KR19980052008A - Gas supply system structure - Google Patents

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Abstract

본 발명은 가스 공급 시스템에 관한 것으로, 가스 공급라인을 2중 배관으로 형성하고, 가스 공급 라인에서 누출된 가스를 감지할 수 있는 감지부를 설치함으로써 공정 진행중에도 가스 누출을 감지할 수 있어 작업장이 유독성 가스로 인해 오염되는 것을 미연에 방지할 수 있다.The present invention relates to a gas supply system, by forming a gas supply line in a double pipe, and by installing a detector that can detect the gas leaked from the gas supply line can detect the gas leak during the process, the workplace is toxic Contamination by gas can be prevented beforehand.

Description

가스 공급 시스템 구조Gas supply system structure

본 발명은 가스 공급 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 가스 공급라인의 부식이나 용접불량으로 인해서 유독가스 또는 가연성 가스가 외부로 누출되는 것을 방지하기 위해 가스 공급라인을 2중 배관으로 형성한 가스 공급 시스템 구조에 관한 것이다.The present invention relates to a gas supply device, and more particularly, to supply toxic gas or flammable gas to the outside due to corrosion or poor welding of the gas supply line. It is about the system structure.

일반적으로 가스공급 시스템은 공정이 진행되는 프로세서 챔버에 공정에 필요한 가스를 공급하는 설비로써 옥외에 설치되는 가스 저장용기를 외부 환경으로부터 보호하기 위한 가스 박스와, 옥내에 설치되는 프로세서 챔버에 가스를 공급하기 위해서 가스 저장용기와 프로세서 챔버를 연결시켜 주기 위한 가스공급라인으로 구성되어 있다. 여기서, 프로세서 챔버에서 공정을 진행할 때 가스 공급라인이 부식되거나 용접불량으로 인해 종종 가스가 작업장으로 누출되어 작업장을 오염시키는 안전사고가 발생되었다.In general, a gas supply system is a facility for supplying a gas required for a process to a process chamber in which a process is performed. A gas box is provided to protect a gas storage container installed outdoors from an external environment, and a gas chamber is installed indoors. It consists of a gas supply line for connecting the gas reservoir and the processor chamber. Here, when the process is carried out in the processor chamber, the gas supply line is corroded or the welding failure, often due to the gas leaked into the workplace, a safety accident occurred polluting the workplace.

도 1은 종래의 가스 공급 시스템을 개략적으로 나타낸 블록도이다.1 is a block diagram schematically showing a conventional gas supply system.

도시된 바와 같이 종래의 가스 공급 시스템은 프로세서 챔버(10)에 가스를 공급하기 위한 가스 저장용기(21)가 옥외에 설치되어 있고, 공정을 진행하는 프로세서 챔버(10)와 가스 저장용기(21)는 1/4인치 가스 공급라인(23)으로 연통되어 있으며, 프로세서 챔버(10)에는 가스 공급라인(21)과 프로세서 챔버(10)에서 가스가 누출되는 지를 점검하기 위해서 진공 펌프(30)가 진공관(31)으로 연통되어 있다. 여기서, 옥외에 설치되는 가스 저장용기(21) 내부에는 가스 저장용기(21)를 외부 환경으로부터 보호하기 위해 가스 저장용기 보호박스(25)가 설치되어 있고, 가스 저장용기(21)에 연결되는 가스 공급라인(23) 일정영역에는 개폐밸브(27)가 설치되어 있다.As shown in the drawing, a gas storage container 21 for supplying gas to the processor chamber 10 is installed outdoors, and the processor chamber 10 and the gas storage container 21 which process are performed. Is in communication with the 1/4 inch gas supply line 23, and the vacuum chamber 30 is connected to the processor chamber 10 to check whether the gas leaks from the gas supply line 21 and the processor chamber 10. It is communicated with (31). Here, a gas storage container protection box 25 is installed in the gas storage container 21 installed outdoors to protect the gas storage container 21 from the external environment, and the gas is connected to the gas storage container 21. An open / close valve 27 is provided in a predetermined region of the supply line 23.

이와 같이 구성된 종래의 가스 공급 시스템의 작용을 설명하면 다음과 같다.The operation of the conventional gas supply system configured as described above is as follows.

먼저, 공정을 진행하기 위해서 가스 저장용기에 설치되어 있는 개폐밸브(27)를 개방하면 가스 공급라인(23)을 통해서 프로세서 챔버(10)에 가스가 공급된다. 이와 같이 공정을 진행하기 위해서 공정에 필요한 가스를 프로세서 챔버(10)에 일정시간 공급하면 가스 저장용기(21)에 채워져 있던 가스가 공정에 전부 소비되어 가스 저장용기(21)를 교체하여야 한다.First, when the on-off valve 27 installed in the gas storage container is opened to proceed with the process, the gas is supplied to the processor chamber 10 through the gas supply line 23. When the gas necessary for the process is supplied to the processor chamber 10 in order to proceed with the process as described above, all the gas filled in the gas storage container 21 is consumed in the process and the gas storage container 21 needs to be replaced.

가스 저장용기(21)를 교체할 때 가스 공급라인(23)과 프로세서 챔버(10)에서 유독성 가스가 누출되는지를 점검한다. 먼저, 프로세서 챔버(10)와 연통되어 있는 진공 펌프(30)를 구동시켜 프로세서 챔버(10)와 가스 공급라인(23) 내부를 진공상태로 만든다. 여기서, 프로세서 챔버(10)나 가스 공급라인(23)에 리크가 발생되었을 경우 진공상태의 압력이 상승하게 되며 이로 인해 프로세서 챔버(10)에 설치되어 있는 압력 게이지(미도시)의 값이 높아진다. 이와 같이 압력 게이지의 값이 높아지면 압력 게이지와 연결되어 있는 제어부는 압력 게이지의 변화량을 디지털 값으로 환산하여 디스플레이부에 디스플레이시킨다.When the gas reservoir 21 is replaced, the gas supply line 23 and the processor chamber 10 are checked for leaking of toxic gas. First, the vacuum pump 30 in communication with the processor chamber 10 is driven to make the inside of the processor chamber 10 and the gas supply line 23 into a vacuum state. Here, when leakage occurs in the processor chamber 10 or the gas supply line 23, the pressure in the vacuum state is increased, thereby increasing the value of the pressure gauge (not shown) installed in the processor chamber 10. As such, when the value of the pressure gauge is increased, the controller connected to the pressure gauge converts the change amount of the pressure gauge into a digital value and displays it on the display unit.

그러나, 이와 같은 가스 누출 점검은 가스 저장용기를 교체할 때에만 가능하므로 공정 진행중에 프로세서 챔버의 용접부위나 가스 공급라인 연결부위에서 가스가 누출될 경우 가스 공급 시스템에는 가스 누출을 감지할 수 있는 감지수단이 없으므로 작업장이 유독성 가스 또는 가연성 가스로 오염되어 안전사고가 발생되는 문제점이 있었다.However, such a gas leak check is only possible when the gas storage container is replaced. If a gas leaks from the welding chamber of the processor chamber or the connection of the gas supply line during the process, the gas supply system has a sensing means for detecting the gas leak. Therefore, the workplace was contaminated with toxic gas or flammable gas, there was a problem that a safety accident occurs.

따라서, 본 발명의 목적은 공정 진행중에 가스가 누출되었을 경우 작업장이 누출가스로 인해 오염되는 것을 방지하기 위해서 가스 공급라인을 2중 배관화하고 가스 누출을 감지할 수 있는 감지부를 설치하여 안전사고를 미연에 방지하도록 한 가스 공급 시스템을 제공하는데 있다.Therefore, an object of the present invention is to provide a safety accident by installing a detector that can double-pipe the gas supply line and detect a gas leak in order to prevent the workplace from being contaminated by the leaking gas when the gas leaks during the process. It is to provide a gas supply system to prevent in advance.

도 1은 종래의 가스 공급 시스템을 개략적으로 나타낸 블록도이고,1 is a block diagram schematically showing a conventional gas supply system,

도 2는 본 발명에 의한 가스 공급 시스템을 개략적으로 나타낸 블록도이다.Figure 2 is a block diagram schematically showing a gas supply system according to the present invention.

도면의 주요부분에 대한 부호의 설명Explanation of symbols for main parts of the drawings

41 : 내관43 : 외관41: inner tube 43: appearance

45 : 센서 포트47 : MDA 센서45: sensor port 47: MDA sensor

49 : 제어부 51 : 디스플레이부49: control unit 51: display unit

53 : 경보 장치55 : 질소가스 공급관53: alarm device 55: nitrogen gas supply pipe

59 : 압력 게이지60 : 가스 저장용기59: pressure gauge 60: gas storage container

이와 같은 목적을 달성하기 위해서 본 발명은 가스 공급 라인은 가스를 상기 프로세서 챔버에 공급하는 내관과, 상기 가스가 작업장으로 유출되는 것을 방지하기 위해 상기 내관 외부에 설치되는 외관과, 상기 외관으로 누출된 가스를 감지하기 위한 감지부와, 상기 감지부의 신호에 따라 설비를 제어하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the present invention provides a gas supply line including an inner tube for supplying gas to the processor chamber, an exterior installed outside the inner tube to prevent the gas from leaking into the workplace, and leaking into the exterior. And a control unit for detecting a gas and a control unit for controlling the facility according to the signal of the detection unit.

도 2는 본 발명에 의한 가스 공급 시스템을 개략적으로 나타낸 블록도이다.Figure 2 is a block diagram schematically showing a gas supply system according to the present invention.

도시된 바와 같이 본 발명에 의한 가스 공급 시스템은 프로세서 챔버(10)에 가스를 공급하기 위한 가스 저장용기(60)가 옥외에 설치되어 있고, 공정을 진행하는 프로세서 챔버(10)와 가스 저장용기(60) 사이에는 2중으로 형성된 가스 공급라인(40)이 설치되어 있으며, 프로세서 챔버(10)는 진공 펌프(30)와 진공관(31)으로 연통되어 있다.As shown, the gas supply system according to the present invention is provided with a gas storage container 60 for supplying gas to the processor chamber 10 outdoors, and the processor chamber 10 and the gas storage container (for example) The gas supply line 40 formed in duplicate is provided between 60, and the processor chamber 10 is connected by the vacuum pump 30 and the vacuum tube 31. As shown in FIG.

가스 공급라인(40)은 프로세서 챔버(10)에 가스를 공급하기 위한 1/4 인치 내관(41)과, 내관(41)에서 누출된 유독성 가스가 작업장으로 새어나가는 것을 방지하기 위해서 내관(41) 외부에 1/2 인치 외관(43)이 설치되어 있다. 또한, 외관(43)의 일정영역, 즉 프로세서 챔버(10)가 설치되어 있는 부분과 가스 저장용기(60)가 설치되어 있는 부분에는 센서 포트(45)가 설치되어 있고, 센서 포트(45)는 가스 누출을 감지하기 위한 MDA 센서(47)와 연결되어 있고, MDA 센서(47)는 제어부(49)와 연결되어 있으며, 제어부(49)는 디스플레이부(51)와 경보장치(53)와 연결되어 있다.Gas supply line 40 is a 1/4 inch inner tube 41 for supplying gas to the processor chamber 10, and the inner tube 41 to prevent the toxic gas leaked from the inner tube 41 to leak into the workplace The 1/2 inch exterior 43 is provided outside. In addition, a sensor port 45 is provided at a predetermined region of the exterior 43, that is, a portion where the processor chamber 10 is installed and a portion where the gas storage container 60 is installed, and the sensor port 45 is It is connected to the MDA sensor 47 for detecting a gas leak, the MDA sensor 47 is connected to the control unit 49, the control unit 49 is connected to the display unit 51 and the alarm device 53 have.

또한, 외관(43) 일정영역에는 외관(43)에서 가스가 누출되는 지를 점검하기 위한 질소가스 공급관(55)과 압력 게이지(59)가 설치되어 있다. 여기서 미설명 부호 57은 질소가스 공급관을 개폐하기 위한 개폐밸브이고, 61은 옥외에 설치되는 가스 저장용기(60)를 외부 환경으로부터 보호하기 위한 가스 저장용기 보호박스이며, 63은 가스 공급하는 내관(41)을 개폐하는 개폐 밸브이다.Further, a nitrogen gas supply pipe 55 and a pressure gauge 59 for checking whether the gas leaks from the exterior 43 are provided in a predetermined region of the exterior 43. Here, reference numeral 57 is an on-off valve for opening and closing the nitrogen gas supply pipe, 61 is a gas storage container protection box for protecting the gas storage container 60 installed in the outdoors from the external environment, 63 is an inner pipe for supplying gas ( 41) It is an on / off valve for opening and closing.

이와 같이 구성된 본 발명에 의한 가스 공급 시스템의 작용을 설명하면 다음과 같다.The operation of the gas supply system according to the present invention configured as described above is as follows.

먼저, 공정을 진행하기 위해서 가스 저장용기(60)에 설치되어 있는 개폐밸브(63)를 개방하면 내관(41)을 통해 공정에 필요한 가스가 프로세서 챔버(10)에 공급된다. 여기서, 내관(41)을 통해 프로세서 챔버(10)에 가스가 공급될 때 내관(41)이 가스에 의해 부식되었거나 내관(41)의 연결상태가 불량할 경우 가스가 누출된다.First, when the on-off valve 63 installed in the gas storage container 60 is opened in order to proceed with the process, the gas necessary for the process is supplied to the processor chamber 10 through the inner tube 41. Here, when gas is supplied to the processor chamber 10 through the inner tube 41, the gas leaks when the inner tube 41 is corroded by the gas or the connection state of the inner tube 41 is poor.

이와 같이 가스를 공급하는 내관(41)에서 유독성 가스가 누출될 경우 내관(41)을 둘러싸고 있는 외관(43)에 유독성 가스가 존재하므로 유독성 가스가 작업장으로 유출되는 것을 방지한다. 또한, 외관(43)으로 누출된 유독성 가스는 외관(43)에 설치되어 있는 센서 포트(45)에 의해서 MDA 센서(47) 내부로 유입되고, MDA 센서(47)로 유입된 유독성 가스는 카세트 테이프 형태의 분석기와 반응하게 된다. 이와 같이 분석기와 유독성 가스가 반응하면 가스 농도에 비례하는 얼룩이 분석기에 형성되고 분석기에 형성된 얼룩에 광을 조사하여 광학적으로 분석기에 형성된 얼룩을 측정한 후 이를 수치적으로 해독하여 제어부(49)에 신호를 전달한다. MDA 센서(47)에서 전달한 신호가 제어부(49)에 입력되면 제어부(49)는 디스플레이부(51)와 경보장치(53)에 신호를 전달하게 되고, 디스플레이부(51)에서는 유독성 가스 누출량이 디스플레이되고, 경보장치(53)에서는 경보신호가 발생된다.As such, when the toxic gas leaks from the inner tube 41 supplying the gas, the toxic gas exists in the outer surface 43 surrounding the inner tube 41, thereby preventing the toxic gas from leaking into the workplace. In addition, the toxic gas leaked into the exterior 43 is introduced into the MDA sensor 47 by the sensor port 45 installed in the exterior 43, and the toxic gas introduced into the MDA sensor 47 is a cassette tape. Will react with the analyzer. As described above, when the analyzer reacts with the toxic gas, a stain proportional to the gas concentration is formed on the analyzer, and the stain formed on the analyzer is irradiated with light to measure the stain formed on the analyzer optically, and then numerically decoded to signal the controller 49. To pass. When the signal transmitted from the MDA sensor 47 is input to the control unit 49, the control unit 49 transmits a signal to the display unit 51 and the alarm unit 53, the toxic gas leakage amount is displayed on the display unit 51 The alarm device 53 generates an alarm signal.

한편, 외관(43)에서 가스가 누출되는지를 점검하기 위해서는 질소가스 공급관(55)에 설치되어 있는 개폐밸브(57)를 개방하여 외관(43) 내부에 질소가스를 주입한 후 질소가스 공급관(55)에 설치되어 있는 개폐밸브(57)를 폐쇄한다. 이후, 작업자는 일정시간 경과 후 압력 게이지(59)의 눈금을 읽어 외관(43)에서 유독성 가스가 누출되는 지를 점검하게 된다. 이때, 외관(43)에 리크가 발생되었을 경우 외관(43)에 충진되었던 질소가스가 작업장 외부로 누출되어 압력 게이지(59)의 압력이 낮아진다.On the other hand, in order to check whether the gas leaks from the exterior 43, the on-off valve 57 installed in the nitrogen gas supply pipe 55 is opened to inject nitrogen gas into the exterior 43 and then the nitrogen gas supply pipe 55 Close the on-off valve (57) provided in the). Thereafter, the operator reads the scale of the pressure gauge 59 after a predetermined time to check whether the toxic gas leaks from the exterior 43. At this time, when leakage occurs in the exterior 43, the nitrogen gas filled in the exterior 43 leaks to the outside of the workplace, thereby lowering the pressure of the pressure gauge 59.

이와 같이 가스 공급라인을 이중관으로 형성하고 누출 가스를 감지할 수 있는 감지부를 설치하여 가스 누출로 인해 작업장이 오염되는 것을 방지할 수 있고, 또한 옥외에 설치된 공정가스 공급라인을 보온하는 효과가 있어 공정에 필요한 가스가 액화되는 것을 방지할 수 있다.In this way, the gas supply line is formed into a double pipe and a detector for detecting leaking gas can be installed to prevent contamination of the workplace due to a gas leak, and to insulate the process gas supply line installed outdoors. The gas necessary for the liquefaction can be prevented.

이상에서 설명한 바와 같이 본 발명은 가스 공급라인을 2중 배관으로 형성하고, 가스 공급 라인에 누출된 가스를 감지할 수 있는 감지부를 설치함으로써 공정 진행중에도 가스 누출을 감지할 수 있어 작업장이 유독성 가스로 인해 오염되는 것을 미연에 방지할 수 있는 효과가 있다.As described above, the present invention forms a gas supply line with a double pipe, and installs a sensing unit for detecting the leaked gas in the gas supply line, so that the gas leak can be detected during the process, so that the workplace is a toxic gas. There is an effect that can prevent the contamination in advance.

Claims (5)

공정이 진행되는 프로세서 챔버와 공정에 필요한 가스가 저장되어 있는 가스 저장용기가 가스 공급 라인으로 연통된 가스 공급 시스템에 있어서,In the gas supply system in which the process chamber and the gas storage container in which the gas required for the process is stored is communicated to the gas supply line, 상기 가스 공급 라인은 가스를 상기 프로세서 챔버에 공급하는 내관과, 상기 가스가 작업장으로 유출되는 것을 방지하기 위해 상기 내관을 감싸며 외부에 설치되는 외관으로 이루어지고, 상기 외관으로 누출된 가스를 감지하기 위한 감지수단과, 상기 감지수단으로부터의 신호에 따라 가스 누출 상태를 통보하는 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 가스 공급 시스템 구조.The gas supply line includes an inner tube for supplying gas to the processor chamber, and an outer tube surrounding the inner tube to prevent the gas from flowing into the workplace, and configured to detect the leaked gas in the outer tube. And means for reporting a gas leak condition in accordance with a signal from said sensing means. 제 1 항에 있어서, 상기 외관의 가스 누출 여부를 점검하기 위해서 상기 외관에는 질소 가스 공급관과 압력 게이지가 설치된 것을 특징으로 하는 가스 공급 시스템 구조.The gas supply system structure according to claim 1, wherein a nitrogen gas supply pipe and a pressure gauge are installed at the exterior to check whether the exterior is leaking gas. 제 1 항에 있어서, 상기 감지수단은 상기 외관 일정영역에 설치된 센서 포트와 상기 센서 포트로 유입된 가스를 감지하기 위한 MDA 센서로 구성된 것을 특징으로 하는 가스 공급 시스템 구조.The gas supply system structure according to claim 1, wherein the sensing means comprises a sensor port installed in the exterior predetermined region and an MDA sensor for sensing the gas introduced into the sensor port. 제 1 항에 있어서, 상기 통보수단은 상기 감지수단으로부터 신호를 입력받는 제어부와 상기 제어부의 신호에 의해 상기 누출 가스량을 디스플레이하는 디스플레이부와 경보를 발생하는 경보장치를 포함하는 것을 특징으로 가스 공급 시스템 구조.The gas supply system of claim 1, wherein the notification means comprises a control unit receiving a signal from the sensing unit, a display unit displaying the amount of leaked gas by a signal of the control unit, and an alarm device generating an alarm. rescue. 제 1 항에 있어서, 상기 내관의 직경은 1/4인치이고 상기 외관의 직경은 1/2인치인 것을 특징으로 하는 가스 공급 시스템 구조.2. The gas supply system structure according to claim 1, wherein the inner tube has a diameter of 1/4 inch and the outer diameter is 1/2 inch.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20020056069A (en) * 2000-12-29 2002-07-10 이후근 The identification method and apparatus about the inside of incinerator of gas scrubber

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