KR19990069617A - Photoresist Coating Device - Google Patents

Abstract

본 발명에 따른 포토레지스트 도포 장치는 포토레지스트의 공급 여부를 감지하는 센서를 구비하는 저장 탱크와 센서의 감지 신호를 받아 저장 탱크를 스위칭하는 저장 탱크 교환 밸브 및 저장 탱크 교환 밸브와 포토레지스트 도포용 관 사이에 설치되어 포토레지스트의 공급 유무를 감지하는 보조 센서 및 보조 저장 탱크를 구비하고 있다.The photoresist application apparatus according to the present invention includes a storage tank including a sensor for detecting supply of photoresist, a storage tank exchange valve for switching a storage tank in response to a detection signal of the sensor, and a storage tank exchange valve and a tube for applying a photoresist It is provided between the auxiliary sensor and the auxiliary storage tank for detecting the presence or absence of supply of the photoresist.

본 발명에 따르면, 저장 탱크 교환 밸브 전단에 설치된 센서가 오동작하더라도 저장 탱크 교환 밸브와 포토레지스트 도포용 관 사이에 설치된 센서에 의해 포토레지스트의 잔량을 최종적으로 확인 감지함으로써 양호한 포토레지스트막을 제조할 수 있으며, 생산성도 향상시킬 수 있다.According to the present invention, even if the sensor installed in front of the storage tank exchange valve malfunctions, a good photoresist film can be manufactured by finally confirming and detecting the remaining amount of photoresist by the sensor provided between the storage tank exchange valve and the photoresist coating tube. In addition, productivity can also be improved.

Description

포토레지스트 도포 장치Photoresist coating device

본 발명은 반도체 소자 제조 장치에 관한 것으로, 특히 포토레지스트 도포 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a semiconductor device manufacturing apparatus, and more particularly to a photoresist coating apparatus.

반도체 장치의 각종 패턴은 포토리소그래피 기술에 의하여 형성된다. 포토리소그래피 기술은 반도체 웨이퍼 상의 절연막이나 도전막 등, 패턴을 형성하여야 할 막 위에 X선이나 자외선 등과 같은 광선의 조사에 의해 용해도가 변화하는 포토레지스트막을 도포하는 도포 공정, 포토레지스트막의 일정 부분을 광선에 노광시키는 노광 공정, 현상액으로 용해도가 큰 부분을 제거하여 포토레지스트 패턴을 형성하는 현상 공정 및 포토레지스트 패턴을 이용하여 패턴을 형성하여야 할 막의 노출된 부분을 제거하여 배선이나 전극 등 각종 패턴을 형성하는 패턴 형성 공정으로 구분할 수 있다.Various patterns of semiconductor devices are formed by photolithography techniques. Photolithography technology is a coating process for applying a photoresist film whose solubility is changed by irradiation of light such as X-rays or ultraviolet rays on a film, such as an insulating film or a conductive film, on a semiconductor wafer, and a predetermined portion of the photoresist film. The photolithography process is used to expose the photoresist pattern by removing the portion having high solubility with a developer, and the exposed portion of the film to be formed using the photoresist pattern to remove various patterns such as wires and electrodes. It can be divided into a pattern forming process.

상술한 다양한 공정들 중에서 최근들어 포토레지스트 도포 공정에 대한 중요성이 증대되고 있는 있는데, 그 이유는 반도체 장치가 고집적화됨에 따라 포토리소그래피에 의해 미세화된 패턴을 형성하기 위해서는 기포(bubble)가 포함되지 않고 양호한 균일도(uniformity)의 포토레지스트막(photoresist film)을 형성하는 것이 절대적으로 필요하기 때문이다.Among the various processes described above, the importance of the photoresist coating process has recently increased. The reason for this is that as the semiconductor device is highly integrated, bubbles are not included to form fine patterns by photolithography, and thus, good bubbles are not included. This is because it is absolutely necessary to form a photoresist film of uniformity.

이러한 요구에 부응하기 위해 종래의 포토레지스트 도포 장치는 포토레지스트 도포용 관과 저장 탱크 사이에 저장 탱크 교환 밸브를 연결하고, 저장 탱크내의 포토레지스트의 유무를 센서로 감지하여 저장 탱크를 스위칭하여 사용하여 포토레지스트막에 기포가 포함되는 것을 사전에 차단하는 방식을 사용한다.In order to meet these demands, a conventional photoresist coating apparatus connects a storage tank exchange valve between a photoresist coating tube and a storage tank, switches the storage tank by sensing the presence or absence of a photoresist in the storage tank with a sensor. A method of blocking the inclusion of bubbles in the photoresist film in advance is used.

두 개의 저장 탱크를 스위칭하여 사용하는 포토레지스트 도포 장치를 참고하여 작동 원리를 설명하면 다음과 같다. 제1 및 제2 저장 탱크는 각각 메인 탱크와 보조 탱크로 구성되어 있으며, 보조 탱크에는 포토레지스트 용액의 유무를 감지하는 센서와 버블 배출 밸브 및 배출관이 연결되어 있다. 메인 탱크와 보조 탱크는 포토레지스트 공급관에 의해 연결되어 있으며, 보조 탱크는 다시 공급관에 의해 저장 탱크 교환 밸브에 연결되어 있다.Referring to the photoresist application device using two storage tanks by switching the operation principle is as follows. Each of the first and second storage tanks includes a main tank and a sub tank, and a sensor for detecting the presence of a photoresist solution, a bubble discharge valve, and a discharge pipe are connected to the sub tank. The main tank and the auxiliary tank are connected by a photoresist supply pipe, and the auxiliary tank is again connected by a supply pipe to the storage tank exchange valve.

먼저 제1 저장 탱크의 제1 메인 탱크에 채워져 있는 포토레지스트 용액을 가압 방식을 이용하여 제1 보조 탱크로 공급하면 제1 보조 탱크로부터 포토레지스트 도포용 관으로 포토레지스트가 공급되어 반도체 기판위에 포토레지스트가 도포되게 된다. 이 때, 센서가 제1 메인 탱크내의 포토레지스트 용액의 유무를 감지하여 제1 메인 탱크내에 포토레지스트 용액이 없으면 센서에 부착된 램프가 이를 경고하고 저장 탱크 교환 밸브가 자동적으로 제1 저장 탱크와의 연결을 차단하고 제2 저장 탱크와 연결시켜 제1 저장 탱크와 동일한 방식으로 포토레지스트를 공급한다. 제2 저장 탱크에서 포토레지스트가 공급되는 동안 제1 메인 탱크에 포토레지스트를 다시 채워넣고 제2 메인 탱크의 포토레지스트가 다 고갈되어 제2 메인 탱크에 연결된 센서가 이를 감지하면 다시 제1 저장 탱크로 스위칭하는 방식으로 계속하여 포토레지스트를 공급한다.First, when the photoresist solution filled in the first main tank of the first storage tank is supplied to the first auxiliary tank by using a pressurization method, the photoresist is supplied from the first auxiliary tank to the photoresist coating tube and the photoresist on the semiconductor substrate. Will be applied. At this time, the sensor detects the presence or absence of the photoresist solution in the first main tank and if there is no photoresist solution in the first main tank, the lamp attached to the sensor warns of this and the storage tank exchange valve automatically The connection is cut off and connected to the second storage tank to supply the photoresist in the same manner as the first storage tank. While the photoresist is supplied from the second storage tank, the photoresist is refilled in the first main tank and the photoresist of the second main tank is depleted, and when the sensor connected to the second main tank senses this, it is returned to the first storage tank. The photoresist is continuously supplied in a switching manner.

그런데 상술한 종래의 포토레지스트 도포 장치에 따르면, 포토레지스트의 존재 유무를 감지하는 센서가 오동작을 하면 포토레지스트가 없는데도 불구하고 포토레지스트 저장 탱크가 스위칭되지 않는 문제점이 있다. 이렇게 포토레지스트 저장 탱크가 제때 스위칭되지 않으면, 포토레지스트 도포용 관에 포토레지스트 대신 기포만 공급되어 반도체 기판위에 기포를 포함하는 균일도가 불량한 포토레지스트막이 형성된다.By the way, according to the conventional photoresist coating apparatus described above, there is a problem that the photoresist storage tank is not switched even if there is no photoresist when the sensor detecting the presence or absence of the photoresist malfunctions. If the photoresist storage tank is not switched in a timely manner, only bubbles are supplied to the photoresist coating tube instead of photoresist to form a poor photoresist film containing bubbles on the semiconductor substrate.

그리고 불량한 포토레지스트막에 대해 스피너(Spinner)를 사용하여 재작업을 실시하면 각종 화학 물질의 사용이 증가되어 환경 오염 발생이 가중되고 생산성도 감소하는 문제점이 있다.In addition, when a rework is performed using a spinner on a poor photoresist film, the use of various chemicals is increased, thereby increasing environmental pollution and decreasing productivity.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 포토레지스트막에 원하지 않는 기포가 포함되는 문제점을 해결하기 위한 것으로, 기포가 포토레지스트막에 포함되는 것을 사전에 방지하고 최종적으로 확인 감지할 수 있는 보조 센서 및 보조 탱크가 저장 탱크 교환 밸브와 포토레지스트 도포용 관 사이에 설치된 포토레지스트 도포 장치를 제공하는 것이다.The technical problem to be achieved by the present invention is to solve the problem that unwanted bubbles are included in the photoresist film, the auxiliary sensor and auxiliary tank that can prevent and finally detect the bubble contained in the photoresist film in advance It is to provide a photoresist application apparatus provided between the storage tank exchange valve and the photoresist application tube.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 의한 포토레지스트 도포 장치의 개략도이다.1 is a schematic diagram of a photoresist coating apparatus according to an embodiment of the present invention.

상기 기술적 과제를 달성하기 위하여 본 발명에 따른 포토레지스트 도포 장치는 크게 저장 탱크, 저장 탱크 교환 밸브, 제2 보조 저장 탱크, 보조 센서 및 포토레지스트 도포용 관으로 구성된다. 저장 탱크는 포토레지스트르 공급하는 메인 저장 탱크, 상기 메인 저장 탱크와 제1 포토레지스트 공급관을 매개하여 연결되고 상기 메인 저장 탱크로부터 포토레지스트를 공급받아 포토레지스트를 저장하는 제1 보조 저장 탱크 및 상기 제1 포토레지스트 공급관에 설치되어 상기 메인 저장 탱크로부터 상기 포토레지스트의 공급 유무를 감지하는 센서로 구성된다. 저장 탱크 교환 밸브는 상기 제1 보조 저장 탱크와 제2 포토레지스트 공급관을 매개하여 연결되고 상기 센서의 감지 신호를 받아 상기 저장 탱크를 스위칭한다. 제2 보조 저장 탱크는 상기 저장 탱크 교환 밸브와 제3 포토레지스트 공급관을 매개하여 연결된다. 보조 센서는 상기 제3 포토레지스트 공급관에 설치되어 포토레지스트의 공급 유무를 감지한다. 그리고 상기 포토레지스트 도포용 관은 상기 제2 보조 저장 탱크와 일단이 연결되고 타단은 포토레지스트막이 도포될 반도체 기판과 대향한다.In order to achieve the above technical problem, the photoresist coating apparatus according to the present invention is largely composed of a storage tank, a storage tank exchange valve, a second auxiliary storage tank, an auxiliary sensor, and a photoresist coating tube. The storage tank is a main storage tank for supplying a photoresist, a first auxiliary storage tank connected with the main storage tank and a first photoresist supply pipe, and receiving a photoresist from the main storage tank and storing the photoresist; 1 is installed in the photoresist supply pipe consists of a sensor for detecting the presence or absence of the supply of the photoresist from the main storage tank. A storage tank exchange valve is connected via the first auxiliary storage tank and the second photoresist supply pipe and receives the detection signal of the sensor to switch the storage tank. The second auxiliary storage tank is connected via the storage tank exchange valve and the third photoresist supply line. The auxiliary sensor is installed in the third photoresist supply pipe to sense the presence or absence of supply of the photoresist. The photoresist coating tube has one end connected to the second auxiliary storage tank and the other end thereof faces the semiconductor substrate to which the photoresist film is to be applied.

본 발명에 있어서, 상기 센서 또는 보조 센서는 버블 센서인 것이 바람직하며, 상기 센서 또는 보조 센서에는 경보 장치가 연결되어 포토레지스트의 잔량을 표시하는 것이 바람직하다.In the present invention, the sensor or auxiliary sensor is preferably a bubble sensor, it is preferable that the alarm device is connected to the sensor or the auxiliary sensor to display the remaining amount of the photoresist.

또, 상기 제1 보조 저장 탱크 또는 제2 보조 저장 탱크는 가스 배출관 및 상기 가스 배출관에 설치된 가스 배출 조절 밸브를 더 구비할 수 있으며, 상기 메인 저장 탱크는 상기 메인 저장 탱크를 가압하기 위한 가스를 공급하는 공급관 및 상기 공급관에 설치된 가스 공급 조절 밸브를 더 구비할 수 있다.The first auxiliary storage tank or the second auxiliary storage tank may further include a gas discharge pipe and a gas discharge control valve installed at the gas discharge pipe, and the main storage tank supplies gas for pressurizing the main storage tank. It may further include a supply pipe and a gas supply control valve installed in the supply pipe.

본 발명에 따른 상기 포토레지스트 도포 장치는 상기 저장 탱크와 동일한 구조의 저장 탱크를 복수개 구비하고, 상기 복수개의 저장 탱크를 차례대로 상기 저장 탱크 교환 밸브에 연결하여 사용하는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하기로는 상기 센서와 연결된 자동 스위칭 장치를 더 구비하여 상기 복수개의 저장 탱크를 상기 저장 탱크 교환 밸브에 차례대로 하나씩 스위칭하여 연결하여 사용한다.The photoresist coating apparatus according to the present invention preferably includes a plurality of storage tanks having the same structure as the storage tank, and the plurality of storage tanks are connected to the storage tank exchange valves in sequence, and more preferably used. It is further provided with an automatic switching device connected to the sensor is used to switch and connect the plurality of storage tanks one by one to the storage tank exchange valve in turn.

본 발명에 따르면, 저장 탱크 교환 밸브 전단에 설치된 센서가 오동작하더라도 저장 탱크 교환 밸브와 포토레지스트 도포용 관 사이에 설치된 센서에 의해 포토레지스트의 잔량을 최종적으로 확인 감지함으로써 양호한 포토레지스트막을 제조할 수 있으며, 생산성도 향상시킬 수 있다.According to the present invention, even if the sensor installed in front of the storage tank exchange valve malfunctions, a good photoresist film can be manufactured by finally confirming and detecting the remaining amount of photoresist by the sensor provided between the storage tank exchange valve and the photoresist coating tube. In addition, productivity can also be improved.

이하 첨부한 도 1을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명함으로써 본 발명을 상세하게 설명한다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록하며, 통상의 지식을 가진자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다. 도1에서 각 탱크 및 밸브들은 명료성을 위해서 강조되었다. 그리고 도 1에는 두 개의 저장 탱크를 자동으로 스위칭하여 사용하는 포토레지스트 도포 장치가 도시되어 있으나, 두 개 이상의 저장 탱크를 차례대로 자동으로 스위칭하여 사용하는 포토레지스트 도포 장치에 적용가능함은 물론이다. 또, 동일한 구성 원리를 가지고 하나의 저장 탱크를 수동으로 교환하여 사용하는 포토레지스트 도포 장치에 적용하는 것 또한 가능하다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but will be implemented in various forms, and only the embodiments are intended to complete the disclosure of the present invention, and to those skilled in the art to fully understand the scope of the invention. It is provided to inform you. In FIG. 1 each tank and valve is highlighted for clarity. 1 shows a photoresist application apparatus for automatically switching two storage tanks, but is applicable to a photoresist application apparatus for automatically switching two or more storage tanks in sequence. Moreover, it is also possible to apply to the photoresist application apparatus which uses the same structure principle, and exchanges one storage tank manually.

도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 포토레지스트 도포 장치는 크게 저장 탱크 교환 밸브(300)를 기준으로 전단에는 스위칭 가능한 저장 탱크들(100, 110, 200, 210)이 설치되며 후단에는 보조 센서(412)와 보조 탱크(410)가 설치된다.Referring to FIG. 1, the photoresist coating apparatus according to the present invention is provided with switchable storage tanks 100, 110, 200, and 210 at the front end of the storage tank exchange valve 300, and an auxiliary sensor at the rear end thereof. 412 and the auxiliary tank 410 is installed.

구체적으로 설명하면, 저장 탱크 A는 포토레지스트 용액의 주 저장 탱크인 메인 저장 탱크 A(100)와 보조 저장 탱크 A(110)로 구성되며 저장 탱크 B 또한 저장 탱크 A와 마찬가지로 메인 저장 탱크 B(200)와 보조 저장 탱크 B(210)로 구성된다. 메인 저장 탱크 A 및 B(100, 200)에는 각각 질소 가스 공급관 A 및 B(104, 204)가 연결되어 있다. 질소 가스 공급관 A 및 B에는 각각 질소 가스 공급 조절 밸브 A 및 B(102, 202)가 설치되어 메인 저장 탱크 A 및 B(100, 200)에 공급되는 질소 가스의 양을 조절한다. 메인 저장 탱크 A 및 B(100, 200)는 각각 제1 포토레지스트 공급관들(106, 206)에 의해 보조 저장 탱크 A 및 B(110, 210)에 각각 연결되어 있다. 제1 포토레지스트 공급관들(106, 206)에는 각각 메인 저장 탱크 A 및 B(100, 200)로부터 포토레지스트가 제대로 공급되는지 여부를 감지하는 센서 A 및 B(112, 212)가 설치되어 있다. 또 보조 저장 탱크 A 및 B(110, 210)에는 가스 배출 조절 밸브 A 및 B(114, 214)와 가스 배출관 A 및 B(116, 216)가 각각 설치되어 있다. 그리고 보조 저장 탱크 A 및 B(110, 210)는 제2 포토레지스트 공급관들(118, 218)에 의해 서로 스위칭되어 저장 탱크 교환 밸브(300)에 연결된다. 보조 탱크 C(410)가 제3 포토레지스트 공급관(406)에 의해 저장 탱크 교환 밸브(300)와 연결되어 있으며, 제3 포토레지스트 공급관(406)에도 포토레지스트의 공급 여부를 감지하는 보조 센서(412)가 설치되어 있다. 그리고 제3 포토레지스트 공급관(406)에 연결된 보조 탱크 C(410)에도 가스 배출 조절 밸브 C(414)와 배출관 C(416)가 설치되어 있으며, 포토레지스트 도포용 관(418)이 연결되어 있다.Specifically, the storage tank A is composed of the main storage tank A (100) and the secondary storage tank A (110), which is the main storage tank of the photoresist solution, and the storage tank B is also the main storage tank B (200) like the storage tank A. ) And auxiliary storage tank B (210). Nitrogen gas supply pipes A and B 104 and 204 are connected to the main storage tanks A and B 100 and 200, respectively. Nitrogen gas supply pipes A and B are provided with nitrogen gas supply control valves A and B 102 and 202, respectively, to regulate the amount of nitrogen gas supplied to the main storage tanks A and B 100 and 200. Main storage tanks A and B 100 and 200 are connected to auxiliary storage tanks A and B 110 and 210, respectively, by first photoresist supply tubes 106 and 206, respectively. The first photoresist supply pipes 106 and 206 are provided with sensors A and B 112 and 212 respectively detecting whether the photoresist is properly supplied from the main storage tanks A and B 100 and 200. The auxiliary storage tanks A and B 110 and 210 are provided with gas discharge control valves A and B 114 and 214 and gas discharge pipes A and B 116 and 216, respectively. The auxiliary storage tanks A and B 110, 210 are then switched to each other by second photoresist supply pipes 118, 218 and connected to the storage tank exchange valve 300. The auxiliary tank C 410 is connected to the storage tank exchange valve 300 by the third photoresist supply pipe 406, and the auxiliary sensor 412 senses whether the photoresist is also supplied to the third photoresist supply pipe 406. ) Is installed. The gas discharge control valve C 414 and the discharge pipe C 416 are also installed in the auxiliary tank C 410 connected to the third photoresist supply pipe 406, and a photoresist coating pipe 418 is connected to the auxiliary tank C 410.

도 1에 도시되어 있는 포토레지스트 도포 장치의 동작을 저장 탱크 A에서 저장 탱크 B로 스위칭되는 동작을 참고하여 설명하면 다음과 같다. 먼저 질소 가스 조절용 밸브 A(102)를 열고 질소 가스 공급관 A(104)내로 질소 가스를 공급한다. 공급된 질소 가스에 의해 메인 저장 탱크 A(100)내의 압력이 일정 압력 이상으로 유지되면 메인 저장 탱크 A(100)로부터 제1 포토레지스트 공급관(106)을 통해 보조 탱크 A(110)로 지속적으로 포토레지스트가 공급된다. 즉, 본 발명에 따른 포토레지스트 도포 장치는 가압 방식을 사용하여 포토레지스트를 공급한다. 이렇게 지속적으로 공급되던 포토레지스트가 메인 저장 탱크 A(100)에서 고갈되어 기포만이 공급되면 제1 포토레지스트 공급관(106)에 연결되어 있는 센서 A(112)가 이를 감지한다. 센서 A(112)로는 버블 센서(bubble sensor)를 사용하는 것이 바람직하다. 센서A(112)는 포토레지스트가 정상적으로 공급되고 있는 동안은 온(on)상태를 유지하다가 메인 저장 탱크 A(100)에서 포토레지스트가 고갈되면 오프(off)상태가 된다. 센서 A가 오프되면 센서 A(112)에 연결되어 있는 경보 장치, 예컨대, 부저(buzzor)나 경광장치(LED)등이 작동하여 제1 메인 저장 탱크(100)에 포토레지스트가 없다는 메시지가 전달된다. 이와 동시에 상기 센서 A(112)와 연결된 자동 스위칭 장치(미도시)의 동작에 의해 저장 탱크 교환 밸브(300)는 제2 포토레지스트 공급관(118)과의 연결을 차단하고 저장 탱크 B의 제2 포토레지스트 공급관(218)과 제3 포토레지스트 공급관(406)을 자동으로 연결시킨다. 이렇게 자동적으로 저장 탱크 A에서 저장 탱크 B로 스위칭되면 메인 저장 탱크 B(200) 및 보조 저장 탱크 B(210)를 통해 계속적으로 포토레지스트가 포토레지스트 도포용 관(418)으로 공급된다. 센서A(112)의 경보를 작업자가 감지하고 수동으로 저장 탱크 A와 저장 탱크 B를 스위칭할 수도 있다.Referring to the operation of switching from the storage tank A to the storage tank B, the operation of the photoresist coating apparatus shown in FIG. 1 is as follows. First, the nitrogen gas regulating valve A 102 is opened and nitrogen gas is supplied into the nitrogen gas supply pipe A 104. When the pressure in the main storage tank A 100 is maintained above a predetermined pressure by the supplied nitrogen gas, the photo is continuously transferred from the main storage tank A 100 to the auxiliary tank A 110 through the first photoresist supply pipe 106. The resist is supplied. That is, the photoresist coating apparatus according to the present invention supplies the photoresist by using a pressure method. When the photoresist continuously supplied is depleted in the main storage tank A 100 and only bubbles are supplied, the sensor A 112 connected to the first photoresist supply pipe 106 detects this. It is preferable to use a bubble sensor as the sensor A 112. The sensor A 112 remains on while the photoresist is normally supplied, and then turns off when the photoresist is depleted in the main storage tank A 100. When the sensor A is turned off, an alarm device connected to the sensor A 112, for example, a buzzer or an LED, operates to transmit a message indicating that the first main storage tank 100 is free of photoresist. . At the same time, by the operation of an automatic switching device (not shown) connected to the sensor A 112, the storage tank exchange valve 300 cuts off the connection with the second photoresist supply pipe 118 and the second photo of the storage tank B. The resist supply pipe 218 and the third photoresist supply pipe 406 are automatically connected. When automatically switched from storage tank A to storage tank B, the photoresist is continuously supplied to the photoresist application tube 418 through the main storage tank B 200 and the auxiliary storage tank B 210. An alarm of the sensor A 112 may be detected by an operator, and the storage tank A and the storage tank B may be manually switched.

보조 저장 탱크 A 또는 B(110, 210),또한, 기포가 포토레지스트 도포용 관(418)으로 운반되는 것을 차단하는 기능을 돕는다. 구체적으로, 보조 저장 탱크 A 또는 B(110, 210)에는 항시 일정량의 포토레지스트가 채워져 있어서, 메인 저장 탱크 A 또는 B(100, 200)에서 포토레지스트가 완전히 고갈되어 센서 A 또는 B(112, 212)에 의해 이 사실이 경고되고 저장 탱크 교환 밸브(300)에 의해 저장 탱크가 스위칭될 때까지 제2 포토레지스트 공급관(118, 218)을 통해 원하지 않는 기포가 공급되는 것을 방지할 수 있다. 결국, 포토레지스트의 공급이 일시적으로 중단되더라도 일정시간동안 보조 저장 탱크 A(110)에서 제2 포토레지스트 공급관(118, 218), 제3 포토레지스트 공급관(406) 및 포토레지스트 도포용 관(418) 사이는 포토레지스트로 꽉 채워진 상태가 된다. 이에 따라 포토레지스트 도포용 관(418)에 기포가 포함되는 것을 방지할 수 있다.Auxiliary storage tanks A or B (110, 210), and also helps to prevent the bubbles from being transported to the photoresist application tube 418. Specifically, the auxiliary storage tank A or B (110, 210) is always filled with a certain amount of photoresist, so that the photoresist is completely depleted in the main storage tank A or B (100, 200) sensor A or B (112, 212) This can be warned by and to prevent unwanted bubbles from being supplied through the second photoresist supply lines 118, 218 until the storage tank is switched by the storage tank exchange valve 300. As a result, the second photoresist supply pipe 118, 218, the third photoresist supply pipe 406, and the photoresist application pipe 418 in the auxiliary storage tank A 110 for a predetermined time even if the supply of the photoresist is temporarily stopped. Is filled with photoresist. As a result, bubbles can be prevented from being contained in the photoresist coating tube 418.

저장 탱크가 저장 탱크 A에서 저장 탱크 B로 스위칭된 후, 작업자가 메인 저장 탱크 A(100)에 포토레지스트를 채워 넣는 동안 제1 포토레지스트 공급관(106)에 공기와 같은 가스가 유입되게 되고 이렇게 유입된 가스는 메인 저장 탱크 A(100)로부터 보조 저장 탱크 A(110)로 포토레지스트와 함께 유입된다. 보조 저장 탱크A(110)에는 일정량의 포토레지스트가 항시 채워져 있으므로 보조 저장 탱크 A(110)에 유입된 가스는 더 이상 제2 포토레지스트 공급관(118)을 따라 진행하지 못하고 보조 저장 탱크 A(110)의 윗쪽에 모이게 된다. 이렇게 모인 가스는 가스 배출 조절 밸브 A(114)를 열고 가스 배출관 A(116)를 통해 외부로 배출하고, 가스의 배출이 완료되면 가스 배출 조절 밸브 A(114)를 잠근다.After the storage tank is switched from storage tank A to storage tank B, a gas such as air is introduced into the first photoresist supply line 106 while the operator fills the photoresist in the main storage tank A 100 and thus enters The degassed gas enters together with the photoresist from the main storage tank A 100 to the auxiliary storage tank A 110. Since the auxiliary storage tank A 110 is always filled with a certain amount of photoresist, the gas introduced into the auxiliary storage tank A 110 can no longer proceed along the second photoresist supply pipe 118, and the auxiliary storage tank A 110 is not filled. Gather on top of the The collected gas is discharged to the outside through the gas discharge control valve A 114 and the gas discharge pipe A 116, and when the discharge of the gas is completed, the gas discharge control valve A 114 is locked.

계속해서 포토레지스트가 공급되다가 메인 저장 탱크 B(200)로부터 포토레지스트가 고갈되면 앞서 저장 탱크 A에서 설명한 방식과 동일한 방식으로 저장 탱크 B를 구성하는 구성 요소들이 동작하여 포토레지스트를 재충전한 저장 탱크 A로 재스위칭된다.When the photoresist is continuously supplied and the photoresist is depleted from the main storage tank B 200, the components constituting the storage tank B are operated in the same manner as described in the storage tank A to recharge the photoresist. Is reswitched to.

제3 포토레지스트 공급관(406)에 연결된 보조 저장 탱크 C(410)와 이에 설치된 보조 센서(412)는 센서 A 또는 B(112, 212)가 오동작할 경우에 작동하여 포토레지스트막이 불량하게 도포되는 것을 방지하는 기능을 한다. 구체적으로, 메인 저장 탱크 A 또는 B(100, 200)내에서 포토레지스트가 고갈되었음에도 불구하고 센서 A(112) 또는 센서 B(212)가 오동작하여 기포만을 제2 포토레지스트 공급관(118, 128) 및 제3 포토레지스트 공급관으로 내보내면, 보조 센서(412)가 이를 감지하고 이를 작업자에게 알려주어 포토레지스트 도포용 관(418)의 말단 노즐에까지 기포가 전달되어 불량한 포토레지스트막이 형성되는 것을 사전에 방지한다. 보조 저장 탱크 C(410)는 앞서 설명한 보조 저장 탱크 A 및 B(110, 210)와 마찬가지로 항상 일정량의 포토레지스트가 채워져 있어서, 보조 센서(412)의 경보 시점과 포토레지스트 도포 장치를 멈추는 시점 사이에 포토레지스트 도포용 관(418)을 통해 기포를 포함하는 포토레지스트가 반도체 기판 표면에 도포되는 것을 방지할 수 있다. 그리고 보조 저장 탱크 C(410)에 설치된 가스 배출관 C(416) 및 가스 배출 조절 밸브C(414)는 앞서 설명한 가스 배출관 A 또는 B(116, 216) 가스 배출 조절 밸브 A 또는 B(114, 214)와 동일한 기능을 수행한다.The auxiliary storage tank C 410 connected to the third photoresist supply pipe 406 and the auxiliary sensor 412 installed therein operate when the sensor A or B 112, 212 malfunctions to prevent the poor application of the photoresist film. To prevent it. Specifically, in spite of the depletion of the photoresist in the main storage tanks A or B (100, 200), the sensor A 112 or the sensor B 212 malfunctions so that only bubbles are formed in the second photoresist supply pipes 118, 128 and When sent out to the third photoresist supply pipe, the auxiliary sensor 412 detects this and informs the operator so that bubbles are delivered to the end nozzle of the photoresist coating pipe 418 to prevent a bad photoresist film from being formed in advance. . Auxiliary storage tank C (410), like the auxiliary storage tanks A and B (110, 210) described above is always filled with a certain amount of photoresist, so that between the alarm time of the auxiliary sensor 412 and the time when the photoresist application device is stopped. The photoresist including the bubble can be prevented from being applied to the surface of the semiconductor substrate through the photoresist coating tube 418. In addition, the gas discharge pipe C 416 and the gas discharge control valve C 414 installed in the auxiliary storage tank C 410 are the gas discharge pipe A or B 116 and 216 gas discharge control valves A or B 114 and 214 described above. Performs the same function as

본 발명에 따르면, 저장 탱크 교환 밸브 전단에 설치된 센서가 오동작하더라도 저장 탱크 교환 밸브와 포토레지스트 도포용 관 사이에 연결된 보조 센서에 의해 포토레지스트의 잔량을 최종적으로 확인 감지함으로써 양호한 포토레지스트막을 제조할 수 있으며, 보조 센서 하단에 설치된 보조 탱크에 의해 포토레지스트 대신 기포가 포토레지스 도포용 관에 전달되는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 불량한 포토레지스트 막에 대한 재작업이 필요 없으므로 화학 물질들에 의한 오염 발생이 방지되고 생산성도 향상된다.According to the present invention, even if a sensor installed in front of the storage tank exchange valve malfunctions, a good photoresist film can be manufactured by finally confirming and detecting the remaining amount of photoresist by an auxiliary sensor connected between the storage tank exchange valve and the photoresist coating tube. In addition, it is possible to prevent bubbles from being transferred to the photoresist coating tube instead of the photoresist by the auxiliary tank installed under the auxiliary sensor. Therefore, no rework on the poor photoresist film is required, so that contamination by chemicals is prevented and productivity is improved.

Claims (7)

포토레지스트를 공급하는 메인 저장 탱크, 상기 메인 저장 탱크와 제1 포토레지스트 공급관을 매개하여 연결되고 상기 메인 저장 탱크로부터 포토레지스트를 공급받아 포토레지스트를 저장하는 제1 보조 저장 탱크 및 상기 제1 포토레지스트 공급관에 설치되어 상기 메인 저장 탱크로부터 상기 포토레지스트의 공급 유무를 감지하는 센서를 구비하는 저장 탱크;A main storage tank for supplying a photoresist, a first auxiliary storage tank and a first photoresist connected through the main storage tank and a first photoresist supply pipe and receiving a photoresist from the main storage tank to store the photoresist; A storage tank installed in a supply pipe and having a sensor configured to detect whether the photoresist is supplied from the main storage tank; 상기 제1 보조 저장 탱크와 제2 포토레지스트 공급관을 매개하여 연결되고 상기 센서의 감지 신호를 받아 상기 저장 탱크를 스위칭하는 저장 탱크 교환 밸브;A storage tank exchange valve connected to the first auxiliary storage tank and the second photoresist supply pipe and switching the storage tank in response to a detection signal of the sensor; 상기 저장 탱크 교환 밸브와 제3 포토레지스트 공급관을 매개하여 연결된 제2 보조 저장 탱크;A second auxiliary storage tank connected to the storage tank exchange valve via a third photoresist supply pipe; 상기 제3 포토레지스트 공급관에 설치되어 포토레지스트의 공급 유무를 감지하는 보조 센서; 및An auxiliary sensor installed in the third photoresist supply pipe to detect whether a photoresist is supplied; And 상기 제2 보조 저장 탱크와 일단이 연결되고 타단은 포토레지스트막이 도포될 반도체 기판과 대향하는 포토레지스트 도포용 관을 구비하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 도포 장치.And a photoresist coating tube having one end connected to the second auxiliary storage tank and the other end facing the semiconductor substrate to which the photoresist film is to be applied. 제1항에 있어서, 상기 센서 또는 보조 센서는 버블 센서인 것을 특징으로 하는 포토레지스트 도포 장치.The apparatus of claim 1, wherein the sensor or auxiliary sensor is a bubble sensor. 제1항에 있어서, 상기 센서 또는 보조 센서에는 경보 장치가 연결되어 포토레지스트의 잔량을 표시하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 도포 장치.The photoresist application apparatus of claim 1, wherein an alarm device is connected to the sensor or the auxiliary sensor to display the remaining amount of the photoresist. 제1항에 있어서, 상기 제1 보조 저장 탱크 또는 제2 보조 저장 탱크는The method of claim 1, wherein the first auxiliary storage tank or the second auxiliary storage tank 가스 배출관; 및Gas discharge pipe; And 상기 가스 배출관에 설치된 가스 배출 조절 밸브를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 도포 장치.And a gas discharge control valve installed at the gas discharge pipe. 제1항에 있어서, 상기 메인 저장 탱크는The method of claim 1, wherein the main storage tank 상기 메인 저장 탱크를 가압하기 위한 가스를 공급하는 공급관; 및A supply pipe for supplying gas for pressurizing the main storage tank; And 상기 공급관에 설치된 가스 공급 조절 밸브를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 도포 장치.And a gas supply control valve provided in the supply pipe. 제1항에 있어서, 상기 포토레지스트 도포 장치는 상기 저장 탱크와 동일한 구조의 저장 탱크를 복수개 구비하고,The photoresist coating apparatus of claim 1, further comprising a plurality of storage tanks having the same structure as the storage tank, 상기 복수개의 저장 탱크를 차례대로 상기 저장 탱크 교환 밸브에 연결하여 사용하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 도포 장치.And applying the plurality of storage tanks in turn to the storage tank exchange valve. 제6항에 있어서, 상기 포토레지스트 도포 장치는 상기 센서와 연결된 자동 스위칭 장치를 더 구비하여 상기 복수개의 저장 탱크를 상기 저장 탱크 교환 밸브에 차례대로 하나씩 스위칭하여 연결하여 사용하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 도포 장치.The photoresist of claim 6, wherein the photoresist coating apparatus further includes an automatic switching device connected to the sensor to switch and connect the plurality of storage tanks one by one to the storage tank exchange valve. Application device.