가능하게 된다.As described above, according to the sixth embodiment, the same effects as in the fourth embodiment can be obtained, and for example, the power supply according to the impedance change of the piezoelectric element due to the change in the contact state of the skin is controlled by a substantially constant voltage and current. By doing so, the circuit design becomes easy and the circuit stability in the use state is improved. Further, by controlling the intermittent oscillation frequency, the power supply to the piezoelectric element can be varied, and by controlling the power supply to the target supply power, it is possible to supply the desired power without always exceeding the target supply power.
도 15는 본 발명의 제7 실시형태에 관한 초음파미용기의 개략 회로구성도, 도 16은 도 15에 나타낸 각 회로의 동작파형도이고, 이들의 도면을 사용하여 이하에 제7 실시형태의 설명을 행한다. 다만, 도 16(a)는 제3 실시형태의 경우의 동작파형도이고, 도 16(b)는 제7 실시형태의 경우의 동작파형도이다. 또한, 도 16에 나타내는 SW는 초음파발진 스타트스위치(도시생략)인 것이다.FIG. 15 is a schematic circuit configuration diagram of an ultrasonic beauty device according to a seventh embodiment of the present invention, and FIG. 16 is an operation waveform diagram of each circuit shown in FIG. 15. Hereinafter, the seventh embodiment will be described with reference to these drawings. Do it. 16A is an operational waveform diagram in the third embodiment, and FIG. 16B is an operational waveform diagram in the seventh embodiment. In addition, SW shown in FIG. 16 is an ultrasonic wave start switch (not shown).
본 초음파미용기는, 도 15에 나타낸 바와 같이, 압전소자(11), 발진구동회로(32) 및 검출회로(33)를 제3 실시형태와 마찬가지로 구비하고 있는 것 외에, 제3 실시형태와의 상위점으로서 제어회로(74)를 구비하고 있다.As shown in FIG. 15, the ultrasonic beauty machine is provided with a piezoelectric element 11, an oscillation drive circuit 32, and a detection circuit 33 similarly to the third embodiment, and differs from the third embodiment. As a point, the control circuit 74 is provided.
이 제어회로(74)는, 제3 실시형태의 제어회로(34)의 회로구성에 더하여, 고전압중첩회로를 구성하는 트랜지스터(Q741), 저항(R741, R742) 및 초음파발진 스타트스위치와 연동하는 스위치(S741)를 구비하여 이루어지고, 제어회로(34)와 동일한 동작을 행하는 것 외에, 초음파발진 스타트스위치가 온으로 되면, 그 온과 동시에 스위치(S741)가 소정시간(일순간) 온으로 되어, 검출신호(S33)에 고전압(예컨대 15V)을 중첩하는 동작을 행한다.In addition to the circuit configuration of the control circuit 34 of the third embodiment, the control circuit 74 is interlocked with the transistors Q741, resistors R741 and R742 and the ultrasonic start switch, which constitute the high voltage overlapping circuit. In addition to performing the same operation as that of the control circuit 34, when the ultrasonic oscillation start switch is turned on, the switch S741 is turned on for a predetermined time (instantaneous) and detected. An operation of superposing a high voltage (for example 15V) on the signal S33 is performed.
여기에서, 상기 고전압중첩회로를 설치하는 이유에 대하여 설명한다. 비접촉상태에서 초음파발진 스타트스위치를 온으로 하면, 검출회로(33)의 출력에서의 검출신호(S33)는, 그 온의 직후, 압전소자(11)로의 공급전력이 최소이므로, 설정범위의 거의 최소치로 되어 있다. 따라서, 이대로는, 그 최소치로 되어 있는 검출신호(S33)에 따라서 압전소자(11)로의 공급전력을 크게 하는 제어가 행해지고, 그 공급전력이 도 16(a)에 나타낸 SW ON직후의 파형과 같이 목표공급전력을 초과해버린다. 이와 같이, 목표전력을 초과하는 것은 바람직하지 않은 것은 전술한 바와 같다.Here, the reason for providing the high voltage overlapping circuit will be described. When the ultrasonic oscillation start switch is turned on in the non-contact state, the detection signal S33 at the output of the detection circuit 33 has a minimum supply power to the piezoelectric element 11 immediately after its turn on, and therefore almost the minimum value of the setting range. It is. Therefore, according to this detection, the control to increase the power supply to the piezoelectric element 11 is performed in accordance with the detection signal S33 which is at its minimum value, and the supply power is the same as the waveform immediately after SW ON shown in Fig. 16A. Exceed the power supply. As described above, it is not preferable to exceed the target power.
그래서, 제7 실시형태에서는, 초음파발진 스타트스위치의 온과 동시에, 상기 고전압중첩회로에 의해, 검출회로(33)에서의 검출신호(S33)에 고전압을 중첩시키는 것이다. 이것에 의해, 제어회로(74)의 NOT회로(341)에 취입되는 검출신호(S33)의 전압이 일순간 거의 15V(설정범위의 최대치)로 되므로, 도 16(b)에 나타내는 SW ON 직후의 파형과 같이 압전소자(11)로의 공급전력을 작게 하는 제어가 행해지는 것으로 된다. 이 결과, 도 16(a)에 나타낸 바와 같은 목표전력을 초과하는 바람직하지 않은 상태를 방지하는 것이 가능하게 된다. 또한, 그 후의 동작에 대해서는, 검출회로(33)의 검출신호(S33)에 중첩하는 고전압 중첩회로의 출력전압이 제로로 되고, 이 이후, 제3 실시형태와 동일한 회로동작으로 된다.Therefore, in the seventh embodiment, at the same time as the ultrasonic oscillation start switch is turned on, the high voltage overlapping circuit superimposes the high voltage on the detection signal S33 in the detection circuit 33. As a result, the voltage of the detection signal S33 injected into the NOT circuit 341 of the control circuit 74 becomes almost 15 V (the maximum value of the setting range) for one instant, and thus the waveform immediately after SW ON shown in Fig. 16B. As described above, control for reducing the power supply to the piezoelectric element 11 is performed. As a result, it becomes possible to prevent the undesirable state exceeding the target power as shown in Fig. 16A. In the subsequent operation, the output voltage of the high voltage overlapping circuit overlapping the detection signal S33 of the detection circuit 33 becomes zero, and after that, the same circuit operation as in the third embodiment is obtained.
이상, 제7 실시형태에 의하면, 제3 실시형태와 동일한 효과를 나타내는 것이 가능하게 되는 것 외에, 초음파발진 스타트스위치의 온 직후에 발생할 수 있는 목표전력을 초과하는 바람직하지 않은 상태를 방지하는 것이 가능하게 된다.As described above, according to the seventh embodiment, it is possible to exhibit the same effects as in the third embodiment, and to prevent the undesirable state exceeding the target power which may occur immediately after the ultrasonic oscillation start switch is turned on. Done.
또한, 초음파발진 스타트스위치의 온시에, 발진기(623)가 발진을 반(反)공진주파수 근방에서 시작하도록 구성해도, 상기 동일한 효과가 얻어진다. 또한, 발진구동회로(62)가 듀티를 작게 하도록 구성해도, 상기 동일한 효과가 얻어진다.Further, even when the oscillator 623 is configured to start oscillation near the anti-resonant frequency when the ultrasonic oscillation start switch is turned on, the same effect can be obtained. In addition, even when the oscillation drive circuit 62 is configured to reduce the duty, the same effect can be obtained.
도 17은 본 발명의 제8 실시형태에 관한 초음파미용기의 개략 회로구성도, 도 18은 도 17에 나타내는 각 회로의 동작파형도이고, 이들의 도면을 사용하여 이하에 제8 실시형태의 설명을 행한다.FIG. 17 is a schematic circuit configuration diagram of an ultrasonic beauty device according to an eighth embodiment of the present invention, and FIG. 18 is an operation waveform diagram of each circuit shown in FIG. 17. Hereinafter, description of the eighth embodiment will be given using these figures. Do it.
본 초음파미용기는, 도 17에 나타낸 바와 같이, 압전소자(11), 발진구동회로(42) 및 검출회로(43)를 제4 실시형태와 마찬가지로 구비하고 있는 것 외에, 제4 실시형태와의 상위점으로서 제어회로(84)를 구비하고 있다.As shown in FIG. 17, this ultrasonic beauty machine is provided with the piezoelectric element 11, the oscillation drive circuit 42, and the detection circuit 43 similarly to 4th Embodiment, and differs from 4th Embodiment. As a dot, a control circuit 84 is provided.
이 제어회로(84)는, 제4 실시형태의 제어회로(44)의 회로구성에 더하여, 검출중첩회로를 구성하는 콘덴서(C841, C842), 저항(R841∼R848), 콤퍼레이터(841, 842) 및 트랜지스터(Q841)를 구비하여 이루어지고, 제어회로(44)와 동일한 동작을 행하는 것 외에, 제어신호(S44)의 정부(正負)의 양 변화를 검출하고, 제어신호(S44)의 변화가 콤퍼레이터(comparator)(841, 842)의 기준레벨보다도 클 때 트랜지스터(Q841)가 온으로 되어, 제어신호(S44)에 고전압을 중첩하고, 제어신호(S44)의 변화가 콤퍼레이터(841, 842)의 기준레벨보다도 작을 때 트랜지스터(Q841)가 오프로 되어, 제어신호(S44)에 대한 전압중첩을 정지하는 동작을 행한다.In addition to the circuit configuration of the control circuit 44 of the fourth embodiment, the control circuit 84 includes the capacitors C841 and C842, the resistors R841 to R848, and the comparators 841 and 842 that constitute the detection overlapping circuit. And a transistor Q841, which performs the same operation as that of the control circuit 44, detects a positive change in the amount of the control signal S44, and changes the control signal S44 to a comparator. When the reference level of the comparators 841 and 842 is greater than the reference level, the transistor Q841 is turned on to superimpose a high voltage on the control signal S44, and the change of the control signal S44 is the reference of the comparators 841 and 842. When it is smaller than the level, the transistor Q841 is turned off to stop the voltage overlapping with the control signal S44.
여기에서, 상기 검출중첩회로를 설치하는 이유에 대해서 설명한다. 사용시에, 피부에 금속부(10)를 밀착시키거나 떨어지게 하면 압전소자(11)의 임피던스가 급격하게 변화하는 것은 상술한 것과 같지만, 피부에 금속부(10)를 밀착시키면서 프로브(1)를 움직여도, 압전소자(11)의 임피던스가 급격하게 변화하는 경우가 있다. 이와 같은 임피던스의 급격한 변화에 의해, 허용가능전력(=목표공급전력+α)을 많은 회수 초과하는 것은 바람직하지 않다.Here, the reason for providing the detection overlapping circuit will be described. In use, the impedance of the piezoelectric element 11 changes abruptly when the metal part 10 is brought into close contact with the skin or is dropped, but the probe 1 can be moved while keeping the metal part 10 in close contact with the skin. The impedance of the piezoelectric element 11 may change abruptly. Due to such a sudden change in impedance, it is not desirable to exceed the allowable power (= target supply power + alpha) many times.
그래서, 제8 실시형태에서는, 상기 검출중첩회로를 설치하고, 압전소자(11)로의 공급전력이 목표공급전력을 초과하면, 즉석에서, 압전소자(11)로의 공급전력이 목표공급전력의 범위내에 들어가도록 제어하는 것이다(도 10과 도 18에서의 압전소자로의 공급전력의 파형을 비교참조).Therefore, in the eighth embodiment, when the detection overlapping circuit is provided and the power supply to the piezoelectric element 11 exceeds the target supply power, the supply power to the piezoelectric element 11 is immediately within the range of the target supply power. Control to enter (see the comparison of the waveform of the power supply to the piezoelectric elements in FIGS. 10 and 18).
다음에, 제8 실시형태의 동작을 개설(槪說)하면, 초음파출력스타트와 동시에, 압전소자(11)에는 임피던스치에 따라서 전력이 공급된다. 저항(R431)에서 그 전력의 급격한 변화가 검출되면, 제어신호(S44)는 검출신호(S43)에 따른 급격한 전압변화를 나타내는 신호로 된다. 이 때, 콘덴서(C841) 및 저항(R842)(미분회로)에 의해 그 제어신호(S44)에서 변화량이 추출되고, 그 변화량이 콤퍼레이터(841, 842)에 의해 기준레벨과 비교된다. 이 경우, 변화량이 기준레벨을 초과하여(환언하면, 이와 같은 경우의 변화량보다도 기준레벨의 쪽이 낮게 되도록 설정되므로), 트랜지스터(Q841)가 온으로 된다. 이것에 의해, 제어신호(S44)는 고전압이 중첩되어 거의 최대치로 되고, 발진기(421)의 발진주파수가 반(反)공진주파수 근방으로 된다. 또한, 제어신호(S44)가 급격한 감소변화를 나타내는 신호로 되어도, 상기와 마찬가지로 발진주파수의 제어가 행해지고, 이와 같은 발진기(421)에 대한 신호전압제어는, 콘덴서(C842)의 방전에 의해 종료한다.Next, when the operation of the eighth embodiment is established, power is supplied to the piezoelectric element 11 at the same time as the ultrasonic output start. When a sudden change in the power is detected in the resistor R431, the control signal S44 becomes a signal indicating a sudden voltage change in accordance with the detection signal S43. At this time, the change amount is extracted from the control signal S44 by the capacitor C841 and the resistor R842 (differential circuit), and the change amount is compared with the reference level by the comparators 841 and 842. In this case, the transistor Q841 is turned on because the amount of change exceeds the reference level (in other words, the reference level is set to be lower than the amount of change in such a case). As a result, the control signal S44 overlaps the high voltage to become the maximum value, and the oscillation frequency of the oscillator 421 becomes near the anti-resonant frequency. In addition, even when the control signal S44 is a signal showing a sudden decrease change, the oscillation frequency is controlled as described above, and the signal voltage control for the oscillator 421 is terminated by the discharge of the capacitor C842. .
이상, 제8 실시형태에 의하면, 제4 실시형태와 동일한 효과를 나타내는 것이 가능한 것 외에, 사용시에 발생할 수 있는 목표전력을 초과하는 바람직하지 않은 상태를 신속하게 해소하는 것이 가능하게 된다.As described above, according to the eighth embodiment, the same effects as those in the fourth embodiment can be obtained, and it is possible to quickly eliminate an undesirable state exceeding the target power that may occur in use.
또한, 상기 검출중첩회로는 제어회로(34)에도 적용가능하고, 또 듀티비 제어에 의해서도 동일한 효과가 얻어진다.The detection overlapping circuit can also be applied to the control circuit 34, and the same effect can be obtained by the duty ratio control.
이상의 것으로부터 명백한 바와 같이, 청구항 1 기재의 발명에 의하면, 한 면이 피부접촉면으로 되는 금속부 및 이 금속부의 다른 면에 접합되는 압전소자를 가지는 프로브와, 상기 압전소자에 대하여 이 압전소자를 초음파 진동시키기 위한 고주파 전력을 공급하는 발진구동회로와, 상기 압전소자의 출력변동의 검출을 행하는 검출회로와, 상기 검출결과에 따라서 상기 압전소자에 대한 출력이 일정하게 되도록 상기 발진구동회로의 출력제어를 행하는 제어회로를 구비하므로, 금속부에서의 음향출력을 일정하게 되도록 할 수 있다. 이 결과, 바람직한 마사지효과를 얻을 수 있다.As is apparent from the above, according to the invention described in claim 1, a probe having a metal part on which one surface becomes a skin contact surface and a piezoelectric element joined to the other surface of the metal part, and the piezoelectric element is ultrasonically applied to the piezoelectric element. An oscillation drive circuit for supplying high frequency power for oscillation, a detection circuit for detecting output variations of the piezoelectric element, and output control of the oscillation drive circuit such that the output to the piezoelectric element is made constant according to the detection result. Since a control circuit is provided, the sound output from the metal portion can be made constant. As a result, a desirable massage effect can be obtained.
청구항 2 기재의 발명에 의하면, 한 면이 피부접촉면으로 되는 금속부 및 이 금속부의 다른 면에 접합되는 압전소자를 가지는 프로브와, 상기 압전소자에 대하여 이 압전소자를 초음파 진동시키기 위한 고주파전력을 공급하는 발진구동회로와, 상기 압전소자의 출력변동의 검출을 행하는 검출회로와, 상기 압전소자에 대한 출력레벨이 복수의 소정의 출력레벨에서 상기 검출결과에 따라서 택일적으로 선택된 소정의 출력레벨로 되도록 상기 발진구동회로의 출력변경을 행하는 제어회로를 구비하므로, 예컨대, 소정의 출력레벨을 복수 설치하면, 바람직한 마사지효과, 즉 피부접촉상태에 따라서 바람직하게 변화하는 마사지효과를 얻을 수 있다.According to the invention of claim 2, there is provided a probe having a metal portion on which one surface becomes a skin contact surface and a piezoelectric element bonded to the other surface of the metal portion, and high frequency power for ultrasonically vibrating the piezoelectric element to the piezoelectric element. An oscillation drive circuit, a detection circuit for detecting an output variation of the piezoelectric element, and an output level for the piezoelectric element at a plurality of predetermined output levels to be a predetermined output level alternatively selected according to the detection result. Since a control circuit for changing the output of the oscillation drive circuit is provided, for example, when a plurality of predetermined output levels are provided, a desirable massage effect, i.e., a massage effect that changes preferably in accordance with the skin contact state, can be obtained.
청구항 3 기재의 발명에 의하면, 청구항 1 또는 2 기재의 초음파미용기에 있어서, 상기 검출회로가 상기 발진구동회로의 상기 압전소자에 대한 출력측에 설치되어 있기 때문에, 압전소자의 임피던스변화에 기인하는 변화(전압, 전류, 전력)을 고정밀도로 검출하는 것이 가능하게 된다.According to the invention of claim 3, in the ultrasonic beauty machine according to claim 1 or 2, since the detection circuit is provided on the output side to the piezoelectric element of the oscillation driving circuit, the change caused by the impedance change of the piezoelectric element ( Voltage, current, and power) can be detected with high accuracy.
청구항 4 기재의 발명에 의하면, 청구항 1 또는 2 기재의 초음파미용기에 있어서, 상기 검출회로가 상기 발진구동회로의 입력측에 설치되어 있기 때문에, 예컨대 압전소자에 대한 출력측의 검출보다도 검출신호의 주파수를 낮게 할 수 있다. 이 결과, 보다 안정적인 검출이 가능하다.According to the invention of claim 4, in the ultrasonic beauty machine according to claim 1 or 2, since the detection circuit is provided on the input side of the oscillation drive circuit, the frequency of the detection signal is lower than that of the detection on the output side of the piezoelectric element, for example. can do. As a result, more stable detection is possible.
청구항 5 기재의 발명에 의하면, 청구항 1 또는 2 기재의 초음파미용기에 있어서, 상기 제어회로가 상기 발진구동회로에서 상기 압전소자로의 공급전력을 제어하기 때문에, 회로구성을 간단하게 하는 것이 가능하게 된다.According to the invention of claim 5, in the ultrasonic beauty machine according to claim 1 or 2, since the control circuit controls the supply power from the oscillation drive circuit to the piezoelectric element, the circuit configuration can be simplified. .
청구항 6 기재의 발명에 의하면, 청구항 1 또는 2 기재의 초음파미용기에 있어서, 상기 제어회로가 상기 발진구동회로의 발진주파수를 제어하기 때문에, 회로설계가 용이하게 되고, 또 사용상태에서의 회로안정성이 향상한다.According to the invention of claim 6, in the ultrasonic beauty machine according to claim 1 or 2, since the control circuit controls the oscillation frequency of the oscillation drive circuit, the circuit design becomes easy, and the circuit stability in the use state Improve.
청구항 7 기재의 발명에 의하면, 청구항 1 또는 2 기재의 초음파미용기에 있어서, 상기 제어회로가 상기 발진구동회로의 듀티를 제어하기 때문에, 바람직한 전력공급이 가능하게 된다.According to the invention of claim 7, in the ultrasonic beauty machine according to claim 1 or 2, since the control circuit controls the duty of the oscillation driving circuit, preferable power supply is possible.
청구항 8 기재의 발명에 의하면, 청구항 5 기재의 초음파미용기에 있어서, 상기 제어회로가, 상기 발진구동회로에 대하여, 상기 압전소자로의 전력공급의 개시시에는, 목표전력보다 작은 전력에서 공급을 개시시키는 제어를 행하므로, 전력공급의 개시시에 발생할 수 있는 전력공급과다에 의한 바람직하지 않은 상태를 방지할 수 있다.According to the invention of claim 8, in the ultrasonic beauty machine according to claim 5, the control circuit starts supplying at a power smaller than a target power at the start of power supply to the piezoelectric element with respect to the oscillation drive circuit. In this way, it is possible to prevent an undesirable state due to excessive power supply which may occur at the start of power supply.
청구항 9 기재의 발명에 의하면, 청구항 5 기재의 초음파미용기에 있어서, 상기 제어회로가 상기 발진구동회로에 대하여, 상기 피부접촉면에 대한 피부접촉상태의 변화시에는, 상기 압전소자로의 전력공급을 목표전력보다 작은 전력에서 개시시키는 제어를 행하기 때문에, 피부접촉 상태의 변화시에 발생할 수 있는 전력공급과다에 의한 바람직하지 않은 상태를 방지할 수 있다.According to the invention of claim 9, in the ultrasonic beauty machine according to claim 5, when the control circuit changes the skin contact state with respect to the skin contact surface with respect to the oscillation driving circuit, the power supply to the piezoelectric element is aimed. Since the control is started at a power smaller than the electric power, an undesirable state due to excessive power supply which may occur at the time of a change in the skin contact state can be prevented.
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