KR19990071563A - Hydrophilic Support for Flat Printing Plates and Manufacturing Method Thereof - Google Patents

Abstract

개시된 내용은, 예를 들어 알루미늄 또는 플라스틱 같은 지지체를, 예를 들어 알루미나 또는 티타니아와 같은 미립 물질이 분산된, 예를 들어 규산나트륨 용액과 같은 규산염 용액을 포함하는, pH가 9보다 높은 액체와 접촉시키는 단계를 포함하는 일종의 평판인쇄 플레이트용 기판을 제조하는 방법에 관한 것이다. 이 액체는, 경화될 때, 지지체 상에 친수성 층을 생산하다. 또한, 본 발명에는 기판 그 자체 및 인쇄 플레이트도 개시되어 있다.The disclosure discloses contacting a support such as aluminum or plastic, for example, with a liquid having a pH greater than 9, including a silicate solution such as, for example, sodium silicate solution, in which particulate matter such as alumina or titania is dispersed. It relates to a method for manufacturing a kind of substrate for a plate printing plate comprising the step of. This liquid, when cured, produces a hydrophilic layer on the support. The present invention also discloses the substrate itself and the printing plate.

Description

평판 인쇄 플레이트용 친수성 지지체 및 그 제조방법Hydrophilic Support for Flat Printing Plates and Manufacturing Method Thereof

본 발명은 평판인쇄에 관한 것으로서, 일종의 평판인쇄용 기판을 제조하는 방법, 일종의 평판인쇄용 기판 및 일종의 평판인쇄물 그 자체를 제공한다. 특히, 본 발명은, 전적으로 관련되지는 않지만, 리소그래피 인쇄와 관련이 있다.BACKGROUND OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to flat plate printing, and provides a method of manufacturing a type of flat plate printing substrate, a type of flat plate printing substrate, and a type of flat plate printing material itself. In particular, the present invention relates to lithographic printing, although not entirely related.

리소그래피 과정은 이미지(인쇄) 및 비-이미지(비-인쇄)영역을 기판, 실질적으로는 공통면 상에 만드는 과정을 포함한다. 인쇄 산업에서 이러한 과정들을 사용할 때, 비이미지 영역은 보통 친수성이고, 이미지 영역은 보통 친유성이다. 결과적으로, 물을 기판에 적용한 후, 오일에 기초한 잉크가 비이미지 영역과 반발한다.The lithography process involves creating image (printed) and non-image (non-printed) regions on a substrate, substantially a common plane. When using these processes in the printing industry, nonimage regions are usually hydrophilic and image regions are usually lipophilic. As a result, after applying water to the substrate, the oil based ink repels the non-image area.

이미지 및 비-이미지 영역은, 기판의 표면 위에 있는 이미지 층을 방사선에 노출하는 단계를 포함하는 과정에 의해 만들 수 있다. 방사선에 노출시키는 것에 의해, 이미지 물질에서, 이미지 및 비-이미지 영역에 해당하는 용해도 차이를 만든다. 현상하는 동안, 가용성 영역이 제거되면 될수록, 이미지에 해당하는 패턴을 기판상에 남기게 된다.The image and non-image regions can be made by a process comprising exposing the image layer over the surface of the substrate to radiation. Exposure to radiation creates a difference in solubility in the image material corresponding to the image and non-image areas. During development, the more the soluble region is removed, the more the pattern corresponding to the image remains on the substrate.

이미지 층을 수용하는 기판의 제조방법은, 이미지가 기판에 잘 결합하도록 기판을 제조해야만 한다. 그러나, 이러한 제조방법은 현상 동안 가용성 이미지가 기판과 해리되게도 해야만 한다.A method of making a substrate that contains an image layer must produce the substrate so that the image is well bonded to the substrate. However, this manufacturing method must also dissociate the soluble image with the substrate during development.

리소그래피 인쇄에 사용되는 가장 일반적인 기판 중 하나는, 사용하기에 적당하도록 처리된 알루미늄 베이스 층을 포함한다. 일반적으로, 알루미늄 층은, 예를 들어, 적어도 99.5%의 순도를 가진 1050 합금과 같은 양질의 알루미늄을 포함한다. 기판을 제조하기 위해, 알루미늄을, 예를 들어 일렉트로 그레인(electrograin)에 의해 거칠게 하고, 애노드 처리하고, 그리고 나서, 예를 들어 물, 인 용액 또는 규산염 용액, 또는 폴리카르복실산과 같은 것으로 처리하는 화학적 수단에 의해 조건을 맞춘다.One of the most common substrates used for lithographic printing includes an aluminum base layer that has been treated to be suitable for use. In general, the aluminum layer comprises good quality aluminum, such as, for example, 1050 alloy with a purity of at least 99.5%. In order to produce the substrate, a chemical treatment of aluminum is roughened, for example by electrograin, anodized and then treated with, for example, water, phosphorus or silicate solution, or polycarboxylic acid. Condition is met by means.

일렉트로 그레인 처리 및/또는 애노드 처리 및/또는 화학적으로 조절된 알루미늄을 이용하는 리소그래피 인쇄 플레이트는, 예를 들어, 영국특허출원 1 439 127, 미국특허 3 181 461, 3 963 594, 4 052 275, 4 072 589, 4 131 518, 유럽특허출원 0 110 417 및 일본공개번호 20/3956에 기재되어 있다.Lithographic printing plates using electrograined and / or anodized and / or chemically controlled aluminum are described, for example, in British Patent Application 1 439 127, US Patent 3 181 461, 3 963 594, 4 052 275, 4 072. 589, 4 131 518, European Patent Application 0 110 417 and Japanese Patent Publication No. 20/3956.

상기 알려진 방법들의 문제점은, 이 방법들이 일렉트로 그레인 및 애노드 처리 단계에서 많은 전기 에너지를 소비한다는데 있다. 게다가, 이러한 단계들은 처분해야만 하는 낭비적인 화학물을 생성한다. 또한, 이러한 단계들은 일반적으로 상당히 낮은 속도에서만 실시할 수 있다.The problem with the known methods is that these methods consume a lot of electrical energy in the electrograin and anode processing steps. In addition, these steps create wasteful chemicals that must be disposed of. In addition, these steps can generally only be performed at significantly lower speeds.

수많은 용액들이 상기 문제점들을 해결하기 위해 제안되어 왔으나, 상업적으로 사용된 것은 거의 없다.Numerous solutions have been proposed to solve these problems, but little is used commercially.

예를 들어, PCT 공개번호 WO91/12140은, 지르코니아 용액에서 유도된 산화층을 운반하는 알루미늄 금속의 리소그래피 플레이트를 기재하고 있다.For example, PCT Publication No. WO91 / 12140 describes a lithographic plate of aluminum metal carrying an oxide layer derived from a zirconia solution.

미국특허번호 4 457 971은, 비금속 무기 입자를 포함하는 세라믹 층과, 반발하는 상(phase) 또는 적어도 하나의 1염기 인산염의 탈수물질의 상을 가지고 있는 알루미늄 또는 알루미늄 처리된 기판을 포함하는 리소그래피 플레이트를 기재하고 있다.US Pat. No. 4 457 971 discloses a lithographic plate comprising an aluminum or aluminum treated substrate having a ceramic layer comprising nonmetallic inorganic particles and a phase of a repelling phase or a dehydrated substance of at least one monobasic phosphate. It is described.

미국특허번호 4 420 549는, 실질적으로 코팅에 미립 물질의 문제가 없는, 알루미늄 인산염 형태의 중합체 또는 알루미늄 인산염의 혼합물 형태의 중합체를 포함하는, 세라믹 코팅을 가지는 알루미늄 또는 알루미늄 처리된 기판을 포함하는 리소그래피 플레이트를 기재하고 있다.US Pat. No. 4 420 549 is a lithography comprising an aluminum or aluminum treated substrate having a ceramic coating, comprising a polymer in the form of aluminum phosphate or a polymer in the form of a mixture of aluminum phosphates, which is substantially free of particulate matter in the coating. The plate is described.

미국특허번호 4 542 089는, 알루미늄 또는 알루미늄 처리된 기판의 적어도 한 표면에 적어도 하나의 1염기 인산염의 슬러리 및 무기 비금속 입자를 적용하고, 친수성 세라믹 코팅을 형성하기 위해 세라믹층의 완전한 탈수를 실질적으로 보장하기 위한 충분한 오랜 시간 동안 적어도 230℃의 온도에서 이 슬러리를 연소하여서, 알루미늄 기판 또는 기판에서 알루미늄 처리된 표면 상에 친수성 세라믹을 제공하는 단계를 포함하는 감광성 기판의 제조방법을 기재하고 있다.US Pat. No. 4 542 089 describes the application of a slurry of at least one monobasic phosphate and inorganic nonmetallic particles to at least one surface of an aluminum or aluminum treated substrate and substantially complete dehydration of the ceramic layer to form a hydrophilic ceramic coating. A method of making a photosensitive substrate is disclosed which comprises the step of burning this slurry at a temperature of at least 230 ° C. for a sufficient long time to provide a hydrophilic ceramic on an aluminum substrate or an aluminum treated surface on the substrate.

이태리 특허출원 MI94 A00048은, 알루미늄 지지체에 플루오로 규산염, 실리카, 폴리비닐덴 플루오라이드 및 티타늄 디옥사이드를 포함하는 콜로이드 혼합물을 도포하여서 제조된 리소그래피 플레이트를 기재하고 있다. 이 플루오로 규산염의 중합은 50-180초 동안 225-300℃에서 행한다.Italian patent application MI94 A00048 describes a lithographic plate made by applying a colloidal mixture comprising fluorosilicate, silica, polyvinylidene fluoride and titanium dioxide to an aluminum support. The polymerization of this fluorosilicate is carried out at 225-300 ° C. for 50-180 seconds.

상술한 과정들과 관련된 문제점들은, 알루미늄 상에서 코팅을 경화 및/또는 중합하기 위해 요구되는 비교적 높은 온도에 기인한 것들이다. 높은 온도들은 알루미늄 지지체를 서냉하고 그 장력 강도를 줄이는 것으로 알려져 있다. 또한, 높은 온도는 플레이트를 변형하여서, 플레이트가 불안정한 구조를 가지게 할 수 있다. 이러한 양 효과들이 플레이트를 인쇄 인화할 때 문제점이 될 수 있다.Problems associated with the processes described above are due to the relatively high temperatures required to cure and / or polymerize the coating on aluminum. High temperatures are known to slow the aluminum support and reduce its tensile strength. In addition, high temperatures can deform the plate, causing the plate to have an unstable structure. Both of these effects can be a problem when printing a plate.

일렉트로 그레인 및/또는 서냉의 문제점을 해결하기 위한 또 다른 해결책들이 PCT 특허출원 GB93/01910에 기재되어 있다. 이 문헌은 알루미늄 합금 시트 상에 Al₂O₃파우더를 플라스마 스프레이 하여서 리소그래피 인쇄 플레이트를 만드는 것을 기재하고 있다.Further solutions for solving the problem of electrograining and / or slow cooling are described in PCT patent application GB93 / 01910. This document describes making a lithographic printing plate by plasma spraying Al ₂ O ₃ powder on an aluminum alloy sheet.

알루미늄의 변형으로서, 예를 들어 폴리에스테르와 같은 플라스틱 물질을 지지체로서 사용할 수 있다. 이러한 물질들에 대한 표면 코팅이 다양한 문헌에 기재되어 있다.As a variant of aluminum, plastic materials such as polyester, for example, can be used as the support. Surface coatings for these materials have been described in various literatures.

예를 들어, 미국특허 4 330 605는, 콜로이드 실리카와 건조 실리카 파우더의 혼합물로 폴리에틸렌 테레프탈레이트 막을 코팅하는 과정을 포함하는, 은염 확산 이동 과정(silver salt diffusion transfer process)에 의해 이미지될 수 있는 포토리소그래피 수용체 시트를 기재하고 있다.For example, US Pat. No. 4,330,605 describes photolithography that can be imaged by a silver salt diffusion transfer process, which includes coating a polyethylene terephthalate film with a mixture of colloidal silica and dry silica powder. The receptor sheet is described.

또한 유럽특허 0 619 524, 0 619 525 및 0 620 502도, 다양한 폴리에틸렌 테레프탈레이트용 코팅을 기재하고 있다.European patents 0 619 524, 0 619 525 and 0 620 502 also describe various polyethylene terephthalate coatings.

본 발명의 목적은, 알려진 평판 인쇄 플레이트, 그 부분 및 그 물질을 제조하는 방법과 관련된 문제점을 해결하기 위한 것이다.It is an object of the present invention to solve the problems associated with known flat printing plates, parts thereof and methods of making the materials.

본 발명에 따르면, 미립 물질이 분산된 규산염 용액을 포함하는 액체로 지지체를 접촉하는 것에 의해, 지지체 상에 친수성 층을 형성하는 단계를 포함하는 일종의 평판인쇄용 기판을 제조하는 방법을 제공한다.According to the present invention, there is provided a method of manufacturing a kind of plate-printing substrate comprising the step of forming a hydrophilic layer on a support by contacting the support with a liquid comprising a silicate solution in which particulate matter is dispersed.

바람직하게, 상기 일종의 평판인쇄는 인쇄 플레이트(printing plate)이다.Preferably, said kind of flatbed printing is a printing plate.

상기 규산염 용액은, 종종 물유리로 언급되는, 메타규산염(metasilicates), 올소규산염(orthosilicates) 및 세스퀴규산염(sesquisilicates) 화합물을 포함하는 어떤 가용성 규산염 용액으로 구성할 수 있다. 이 규산염 용액은, 예를 들어 붕규산(borosilicate) 또는 인규산(phosphosilicate)와 같은 변형된 규산염 용액을 포함할 수 있다.The silicate solution may consist of any soluble silicate solution, including metasilicates, orthosilicates and sesquisilicates compounds, often referred to as water glass. This silicate solution may comprise a modified silicate solution such as, for example, borosilicate or phosphosilicate.

규산염 용액은, 하나 이상, 바람직하게는 단 하나의 금속 또는 비금속 규산염을 포함할 수 있다. 금속 규산염은 알칼리금속 규산염일 수 있으며, 비금속 규산염은 제 4규산 알루미늄일 수 있다.The silicate solution may comprise one or more, preferably only one metal or nonmetal silicate. The metal silicate may be an alkali metal silicate and the nonmetal silicate may be quaternary aluminum silicate.

규산염 용액은, 예를 들어 금속종과 같은 카티온의 몰수에 대해, 예를 들어 SiO₂와 같은 규소(Si)종의 몰수의 비가, 0.25∼10의 범위, 바람직하게는 0.25∼약 6범위, 더욱 바람직하게는 0.5∼4의 범위인 규산염으로 형성할 수 있다.The silicate solution is, for example, a ratio of the number of moles of silicon (Si) species such as SiO _{2 to the number} of moles of cations such as metal species, for example, in the range of 0.25 to 10, preferably in the range of 0.25 to about 6, More preferably, it can form with the silicate in the range of 0.5-4.

규산염은 알칼리금속 규산염인 것이 바람직하다. 이 경우, 상기 규산염에서 M₂O의 몰수에 대한 SiO₂의 몰수의 비는, 적어도 0.25, 적절하게는 적어도 0.5, 바람직하게는 적어도 1, 더욱 바람직하게는 적어도 1.5이다. 이 경우에 있어서, 상기 비율이 적어도 2.5인 것이 특히 바람직하다. 이 비율은 6보다 작을 수 있으며, 바람직하게는 5보다 작으로, 더욱 바람직하게는 4보다 작다. 상기에서 M은 알칼리금속을 나타낸다.The silicate is preferably an alkali metal silicate. In this case, the ratio of the moles of SiO _{2 to} the moles of M ₂ O in the silicate is at least 0.25, suitably at least 0.5, preferably at least 1, more preferably at least 1.5. In this case, it is particularly preferable that the ratio is at least 2.5. This ratio may be less than 6, preferably less than 5, more preferably less than 4. In the above, M represents an alkali metal.

바람직한 알칼리금속 규산염은, 규산 리튬, 규산 나트륨 및 규산 포타슘을 포함하며, 특별히 바람직한 것은 규산 리튬 및/또는 규산 나트륨이다. 단지 규산 나트륨만을 포함하는 규산염 용액이 가장 바람직하다.Preferred alkali metal silicates include lithium silicate, sodium silicate and potassium silicate, particularly preferred are lithium silicate and / or sodium silicate. Most preferred is a silicate solution comprising only sodium silicate.

상기 액체는, 2∼30중량%의 규산염(예를 들어, 용해된 규산 나트륨 고체)을 포함할 수 있으며, 바람직하게는 5∼20중량%, 더 바람직하게는 8∼16중량%를 포함할 수 있다. 이 액체는, 30∼40중량% 규산염을 포함하는, 10∼60중량%의 규산염 용액, 바람직하게는 30∼50중량%, 더 바람직하게는 35∼45중량%의 규산염 용액을 사용하여 제조할 수 있다.The liquid may comprise 2-30% by weight of silicate (eg dissolved sodium silicate solid), preferably 5-20% by weight, more preferably 8-16% by weight. have. This liquid can be prepared using a 10 to 60 wt% silicate solution, preferably 30 to 50 wt%, more preferably 35 to 45 wt% silicate solution, comprising 30 to 40 wt% silicate. have.

상기 액체는 5∼60중량%의 미립 물질을 포함할 수 있다. 바람직하게 이 액체는 10∼50중량%, 더 바람직하게는 15∼45중량%의 미립 물질을 포함하며, 특히 20∼40중량%의 미립 물질을 포함한다.The liquid may comprise between 5 and 60% by weight of particulate matter. Preferably this liquid comprises 10 to 50% by weight of particulate matter, more preferably 15 to 45% by weight, in particular 20 to 40% by weight of particulate matter.

이 액체에서 미립 물질의 중량에 대한 규산염의 중량 비는 바람직하게 0.1∼2의 범위, 더 바람직하게는 0.1∼1의 범위이다. 이 경우에 있어서 특히 바람직한 비율은 0.2∼0.6의 범위이다.The weight ratio of silicate to weight of particulate matter in this liquid is preferably in the range of 0.1 to 2, more preferably in the range of 0.1 to 1. In this case, a particularly preferable ratio is in the range of 0.2 to 0.6.

상기 액체는 20중량% 보다 많은 물을 포함할 수 있으며, 바람직하게는 30중량% 보다 많은, 더 바람직하게는 40중량% 보다 많은, 특히 45중량% 보다 많은 물(상기 실리카 용액에 포함된 물을 포함)을 포함할 수 있다. 이 액체는 80중량% 보다 적은, 바람직하게는 70중량% 보다 적은, 더 바람직하게는 65중량% 보다 적은, 특히 약 60중량% 보다 적은 물을 포함할 수 있다.The liquid may comprise more than 20% by weight of water, preferably more than 30% by weight, more preferably more than 40% by weight, in particular more than 45% by weight of water (water contained in the silica solution Inclusive). This liquid may comprise less than 80% by weight, preferably less than 70% by weight, more preferably less than 65% by weight, in particular less than about 60% by weight.

상기 미립 물질은 유기 또는 무기물일 수 있다. 유기 미립 물질은 라텍스에 의해 제공될 수 있다. 무기 미립 물질은 알루미나, 실리카, 탄화규소, 황화아연, 지르코니아, 황산바륨, 활석, 점토(예를 들어, 고령토), 리토폰 및 산화티탄에서 선택할 수 있다.The particulate material may be organic or inorganic. The organic particulate material may be provided by latex. Inorganic particulates may be selected from alumina, silica, silicon carbide, zinc sulfide, zirconia, barium sulfate, talc, clay (e.g. kaolin), lithopone and titanium oxide.

미립 물질은 8 변형 모스(0∼15의 범위) 보다 큰, 바람직하게는 9 보다 큰, 더 바람직하게는 10 변형 모스 보다 큰 경도를 가질 수 있는 제 1물질을 포함할 수 있다.The particulate material may comprise a first material which may have a hardness greater than 8 strain Mohs (range of 0-15), preferably greater than 9, more preferably greater than 10 strain Moss.

상기 제 1물질은 보통의 원형 입자를 포함할 수 있다. 또 다르게는, 상기 물질은 평단화 입자 또는 작은판을 포함할 수 있다.The first material may comprise ordinary circular particles. Alternatively, the material may comprise flattening particles or platelets.

제 1물질은 적어도 0.1㎛, 바람직하게는 적어도 0.5㎛의 평균 입자 크기를 가질 수 있다.The first material may have an average particle size of at least 0.1 μm, preferably at least 0.5 μm.

제 1물질은 45㎛ 보다 작은, 바람직하게는 20㎛ 보다 작은, 더 바람직하게는 10㎛ 보다 작은 평균 입자 크기를 가질 수 있다.The first material may have an average particle size smaller than 45 μm, preferably smaller than 20 μm, more preferably smaller than 10 μm.

제 1물질의 입자들의 95%는, 입자 크기 분포가 0.01∼150㎛의 범위, 바람직하게는 0.05∼75㎛의 범위, 더 바람직하게는 0.05∼30㎛의 범위에 있다.95% of the particles of the first material have a particle size distribution in the range of 0.01 to 150 mu m, preferably in the range of 0.05 to 75 mu m, more preferably in the range of 0.05 to 30 mu m.

상기 제 1물질은 무기물을 포함하는 것이 바람직한다. 이 제 1물질은, Al₂O₃을 포함하고, 그것들을, 예를 들어 Al₂O₃·3H₂O와 같이 수산화하는 알루미나를 포함하는 것이 바람직하다. 바람직하게는 상기 물질은 Al₂O₃이다.It is preferable that the said 1st substance contains an inorganic substance. The first material is, it is preferable to include Al ₂ O _3, of them, and include, for example, alumina hydroxide such as _{Al 2 O 3 · 3H 2 O} . Preferably the material is Al ₂ O ₃ .

상기 액체에서 상기 미립 물질은, 적어도 20중량%, 바람직하게는 적어도 30중량%, 더 바람직하게는 적어도 40중량%의 상기 제 1물질을 포함한다. 이 액체는 5∼40중량%, 바람직하게는 5∼30중량%, 더 바람직하게는 7∼25중량%, 특히 10∼20중량%의 제 1물질을 포함할 수 있다.The particulate material in the liquid comprises at least 20% by weight, preferably at least 30% by weight, more preferably at least 40% by weight of the first material. The liquid may comprise from 5 to 40% by weight, preferably from 5 to 30% by weight, more preferably from 7 to 25% by weight, in particular from 10 to 20% by weight of the first substance.

상기 미립 물질은 제 2물질을 포함할 수 있다. 제 2물질은 적어도 0.001㎛, 바람직하게는 적어도 0.01㎛의 평균 입자 크기를 가질 수 있다. 제 2물질은 10㎛보다 작은, 바람직하게는 5㎛ 보다 작은, 더 바람직하게는 1㎛ 보다 작은 평균 입자 크기를 가질 수 있다.The particulate material may include a second material. The second material may have an average particle size of at least 0.001 μm, preferably at least 0.01 μm. The second material may have an average particle size smaller than 10 μm, preferably smaller than 5 μm, more preferably smaller than 1 μm.

상기 제 1 및 제 2물질의 평균 입자 크기는, 상기 물질의 초기 입자 크기에 대해서 적절하게 조절한다.The average particle size of the first and second materials is appropriately adjusted for the initial particle size of the material.

상기 액체에서 상기 미립 물질은, 적어도 20중량%, 바람직하게는 적어도 30중량%, 더 바람직하게는 적어도 40중량%의 상기 제 2물질을 포함할 수 있다. 이 액체는 5∼40중량%, 바람직하게는 5∼30중량%, 더 바람직하게는 7∼25중량%, 특히 10∼20중량%의 제 2물질을 포함할 수 있다.The particulate material in the liquid may comprise at least 20% by weight, preferably at least 30% by weight, more preferably at least 40% by weight of the second material. The liquid may comprise from 5 to 40% by weight, preferably from 5 to 30% by weight, more preferably from 7 to 25% by weight, in particular from 10 to 20% by weight of the second material.

상기 제 2물질은 안료인 것이 바람직하다. 이 제 2물질은 바람직하게 무기물이며, 티타늄 디옥사이드인 것이 바람직하다.It is preferable that the said 2nd material is a pigment. This second material is preferably inorganic and preferably titanium dioxide.

상기 제 1 및 제 2물질은 멀티모듈(multimodal), 예를 들어 바이모듈(bimodal) 입자 크기 분포로 특정하는 것이 바람직하다.Preferably, the first and second materials are characterized by a multimodal, for example bimodal particle size distribution.

이 액체가 규산염을 포함하고, 미립 물질이 상술한 제 1물질 및 제 2물질을 포함하는 경우에는, 제 1물질의 중량%에 대한 규산염(예를 들어 용해된 규산 나트륨 고체)의 중량% 비율은, 0.25∼4의 범위, 바람직하게는 0.5∼1.5의 범위, 더 바람직하게는 약 1일 수 있다. 이와 비슷하게, 제 2물질의 중량%에 대한 규산염의 중량%의 비율은, 0.25∼4의 범위, 바람직하게는 0.5∼1.5의 범위, 더 바람직하게는 약 1이다. 제 2물질의 중량%에 대한 제 1물질의 중량% 비율은, 0.5∼2의 범위, 바람직하게는 0.75∼1.5의 범위, 더 바람직하게는 약 1 대 1이다.If this liquid comprises silicate and the particulate material comprises the above-mentioned first and second substances, then the weight percent ratio of silicate (eg dissolved sodium silicate solid) to weight percent of the first substance is , 0.25 to 4, preferably 0.5 to 1.5, more preferably about 1. Similarly, the ratio of weight percent of silicate to weight percent of the second material is in the range of 0.25 to 4, preferably in the range of 0.5 to 1.5, more preferably about 1. The weight percent ratio of the first substance to the weight percent of the second substance is in the range of 0.5 to 2, preferably in the range of 0.75 to 1.5, more preferably about 1 to 1.

상기 미립 물질은, 규산염 용액의 pH를 낮추기 위해 채택하는 것이 바람직한 제 3물질을 포함할 수 있다. 이 제 3물질은 콜로이드일 수 있으며, 콜로이드 실리카 또는 무기염도 적절하며, 그 중 알루미늄 인산염이 바람직한 인산염이 적절하다. 제 3물질이 제공되는 경우에는, 바람직하게 30중량% 보다 적은, 더 바람직하게는 20중량% 보다 적은, 특히 10중량% 보다 적은 상기 미립 물질이 제 3물질에 포함된다.The particulate material may comprise a third material which is preferably employed to lower the pH of the silicate solution. This third material may be a colloid, colloidal silica or inorganic salts are also suitable, of which aluminum phosphate is preferred. If a third material is provided, the third material comprises preferably less than 30% by weight, more preferably less than 20% by weight, in particular less than 10% by weight.

상기 액체의 pH는 9.0보다 높을 수 있으며, 바람직하게는 9.5보다 높으며, 더 바람직하게는 10.0보다 높을 수 있다. 특히 바람직한 경우는 pH가 10.5보다 높은 경우이다. 이 pH는, 규산염이 용액에 남아서 겔을 형성하기 않도록 적절하게 조절할 수 있다. 겔은, 규산염 용액의 pH가 9 아래로 떨어질 때, 일반적으로 형성된다. 이 액체의 pH는 14보다 낮은 것이 바람직하며, 더 바람직하게는 13보다 낮다. 액체의 pH가 지지체 상의 친수성 층의 접착에 영향을 주는 것으로 이해된다. 상술한 것과 같은 pH를 갖는 액체를 사용하는 것에 의해 우수한 접착력을 이끌 수 있다는 것을 발견하였다.The pH of the liquid may be higher than 9.0, preferably higher than 9.5, more preferably higher than 10.0. A particularly preferred case is when the pH is higher than 10.5. This pH can be appropriately adjusted so that the silicate remains in solution to form a gel. Gels generally form when the pH of the silicate solution drops below 9. The pH of this liquid is preferably lower than 14, more preferably lower than 13. It is understood that the pH of the liquid affects the adhesion of the hydrophilic layer on the support. It has been found that good adhesion can be brought about by using a liquid having a pH as described above.

이 액체는 그 특성을 조절하기 위해 다른 화합물들을 포함할 수 있다. 예를 들어, 이 액체는 하나 이상의 계면활성제를 포함할 수 있다. 상기 액체는 0∼1중량%의 계면활성제를 포함할 수 있다. 적절한 계면활성제 분류는 음이온 황산염 또는 설폰산염을 포함한다. 이 액체는 액체의 점도를 조절하기 위해 점도 생성제(viscosity builder)를 포함할 수 있다. 상기 액체는 0∼10중량%, 바람직하게는 0∼5중량%의 점도 생성제를 포함할 수 있다. 또한, 이 액체는, 액체를 매개로 하여 무기 미립 물질을 분산하기 위한 분산제를 포함할 수 있다. 상기 액체는 0∼2중량%의 분산제를 포함할 수 있다. 적절한 분산제는 헥사메타포스페이트 나트륨(sodium hexametaphosphate)일 수 있다.This liquid may contain other compounds to control its properties. For example, this liquid may comprise one or more surfactants. The liquid may comprise 0 to 1 weight percent surfactant. Suitable surfactant classes include anionic sulfates or sulfonates. This liquid may include a viscosity builder to adjust the viscosity of the liquid. The liquid may comprise from 0 to 10% by weight, preferably 0 to 5% by weight of viscosity generator. In addition, the liquid may include a dispersant for dispersing the inorganic particulate material through the liquid. The liquid may comprise 0 to 2 weight percent dispersant. Suitable dispersants may be sodium hexametaphosphate.

평판인쇄 플레이트의 친수성 층이, 친수성 층의 강도 및/또는 경도를 증가하기 위해, 예를 들어 열가소성 중합체와 같은 유기 중합체를 포함할 것이 제안되어 왔다. 본 발명의 방법에 사용되는 상기 액체는, 예를 들어 폴리비닐덴 플루오르 또는 이와 유사한 것과 같은 열가소성 유기 중합 물질을 바람직하게 포함하지 않는다.It has been proposed that the hydrophilic layer of a flatbed plate comprise organic polymers, for example thermoplastic polymers, in order to increase the strength and / or hardness of the hydrophilic layer. The liquid used in the process of the invention preferably does not comprise a thermoplastic organic polymeric material such as, for example, polyvinylidene fluorine or the like.

상기 액체는, 기하학성을 측정하는, 이중 갭을 삽입하는 메틀러 레오메트(Mettler Rheomat) 180 점도계를 사용하여, 20℃에서 200s^-1의 변형속도로 측정했을 때, 100센티포아즈 보다 작은 점도를 가진다. 상기 점도는, 앞서 말한 대로 측정했을 때, 50센티포아즈 보다 작은 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 30센티포아즈보다 작다. 특히 바람직한 경우는 점도가 20센티포아즈 보다 작은 경우이다.The liquid has a viscosity of less than 100 centipoise when measured at a strain rate of 200 s ⁻¹ at 20 ° C. using a Mettler Rheomat 180 viscometer inserting a double gap to measure geometry. Has When the said viscosity is measured as mentioned above, it is preferable that it is smaller than 50 centipoise, More preferably, it is smaller than 30 centipoise. A particularly preferred case is when the viscosity is smaller than 20 centipoise.

이 액체는, 바람직하게 비-전기 화학적인 어떤 적절한 수단에 의해, 상기 지지체에 도포할 수 있다.This liquid may be applied to the support, preferably by any suitable means that is non-electrochemical.

지지체의 양측면에 친수성 층을 형성하기 위해, 상기 액체를 지지체의 양측면에 도포할 수 있다. 양측 면에 이러한 층을 가진 지지체는, 양면(double-sided) 리소그래피 플레이트를 제조하기 위해 사용할 수 있다. 또 다른 방법으로서는, 만일 이러한 지지체를 단면(single-sided) 플레이트에 사용한다면, 이미지 층을 수행하지 않는 플레이트의 측면은 친수성 층에 의해 보호된다. 이 경우 액체를 지지체의 단 하나의 표면에만 도포하는 것이 바람직하다.To form a hydrophilic layer on both sides of the support, the liquid may be applied to both sides of the support. Supports having these layers on both sides can be used to make double-sided lithography plates. As another method, if such a support is used for a single-sided plate, the side of the plate that does not perform the image layer is protected by a hydrophilic layer. In this case, it is preferable to apply the liquid only to one surface of the support.

상기 액체는, 건조 후, 20㎛보다 작은 평균 두께를 가지며, 바람직하게는 10㎛보다 작은 평균 두께, 더 바람직하게는 5㎛보다 작은 평균 두께를 갖는 친수성 층을 형성하기 위해 상기 지지체에 도포할 수 있다. 특히, 바람직한 경우는 평균 두께가 3㎛보다 작은 경우이다.After drying, the liquid may be applied to the support to form a hydrophilic layer having an average thickness of less than 20 μm, preferably of an average thickness of less than 10 μm, more preferably of less than 5 μm. have. In particular, the preferable case is a case where the average thickness is smaller than 3 µm.

친수성 층의 두께는, 0.1㎛보다 두꺼울 수 있으며, 바람직하게는 0.3㎛보다 두꺼우며, 그리고 더 바람직하게는 0.5㎛보다 더 두꺼울 수 있다.The thickness of the hydrophilic layer may be thicker than 0.1 μm, preferably thicker than 0.3 μm, and more preferably thicker than 0.5 μm.

상기 미립 물질은, 이미지 층을 친수성 층 위에 도포할 때, 상기 친수성 층을 평면으로 만들고, 본 출원서에 그 내용이 언급되어 있는 영국 특허출원 2 277 282에 기술되어 있는 방법과 비슷한 방식으로, 친수성 층이 이미지 층의 표면 상에 특정되도록 배치되게, 상기 친수성 층의 형태를 바람직하게 특정한다.The particulate material, when applied to the hydrophilic layer, makes the hydrophilic layer planar and in a manner similar to that described in British Patent Application No. 2 277 282, the content of which is mentioned in this application. The shape of the hydrophilic layer is preferably specified so as to be specified on the surface of this image layer.

바람직하게 본 방법은, 액체를 지지체에 도포한 후, 액체로부터 물을 제거하기 위한 적절한 조건을 제공하는 단계를 포함한다. 적절한 조건은, 물의 수동 또는 능동 제거를 포함할 수 있으며, 지지체 위에서 기류를 일으키는 것 및/또는 지지체를 둘러싼 공기의 습도를 조절하는 것을 포함할 수 있다. 바람직하게, 이 방법은 가열된 환경에서 지지체를 배치하는 단계를 포함한다. 지지체를 온도가 230℃를 넘지 않는 환경, 바람직하게는 200℃를 넘지 않는 환경, 더 바람직하게는 175℃를 넘지 않는 환경에 배치할 수 있다. 특히 바람직한 경우는, 지지체 온도가 150℃를 넘지 않는 경우이다.Preferably the method comprises applying the liquid to the support and then providing suitable conditions for removing water from the liquid. Suitable conditions may include passive or active removal of water, and may include generating airflow over the support and / or adjusting the humidity of the air surrounding the support. Preferably, the method comprises placing the support in a heated environment. The support may be placed in an environment where the temperature does not exceed 230 ° C, preferably in an environment that does not exceed 200 ° C, more preferably in an environment that does not exceed 175 ° C. Especially preferable case is a case where the support body temperature does not exceed 150 degreeC.

이 지지체는 가열된 환경에서 180초 보다 짧은 시간, 바람직하게는 120초 보다 짧은 시간, 더 바람직하게는 100초 보다 짧은 시간 동안 배치할 수 있다.The support may be placed in a heated environment for a time shorter than 180 seconds, preferably shorter than 120 seconds, more preferably shorter than 100 seconds.

이 지지체는 알루미늄 또는 합금을 포함할 수 있다. 이 경우, 지지체를 상술한 바와 같이 온도가 230℃ 보다 낮은 환경에 배치하는 것이 이롭다는 것이 밝혀졌다. 왜냐하면, 이 온도에서는 지지체의 서냉이 충분하지 않으며, 그래서 지지체의 장력 강도가 수용할 만한 수준에서 유지되기 때문이다. 보다 상세하게는, 알루미늄의 장력 강도는, 혼스필드(Hounsfield) 장력 테스팅 기기를 사용하여 적절하게 측정할 때, 적어도 100MPa, 바람직하게는 적어도 110MPa, 더 바람직하게는 적어도 120MPa일 수 있다. 특히 바람직한 경우는 장력 강도가 적어도 140MPa인 경우이다.This support may comprise aluminum or an alloy. In this case, it has been found to be advantageous to arrange the support in an environment where the temperature is lower than 230 ° C as described above. This is because, at this temperature, the slow cooling of the support is not sufficient, so that the tensile strength of the support is maintained at an acceptable level. More specifically, the tensile strength of aluminum may be at least 100 MPa, preferably at least 110 MPa, more preferably at least 120 MPa, as appropriately measured using a Hounsfield tension testing instrument. A particularly preferred case is when the tensile strength is at least 140 MPa.

또한, 상술한 액체는, 이 액체가 짧은 시간동안 비교적 낮은 온도에서만 경화될 필요가 있다는 사실에서 볼 때, 지지체 상에 친수성 층을 제공하기 위해, 예를 들어 폴리에스테르와 같은 플라스틱 지지체에 도포할 수 있다는 이점이 있다. 이 점을 고려해볼 때, 오랜 기간 동안 비교적 고온에서 경화하는 것이, 다른 점에서는, 플라스틱 물질의 특성에 나쁜 영향을 줄 수 있다.In addition, the above-mentioned liquid can be applied to a plastic support such as polyester, for example, in order to provide a hydrophilic layer on the support in view of the fact that the liquid needs to be cured only at relatively low temperatures for a short time. There is an advantage. In view of this, curing at relatively high temperatures for long periods of time can adversely affect the properties of the plastic material.

지지체에 도포한 액체로부터 물을 제거하는 것이, 규산염이 중합되게 하고, 무기 미립 물질이 적당한 위치에 결합되게 하는 것으로 여겨진다.It is believed that removing water from the liquid applied to the support causes the silicate to polymerize and the inorganic particulate material to bind to the appropriate position.

그래서, 본 발명에 따른 방법의 한 장점은, 비교적 넓은 범위의 지지체 물질을 사용할 수 있다는데 있다고 할 수 있다. 예를 들어, 지지체 물질을 알루미늄 또는 합금을 사용하는 경우에는, 주로 리소그래피 플레이트용으로 사용되는 금속의 등급에 비해서 비교적 낮은 등급의 금속을 사용할 수 있다. 부가적 및/또는 변형적으로, 예를 들어 현상액 화합물과 같은 것에 더 저항적인 금속도 사용할 수 있다. 또한, 이 방법을, 예를 들어 다른 금속, 페이퍼로 코팅된 얇은 금속조각 및 플라스틱과 같은 다른 형태의 지지체에, 친수성 층을 도포하기 위해 사용할 수 있다.Thus, one advantage of the method according to the invention is that it is possible to use a relatively wide range of support materials. For example, when the support material uses aluminum or an alloy, it is possible to use metals of relatively lower grades than the grades of metals used primarily for lithographic plates. Additionally and / or alternatively, metals which are more resistant to, for example, developer compounds, may also be used. This method can also be used to apply the hydrophilic layer to other forms of support such as, for example, other metals, thin metal pieces coated with paper, and plastics.

지지체 물질은, 상기 친수성 층을 도포하기 전에, 전 처리할 수 있다. 지지체 물질이 알루미늄 또는 알루미늄 합금인 경우에는, 예를 들어 가성 에칭 클리닝, 산 클리닝, 브러시 그레이(brush graining), 기계적 그레인, 슬러리 그레인, 샌드 블라스팅, 연마 클리닝, 일렉트로 클리닝, 용매 디그리싱(sovent degreasing), 초음파 클리닝, 알칼리 비-에칭 클리닝, 프라이머 코팅, 그리트/셧 블라스팅(grit/shot blasting) 및 일렉트로 그레인과 같은, 알루미늄 표면 처리에 사용되는 하나 이상의 종래의 방법에 의해 전 처리할 수 있다. 이러한 방법들에 대한 상세한 설명은 다음: Finishing 출판사, ASM 인터내셔널에 의해 출판된, S. Wernick, R. Pinner and P. G. Sheasby 에 의한, "알루미늄 및 그 합금의 표면 처리 및 마감" 5판(1987)에 기재되어 있다.The support material may be pretreated before applying the hydrophilic layer. If the support material is aluminum or an aluminum alloy, for example caustic etch cleaning, acid cleaning, brush graining, mechanical grain, slurry grain, sand blasting, abrasive cleaning, electrocleaning, solvent degreasing Pretreatment by one or more conventional methods used for aluminum surface treatment, such as ultrasonic cleaning, alkali non-etching cleaning, primer coating, grit / shot blasting and electrograining. A detailed description of these methods can be found in the fifth edition (1987) of "Surface Treatment and Finishing of Aluminum and Its Alloys" by S. Wernick, R. Pinner and PG Sheasby, published by Finishing Publishing, ASM International. It is described.

지지체 물질을 전 처리하는 경우, 바람직한 전 처리는, 예를 들어 클리닝, 그레인, 또는 이와 비슷한 방법과 같은, 지지체 물질의 표면 특성을 조절하는 것을 포함한다. 그러나, 만일 지지체 코팅을 지지체의 표면 상에서 실시하면, 이 코팅을 액체와 같이 실시하는 것이 바람직하다.When pretreating the support material, preferred pretreatment includes adjusting the surface properties of the support material, such as, for example, cleaning, grain, or similar methods. However, if the support coating is carried out on the surface of the support, it is preferable to carry out this coating like a liquid.

바람직하게, 상술한 바와 같이 규산염 용액을 포함하는 상기 액체를, 상기 지지체 상에서 실질적으로 건조한 표면에 도포한다.Preferably, the liquid comprising a silicate solution as described above is applied to a substantially dry surface on the support.

바람직하게, 상기 액체를 상기 지지체의 상기 지지체 물질 위에 직접 도포한다.Preferably, the liquid is applied directly onto the support material of the support.

바람직하게, 지지체 물질은, 상기 액체와 접촉하기 전에, 클리닝 및/또는 에칭한다. 클리닝 및/또는 에칭은, 예를 들어 수산화 나트륨과 같은 알칼리 액체를, 선택적으로 글루코네이트 나트륨 및/또는 소비톨과 같은 첨가물과 함께 사용하여 행할 수 있다.Preferably, the support material is cleaned and / or etched before contacting the liquid. Cleaning and / or etching can be done, for example, using an alkaline liquid such as sodium hydroxide, optionally with additives such as sodium gluconate and / or sorbitol.

또한, 이 지지체 물질은, 질산을 적절하게 사용하여, 오염 방지 처리를 행할 수 있다. 이 처리 후에, 지지체를 상기 액체와 접촉하기 전에, 세척 및/또는 건조한다.In addition, this support material can perform a pollution prevention process, using nitric acid suitably. After this treatment, the support is washed and / or dried before contacting the liquid.

기판을 제조하는 방법은, 상기 친수성 층이 이미지 층과 양립할 수 있도록, 황산알루미늄으로 친수성 층의 표면을 접촉하는 것에 의해, 상기 지지체 위에 형성된 친수성 층의 표면의 pH를 조절하는 단계를 바람직하게 포함한다.The method of making a substrate preferably comprises adjusting the pH of the surface of the hydrophilic layer formed on the support by contacting the surface of the hydrophilic layer with aluminum sulfate such that the hydrophilic layer is compatible with the image layer. do.

이 방법은, 이미지 층을 상기 친수성 층 위에 적절하고 직접적으로 만들어서, 친수성 층이 이미지 층과 지지체 사이에 위치하도록 하는 단계를 바람직하게 포함한다.The method preferably includes making the image layer appropriately and directly on the hydrophilic layer, such that the hydrophilic layer is positioned between the image layer and the support.

이 "이미지 층(image layer)"이라는 용어는, 인쇄될 영역을 한정하기 위해 이어서 부분적으로 제거될 수 있는 층을 포함하고, 인쇄될 영역을 이미 한정한 층을 포함한다.The term "image layer" includes a layer that can then be partially removed to define the area to be printed, and includes a layer that already defines the area to be printed.

이 이미지 층을 상기 친수성 층의 전면에 걸쳐서 제공할 수 있다. 이것은 양화 또는 음화 플레이트를 형성하기 위해 배치되는 알려진 감광성 물질을 포함할 수 있다. 감광성 물질의 예로서는, 디아조늄/디아지드물, 해중합 또는 부가적인 광중합이 행해지는 중합체 및, 은 할로겐화물 겔라틴 조성물이 있다. 적절한 물질의 예들이, GB 1 592 281, GB 2 031 442, GB 2 069 164, GB 2 080 964, GB 2 109 573, EP 0 377 589, US 4 268 609 및 US 4 567 131에 기재되어 있다. 바람직한 감광지 물질은 퀴논 디아지드물이다.This image layer can be provided over the entire surface of the hydrophilic layer. This may include known photosensitive materials disposed to form positive or negative plates. Examples of photosensitive materials include diazonium / diazides, polymers undergoing depolymerization or additional photopolymerization, and silver halide gelatin compositions. Examples of suitable materials are described in GB 1 592 281, GB 2 031 442, GB 2 069 164, GB 2 080 964, GB 2 109 573, EP 0 377 589, US 4 268 609 and US 4 567 131. Preferred photosensitive paper material is quinone diazide.

또 다른 방법으로는, 평판인쇄에 사용하기 위한 소망하는 이미지 형태의 상기 이미지 층을, 잉크 젯 또는 레이저 제거 전송(laser ablation transfer)과 같은 도포 방법에 의해, 상기 친수성 층 위에 도포할 수 있다. 레이저 제거 전송에 관한 예가 US 5 171 650에 기재되어 있다.Alternatively, the image layer in the form of a desired image for use in plate printing can be applied onto the hydrophilic layer by an application method such as ink jet or laser ablation transfer. An example of laser ablation transmission is described in US Pat. No. 5,171,650.

친수성 층의 미립 물질에 의해 친수성 층의 형태가 형성되기 때문에, 그 형태를 층의 표면 상에 특정하기 위해, 상기 이미지 층을 친수성 층 위에 바람직하게 배치한다. 감광지 층과 마스크 사이의 채널을 한정하도록, 이 형태를 적절하게 배치할 수 있으며, 그래서 인쇄 플레이트의 노출 전에 층 위에서의 마스크의 축소 시간(draw-down time)을 줄일 수 있도록, 상기 층과 마스크 사이로부터 공기를 뺄 수 있다.Since the shape of the hydrophilic layer is formed by the particulate material of the hydrophilic layer, the image layer is preferably disposed above the hydrophilic layer in order to specify the shape on the surface of the layer. This form can be appropriately positioned to define the channel between the photosensitive paper layer and the mask, so that the draw-down time of the mask on the layer before exposure of the printing plate can be reduced, between the layer and the mask. Air can be evacuated from

본 발명은, 상술한 방법에 의해 제조할 수 있는 일종의 평판인쇄용 기판에 까지 그 범위가 확장된다.The scope of the present invention extends to a kind of flat board substrate that can be produced by the above-described method.

본 방법에 따라 제조한 기판이, 이 지지체에 잘 접착하는 친수성 층을 포함한다는 것을 발견하였다. 지지체가 알루미늄 또는 합금인 경우에는, 이것은 지지체의 표면상에서 규산 알루미늄이 형성(또는 적어도 규산 알루미노 결합)되기 때문이라고 여겨진다. 그래서, 본 발명은, 지지체와 이 지지체 위의 친수성 층 사이에 화학결합이 형성되는 기판을 적절하게 제공한다. 또한, 이것을 인쇄에 이용할 때, 기판이 종래의 일렉트로 그레인 및 애노드 처리된 기질과 유사한 웨어(wear) 저항을 가진다는 것을 발견하였다.It was found that the substrate prepared according to the present method comprises a hydrophilic layer that adheres well to this support. If the support is aluminum or alloy, this is considered to be because aluminum silicate is formed (or at least alumina silicate bond) on the surface of the support. Thus, the present invention suitably provides a substrate on which chemical bonds are formed between a support and a hydrophilic layer on the support. It has also been found that when used for printing, the substrate has a wear resistance similar to conventional electrograined and anodized substrates.

바람직하게, 평판인쇄 플레이트용 기판은, 지지체 및, 규산염 용액으로부터 유도되거나 또는 유도 가능한 바인더 물질(binder material)과 미립 물질을 포함하는 친수성 층을 포함한다.Preferably, the substrate for a plate printing plate comprises a support and a hydrophilic layer comprising a binder material and a particulate material derived or derivable from a silicate solution.

상기 규산염 용액은 상술한 것이어도 무방하다.The silicate solution may be the one described above.

상술한 형태의 규산염 용액으로부터 유도된 상기 바인더 물질은, 음전하를 가지는 극단적으로 작은 3차원 규산염 중합체 이온을 포함한다. 상술한 바와 같은 시스템에서 물을 제거하는 것은, -Si-O-Si-반족을 포함하는 중합체 구조를 형성하기 위해, 실라놀 기의 응축을 일으킨다. 따라서, 본 발명은 지지체 및, 미립 물질이 배치된 -Si-O-Si-반족을 포함하는 중합체 구조로 이루어져 있는 바인더 물질을 포함하는 친수성 층으로 이루어져 있는 일종의 평판인쇄용 기질에 까지 그 범위가 확장된다.The binder material derived from the silicate solution of the type described above comprises an extremely small three-dimensional silicate polymer ion with a negative charge. Removing water in a system as described above causes the condensation of silanol groups to form a polymer structure comprising -Si-O-Si-groups. Accordingly, the present invention extends to a kind of flat printing substrate composed of a hydrophilic layer comprising a support material and a binder material composed of a polymer structure comprising a -Si-O-Si-group in which fine particles are disposed. .

상기 미립 물질은 상술한 어떤한 것이어도 무방하다.The particulate matter may be any of those described above.

바람직하게, 상기 친수성 층의 30∼80중량%, 더 바람직하게 40∼70중량%가 상기 미립 물질로 구성되어 있다.Preferably, 30 to 80% by weight of the hydrophilic layer, more preferably 40 to 70% by weight, consists of the particulate material.

상기 미립 물질은 상술한 것과 같은 제 1물질을 포함하는 것이 바람직하다.The particulate material preferably comprises a first material as described above.

상기 제 1물질은 8 변형 모스(0∼15의 크기)보다 큰 경도, 바람직하게는 9변형 모스보다 큰 경도, 더 바람직하게는 10변형모스 보다 큰 경도를 갖는다.The first material has a hardness greater than 8 strain Mohs (size of 0 to 15), preferably a hardness greater than 9 strain Moss, more preferably a hardness greater than 10 strain Moss.

친수성 층에서 상기 제 1물질은, 상기 액체에서 제 1물질에 대해 상술한 것과 같은 평균 입자 크기 및/또는 입자 크기 분포를 갖는다.The first material in the hydrophilic layer has an average particle size and / or particle size distribution as described above for the first material in the liquid.

상기 기질 상에서의 미립 물질은, 적어도 20중량%, 바람직하게는 적어도 30중량%, 더 바람직하게는 적어도 40중량%의 제 1물질을 포함할 수 있다.The particulate material on the substrate may comprise at least 20% by weight, preferably at least 30% by weight, more preferably at least 40% by weight of the first material.

미립 물질은 상술한 것과 같은 제 2물질을 포함하는 것이 바람직하다.The particulate material preferably comprises a second material as described above.

친수성 층에서 상기 제 2물질은, 상기 액체에서 제 2물질에 대해 상술한 대로의 평균 입자 크기 및/또는 입자 크기 분포를 가질 수 있다.The second material in the hydrophilic layer may have an average particle size and / or particle size distribution as described above for the second material in the liquid.

상기 기질 상에서의 미립 물질은, 적어도 20중량%, 바람직하게 적어도 30중량%, 더 바람직하게 적어도 40중량%의 제 2물질을 포함할 수 있다.The particulate material on the substrate may comprise at least 20% by weight, preferably at least 30% by weight, more preferably at least 40% by weight of the second material.

상기 층에서, 제 2물질의 중량%에 대한 제 1물질의 중량%의 비율은, 0.5∼2의 범위, 바람직하게는 0.75∼1.5의 범위, 더 바람직하게는 약 1대 1의 범위이다.In the layer, the ratio of the weight percent of the first substance to the weight percent of the second substance is in the range of 0.5 to 2, preferably in the range of 0.75 to 1.5, more preferably in the range of about one to one.

상기 미립 물질은 상술한 것과 같은 제 3물질을 포함할 수 있다.The particulate material may comprise a third material as described above.

상기 친수성 층은, 예를 들어 폴리비닐덴 플루오르화물 또는 이와 비슷한 것과 같은 열가소성 유기 중합물을 바람직하게 포함하지 않는다.The hydrophilic layer preferably does not comprise a thermoplastic organic polymer such as, for example, polyvinylidene fluoride or the like.

상기 친수성 층은, 20㎛ 보다 얇은 평균 두께를 갖는 것이 바람직하며, 바람직하게는 10㎛보다 얇은, 더 바람직하게는 5㎛보다 얇은 평균 두께를 가진다.The hydrophilic layer preferably has an average thickness thinner than 20 μm, preferably thinner than 10 μm, more preferably thinner than 5 μm.

친수성 층은, 0.1㎛보다 두꺼운 평균 두께를 갖는 것이 바람직하며, 바람직하게는 0.3㎛보다 두꺼운, 더 바람직하게는 0.5㎛보다 두꺼운 두께를 갖는다.It is preferable that the hydrophilic layer has an average thickness thicker than 0.1 mu m, preferably thicker than 0.3 mu m, more preferably thicker than 0.5 mu m.

친수성 층은, LV-50 측정 헤드를 가진 스타일러스 측정 도구[홈멜메터(Hommelmeter) T2000]을 사용하여 측정된, 0.1∼2㎛범위의 라듐, 적절하게는 0.2∼2㎛의 범위, 바람직하게 0.2∼1㎛의 범위, 더 바람직하게 0.3∼0.8㎛의 범위, 특히 0.4∼0.8㎛의 범위의 라듐을 가질 수 있다.The hydrophilic layer has a radium in the range of 0.1 to 2 μm, suitably in the range of 0.2 to 2 μm, preferably 0.2 to 2 μm, measured using a stylus measuring tool (Hommelmeter T2000) with an LV-50 measuring head. Radium in the range of 1 μm, more preferably in the range of 0.3 to 0.8 μm, in particular in the range of 0.4 to 0.8 μm.

친수성 층은, 기판의 평방 미터당 1∼20g의 물질을 포함할 수 있다. 바람직하게 상기 층은, 기판의 평방 미터 당 5∼15g, 더 바람직하게는 8∼12g의 물질을 포함한다. 더 바람직하게 상기 층은 평방 미터 당 약 10g의 물질을 포함한다.The hydrophilic layer can comprise 1 to 20 g of material per square meter of substrate. Preferably the layer comprises 5 to 15 g, more preferably 8 to 12 g of material per square meter of the substrate. More preferably the layer comprises about 10 g of material per square meter.

상기 지지체는 종래에 일종의 인쇄용으로 사용되는 어떤 형태의 지지체를 포함할 수 있다. 예를 들어, 이것은 알루미늄, 스틸, 주석 또는 이것들의 합금; 알루미늄 조각과 같은 금속으로 코팅된 종이; 폴리에스테르와 같은 플라스틱 물질; 또는 금속으로 코팅된 플라스틱 물질과 같은 금속을 포함할 수 있다. 바람직하게 지지체는 알루미늄 또는 합금이다.The support may include any type of support conventionally used for some type of printing. For example, it may be aluminum, steel, tin or alloys thereof; Paper coated with a metal such as a piece of aluminum; Plastic materials such as polyesters; Or a metal such as a plastic material coated with a metal. Preferably the support is aluminum or alloy.

본 발명의 방법을, 친수성 층의 경화 동안, 금속의 서냉을 삭제/제거하여서 알루미늄의 장력 강도를 최적으로 하기 위해 사용할 수 있다. 그래서, 본 발명의 지지체는, 적어도 100MPa, 바람직하게는 적어도 110MPa, 더 바람직하게는 적어도 120MPa의 장력 강도를 갖는다. 특별히 바람직한 경우는, 장력 강도가 적어도 140MPa인 경우이다.The method of the present invention can be used to optimize the tensile strength of aluminum by eliminating / removing the slow cooling of the metal during curing of the hydrophilic layer. Thus, the support of the present invention has a tensile strength of at least 100 MPa, preferably at least 110 MPa, more preferably at least 120 MPa. A particularly preferable case is a case where the tensile strength is at least 140 MPa.

또한, 본 발명의 방법은, 지지체 제조 동안, 지지체의 변형을 최소화할 수 있다. 예를 들어, 알루미늄 지지체 위에 상술한 방법을 사용하면, 최대 파동 높이를 단지 약 2㎜로 할 수 있으며, 미터 당 최대 파동 수를 3으로 할 수 있다.In addition, the method of the present invention can minimize deformation of the support during the preparation of the support. For example, using the method described above on an aluminum support, the maximum wave height can only be about 2 mm and the maximum number of waves per meter can be three.

본 발명은 상술한 것과 같은 기판 및 이 기판의 친수성 층 위의 이미지 층을 포함하는 일종의 평판인쇄로까지 그 범위를 확장한다.The present invention extends its scope to a kind of flatbed furnace comprising a substrate as described above and an image layer on a hydrophilic layer of the substrate.

바람직하게, 친수성 층에서 미립 물질을 지지체의 표면과 이미지 층 사이에 배치하여서, 이 층 아래의 미립 물질의 결과로서, 그 형태를 이미지 층의 표면 위에 제공한다.Preferably, the particulate material in the hydrophilic layer is disposed between the surface of the support and the image layer to provide its shape over the surface of the image layer as a result of the particulate material under this layer.

상기 이미지 층은, 바람직하게는 퀴논 디아지드물인, 감광지물을 포함하는 것이 바람직하다.It is preferable that the said image layer contains the photosensitive paper, Preferably it is a quinone diazide thing.

상술한 본 발명의 한 특징은 상술한 본 발명의 다른 특징과 혼합될 수 있다.One feature of the invention described above may be combined with another feature of the invention described above.

본 발명을 다음의 실시예에 의해 설명하기로 한다.The invention is illustrated by the following examples.

리소그래피 인쇄 플레이트의 제조Preparation of Lithographic Printing Plates

실시예 1Example 1

단계 1Step 1

알루미늄의 제조Manufacture of aluminum

명칭이 AA1050인 0.3㎜ 규격의 알루미늄 합금 조각을, 그레인 런닝 랭그스웨이(grain running lengthway)로, 230㎜에 350㎜의 크기로 절단하였다. 그리고 나서, 이 조각을, 60초 동안 대기 온도에서, 표면을 위로 하여 증류수에 용해된 수산화 나트륨 용액(100g/ℓ)에 담그고, 그리고 물로 충분히 세척하였다.A 0.3 mm standard aluminum alloy piece named AA1050 was cut to a size of 230 mm to 350 mm in a grain running lengthway. This piece was then immersed in sodium hydroxide solution (100 g / l) dissolved in distilled water, with the surface up, at ambient temperature for 60 seconds and washed thoroughly with water.

단계 2Step 2

코팅 조성물의 제조Preparation of Coating Composition

다음의 시약:The following reagents:

- SiO₂: Na₂O의 비율이 3.17∼3.45(평균적으로는 약 3.3)의 범위이며; 물로 발란스를 맞추어서, 27.1∼28.1중량%의 SiO₂, 8.4∼8.8중량%의 Na₂O의 조성을 가지며; 39.5 보메(。Be')와 동일한, 약 75Twaddel(。Tw) 밀도 및 1.375의 특정 중력을 가지는 규산나트륨 용액,The ratio SiO ₂ : Na ₂ O ranges from 3.17 to 3.45 (on average about 3.3); Balanced in water, having a composition of 27.1 to 28.1 wt% SiO ₂ , 8.4 to 8.8 wt% Na ₂ O; Sodium silicate solution having a density of about 75 Twaddel (。Tw) and a specific gravity of 1.375, equal to 39.5 BOME;

- 5Mohm.㎝의 저항을 가지는 탈이온수,-Deionized water with a resistance of 5 Mohm.cm,

- 평균 입자 크기가 3㎛이며, 9모스(0-10 경도 크기) 경도를 갖는, 6각형 판 형태인 알루미나(99.6%)를 포함하는 Al₂O₃파우더,Al ₂ O ₃ powder comprising alumina (99.6%) in the form of a hexagonal plate, having an average particle size of 3 μm and having a hardness of 9 moss (0-10 hardness size),

- 평균 결정 크기가 0.23㎛인, Al₂O₃, ZnO 및 ZnPO₄로 무기 코팅한 루틸 티타늄 디옥사이드를 제조에 사용하였다.Rutile titanium dioxide inorganic coated with Al ₂ O ₃ , ZnO and ZnPO ₄ with an average crystal size of 0.23 μm was used for the preparation.

탈이온수(48g; 24중량%) 및 규산나트륨 용액(80g; 40중량%)을 250㎖ 베이커에 첨가하고, 최대 속도에서, 실버선 하이 쉐어 믹서(Silverson high shear mixer)를 사용하여 변형하였다. 그리고 나서, 티타늄 디옥사이드 파우더(36g; 18중량%)를 10초당 2g씩 적절한 위치에 첨가하였다. 이것을 모두 첨가한 후, 액체를 2분 동안 더 변형하였다. 그리고 나서, 알루미나 파우더(36g; 18중량%)를 10초당 2g씩 적절한 위치에 첨가하였다. 이것을 모두 첨가한 후, 액체를 2분 동안 더 변형하였다. 이 액체의 점도를, 기학학성을 측정하는 이중 갭을 삽입하는 메틀러 레오메트(Mettler Rheomat) 180 점도계를 사용하여, 20℃에서 200s^-1의 변형속도로 측정할 때, 약 10센티포아즈인 것을 발견하였다.Deionized water (48 g; 24 wt%) and sodium silicate solution (80 g; 40 wt%) were added to a 250 ml baker and transformed using a Silverwire high shear mixer at maximum speed. Titanium dioxide powder (36 g; 18 wt%) was then added at the appropriate position, 2 g per 10 seconds. After all of this was added, the liquid was further modified for 2 minutes. Then, alumina powder (36 g; 18 wt%) was added at an appropriate position by 2 g per 10 seconds. After all of this was added, the liquid was further modified for 2 minutes. The viscosity of this liquid is about 10 centipoise when measured at a strain rate of 200 s ⁻¹ at 20 ° C. using a Mettler Rheomat 180 viscometer inserting a double gap to measure the geometry. I found that.

단계 3Step 3

코팅 조성물의 도포Application of the coating composition

단계 2에서 제조한 코팅 조성물을, 로테이팅 메이어 바 코터(rotating Meyer bar coater)(K303)를 사용하여, 단계 1에서 제조한 알루미늄 시트 위에 코팅하여서, 6㎛두께의 젖은 막을 형성하였다.The coating composition prepared in step 2 was coated onto the aluminum sheet prepared in step 1 using a rotating meyer bar coater (K303) to form a wet film having a thickness of 6 μm.

단계 4Step 4

조성물의 건조Drying of the composition

단계 3에서 제조한 코팅 시트를 80초 동안 130℃의 오븐에 놓아두었다. 그리고 나서, 오븐에서 플레이트를 제거하고, 대기 온도에서 냉각하였다.The coating sheet prepared in step 3 was placed in an oven at 130 ° C. for 80 seconds. The plate was then removed from the oven and cooled to ambient temperature.

단계 5Step 5

후-건조 처리Post-drying treatment

단계 4에서 제조한 건조 시트를 황산알루미늄(0.1M)에 30초 동안 담가 두었다. 그리고 나서, 수돗물을 사용하여 약 20초 동안 시트를 스프레이 세척하고, 팬 건조하였다.The dry sheet prepared in step 4 was immersed in aluminum sulfate (0.1M) for 30 seconds. The sheet was then spray washed using tap water for about 20 seconds and pan dried.

단계 6Step 6

감광성 코팅의 도포Application of the photosensitive coating

메이어 바(Meyer bar)를 사용하여, 퀴논 디아지드/노볼락 수지형의 감광성 물질을, 건조 코팅 중량 2g/㎡로 코팅하는 것에 의해, 단계 5에서 제조한 시트로부터 인쇄 플레이트를 생성하였다. 그리고 이 감광성 물질을 80초 동안 130℃에서 건조하였다.Using a Meyer bar, a printing plate was produced from the sheet prepared in Step 5 by coating a quinone diazide / novolak resin type photosensitive material with a dry coating weight of 2 g / m 2. This photosensitive material was then dried at 130 ° C. for 80 seconds.

단계 6에서 제조한 인쇄 플레이트가 시중의 인쇄 플레이트와 비슷한 성능을 가진다는 것을 발견하였다. 그러나, 이것은 저가로 생산할 수 있다는 장점을 가진다.It was found that the printing plate prepared in step 6 had a performance similar to that of commercial printing plates. However, this has the advantage that it can be produced at low cost.

실시예 2Example 2

단계 2에서 다른 코팅 조성물을 사용한 점을 제외하고는, 실시예 1의 과정을 일반적으로 따랐다. 다음의 구성성분을, 주어진 순서대로, 탈이온수(40중량%)에 첨가하여서 제조물을 제조하였다. 각각을 첨가한 후에, 이 조성물을 고속 변형 믹싱(high shear mixing)하였다.The procedure of Example 1 was generally followed except that a different coating composition was used in step 2. The following components were added to deionized water (40% by weight) in the given order to prepare a preparation. After each addition, the composition was subjected to high shear mixing.

구성성분Ingredient 중량%weight% 홈비탄 LW(Hombitan LW)(상표명)-아나타즈(anatase) TiO₂(0.2㎛의 평균 초기 입자 크기 )Hombitan LW (trade name) -Anatase TiO ₂ (average initial particle size of 0.2 μm) 14.214.2 알루미늄 파우더용 마이크로그리트 C3(Microgrit C3)(상표명)(3㎛의 평균 초기 입자 크기)Microgrit C3 (trade name) for aluminum powder (average initial particle size of 3 μm) 14.214.2 실시예 1과 같은 규산나트륨 용액Sodium silicate solution as in Example 1 31.231.2

제조한 인쇄 플레이트가 실시예 1에서 제조한 플레이트와 비슷한 기능을 가지는 것을 발견하였다.It was found that the prepared printing plate had a function similar to that of the plate prepared in Example 1.

실시예 3Example 3

다음의 구성성분들을, 주어진 순서대로, 단계 2에 혼합하는 것을 제외하고는 실시예 2의 과정을 반복하였다.The procedure of Example 2 was repeated except that the following ingredients were mixed in step 2 in the order given.

구성성분Ingredient 중량%weight% 탈이온수Deionized water 21.5121.51 실시예 2와 같은 홈비탄 LW(상표명)Homobital LW (trade name) as in Example 2 14.1514.15 실시예 2와 같은 알루미나 파우더Alumina powder as in Example 2 14.1514.15 폴리규산나트륨 용액-SiO₂: Na₂O의 비율이 5.2:1이며, 22.78% 고형체를 포함Sodium polysilicate solution-SiO ₂ : Na ₂ O ratio is 5.2: 1 and contains 22.78% solids 50.1950.19

제조한 인쇄 플레이트가 실시예 1에서 제조한 플레이트와 비슷한 기능을 가지는 것을 발견하였다.It was found that the prepared printing plate had a function similar to that of the plate prepared in Example 1.

실시예 4Example 4

다음의 구성성분들을 주어진 순서대로 단계 2에 혼합하는 것을 제외하고는 실시예 2의 과정을 반복하였다.The procedure of Example 2 was repeated except that the following ingredients were mixed in step 2 in the order given.

구성성분Ingredient 중량%weight% 탈이온수Deionized water 33.2933.29 실시예 2와 같은 홈비탄 LW(상표명)Homobital LW (trade name) as in Example 2 11.8311.83 실시예 2와 같은 알루미나 파우더Alumina powder as in Example 2 11.8311.83 7㎚의 평균입자크기를 가지는 콜로이드 실리카인 빈드질15/500(Bindzil 15/500)(상표명)Bindil 15/500 (Bindzil 15/500), a colloidal silica with an average particle size of 7 nm 1.11.1 실시예 3과 같은 폴리규산나트륨Sodium polysilicate as in Example 3 41.9541.95

제조한 인쇄 플레이트가, 친수성 층의 가벼운 염색 얼룩을 제외하고는, 실시예 1에서 제조한 플레이트와 비슷한 기능을 가지는 것을 발견하였다.It was found that the print plate produced had a function similar to the plate prepared in Example 1 except for light staining of the hydrophilic layer.

실시예 5Example 5

다음의 구성성분들을 주어진 순서대로 단계 2에 혼합하는 것을 제외하고는 실시예 2의 과정을 반복하였다.The procedure of Example 2 was repeated except that the following ingredients were mixed in step 2 in the order given.

구성성분Ingredient 중량%weight% 탈이온수Deionized water 4040 실시예 2와 같은 홈비탄 LW(상표명)Homobital LW (trade name) as in Example 2 14.2314.23 실시예 2와 같은 알루미나 파우더Alumina powder as in Example 2 13.2313.23 패버티 748(Fabutit 748)(상표명)-알루미늄 포스페이트Fabertit 748 (trade name) -Aluminum Phosphate 1.01.0 실시예 1에 따른 규산나트륨Sodium Silicate According to Example 1 31.531.5

제조한 인쇄 플레이트가 실시예 1에서 제조한 플레이트와 비슷한 성능을 가지는 것을 발견하였다.It was found that the printed plate produced had similar performance as the plate prepared in Example 1.

독자들은, 본 명세서와 관련된 현재 또는 본 명세서 이전에 출원되고, 본 명세서와 함께 공중에 공개될 모든 문서 및 자료에 주의를 하고 있으며, 모든 그러한 문서 및 자료들의 내용은 본 명세서에 언급되어 있다.The reader pays attention to all documents and materials that have been filed before or before this specification, and which are to be published to the public with this specification, the contents of all such documents and materials being referred to herein.

본 명세서(청구범위, 요약서 및 도면을 포함)에 기재된 모든 특징들 및/또는 기재된 어떤 방법 또는 과정의 모든 단계들은, 상기 특징들 및/또는 단계들의 조합 중 적어도 일부가 서로 배타적인 것을 제외하고는, 어떠한 조합으로도 조합할 수 있다.All features described in this specification (including claims, abstracts and drawings) and / or all steps of any method or process described are exempt except that at least some of the combinations of the features and / or steps are mutually exclusive. Can be combined in any combination.

본 명세서(청구범위, 요약서 및 도면을 포함)에 기재되어 있는 각 특징은, 일부러 다른 상태로 나타내지 않는 한, 동일, 동등 또는 유사한 목적을 수행하는 변형적인 특징에 의해 대처할 수 있다. 그래서, 일부러 다른 상태로 나타내지 않는 한, 기재되어 있는 각 특징은 동등 또는 유사 특징의 총체적인 시리즈의 단 하나의 예일 뿐이다.Each feature described in this specification (including claims, abstracts, and drawings) may be coped with by variations that serve the same, equivalent, or similar purpose, unless expressly indicated otherwise. Thus, each feature described is only one example of an overall series of equivalent or similar features, unless expressly indicated otherwise.

본 발명은 상술한 실시예(들)의 세부사항을 제한하지 않는다. 본 발명은 본 명세서(청구범위, 요약서 및 도면을 포함)에 기재되어 있는 특징들의 새로운 특징 또는 어떤 새로운 조합, 또는 어떤 방법 또는 과정의 단계들의 새로운 방법 또는 그것들의 새로운 조합에까지 범위가 미친다.The invention does not limit the details of the above-described embodiment (s). The invention extends to a new feature or any new combination of features described in this specification (including claims, abstracts and drawings), or a new method or a new combination of steps of a method or process.

Claims (22)

미립 물질이 분산된 규산염 용액을 포함하는 액체로 지지체를 접촉하는 것에 의해, 상기 지지체 상에 친수성 층을 형성하는 단계를 포함하는 일종의 평판인쇄용 기판을 제조하는 방법.Forming a hydrophilic layer on the support by contacting the support with a liquid comprising a silicate solution in which particulate matter is dispersed. 제 1항에 있어서, 상기 규산염 용액이, 카티온 종의 몰수에 대해 Si종의 몰수의 비율이 0.25∼약 6의 범위에 있는 규산염으로 형성되는 것을 특징으로 하는 일종의 평판인쇄용 기판을 제조하는 방법.The method of claim 1, wherein the silicate solution is formed of a silicate having a ratio of the number of moles of Si species to the number of moles of cation species in the range of 0.25 to about 6. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 규산염 용액이 알칼리금속 규산염인 것을 특징으로 하는 일종의 평판인쇄용 기판을 제조하는 방법.The method of manufacturing a substrate for printing a flat plate according to claim 1 or 2, wherein the silicate solution is an alkali metal silicate. 제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 액체에서 미립 물질의 중량에 대한 규산염의 중량비가 0.1∼2의 범위에 있는 것을 특징으로 하는 일종의 평판인쇄용 기판을 제조하는 방법.The method for manufacturing a kind of flat plate substrate according to any one of claims 1 to 3, wherein the weight ratio of silicate to the weight of the particulate matter in the liquid is in the range of 0.1 to 2. 제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 미립 물질이 8변형 모스(0∼15의 크기) 보다 큰 경도를 갖는 제 1물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 일종의 평판인쇄용 기판을 제조하는 방법.5. A type of flat printing substrate according to any one of claims 1 to 4, wherein the particulate material comprises a first material having a hardness greater than an eight-modified Morse (size of 0 to 15). Way. 제 5항에 있어서, 상기 제 1물질이 적어도 0.1㎛의 평균 입자 크기를 갖는 것을 특징으로 하는 일종의 평판인쇄용 기판을 제조하는 방법.6. A method according to claim 5, wherein said first material has an average particle size of at least 0.1 [mu] m. 제 5항 또는 제 6항에 있어서, 상기 제 1물질이 알루미나를 포함하는 것을 특징으로 하는 일종의 평판인쇄용 기판을 제조하는 방법.7. The method of claim 5 or 6, wherein the first material comprises alumina. 제 1항 내지 제 7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 미립 물질이 제 2물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 일종의 평판인쇄용 기판을 제조하는 방법.8. A method according to any one of the preceding claims, wherein the particulate material comprises a second material. 제 8항에 있어서, 상기 제 2물질이 적어도 0.001㎛의 평균 입자 크기를 가지는 것을 특징으로 하는 일종의 평판인쇄용 기판을 제조하는 방법.9. The method of claim 8, wherein said second material has an average particle size of at least 0.001 [mu] m. 제 8항 또는 제 9항에 있어서, 상기 제 2물질이 안료인 것을 특징으로 하는 일종의 평판인쇄용 기판을 제조하는 방법.The method of manufacturing a kind of flat plate printing substrate according to claim 8 or 9, wherein the second material is a pigment. 제 1항 내지 제 10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 미립 물질이 제 3물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 일종의 평판인쇄용 기판을 제조하는 방법.The method for manufacturing a kind of flat plate substrate according to any one of claims 1 to 10, wherein the particulate material comprises a third material. 제 1항 내지 제 11항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 액체의 pH가 9보다 높은 것을 특징으로 하는 일종의 평판인쇄용 기판을 제조하는 방법.The method of manufacturing a kind of flat plate substrate according to any one of claims 1 to 11, wherein the pH of the liquid is higher than nine. 제 1항 내지 제 12항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 액체가 100센티포아즈 보다 작은 점도를 가지는 것을 특징으로 하는 일종의 평판인쇄용 기판을 제조하는 방법.13. A method according to any one of claims 1 to 12, wherein said liquid has a viscosity of less than 100 centipoise. 제 1항 내지 제 13항 중 어느 한 항에 있어서, 건조 후에 20㎛보다 얇은 평균 두께를 가지는 친수성 층을 형성하기 위해, 상기 액체를 상기 지지체에 도포하는 것을 특징으로 하는 일종의 평판인쇄용 기판을 제조하는 방법.14. A type of flat printing substrate according to any one of claims 1 to 13, wherein the liquid is applied to the support to form a hydrophilic layer having an average thickness thinner than 20 mu m after drying. Way. 제 1항 내지 제 14항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 지지체가 알루미늄 또는 합금 또는 플라스틱을 포함하는 것을 특징으로 하는 일종의 평판인쇄용 기판을 제조하는 방법.The method according to any one of claims 1 to 14, wherein the support comprises aluminum, an alloy, or a plastic. 제 1항 내지 제 15항 중 어느 한 항에 따른 방법에 의해 제조할 수 있는 일종의 평판인쇄용 기판.A substrate for printing a flat plate which can be produced by the method according to any one of claims 1 to 15. 지지체 및, 규산염 용액으로부터 유도된 또는 유도 가능한 바인더 물질과 미립 물질을 포함하는 친수성 층을 포함하는 일종의 평판인쇄용 기판.A substrate for printing a flat plate comprising a support and a hydrophilic layer comprising a binder material derived from or derived from a silicate solution and a particulate material. 지지체 및, 미립 물질이 배치된 -Si-O-Si-반족을 포함하는 중합 구조로 구성되어 있는 바인더 물질을 포함하는 친수성 층을 포함하는 일종의 평판인쇄용 기판.A substrate for printing a type of flat plate comprising a support and a hydrophilic layer comprising a binder material composed of a polymerized structure comprising a -Si-O-Si-group in which fine particles are disposed. 제 17항 또는 제 18항에 있어서, 상기 기판이 제 1항 내지 제 16항 중 어느 한 항에 따른 미립 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 일종의 평판인쇄용 기판.19. A substrate for printing a flat plate according to claim 17 or 18, wherein the substrate comprises the particulate material according to any one of claims 1 to 16. 제 17항 내지 제 19항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 친수성 층이 20㎛보다 얇은 평균 두께를 가지는 것을 특징으로 하는 일종의 평판인쇄용 기판.20. A substrate for printing a flat plate according to any one of claims 17 to 19, wherein the hydrophilic layer has an average thickness thinner than 20 mu m. 제 17항 내지 제 20항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 친수성 층이 0.1∼2㎛ 범위의 Ra을 가지는 것을 특징으로 하는 일종의 평판인쇄용 기판.21. A substrate for printing a flat plate according to any one of claims 17 to 20, wherein the hydrophilic layer has Ra in the range of 0.1 to 2 mu m. 제 17항 내지 제 21항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 친수성 층이 기판의 평방 미트당 1∼20g의 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 일종의 평판인쇄용 기판.22. A substrate as claimed in any one of claims 17 to 21, wherein the hydrophilic layer comprises 1 to 20 g of material per square mitt of the substrate.