KR20000001613A - Plasma display panel - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 플라즈마 표시 패널에 관한 것으로, 상세하게는 2차 전자방출을 크게하기 위해 전면 기판의 보호막이 다중의 박막으로 증착된 플라즈마 표시 패널에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma display panel, and more particularly, to a plasma display panel in which a protective film of a front substrate is deposited in multiple thin films to increase secondary electron emission.
20세기 정보 혁명의 수단 중 하나인 디스플레이(DISPLAY)는 크게 브라운관과평면 디스플레이(FLAT PANEL DISPLAY)로 나눌 수 있다. 기존의 브라운관에 비해 평면 디스플레이는 두께가 얇고 휴대가 간편하며, 저소모전력화 되어 기존의 브라운관의 단점을 보완하면서 새로운 영역의 시장을 형성하고 있다.Display, one of the means of the information revolution of the 20th century, can be roughly divided into CRT and FLAT PANEL DISPLAY. Compared with conventional CRTs, flat panel displays are thinner, easier to carry, and consume less power, forming a new area of market while making up for the shortcomings of conventional CRTs.
이러한 평면 디스플레이로는 LCD(LIQUID CRYSTAL DISPLAY), PDP(PLASMA DISPLAY PANEL), FED(FIELD EMISSION DISPLAY) 등이 주류를 이루고 있고, 그 중에서 PDP는 대화면에 유리하여 LCD의 단점을 최대한 보완할 수 있다.Such flat panel displays include LCD (Liquid Crystal Display), PDP (Plasma Display Panel), FED (FIELD EMISSION DISPLAY), and the like.
도 1은 종래의 플라즈마 표시 패널의 개략적 분해 사시도이고, 도 2는 도 1의 플라즈마 표시 패널의 수직 단면도이다.1 is a schematic exploded perspective view of a conventional plasma display panel, and FIG. 2 is a vertical cross-sectional view of the plasma display panel of FIG. 1.
도 1 및 도 2를 참조하면, 종래의 PDP는 서로 대향하는 배면 기판(1)과 전면 기판(8) 사이의 공간을 격벽(4)으로 분리된 방전셀을 구비한 평판 표시 소자이다. 여기서, 방전셀은 배면 기판(1) 위에 격벽(4)을 형성하여 각 화소에 대응하도록 구분된 플라즈마 방전 공간이다. 이러한 방전 공간에서 배면 기판(1) 및 전면 기판(8)의 각 대향면 상에 서로 교차하는 방향의 스트라이프 상으로 형성된 하부 전극(2) 및 상부 전극(7)을 통하여 인가되는 전압에 의해 방전함으로써 영상을 표시하게 된다.1 and 2, a conventional PDP is a flat panel display device having discharge cells in which a space between a rear substrate 1 and a front substrate 8 facing each other is separated by a partition wall 4. Here, the discharge cell is a plasma discharge space divided to correspond to each pixel by forming the partition wall 4 on the back substrate (1). By discharging by the voltage applied through the lower electrode 2 and the upper electrode 7 formed in a stripe in the direction crossing each other on the opposite surface of the back substrate 1 and the front substrate 8 in such a discharge space. The image will be displayed.
상,하부 전극들(2, 7)은 각각 유전체층(3)들이 덮고 있다. 격벽(4)은 보통 스크린 인쇄법으로 형성하며, 일정하게 패턴이 형성되도록 해야한다. 이와 같이 함으로써, 인접 셀간의 방전에 의한 화상을 격벽(4)으로 명확하게 구분하여 볼 수 있게 된다. 또한, 배면 기판(11) 상의 격벽(14)에 있어서, 유전체층(3) 상에 형광체층(5)을 인쇄하게 되면, 격벽(4)의 옆과 밑에 형성되게 된다.The upper and lower electrodes 2 and 7 are respectively covered by the dielectric layers 3. The partition 4 is usually formed by screen printing, and the pattern must be formed uniformly. By doing in this way, the image by the discharge between adjacent cells can be clearly distinguished and viewed by the partition 4. In the partition 14 on the back substrate 11, when the phosphor layer 5 is printed on the dielectric layer 3, the partition 14 is formed on the side and the bottom of the partition 4.
이러한 PDP의 구성 요소 가운데 MgO 보호막(6)의 역할은 PDP 내에서 방전이일어나는 경우, 방전 전압을 낮추어 주며, 패널 내부에 있는 전극(2, 7)을 보호하는 역할을 하게 된다.The role of the MgO protective layer 6 among the components of the PDP lowers the discharge voltage when a discharge occurs in the PDP, and serves to protect the electrodes 2 and 7 inside the panel.
이와 같이, 플라즈마 표시 패널은 방전을 이용한 소자이기 때문에 방전이 잘일어날 수 있도록 셀들이 형성되어야 한다. 이러한 방전셀들을 형성하고 방전을 할수 있도록 하는 격벽(BARRIER RIB)(4)은 배면 기판(1)에 형성되고, MgO 보호막(6)은 전면 기판(8) 상에 배치된 상부 전극(7) 상에 형성된다. 이러한 MgO 보호막(6)은 주로 스퍼터링(sputtering)법, 전자빔 증착(e-beam evaporation)법 등으로 박막(thin film)을 형성하게 되는데, 이러한 MgO 보호막(6)의 단일 증착만으로는 플라즈마 공간 내에서 충분한 보호층(protect-layer)의 역할을 하고, 2차 전자 방출 효과를 내는 데에는 한계가 있다.As described above, since the plasma display panel is a device using discharge, cells must be formed so that discharge can occur well. Barrier ribs 4 are formed on the rear substrate 1 and the MgO protective layer 6 is formed on the upper electrode 7 disposed on the front substrate 8. Is formed. The MgO protective film 6 forms a thin film mainly by sputtering, e-beam evaporation, or the like. A single deposition of the MgO protective film 6 is sufficient in a plasma space. There is a limit to acting as a protective layer and to producing a secondary electron emission effect.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 개선하고자 창출된 것으로, 전면 기판의 보호막이 MgO 박막의 장점을 최대한 살리면서 MgO막의 단점을 보완하도록 MgO 박막 보다 2차 전자방출이 큰 소재로 된 박막을 이용한 다중의 박막을 교대로 반복하여 증착된 플라즈마 표시 패널을 제공하는 점에 그 목적이 있다.The present invention has been created to improve the above problems, the protective film of the front substrate to maximize the advantages of the MgO thin film while supplementing the disadvantages of the MgO thin film using a thin film made of a material having a larger secondary electron emission than the MgO thin film An object of the present invention is to provide a plasma display panel in which thin films are alternately and repeatedly deposited.
도 1은 종래의 플라즈마 표시 패널의 개략적 분해 사시도이고,1 is a schematic exploded perspective view of a conventional plasma display panel;
도 2는 도 1의 플라즈마 표시 패널의 수직 단면도이고,FIG. 2 is a vertical cross-sectional view of the plasma display panel of FIG. 1.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 표시 패널에 있어서, 전면 기판의 수직 단면도이고,3 is a vertical cross-sectional view of a front substrate in a plasma display panel according to an embodiment of the present invention;
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 플라즈마 표시 패널에 있어서, 전면 기판의 수직 단면도이다.4 is a vertical cross-sectional view of a front substrate in a plasma display panel according to another exemplary embodiment of the present invention.
도 5는 종래의 MgO 보호막과 본 발명에 따른 다층 보호막의 방전상태를 비교하여 나타내 보인 도면이다.5 is a view showing a comparison between the discharge state of the conventional MgO protective film and the multilayer protective film according to the present invention.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>
1. 배면 기판(sodaline glass) 2. 하부 전극(Ag)1. Back glass (Sodaline glass) 2. Lower electrode (Ag)
3. 유전체층(dielctric layer) 4. 격벽(barrier rib)3. Dielectric layer 4. Barrier rib
5. 형광체층(phosphor layer) 6. MgO 보호막5. Phosphor layer 6. MgO protective film
7. 상부 전극 8. 전면 기판7. Upper electrode 8. Front substrate
13. 유전체층(dielctric layer) 16. 제1박막13. Dielectric layer 16. First thin film
17. 제2박막 18. 전면 기판17. Second thin film 18. Front substrate
19. 제3박막19. The Third Thin Film
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 플라즈마 표시 패널은, 격벽에 의해 일정한 간격으로 이격되어 서로 대향하는 전면 기판 및 배면 기판의 대향면 상에 각각 서로 교차하는 방향의 스트라이프 상으로 상부 전극 및 하부 전극이 형성되고, 상기 상부 및 하부 전극들을 덮고 있는 유전체층 및 상기 전면 기판의 유전체층 상부에 MgO로 된 제1박막이 구비된 플라즈마 표시 패널에 있어서, 상기 제1박막 상에 상기 제1박막 보다 2차 전자방출이 큰 물질로 된 제2박막을 포함하는 다중 보호막이 증착된 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the plasma display panel according to the present invention includes an upper electrode on a stripe in a direction crossing each other on opposite surfaces of the front substrate and the rear substrate, which are spaced apart at regular intervals by a partition wall and oppose each other; A plasma display panel comprising a lower electrode, a dielectric layer covering the upper and lower electrodes, and a first thin film of MgO on the dielectric layer of the front substrate, wherein the first thin film is formed on the first thin film. A multiple protective film including a second thin film made of a material having a large difference in electron emission is deposited.
상기 다중 보호막은 제2박막 및 MgO로 된 제3박막이 상호 반복적으로 교번되게 형성되며, 상기 제2박막은 CaF2, MgF2, LiF, CaO 및 SrO막 중 적어도 하나로 형성되는 것이 바람직하다.The multiple passivation layer may be formed by alternately alternately forming a second thin film and a third thin film of MgO, and the second thin film may be formed of at least one of CaF 2 , MgF 2 , LiF, CaO, and SrO.
상기 다중 보호막은 제2박막 및 제3박막이 교번적으로 다중 적층되며, 상기 전면 기판의 제1박막은 300㎚ 이하의 두께로 형성되고, 상기 제2박막 및 제3박막은 각각 2㎚ 내지 100㎚의 두께로 형성되는 것이 바람직하다.The multiple passivation layer is formed by alternately stacking a second thin film and a third thin film, wherein the first thin film of the front substrate is formed to a thickness of 300 nm or less, and the second thin film and the third thin film are each 2 nm to 100. It is preferable to form in thickness of nm.
또한, 본 발명의 다른 유형에 따르면, 격벽에 의해 일정한 간격으로 이격되어 서로 대향하는 전면 기판 및 배면 기판의 대향면 상에 각각 서로 교차하는 방향의 스트라이프 상으로 상부 전극 및 하부 전극이 형성되고, 상기 상부 및 하부 전극들을 덮고 있는 유전체층이 구비된 플라즈마 표시 패널에 있어서, 상기 전면 기판의 유전체층 상에 2차 전자방출이 큰 물질로 된 제2박막을 포함하는 다중 보호막이 증착된 것을 특징으로 한다.In addition, according to another type of the present invention, the upper electrode and the lower electrode are formed on the opposite surface of the front substrate and the rear substrate which are spaced apart at regular intervals by the partition wall facing each other on the stripe in the direction crossing each other, A plasma display panel having a dielectric layer covering upper and lower electrodes, characterized in that a multiple protective film including a second thin film made of a material having high secondary electron emission is deposited on the dielectric layer of the front substrate.
상기 다중 보호막은 제2박막 및 MgO로 된 제3박막이 상호 반복적으로 교번되게 형성되며, 상기 제2박막은 CaF2, MgF2, LiF, CaO 및 SrO막 중 적어도 하나로 형성된 것이 바람직하다.The multiple passivation layer may be formed by alternately alternately forming a second thin film and a third thin film of MgO, and the second thin film may be formed of at least one of CaF 2 , MgF 2 , LiF, CaO, and SrO.
상기 다중 보호막은 제2박막 및 제3박막이 교번적으로 다중 적층되며, 상기 전면 기판의 제1박막은 300㎚ 이하의 두께로 형성되고, 상기 제2박막 및 제3박막은 각각 2㎚ 내지 100㎚의 두께로 형성된 것이 바람직하다.The multiple passivation layer is formed by alternately stacking a second thin film and a third thin film, wherein the first thin film of the front substrate is formed to a thickness of 300 nm or less, and the second thin film and the third thin film are each 2 nm to 100. It is preferable that it is formed in the thickness of nm.
따라서, 전면 기판의 유전체층 상에 MgO로 된 제1박막을 형성하고 그 위에 다시 CaF2등의 제2박막과 MgO로 된 제3박막을 교대로 반복하여 다중으로 형성함으로써, PDP 내부에서의 플라즈마 방전시 2차 전자방출이 증대되는 점에 그 특징이 있다.Therefore, by forming a first thin film of MgO on the dielectric layer of the front substrate and forming a second thin film such as CaF 2 and a third thin film of MgO alternately and repeatedly on the dielectric layer of the front substrate, plasma discharge inside the PDP. The characteristic is that the secondary secondary electron emission is increased.
이러한 특징을 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 플라즈마 표시 패널의 실시예를 상세하게 설명한다.An embodiment of the plasma display panel according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 3은 본 발명에 따른 플라즈마 표시 패널의 제1실시예에 있어서, 전면 기판의 수직 단면도이다.3 is a vertical cross-sectional view of the front substrate in the first embodiment of the plasma display panel according to the present invention.
도 3을 참조하면, 본 발명에 따른 플라즈마 표시 패널의 제1실시예는, 기본적으로 전면 기판(18) 상에는 배면 기판(미도시)의 각 대향면 상에 서로 교차하는 방향의 스트라이프 상으로 형성된 상부 전극(17), 유전체층(13) 및 MgO로 된 제1박막(16)이 순차로 형성된다.Referring to FIG. 3, the first embodiment of the plasma display panel according to the present invention basically has an upper portion formed on the front substrate 18 in a stripe shape in a direction crossing each other on opposite surfaces of a rear substrate (not shown). The electrode 17, the dielectric layer 13, and the first thin film 16 made of MgO are sequentially formed.
그리고, 앞서 도시된 도 2에서와 같이, 배면 기판(1) 상에 스트라이프 상의 하부 전극(2), 유전체층(3),격벽(4)을 형성하고, 격벽(4)들 사이의 유전체층(3) 상에 형광체층(5)을 도포한 구조는 종래의 것과 같다.As shown in FIG. 2, the lower electrode 2, the dielectric layer 3, and the partition wall 4 on the stripe are formed on the rear substrate 1, and the dielectric layer 3 between the partition walls 4 is formed. The structure which apply | coated the phosphor layer 5 on it is the same as the conventional thing.
본 발명에 따른 특징부는, 전면 기판(18)의 유전체층(13) 상에 MgO로 된 제1박막(16)이 1차로 300㎚ 이하의 두께로 증착되고, 상기 제1박막(16) 상에 본 발명을 특징지우는 CaF2, MgF2, LiF, CaO 및 SrO막 등과 같이 MgO 박막 보다 2차 전자방출이 큰 제2박막(17)이 2㎚ 내지 100㎚의 두께로 증착된다. 그리고, 이러한 제2박막(17) 상에 2㎚ 내지 100㎚의 두께를 가진 MgO로 된 제3박막(19)이 상기 제2박막(17)과 교대로 반복하여 20층 이상의 복수층으로 교번되게 다중 적층된다.A feature according to the present invention is that the first thin film 16 of MgO is deposited on the dielectric layer 13 of the front substrate 18 to a thickness of 300 nm or less, and is seen on the first thin film 16. A second thin film 17 having a larger secondary electron emission than an MgO thin film, such as a CaF 2 , MgF 2 , LiF, CaO and SrO film, which characterizes the invention, is deposited to a thickness of 2 nm to 100 nm. Then, on the second thin film 17, the third thin film 19 made of MgO having a thickness of 2 nm to 100 nm is alternately repeated with the second thin film 17 so as to be alternated into a plurality of layers of 20 or more layers. Are multi-layered.
여기서, 상기 제1박막(16) 상에 상기 제2박막(17) 및 제3박막(19)이 순차로 교번되게 증착된 보호층의 최상부는 상기 제2박막(17) 내지 제3박막(19) 중 어느 하나라도 무방하다.Here, the uppermost part of the protective layer in which the second thin film 17 and the third thin film 19 are sequentially deposited on the first thin film 16 is the second thin film 17 to the third thin film 19. ) May be any.
이러한 전면 기판(18)의 보호막은 MgO로 된 제1박막(16)의 장점을 그대로 이용하면서, PDP 내부 방전셀 내에서 2차 전자방출을 극대화하여 초기 방전 전압 및 전면적 방전 전압 그리고, 에이징 후의 초기 방전 전압 및 전면적 방전 전압을 하강시키기 위하여 CaF2,MgF2, LiF, CaO 및 SrO막 등의제2박막(17)이 MgO로 된 제3박막(19)과 교번되게 다중 적층된다.The protective film of the front substrate 18 utilizes the advantages of the first thin film 16 made of MgO as it is, and maximizes the secondary electron emission in the internal discharge cell of the PDP, so that the initial discharge voltage, the overall discharge voltage, and the initial after aging In order to lower the discharge voltage and the overall discharge voltage, second thin films 17 such as CaF 2 , MgF 2 , LiF, CaO and SrO films are alternately laminated with the third thin film 19 made of MgO.
한편, 상기 CaF2,MgF2, LiF, CaO 및 SrO막 등과 같은 제2박막(17)은 높은 2차 전자방출 효과와 0.1∼10㎛ 두께까지 광이 투과할 정도로 광 투과율이 우수함에도 불구하고, 내(耐) 스퍼터링(sputtering) 효과와 메모리 마진(memory margin)이 MgO의 제1박막(16) 보다 떨어지기 때문에 실제 패널 제작에 사용되기에 어려운 점이 있었다.On the other hand, although the second thin film 17 such as CaF 2 , MgF 2 , LiF, CaO and SrO films has a high secondary electron emission effect and excellent light transmittance enough to transmit light to a thickness of 0.1 to 10 μm, Since sputtering effects and memory margins are lower than those of the first thin film 16 of MgO, there have been some difficulties in using them in actual panel fabrication.
이러한 문제점을 보완하기 위하여 보호층의 내 스퍼터링 효과를 좋게 하는 MgO박막의 보호막이 2차 전자방출이 큰 CaF2박막 등의 제2박막(17)과교번되게 복수층으로 다중 증착됨으로써, 플라즈마 표시 패널을 구동시키는 초기 방전 전압과 전면적 방전 전압을 하강시킨다. 그리고, 이로 인한 PDP 회로의 안정에도 기여한다. 여기서, 이들 다중의 보호층 중 최하부의 제1박막(16)은 버퍼층(buffer layer)의 역할과, 상기 다중층의 저항성을 좋게하고, 전류 누설의 방지를 수행하는 역할을 한다.In order to compensate for this problem, the protective film of the MgO thin film which improves the sputtering effect of the protective layer is deposited in multiple layers alternately with the second thin film 17 such as a CaF 2 thin film having a large secondary electron emission, thereby forming a plasma display panel. Lower the initial discharge voltage and the total discharge voltage driving the. This also contributes to the stability of the PDP circuit. Here, the lowermost first thin film 16 of the multiple protective layers serves as a buffer layer, improves the resistance of the multilayer, and prevents current leakage.
이러한 구성을 가지는 본 발명에 따른 플라즈마 표시 패널의 제조 공정은 다음과 같다.The manufacturing process of the plasma display panel according to the present invention having such a configuration is as follows.
먼저, 전면 기판(18)에 있어서, 유전체층(13) 위의 MgO로 된 제1박막(16)은 전자빔 증착(e-beam evaporation)법을 이용하여 대략 300㎚ 이하의 두께로 증착한다. 다음으로, 상기 제1박막(16) 위에 2차 전자방출이 큰 CaF2, MgF2, LiF, CaO 및 SrO막 중 적어도 하나의 제2박막(17)을 전술한 바와 같은 동일한 방법의 전자빔 증착법을 이용하여 2㎚ 내지 100㎚ 정도의 두께로 증착한다.First, in the front substrate 18, the first thin film 16 made of MgO on the dielectric layer 13 is deposited to a thickness of about 300 nm or less by using an e-beam evaporation method. Next, on the first thin film 16, at least one second thin film 17 of CaF 2 , MgF 2 , LiF, CaO, and SrO films having a large secondary electron emission was subjected to the electron beam deposition method in the same manner as described above. It deposits in the thickness of about 2 nm-100 nm using it.
그리고, 제2박막(17) 위에 MgO의 제3박막(19)을 상기 제2박막(17)의 두께와 동일한 2㎚ 내지 100㎚ 정도의 두께를 갖도록 형성한다. 그 다음, 이러한 제2박막(17)과 제3박막(19)이 교대로 반복하여 20층 이상의 다중의 복수층으로 교번되게 전자빔 증착법을 이용하여 증착한다. 그럼으로써, CaF2막 등의 내 스퍼터링 효과를 향상시켜 초기 구동전압의 효과를 극대화한다.A third thin film 19 of MgO is formed on the second thin film 17 to have a thickness of about 2 nm to about 100 nm that is the same as that of the second thin film 17. Subsequently, the second thin film 17 and the third thin film 19 are alternately and repeatedly deposited by using an electron beam evaporation method such that they are alternately repeated in a plurality of multiple layers of 20 or more layers. As a result, the sputtering effect of the CaF 2 film or the like is improved to maximize the effect of the initial driving voltage.
한편, 본 발명의 다른 유형에 따르면, 전면 기판의 유전체층 상에 CaF2등의 제2박막과 MgO로 된 제3박막을 교대로 반복하여 다중으로 형성함으로써, PDP 내부에서의 플라즈마 방전시 2차 전자방출이 증대되는 점에 그 다른 특징이 있다.On the other hand, according to another type of the present invention, by forming a second thin film such as CaF 2 and a third thin film of MgO alternately and repeatedly formed on the dielectric layer of the front substrate, secondary electrons during plasma discharge in the PDP Another feature is the increased emission.
이러한 특징을 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 다른 실시예에 따른 플라즈마 표시 패널을 상세하게 설명한다.A plasma display panel according to another exemplary embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 플라즈마 표시 패널에 있어서, 전면 기판의 수직 단면도이다. 여기서, 앞서 도시된 도면의 동일한 참조부호는 동일한 구성요소를 가리키며, 본 발명의 다른 실시예에 따른 플라즈마 표시 패널은 상술한 바와 같은 일 실시예에 대비하여 특징부만을 설명하기로 한다.4 is a vertical cross-sectional view of a front substrate in a plasma display panel according to another exemplary embodiment of the present invention. Here, the same reference numerals in the above-described drawings indicate the same components, and the plasma display panel according to another embodiment of the present invention will be described only for the features in comparison with the above-described embodiment.
도 4을 참조하면, 본 발명에 따른 플라즈마 표시 패널은, 기본적으로 전면 기판(18) 상에는 배면 기판(미도시)의 각 대향면 상에 서로 교차하는 방향의 스트라이프 상으로 형성된 상부 전극(17), 유전체층(13)이 순차로 형성된다.Referring to FIG. 4, the plasma display panel according to the present invention basically includes an upper electrode 17 formed on the front substrate 18 in a stripe shape in a direction crossing each other on opposite surfaces of a rear substrate (not shown), The dielectric layer 13 is formed sequentially.
한편, 앞서 도시된 도 2에서와 같이, 배면 기판(1) 상에 스트라이프 상의 하부 전극(2), 유전체층(3),격벽(4)을 형성하고, 격벽(4)들 사이의 유전체층(3) 상에 형광체층(5)을 도포한 구조는 종래의 것과 같다.Meanwhile, as shown in FIG. 2, the lower electrode 2, the dielectric layer 3, and the partition wall 4 on the stripe are formed on the rear substrate 1, and the dielectric layer 3 between the partition walls 4 is formed. The structure which apply | coated the phosphor layer 5 on it is the same as the conventional thing.
본 발명의 다른 유형에 따른 특징부는, 전면 기판(18)의 유전체층(13) 상에 CaF2, MgF2, LiF, CaO 및 SrO막 등과 같은 2차 전자방출이 큰 제2박막(17)이 증착된다. 그리고, 이러한 제2박막(17) 상에 MgO로 된 제3박막(19)이 상기 제2박막(17)과 교대로 반복하여 20층 이상의 복수층으로 교번되게 다중 적층된다.A feature according to another type of invention is the deposition of a second thin film 17 having a large secondary electron emission, such as a CaF 2 , MgF 2 , LiF, CaO and SrO film, on the dielectric layer 13 of the front substrate 18. do. And, on the second thin film 17, the third thin film 19 made of MgO is alternately repeated with the second thin film 17, and alternately stacked in multiple layers of 20 or more layers.
이하, 본 발명의 실시예를 들어 상세히 설명하기로 하되, 본 발명이 후술되는 실시예로만 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the embodiments of the present invention will be described in detail, but the present invention is not limited to the embodiments described below.
<실시예><Example>
전면 기판 상에 배면 기판의 각 대향면 상에 서로 교차하는 방향의 스트라이프 상으로 형성된 상부 전극, 유전체층 그리고, MgO로 된 제1박막 상에 CaF2의 제2박막을 제2박막 상의 제3박막과 교대로 반복되게 20층 이상으로 다중 증착한다. 그리고, 배면 기판 상에 스트라이프 상의 하부 전극(Ag), 유전체층, 격벽을 형성하고, 격벽들 사이의 유전체층 상에 형광체층을 도포하고, 대향형 방전을 측정하기 위해 상기 형광체층 상에 MgO 박막을 형성한다.On the front substrate, a second thin film of CaF 2 is formed on the first thin film made of MgO, and the third thin film on the second thin film is formed on the upper electrode, the dielectric layer, and the first thin film of MgO formed on each opposite surface of the rear substrate. Multiple depositions of at least 20 layers are alternately repeated. A lower electrode Ag, a dielectric layer, and a partition wall are formed on the back substrate, a phosphor layer is applied on the dielectric layer between the partition walls, and an MgO thin film is formed on the phosphor layer to measure the counter discharge. do.
상기의 하부 전극(Ag), 유전체층 및 격벽은 스크린 인쇄법으로 형성하고, 상부 전극으로는 전면 기판 상에 ITO 투명 전극층을 증착 후 소정 패터닝 하였다. 그리고, MgO의 제1박막, 제3박막 및 CaF2의 제2박막은 전자빔 증착법으로 증착한다. 이러한 패널에 Ne-Xe의 가스로 형광체층없이 가스 방전만 형성시켰다. 또한, 10-6torr의 압력, 에이징 시간(대략 12시간) 등 모든 조건을 동일하게 하였다. 여기서, 한 쌍의 제2 및 제3박막의 두께는 각각 3㎚로 미세하게 조절하여 박막을 성장시켰다. 그리고, 200㎚이상으로 교번되게 순차로 증착된 최상부의 보호막은 제2 및 제3박막 중 어느 하나이며, 이러한 최상부의 보호막은 제2박막인 CaF2박막은 3㎚의 두께를 가지며, 제3박막은 5㎚의 두께를 갖는다.The lower electrode Ag, the dielectric layer, and the partition wall were formed by screen printing. The upper electrode was patterned after the ITO transparent electrode layer was deposited on the front substrate. The first thin film of MgO, the third thin film, and the second thin film of CaF 2 are deposited by electron beam evaporation. In such a panel, only a gas discharge was formed without a phosphor layer with a gas of Ne-Xe. In addition, all conditions, such as a pressure of 10-6 torr and an aging time (about 12 hours), were made the same. Here, the thicknesses of the pair of second and third thin films were finely adjusted to 3 nm, respectively, to grow the thin films. The uppermost protective film deposited alternately over 200 nm is any one of the second and third thin films, and the uppermost protective film is the CaF 2 thin film, which is the second thin film, having a thickness of 3 nm, and the third thin film. Has a thickness of 5 nm.
상술한 바와 같이 제조된 전면 기판 및 배면 기판을 실링(sealing)하여 접합하고, 진공 가열 배기장치에 의해 배기한 후, 패널의 방전 특성을 조사하였다.The front substrate and the back substrate manufactured as described above were sealed and bonded together, and exhausted by a vacuum heating and exhausting apparatus, and then the discharge characteristics of the panel were examined.
<비교예>Comparative Example
상기의 실시예와 동일한 조건으로 전면 기판 상에 배면 기판의 각 대향면 상에 서로 교차하는 방향의 스트라이프 상으로 형성된 상부 전극, 유전체층 및 MgO 보호막을 형성한다. 또한, 배면 기판의 형광체층 상에 MgO 보호막을 증착한다. 그 후, 상술한 바와 같이 제조된 전면 기판 및 배면 기판을 실링(sealing)하여 접합하고, 진공 가열 배기장치에 의해 배기한 후, 패널의 방전 특성을 조사하였다.The upper electrode, the dielectric layer, and the MgO protective film are formed on the front substrate under the same conditions as the above embodiment, on the opposite surface of the rear substrate, on the stripe in the direction crossing each other. Further, an MgO protective film is deposited on the phosphor layer of the back substrate. Thereafter, the front substrate and the back substrate manufactured as described above were sealed and bonded together, and exhausted by a vacuum heating and exhausting apparatus, and then the discharge characteristics of the panel were examined.
상기 표 1로부터 알 수 있는 바와 같이, 전면 기판의 보호층을 MgO 및 CaF2박막을 교대로 반복하여 증착함으로써, 패널 내부에서의 플라즈마 방전시, 2차 전자방출이 증대되고, 내 스퍼터링 효과를 향상시켜 초기 방전 전압 및 전면적 방전 전압이 떨어지게 한다. 또한, 에이징 후(대략 12시간 이내)의 초기 방전 전압 및 전면적 방전 전압도 하강하게 된다는 것을 알 수 있다. 이로써, PDP 회로의 안정에도 기여한다.As can be seen from Table 1, by repeatedly depositing a protective layer of the front substrate alternately MgO and CaF 2 thin film, secondary electron emission is increased during plasma discharge in the panel, and the sputtering effect is improved. The initial discharge voltage and the overall discharge voltage are lowered. In addition, it can be seen that the initial discharge voltage and the overall discharge voltage after aging (approximately 12 hours or less) also fall. This also contributes to the stability of the PDP circuit.
또한, 상기의 실시예와 비교예에 있어서, 도 5는 방전상태를 1/2로 나누어져 있는 MgO 보호막과 다층보호막(CaF2/MgO)으로 비교한 도면이다. 전압을 동일하게 인가한 전면 기판의 유전체층 상에 MgO 보호막과 CaF2보호막이 교대로 반복하여 증착된 다층 보호막과, 전면 기판의 유전체층 상에 MgO 보호막이 단일 증착된 패널의 실제 방전현상을 비교해 보면, 방전의 균일성과 밝기가 현저히 다르다는 것을 알 수 있다. 즉, MgO 보호막의 방전은 그 방전의 균일성이 다층보호막에 비하여 떨어지고, 밝기에 있어서도 다층보호막이 형성된 패널이 훨씬 밝은 것을 알 수 있다.Further, in the example compared to the embodiment of the example, Fig. 5 is a diagram comparing the MgO layer and multi-layer protective film (CaF 2 / MgO) in a discharge state is divided in half. Comparing the actual discharge phenomenon of the multilayer protective film in which MgO protective film and CaF 2 protective film were alternately deposited on the dielectric layer of the front substrate to which the same voltage was applied, and the panel in which the single MgO protective film was deposited on the dielectric layer of the front substrate, It can be seen that the uniformity and brightness of the discharge are significantly different. In other words, it can be seen that the discharge of the MgO protective film is less uniform in discharge uniformity than the multilayer protective film, and the panel on which the multilayer protective film is formed is much brighter in brightness.
이상의 설명에서와 같이, 본 발명에 따른 PDP는 전면 기판의 유전체층 상에MgO로 된 제1박막을 형성하고 그 위에 다시 CaF2등의 제2박막과, MgO로 된 제3박막을 교대로 반복하여 다중으로 형성함으로써, PDP 내부에서의 플라즈마 방전시 2차 전자방출이 증대되는 점에 그 장점이 있다.As described above, the PDP according to the present invention forms a first thin film of MgO on the dielectric layer of the front substrate, and thereafter alternately repeats a second thin film of CaF 2 and the like, and a third thin film of MgO. By forming a plurality, there is an advantage in that secondary electron emission is increased during plasma discharge inside the PDP.
Claims (12)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019980021955A KR20000001613A (en) | 1998-06-12 | 1998-06-12 | Plasma display panel |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| KR1019980021955A KR20000001613A (en) | 1998-06-12 | 1998-06-12 | Plasma display panel |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20000001613A true KR20000001613A (en) | 2000-01-15 |
Family
ID=19539210
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019980021955A KR20000001613A (en) | 1998-06-12 | 1998-06-12 | Plasma display panel |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR20000001613A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100468831B1 (en) * | 1998-07-07 | 2005-03-16 | 삼성에스디아이 주식회사 | Plasma display panel and method of manufacturing the same |
| US7628375B2 (en) | 2005-06-13 | 2009-12-08 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Swiveling apparatus for a monitor apparatus |
| CN112575311A (en) * | 2020-12-08 | 2021-03-30 | 中国科学院高能物理研究所 | Double-layer film with high secondary electron emission coefficient and preparation method thereof |
-
1998
- 1998-06-12 KR KR1019980021955A patent/KR20000001613A/en not_active Application Discontinuation
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| US7628375B2 (en) | 2005-06-13 | 2009-12-08 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Swiveling apparatus for a monitor apparatus |
| CN112575311A (en) * | 2020-12-08 | 2021-03-30 | 中国科学院高能物理研究所 | Double-layer film with high secondary electron emission coefficient and preparation method thereof |
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