KR19990047373A

KR19990047373A - 칼러 레지스트 수지 조성물

Info

Publication number: KR19990047373A
Application number: KR1019970065743A
Authority: KR
Inventors: 김병주; 진동언
Original assignee: 유현식; 제일모직주식회사
Priority date: 1997-12-04
Filing date: 1997-12-04
Publication date: 1999-07-05

Abstract

본 발명의 칼러 레지스트 수지 조성물은 (A) 하기 구조식 (I), (II) 및 (III)의 단량체로 공중합되고, 공중합체 내에서 상기 단량체(I),(II) 및 (III)의 몰 비가 1:2∼4:2∼8인 카도계 바인더 수지 1∼40 중량부; (B) 광중합성 단량체 0.1∼10중량부; (C) 광중합 개시제 0.1∼10중량부; (D) 에폭시 수지 0.1∼10중량부; (E) 안료 1∼40중량부; 및 (F) 용매 20∼80중량부로 이루어지는 것을 그 특징으로 한다:

상기식에서 R은 수소원자; 탄소수 1∼10의 알킬기, 알릴기, 페닐기 또는 벤질기; 또는 탄소수 1∼8의 에톡시기이고, X는 할로겐 원자임.

본 발명에서 사용되는 상기 바인더 수지, 상기 광중합성 단량체 및 상기 에폭시 수지는 산무수물로 처리되고, 상기 바인더 수지는 1000∼20000의 중량 평균 분자량을 갖는 것이 바람직하다. 본 발명의 칼러 레지스트 수지 조성물은 필요에 따라 기타 첨가제가 부가될 수 있다.

Description

[발명의 명칭]

칼러 레지스트(color resist) 수지 조성물

[발명의 상세한 설명]

[발명의 분야]

본 발명은 칼러 레지스트 수지 조성물에 관한 것이다. 보다 구체적으로 본 발명은 액정 표시 장치, 카메라의 광학필터 등에 사용되는 칼라 필터를 형성하기 위한 칼러 레지스트(color resist) 수지 조성물에 관한 것이다. 보다 구체적으로 본 발명은 칼라 필터에 사용되는 알카리 수용액 현상형의 칼러 레지스트 수지 조성물에 관한 것이다.

[발명의 배경]

칼러 필터는 액정표시장치, 카메라의 광학필터 등에 사용되는 것으로서 3종 이상의 색상으로 착색된 미세한 영역을 형성하여 고체 촬영 소자 또는 투명 기판 위에 포토레지스트로 박막 코팅하여 제조된다. 칼러 필터의 박막 코팅은 염색법, 인쇄법, 안료분산법 또는 전착법에 의하여 형성된다.

염색법의 경우 기판상에 미리 젤라틴 등의 천연감광성 수지, 아민 변성 폴리비닐 알코올, 아민 변성 아크릴 수지 등의 염색기재를 가진 화상을 형성시킨 후 직접염료 등의 염료로 염색하여 작성하지만, 다색을 동일 기판상에 형성시킬 필요가 있기 때문에 색상을 변화시킬 때마다 방염가공을 할 필요가 있고, 공정이 매우 복잡하고 공정시간이 긴 문제점을 갖고 있다. 또한 일반적으로 사용하는 염료 및 수지 자체의 선명성과 분산성은 좋으나 내광성, 내습성 및 가장 중요한 성질인 내열성이 나쁘다는 단점이 있다. 예컨대 대한민국 특허공보 제91-4717호와 대한민국 특허공보 제94-7778호에는 염료로서 아조화합물과 아지드화합물을 사용하고 있지만 안료 분산법에 비하여 내열성 및 내구성이 떨어지는 단점을 가지고 있다.

인쇄법은 열경화 또는 광경화 수지에 안료를 분산시킨 잉크를 사용하고, 인쇄를 행한 후 열 또는 광으로 경화시킴으로써 다른 방법에 비해 사용되는 재료비의 절감을 가져올 수는 있지만, 고도로 정밀하고 세밀한 화상형성이 곤란하고, 또한 형성되는 박막층이 균일하지 못한 단점이 있다. 예컨대 대한민국 특허공개 제95-703746호 및 제96-11513호에서는 잉크젯 방식을 이용한 컬러필터의 제조방법을 제안하고 있다. 섬세하고 정확한 색소의 인쇄를 위하여 노즐에서 분산되는 칼러 레지스트 조성물이 염료형으로 되어있기 때문에 염색법과 마찬가지로 내구성과 내열성이 떨어지게 된다.

대한민국 특허공개 제93-700858호 및 제96-29904호에서는 전기침전법을 이용한 전착법을 제안하고 있는데 전착법은 정밀한 착색망을 형성할 수 있고 안료를 사용하므로 내열성 및 내광성이 우수한 특성을 가지고 있으나, 앞으로 화소크기가 정밀하게 되어 전극패턴이 세밀하게 되면 양쪽 끝에 전기저항으로 인한 착색 얼룩이 나타나거나 착색막 두께가 두꺼워져서 고도의 정밀성을 요구하는 칼러필터에 적용하기는 어렵다.

안료분산법은 흑색 매트릭스가 제공된 투명한 기질 위에 착색제를 함유하는 광중합성 조성물의 코팅, 상 노출, 현상, 그리고 열경화시키는 일련의 단계를 반복함으로써 형성되는 방법이다. 이러한 안료분산법은 칼러필터의 가장 중요한 성질인 내열성 및 내구성을 향상시키며 필림의 두께를 균일하게 유지시킬 수 있다는 장점을 가지고 있다. 예컨대 대한민국 특허공개 제92-702502호, 특허공고 제94-5617호, 특허공고 제95-11163호, 및 특허공개 제95-700359호에서는 안료분산을 이용한 칼러 레지스트 제조방법이 제안되고 있다.

안료분산법에 사용되는 감광성 수지조성물은 일반적으로 바인더 수지, 광중합성 모노머, 광중합 개시제, 용제 및 기타 첨가제로 이루어지며, 이중에서 안료의 분산이 중요한데 이것은 일종의 분산제의 역할을 하는 바인더 수지의 영향을 많이 받는다. 안료분산법에 쓰이는 바인더 수지로서 예컨대 일본 공개특허공보 소60-237403호에 개시된 감광성 폴리이미드수지, 일본 공개특허 공보 평 1-200353호, 평 4-7373호, 평4-91173호 등에 기재된 아크릴계 중합체와 아지드화합물로 이루어진 감광성 수지, 일본 공개특허공보 평1-152449호에 기재된 아크릴레이트 단량체, 유기중합체 결합제, 및 광중합 개시제로 이루어진 라디칼 중합형의 감광성 수지, 일본 공개특허공보 평4-163552호와 대한민국 특허공보 제92-5780호에 개시된 페놀수지, N-메틸올 구조를 갖는 가교제 및 광산 발생제로 이루어진 감광성 수지 등의 여러 가지가 제안되어 있다. 그러나, 안료분산법에 따른 바인더 수지로서 감광성 폴리이미드나 페놀계의 수지를 사용하는 것은 내열성은 높지만 감도가 낮으며 유기용매로 현상하는 등의 결점이 있다. 또한 아지드 화합물을 감광제로 하는 종래의 시스템은 감도가 낮고 내열성이 떨어지거나 노출시에 산소의 영향을 받는 문제가 있다. 이를 피하기 위해 산소차단막을 설치하거나 불활성 가스중에 노출시키는 것이 필요하며 공정이 복잡해지고 장치가 비싸지는 등의 문제가 있다. 또한 노출로 인해 생성된 산을 이용하여 화상형성을 하는 감광성 수지는 고감도이며 노출될 때 산소의 영향을 받지 않는 이점이 있지만 노출과 현상하는 과정에서 가열공정이 필요하며 가열시간이 패턴 형성에 대해 민감한 반응을 보이므로 공정관리가 곤란하다는 문제점이 있다.

이러한 문제를 해결하기 위해 일본 특허공개 평7-64281호, 평7-64282호, 평8-278630호, 평6-1938호, 평5-339356호 및 대한민국 제95-702313호에는 카도계를 지닌 바인더 수지를 이용한 컬러 필터의 제조방법에 대한 특허가 기술되어 있다. 일반적으로 카도계를 지닌 수지는 고감도이면서 산소의 영향을 받지 않고 내열성, 내수축성, 투명성 등이 좋다. 반면에 분자량이 너무 높을 경우 칼러필터 조성물의 가공이 어렵고 기판과의 접착성의 문제점도 있을 수 있고, 내화학성이 떨어지기 때문에 내화학성을 보충하기 위해 에폭시 수지를 도입하지만 내화학성의 평가기준에는 미흡하다.

또한 감광성 수지 조성물 자체내에 알카리 현상 수용액과 반응할 장소가 없기 때문에 현상성이 나빠져서 현상후 잔사가 남는 문제점이 있을 수 있다. 이러한 경우 현상성을 높이기 위하여 일본 특허 공개 평4-363311호에서는 카도계의 바인더 수지를 산무수물로 처리하여 알카리 용해성 수지로 만듦으로써 현상성을 향상시켰다. 현상성을 더 향상시키기 위하여 일본 특허 평5-70528호에서는 광중합성 단량체도 산무수물 처리를 하였다. 이러한 처리후에도 현상후 잔사가 남는 문제점이 있을 수 있다.

따라서 본 발명자는 고감도이며 산소의 영향을 받지 않고, 내열성, 내수축성, 투명성, 내화학성 및 현상성이 우수한 칼러 레지스트 수지 조성물을 개발하기에 이른 것이다.

[발명의 목적]

본 발명의 목적은 노출될 때 산소의 영향을 받지 않고 고감도를 갖는 칼러 레지스트 수지 조성물을 제공하기 위한 것이다.

본 발명의 다른 목적은 내화학성이 향상되어 패턴의 변화를 감소시킬 수 있는 칼러 레지스터 수지 조성물을 제공하기 위한 것이다.

본 발명의 또 다른 목적은 내열성이 향상되어 도막의 색차를 저하시킬 수 있는 칼러 레지스트 수지 조성물을 제공하기 위한 것이다.

본 발명의 또 다른 목적은 내수축성, 투명성 등의 감광성 수지 특성이 양호한 칼러 레지스트 수지 조성물을 제공하기 위한 것이다.

본 발명의 또 다른 목적은 도막의 중심부와 주변부의 막두께차가 작고 표면평활성이 우수한 칼러 레지스트 수지 조성물을 제공하기 위한 것이다.

본 발명의 또 다른 목적은 액정 디스플레이 또는 카메라 뷰파인더(view finder)의 칼러 필터 제조용 안료분산형 칼러 레지스트 수지 조성물을 제공하기 위한 것이다.

본 발명의 또 다른 목적은 현상성이 우수하여 패턴상에 잔사가 전혀 남지 않는 칼러 레지스트 수지 조성물을 제공하기 위한 것이다.

[발명의 요약]

본 발명의 칼러 레지스트 수지 조성물은

(A) 하기 구조식 (I), (II) 및 (III)의 단량체로 공중합되고, 공중합체 내에서 상기 단량체(I),(II) 및 (III)의 몰 비가 1:2∼4:2∼8인 카도계 바인더 수지 1∼40 중량부;

(B) 아크릴계 광중합성 단량체 0.1∼10중량부;

(C) 광중합 개시제 0.1∼10중량부;

(D) 에폭시 수지 0.1∼10중량부;

(E) 안료 1∼40중량부; 및

(F) 용매 20∼80중량부;

로 이루어지는 것을 그 특징으로 한다.

본 발명에서 사용되는 상기 바인더 수지 1000∼20000의 중량 평균 분자량을 갖는 것이 바람직하다. 본 발명의 칼러 레지스트 수지 조성물은 필요에 따라 기타 첨가제가 부가될 수 있다.

이하 본 발명의 구체적인 내용을 하기에 상세히 설명한다.

[발명의 구체예에 대한 상세한 설명]

본 발명의 칼러 레지스트 수지 조성물은 상기 구조식 (I), (II) 및 (III)으로 표시되는 화합물을 공중합시키고, 그 공중합체내에 각각의 단량체의 몰비가 1:2∼4:2∼8인 카도계 결합을 적어도 1개 이상 포함하는 바인더 수지, 광중합성 단량체, 광중합 개시제, 에폭시 수지, 안료 및 용매로 이루어진다.

본 발명에서의 바인더 수지는 중량평균 분자량이 1000∼20000의 범위가 바람직하다. 바인더 수지는 전체 수지 조성물에 대하여 1∼40중량부로 사용된다. 상기의 바인더 수지를 알카리 용해성 수지로 만들기 위해서 하기 구조식을 갖는 산무수물로 처리한다.

상기에서 R₁및 R₂는 수소원자; 탄소수 1∼10의 알킬기, 알릴기, 페닐기, 벤질기; 또는 탄소수 1∼8의 에톡시기를 나타낸다.

본 발명에서 사용되는 아크릴계 광중합성 단량체로는 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 1,4-부탄디올디아크릴레이트, 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디아크릴레이트, 펜타에리트리톨디아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨디아크릴레이트, 디펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트, 펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 비스페놀 A 디아크릴레이트, 트리메틸롤프로판트리아크릴레이트, 노블락에폭시아크릴레이트, 에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 디에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 프로필렌글리콜디메타크릴레이트, 1,4-부탄디올디메타크릴레이트, 1,6-헥산디올디메타크릴레이트 모노머 등이 있다. 아크릴계 광중합성 단량체는 전체 수지 조성물에 대하여 0.1∼10중량부로 사용된다. 상기의 광중합성 단량체가 알카리 수용액에 용해되기 용이하게 하기 위해서 산무수물로 처리한다.

본 발명에서 사용되는 광중합 개시제는 일반적으로 사용되는 아세토페논계의 유도체로써 구체적인 예를 들자면 2,2'-디에톡시아세토페놀, 2,2'-디부톡시아세토페논, 2-히드록시-2-메틸프로리오페놀, p-t-부틸트리클로로아세토페놀, p, -t-부틸디클로로아세토페놀, 벤조페논, 4-클로로아세토페논, 4,4'-디메틸아미노벤조페논, 4,4'-디클로로벤조페논, 3,3'-디메틸-2-메톡시벤조페논, 2,2'-디클로로-4-페녹시아세토페논, 2-메틸-1-(4-(메틸티오)페닐)-2-모폴리노 프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모폴리노페닐)-부탄-1-온 등이 사용된다. 광중합 개시제는 전체 수지 조성물에 대하여 0.1∼10 중량부로 사용된다.

본 발명에서 사용되는 에폭시 수지로는 예컨대, 페놀 노블락 에폭시 수지, 테트라 메틸 비-페닐 에폭시 수지, 비스페놀 A형 수지 등이 쓰인다. 에폭시 수지는 전체 수지 조성물에 대하여 0.1∼10중량부로 사용된다. 이러한 에폭시 수지가 알카리 수용액에 용해되기가 용이하게 하기 위해서 산무수물로 처리한다.

본 발명에서 사용되는 안료로는 예컨대, 안트라퀴논계 안료, 페릴렌계 등의 축합다환 안료, 프탈로시아닌 안료, 아조안료 등의 유기안료이외에 카본블랙등의 무기안료를 사용할 수 있으며, 이들은 단독 또는 둘 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 안료는 전체 수지 조성물에 대하여 1∼40 중량부로 사용된다.

본 발명에서는 용매로서 에틸렌글리콜아세테이트, 에틸셀로솔브, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 에틸락테이트, 폴리에틸렌글리콜, 시클로헥사논, 프로필렌글리콜메틸에테르 등이 사용되고 단독 또는 혼합하여 사용할 수 있다. 용매는 전체 수지 조성물에 대하여 20∼80 중량부로 사용된다.

또한 본 발명에서는 혼합물 속에 분산시키는데 분산제를 사용하는 것이 바람직하다. 미리 안료를 표면처리하는 형태로 안료에 내부첨가시켜 사용할 수 있거나 안료에 외부첨가하는 식으로 사용할 수 있다. 이러한 것으로써 비이온성, 음이온성 또는 양이온성분산제를 사용할 수 있는데, 이러한 것으로써 폴리알킬렌글리콜 및 이의 에스테르, 폴리옥시알킬렌, 다가 알콜 에스테르 알킬렌 옥사이드 부가물, 알콕알킬렌옥사이드 부가물, 설폰산 에스테르, 설폰산염, 카르복실산에스테르, 카르복실산염, 알킬아미드알킬렌옥사이드 부가물, 알킬아민 등이 사용할 수 있다. 이들은 단독으로 첨가할 수 있으며 둘 이상 조합하여 첨가할 수 있다. 분산제의 첨가량은 바람직하게는 안료 1중량부에 대해 0 내지 20중량%이다.

본 발명의 상기 혼합물은 칼러필터용의 유리기판위에 스핀 도포, 롤러 도포, 스프레이 도포 등의 적당한 방법을 사용하여 예를 들면, 0.5 내지 10μm의 두께로 감광성 수지조성물을 도포할 수 있다. 도포후 칼러필터에 필요한 패턴을 형성하도록 활성선을 조사한다. 조사에 사용되는 광원으로서 예를들면, 190nm 내지 450nm, 바람직하게는 200nm 내지 400nm 영역의 UV조사를 사용하며 전자선 및 X선 조사도 적당하다. 조사한 다음, 도포층을 현상액으로 처리하면 도포층의 미조사부분이 용해되고 컬러필터에 필요한 패턴이 형성된다. 이러한 공정을 필요한 색의 수에 따라 반복함으로서 원하는 패턴을 갖는 칼라필터를 수득할 수 있다. 또한 상기 공정에서 현상에 의해 수득된 화상 패턴을 다시 가열하거나 활성선 조사등에 의해 경화시키고 내크랙성, 내용제성 등을 향상시킬 수 있다.

본 발명의 칼러 레지스트 수지 조성물은 알카리 수용액에서 현상되는 수지 조성물이다. 본 발명의 칼러 레지스트 수지 조성물은 칼러 필터의 패턴을 형성하기 위하여 사용되는 조성물이고, 패턴 표면위에는 보호막을 도포한다. 이 보호막 조성물은 안료를 함유하지 않는 칼러 레지스트 수지 조성물과 동일한 조성을 갖는다. 칼러 필터용 보호막 조성물도 알카리 수용액에서 현상되는 수지 조성물이다.

본 발명은 하기의 실시예에 의하여 보다 더 잘 이해될 수 있으며, 하기의 실시예는 본 발명의 예시 목적을 위한 것이며 첨부된 특허청구범위에 의하여 한정되는 보호범위를 제한하고자 하는 것은 아니다.

[실시예]

[실시예 1]

본 발명에 따른 칼러 레지스트 수지 조성물을 제조하였다. 사용된 각 성분 및 함량은 하기 표 1과 같다.

[표 1]

산무수물의 처리

(1) 바인더 수지

카도계 바인더 수지 303g에 에틸렌글리콜아세테이트 1.5Kg 및 시클로헥사논 0.5Kg을 가하여 첨가한 후 초산 무수물 96g과 테트라에틸암모늄브로마이드 1g을 가하여 혼합하고, 110℃의 온도로 서서히 열을 가하여 1시간 동안 반응시켰다.

(2) 광중합성 단량체

펜타에리트리톨아크릴레이트 298g에 에틸렌글리콜아세테이트 1.5Kg 및 시클로헥사논 0.5Kg을 가하여 첨가한 후 초산 무수물 96g과 테트라에틸암모늄브로마이드 1g을 가하여 혼합하고, 110℃의 온도로 서서히 열을 가하여 1시간 동안 반응시켰다.

(3) 에폭시 수지

페놀노블락형 에폭시 수지(EPPN-201) 436g에 에틸렌글리콜아세테이트 1.5Kg 및 시클로헥사논 0.5Kg을 가하여 첨가한 후 초산 무수물 96g과 테트라에틸암모늄브로마이드 1g을 가하여 혼합하고, 110℃의 온도로 서서히 열을 가하여 1시간 동안 반응시켰다.

상기 표 1의 용매에 광중합 개시제를 용해시키고 2시간 동안 상온에서 교반하였다. 광중합성 단량체와 바인더 수지를 부가시키고 2시간 동안 상온에서 교반하였다. 안료 및 기타 첨가제를 부가하고 1시간 동안 상온에서 교반하였다. 3회에 걸친 여과를 행하여 불순물을 제거하고, 본 발명에 따른 칼러 레지스트 수지 조성물을 제조하였다.

[비교실시예 1]

에폭시 수지를 초산무수물로 처리하지 않은 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 수지 조성물을 제조하였다.

[비교실시예 2]

에폭시 수지를 첨가하지 않은 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 수지 조성물을 제조하였다.

[비교실시예 3]

에폭시 수지 및 광중합성 단량체를 초산 무수물로 처리하지 않은 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 수지 조성물을 제조하였다.

[비교실시예 4]

에폭시 수지, 광중합성 단량체 및 바인더 수지를 초산 무수물로 처리하지 않은 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 수지 조성물을 제조하였다.

패턴형성 평가:

상기 실시예에 따라 제조된 수지 조성물로써 착색박막을 형성하고 다음과 같이 현상성, 접착성, 내열성 및 내화학성을 측정하였고, 그 결과를 표 2에 나타내었다.

(2) 현상성

크롬이 코팅된 두께 1mm의 유리기판상에 1∼2μm의 두께로 감광성 수지 조성물을 도포하고, 열풍순환식 건조로안에서 일정시간(1분), 일정온도(80℃)로 건조시켜 도막을 수득하였다. 계속해서 도막위에 포토마스크를 대고 365nm의 파장을 가진 고압수은램프를 사용하여 노광한 후 1% Na₂CO₃수용액을 사용하여 30℃, 상압하에서 60초 동안 현상을 행하였다. 현상후 열풍순환식 건조로안에서 일정시간(30분), 일정온도(230℃)로 건조시켜 패턴을 수득하여 잔사를 육안으로 평가하였다.

○ 현상성 우수:패턴상에 잔사가 전혀 남지 않음.

△ 현상성 양호:패턴상에 잔사가 조금 남음.

× 현상성 불량:패턴상에 잔사가 많이 남음.

(2) 접착성

크롬이 코팅된 두계 1mm의 유리기판상에 1∼2μm의 두께로 감광성 수지 조성물을 도포하고, 열풍순환식 건조로안에서 일정시간(1분), 일정온도(80℃)로 건조시켜 도막을 수득하였다. 365nm의 파장을 가진 초고압 수은 램프로 조사하고, 계속해서 열풍순환식 건조로안에서 230℃에서 30분동안 가열한 후, 1mm×1mm의 100개의 바둑판을 새기고, 점착테이프에 의한 피링실험후의 박리 상태를 육안으로 판정하였다.

○:100/100으로 전혀 변화없음.

△:80/100∼99/100

×:0/100×79/100

(3) 내열성

크롬이 코팅된 두계 1mm의 유리기판상에 1∼2μm의 두께로 감광성 수지 조성물을 도포하고, 열풍순환식 건조로안에서 일정시간(1분), 일정온도(80℃)로 건조시킨 후, 365nm의 파장을 가진 초고압 수은 램프로 조사하고, 계속해서 열풍순환식 건조로안에서 230℃에서 30분동안 가열하여 도막을 수득하였다. 이것을 다시 열풍순환식 건조로안에서 일정시간(1시간), 일정온도(250℃)로 가열한 후, 도막의 색차(ΔE)를 측정하여 내열성을 평가하였다.

○:색차(ΔE)가 3이하

△:색차(ΔE)가 3∼5

×:색차(ΔE)가 5이상

(4) 내화학성

탈지세척한 두께 2mm의 크롬이 코팅된 유리기판상에 1∼2μm의 두께로 감광성 수지 조성물을 도포하고, 열풍순환식 건조로안에서 일정시간(1분), 일정온도(80℃)로 건조시킨 후, 365nm의 파장을 가진 초고압 수은 램프로 조사하고, 1% Na₂CO₃수용액을 사용하여 30℃, 상압하에서 60초 동안 현상을 행하고, 다시 열풍순환식 건조로 안에서 230℃로 30분간 건조하여 패턴을 수득하였다. 이 패턴을 5%의 황산 수용액에 10분, 20분 및 30분 동안 침지하고 패턴의 변화를 관찰하였다.

○:30분 후에도 패턴의 변화가 없음

△:10분에서 30분 사이에 패턴의 변화가 없음

×:10분 이전에 패턴의 변화가 있음

상기에서 패턴의 변화는 패턴의 부풀음, 박리, 용융현상 등을 나타낸다.

[표 2]

본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 이 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의하여 용이하게 실시될 수 있으며, 이러한 변형이나 변경은 모두 본 발명의 영역에 포함되는 것으로 볼 수 있다.

Claims

(A) 하기 구조식 (I), (II) 및 (III)의 단량체로 공중합되고, 공중합체 내에서 상기 단량체(I),(II) 및 (III)의 몰 비가 1:2∼4:2∼8인 카도계 바인더 수지 1∼40 중량부;

상기식에서 R은 수소원자; 탄소수 1∼10의 알킬기, 알릴기, 페닐기 또는 벤질기; 또는 탄소수 1∼8의 에톡시기이고, X는 할로겐 원자임.

(B) 광중합성 단량체 1∼20중량부;

(C) 광중합 개시제 0.1∼10중량부;

(D) 에폭시 수지 0.1∼10중량부;

(E) 안료 1∼40중량부; 및

(F) 용매 20∼80중량부;

로 이루어지는 것을 특징으로 하는 칼러 레지스트 수지 조성물.
제1항에 있어서, 상기 에폭시 수지는 페놀 노블락 에폭시 수지, 테트라 메틸 비-페닐 에폭시 수지, 비스페놀 A형 에폭시 수지로 이루어지는 군으로 부터 선택되는 것을 특징으로 하는 칼러 레지스트 수지 조성물.
제1항에 있어서, 상기 바인더 수지, 상기 광중합성 단량체 및 상기 에폭시 수지를 하기 구조식을 갖는 산무수물로 처리하는 것을 특징으로 하는 칼러 레지스트 수지 조성물.

상기 R₁및 R₂는 수소원자; 탄소수 1∼10의 알킬기, 알릴기, 페닐기, 벤질기; 또는 탄소수 1∼8의 에톡시기임.
제1항, 제2항 또는 제3항에 있어서, 상기 칼러 레지스트 수지 조성물이 알카리 수용액에서 현상되는 알카리 현상형 수지 조성물인 것을 특징으로 하는 칼러 레지스트 수지 조성물.
(A) 하기 구조식 (I), (II) 및 (III)의 단량체로 공중합되고, 공중합체 내에서 상기 단량체(I),(II) 및 (III)의 몰 비가 1:2∼4:2∼8인 카도계 바인더 수지 1∼40 중량부;

상기식에서 R은 수소원자; 탄소수 1∼10의 알킬기, 알릴기, 페닐기 또는 벤질기; 또는 탄소수 1∼8의 에톡시기이고, X는 할로겐 원자임.

(B) 광중합성 단량체 1∼10중량부;

(C) 광중합 개시제 0.1∼10중량부;

(D) 에폭시 수지 1∼10중량부; 및

(E) 용매 20∼80중량부;

로 이루어지는 것을 특징으로 하는 칼러 필터용 보호막 조성물.
제5항에 있어서, 상기 바인더 수지, 상기 광중합성 단량체 및 상기 에폭시 수지가 하기 구조식을 갖는 산무수물로 처리되는 것을 특징으로 하는 칼러 필터용 보호막 조성물.

상기 R₁및 R₂는 수소원자; 탄소수 1∼10의 알킬기, 알릴기, 페닐기, 벤질기; 또는 탄소수 1∼8의 에톡시기임.
제5항에 있어서, 상기 에폭시 수지는 페놀 노블락 에폭시 수지, 테트라 메틸 비-페닐 에폭시 수지, 비스페놀 A형 에폭시 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 칼러 필터용 보호막 조성물.
제5항, 제6항 및 제7항에 있어서, 상기 보호막 조성물이 알카리 수용액에 현상되는 알카리 현상형 수지 조성물인 것을 특징으로 하는 칼러 필터용 보호막 조성물.